CN108885298B - 光学薄膜、剥离方法以及光学显示面板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明为依次层叠有脱模薄膜、第1粘合剂层、偏光薄膜以及表面保护薄膜的片状的光学薄膜，前述偏光薄膜的厚度为60μm以下，并且，在将前述光学薄膜的总厚度的中间位置的平面方向设为假想中心面f的情况下，前述假想中心面f与表面保护薄膜的距离x(μm)和前述假想中心面f与脱模薄膜的距离y(μm)符合x‑y>‑20的关系。本发明的光学薄膜即使在使用薄型的偏光薄膜的情况下，也能够容易地将脱模薄膜剥离。

Description

光学薄膜、剥离方法以及光学显示面板的制造方法

技术领域

本发明涉及依次层叠有脱模薄膜、第1粘合剂层、偏光薄膜以及表面保护薄膜的片状的光学薄膜。另外，本发明涉及前述光学薄膜的脱模薄膜的剥离方法。进而，本发明涉及使用前述光学薄膜的光学显示面板的制造方法。

背景技术

通常，偏光薄膜为了在其单面粘贴液晶单元等光学单元而以设置有粘合剂层的带粘合剂层偏光薄膜的形式使用。通常，在应用于贴合前，前述粘合剂层上临时粘贴有脱模薄膜。另一方面，在偏光薄膜的另一单面上临时粘贴有表面保护薄膜。这样的具有脱模薄膜及表面保护薄膜的带粘合剂层偏光薄膜被应用于光学显示面板，但此时，首先会将从前述带粘合剂层偏光薄膜上剥离脱模薄膜而露出的粘合剂层贴合于光学单元。在经贴合的带粘合剂层偏光薄膜表面，保护薄膜保持其原样地被贴合。

前述贴合例如有如下方式：使从卷绕体送出并运送的带粘合剂层偏光薄膜借助将脱模薄膜剥离而露出的粘合剂层贴合于光学单元表面(以下，也称为“卷到面板(roll topanel)方式”。专利文献1)。此外，有使制成片状态的带粘合剂层偏光薄膜借助将脱模薄膜剥离而露出的粘合剂层贴附于光学单元的方式(以下，也称为“片到面板(sheet to panel)方式”。)。

另一方面，液晶显示装置等图像显示装置的薄型化不断推进，对偏光薄膜也要求薄型化。因此，对偏光件也进行薄型化(专利文献2)。另外，偏光薄膜的薄型化可以通过使用仅在偏光件的单侧设置保护薄膜、在另一单侧不设置保护薄膜的单侧保护偏光薄膜进行。该单侧保护偏光薄膜与在偏光件的双面设置有保护薄膜的两侧保护偏光薄膜相比，由于保护薄膜减少了一片，因此能够实现薄化型。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第4406043号说明书

专利文献2：日本特许第4751481号说明书

发明内容

发明要解决的问题

从前述具有脱模薄膜及表面保护薄膜的带粘合剂层偏光薄膜上剥离脱模薄膜时，通常在将前述带粘合剂层偏光薄膜的表面保护薄膜侧固定的状态下剥离脱模薄膜。但是，近年来，对能够没有残胶地、容易地剥离表面保护薄膜的方式的需求增加，表面保护薄膜的剥离力进一步减小。原本从剥离顺序的观点出发，理想的是以先剥离的脱模薄膜与后剥离的表面保护薄膜相比，剥离力足够小(容易剥离)的方式进行设计。但是，近年来有如下的新发现：提出了一种带粘合剂层偏光薄膜，其被设计成表面保护薄膜的剥离力与脱模薄膜的剥离力相比并不足够大、或者表面保护薄膜的剥离力比脱模薄膜的剥离力小。因此，会发生如下问题：在剥离脱模薄膜时，并不在脱模薄膜与粘合剂层的界面发生剥离，而是在偏光薄膜与表面保护薄膜的界面发生剥离。前述问题例如只要使表面保护薄膜的剥离力与脱模薄膜的剥离力大致相同就可以解决。但是，对于脱模薄膜，为了确保偏光薄膜与光学单元的密合力，要求规定以上的剥离力，因此在将脱模薄膜的剥离力设计成与表面保护薄膜的剥离力大致相同的情况下，偏光薄膜与光学单元的密合力会降低，或无法满足减小表面保护薄膜的剥离力的要求。特别是，已知前述问题在片到面板方式中从具有规定厚度以下(例如，厚度为60μm以下)的薄型的偏光薄膜的片状的带粘合剂层偏光薄膜剥离脱模薄膜时显著化。

本发明的目的在于，提供依次层叠有脱模薄膜、第1粘合剂层、偏光薄膜及表面保护薄膜的片状的光学薄膜，该光学薄膜即使在使用薄型的偏光薄膜的情况下，也能够容易地将脱模薄膜剥离。

另外，本发明的目的在于，提供前述光学薄膜的脱模薄膜的剥离方法，进而，本发明还提供使用前述光学薄膜的光学显示面板的制造方法。

用于解决问题的方案

本申请发明人等深入研究的结果发现，利用下述的光学薄膜等可解决上述问题，从而完成了本发明。

即本发明涉及一种光学薄膜，其特征在于，其为依次层叠有脱模薄膜、第1粘合剂层、偏光薄膜以及表面保护薄膜的片状的光学薄膜，

前述偏光薄膜的厚度为60μm以下，并且，

在将前述光学薄膜的总厚度的中间位置的平面方向设为假想中心面f的情况下，

前述假想中心面f与表面保护薄膜的距离x(μm)和前述假想中心面f与脱模薄膜的距离y(μm)符合x-y>-20的关系。

前述光学薄膜中，优选前述距离x(μm)与前述距离符合x-y>-10的关系。

前述光学薄膜中，前述脱模薄膜的剥离力(1)大于前述表面保护薄膜的剥离力(2)时，本发明是适宜的。

前述光学薄膜中，优选前述假想中心面f位于第1粘合剂层或偏光薄膜处。

前述光学薄膜中，优选前述脱模薄膜的厚度大于前述表面保护薄膜的厚度。

前述光学薄膜中，作为前述表面保护薄膜，可以具有基材薄膜及第2粘合剂层，并且夹着该第2粘合剂层层叠于偏光薄膜。另外，作为前述表面保护薄膜，可以使用自粘合型的薄膜。

对于前述光学薄膜，前述偏光薄膜具有厚度为10μm以下的偏光件时，可以适宜地应用。另外，对于前述光学薄膜，前述偏光薄膜为仅在偏光件的单面具有保护薄膜的单侧保护偏光薄膜时，可以适宜地应用。

另外，本发明涉及一种脱模薄膜的剥离方法，其特征在于，将脱模薄膜从前述光学薄膜剥离。

另外，本发明涉及一种光学显示面板的制造方法，该方法包括以下工序：

工序(1)，准备前述光学薄膜；

工序(2)，从前述光学薄膜剥离脱模薄膜；以及，

工序(3)，使剥离了前述脱模薄膜的前述光学薄膜的第1粘合剂层的一侧贴合于光学单元的一面。

在前述光学显示面板的制造方法中，作为前述光学单元，可以使用液晶单元或有机EL单元。

发明的效果

本发明的光学薄膜(具有脱模薄膜及表面保护薄膜的带粘合剂层偏光薄膜)如上所述被设计成假想中心面f与表面保护薄膜的距离x和前述假想中心面f与脱模薄膜的距离y符合x-y>-20的关系。认为通过所述设计，在剥离脱模薄膜时，与偏光薄膜与表面保护薄膜的界面相比，光学薄膜的截面方向的剪切力会更多地施加在脱模薄膜与第1粘合剂层的界面上。其结果，即使在偏光薄膜的厚度为60μm以下、刚性(弹性模量)弱的情况下(进而，与脱模薄膜的剥离力相比，表面保护薄膜的剥离力小的情况下)，也不会发生偏光薄膜与表面保护薄膜的界面处的剥离，在片到面板方式中，能够容易从片状的光学薄膜剥离脱模薄膜。

附图说明

图1为片状态的光学薄膜的截面示意图。

图2为另一实施方式的片状态的光学薄膜的截面示意图。

图3为图1或图2的光学薄膜的截面示意图的局部放大图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的光学薄膜F进行说明。图1～图3为光学薄膜F的截面示意图。光学薄膜F为依次层叠有脱模薄膜3、第1粘合剂层2、偏光薄膜1、以及表面保护薄膜4的结构。

图2中示出了偏光薄膜1仅在偏光件1a的单侧具有保护薄膜1b的单侧保护偏光薄膜1’的情况。需要说明的是，图2中例示出了单侧保护偏光薄膜1’在偏光件1a侧具有第1粘合剂层的情况，但单侧保护偏光薄膜1’也可以以在保护薄膜1b侧具有第1粘合剂层的方式进行配置。另外，作为偏光薄膜1，可以使用在偏光件1a的两侧具有保护薄膜1b的两侧保护偏光薄膜。

另外，图2为表面保护薄膜4具有基材薄膜41及第2粘合剂层42的情况。图2中，表面保护薄膜4的第2粘合剂层42侧贴合于偏光薄膜1。需要说明的是，图1、图3是表面保护薄膜4为自粘合型的薄膜的情况。

另外，图1～图3中，用点划线表示光学薄膜F的总厚度的中间位置的平面方向的假想中心面f。图1～图3中，假想中心面f被标记在偏光薄膜1的厚度内，但假想中心面f也可以位于第1粘合剂层2的厚度内，另外还可以位于脱模薄膜3的厚度内。

另外，图3为图1或图2的局部放大图。图3中，示出了假想中心面f与表面保护薄膜4的距离x(μm)和假想中心面f与脱模薄膜3的距离y(μm)。需要说明的是，图3中，假想中心面f被标记在偏光薄膜1的厚度内，但如上所述，假想中心面f也可以位于第1粘合剂层2的厚度内，另外，还可以位于脱模薄膜3的厚度内。本发明的光学薄膜中，以前述x、y成为x-y>-20的关系的方式来设计各构件的厚度。前述x、y优选呈x-y>-10的关系。通过增大前述脱模薄膜3的厚度，前述x的值变大，相对地变得比前述y的值更大，在满足前述关系方面是优选的。前述假想中心面f处于脱模薄膜3的厚度内的情况下，有脱模薄膜3的厚度变厚的倾向，在成本方面、处理方面不优选。通过如前所述地以使假想中心面f处于偏光薄膜1或第1粘合剂层2的厚度内的方式进行设计、并且以使前述x、y满足x-y>-20的关系的方式进行设计，能够边抑制脱模薄膜3的厚度边确保脱模薄膜的剥离的容易性。需要说明的是，x-y的值为表示光学薄膜F的假想中心面f的位置关系的指标，假想中心面f位于表面保护薄膜4内的情况下，前述距离x的值在x-y的记载中会作为“-”的数值进行计算。假想中心面f处于脱模薄膜3内的情况下，前述距离y的值在x-y的记载中会作为“-”的数值进行计算。

前述脱模薄膜3、前述表面保护薄膜4最终均会被剥离，优选脱模薄膜3的剥离力(1)、前述表面保护薄膜4的剥离力(2)分别设计为适当的剥离力。剥离力(1)为脱模薄膜3相对于第1粘合剂层2的剥离力，剥离力(2)为表面保护薄膜4相对于偏光薄膜1的剥离力。

从防止加工时的端部浮起的观点出发，前述剥离力(1)优选为0.03N/25mm以上。进一步优选为0.05～0.5N/25mm、进一步优选为0.1～0.3N/25mm。另外，从简易的剥离的观点出发，前述剥离力(2)优选为0.2N/25mm以下、进一步优选为0.01～0.1N/25mm、进一步优选为0.01～0.05N/25mm。

本发明的光学薄膜F适宜用于将脱模薄膜3的剥离力(1)设计成大于前述表面保护薄膜4的剥离力(2)的情况。本发明的光学薄膜F在前述剥离力(1)相对于前述剥离力(2)的值{剥离力(1)/剥离力(2)}为1.1倍以上的情况、进而为1.5倍以上的情况下是适宜的。

<偏光薄膜>

本发明中，使用厚度(总厚度)为60μm以下的偏光薄膜。对于前述偏光薄膜的厚度，从薄型化的观点出发，可以使用55μm以下、进而50μm以下的厚度。在使用前述偏光薄膜的片到面板方式中，在剥离脱模薄膜时，容易在偏光薄膜与表面保护薄膜的界面而不是脱模薄膜与粘合剂层的界面发生剥离，本发明更适宜应用于该偏光薄膜。需要说明的是，作为偏光薄膜的构成，例如可列举出：(1)在偏光件的两侧依次层叠有保护薄膜的构成(两侧保护偏光薄膜)、(2)仅在偏光件的单侧层叠有保护薄膜的构成(单侧保护偏光薄膜)等。

《偏光件》

偏光件可以使用利用聚乙烯醇系树脂而成者。作为偏光件，例如可列举出，使碘、二色性染料的二色性物质吸附于聚乙烯醇系薄膜、部分缩甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜并进行单向拉伸而成者，聚乙烯醇的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等聚烯系取向薄膜等。这些当中，由聚乙烯醇系薄膜和碘等二色性物质制成的偏光件是适宜的。

用碘对聚乙烯醇系薄膜进行染色并进行单向拉伸而成的偏光件例如可以通过将聚乙烯醇浸渍于碘的水溶液来进行染色，并拉伸至原长的3～7倍，由此进行制作。根据需要可以包含硼酸、硫酸锌、氯化锌等，也可以浸渍于碘化钾等的水溶液。进而可以根据需要在染色前将聚乙烯醇系薄膜浸渍于水中进行水洗。通过对聚乙烯醇系薄膜进行水洗，不仅能够清洗聚乙烯醇系薄膜表面的污物、抗粘连剂，还具有通过使聚乙烯醇系薄膜溶胀而防止染色的不均等不均匀的效果。拉伸可以在用碘进行染色后进行，也可以边进行染色边进行拉伸，另外也可以在拉伸后用碘进行染色。还可以在硼酸、碘化钾等的水溶液、水浴中进行拉伸。

从薄型化的观点出发，偏光件的厚度优选为10μm以下、进一步优选为8μm以下、进一步优选为7μm以下、进一步优选为6μm以下。另一方面，偏光件的厚度优选为2μm以上、进一步优选为3μm以上。这样的薄型的偏光件的厚度不均少、辨识性优异，另外，由于尺寸变化少，对热冲击的耐久性优异。另一方面，包含厚度10μm以下的偏光件的偏光薄膜由于薄膜的刚性(弹性模量)显著降低，因此在片到面板方式中，在剥离脱模薄膜时，特别容易在偏光薄膜与表面保护薄膜的界面而不是脱模薄膜与粘合剂层的界面发生剥离，本发明特别适合于该偏光薄膜。

作为薄型的偏光件，可代表性地列举出：日本特许第4751486号说明书、日本特许第4751481号说明书、日本特许第4815544号说明书、日本特许第5048120号说明书、国际公开第2014/077599号小册子、国际公开第2014/077636号小册子等中记载的薄型偏光件或由这些文献中记载的制造方法得到的薄型偏光件。

前述偏光件优选以如下方式构成：由单体透过率T及偏振度P所代表的光学特性满足下式P>-(10^0.929T-42.4-1)×100(其中，T<42.3)、或P≥99.9(其中，T≥42.3)的条件。以满足前述条件的方式构成的偏光件毫无疑义地具有作为使用大型显示元件的液晶电视用的显示器所要求的性能。具体而言，对比度为1000：1以上并且最大亮度为500cd/m²以上。作为其它用途，例如会贴合于有机EL单元的可视侧。

作为前述薄型偏光件，在包括以层叠体的状态进行拉伸的工序和进行染色的工序的制法中，从能够拉伸为高倍率从而提高偏光性能的方面出发，优选通过日本特许第4751486号说明书、日本特许第4751481号说明书、日本特许4815544号说明书中所记载那样的、包括在硼酸水溶液中进行拉伸的工序的制法而得到者，特别优选通过日本特许第4751481号说明书、日本特许4815544号说明书中所记载那样的、包括在硼酸水溶液中进行拉伸前辅助地进行空中拉伸的工序的制法而得到者。这些薄型偏光件可以通过包括将聚乙烯醇系树脂(以下，也称为PVA系树脂)层和拉伸用树脂基材以层叠体的状态进行拉伸的工序和进行染色的工序的制法得到。为该制法时，即使PVA系树脂层薄，也可以通过被拉伸用树脂基材支撑而在不存在由拉伸导致的断裂等不良的情况下进行拉伸。

《保护薄膜》

作为构成前述保护薄膜的材料，优选透明性、机械强度、热稳定性、水分阻断性、各向同性等优异的材料。例如可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物、二醋酸纤维素、三醋酸纤维素等纤维素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类聚合物、聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS树脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。另外，聚乙烯、聚丙烯、环系乃至具有降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物之类的聚烯烃系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物、酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏氯乙烯系聚合物、乙烯基缩丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、多聚甲醛系聚合物、环氧系聚合物、或上述聚合物的共混物等也可以作为用于形成上述保护薄膜的聚合物的例子而列举。这些保护薄膜通常通过粘接剂层贴合于偏光件。

需要说明的是，保护薄膜中可以包含1种以上任意适当的添加剂。作为添加剂，例如可列举出紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、抗静电剂、颜料、着色剂等。保护薄膜中的上述热塑性树脂的含量优选为50～100重量％、更优选为50～99重量％、进一步优选为60～98重量％、特别优选为70～97重量％。保护薄膜中的上述热塑性树脂的含量为50重量％以下的情况下，有无法充分表现出热塑性树脂原本具有的高透明性等的担心。

作为前述保护薄膜，也可以使用相位差薄膜、亮度提高薄膜、扩散薄膜等。

前述保护薄膜的厚度可以适宜决定，但通常从强度、处理性等操作性、薄层性等方面出发，优选为5～50μm、进一步优选为5～45μm。

在前述保护薄膜的未粘接偏光件的面上可以设置硬涂层、防反射层、防粘层、扩散层乃至防眩层等功能层。需要说明的是，上述硬涂层、防反射层、防粘层、扩散层、防眩层等功能层可以设置为保护薄膜其本身，另外，也可以另行设置为与保护薄膜不同的构件。

<夹持层>

前述保护薄膜和偏光件隔着粘接剂层、粘合剂层、底涂层(底漆层)等夹持层层叠。此时，理想的是通过夹持层将两者没有空气间隙地层叠。需要说明的是，即使在图2中也未示出偏光件1a与保护薄膜1b的夹持层。

粘接剂层由粘接剂形成。对粘接剂的种类没有特别限制，可以使用各种粘接剂。只要前述粘接剂层在光学上透明，就没有特别限制，作为粘接剂，可以使用水系、溶剂系、热熔系、活性能量射线固化型等各种形态的粘接剂，水系粘接剂或活性能量射线固化型粘接剂是适宜的。

作为水系粘接剂，可例示出异氰酸酯系粘接剂、聚乙烯醇系粘接剂、明胶系粘接剂、乙烯基系胶乳系、水系聚酯等。水系粘接剂通常以包含水溶液的粘接剂的形式使用，通常含有0.5～60重量％的固体成分。

活性能量射线固化型粘接剂为通过电子束、紫外线(自由基固化型、阳离子固化型)等活性能量射线进行固化的粘接剂，例如可以以电子束固化型、紫外线固化型的形态使用。活性能量射线固化型粘接剂例如可以使用光自由基固化型粘接剂。使用光自由基固化型的活性能量射线固化型粘接剂作为紫外线固化型的情况下，该粘接剂含有自由基聚合性化合物和光聚合引发剂。

粘接剂的涂覆方式根据粘接剂的粘度、目标厚度而适宜选择。作为涂覆方式的例子，例如可列举出逆转涂布机、凹版涂布机(直接、逆转、胶印)、棒逆转涂布机、辊涂机、模涂机、棒涂机、杆涂布机等。此外，涂覆中还可以适宜地使用浸渍方式等方式。

另外，关于前述粘接剂的涂覆，在使用水系粘接剂等的情况下，优选以最终形成的粘接剂层的厚度成为30～300nm的方式进行。前述粘接剂层的厚度进一步优选为60～150nm。另一方面，使用活性能量射线固化型粘接剂的情况下，优选以前述粘接剂层的厚度成为0.2～20μm的方式进行。

需要说明的是，在偏光件与保护薄膜层叠时，可以在保护薄膜与粘接剂层之间设置易粘接层。易粘接层例如可以通过具有聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚氨酯骨架、有机硅系、聚酰胺骨架、聚酰亚胺骨架、聚乙烯醇骨架等的各种树脂形成。这些聚合物树脂可以单独使用1种、或可以组合使用2种以上。另外，在易粘接层的形成时可以添加其它添加剂。具体而言，可以进一步使用增粘剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、耐热稳定剂等稳定剂等。

粘合剂层由粘合剂形成。作为粘合剂，可以使用各种粘合剂，例如可列举出橡胶系粘合剂、丙烯酸类粘合剂、有机硅系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、乙烯基烷基醚系粘合剂、聚乙烯基吡咯烷酮系粘合剂、聚丙烯酰胺系粘合剂、纤维素系粘合剂等。根据前述粘合剂的种类选择粘合性的基础聚合物。前述粘合剂中，从光学透明性优异、显示出适宜的润湿性、内聚性和粘接性的粘合特性、耐候性、耐热性等优异的方面出发，优选使用丙烯酸类粘合剂。

底涂层(底漆层)是为了提高偏光件与保护薄膜的密合性而形成的。作为构成底漆层的材料，只要是对基材薄膜和聚乙烯醇系树脂层这两者发挥出一定程度的强密合力的材料，就没有特别限定。例如可以使用透明性、热稳定性、拉伸性等优异的热塑性树脂等。作为热塑性树脂，例如可列举出丙烯酸类树脂、聚烯烃系树脂、聚酯系树脂、聚乙烯醇系树脂、或它们的混合物。

<第1粘合剂层>

第1粘合剂层的形成中可以使用适宜的粘合剂，对其种类没有特别限制。作为粘合剂，可列举出橡胶系粘合剂、丙烯酸类粘合剂、有机硅系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、乙烯基烷基醚系粘合剂、聚乙烯醇系粘合剂、聚乙烯基吡咯烷酮系粘合剂、聚丙烯酰胺系粘合剂、纤维素系粘合剂等。

这些粘合剂中，优选使用光学透明性优异、显示出适宜的润湿性、内聚性和粘接性的粘合特性、耐候性、耐热性等优异的粘合剂。作为显示出这种特征的粘合剂，优选使用丙烯酸类粘合剂。

作为形成第1粘合剂层的方法，例如可以通过如下方法等进行制作：将前述粘合剂涂布于经剥离处理的脱模薄膜(隔膜等)，将聚合溶剂等干燥去除而形成粘合剂层后，转印至偏光薄膜的方法；或者，在偏光薄膜上涂布前述粘合剂，将聚合溶剂等干燥去除而在偏光薄膜上形成粘合剂层的方法。需要说明的是，在粘合剂的涂布时，可以适宜地新添加除聚合溶剂以外的一种以上的溶剂。

作为经剥离处理的脱模薄膜，优选使用有机硅剥离衬垫。在这样的在衬垫上涂布本发明的粘合剂并使其干燥从而形成粘合剂层的工序中，作为使粘合剂干燥的方法，可以根据目的适宜采用适当的方法。优选使用对上述涂布膜进行加热干燥的方法。加热干燥温度优选为40℃～200℃，进一步优选为50℃～180℃、特别优选为70℃～170℃。通过将加热温度设为上述范围，可得到具有优异的粘合特性的粘合剂。

干燥时间可以适宜采用适当的时间。上述干燥时间优选为5秒～20分钟、进一步优选为5秒～10分钟、特别优选为10秒～5分钟。

作为粘合剂层的形成方法，可以使用各种方法。具体而言，例如可列举出辊涂布、辊舔涂布、凹版涂布、逆转涂布、辊刷、喷涂、浸渍辊涂、棒涂、刮刀涂布、气刀涂布、帘式涂布、唇式涂布、利用模涂机等的挤出涂布法等方法。

粘合剂层的厚度没有特别限制，例如为1～100μm左右。优选为2～50μm、更优选为2～40μm、进一步优选为5～35μm。

<脱模薄膜>

脱模薄膜在直至供于使用之前保护第1粘合剂层。作为脱模薄膜的构成材料，例如可列举出聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯薄膜等塑料薄膜、纸、布、无纺布等多孔质材料、网、发泡片、金属箔、及它们的层压体等适宜的薄片体等，从表面平滑性优异的方面出发，可适宜地使用塑料薄膜。

作为该塑料薄膜，只要为能保护前述粘合剂层的薄膜，就没有特别限定，例如可列举出聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚氨酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。

前述脱模薄膜可以根据需要进行利用有机硅系、氟系、长链烷基系或脂肪酸酰胺系的脱模剂、二氧化硅粉等的脱模及防污处理、涂布型、混炼型、蒸镀型等的抗静电处理。特别是，通过在前述脱模薄膜的表面适宜进行有机硅处理、长链烷基处理、氟处理等剥离处理，能够进一步提高从前述第1粘合剂层的剥离性。

前述脱模薄膜的厚度通常优选为5～200μm、进一步优选为5～100μm、进一步优选为20～90μm。前述脱模薄膜的厚度如图3所示，优选设计为比后述表面保护薄膜的厚度大的厚度，使得前述假想中心面f与表面保护薄膜的距离x和前述假想中心面f与脱模薄膜的距离y成为x-y>-20的关系。脱模薄膜的厚度大于表面保护薄膜的厚度的情况下，前述脱模薄膜的厚度与表面保护薄膜的厚度之差优选为5～70μm、进一步优选为7～65μm、进一步优选为10～60μm。

<表面保护薄膜>

表面保护薄膜在光学薄膜中设置于偏光薄膜的单面(未层叠有第1粘合剂层的面)，用于保护偏光薄膜。

作为表面保护薄膜的基材薄膜，从检查性、管理性等的观点出发，选择具有各向同性或接近各向同性的薄膜材料。作为该薄膜材料，例如可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜等聚酯系树脂、纤维素系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、丙烯酸类树脂这样的透明的聚合物。这些之中，优选聚酯系树脂。基材薄膜也可以以1种或2种以上的薄膜材料的层压体的形式使用，另外还可以使用前述薄膜的拉伸物。基材薄膜的厚度以满足前述x-y>-20的关系的方式进行设计。基材薄膜的厚度通常为10～150μm、优选为20～100μm。

表面保护薄膜除了可以以自粘合型的薄膜形式使用前述基材薄膜以外，也可以使用具有前述基材薄膜及第2粘合剂层的薄膜。从保护偏光薄膜的观点出发，表面保护薄膜优选使用具有第2粘合剂层的薄膜。

表面保护薄膜的层叠中所使用的第2粘合剂层可以适宜选择使用以例如(甲基)丙烯酸类聚合物、有机硅系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、氟系、橡胶系等聚合物为基础聚合物的粘合剂。从透明性、耐候性、耐热性等的观点出发，优选以丙烯酸类聚合物为基础聚合物的丙烯酸类粘合剂。第2粘合剂层的厚度(干燥膜厚)根据所需的粘合力来决定。通常为1～100μm左右，优选为5～50μm。

需要说明的是，在表面保护薄膜(在设置有前述第2粘合剂层的情况下为该面的相反面)上可以利用有机硅处理、长链烷基处理、氟处理等低粘接性材料设置剥离处理层。表面保护薄膜的厚度为前述基材薄膜、第2粘合剂层、剥离处理层的总厚度。

<脱模薄膜的剥离>

前述光学薄膜是以规定形状的片状态准备的(工序(1))。作为规定的形状，例如可列举出矩形状物。接着，从前述光学薄膜剥离脱模薄膜(工序(2))。在剥离脱模薄膜时，前述光学薄膜通过例如吸附等将表面保护薄膜侧固定，脱模薄膜的剥离可以使用剥离辊等来进行(例如，参见日本特开平9-114384号公报等)。

<光学显示面板的制造>

利用工序(3)使通过上述工序(1)、接着的工序(2)而剥离了脱模薄膜的光学薄膜(具有表面保护薄膜的带粘合剂层光学薄膜)贴合于光学单元的一面。工序(3)中，将前述光学薄膜的第1粘合剂层的侧贴合于光学薄膜来制造光学显示面板。

<其它光学层>

本发明的光学薄膜在实用时可以与其它光学层层叠来使用。对该光学层没有特别限定，例如可以使用1层或2层以上的、反射板、半透过板、相位差板(包括1/2、1/4等的波长板)、视角补偿薄膜、亮度提高薄膜等会用于形成液晶显示装置等的光学层。

层叠有上述光学层的光学薄膜虽然也可以在液晶显示装置等的制造过程中以依次分别层叠的方式形成，但预先层叠而制成光学薄膜时，有品质的稳定性、组装操作等优异从而能改善液晶显示装置等的制造工序的生产率的优点。层叠可以使用粘合剂层等适宜的粘接方法。在粘接上述的带粘合剂层偏光薄膜、其它光学薄膜时，它们的光学轴会根据目标相位差特性等而设为适宜的配置角度。

<光学单元>

(液晶单元、液晶显示面板)

液晶单元为在相对配置的一对基板(第1基板(可视侧面)Pa、第2基板(背面)Pb)间密封有液晶层的构成。液晶单元可以使用任意的类型，但为了实现高对比度，优选使用垂直取向(VA)模式、面内开关(IPS)模式的液晶单元。液晶显示面板在液晶单元的单面或双面贴合有偏光薄膜，根据需要嵌入驱动电路。

可以形成在液晶单元的单侧或两侧配置有光学薄膜的液晶显示装置、在照明系统中使用背光或反射板的液晶显示装置等适宜的液晶显示装置。该情况下，本发明的光学薄膜可以设置在液晶单元的单侧或两侧。在两侧设置本发明的光学薄膜的情况下，它们可以相同，也可以不同。进而，在形成液晶显示装置时，例如可以在适宜的位置上配置1层或2层以上的扩散板、防眩层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列片、光扩散板、背光等适宜的部件。

(有机EL单元、有机EL显示面板)

作为另一光学单元的有机EL单元为在一对电极间夹持有场致发光层的构成。有机EL单元例如可以使用顶部发射方式、底部发射方式、双重发射方式等任意类型的有机EL单元。有机EL显示面板在有机EL单元上贴合有相位差薄膜，并且贴合有本发明的光学薄膜(偏光薄膜)，根据需要嵌入驱动电路。

实施例

以下，举出实施例对本发明进行说明，但本发明不限制于以下所示的实施例。需要说明的是，各例中的份及％均为重量基准。以下没有特别限定的室温放置条件全部为23℃、65％RH。

<偏光薄膜的制作>

(偏光件的制作)

在吸水率0.75％、Tg75℃的非晶质的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯(IPA共聚PET)薄膜(厚度：100μm)基材的单面实施电晕处理，在该电晕处理面上，在25℃下涂布以9：1的比例包含聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2摩尔％)和乙酰乙酰基改性PVA(聚合度1200、乙酰乙酰基改性度4.6％、皂化度99.0摩尔％以上、日本合成化学工业株式会社制、商品名“GOHSEFIMER Z200”)的水溶液并进行干燥，形成厚度11μm的PVA系树脂层，制作层叠体。

将得到的层叠体在120℃的烘箱内于圆周速度不同的辊间沿纵向(长度方向)自由端单向拉伸为2.0倍(空中辅助拉伸处理)。

接着，使层叠体在液温30℃的不溶化浴(相对于水100重量份配混硼酸4重量份而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒(不溶化处理)。

接着，边以偏光板成为规定的透过率的方式调整碘浓度、浸渍时间，边浸渍于液温30℃的染色浴中。本实施例中，在相对于水100重量份配混碘0.2重量份、并配混碘化钾1.0重量份而得到的碘水溶液中浸渍60秒(染色处理)。

接着，在液温30℃的交联浴(相对于水100重量份配混碘化钾3重量份、并配混硼酸3重量份而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒(交联处理)。

其后，边使层叠体浸渍于液温70℃的硼酸水溶液(相对于水100重量份配混硼酸4重量份、并配混碘化钾5重量份而得到的水溶液)，边在圆周速度不同的辊间沿纵向(长度方向)以总拉伸倍率成为5.5倍的方式进行单向拉伸(水中拉伸处理)。

其后，使层叠体在液温30℃的清洗浴(相对于水100重量份配混碘化钾4重量份而得到的水溶液)中浸渍(清洗处理)。

通过以上操作，得到包含厚度5μm的偏光件的光学薄膜层叠体。

(保护薄膜A)

保护薄膜A：对具有厚度40μm的内酯环结构的(甲基)丙烯酸类树脂薄膜的易接着处理面实施电晕处理来使用。

(保护薄膜B)

保护薄膜B：对具有厚度20μm的内酯环结构的(甲基)丙烯酸类树脂薄膜的易接着处理面实施电晕处理来使用。

(应用于保护薄膜A和B的粘接剂)

将N-羟基乙基丙烯酰胺(HEAA)40重量份、丙烯酰吗啉(ACMO)60重量份和光引发剂“IRGACURE 819”(BASF公司制)3重量份混合，制备紫外线固化型粘接剂。

<单侧保护偏光薄膜A的制作>

在上述光学薄膜层叠体的偏光件的表面上以固化后的粘接剂层的厚度成为1μm的方式涂布上述紫外线固化型粘接剂并贴合上述保护薄膜A，然后，照射紫外线作为活性能量射线，使粘接剂固化。紫外线照射使用封入有镓的金属卤化物灯、照射装置：Fusion UVSystems，Inc制的Light HAMMER10、阀：V阀、峰照度：1600mW/cm²、累积照射量1000/mJ/cm²(波长380～440nm)，紫外线的照度使用Solatell公司制的Sola-Check系统来测定。接着，将非晶性PET基材剥离，制作了使用薄型偏光件的单侧保护偏光薄膜A。关于所得的单侧保护偏光薄膜A的光学特性，单体透过率为42.8％、偏振度为99.99％。所得的单侧保护偏光薄膜的厚度为46μm。

<单侧保护偏光薄膜B的制作>

上述单侧保护偏光薄膜A的制作中，除了在前述偏光件(剥离了非晶性PET基材的一侧)上使用保护薄膜B来代替保护薄膜A以外，得到单侧保护偏光薄膜B。关于所得的单侧保护偏光薄膜B的光学特性，单体透过率为42.8％、偏振度为99.99％。所得的单侧保护偏光薄膜的厚度为26μm。

<两侧保护偏光薄膜C的制作>

在上述单侧保护偏光薄膜A的偏光件(剥离了非晶性PET基材的一侧)上，与上述同样地操作，借助紫外线固化型粘接剂贴合上述保护薄膜A。关于所得的两侧保护偏光薄膜C的光学特性，透过率为42.8％，偏振度为99.99％。偏光薄膜C的厚度为87μm。

<粘合剂的制备>

在具备冷凝管、氮导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中，将丙烯酸丁酯100份、丙烯酸3份、丙烯酸2-羟基乙酯0.1份及2,2’-偶氮二异丁腈0.3份与乙酸乙酯一起加入，制备溶液。接着，边向该溶液中吹入氮气边进行搅拌，在55℃下反应8小时，得到含有重均分子量220万的丙烯酸类聚合物的溶液。进而，在含有该丙烯酸类聚合物的溶液中加入乙酸乙酯，得到将固体成分浓度调整至30％的丙烯酸类聚合物溶液。

相对于前述丙烯酸类聚合物溶液的固体成分100份，依次配混作为交联剂的以具有异氰酸酯基的化合物为主成分的交联剂(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.制，商品名“CORONATE L”)0.5份和作为硅烷偶联剂的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制，商品名“KMB-403”)0.075份，制备粘合剂溶液。

实施例1

<表面保护薄膜的层叠>

在上述单侧保护偏光薄膜A的保护薄膜侧设置表面保护薄膜。作为表面保护薄膜，使用“日东电工株式会社制、制品名RP207”的厚度38μm的聚酯系树脂薄膜(基材薄膜)。前述表面保护薄膜具有厚度15μm的粘合剂层(相当于第2粘合剂层)。

<带脱模薄膜的粘合剂层的形成>

在经剥离处理的由聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(厚度38μm)形成的脱模薄膜(隔膜)的表面，以干燥后的厚度成为20μm的方式涂布上述粘合剂溶液并进行干燥，从而形成粘合剂层(相当于第1粘合剂层)。接着，在具有表面保护薄膜的单侧保护偏光薄膜A的偏光件侧贴合前述粘合剂层，制作本发明的光学薄膜(具有脱模薄膜及表面保护薄膜的带粘合剂层偏光薄膜)。

实施例2～5、比较例1～7、参考例1、2

如表1所示那样改变实施例1中偏光薄膜的种类、表面保护薄膜的基材薄膜的厚度、脱模薄膜的厚度，除此以外，与实施例1同样地操作，制作具有脱模薄膜及表面保护薄膜的带粘合剂层偏光薄膜。

对上述实施例、比较例及参考例中得到的具有脱模薄膜及表面保护薄膜的带粘合剂层偏光薄膜进行下述评价。将结果示于表1。

表1中，对于具有脱模薄膜及表面保护薄膜的带粘合剂层偏光薄膜，根据其总厚度、各构件的厚度，算出图3所示的距离x、y。需要说明的是，对于假想中心面f，记载前述总厚度的一半的值。

<偏光件的单体透过率T及偏振度P>

使用带积分球的分光透过率测定器(村上色彩技术研究所的Dot-3c)对所得偏光薄膜的单体透过率T及偏振度P进行测定。

需要说明的是，偏振度P是通过将2片相同的偏光薄膜以两者的透过轴平行的方式重合时的透过率(平行透过率：Tp)和以两者的透过轴正交的方式重合时的透过率(正交透过率：Tc)应用到下式中来求出的。偏振度P(％)＝{(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}^1/2×100

各透过率是将通过格林-泰勒棱镜偏光件得到的完全偏光设为100％、并用利用JIS Z8701的2度视野(C光源)进行了能见度校正而得到的Y值来表示的。

<剥离力的测定>

对于实施例、比较例及参考例中得到的具有脱模薄膜及表面保护薄膜的带粘合剂层偏光薄膜，将其裁切为25mm×100mm(吸收轴方向为25mm)和100mm×25mm(吸收轴方向为100mm)，将脱模薄膜及表面保护薄膜中不测定剥离力的一侧的薄膜剥离后，用双面胶带(日东电工株式会社制，双面胶带No.511)分别贴合在0.5mm厚的无碱玻璃上。将玻璃带贴附在贴合于无碱玻璃的带粘合剂层偏光薄膜的短边端部，预先仅将开始部位剥离后，使用拉伸试验机，将脱模薄膜或表面保护薄膜以180°剥离·0.3m/分钟的速度沿平行于薄膜的长边方向进行剥离。需要说明的是，测定15mm×100mm(吸收轴方向为10mm)和100mm×15mm(吸收轴方向为100mm)各自中的剥离力，采用其平均值。

脱模薄膜的剥离力均为0.16N/25mm。

表面保护薄膜的剥离力均为0.09N/25mm。

<剥离试验>

对于实施例、比较例及参考例中得到的具有脱模薄膜及表面保护薄膜的带粘合剂层偏光薄膜，将其裁切为5mm×15mm，制成片状态(样品)。

以前述样品的脱模薄膜侧为上侧、以表面保护薄膜侧为下侧，用双面胶带(日东电工株式会社制、双面胶带No.511)将前述样品的表面保护薄膜侧固定在玻璃上。接着，使用拾取带(日东电工株式会社制，masking tape No.720)通过手动剥离从边缘端部以90°的角度将脱模薄膜沿样品的对角线方向平行地剥离，按照下述基准进行评价。

〇：仅脱模薄膜被剥离。

×：表面保护薄膜与偏光薄膜的界面被剥离。

进行5次前述剥离，将〇的次数以次数/n5的形式示出。

[表1]

比较例7中，由于假想中心面f位于表面保护薄膜内，因此前述距离x的值记载为“-”。

附图标记说明

F 片状态的光学薄膜

1、1’ 偏光薄膜

1a 偏光件

1b 保护薄膜

2 第1粘合剂层

3 脱模薄膜

4、4’ 表面保护薄膜

41 基材薄膜

42 第2粘合剂层

Claims (11)

1.一种光学薄膜，其特征在于，为依次层叠有脱模薄膜、第1粘合剂层、偏光薄膜以及表面保护薄膜的片状的光学薄膜，

所述偏光薄膜的厚度为60μm以下，并且，

在将所述光学薄膜的总厚度的中间位置的平面方向设为假想中心面f的情况下，

所述假想中心面f与表面保护薄膜的距离x(μm)和所述假想中心面f与脱模薄膜的距离y(μm)符合x-y>-20的关系，

所述脱模薄膜的剥离力(1)大于所述表面保护薄膜的剥离力(2)。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述距离x(μm)与所述距离y符合x-y>-10的关系。

3.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述假想中心面f位于第1粘合剂层或偏光薄膜处。

4.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述脱模薄膜的厚度大于所述表面保护薄膜的厚度。

5.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述表面保护薄膜具有基材薄膜及第2粘合剂层，并且夹着该第2粘合剂层层叠于偏光薄膜。

6.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述表面保护薄膜为自粘合型的薄膜。

7.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述偏光薄膜具有厚度为10μm以下的偏光件。

8.根据权利要求1～7中的任一项所述的光学薄膜，其特征在于，所述偏光薄膜为仅在偏光件的单面具有保护薄膜的单侧保护偏光薄膜。

9.一种脱模薄膜的剥离方法，其特征在于，将脱模薄膜从权利要求1～8中的任一项所述的光学薄膜剥离。

10.一种光学显示面板的制造方法，该方法包括以下工序：

工序(1)，准备权利要求1～8中的任一项所述的光学薄膜；

工序(2)，从所述光学薄膜剥离脱模薄膜；以及，

工序(3)，使剥离了所述脱模薄膜的所述光学薄膜的第1粘合剂层的一侧贴合于光学单元的一面。

11.根据权利要求10所述的光学显示面板的制造方法，其特征在于，所述光学单元为液晶单元或有机EL单元。

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