JP2878039B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
- Publication number
- JP2878039B2 JP2878039B2 JP22199192A JP22199192A JP2878039B2 JP 2878039 B2 JP2878039 B2 JP 2878039B2 JP 22199192 A JP22199192 A JP 22199192A JP 22199192 A JP22199192 A JP 22199192A JP 2878039 B2 JP2878039 B2 JP 2878039B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- photosensitive resin
- resin composition
- transmittance
- shielding film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/153—Charge-receiving layers combined with additional photo- or thermo-sensitive, but not photoconductive, layers, e.g. silver-salt layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、白黒及びカラーの液晶
表示装置、ビデオカメラ用のビューファインダー及びプ
ラズマディスプレイ、蛍光表示体等のブラックマトリク
ス、ブラックストライプや、ガラス上に形成若しくは実
装されるＴＦＴ及び半導体素子の光による誤動作を防ぐ
目的で使用される遮光膜用の感光性樹脂組成物に関する
ものである。
表示装置、ビデオカメラ用のビューファインダー及びプ
ラズマディスプレイ、蛍光表示体等のブラックマトリク
ス、ブラックストライプや、ガラス上に形成若しくは実
装されるＴＦＴ及び半導体素子の光による誤動作を防ぐ
目的で使用される遮光膜用の感光性樹脂組成物に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、カラープラズマディスプレイパネ
ル等のマトリックス用隔壁の形成は、量産性の良いスク
リーン印刷法が用いられてきた。しかし、スクリーン印
刷法では８０μm以下の幅の隔壁を形成することは困難
であるため、感光性樹脂を用いたホトリソグラフィ法に
よって高細密で均一な隔壁を形成する技術が発展してき
た。この感光性樹脂を用いる方法は、大面積の高品位テ
レビ等の表示装置を作製するにも好適である。
ル等のマトリックス用隔壁の形成は、量産性の良いスク
リーン印刷法が用いられてきた。しかし、スクリーン印
刷法では８０μm以下の幅の隔壁を形成することは困難
であるため、感光性樹脂を用いたホトリソグラフィ法に
よって高細密で均一な隔壁を形成する技術が発展してき
た。この感光性樹脂を用いる方法は、大面積の高品位テ
レビ等の表示装置を作製するにも好適である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述の隔壁は可視領域
において十分な遮光性を有する必要があるため、遮光材
成分として金属クロムやカーボン粉末が使用されてい
る。しかし、このような遮光材を用いた隔壁（遮光膜）
は、クロムの場合は反射率が高いためハレーションを起
こし易いこと、また、カーボンを主体とする顔料分散レ
ジストは感度が低く非常に使いにくい等の難点があっ
た。
において十分な遮光性を有する必要があるため、遮光材
成分として金属クロムやカーボン粉末が使用されてい
る。しかし、このような遮光材を用いた隔壁（遮光膜）
は、クロムの場合は反射率が高いためハレーションを起
こし易いこと、また、カーボンを主体とする顔料分散レ
ジストは感度が低く非常に使いにくい等の難点があっ
た。
【０００４】更に、ブラックマトリクスをＴＦＴ素子上
に設ける場合や、ガラス上に実装される半導体素子の光
による誤動作を防ぐ目的で遮光膜を使用する場合は、ク
ロム等の金属は導電性を有するため使用に当たって絶縁
層を設けなければならなかった。またカーボンの場合も
十分な遮光性を持たせるために多量に使用すると、クロ
ムと同様に導電性の問題が生じる。カーボン量を減らす
ために、有機顔料又は染料を添加した遮光膜用の感光性
樹脂組成物を使用すると、感光性に寄与する４２５ｎｍ
以下の紫外領域の透過率が著しく低下し、また、感光性
樹脂に対する相対的な顔料濃度も上がるため、感度、現
像性が著しく悪化する問題があった。
に設ける場合や、ガラス上に実装される半導体素子の光
による誤動作を防ぐ目的で遮光膜を使用する場合は、ク
ロム等の金属は導電性を有するため使用に当たって絶縁
層を設けなければならなかった。またカーボンの場合も
十分な遮光性を持たせるために多量に使用すると、クロ
ムと同様に導電性の問題が生じる。カーボン量を減らす
ために、有機顔料又は染料を添加した遮光膜用の感光性
樹脂組成物を使用すると、感光性に寄与する４２５ｎｍ
以下の紫外領域の透過率が著しく低下し、また、感光性
樹脂に対する相対的な顔料濃度も上がるため、感度、現
像性が著しく悪化する問題があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明の感光性樹脂組成物は、感光性を高め、感度、現像
性を良好にするために、波長３３０ｎｍ以上、４２５ｎ
ｍ未満の範囲において遮光膜形成後の光透過率が１％以
上となる領域を有し、且つ比較的可視感度の高い、波長
４２５ｎｍ以上、６５０ｎｍ以下の範囲においては前記
光透過率が２％を超えないように遮光用色素を用いて調
整するものである。
発明の感光性樹脂組成物は、感光性を高め、感度、現像
性を良好にするために、波長３３０ｎｍ以上、４２５ｎ
ｍ未満の範囲において遮光膜形成後の光透過率が１％以
上となる領域を有し、且つ比較的可視感度の高い、波長
４２５ｎｍ以上、６５０ｎｍ以下の範囲においては前記
光透過率が２％を超えないように遮光用色素を用いて調
整するものである。
【０００６】上記ブラックストライプ或いはブラックマ
トリクス等の分野においては、３波長管によってＲＧＢ
を用いた発色を行っている。このＲＧＢの波長は図６に
示すように、大体４２５ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲にあ
る。従って、遮光膜はこの範囲の波長の光を遮断するも
のでなければならない。しかし、本発明者らの研究によ
れば、光は必ずしも完全に遮蔽される必要はなく、透過
率２％を超える部分が上記範囲中になければ、遮光膜と
して十分に利用できることが分かった。
トリクス等の分野においては、３波長管によってＲＧＢ
を用いた発色を行っている。このＲＧＢの波長は図６に
示すように、大体４２５ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲にあ
る。従って、遮光膜はこの範囲の波長の光を遮断するも
のでなければならない。しかし、本発明者らの研究によ
れば、光は必ずしも完全に遮蔽される必要はなく、透過
率２％を超える部分が上記範囲中になければ、遮光膜と
して十分に利用できることが分かった。
【０００７】また、感光性樹脂はエネルギーの比較的高
い短波長光で硬化させるのが効率的であるが、可視部
（４２５ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲）を完全に遮光しよう
とすると、４２５ｎｍ未満の光も遮断されてしまい感度
が低下して硬化不良を起こす。しかし、上記可視部の透
過率を最大２％迄許容するならば、遮光用色素の選択次
第で紫外部（３３０ｎｍ以上、４２５ｎｍ未満の範囲）
の光透過率の一部を１％以上に高めることが可能である
ことが分かった。またこのように紫外部の一部が１％以
上の透過率を有するならば、露光による感光性樹脂の硬
化は十分に行われることも判明した。即ち、本発明者ら
は、上記可視部及び紫外部における光透過率のバランス
を見いだし、本発明を完成させたものである。
い短波長光で硬化させるのが効率的であるが、可視部
（４２５ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲）を完全に遮光しよう
とすると、４２５ｎｍ未満の光も遮断されてしまい感度
が低下して硬化不良を起こす。しかし、上記可視部の透
過率を最大２％迄許容するならば、遮光用色素の選択次
第で紫外部（３３０ｎｍ以上、４２５ｎｍ未満の範囲）
の光透過率の一部を１％以上に高めることが可能である
ことが分かった。またこのように紫外部の一部が１％以
上の透過率を有するならば、露光による感光性樹脂の硬
化は十分に行われることも判明した。即ち、本発明者ら
は、上記可視部及び紫外部における光透過率のバランス
を見いだし、本発明を完成させたものである。
【０００８】本発明の感光性樹脂組成物を用いた、上記
ブラックストライプ用の遮光膜形成工程の例を図１に示
す。同図（ａ）において、ガラス等の基板１上に感光性
樹脂組成物をロールコーター、カーテンフローコータ
ー、スクリーン印刷、スプレーコーター、スピンコータ
ーなどにより０．５〜５０μm厚に塗布し、乾燥して感
光性樹脂層２を形成する。次に同図（ｂ）に示すように
パターンマスク３を介して紫外線を照射する。これを同
図（ｃ）に示すように現像して不要な感光性樹脂を除去
し、更に約２００℃で熱処理して完全に硬化させる。作
成された遮光膜４はＲＧＢ毎のマトリクスを形成してい
る。
ブラックストライプ用の遮光膜形成工程の例を図１に示
す。同図（ａ）において、ガラス等の基板１上に感光性
樹脂組成物をロールコーター、カーテンフローコータ
ー、スクリーン印刷、スプレーコーター、スピンコータ
ーなどにより０．５〜５０μm厚に塗布し、乾燥して感
光性樹脂層２を形成する。次に同図（ｂ）に示すように
パターンマスク３を介して紫外線を照射する。これを同
図（ｃ）に示すように現像して不要な感光性樹脂を除去
し、更に約２００℃で熱処理して完全に硬化させる。作
成された遮光膜４はＲＧＢ毎のマトリクスを形成してい
る。
【０００９】本発明の感光性樹脂組成物は、従来公知の
感光性樹脂に遮光用色素を溶解又は懸濁させることによ
って形成される。
感光性樹脂に遮光用色素を溶解又は懸濁させることによ
って形成される。
【００１０】本発明に係る上記の遮光用色素は、従来使
用されているカーボンブラック、黒色顔料、黒色染料等
に組み合わせて、ブルー、レッド、イエロー等の顔料若
しくは染料を含有させたものが好ましい。また複数の顔
料、染料を用いれば、カーボンブラック等の黒色物を併
用しなくてもよい。
用されているカーボンブラック、黒色顔料、黒色染料等
に組み合わせて、ブルー、レッド、イエロー等の顔料若
しくは染料を含有させたものが好ましい。また複数の顔
料、染料を用いれば、カーボンブラック等の黒色物を併
用しなくてもよい。
【００１１】本発明に係る有機顔料としてはフタロシア
ニン系、アントラキノン系、ペリレン系、イソインドリ
ン系、キナクリドン系、アゾレーキ系、アゾ系、ジスア
ゾ系、ジオキサジン系、チオインジゴ系、及びこれらの
混合物が使用される。また、カーボン、チタンカーボン
等の無機顔料も使用することが出来る。
ニン系、アントラキノン系、ペリレン系、イソインドリ
ン系、キナクリドン系、アゾレーキ系、アゾ系、ジスア
ゾ系、ジオキサジン系、チオインジゴ系、及びこれらの
混合物が使用される。また、カーボン、チタンカーボン
等の無機顔料も使用することが出来る。
【００１２】上記顔料の平均粒径は、好ましくは０．０
５〜２．０μm、更に好ましくは０．１〜１．２μmであ
る。平均粒径が２．０μmよりも大きいと塗膜厚を薄く
することが難しく、またＯ．Ｏ５μmよりも小さいと遮
光性及び耐熱性が低下することがある。
５〜２．０μm、更に好ましくは０．１〜１．２μmであ
る。平均粒径が２．０μmよりも大きいと塗膜厚を薄く
することが難しく、またＯ．Ｏ５μmよりも小さいと遮
光性及び耐熱性が低下することがある。
【００１３】上記顔料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ピグ
メントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４
９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメ
ントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３
６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメン
トブルー１５．６、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２
３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７等が挙げられる。こ
れらの顔料は２種以上を組み合わせて用いることが好ま
しい。また感光性樹脂組成物１００重量部に対して２０
〜１００重量部含有させることが好ましい。
メントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４
９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメ
ントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３
６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメン
トブルー１５．６、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２
３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７等が挙げられる。こ
れらの顔料は２種以上を組み合わせて用いることが好ま
しい。また感光性樹脂組成物１００重量部に対して２０
〜１００重量部含有させることが好ましい。
【００１４】また、本発明に係る染料としては、油溶性
染料、分散染料、反応染料、酸性染料、塩基性染料等、
及びこれらの混合物が用いられる。これらの染料はその
溶解できる溶媒に応じて、感光性樹脂組成物の種類を選
択することができる。
染料、分散染料、反応染料、酸性染料、塩基性染料等、
及びこれらの混合物が用いられる。これらの染料はその
溶解できる溶媒に応じて、感光性樹脂組成物の種類を選
択することができる。
【００１５】上記染料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ソル
ベントレッド２４、Ｃ．Ｉ．ベイシックバイオレット１
等が挙げられる。これらの顔料は２種以上を組み合わせ
て用いることが好ましい。また感光性樹脂組成物１００
重量部に対して５〜１００重量部含有させることが好ま
しい。
ベントレッド２４、Ｃ．Ｉ．ベイシックバイオレット１
等が挙げられる。これらの顔料は２種以上を組み合わせ
て用いることが好ましい。また感光性樹脂組成物１００
重量部に対して５〜１００重量部含有させることが好ま
しい。
【００１６】本発明において使用される感光性樹脂とし
ては、以下のものが挙げられる。 （１）アクリル樹脂共重合体、多官能アクリルモノマ
ー、メタクリルモノマー、光重合開始剤及び必要に応じ
て増感剤、添加剤よりなるアクリル重合感光性樹脂組成
物。 （２）感光基を有する水溶性感光性樹脂、若しくは水溶
性樹脂に感光剤を組み合わせた水溶性感光性樹脂組成
物。 （３）感光基を有する油溶性感光性樹脂。
ては、以下のものが挙げられる。 （１）アクリル樹脂共重合体、多官能アクリルモノマ
ー、メタクリルモノマー、光重合開始剤及び必要に応じ
て増感剤、添加剤よりなるアクリル重合感光性樹脂組成
物。 （２）感光基を有する水溶性感光性樹脂、若しくは水溶
性樹脂に感光剤を組み合わせた水溶性感光性樹脂組成
物。 （３）感光基を有する油溶性感光性樹脂。
【００１７】前記（１）のアクリル樹脂共重合体は、ア
クリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリ
ル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ｎ−ブ
チルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブ
チルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ベンジ
ルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシ
アクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボルニ
ルアクリレート、イソボルニルメタクリレート等の２種
以上の共重合体であり、樹脂中にアクリロイル基、メタ
クリロイル基を有することにより、架橋効率を高めるこ
とも効果的である。
クリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリ
ル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ｎ−ブ
チルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブ
チルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ベンジ
ルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシ
アクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボルニ
ルアクリレート、イソボルニルメタクリレート等の２種
以上の共重合体であり、樹脂中にアクリロイル基、メタ
クリロイル基を有することにより、架橋効率を高めるこ
とも効果的である。
【００１８】また多官能アクリルモノマーとしては、エ
チレングリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テト
ラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジ
アクリレート、プロピレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サメタクリレート、カルドエポキシジアクリレート等が
挙げられる。
チレングリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テト
ラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジ
アクリレート、プロピレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サメタクリレート、カルドエポキシジアクリレート等が
挙げられる。
【００１９】上記化合物に有機酸を付加させることもア
ルカリ現像では有効である。また耐熱性を付与するため
にエポキシ基を付加させることも有用である。
ルカリ現像では有効である。また耐熱性を付与するため
にエポキシ基を付加させることも有用である。
【００２０】光重合開始剤としては光分解型、水素移動
型等が使用できる。具体例としては、ベンゾフェノン、
３，３−ジメチル−４−メトキシ−ベンゾフェノン、ミ
ヒラーズケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン、２，４，６−（トリハロメチル）トリア
ジン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニ
ルイミダゾリル二量体、ジエチルチオキサントン、ジメ
チルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２
−クロロチオキサントン、９−フェニルアクリジン、
１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−
ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス（９
−アクリジニル）プロパン、トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
型等が使用できる。具体例としては、ベンゾフェノン、
３，３−ジメチル−４−メトキシ−ベンゾフェノン、ミ
ヒラーズケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン、２，４，６−（トリハロメチル）トリア
ジン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニ
ルイミダゾリル二量体、ジエチルチオキサントン、ジメ
チルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２
−クロロチオキサントン、９−フェニルアクリジン、
１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−
ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス（９
−アクリジニル）プロパン、トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
【００２１】増感剤、添加剤としては、上記光重合開始
剤を増感する目的で各種アミンが用いられる。トリエタ
ノールアミン、ｐージメチルアミノ安息香酸イソアミル
エステル、ｐージメチルアミノ安息香酸エチルエステル
他、各種の芳香族アミンである。また、現像性を維持す
るため、各種の有機酸を添加することもできる。カルボ
キシベンゾトリアゾール等或いは、マレイン酸等の無水
物も有用である。
剤を増感する目的で各種アミンが用いられる。トリエタ
ノールアミン、ｐージメチルアミノ安息香酸イソアミル
エステル、ｐージメチルアミノ安息香酸エチルエステル
他、各種の芳香族アミンである。また、現像性を維持す
るため、各種の有機酸を添加することもできる。カルボ
キシベンゾトリアゾール等或いは、マレイン酸等の無水
物も有用である。
【００２２】上記（２）の感光基を有する水溶性感光性
樹脂、若しくは水溶性樹脂に感光剤を組み合わせた水溶
性感光性樹脂組成物としては、ポリビニルアルコール／
スチルバゾリウム系や、水溶性樹脂に光架橋剤を組み合
わせたもの等が挙げられる。水溶性樹脂としては、ポリ
ビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリアクリル
アミド／ダイアセトンアクリルアミド共重合体、ゼラチ
ン、カゼイン、グリュー等が挙げられる。光架橋剤とし
ては、重クロム酸塩、ジアゾ化合物、モノアジド又はビ
スアジド化合物等が挙げられる。
樹脂、若しくは水溶性樹脂に感光剤を組み合わせた水溶
性感光性樹脂組成物としては、ポリビニルアルコール／
スチルバゾリウム系や、水溶性樹脂に光架橋剤を組み合
わせたもの等が挙げられる。水溶性樹脂としては、ポリ
ビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリアクリル
アミド／ダイアセトンアクリルアミド共重合体、ゼラチ
ン、カゼイン、グリュー等が挙げられる。光架橋剤とし
ては、重クロム酸塩、ジアゾ化合物、モノアジド又はビ
スアジド化合物等が挙げられる。
【００２３】上記（３）の感光基を有する油溶性感光性
樹脂としては、ケイ皮酸系、ビスアジド系等の光架橋型
樹脂、ｏ−キノンジアジド系等の光分解型樹脂等が挙げ
られる。
樹脂としては、ケイ皮酸系、ビスアジド系等の光架橋型
樹脂、ｏ−キノンジアジド系等の光分解型樹脂等が挙げ
られる。
【００２４】
【作用】遮光膜の可視部（波長４２５ｎｍ〜６５０ｎ
ｍ）の透過率を２％迄許容するならば、紫外部（３３０
ｎｍ以上、４２５ｎｍ未満の範囲）の透過率の一部を１
％以上に高めることが可能であり、両者の透過率をこの
数値に調整することによって、可視部の遮光性、及び紫
外部の透過性の両方の条件を満足させることができる。
ｍ）の透過率を２％迄許容するならば、紫外部（３３０
ｎｍ以上、４２５ｎｍ未満の範囲）の透過率の一部を１
％以上に高めることが可能であり、両者の透過率をこの
数値に調整することによって、可視部の遮光性、及び紫
外部の透過性の両方の条件を満足させることができる。
【００２５】
【実施例】以下に本発明に基づく実施例を説明する。実施例１ 下記組成の混合物をサンドミルを用いて混練し、その
後、５μmのメンブレンフィルターでろ過して感光性樹
脂組成物を得た。 メタクリル酸／メタクリル酸メチル（25/75wt%比）共重合体 ６重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４ 〃 ジエチルチオキサントン １．２ 〃 ミヒラーズケトン １．２ 〃 2-(o-クロロフェニル)-4,5-シ゛フェニルイミタ゛ソ゛リル二量体 ０．２ 〃 エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート ２０ 〃 色素 Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７ ４ 〃 Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５．６ １１ 〃 Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７ ３．５ 〃 Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９ １．５ 〃
後、５μmのメンブレンフィルターでろ過して感光性樹
脂組成物を得た。 メタクリル酸／メタクリル酸メチル（25/75wt%比）共重合体 ６重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４ 〃 ジエチルチオキサントン １．２ 〃 ミヒラーズケトン １．２ 〃 2-(o-クロロフェニル)-4,5-シ゛フェニルイミタ゛ソ゛リル二量体 ０．２ 〃 エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート ２０ 〃 色素 Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７ ４ 〃 Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５．６ １１ 〃 Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７ ３．５ 〃 Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９ １．５ 〃
【００２６】この感光性樹脂組成物を洗浄済みのガラス
基材上にスピンコートで２．０μm厚になるように塗布
し、８０℃で３分間、ホットプレートにて乾燥した。そ
ののち、ポリビニルアルコールの１０％水溶液を１．０
μm厚になるようにスピンコートし、８０℃で１分間乾
燥した。この基材を露光し、次に炭酸ソーダ０．５％水
溶液で２５℃、６０秒間現像した。
基材上にスピンコートで２．０μm厚になるように塗布
し、８０℃で３分間、ホットプレートにて乾燥した。そ
ののち、ポリビニルアルコールの１０％水溶液を１．０
μm厚になるようにスピンコートし、８０℃で１分間乾
燥した。この基材を露光し、次に炭酸ソーダ０．５％水
溶液で２５℃、６０秒間現像した。
【００２７】なお各実施例、比較例における感度及び透
過率の測定は以下のように行った。 （ａ）感度測定 現像したときの残膜率が９０％以上となる露光量（ｍＪ
／ｃｍ2）を求めた。数値が小さいほど感度良好である
ことを表わす。 （ｂ）光透過率測定 透明なガラス基材上に感光性樹脂組成物を塗布、乾燥し
約2.0μm厚の被膜を得、この上に1.0μm厚のポリビニル
アルコール層を設け、これを（株）日立製作所製透過率
測定装置Ｕ−２０００を用いて、前記と同様のポリビニ
ルアルコール層を設けた透明なガラス基材をレファラン
スとして３３０〜４２５ｎｍと４２５〜６５０ｎｍの範
囲に置ける透過率を測定する。
過率の測定は以下のように行った。 （ａ）感度測定 現像したときの残膜率が９０％以上となる露光量（ｍＪ
／ｃｍ2）を求めた。数値が小さいほど感度良好である
ことを表わす。 （ｂ）光透過率測定 透明なガラス基材上に感光性樹脂組成物を塗布、乾燥し
約2.0μm厚の被膜を得、この上に1.0μm厚のポリビニル
アルコール層を設け、これを（株）日立製作所製透過率
測定装置Ｕ−２０００を用いて、前記と同様のポリビニ
ルアルコール層を設けた透明なガラス基材をレファラン
スとして３３０〜４２５ｎｍと４２５〜６５０ｎｍの範
囲に置ける透過率を測定する。
【００２８】実施例１に係る感光性樹脂組成物の感度は
５０ｍＪ／ｃｍ2と良好であった。また透過率曲線を図
２に示したが、波長４００ｎｍの付近で光透過率が１％
以上となっており、また波長４２５ｎｍ以上、６５０ｎ
ｍ以下の範囲においては光透過率が２％以下となってい
た。
５０ｍＪ／ｃｍ2と良好であった。また透過率曲線を図
２に示したが、波長４００ｎｍの付近で光透過率が１％
以上となっており、また波長４２５ｎｍ以上、６５０ｎ
ｍ以下の範囲においては光透過率が２％以下となってい
た。
【００２９】実施例２ 下記組成の混合物を実施例１と同じ手順で調製し、遮光
膜を作製した。 メタクリル酸／メタクリル酸メチル（25/75wt%比）共重合体 ６重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート ４ 〃 ジエチルチオキサントン ２ 〃 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル １ 〃 2-(o-クロロフェニル)-4,5-シ゛フェニルイミタ゛ソ゛リル二量体 ０．３ 〃 エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート ３５ 〃 色素 C.I.ソルヘ゛ントレット゛24（オイルレット゛ RR；オリエント化学製） ２ 〃 カヤセットブラックＫＲ（日本化薬製） ２ 〃 ヒ゛ス(1,4-イソフ゜ロヒ゜ルアミノ)アントラキノン（ＰＴＢ５４；三菱化成製） ２ 〃 C.I.ヘ゛ーシックハ゛イオレット1（メチルハ゛イオレットヒ゜ュアスヘ゜シャル；オリエント化学製） ２ 〃
膜を作製した。 メタクリル酸／メタクリル酸メチル（25/75wt%比）共重合体 ６重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート ４ 〃 ジエチルチオキサントン ２ 〃 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル １ 〃 2-(o-クロロフェニル)-4,5-シ゛フェニルイミタ゛ソ゛リル二量体 ０．３ 〃 エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート ３５ 〃 色素 C.I.ソルヘ゛ントレット゛24（オイルレット゛ RR；オリエント化学製） ２ 〃 カヤセットブラックＫＲ（日本化薬製） ２ 〃 ヒ゛ス(1,4-イソフ゜ロヒ゜ルアミノ)アントラキノン（ＰＴＢ５４；三菱化成製） ２ 〃 C.I.ヘ゛ーシックハ゛イオレット1（メチルハ゛イオレットヒ゜ュアスヘ゜シャル；オリエント化学製） ２ 〃
【００３０】この感光性樹脂組成物の感度は１００ｍＪ
／ｃｍ2と良好であった。また透過率曲線を図３に示し
たが、波長４００ｎｍの付近で光透過率が１％以上とな
っており、また波長４２５ｎｍ以上、６５０ｎｍ以下の
範囲においては光透過率が２％以下となっていた。
／ｃｍ2と良好であった。また透過率曲線を図３に示し
たが、波長４００ｎｍの付近で光透過率が１％以上とな
っており、また波長４２５ｎｍ以上、６５０ｎｍ以下の
範囲においては光透過率が２％以下となっていた。
【００３１】比較例１ 遮光用色素をＣ．Ｉ．ピグメントブラック７（デンカブ
ラック；電気化学製）２２重量部単独に代えた以外は実
施例１と同様にして遮光膜を作製した。感光性樹脂組成
物の感度は４００ｍＪ／ｃｍ2と低かった。また図４に
示した遮光膜の透過率曲線によると、４２５〜６５０ｎ
ｍにおける透過率は２％以下であったが、３３０〜４２
５ｎｍにおける透過率には１％以上の部分がなかった。
ラック；電気化学製）２２重量部単独に代えた以外は実
施例１と同様にして遮光膜を作製した。感光性樹脂組成
物の感度は４００ｍＪ／ｃｍ2と低かった。また図４に
示した遮光膜の透過率曲線によると、４２５〜６５０ｎ
ｍにおける透過率は２％以下であったが、３３０〜４２
５ｎｍにおける透過率には１％以上の部分がなかった。
【００３２】比較例２ 遮光用色素をカヤセットブラックＫＲ（日本化薬製）８
重量部単独に代えた以外は実施例２と同様にして遮光膜
を作製した。感光性樹脂組成物の感度は５００ｍＪ／ｃ
ｍ2と低かった。また遮光膜の透過率曲線を図５に示し
たが、比較例１と同様の結果であった。
重量部単独に代えた以外は実施例２と同様にして遮光膜
を作製した。感光性樹脂組成物の感度は５００ｍＪ／ｃ
ｍ2と低かった。また遮光膜の透過率曲線を図５に示し
たが、比較例１と同様の結果であった。
【００３３】
【発明の効果】以上に説明したように本発明の感光性樹
脂組成物から得られる遮光膜は、可視部の透過率が２％
を超える部分がないため十分な遮光性を有し、また紫外
部の領域において、透過率が１％以上の部分があるため
感度も良好である。従って、本発明の感光性樹脂組成物
から作製した遮光膜を使用すれば、液晶表示装置、ビデ
オカメラ用のビューファインダー及びプラズマディスプ
レイ、蛍光表示体等のブラックマトリクス、ブラックス
トライプや、ガラス上に形成若しくは実装されるＴＦＴ
及び半導体素子の光による誤動作を十分に防ぐことがで
きる。
脂組成物から得られる遮光膜は、可視部の透過率が２％
を超える部分がないため十分な遮光性を有し、また紫外
部の領域において、透過率が１％以上の部分があるため
感度も良好である。従って、本発明の感光性樹脂組成物
から作製した遮光膜を使用すれば、液晶表示装置、ビデ
オカメラ用のビューファインダー及びプラズマディスプ
レイ、蛍光表示体等のブラックマトリクス、ブラックス
トライプや、ガラス上に形成若しくは実装されるＴＦＴ
及び半導体素子の光による誤動作を十分に防ぐことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の感光性樹脂組成物を用いた遮光膜形成
の一例を示す工程図
の一例を示す工程図
【図２】本発明の実施例に係る遮光膜の透過率曲線
【図３】同上
【図４】本発明の比較例に係る遮光膜の透過率曲線
【図５】同上
【図６】ＲＧＢの波長を示す透過率曲線
１…基板、２…感光性樹脂層、３…パターンマスク、４
…遮光膜。
…遮光膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大田 勝行 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東京応化工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平４−190362（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−13106（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−148740（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−289336（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 7/004 G03F 7/105 G03F 7/11
Claims (1)
- 【請求項１】 遮光膜形成用の感光性樹脂組成物におい
て、この遮光膜形成後の光透過率が、波長３３０ｎｍ以
上、４２５ｎｍ未満の範囲において１％以上となる領域
が存在し、且つ波長４２５ｎｍ以上、６５０ｎｍ以下の
範囲において前記光透過率が２％を超えることがないよ
うに、遮光用色素によって透過率を調整したことを特徴
とする遮光膜形成用の感光性樹脂組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22199192A JP2878039B2 (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 感光性樹脂組成物 |
| US08/094,214 US5368991A (en) | 1992-07-29 | 1993-07-21 | Photosensitive resin composition for use as a light-shielding film which can be used as black matrices |
| KR1019930014269A KR100207981B1 (ko) | 1992-07-29 | 1993-07-27 | 감광성 수지 조성물 |
| US08/282,464 US5498498A (en) | 1992-07-29 | 1994-08-01 | Photosensitive resin composition used in a method for forming a light-shielding film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22199192A JP2878039B2 (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0651499A JPH0651499A (ja) | 1994-02-25 |
| JP2878039B2 true JP2878039B2 (ja) | 1999-04-05 |
Family
ID=16775375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22199192A Expired - Lifetime JP2878039B2 (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5368991A (ja) |
| JP (1) | JP2878039B2 (ja) |
| KR (1) | KR100207981B1 (ja) |
Families Citing this family (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5489621A (en) * | 1993-05-12 | 1996-02-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for forming colored partial picture element and light-shielding light-sensitive resin composition used therefor |
| US5673127A (en) | 1993-12-01 | 1997-09-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Display panel and display device using a display panel |
| JP3195480B2 (ja) * | 1993-12-09 | 2001-08-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 遮光性感光性樹脂組成物、遮光性感光性転写材料及び遮光膜の形成方法 |
| JPH07181438A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-21 | Sharp Corp | 液晶表示装置及びその欠陥修正方法 |
| JP3040667B2 (ja) * | 1994-08-29 | 2000-05-15 | シャープ株式会社 | 透過型表示装置の輝点欠陥修正方法 |
| JP3684603B2 (ja) * | 1995-01-26 | 2005-08-17 | 松下電器産業株式会社 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| US5609943A (en) * | 1995-06-02 | 1997-03-11 | The Dow Chemical Company | Non-wettable layer for color filters in flat panel display devices |
| US5619357A (en) * | 1995-06-06 | 1997-04-08 | International Business Machines Corporation | Flat panel display containing black matrix polymer |
| GB2304201B (en) * | 1995-08-04 | 1999-04-07 | Sony Corp | Methods of forming a fluorescent screen on the front panel of a cathode ray tube |
| KR0171102B1 (ko) * | 1995-08-29 | 1999-03-20 | 구자홍 | 액정표시장치 구조 및 제조방법 |
| US5908720A (en) * | 1995-10-13 | 1999-06-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition for forming light shielding films, black matrix formed by the same, and method for the production thereof |
| JP3556364B2 (ja) * | 1995-12-27 | 2004-08-18 | 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社 | アクティブマトリクス型液晶表示パネル及び投射型表示装置 |
| US5666177A (en) * | 1996-02-26 | 1997-09-09 | Industrial Technology Research Institute | Black matrix for liquid crystal display |
| US5989451A (en) * | 1997-02-07 | 1999-11-23 | Queen's University At Kingston | Compounds and methods for doping liquid crystal hosts |
| EP0866367A3 (en) * | 1997-03-19 | 1998-10-28 | JSR Corporation | Radiation sensitive composition |
| EP0893737A3 (en) * | 1997-07-24 | 1999-11-24 | JSR Corporation | Radiation sensitive composition |
| KR100445431B1 (ko) * | 1997-08-20 | 2004-11-03 | 삼성에스디아이 주식회사 | 음극선관패널표면도포물질의소성장치및방법 |
| TW454219B (en) * | 1998-04-02 | 2001-09-11 | Toshiba Corp | Dispersion composition for black matrix, display, and process for producing display |
| KR100268733B1 (ko) * | 1998-05-15 | 2000-11-01 | 김순택 | 블랙 매트릭스 형성방법 |
| US6444391B2 (en) | 1998-09-24 | 2002-09-03 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive compositions and pattern formation method |
| US6352804B1 (en) * | 1998-11-06 | 2002-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Black matrix of resin, method for producing the same, method for producing color filter using the same, and liquid crystal element produced by the same color filter production method |
| SG85221A1 (en) * | 1999-12-01 | 2001-12-19 | Jsr Corp | Radiation sensitive composition and color liquid crystal display device |
| KR20010098809A (ko) | 2000-04-25 | 2001-11-08 | 마쯔모또 에이찌 | Ｅｌ 표시 소자의 격벽 형성용 감방사선성 수지 조성물,격벽 및 ｅｌ 표시 소자 |
| WO2001095402A2 (en) * | 2000-06-08 | 2001-12-13 | Showa Denko K.K. | Semiconductor light-emitting device |
| DE60142844D1 (de) * | 2000-10-31 | 2010-09-30 | Intel Corp | Positive lichtempfindliche harzzusammensetzung, prozess zu ihrer herstellung und halbleiterbauelemente |
| WO2004075607A1 (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-02 | Fujitsu Limited | 有機ｅｌ素子及びその製造方法 |
| JP4561101B2 (ja) * | 2003-03-06 | 2010-10-13 | Ｊｓｒ株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ |
| JP4593161B2 (ja) * | 2004-04-30 | 2010-12-08 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置 |
| JP4555988B2 (ja) * | 2004-09-08 | 2010-10-06 | 日立化成工業株式会社 | 感光性エレメント |
| KR100678840B1 (ko) * | 2005-06-27 | 2007-02-05 | 제일모직주식회사 | 근적외선 흡수 및 색보정층을 포함하는 화상표시장치용필름 및 이를 이용한 화상표시장치용 필터 |
| JP5037808B2 (ja) * | 2005-10-20 | 2012-10-03 | キヤノン株式会社 | アモルファス酸化物を用いた電界効果型トランジスタ、及び該トランジスタを用いた表示装置 |
| US7612859B2 (en) * | 2005-10-31 | 2009-11-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Ultra-violet radiation absorbing grid |
| KR101253277B1 (ko) * | 2006-02-03 | 2013-04-10 | 주식회사 동진쎄미켐 | 칼라 필터용 잉크, 이를 이용한 칼라 필터의 제조 방법 및 칼라 필터 |
| JP2008225074A (ja) * | 2007-03-13 | 2008-09-25 | Fujifilm Corp | 遮光膜、遮光画像付き基板および液晶表示装置 |
| WO2009025297A1 (ja) * | 2007-08-22 | 2009-02-26 | Mitsubishi Chemical Corporation | 樹脂ブラックマトリックス、遮光性感光性樹脂組成物、ｔｆｔ素子基板及び液晶表示装置 |
| JP5535842B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ |
| TWI444774B (zh) * | 2011-12-22 | 2014-07-11 | Chi Mei Corp | Positive photosensitive resin composition and its application |
| JP5445643B2 (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-19 | 凸版印刷株式会社 | 撮像素子 |
| JP5741879B2 (ja) * | 2013-01-25 | 2015-07-01 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタ基板、及び液晶表示装置 |
| KR101708789B1 (ko) | 2014-10-30 | 2017-02-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| TWI723994B (zh) * | 2015-05-22 | 2021-04-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 著色組成物、膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器 |
| KR101840984B1 (ko) * | 2017-11-10 | 2018-03-21 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 또는 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3969751A (en) * | 1974-12-18 | 1976-07-13 | Rca Corporation | Light shield for a semiconductor device comprising blackened photoresist |
| JPS56132741A (en) * | 1980-03-19 | 1981-10-17 | Hitachi Ltd | Formation of phosphor surface for color-picture tube |
| US4590138A (en) * | 1983-11-04 | 1986-05-20 | North American Philips Consumer Electronic Corp. | Positive-working photoresist composition and method for forming a light-absorbing matrix in a color CRT structure |
| JPH07117662B2 (ja) * | 1986-04-21 | 1995-12-18 | 神東塗料株式会社 | 微細な透明導電性回路パタ−ン上およびその間隙に機能性薄膜を形成する方法 |
| FR2638880B1 (fr) * | 1988-11-08 | 1990-12-14 | France Etat | Procede de fabrication d'un ecran d'affichage a matrice de transistors pourvus d'un masque optique |
| JP3005004B2 (ja) * | 1989-09-14 | 2000-01-31 | 株式会社きもと | 遮光性マスク材料 |
| WO1991004505A1 (fr) * | 1989-09-18 | 1991-04-04 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Procede de production d'un filtre de couleur et reserve pour film d'ecran antilumiere utilise par ce procede |
| JPH03296701A (ja) * | 1990-04-13 | 1991-12-27 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | カラー・フィルタおよびその補修方法ならびに液晶表示装置 |
-
1992
- 1992-07-29 JP JP22199192A patent/JP2878039B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-07-21 US US08/094,214 patent/US5368991A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-27 KR KR1019930014269A patent/KR100207981B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-08-01 US US08/282,464 patent/US5498498A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940006000A (ko) | 1994-03-22 |
| US5368991A (en) | 1994-11-29 |
| JPH0651499A (ja) | 1994-02-25 |
| KR100207981B1 (ko) | 1999-07-15 |
| US5498498A (en) | 1996-03-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2878039B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2764480B2 (ja) | カラーフィルター用光重合組成物 | |
| EP0359934B1 (en) | Color filter | |
| JPH0675373A (ja) | 感光性着色組成物およびカラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター | |
| JP2000162429A (ja) | カラ―フィルタ―およびこれを備えた液晶表示装置 | |
| JP4245740B2 (ja) | 光重合性樹脂組成物並びにカラーフィルター | |
| JP2011095716A (ja) | 着色感光性樹脂組成物、着色樹脂パターンの製造方法、カラーフィルター、および液晶表示装置 | |
| JP3230794B2 (ja) | 高抵抗黒色感放射線性樹脂組成物及び黒色硬化膜並びにその黒色画像形成方法 | |
| JPH0611610A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH10301276A (ja) | 感光性着色組成物及びこれを用いたカラーフィルタ | |
| JP2998880B2 (ja) | 感光性着色組成物、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法 | |
| JP4108303B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示装置 | |
| KR102028582B1 (ko) | 착색 감광성 수지 조성물 | |
| JP3302152B2 (ja) | カラーフィルタ用感光性樹脂組成物 | |
| JPH0844049A (ja) | 着色レジスト膜 | |
| JP2002338825A (ja) | 着色樹脂組成物、着色感光性組成物及びカラーフィルタ | |
| JP3360866B2 (ja) | カラーフィルタ用感光性樹脂組成物 | |
| JPH06289602A (ja) | ペリレン系色素を用いた感光性樹脂組成物 | |
| JP2812583B2 (ja) | カラーフィルター用光重合組成物 | |
| JPH08295820A (ja) | カラーフィルター用顔料分散液 | |
| KR20180014306A (ko) | 착색제, 이를 포함하는 착색 수지 조성물 및 컬러필터 | |
| JP3960311B2 (ja) | ダイコート用硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示装置 | |
| JP2005189561A (ja) | 感光性黒色組成物、それを用いたブラックマトリックス基板およびカラーフィルタ | |
| KR100290514B1 (ko) | 감광성착색조성물,그리고색필터및색필터의제조방법 | |
| JPH06201913A (ja) | 感光性着色組成物、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990112 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090122 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100122 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110122 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110122 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120122 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130122 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130122 Year of fee payment: 14 |