TWI770008B - 積層光學膜之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種積層光學膜之製造方法，其係可防止黏合輥受到光學膜相互間的黏合用之接著劑或黏著劑所致之污染。

本發明係在旋轉中的一對黏合輥7a、7b之間，導入第1光學膜2、接著劑層5與第2光學膜3，而將此等層黏合的積層光學膜之製造方法，黏合時，接著劑層5的寬度WA係第1光學膜2的寬度W1以上，第1光學膜2係寬度方向的位置在接著劑層5之存在寬度WA以內，第2光學膜3的寬度W2係大於接著劑層5的寬度WA，第2光學膜3係位於內包接著劑層5之存在寬度WA，在第1光學膜2側的黏合輥7a與第1光學膜2之間，以內包接著劑層5之寬度WA的方式插入具有比接著劑層5之寬度WA更大之寬度的第3光學膜6。

Description

積層光學膜之製造方法
本發明係有關積層光學膜的製造方法。
以往，已知藉由使數片光學膜透過接著劑層或黏著劑層而通過一對黏合輥之間而壓接的積層光學膜之製造方法(例如，參照專利文獻1)。接著劑層或黏著劑層通常係藉由將接著劑或黏著劑塗布在經積層的光學膜之任一方上而供應。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2014-172290號公報
黏合之時，如接著劑或黏著劑從光學膜的寬度方向之邊緣溢出時，接著劑或黏著劑會附著在黏合輥上而污染。而且，附著在黏合輥上的接著劑或黏著劑會轉移到後續的光學膜，在將積層光學膜捲取成卷狀時成為壓黏的原因。
本發明的目的係提供一種積層光學膜的製造方法，其係可防止黏合輥受到光學膜相互間的黏合用之接著劑或黏著劑所致的污染。
本發明係一種積層光學膜的製造方法，係在旋轉中的一對黏合輥之間，將第1光學膜、接著劑層或黏著劑層、第2光學膜以此順序朝連結一對黏合輥間的方向排列之狀態導入，而將第1光學膜與第2光學膜黏合，其中，黏合時，接著劑層或黏著劑層的寬度係第1光學膜的寬度以上，第1光學膜的寬度係在寬度方向的位置在接著劑層或黏著劑層的存在寬度以內，第2光學膜的寬度係大於接著劑層或黏著劑層的寬度，第2光學膜係位於內包接著劑層或黏著劑層的存在寬度，在第1光學膜側的的黏合輥與第1光學膜之間，以內包接著劑層或黏著劑層之寬度的方式插入具有大於接著劑層或黏著劑層的寬度之第3光學膜。
若藉由此製造方法，第1光學膜與第2光學膜之黏合時，因在接著劑層或黏著劑層與黏合輥之間插入比接著劑層或黏著劑層更寬的第2光學膜或第3光學膜，故可防止黏合輥受到接著劑層或黏著劑層所致的污染。
此製造方法中，第1光學膜側的黏合輥之寬度，係小於第3光學膜的寬度，且第1光學膜側的黏合輥也可作成寬度方向的位置為第3光學膜的存在寬度內之形態。此時，可進一步防止黏合輥受到接著劑或黏著劑所致 的污染。
本發明的另一形態中，係提供一種積層光學膜的製造方法，其係在旋轉中的一對黏合輥之間，將第1光學膜、接著劑層或黏著劑層、第2光學膜以此順序朝連結一對黏合輥間的方向排列之狀態導入，將第1光學膜與第2光學膜黏合，其中，黏合時，接著劑層或黏著劑層的寬度係第1光學膜的寬度以上，第1光學膜的寬度係寬度方向的位置在接著劑層或黏著劑層的存在寬度以內，第2光學膜的寬度，係大於接著劑層或黏著劑層的寬度，第2光學膜係位於內包接著劑層或黏著劑層的存在寬度，第1光學膜側的黏合輥係寬度方向的位置為第1光學膜的存在寬度內。
若藉由此製造方法，雖然接著劑層或黏著劑層會從第1光學膜的存在寬度溢出，但因第1光學膜側的黏合輥之寬度小於第1光學膜旁的寬度，且第1光學膜側的黏合輥係寬度方向的位置在第1光學膜側的存在寬度內，故可防止該黏合輥受到接著劑層或黏著劑層所致的污染。
同時，本發明的另一形態中，係提供一種積層光學膜的製造方法，其係在旋轉中的一對黏合輥之間，將第1光學膜、接著劑層或黏著劑層、第2光學膜以此順序朝連結一對黏合輥間的方向排列之狀態導入，將第1光學膜與第2光學膜黏合，其中，黏合時，接著劑層或黏著劑層的寬度係未達第1光學膜的寬度，接著劑層或黏著劑 層係寬度方向的位置在第1光學膜的存在寬度內，第2光學膜的寬度係大於接著劑層或黏著劑層的寬度，第2光學膜係位於內包接著劑層或黏著劑層的存在寬度。
若藉由此製造方法，因接著劑層或黏著劑層溢出第1光學膜及第2光學膜的存在寬度之可能性極小，故可防止黏合輥受到接著劑或黏著劑所致之污染。
此製造方法中，第1光學膜側的黏合輥之寬度，係小於第1光學膜的寬度，且第1光學膜側的黏合輥，係可作成寬度方向的位置在第1光學膜的存在寬度內之形態。此時，可防止黏合輥受到接著劑或黏著劑所致之污染。
同時，此製造方法中，接著劑層或黏著劑層的寬度，係可作成較第1光學膜的寬度小0.1至50mm之形態。此時，可使第1光學膜與第2光學膜充分的接著或黏合至寬度方向的邊緣。
以上所述的各製造方法中，第1光學膜係具有樹脂基材與設在樹脂基材的一面或兩面上之光學機能層，樹脂基材及光學機能層係相互等寬地兩端對齊，第1光學膜係以光學機能層側朝向接著劑層或黏著劑層側之方式配置，第2光學膜係可作成保護膜的形態。在此形態中，雖第1光學膜具有樹脂基材與光學機能層，但寬度方向的邊緣膜厚穩定。
上述光學機能層可為偏光片，此時偏光片也可為塗佈在樹脂基材上而設置者的形態。
本發明的另一形態中，係提供一種積層光學 層的製造方法，其係在旋轉中的一對黏合輥之間，將樹脂基材與設在樹脂基材的一面或兩面上之光學機能層、接著劑層或黏著劑層與保護膜，以此順序朝連結一對黏合輥間的方向排列之狀態導入，將光學機能層與保護膜黏合，其中，黏合時，光學機能層的寬度係小於樹脂基材的寬度，接著劑層或黏著劑層的寬度係光學機能層的寬度以上，且小於樹脂基材的寬度，樹脂基材係位於內包光學機能層及接著劑層或黏著劑層的存在寬度，保護膜的寬度係大於接著劑層或黏著劑層的寬度，保護膜係位於內包接著劑層或黏著劑層的存在寬度。
若藉由此製造方法，光學機能層與保護膜的黏合時，因在接著劑層或黏著劑層與黏合輥之間，插入比接著劑層或黏著劑層更寬的樹脂基材或保護膜，故可防止黏合輥受到因接著劑或黏著劑而致之污染。
此製造方法中，樹脂基材側的黏合輥之寬度，係小於樹脂基材的寬度，且樹脂基材側的黏合輥係可作成寬度方向的位置在樹脂基材的存在寬度內之形態様。此時，可進一步防止黏合輥受到因接著劑或黏著劑而致之污染。
同時，此製造方法中，上述光學機能層可為偏光片，此時，偏光片也可為塗層在樹脂基材上而設者的形態。
若藉由本發明，可提供一種積層光學膜的製 造方法，其係可止黏合輥受到光學膜相互間的黏合用之接著劑或黏著劑而致之污染。
1A至1D‧‧‧積層光學膜
2‧‧‧第1光學膜
3‧‧‧保護膜(第2光學膜)
4A至4D‧‧‧積層體
5‧‧‧接著劑層
6‧‧‧暫時保護膜(第3光學膜)
7a‧‧‧第1光學膜側的黏合輥
7b‧‧‧保護膜側的黏合輥
10‧‧‧偏光板
21‧‧‧樹脂基材
22‧‧‧偏光片
W1‧‧‧第1光學膜的寬度
W11‧‧‧樹脂基材的寬度
W12‧‧‧偏光片的寬度
W2‧‧‧保護膜的寬度
W3‧‧‧暫時保護膜的寬度
WA‧‧‧接著劑層的寬度
WR1‧‧‧第1光學膜側的黏合輥之寬度
WR2‧‧‧保護膜側的黏合輥之寬度
第1圖係以第1實施形態的製造方法製造之積層光學膜的剖面圖。
第2圖係表示第1實施形態的製造方法之圖。
第3圖係第2圖的III-III剖面圖，表示第1實施形態的黏合時之積層狀態之圖。
第4圖係以第2實施形態的製造方法製造之積層光學膜的剖面圖。
第5圖係表示第2實施形態的製造方法之圖。
第6圖係第5圖的VI-VI剖面圖，表示第2實施形態的黏合時之積層狀態之圖。
第7圖係以第3實施形態的製造方法製造之積層光學膜的剖面圖。
第8圖係表示第3實施形態的黏合時之積層狀態之圖。
第9圖係以第4實施形態的製造方法製造之積層光學膜的剖面圖。
第10圖係表示第4實施形態的黏合時之積層狀態之圖。
以下，一邊參照圖面，一邊詳細說明本發明之較佳實施形態。又，將各圖中的相同部份或相當部份附 上相同符號，省略重複的說明。同時，各圖面的尺寸比例未必與實際者一致，尤其，對於膜之厚度或寬度係相對誇大的描述。
<第1實施形態>
(積層光學膜)
如第1圖所示，藉由第1實施形態的積層光學膜之製造方法所製造的積層光學膜1A，係在第1光學膜2的一面上透過接著劑層5而積層第2光學膜3，且在第1光學膜2的另一面上積層第3光學膜6。第1光學膜2係二個層，亦即，具有樹脂基材21與設在其一面上的偏光片22，此等層可相互剝離。
第1光學膜2中，樹脂基材21及偏光片22係相互等寬地兩端對齊，第1光學膜2係以使偏光片22側朝向接著劑層5側之方式配置。又，本說明書中各光學膜之「寬度」係指積層光學膜1A的製造時垂直於各光學膜之運送方向的方向，稱為黏合輥的延伸方向之寬度。同時，各膜的寬度之相對大小關係(寬窄關係)，係使用「大」及「小」之表現。
積層光學膜1A係去除第3光學膜6及樹脂基材21，可利用作為具備偏光片22與第2光學膜(=後述的保護膜)3的偏光板10者。偏光板10可視需要而在已剝離的樹脂基材21側或第2光學膜3側上，透過接著劑層或黏著劑層而重新設置保護膜等其他的光學膜。
第1光學膜2、第2光學膜3、第3光學膜6及接著劑層5的相互寬度之大小關係或位置關係係如後述，此等之層係各寬度方向的中心軸為大致對齊。亦即，第1圖表示的剖面圖中積層形態係大致左右對稱。
此處，說明有關各膜及接著劑層5的構成。偏光片22的材料可使用以往在偏光板的製造中所使用之已知材料，可列舉：例如聚乙烯醇系樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、乙烯/乙酸乙烯(EVA)樹脂、聚醯胺樹脂、聚酯系樹脂等。其中並以聚乙烯醇系樹脂為佳。藉由將此等材料施予延伸處理、以碘或二色性染料的染色及硼酸處理，可獲得膜狀的偏光片22。可將此膜狀的偏光片22切成任意之大小者作為第1光學膜2，並且也可將透過黏著劑而在樹脂基材21的一面或兩面上黏合成的積層體作為第1光學膜2。
同時，偏光片22的形成方法，也可在樹脂基材21的一面或兩面上將已溶解偏光片22的材料之塗液塗布成薄膜狀(膜狀)，乾燥之後，將整個樹脂基材21延伸處理，以碘或二色性染料進行染色及硼酸處理。然後，可將整個樹脂基材21切成任意之大小而作為第1光學膜2。
延伸處理方法可舉出朝膜長方向(膜運送方向)延伸的縱延伸或朝膜寬度方向延伸的橫延伸或斜向延伸等。縱延伸方式可舉出輥間延伸、壓縮延伸等，橫延伸方式可舉出拉幅法等。延伸處理雖然可採用濕潤延伸方法、乾式延伸方法的任一種，但從廣的範圍選擇延伸溫度 而言，係以使用乾式延伸方法為佳。
偏光片22的厚度，係以2至75μm為佳，並以2至50μm更佳，而以2至30μm又更佳。
樹脂基材21係具有作為將偏光片22塗布成薄膜狀(膜狀)用之支撐體的角色及保護偏光片22的表面之角色者，故可使用各種的樹脂材料。樹脂基材21的材料可列舉：例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂。
樹脂基材21的厚度係以20至500μm為佳，並以30至300μm更佳，而以50至200μm又更佳。
第2光學膜3在此處係保護膜3，第3光學膜6係暫時保護膜6。
保護膜3係防止偏光片22的主面或邊緣破裂或刮傷之膜。此處「保護膜」，係指即使在偏光片22上可各種積層之膜中，亦可透過接著劑而直接積層之膜。
保護膜3可以在偏光板的領域中已知的各種透明樹脂膜構成。可列舉例如三乙醯基纖維素為代表例的纖維素系樹脂、聚丙烯系樹脂為代表例的聚烯烴系樹脂、降冰片系樹脂為代表例的環狀烯烴系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂為代表例的丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂為代表例的聚酯系樹脂等。其中並以纖維素系樹脂為代表。
保護膜3可為不具有光學機能之膜，也可為一併具有如相位差膜或增亮膜的光學機能之膜。
保護膜3的厚度係以5至90μm為佳，並以5至80μm更佳，而以5至50μm又更佳。
構成接著劑層5的接著劑，可使用以往偏光板的製造中所使用之各種接著劑。例如，就耐候性或折射率、陽離子聚合性等而言，係以在分子內不含芳香環的環氧樹脂為佳。同時，以可藉由活性能量線(紫外線或熱線)的照射而硬化者為佳。
環氧樹脂係以例如氫化環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等為佳。可對於環氧樹脂添加聚合起始劑(例如以紫外線照射使其聚合用之光陽離子聚合起始劑、以熱線照射使其聚合用之熱陽離子聚合起始劑)或其他的添加劑(增敏劑等)，調製塗布用之環氧樹脂組成物而使用。
同時，接著劑也可使用丙烯醯胺、丙烯酸酯、聚胺酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯等丙烯酸系樹脂、或聚乙烯醇系水性接著劑。
偏光板10係可黏著在液晶電池等顯示用電池(圖像顯示元件)的一面或兩面上者。偏光板更可含有積層在保護膜上的其他之光學層。其他的光學層可舉出透過某種偏光，而將顯示與其相反性質之偏光反射的反射型偏光膜；表面具有凹凸形狀的附防眩機能之膜；附表面抗反射機能之膜；表面具有反射機能的反射膜；同時具有反射機能與透射機能的半透射反射膜；視角補償膜等。
由偏光片22與保護膜3的二層所構成之偏光 板10的厚度，係以10至500μm為佳，並以10至300μm更佳，而以10至200μm又更佳。
暫時保護膜6係用以防止接著劑附著在黏合輥上之膜，同時，係用以保護經積層暫時保護膜6的構件(在此處係第1光學膜2)之表面免於損傷、磨損等之膜。暫時保護膜6的材料可使用與上述保護膜相同者，其中以聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂為佳。
暫時保護膜6係除了成為基材之膜以外，也可具有黏著劑層，該黏著劑層係具有已積層在該膜的表面上之弱接著性。
暫時保護膜6的厚度係以5至200μm為佳，並以5至200μm更佳，而以5至50μm又更佳。
(積層光學膜的製造方法)
積層光學膜1A的製造方法，如第2圖及第3圖所示，其係在旋轉中的一對黏合輥7a、7b之間，將第1光學膜2、接著劑層5與保護膜3以此順序朝連結一對黏合輥7a、7b間的方向排列之狀態導入，將第1光學膜2與保護膜3黏合。此時，於第1光學膜2側的貼合輥7a與第1光學膜2之間插入暫時保護膜6。
此處，第1光學膜2中的偏光片22，係以在樹脂基材21上塗層、乾燥之後，每一樹脂基材21施加延伸處理、以碘或二色性染料的染色及硼酸處理，將其水洗、 乾燥之後，切出寬度方向邊緣，使樹脂基材21與偏光22的相互等寬度，將兩端對齊的供應，接著劑層5係以塗層在保護膜3上供應。又，在第2圖中，係省略接著劑層5的圖示。
第1光學膜2、保護膜3及暫時保護膜6係被積層而成為積層體4A，積層體4A係在其後，藉接著劑層5硬化，而完成作為第1圖表示的積層光學膜1A。
說明黏合時的各構件之存在形態。如第3圖所示，一對黏合輥7a、7b間的各膜或接著劑層5之寬度，係滿足以下的關係。又，在第3圖中，係將黏合輥7a、7b離開積層體4A而描繪，以使圖面容易看。
‧接著劑層5的寬度WA係第1光學膜2的寬度W1以上。(WA≧W1)
‧第1光學膜2係寬度方向的位置在接著劑層5之存在寬度WA以內。
‧保護膜3的寬度W2係大於接著劑層5的寬度WA。(W2>WA)
‧保護膜3係位在內包接著劑層5的存在寬度WA。
‧暫時保護膜6的寬度W3係大於接著劑層5的寬度WA。(W3>WA)
‧暫時保護膜6係插入內包接著劑層5的存在寬度WA。
此處的「內包」，係指寬度為寬側的構件之兩端部比寬度的窄側之構件的兩端部在寬度方向更為外側。
又，保護膜3的寬度與暫時保護膜6的寬度之大小關係隨意的。
同時，第1實施形態的製造方法，雖然無必要條件，但亦滿足以下的關係。
˙第1光學膜2側的黏合輥7a的寬度WR1，係小於暫時保護膜6的寬度W3。(W3>WR1)
˙第1光學膜2側的黏合輥7a，係寬度方向的位置位在暫時保護膜6的存在寬度W3內。
˙保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2，係大於接著劑層5的寬度WA。(WR2>WA)
˙保護膜3側的黏合輥7b，係寬度方向的位置位於內包接著劑層5的存在寬度WA。
˙保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2，係大於保護膜3的寬度W2。(WR2>W2)
˙保護膜3側的黏合輥7b，係寬度方向的位置位於內包保護膜3側的存在寬度W2。
˙第1光學膜2側的黏合輥7a的寬度WR1，係第1光學膜2的寬度以上
此處「黏合輥的寬度」，係指一邊維持與成為有助於黏合的有效接觸面之部份同徑，一邊進行延長的部份之全寬度。例如，在黏合輥7a、7b的邊緣部側中寬度方向的一部份縮徑，而有不與第1光學膜2或保護膜3接觸的部份時，將去除縮徑之部份後的部份之寬度作為黏合輥7a、7b的全寬度。
第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1，係以小於接著劑層5的寬度WA為佳，並以小於第1光學膜2的寬度W1更佳。同時，黏合輥7a的寬度WR1係以較第3光學膜6的寬度W3小1至100mm為佳，並以小1至50mm更佳。
若藉由此製造方法，在第1光學膜2與保護膜3的黏合時，在接著劑層5與黏合輥7a、7b之間，因插入寬度比接著劑層5更寬的保護膜3或暫時保護膜6，故可防止黏合輥7a、7b受到接著劑污染。
同時，在此製造方法中，第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1，係小於暫時保護膜6的寬度W3，且第1光學膜2側的黏合輥7a，係寬度方向的位置在暫時保護膜6的存在寬度W3內，故可進一步防止黏合輥7a受到接著劑污染。
同時，構成第1光學膜2的樹脂基材21與偏光片22，因相互寬度相等地兩端對齊，故作為第1光學膜2的寬度方向之邊緣膜厚穩定。
同時，因接著劑層5的寬度WA為第1光學膜2的寬度W1以上(WA≧W1)，故將樹脂基材21自偏光片22剝離時，可防止偏光片22撕裂。
又，雖然在此第1實施形態中係顯示保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2大於保護膜3的寬度W2之形態，但黏合輥7b的寬度也可小於保護膜3的寬度W2。此時，黏合輥7b係位於保護膜3的存在寬度W2內。藉此，可進一步防止黏合輥7b受到接著劑污染。
<第2實施形態>
以下，說明本發明的第2實施形態。主要說明與第1實施形態的相異處。
(積層光學膜)
如第4圖所示，藉由第2實施形態的積層光學膜之製造方法所製造的積層光學膜1B，係不具備第3光學膜6。
(積層光學膜的製造方法)
積層光學膜1B的製造方法，如第5圖及第6圖所示，係在旋轉中的一對黏合輥7a、7b之間，將第1光學膜2、接著劑層5與保護膜3以此順序朝連結一對黏合輥7a、7b間的方向排列之狀態導入，而將第1光學膜2與保護膜3黏合。
第1光學膜2及保護膜3被積層而成為積層體4B，積層體4B係其後，藉接著劑層5硬化，而完成作為第4圖表示的積層光學膜1B。
說明黏合時的各構件之存在形態。如第6圖所示，一對黏合輥7a、7b間的各膜、接著劑層5及黏合輥7a的寬度，係滿足以下的關係。又，在第6圖中，為使圖面容易看，將黏合輥7a、7b從積層體4B分開而描繪。
‧接著劑層5的寬度WA係第1光學膜2的寬度W1以上。(WA≧W1)
‧第1光學膜2係寬度方向的位置在接著劑層5之存 在寬度WA以內。
‧保護膜3的寬度W2係大於接著劑層5的寬度WA。(W2>WA)
‧保護膜3係位在內包接著劑層5的存在寬度WA。
‧第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1，係小於第1光學膜2側的寬度W1。(W1>WR1)
‧第1光學膜2側的黏合輥7a，係寬度方向的位置在第1光學膜2之存在寬度W1內。
此處，第1光學膜2側的黏合輥7a的寬度WR1，係以較第1光學膜2的寬度W1小1至200mm為佳，並以小於1至100mm更佳。
同時，第2實施形態的製造方法，雖然必非必要的條件，但亦滿足以下的關係。
‧保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2，係大於接著劑層5的寬度WA。(WR2>WA)
‧保護膜3側的黏合輥7b，係寬度方向的位置為位於內包接著劑層5的存在寬度WA。
‧保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2，係大於保護膜3的寬度W2。(WR2>W2)
‧保護膜3側的黏合輥7b，係寬度方向的位置為如同位於內包保護膜3側的存在寬度W2。
若藉由此製造方法，雖然會使接著劑層5由第1光膜2的存在寬度溢出，但因第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1小於第1光學膜2的寬度W1，且第1光 學膜2側的黏合輥7a係寬度方向的位置在第1光學膜2的存在寬度W1內，故可防止該黏合輥7a受到接著劑而致之污染。
又，在此第2實施形態中，雖然係顯示保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2大於保護膜3的寬度W2，但也可將黏合輥7b之寬度WR2作成小於保護膜3的寬度W2，係與第1實施形態的情形相同。
<第3實施形態>
以下，說明本發明的第3實施形態。主要說明與第2實施形態的相異處。
(積層光學膜)
如第7圖所示，藉由第3實施形態的積層光學膜之製造方法所製造的積層光學膜1C，係第1光學膜2的寬度大於接著劑層5的寬度。
此外，第1光學膜2、保護膜3及接著劑層5的相互寬度之大小關係或位置關係如後述，此等之層係各寬度方向的中心軸為大致對齊。即，第7圖表示的剖面圖中積層形態係大致左右對稱。
(積層光學膜的製造方法)
積層光學膜1C的製造方法，如第5圖及第8圖所示，係在旋轉中的一對黏合輥7a、7b之間，將第1光學膜2、 接著劑層5與保護膜3以此順序朝連結一對黏合輥7a、7b間的方向排列之狀態導入，將第1光學膜2與保護膜3黏合。
第1光學膜2及保護膜3係積層而成為積層體4C，積層體4C係在其後，因接著劑層5硬化，而完成為第7圖表示的積層光學膜1C。
說明有關黏合時的各構件之存在形態。如第8圖所示，一對黏合輥7a、7b間的各膜、接著劑層5的寬度，係滿足以下的關係。又，在第8圖中，係為使圖面容易觀看，將黏合輥7a、7b從積層體4C脫離而描繪。
‧接著劑層5的寬度WA，係未達第1光學膜2的寬度W1。(W1>WA)
‧接著劑層5係寬度方向的位置在第1光學膜2的存在寬度W1內。
‧保護膜3的寬度W2係大於接著劑層5的寬度WA。(W2>WA)
‧保護膜3係位於內包接著劑層5的存在寬度WA。
此處，接著劑層5的寬度WA，係以較第1光學膜2的寬度W1小0.1至50mm為佳，並以小0.1至20mm為更佳，而以小0.1至5mm又更佳。此時，可使第1光學膜2與保護膜3充分地接著至寬度方向的邊緣。
又，雖然第1光學膜2的寬度W1與保護膜3的寬度W2之大小關係係任意的，但在此係設為相同。(W1=W2)
同時，第3實施形態的製造方法，雖然並非必要的條件，但亦滿足以下的關係。
‧兩黏合輥7a、7b的寬度WR1、WR2，係分別大於第1光學膜2的寬度W1及保護膜3的寬度W2。(WR1>W1，且WR2>W2)
‧兩黏合輥7a、7b，係寬度方向的位置位於分別內包第1光學膜2的存在寬度W1及第2光學膜3的存在寬度W2。
雖然兩黏合輥7a、7b的寬度之大小關係係任意的，但此處係設為相同。(WR1=WR2)
若藉由此製造方法，因接著劑層5溢出第1光學膜2及保護膜3的存在寬度的可能性極小，故可防止黏合輥7a、7b受到接著劑所致之污染。
又，在此第3實施形態中，雖然顯示黏合輥7a、7b的寬度WR1、WR2分別大於第1光學膜2的寬度W1及保護膜3的寬度W2，但黏合輥7a、7b的寬度亦可小於第1光學膜2的寬度W1及保護膜3的寬度W2，也可小於接著劑層5的寬度WA。此時，黏合輥7a、7b，係分別位於第1光學膜2的存在寬度W1內、保護膜3的存在寬度W2內。藉此，可進一步防止黏合輥7a、7b受到接著劑的污染。
同時，在此第3實施形態中，雖然可與第1實施形態相同地，設計將接著劑層5塗佈在保護膜3上，但也可設計成將接著劑層5塗佈在偏光片22側上。
(第1至第3的實施形態之變形例)
上述第1至第3的實施形態，也可作成以下的形態實施。即，第1光學膜2為偏光板(例如，具備第1圖所示的偏光板10之構成的偏光板。)、第2光學膜3為分離片，以黏著劑取代接著劑將此等膜黏合的形態。此時，積層光學膜係製造附分離片的偏光板。以下，說明此形態。
黏著劑層係可將偏光板黏接在其他的物品(例如液晶電池)時發揮作用之層。黏著劑層可以丙烯酸系樹脂或聚矽氧系樹脂、聚酯、聚胺酯、聚醚等構成。
黏著劑層的厚度係以2至500μm為佳，並以2至200μm更佳，而以2至50μm又更佳。
將黏著劑層積層在偏光板的方法，可為例如在偏光板上塗布含有上述樹脂或任何添加成分的溶液之方法，也可為以該溶液在分離片上形成黏著劑層之後，積層在偏光板上的方法。
分離片係以黏著劑層的保護或防止異物的附著等作為目的而黏接的可剝離之膜，可在偏光板的使用時將其剝離而露出黏著劑層。分離片係可以例如如聚乙烯的聚乙烯系樹脂、如聚丙烯的聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯的聚酯系樹脂等構成。其中，並以聚對苯二甲酸乙二酯的延伸膜為佳。
分離片係如在偏光板的使用時可容易地剝離的方式，可在與黏著劑層連接之面上藉由聚矽氧樹脂等施 予離型處理。
分離片的厚度係以10至500μm為佳，並以10至300μm更佳，而以10至200μm又更佳。
即使為上述形態，也可藉由與上述實施形態相同的作用，而防止黏合輥7a、7b受到黏著劑的污染。
使用偏光板作為第1光學膜2時，通常可使用透過接著劑而在偏光片的一片或兩面上積層保護膜者。使保護膜僅積層在偏光片的一面上之偏光板時，只要將保護膜積層在與已積層之側為相反側的面成為接著劑層側即可。偏光板亦可含有被積層在保護膜上的其他光學層或保護保護膜表面的保護層。其他的光學層，可舉出透過某種偏光、將顯示與其相反性質的偏光反射之反射型偏光膜；於表面具有凹凸形狀的附防眩機能之膜；附抗表面反射機能之膜；表面具有反射機能的反射膜；同時具有反射機能與透射機能的半透射反射膜；視角補償膜等。保護保護膜表面的保護層，可使用通常的透明樹脂膜。可列舉：例如三乙醯基纖維素為代表例的纖維素系樹脂、聚丙烯系樹脂為代表例的聚烯烴系樹脂、降莰烯系樹脂為代表例的環狀烯烴系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂為代表例的丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂為代表例的聚酯系樹脂等。保護保護膜表面的保護層，可為不具有光學機能之膜，也可為同時具有相位差膜與增亮膜的光學機能之膜。
<第4實施形態>
以下，說明有關本發明的第4實施形態。主要說明與第2實施形態的相異處。
(積層光學膜)
如第9圖所示，藉由第4實施形態的積層光學膜之製造方法所製造的積層光學膜1D，係第1光學膜2中樹脂基材21與偏光片22的寬度未對齊，樹脂基材21的寬度大於偏光片22的寬度。
此外，樹脂基材21、偏光片22、保護膜3及接著劑層5的相互寬度之大小關係或位置關係如後述，此等之層係各寬度方向的中心軸為大致對齊。即，第9圖表示的剖面圖中積層形態構成大致左右對稱。
(積層光學膜的製造方法)
積層光學膜1D的製造方法，如第5圖及第10圖所示，係在旋轉中的一對黏合輥7a、7b之間將樹脂基材21、偏光片22、接著劑層5與保護膜3以此順序朝連結一對黏合輥7a、7b間的方向排列之狀態導入，而將偏光片22與保護膜3黏合。
此處，第1光學膜2中的偏光片22，係以僅塗佈樹脂基材21的幅方向中央部份、兩端部以未塗佈而乾燥，整個樹脂基材21施予延伸處理後、藉由碘或二色性染料施予染色及硼酸處理，水洗、乾燥而進行供應。
樹脂基材21、偏光片22及保護膜3係被積 層而成為積層體4D，積層體4D係其後，藉接著劑層5進行硬化，而完成為第9圖表示的積層光學膜1D。
說明有關黏合時的各構件之存在形態。如第10圖所示，一對黏合輥7a、7b間的各膜、接著劑層5之寬度，係滿足以下的關係。又，在第10圖中，係為使圖面容易觀看，將黏合輥7a、7b從積層體4D脫離而描繪。
‧偏光片22的寬度W12，係小於樹脂基材21的寬度W11。(W11>W12)
‧接著劑層5的寬度WA，係偏光片22的寬度W12以上，且小於樹脂基材21的寬度W11。(W11>WA≧W12)
‧樹脂基材21係位在內包偏光片22的存在寬度W12及接著劑層5的存在寬度WA。
‧保護膜3的寬度W2，係大於接著劑層5的寬度WA。(W2>WA)
‧保護膜3，係位在內包接著劑層5的存在寬度WA。
又，樹脂基材21的寬度幅W12與保護膜3的寬度W2之大小關係任意的。
同時，第4實施形態的製造方法，雖然並非必要的條件，但也滿足以下的關係。
‧樹脂基材21側的黏合輥7a之寬度WR1，係小於樹脂基材21的寬度W11。(W11>WR1)
‧樹脂基材21側的黏合輥7a，係寬度方向的位置在樹脂基材21的存在寬度內。
‧保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2，係大於保護膜 3的寬度W2。(WR2>W2)
‧保護膜3側的黏合輥7b，係位於寬度方向的位置為內包保護膜3側的存在寬度W2。
此處，樹脂基材21側的黏合輥7a之寬度WR1，係以小於接著劑層5的寬度WA為佳，小於偏光片22的寬度W12更佳。同時，黏合輥7a的寬度WR1，係以較樹脂基材21的寬度W12小1至100mm為佳，並以小1至50mm為更佳。
若藉由此製造方法，偏光片22與保護膜3之黏合時，因在接著劑層5與黏合輥7a、7b之間，插入寬度大於接著劑層5的樹脂基材21或保護膜3，故可防止黏合輥7a、7b受到接著劑所致之污染。
同時，此製造方法中，樹脂基材21側的黏合輥7a之寬度WR1，係小於樹脂基材21的寬度，且樹脂基材21側的黏合輥7a，係寬度方向的位置為樹脂基材21的存在寬度W11內，故可進一步防止黏合輥7a受到接著劑所致之污染。
上述第4實施形態中，第1光學膜2可為偏光板。偏光板亦可為在偏光片的一面或兩面上透過接著劑而積層保護膜者。而且，偏光片係只要小於保護膜的寬度，且存在於保護膜的存在寬度內即可。保護膜僅積層在偏光片的一面上之偏光板時，只要使保護膜積層為與經積層之側為相反側之面成為接著劑層側即可。偏光板亦可更含有被積層在保護膜上的其他光學層或保護保護膜表面的保護 層。其他的光學層可舉出透過某種偏光，將顯示與其相反性質的偏光反射之反射型偏光膜；於表面具有凹凸形狀的附防眩功能之膜；附抗表面反射功能之膜；表面具有反射機能的反射膜；同時具有反射機能與透射機能的半透射反射膜；視角補償膜等。保護保護膜表面的保護層，可使用通常的透明樹脂膜。可列舉：例如三乙醯基纖維素為代表例的纖維素系樹脂、聚丙烯系樹脂為代表例的聚烯烴系樹脂、降莰烯系樹脂為代表例的環狀烯烴系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂為代表例的丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂為代表例的聚酯系樹脂等。保護保護膜表面的保護層，可為不具有光學機能之膜，也可為同時具有相位差膜與增亮膜的光學機能之膜。
以上，雖然說明有關本發明之適當的實施形態，但本發明並非受上述實施形態任何限定者。
例如，在上述各實施形態中，係表示偏光片22塗佈在樹脂基材21的一面上之形態，但偏光片22也可塗佈在樹脂基材21的兩面上。此時，在製造積層光學膜1A至1D之後，藉由在面向接著劑層5之偏光片22與樹脂基材21之間剝離，可將殘留在樹脂基材21側的偏光片利用於另外的偏光板之製造上。
同時，在上述各實施形態中，雖然係使用在樹脂基材21的一面上設置偏光片22之第1光學膜之例說明，但也可在樹脂基材21的一面或兩面上設置偏光片22之外的其他光學機能層。偏光片22以外的光學機能層，可 舉出相位差層、視角補償層等，可在樹脂基材21上，藉由將具有目的的光學機能之材料溶解或分散之液塗布、乾燥而設置該層。
2‧‧‧第1光學膜
3‧‧‧保護膜(第2光學膜)
4A‧‧‧積層體
5‧‧‧接著劑層
6‧‧‧暫時保護膜(第3光學膜)
7a‧‧‧第1光學膜側的黏合輥
7b‧‧‧保護膜側的黏合輥
21‧‧‧樹脂基材
22‧‧‧偏光片
W1‧‧‧第1光學膜的寬度
W2‧‧‧保護膜的寬度
W3‧‧‧暫時保護膜的寬度
WA‧‧‧接著劑層的寬度
WR1‧‧‧第1光學膜側的黏合輥之寬度
WR2‧‧‧保護膜側的黏合輥之寬度

Claims (5)

  1. 一種積層光學膜之製造方法，係在旋轉中的一對黏合輥之間，將第1光學膜、接著劑層或黏著劑層與第2光學膜依此順序朝連結前述一對黏合輥間的方向排列之狀態導入，而將前述第1光學膜與前述第2光學膜黏合，其中，黏合時，前述接著劑層或前述黏著劑層的寬度係前述第1光學膜的寬度以上，前述第1光學膜係寬度方向的位置在前述接著劑層或前述黏著劑層的存在寬度以內，前述第2光學膜的寬度係大於前述接著劑層或前述黏著劑層的寬度，前述第2光學膜係位在內包前述接著劑層或前述黏著劑層的存在寬度，前述第1光學膜側的前述黏合輥與前述第1光學膜之間，插入具有寬度大於前述接著劑層或前述黏著劑層的寬度之第3光學膜，以內包前述接著劑層或前述黏著劑層之寬度之方式介入，前述第1光學膜側的前述黏合輥之寬度，係小於前述第3光學膜的寬度，前述第1光學膜側的前述黏合輥，係寬度方向的位置在前述第3光學膜的存在寬度內，前述第1光學膜側的前述黏合輥之寬度，係前述第 1光學膜的寬度以上，前述第1光學膜，係寬度方向的位置在前述第1光學膜側的前述黏合輥的存在寬度內。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之積層光學膜之製造方法，其中前述接著劑層或前述黏著劑層的寬度，係較前述第1光學膜的寬度小0.1至50mm。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之積層光學膜之製造方法，其中前述第1光學膜係具有樹脂基材與設在前述樹脂基材的一面或兩面上之光學機能層，前述樹脂基材及前述光學機能層係相互等寬地兩端對齊，前述第1光學膜係前述光學機能層側以朝向前述接著劑層或前述黏著劑層側之方式配置、前述第2光學膜為保護膜。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之積層光學膜之製造方法，其中前述光學機能層為偏光片。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之積層光學膜之製造方法，其中前述偏光片係塗佈在前述樹脂基材上而設置者。
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