JP7085414B2 - 液晶フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法 - Google Patents

液晶フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、液晶フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法に関する。
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を用いた有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置等に比べて軽量化や薄型化が可能であるだけでなく、幅広い視野角、速い応答速度、高いコントラスト等の高画質を実現できるため、スマートフォンやテレビ、デジタルカメラ等、様々な分野で用いられている。有機ＥＬ表示装置では、外光の反射による視認性の低下を抑制するために、円偏光板等を用いて反射防止性能を向上させることが知られている。
特許文献１には、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置の画像表示パネルに適用される光学フィルムとして、直線偏光板と１／４波長板とを積層した円偏光板が記載されており、この１／４波長板を、１／２波長位相差層と１／４波長位相差層との積層によって構成することが記載されている。
特開２０１５－２５９４７号公報
本発明は、光学積層体を製造するために好適な液晶フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法の提供を目的とする。
本発明は、以下に示す液晶フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法を提供する。
〔１〕 第１基材層、第１液晶層、及び接着層をこの順に含む接着層付き第１積層部を準備する工程と、
第２基材層及び第２液晶層を含む第２積層部を準備する工程と、
前記接着層付き第１積層部の前記接着層側の表面、及び、前記第２積層部の前記第２液晶層側の表面のうちの少なくとも一方を表面活性化処理する工程と、
前記接着層付き第１積層部における、前記接着層の幅方向の少なくとも一方の端部が位置する側の端部を含む第１端部を除去する工程と、
前記第１端部除去後の前記接着層付き第１積層部の前記接着層と、前記第２積層部の前記第２液晶層とを貼合して液晶層積層体を得る工程と、を有し、
前記接着層付き第１積層部は、その幅方向断面において、前記接着層の前記一方の端部の位置が前記第１液晶層の端部の位置よりも幅方向内側であり、
前記除去する工程は、
前記表面活性化処理する工程の前又は後に行われ、
前記第１端部除去後の前記接着層付き第１積層部の幅方向断面において、前記第１端部を除去した側の前記接着層の端部の位置が、前記第１液晶層の端部の位置と同じとなるように、前記第１端部を除去する、液晶フィルムの製造方法。
〔２〕 前記除去する工程は、前記表面活性化処理する工程の前に行われる、〔１〕に記載の液晶フィルムの製造方法。
〔３〕 前記接着層付き第１積層部は、その幅方向断面において、前記接着層の幅方向両端の位置が、前記第１液晶層の幅方向両端の位置よりも幅方向内側であり、
前記第１端部は、前記接着層付き第１積層部の幅方向両端を含む、〔１〕又は〔２〕に記載の液晶フィルムの製造方法。
〔４〕 第１基材層、第１液晶層、及び接着層をこの順に含む接着層付き第１積層部を準備する工程と、
第２基材層及び第２液晶層を含む第２積層部を準備する工程と、
前記接着層付き第１積層部の前記接着層側の表面、及び、前記第２積層部の前記第２液晶層側の表面のうちの少なくとも一方を表面活性化処理する工程と、
前記接着層付き第１積層部の前記接着層と、前記第２積層部の前記第２液晶層とを貼合して液晶層積層体を得る工程と、を有し、
前記接着層付き第１積層部は、その幅方向断面において、前記接着層の幅方向の少なくとも一方の端部の位置が前記第１液晶層の端部の位置よりも幅方向内側であり、
前記液晶層積層体は、その幅方向断面において、前記接着層の前記一方の端部の位置が、前記第２液晶層の端部の位置と同じか、それよりも幅方向外側にある、液晶フィルムの製造方法。
〔５〕 前記接着層付き第１積層部は、その幅方向断面において、前記接着層の幅方向両端の位置が前記第１液晶層の幅方向両端の位置よりも幅方向内側となっており、
前記液晶層積層体は、その幅方向断面において、前記接着層の幅方向両端の位置が、前記第２液晶層の幅方向両端の位置と同じか、それよりも幅方向外側にある、〔４〕に記載の液晶フィルムの製造方法。
〔６〕 前記液晶層積層体は、その幅方向断面において、前記第２液晶層の前記端部の位置が、前記第２基材層の端部の位置と同じである、〔４〕又は〔５〕に記載の液晶フィルムの製造方法。
〔７〕 前記液晶層積層体は、その幅方向断面において、前記第２液晶層の幅方向両端の位置が、前記第２基材層の幅方向両端の位置と同じである、〔４〕～〔６〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
〔８〕 さらに、前記液晶層積層体における、前記第１基材層及び前記第２基材層のうちの一方を含む第１剥離層を剥離する工程を有する、〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
〔９〕 第１基材層、第１液晶層、及び接着層をこの順に含む接着層付き第１積層部を準備する工程であって、前記接着層付き第１積層部の幅方向断面において、前記接着層の幅方向の少なくとも一方の端部の位置が前記第１液晶層の端部の位置よりも幅方向内側である前記接着層付き第１積層部を準備する工程と、
第２基材層及び第２液晶層を含む第２積層部を準備する工程と、
前記接着層付き第１積層部の前記接着層側の表面、及び、前記第２積層部の前記第２液晶層側の表面のうちの少なくとも一方を表面活性化処理する工程と、
前記接着層付き第１積層部の前記接着層と、前記第２積層部の前記第２液晶層とを貼合して液晶層積層体を得る工程であって、前記液晶層積層体の幅方向断面において、前記接着層の前記一方の端部の位置が前記第２液晶層の端部の位置よりも幅方向内側となるように、前記液晶層積層体を得る工程と、
前記液晶層積層体の、前記接着層の前記一方の端部が位置する側の端部を含む第２端部を除去する工程と、を有し、
前記除去する工程は、前記第２端部除去後の前記液晶層積層体の幅方向断面において、前記第２端部を除去した側の前記接着層の端部の位置が、前記第１液晶層の端部の位置と同じとなる、又は、前記第２液晶層の端部の位置と同じとなるように、前記第２端部を除去する、液晶フィルムの製造方法。
〔１０〕 前記除去する工程は、前記第２端部除去後の前記液晶層積層体の幅方向断面において、前記第２端部を除去した側の前記接着層の端部の位置が、前記第１液晶層の端部の位置と同じとなり、かつ、前記第２液晶層の端部の位置と同じとなるように、前記第２端部を除去する、〔９〕に記載の液晶フィルムの製造方法。
〔１１〕 前記接着層付き第１積層部は、その幅方向断面において、前記接着層の幅方向両端の位置が、前記第１液晶層の幅方向両端の位置よりも幅方向内側となっており、
前記液晶層積層体は、その幅方向断面において、前記接着層の両端の位置が、前記第２液晶層の両端の位置よりも幅方向内側となっており、
前記第２端部は、前記液晶層積層体の幅方向両端を含む、〔９〕又は〔１０〕に記載の液晶フィルム製造方法。
〔１２〕 さらに、前記第２端部除去後の前記液晶層積層体における、前記第１基材層及び前記第２基材層のうちの一方を含む第１剥離層を剥離する工程を有する、〔９〕～〔１１〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
〔１３〕 第１基材層、第１液晶層、及び接着層をこの順に含む接着層付き第１積層部を準備する工程であって、前記接着層付き第１積層部の幅方向断面において、前記接着層の幅方向の少なくとも一方の端部の位置が前記第１液晶層の端部の位置よりも幅方向内側である前記接着層付き第１積層部を準備する工程と、
第２基材層及び第２液晶層を含む第２積層部を準備する工程と、
前記接着層付き第１積層部の前記接着層側の表面、及び、前記第２積層部の前記第２液晶層側の表面のうちの少なくとも一方を表面活性化処理する工程と、
前記接着層付き第１積層部の前記接着層と、前記第２積層部の前記第２液晶層とを貼合して第１の液晶層積層体を得る工程であって、前記第１の液晶層積層体の幅方向断面において、前記接着層の前記一方の端部の位置が前記第２液晶層の端部の位置よりも幅方向内側となるように、前記第１の液晶層積層体を得る工程と、
前記第１の液晶層積層体の前記第１基材層及び前記第２基材層のうちの一方を含む第１剥離層を剥離して、第２の液晶層積層体を得る工程と、
前記第２の液晶層積層体における、前記接着層の前記一方の端部が位置する側の端部を含む第３端部を除去する工程と、を有し、
前記除去する工程は、前記第３端部除去後の前記第２の液晶層積層体の幅方向断面において、前記第３端部を除去した側の前記接着層の端部の位置が、前記第１液晶層の端部の位置と同じとなる、又は、前記第２液晶層の端部の位置と同じとなるように、前記第３端部を除去する、液晶フィルムの製造方法。
〔１４〕 前記除去する工程は、前記第３端部除去後の前記第２の液晶層積層体の幅方向断面において、前記第３端部を除去した側の前記接着層の端部の位置が、前記第１液晶層の端部の位置と同じとなり、かつ、前記第２液晶層の端部の位置と同じとなるように、前記第３端部を除去する、〔１３〕に記載の液晶フィルムの製造方法。
〔１５〕 前記接着層付き第１積層部は、その幅方向断面において、前記接着層の幅方向両端の位置が、前記第１液晶層の幅方向両端の位置よりも幅方向内側となっており、
前記第１の液晶層積層体は、その幅方向断面において、前記接着層の幅方向両端の位置が、前記第２液晶層の幅方向両端の位置よりも幅方向内側となっており、
前記第３端部は、前記第２の液晶層積層体の幅方向両端を含む、〔１３〕又は〔１４〕に記載の液晶フィルム製造方法。
〔１６〕 前記接着層付き第１積層部を準備する工程は、
前記第１基材層及び第１液晶層を含む第１積層部を準備する工程と、
前記第１液晶層の前記第１基材層とは反対側に接着層を積層して、前記接着層付き第１積層部を得る工程とを有する、〔１〕～〔１５〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
〔１７〕 前記表面活性化処理する工程は、前記接着層付き第１積層部の前記接着層側の表面、及び、前記第２積層部の前記第２液晶層側の表面を表面活性化処理する、〔１〕～〔１６〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
〔１８〕 前記表面活性化処理は、コロナ処理である、〔１〕～〔１７〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
〔１９〕 前記第１液晶層は位相差層である、〔１〕～〔１８〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
〔２０〕 前記第２液晶層は位相差層である、〔１〕～〔１９〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
〔２１〕 前記接着層付き第１積層部は、前記第１基材層と前記第１液晶層との間に第１配向層を含む、〔１〕～〔２０〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
〔２２〕 前記第２積層部は、前記第２基材層と前記第２液晶層との間に第２配向層を含む、〔１〕～〔２１〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法。
〔２３〕 〔８〕及び〔１２〕～〔１５〕のいずれかに記載の液晶フィルムの製造方法で製造された液晶フィルムを準備する工程と、
光学フィルムを準備する工程と、
前記光学フィルムを、光学フィルム用接着層を介して、前記第１剥離層を剥離して露出した層に積層する工程と、を有する、光学積層体の製造方法。
〔２４〕 さらに、前記第１基材層及び前記第２基材層のうちの前記第１剥離層に含まれていない層を含む第２剥離層を剥離する工程を有する、〔２３〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔２５〕 前記第２剥離層を剥離することによって露出した層上に、光学積層体用接着層を積層する、〔２４〕に記載の光学積層体の製造方法。
本発明によれば、光学積層体を製造するために好適な液晶フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法を提供することができる。
（ａ）～（ｅ）は、本発明の液晶フィルムである位相差フィルムの製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）～（ｃ）は、本発明の光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）～（ｄ）は、本発明の液晶フィルムである位相差フィルムの製造工程の他の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）～（ｃ）は、本発明の光学積層体の製造工程の他の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）～（ｅ）は、本発明の液晶フィルムである位相差フィルムの製造工程の他の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）～（ｅ）は、本発明の液晶フィルムである位相差フィルムの製造工程の他の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）～（ｄ）は、本発明の前提となる光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。
本発明の液晶フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法の好ましい実施形態の説明に先立ち、本発明の実施形態の前提について説明する。図７（ａ）～（ｄ）は、後述する実施形態の前提となる光学積層体７０ｐの製造工程を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。なお、以下では、第１液晶層及び第２液晶層がそれぞれ第１位相差層及び第２位相差層であり、液晶フィルムが位相差フィルムである場合を例に挙げて説明する。
光学積層体の製造方法では、図７（ａ）に示すように、第１基材層１１ｐ及び第１位相差層１２ｐを含む第１積層部１０ｐと、第２基材層２１ｐ及び第２位相差層２２ｐを含む第２積層部２０ｐとが、接着層１３ｐを介して積層された位相差層積層体４０ｐを用いることがある。この位相差層積層体４０ｐから、図７（ｂ）に示すように、第２基材層２１ｐを剥離すると、剥離した第２基材層２１ｐに、第２位相差層２２ｐの一部が移行し、接着層１３ｐ上に第２位相差層２２ｐ１が形成された位相差フィルム５０ｐが得られる。これは、図７（ａ）に示す位相差層積層体４０ｐが、第２位相差層２２ｐの幅方向の両端に、接着層１３ｐに固定されていない非固定領域（図７（ａ）中、右上がり斜線で示す部分）を有しており、第２基材層２１ｐの剥離により、第２位相差層２２ｐが、接着層１３ｐに固定された領域である第２位相差層２２ｐ１と第２基材層２１ｐに移行する非固定領域とに分離するためである。
続いて、図７（ｂ）に示す位相差フィルム５０ｐの第２位相差層２２ｐ１上に、図７（ｃ）に示すように、光学フィルム用接着層６２ｐを介して光学フィルム６０ｐを積層した後、位相差フィルム５０ｐに含まれる第１基材層１１ｐを剥離して、光学積層体７０ｐ（図７（ｄ））を得ることができる。
ところで、図７（ａ）に示すような位相差層積層体４０ｐでは、幅方向の端部において、第１位相差層１２ｐと第２位相差層２２ｐが接着層１３ｐを介することなく対向している領域がある。このような領域では、第１位相差層１２ｐと第２位相差層２２ｐとが直接接触しやすく、第１位相差層１２ｐと第２位相差層２２ｐとの接触の強さや、第１位相差層１２ｐ及び第２位相差層２２ｐの表面の状態によっては、図７（ａ）に示すように、第１位相差層１２ｐの一部１２’ｐ（以下、「移行部分１２’ｐ」ということがある。）が第２位相差層２２ｐに移行することがある。第１位相差層１２ｐの移行部分１２’ｐが第２位相差層２２ｐに移行すると、第１位相差層１２ｐの一部が欠落し、第１位相差層１２ｐには欠落部ｐが形成される。第１位相差層１２ｐ及び第２位相差層２２ｐの表面の状態や、第１位相差層１２ｐと第２位相差層２２ｐとの接触具合により、第１位相差層１２ｐの欠落部ｐや、第２位相差層２２ｐへの移行部分１２’ｐは、長さ方向に連続的に発生することもある。
このような欠落部ｐは、図７（ｂ）に示すように位相差フィルム５０ｐにも存在することになるため、位相差フィルム５０ｐに光学フィルム用接着層６２ｐを介して光学フィルム６０ｐを積層すると（図７（ｃ））、この欠落部ｐの領域において、光学フィルム用接着層６２ｐを介して第１基材層１１ｐと光学フィルム６０ｐとが接着することがある。このような接着部分が形成された状態で第１基材層１１ｐを剥離すると、図７（ｄ）に示すように、光学フィルム６０ｐの一部６０’ｐ、及び、光学フィルム用接着層６２ｐの一部６２’ｐが第１基材層１１ｐに固定されているため、得られる光学積層体７０ｐが、その端部において、光学フィルム６０ｐ及び光学フィルム用接着層６２ｐが破断したものとなることがある。図７（ｄ）に示すような端部が破断した光学積層体７０ｐは、外観不良となり、また、光学積層体７０ｐを搬送する際に走行性が不安定化する傾向にあるため好ましくない。
上記では、図７（ａ）に示す位相差層積層体４０ｐにおいて、第１位相差層１２ｐの移行部分１２’ｐが第２位相差層２２ｐに移行し、端部が破断した光学積層体７０ｐとなる場合について説明したが、移行部分１２’ｐは、位相差層積層体４０ｐから剥離した第２基材層２１ｐの搬送時に脱落することもある。脱落した移行部分１２’ｐは、位相差フィルム５０ｐや搬送路に付着して製造中の製品や搬送路を汚染する原因になり、得られる光学積層体の外観不良を引き起こすことがある。また、上記では、図７（ａ）に示す位相差層積層体４０ｐにおいて、移行部分１２’ｐが第２位相差層２２ｐに移行する場合について説明したが、第２位相差層２２ｐの一部が第１位相差層１２ｐに移行することもある。この場合には、位相差フィルムの搬送時に、第１位相差層１２ｐに移行した第２位相差層２２ｐの一部が脱落して位相差フィルムや搬送路に付着し、製造中の製品や搬送路を汚染する原因になり、得られる光学積層体の外観不良を引き起こすことがある。
そこで、以下の実施形態では、端部の破断や、製造中の製品や搬送路の汚染等を生じにくくすることにより、光学積層体の外観不良や搬送時の走行性の不安定化を抑制し、好適に光学積層体を製造することができる液晶フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法について説明する。
以下、図面を参照して本発明の液晶フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法の好ましい実施形態について説明する。なお、以下では、第１液晶層及び第２液晶層がそれぞれ第１位相差層及び第２位相差層であり、液晶フィルムが位相差フィルムである場合を例に挙げて説明する。
［第１の実施形態］
（位相差フィルムの製造方法）
図１（ａ）～（ｅ）は、本実施形態の位相差フィルム５０ａ（液晶フィルム）の製造工程を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の位相差フィルム５０ａの製造方法は、
第１基材層１１ａ、第１位相差層１２ａ（第１液晶層）、及び接着層１３ａをこの順に含む接着層付き第１積層部１０ａを準備する工程と（図１（ａ））、
第２基材層２１ａ及び第２位相差層２２ａ（第２液晶層）を含む第２積層部２０ａを準備する工程と（図１（ｂ））、
接着層付き第１積層部１０ａの幅方向両端を含む第１端部１４ａを除去する工程と（図１（ａ）及び（ｃ））、
第１端部１４ａ除去後の接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１側の表面、及び、第２積層部２０ａの第２位相差層２２ａ側の表面を表面活性化処理する工程と、
表面活性化処理後の接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１と、第２積層部２０ａの第２位相差層２２ａとを貼合して位相差層積層体４０ａ（液晶層積層体）を得る工程と（図１（ｄ））、を有する。
図１（ａ）に示す接着層付き第１積層部１０ａは、その幅方向断面において、接着層１３ａの幅方向両端の位置が第１位相差層１２ａの幅方向両端の位置よりも幅方向内側であり、
図１（ａ）に示す第１端部１４ａを除去する工程は、表面活性化処理する工程の前に行われ、第１端部１４ａ除去後の接着層付き第１積層部１０ａ１の幅方向断面において、接着層１３ａ１の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ａ１の幅方向両端の位置と同じとなるように（図１（ｃ））、第１端部１４ａを除去するものである。位相差フィルム５０ａの製造方法はさらに、図１（ｅ）に示すように、第２基材層２１ａ（第１剥離層）を剥離する工程を有していてもよい。
以下、図面に基づいて具体的に説明する。図１（ｅ）に示す位相差フィルム５０ａの製造方法では、まず、図１（ａ）に示すように第１基材層１１ａ、第１位相差層１２ａ、及び接着層１３ａをこの順に含む接着層付き第１積層部１０ａと、図１（ｂ）に示すように第２基材層２１ａ及び第２位相差層２２ａを含む第２積層部２０ａとを準備する。接着層付き第１積層部１０ａ及び第２積層部２０ａは長尺のフィルム状物であり、接着層付き第１積層部１０ａ及び第２積層部２０ａを連続的に搬送しながら、後述する工程が行われる。幅方向Ｗは、フィルム状物の長さ方向に直交する方向である。
次に、図１（ａ）に示す接着層付き第１積層部１０ａについて、その幅方向両端を点線Ｘａにて切断し、点線Ｘａよりも幅方向外側の第１端部１４ａを除去する。これにより、図１（ｃ）に示すように、第１基材層１１ａ１、第１位相差層１２ａ１、及び接着層１３ａ１を有する、第１端部１４ａ１除去後の接着層付き第１積層部１０ａ１（以下、「接着層付き第１積層部１０ａ１」ということがある。）が得られる。続いて、接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１側の表面、及び、第２積層部２０ａの第２位相差層２２ａ側の表面を表面活性化処理した後、接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１と、第２積層部２０ａの第２位相差層２２ａとを貼合して、図１（ｄ）に示す位相差層積層体４０ａを得る。その後、位相差層積層体４０ａから、第２基材層２１ａ（第１剥離層）を剥離することにより、図１（ｅ）に示す位相差フィルム５０ａを得る。
接着層付き第１積層部１０ａは、その幅方向断面において、図１（ａ）に示すように、接着層１３ａの幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ａの幅方向両端の位置よりも内側にある。接着層１３ａの幅方向両端の位置は特に限定されないが、第１位相差層１２ａの幅方向の端部の位置から幅方向内側に０．２ｃｍ以上の領域とすることができ、０．５ｃｍ以上の領域としてもよく、１．０ｃｍ以上の領域であってもよく、また、通常２０ｃｍ以下の領域であり、１５ｃｍ以下の領域であることが好ましい。図１（ａ）に示す接着層付き第１積層部１０ａでは、第１基材層１１ａの幅方向両端の位置は、第１位相差層１２ａの幅方向両端の位置よりも外側にあるが、第１位相差層１２ａの幅方向両端の位置と同じであってもよい。
第２積層部２０ａは、その幅方向断面において、図１（ｂ）に示すように、第２基材層２１ａの幅方向両端の位置が、第２位相差層２２ａの幅方向両端の位置よりも外側にあってもよく、第２位相差層２２ａの幅方向両端の位置と同じであってもよい。
図１（ａ）における点線Ｘａの位置は、接着層付き第１積層部１０の幅方向両端部において、第１端部１４ａ除去後の接着層付き第１積層部１０ａ１（図１（ｃ））の幅方向断面における、接着層１３ａ１の両端の位置が、第１位相差層１２ａ１の両端の位置と同じとなるように定められる。図１（ａ）に示す接着層付き第１積層部１０では、点線Ｘａの位置は、通常、第１端部１４ａが第１基材層１１ａ及び第１位相差層１２ａの端部を含むように定められ、第１基材層１１ａ、第１位相差層１２ａ及び接着層１３ａの端部を含むように定めることが好ましい。接着層付き第１積層部１０ａの幅方向両端部から除去される第１端部１４ａのそれぞれに含まれる層は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
第１端部１４ａの領域を規定する点線Ｘａの位置は、接着層付き第１積層部１０ａの最も幅方向外側に位置する端部から幅方向内側に通常０．５ｃｍ以上の領域であり、１．０ｃｍ以上の領域であってもよく、１．５ｃｍ以上の領域であってもよく、また、通常２０ｃｍ以下の領域であり、１５ｃｍ以下の領域であることが好ましく、１０ｃｍ以下の領域であることがより好ましい。接着層付き第１積層部１０ａの最も幅方向外側に位置する端部から点線Ｘａの位置までの距離は、接着層付き第１積層部１０ａの幅方向両端で同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１側の表面、及び、第２積層部２０ａの第２位相差層２２ａ側の表面に対して行う表面活性化処理としては、表面を親水化するための処理を挙げることができる。具体的には、コロナ処理、プラズマ処理、グロー放電等の放電処理；火炎処理；オゾン処理；ＵＶオゾン処理；紫外線処理、電子線処理のような電離活性線処理等が挙げられ、このうち、コロナ処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ処理がより好ましい。
表面活性化処理の程度は特に限定されないが、接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１の表面の水接触角、及び、第２積層部２０ａの第２位相差層２２ａの表面の水接触角が１００°未満となるように処理することが好ましく、９０°未満となるように処理することがより好ましく、８０°未満となるように処理することがさらに好ましい。表面活性化処理がコロナ処理である場合、処理量は例えば３０～３０００Ｊ／ｍ２とすることができる。
接着層付き第１積層部１０ａ１と第２積層部２０ａとを積層して得られた位相差層積層体４０ａでは、その幅方向断面において、接着層１３ａ１の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ａ１の幅方向両端の位置と同じとなっている。位相差層積層体４０ａにおける第２位相差層２２ａ及び第２基材層２１ａの幅方向両端の位置は特に限定されない。第１位相差層１２ａ１の全幅を有効に利用するため、位相差層積層体４０ａにおいて、第２位相差層２２ａの幅方向両端部の位置は、接着層１３ａ１の幅方向両端部の位置と同じか、それよりも外側にあることが好ましい。また、位相差層積層体４０ａの搬送時等に、接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１が露出したり、接着層１３ａ１をなす接着剤又は粘着剤がはみ出したりすること等による搬送路の汚染を防止するため、位相差層積層体４０ａの幅方向の両端において、第２位相差層２２ａ及び第２基材層２１ａのうちの少なくとも一方が、接着層１３ａ１の端部の位置と同じか、それよりも外側にあることが好ましい。
位相差フィルム５０ａは、位相差層積層体４０ａから第２基材層２１ａ（第１剥離層）を剥離して得ることができる。位相差フィルム５０ａは、図１（ｅ）に示すように、第１基材層１１ａ１、第１位相差層１２ａ１、接着層１３ａ１及び第２位相差層２２ａ１を有する。位相差フィルム５０ａでは、その幅方向断面において、第２位相差層２２ａ１の幅方向両端の位置は、接着層１３ａ１の幅方向両端の位置と同じとなっている。
図１（ｄ）に示す位相差層積層体４０ａから第２基材層２１ａを剥離すると、図１（ｅ）に示すように、剥離した第２基材層２１ａに、第２位相差層２２ａの一部が移行しやすい。これは、図１（ｄ）に示す位相差層積層体４０ａでは、その幅方向断面において、第２位相差層２２ａの幅方向両端の位置が接着層１３ａ１の幅方向両端の位置よりも外側にあり、第２位相差層２２ａが接着層１３ａ１に固定されていない非固定領域（図１（ｄ）中、右上がり斜線で示す部分）を有しているためである。したがって、位相差層積層体４０ａから第２基材層２１ａを剥離すると、図１（ｄ）に示す第２位相差層２２ａは、接着層１３ａ１に固定された領域（図１（ｅ）に示す第２位相差層２２ａ１）と、第２基材層２１ａに移行する非固定領域（図１（ｄ）及び（ｅ）中、右上がり斜線で示す部分）とに分離し、図１（ｅ）に示すように、幅方向断面において、第２位相差層２２ａ１の幅方向両端の位置と、接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１の幅方向両端の位置とが同じである位相差フィルム５０ａを得ることができる。
上記したように、位相差フィルム５０ａの製造工程において表面活性化処理が行われる場合は特に、図７（ａ）～（ｄ）に基づいて説明した位相差層積層体４０ｐのように、第１位相差層１２ｐと第２位相差層２２ｐとが直接接触すると、第１位相差層１２ｐの一部１２’ｐが第２位相差層２２ｐに移行する、あるいは、第２位相差層２２ｐの一部が第１位相差層１２ｐに移行するという現象が生じやすい傾向にある。
これに対し、本実施形態のようにして得られた位相差フィルム５０ａでは、第１位相差層１２ａ１と第２位相差層２２ａ１とが接着層１３ａ１を介して対向しており、接着層１３ａ１を介することなく第１位相差層１２ａ１と第２位相差層２２ａ１とが対向している領域は存在していない。そのため、位相差フィルム５０ａにおいて、第１位相差層１２ａ１と第２位相差層２２ａ１とが直接接触することはないため、第１位相差層１２ａ１の一部が第２位相差層２２ａ１に移行することや、第２位相差層２２ａ１の一部が第１位相差層１２ａ１に移行することを防止できる。これにより、位相差フィルム５０ａを用いて後述する光学積層体７０ａを製造する際に、光学積層体７０ａの端部が破断することを抑制することができ、また、製造中の製品や搬送路の汚染を抑制することができる。
（光学積層体の製造方法）
図２（ａ）～（ｃ）は、本実施形態の光学積層体７０ａの製造工程を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施の形態の光学積層体７０の製造方法は、
位相差フィルム５０ａを準備する工程と（図２（ａ））、
光学フィルム６０ａを準備する工程と（図２（ａ））、
光学フィルム６０ａを、光学フィルム用接着層６２ａを介して、第２基材層２１ａ（第１剥離層）を剥離して露出した第２位相差層２２ａ１に積層する工程と（図２（ｂ））、を有する。
本実施形態の光学積層体７０ａの製造方法は、さらに、第１基材層１１ａ１（第２剥離層）を剥離する工程を有していてもよく（図２（ｃ））、第１基材層１１ａ１を剥離することによって露出した第１位相差層１２ａ１上に光学積層体用接着層を積層してもよい。
以下、図面に基づいて具体的に説明する。図２（ｃ）に示す光学積層体７０ａの製造方法では、まず、図２（ａ）に示すように、位相差フィルム５０ａと光学フィルム６０ａとを準備する。位相差フィルム５０ａ及び光学フィルム６０ａは、長尺のフィルム状物であり、位相差フィルム５０ａ及び光学フィルム６０ａを連続的に搬送しながら、後述する工程が行われる。
次に、図２（ｂ）に示すように、光学フィルム６０ａを、光学フィルム用接着層６２ａを介して、位相差フィルム５０ａの第２位相差層２２ａ１に積層する。このとき、光学フィルム６０ａ上に光学フィルム用接着層６２ａを設けておき、この光学フィルム用接着層６２ａと位相差フィルム５０ａの第２位相差層２２ａ１とを貼合してもよく、位相差フィルム５０ａの第２位相差層２２ａ１上に光学フィルム用接着層６２ａを設けておき、この光学フィルム用接着層６２ａと光学フィルム６０ａとを貼合してもよい。
光学フィルム用接着層６２ａを介して光学フィルム６０ａと位相差フィルム５０ａとを積層した後、位相差フィルム５０ａに含まれる第１基材層１１ａ１（第２剥離層）を剥離することにより、図２（ｃ）に示す光学積層体７０ａを得る。光学積層体７０ａは、図２（ｃ）に示すように、第１位相差層１２ａ１、接着層１３ａ１、第２位相差層２２ａ１、光学フィルム用接着層６２ａ、及び光学フィルム６０ａがこの順に積層されている。光学積層体７０ａは、第１基材層１１ａ１を剥離することによって露出した第１位相差層１２ａ１上に、図示しない光学積層体用接着層を形成してもよい。光学積層体用接着層は、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示パネルに貼合する際に用いることができる。
光学フィルム６０ａの幅方向両端の位置は、光学積層体７０ａの幅方向断面において、第２位相差層２２ａ１、接着層１３ａ１及び第１位相差層１２ａ１のうちのいずれかの幅方向両端の位置と同じであってもよく、これらのいずれとも異なっていてもよい。例えば、光学フィルム６０ａの幅方向の長さは、図２（ｃ）に示すように、第２位相差層２２ａ１、接着層１３ａ１及び第１位相差層１２ａ１のいずれよりも長くてもよく、これらの層のいずれよりも短くてもよい。
光学フィルム用接着層６２ａの幅方向両端の位置は、光学積層体７０ａの幅方向断面において、光学フィルム６０ａの幅方向両端の位置と同じか、それよりも内側であることが好ましい。また、光学フィルム用接着層６２ａの幅方向両端の位置は、第２位相差層２２ａ１、接着層１３ａ１及び第１位相差層１２ａ１のうちのいずれかの幅方向両端の位置と同じか、それよりも幅方向内側であることが好ましい。これにより、光学積層体７０ａを搬送する際に、光学フィルム用接着層６２ａが、光学積層体７０ａの幅方向外側にはみ出して搬送路上に付着し、搬送路を汚染することを防止することができる。
上記したように、図１（ｅ）に示す位相差フィルム５０ａでは、第１位相差層１２ａ１と第２位相差層２２ａ１とが直接接触することはないため、第１位相差層１２ａ１の一部が第２位相差層２２ａ１に移行することや、第２位相差層２２ａ１の一部が第１位相差層１２ａ１に移行することを防止できる。そのため、図７（ａ）～（ｄ）に基づいて説明した位相差層積層体４０ｐのように第１位相差層１２ｐに欠落部ｐが生じることはなく、光学積層体７０ｐのように端部が破断することを抑制し、製造中の製品や搬送路が汚染されることを抑制して、図２（ｃ）に示す光学積層体７０ａを製造することができる。
本実施の形態の位相差フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法は、以下に示す変形例のように変更されてもよい。また、上記した実施形態及び下記に示す変形例を任意に組み合わせてもよい。
（第１の実施形態の変形例１）
上記で説明した位相差フィルム５０ａの製造方法では、接着層付き第１積層部１０ａの幅方向両端を含む第１端部１４ａを除去する場合を例に挙げて説明したが、接着層付き第１積層部１０ａの幅方向の一方の第１端部１４ａを除去するものであってもよい。この場合、第１端部１４ａを除去した側において、光学積層体の端部が破断することを抑制し、製造中の製品や搬送路が汚染されることを抑制することができる。
（第１の実施形態の変形例２）
上記で説明した位相差フィルム５０ａの製造方法では、表面活性化処理は、接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１側の表面、及び、第２積層部２０ａの第２位相差層２２ａ側の表面の両方に行う場合を例に挙げて説明したが、いずれか一方の表面にのみ表面活性化処理を行ってもよい。接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１と、第２積層部２０ａの第２位相差層２２ａとが良好に貼合しやすくなるため、表面活性化処理は、接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１側の表面、及び、第２積層部２０ａの第２位相差層２２ａ側の表面の両方に行うことが好ましい。
また、上記で説明した位相差フィルム５０ａの製造方法では、接着層付き第１積層部１０ａから第１端部１４ａを除去した後に、接着層付き第１積層部１０ａ１の接着層１３ａ１側の表面に表面活性化処理を行っているが、第１端部１４ａを除去する前の接着層付き第１積層部１０ａの接着層１３ａ側の表面に表面活性化処理を行ってもよい。この場合も、第１端部１４ａを除去する前の接着層付き第１積層部１０ａの接着層１３ａ側の表面、及び、第２積層部２０ａの第２位相差層２２ａ側の表面のいずれか一方の表面にのみ、表面活性化処理を行ってもよい。表面活性化処理は、その効果が効率的に発揮されるように、第１端部１４ａ除去後の接着層付き第１積層部１０ａ１に対して行うことが好ましい。
（第１の実施形態の変形例３）
上記で説明した位相差フィルム５０ａの製造方法では、接着層付き第１積層部１０ａが、その幅方向断面において、接着層１３ａの幅方向両端の位置が第１位相差層１２ａの幅方向両端の位置よりも内側である場合を例に挙げて説明したが、接着層の幅方向の一方の端部の位置のみが、第１位相差層の端部の位置よりも幅方向内側であってもよい。この場合、第１端部を除去する工程では、接着層付き第１積層部における接着層の上記した一方の端部側の第１端部を除去すればよい。
（第１の実施形態の変形例４）
上記で説明した位相差フィルム５０ａの製造方法では、第１剥離層が第２基材層２１ａであり、第２剥離層が第１基材層１１ａ１である場合を例に挙げて説明したが、第１剥離層が第１基材層１１ａ１であり、第２剥離層が第２基材層２１ａであってもよい。この場合、第１基材層１１ａ１を剥離して露出した第１位相差層１２ａ１上に光学フィルム用接着層を介して光学フィルムを積層し、第２基材層２１ａを剥離して露出した第２位相差層２２ａ１に光学積層体用接着層を形成してもよい。あるいは、第１基材層１１ａ１を剥離して露出した第１位相差層１２ａ１上に先に光学積層体用接着層を積層し、その後、第２基材層２１ａを剥離して露出した第２位相差層２２ａ１上に光学フィルム用接着層を介して光学フィルムを積層してもよい。
［第２の実施形態］
（位相差フィルムの製造方法）
図３（ａ）～（ｄ）は、本実施形態の位相差フィルム５０ｂ（液晶フィルム）の製造工程を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の位相差フィルム５０ｂの製造方法は、
第１基材層１１ｂ、第１位相差層１２ｂ（第１液晶層）、及び接着層１３ｂをこの順に含む接着層付き第１積層部１０ｂを準備する工程と（図３（ａ））、
第２基材層２１ｂ及び第２位相差層２２ｂ（第２液晶層）を含む第２積層部２０ｂを準備する工程と（図３（ｂ））、
接着層付き第１積層部１０ｂの接着層１３ｂ側の表面、及び、第２積層部２０ｂの第２位相差層２２ｂ側の表面を表面活性化処理する工程と、
接着層付き第１積層部１０ｂの接着層１３ｂと、第２積層部２０ｂの第２位相差層２２ｂとを貼合して位相差層積層体４０ｂ（液晶層積層体）を得る工程と（図３（ｃ））、を有する。
図３（ａ）に示す接着層付き第１積層部１０ｂは、その幅方向断面において、接着層１３ｂの幅方向両端の位置が第１位相差層１２ｂの幅方向両端の位置よりも幅方向内側であり、
図３（ｃ）に示す位相差層積層体４０ｂは、その幅方向断面において、接着層１３ｂの幅方向両端の位置が、第２位相差層２２ｂの幅方向両端の位置と同じである。位相差フィルム５０ｂの製造方法は、さらに、第２基材層２１ｂ（第１剥離層）を剥離する工程（図３（ｄ））を有していてもよい。
以下、図面に基づいて具体的に説明する。図３（ｄ）に示す位相差フィルム５０の製造方法では、まず、図３（ａ）に示すように第１基材層１１ｂ、第１位相差層１２ｂ、及び接着層１３ｂをこの順に含む接着層付き第１積層部１０ｂ、図３（ｂ）に示すように第２基材層２１ｂ及び第２位相差層２２ｂを含む第２積層部２０ｂとを準備する。接着層付き第１積層部１０ｂ及び第２積層部２０ｂは長尺のフィルム状物であり、接着層付き第１積層部１０ｂ及び第２積層部２０ｂを連続的に搬送しながら、後述する工程が行われる。幅方向Ｗは、フィルム状物の長さ方向に直交する方向である。
接着層付き第１積層部１０ｂが有する第１基材層１１ｂ、第１位相差層１２ｂ及び接着層１３ｂについては、先の実施形態で説明した図１（ａ）に示す接着層付き第１積層部１０ａが有する第１基材層１１ａ、第１位相差層１２ａ、及び接着層１３ａと同様であるため、その説明を省略する。
第２積層部２０ｂは、その幅方向断面において、図３（ｂ）に示すように、第２基材層２１ｂの幅方向両端の位置が、第２位相差層２２ｂの幅方向両端の位置と同じとなっている。
次に、接着層付き第１積層部１０ｂの接着層１３ｂ側の表面、及び、第２積層部２０ｂの第２位相差層２２ｂ側の表面を表面活性化処理した後、接着層付き第１積層部１０ｂの接着層１３ｂと、第２積層部２０ｂの第２位相差層２２ｂとを貼合して、図３（ｃ）に示す位相差層積層体４０ｂを得る。その後、位相差層積層体４０ｂから、第２基材層２１ｂ（第１剥離層）を剥離することにより、図３（ｄ）に示す位相差フィルム５０ｂを得る。
接着層付き第１積層部１０ｂの接着層１３ｂ側の表面、及び、第２積層部２０ｂの第２位相差層２２ｂ側の表面に対して行う表面活性化処理は、先の実施形態で説明したように行うことができる。本実施の形態の表面活性化処理では、接着層付き第１積層部１０ｂの第１位相差層１２ｂの接着層１３ｂ側の表面、接着層１３ｂの表面（第１位相差層１２ｂとは反対側の表面）、及び、第２位相差層２２ｂの表面（第２基材層２１ｂとは反対側の表面）それぞれの水接触角が１００°未満となるように処理することが好ましく、９０°未満となるように処理することがより好ましく、８０°未満となるように処理することがさらに好ましい。
位相差層積層体４０ｂは、その幅方向断面において、図３（ｃ）に示すように、接着層１３ｂの幅方向両端の位置が、第２積層部２０ｂ（第２基材層２１ｂ及び第２位相差層２２ｂ）の幅方向両端の位置と同じであることが好ましい。得られた位相差層積層体４０ｂから第２基材層２１ｂを剥離することにより、図３（ｄ）に示す位相差フィルム５０ｂを得ることができる。
上記したように、位相差フィルム５０ａの製造工程において表面活性化処理が行われる場合は特に、図７（ａ）～（ｄ）に基づいて説明した位相差層積層体４０ｐのように、第１位相差層１２ｐと第２位相差層２２ｐとが直接接触すると、第１位相差層１２ｐの一部１２’ｐが第２位相差層２２ｐに移行する、あるいは、第２位相差層２２ｐの一部が第１位相差層１２ｐに移行するという現象が生じやすい傾向にある。
これに対し、本実施の形態のようにして得られた位相差フィルム５０ｂでは、第１位相差層１２ｂと第２位相差層２２ｂとが接着層１３ｂを介して対向しており、接着層１３ｂを介することなく第１位相差層１２ｂと第２位相差層２２ｂとが対向している領域は存在していない。そのため、位相差フィルム５０ｂにおいて、第１位相差層１２ｂと第２位相差層２２ｂとが直接接触することはないため、第１位相差層１２ｂの一部が第２位相差層２２ｂに移行することや、第２位相差層２２ｂの一部が第１位相差層１２ｂに移行することを防止できる。これにより、位相差フィルム５０ｂを用いて後述する光学積層体７０ｂを製造する際に、光学積層体７０ｂの端部が破断することを抑制することができ、また、製造中の製品や搬送路の汚染を抑制することができる。
（光学積層体の製造方法）
図４（ａ）～（ｃ）は、本実施形態の光学積層体７０ｂの製造工程を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。図４（ｃ）に示す光学積層体７０ｂの製造方法は、
位相差フィルム５０ｂを準備する工程と（図４（ａ））、
光学フィルム６０ｂを準備する工程と（図４（ａ））、
光学フィルム６０ｂを、光学フィルム用接着層６２ｂを介して、第２基材層２１ｂ（第１剥離層）を剥離して露出した第２位相差層２２ｂに積層する工程と（図４（ｂ））、を有する。
本実施形態の光学積層体７０ｂの製造方法は、さらに、第１基材層１１ｂ（第２剥離層）を剥離する工程を有していてもよく（図４（ｃ））、第１基材層１１ｂを剥離することによって露出した第１位相差層１２ｂ１上に光学積層体用接着層を積層してもよい。
以下、図面に基づいて具体的に説明する。図４（ｃ）に示す光学積層体７０ｂの製造方法では、まず、図４（ａ）に示すように、位相差フィルム５０ｂと光学フィルム６０ｂとを準備する。位相差フィルム５０ｂ及び光学フィルム６０ｂは、長尺のフィルム状物であり、位相差フィルム５０ｂ及び光学フィルム６０ｂを連続的に搬送しながら、後述する工程が行われる。
次に、図４（ｂ）に示すように、光学フィルム６０ｂを、光学フィルム用接着層６２ｂを介して、位相差フィルム５０ｂの第２位相差層２２ｂに積層する。このとき、光学フィルム６０ｂ上に光学フィルム用接着層６２ｂを設けておき、この光学フィルム用接着層６２ｂと位相差フィルム５０ｂの第２位相差層２２ｂとを貼合してもよく、位相差フィルム５０ｂの第２位相差層２２ｂ上に光学フィルム用接着層６２ｂを設けておき、この光学フィルム用接着層６２ｂと光学フィルム６０ｂとを貼合してもよい。
光学フィルム用接着層６２ｂを介して光学フィルム６０ｂと位相差フィルム５０ｂとを積層した後、位相差フィルム５０ｂに含まれる第１基材層１１（第２剥離層）を剥離することにより、図４（ｃ）に示す光学積層体７０ｂを得ることができる。光学積層体７０ｂは、図４（ｃ）に示すように、第１位相差層１２ｂ１、接着層１３ｂ、第２位相差層２２ｂ、光学フィルム用接着層６２ｂ、及び光学フィルム６０ｂがこの順に積層されている。光学積層体７０ｂは、その幅方向断面において、第１位相差層１２ｂ１の幅方向両端の位置が、接着層１３ｂの幅方向両端の位置と同じとなっている。
上記のように第１基材層１１ｂを剥離すると、図４（ｃ）に示すように、剥離した第１基材層１１ｂに、第１位相差層１２ｂの一部が移行しやすい。これは、図４（ｂ）に示す積層体では、その幅方向断面において、第１位相差層１２ｂの幅方向両端の位置が接着層１３ｂの幅方向両端の位置よりも幅方向外側にあり、第１位相差層１２ｂが接着層１３に固定されていない非固定領域（図４（ｂ）中、右上がり斜線で示す部分）を有しているためである。したがって、図４（ｂ）に示す積層体から第１基材層１１ｂを剥離すると、図４（ｂ）に示す第１位相差層１２ｂは、接着層１３ｂに固定された領域（図４（ｃ）に示す第１位相差層１２ｂ１）と、第１基材層１１ｂに移行する非固定領域（図４（ｂ）及び（ｃ）中、右上がり斜線で示す部分）とに分離し、図４（ｃ）に示すように、幅方向断面において、第１位相差層１２ｂ１の幅方向両端の位置と、接着層１３の幅方向両端の位置とが同じである光学積層体７０ｂを得ることができる。
光学積層体７０ｂは、第１基材層１１ｂを剥離することによって露出した第１位相差層１２ｂ１上に、図示しない光学積層体用接着層を形成してもよい。光学積層体用接着層は、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示パネルに貼合する際に用いることができる。
光学フィルム６０ｂ幅方向の両端の位置は、光学積層体７０ｂの幅方向断面において、第２位相差層２２ｂ、接着層１３ｂ及び第１位相差層１２ｂ１のうちのいずれかの幅方向の両端の位置と同じであってもよく、これらのいずれとも異なっていてもよい。例えば、光学フィルム６０ｂの幅方向の長さは、図４（ｃ）に示すように、第２位相差層２２ｂ、接着層１３ｂ及び第１位相差層１２ｂ１のいずれよりも長くてもよく、これらの層のいずれよりも短くてもよい。
光学フィルム用接着層６２ｂの幅方向の両端の位置は、光学積層体７０ｂの幅方向断面において、光学フィルム６０ｂの幅方向両端の位置と同じか、それよりも幅方向内側であることが好ましい。また、光学フィルム用接着層６２ｂの幅方向両端の位置は、第２位相差層２２ｂ、接着層１３ｂ及び第１位相差層１２ｂ１のうちのいずれかの幅方向両端の位置と同じか、それよりも幅方向内側であることが好ましい。これにより、光学積層体７０ｂを搬送する際に、光学フィルム用接着層６２ｂが、光学積層体７０ｂの幅方向外側にはみ出して搬送路上に付着し、搬送路を汚染することを防止することができる。
上記したように、図３（ｄ）に示す位相差フィルム５０ｂでは、第１位相差層１２ｂ１と第２位相差層２２ｂとが直接接触することはないため、第１位相差層１２ｂ１の一部が第２位相差層２２ｂに移行することや、第２位相差層２２ｂの一部が第１位相差層１２ｂ１に移行することを防止できる。そのため、図７（ａ）～（ｄ）に基づいて説明した位相差層積層体４０ｐのように第１位相差層１２ｐに欠落部ｐが生じることはなく、光学積層体７０ｐのように端部が破断することを抑制し、製造中の製品や搬送路が汚染されることを抑制して、図４（ｃ）に示す光学積層体７０ｂを製造することができる。
本実施の形態の位相差フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法は、以下に示す変形例のように変更されてもよい。また、上記した実施形態及び下記に示す変形例を任意に組み合わせてもよい。
（第２の実施形態の変形例１）
上記で説明した位相差フィルム５０ｂの製造方法では、図３（ｃ）に示すように、位相差層積層体４０ｂの幅方向断面において、接着層１３ｂの幅方向両端の位置が、第２積層部２０ｂ（第２基材層２１ｂ及び第２位相差層２２ｂ）の幅方向両端の位置と同じである場合を例に挙げて説明したが、接着層１３ｂの幅方向両端の位置が、第２積層部（第２基材層及び第２位相差層）の幅方向両端の位置よりも外側にあってもよい。
（第２の実施形態の変形例２）
上記で説明した位相差フィルム５０ｂの製造方法では、図３（ｂ）に示すように、第２積層部２０ｂの幅方向断面において、第２基材層２１ｂの幅方向両端の位置が第２位相差層２２ｂの幅方向両端の位置と同じである第２積層部２０ｂを用いる場合を例に挙げて説明したが、先の実施形態で説明した図１（ｂ）に示す第２積層部２０ａと同様の構造を有するものを用いてもよい。
この場合、位相差層積層体の幅方向断面において、接着層の幅方向両端の位置が、第２位相差層の幅方向両端の位置と同じとなるように位相差層積層体を得てもよく、接着層の幅方向両端の位置が、第２位相差層の幅方向両端の位置よりも外側にあるように位相差層積層体を得てもよい。
第２基材層の幅方向両端の位置が第２位相差層の幅方向両端の位置よりも外側にある第２積層部を用いて得た位相差層積層体において、接着層の幅方向両端の位置が、第２位相差層の幅方向両端の位置よりも外側にある場合、第２基材層と接着層とが接着することがある。第２基材層と接着層とが接着すると、第２基材層を剥離しにくくなり、位相差フィルムを得ることが難しくなる傾向にある。この場合、位相差層積層体の幅方向断面において、接着層の幅方向両端の位置が、第２基材層の幅方向両端の位置と同じとなるように、位相差層積層体の両端を除去することにより、容易に第２基材層を剥離することができる。あるいは、図１（ｂ）に示す第２積層部２０ｂから予め幅方向両端部を除去して、図３（ｂ）に示す第２積層部２０ｂを得、この第２積層部２０ｂを用いて、図３（ｃ）及び（ｄ）に基づいて説明した工程で位相差層積層体４０ｂ及び位相差フィルム５０ｂを得てもよい。
（第２の実施形態の変形例３）
上記で説明した位相差フィルム５０ｂの製造方法では、表面活性化処理を、接着層付き第１積層部１０ｂの接着層１３ｂ側の表面、及び、第２積層部２０ｂの第２位相差層２２ｂ側の表面の両方に行う場合を例に挙げて説明したが、いずれか一方の表面にのみ表面活性化処理を行ってもよい。接着層付き第１積層部１０ｂの接着層１３ｂと、第２積層部２０ｂの第２位相差層２２ｂとが良好に貼合しやすくなるため、表面活性化処理は、接着層付き第１積層部１０ｂの接着層１３ｂ側の表面、及び、第２積層部２０ｂの第２位相差層２２ｂ側の表面の両方に行うことが好ましい。
（第２の実施形態の変形例４）
上記で説明した位相差フィルム５０ｂの製造方法では、接着層付き第１積層部１０ｂが、その幅方向断面において、接着層１３ｂの幅方向両端の位置が第１位相差層１２ｂの幅方向両端の位置よりも幅方向内側である場合を例に挙げて説明したが、接着層の幅方向の一方の端部の位置のみが、第１位相差層の端部の位置よりも幅方向内側であってもよい。この場合、位相差層積層体は、その幅方向断面において、接着層の上記した一方の端部の位置が、第２位相差層の端部の位置と同じか、それよりも幅方向外側にあるようにすればよい。
（第２の実施形態の変形例５）
上記で説明した位相差フィルム５０ｂの製造方法では、第１剥離層が第２基材層２１ｂであり、第２剥離層が第１基材層１１ｂである場合を例に挙げて説明したが、第１剥離層が第１基材層１１ｂであり、第２剥離層が第２基材層２１ｂであってもよい。この場合、第１基材層１１ｂを剥離して露出した第１位相差層上に、光学フィルム用接着層を介して光学フィルムを積層すればよい。図３（ｃ）に示す位相差層積層体４０ｂでは、第１位相差層１２ｂの幅方向両端の位置が接着層１３ｂの幅方向両端の位置よりも外側にあり、第１位相差層１２ｂが接着層１３ｂに固定されていない非固定領域と、接着層１３ｂに固定された領域とを有している。そのため、第１基材層１１ｂを剥離すると、第１位相差層１２ｂは、第１位相差層１２ｂの非固定領域と、接着層１３ｂに固定された領域とに分離すしやすい。したがって、第１剥離層を第１基材層１１ｂとする場合、光学フィルムは、第１位相差層１２ｂの接着層１３ｂに固定された領域上に、光学フィルム用接着層を介して積層することができる。また、第１剥離層が第１基材層を含む場合、第２基材層２１ｂを剥離して露出した第２位相差層２２ｂに光学積層体用接着層を形成すればよい。
あるいは、第１基材層１１ｂを剥離して露出した第１位相差層上に光学積層体用接着層を積層し、その後、第２基材層２１ｂを剥離して露出した第２位相差層上に光学フィルム用接着層を介して光学フィルムを積層してもよい。
［第３の実施形態］
（位相差フィルムの製造方法）
図５（ａ）～（ｅ）は、本実施形態の位相差フィルム５０ｃ（液晶フィルム）の製造工程を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の位相差フィルム５０ｃの製造方法は、
第１基材層１１ｃ、第１位相差層１２ｃ（第１液晶層）、及び接着層１３ｃをこの順に含む接着層付き第１積層部１０ｃを準備する工程と（図５（ａ））、
第２基材層２１ｃ及び第２位相差層２２ｃ（第２液晶層）を含む第２積層部２０ｃを準備する工程と（図５（ｂ））、
接着層付き第１積層部１０ｃの接着層１３ｃ側の表面、及び、第２積層部２０ｃの第２位相差層２２ｃ側の表面を表面活性化処理する工程と、
接着層付き第１積層部１０ｃの接着層１３ｃと、第２積層部２０ｃの第２位相差層２２ｃとを貼合して位相差層積層体４０ｃ（液晶層積層体）を得る工程と（図５（ｃ））、
位相差層積層体４０ｃの幅方向両端を含む第２端部４４ｃを除去する工程と（図５（ｄ））、を有する。
図５（ａ）に示す接着層付き第１積層部１０ｃは、その幅方向断面において、接着層１３ｃの幅方向両端の位置が第１位相差層１２ｃの幅方向両端の位置よりも幅方向内側であり、
図５（ｃ）に示す位相差層積層体４０ｃは、その幅方向断面において、接着層１３ｃの幅方向両端の位置が第２位相差層２２ｃの幅方向端部の位置よりも幅方向内側であり、
図５（ｃ）に示す第２端部４４ｃを除去する工程では、第２端部４４ｃ除去後の位相差層積層体４０ｃ１（第２端部除去後の液晶層積層体）の幅方向断面において、接着層１３ｃ１の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｃ１の幅方向両端の位置と同じとなるように、かつ、第２位相差層２２ｃ１の幅方向両端の位置と同じとなるように、第２端部４４ｃを除去するものである（図５（ｄ））。位相差フィルム５０ｃの製造方法は、さらに、第２基材層２１ｃ１（第１剥離層）を剥離する工程を有していてもよい（図５（ｅ））。
以下、図面に基づいて具体的に説明する。図５（ｅ）に示す位相差フィルム５０ｃの製造方法では、まず、図５（ａ）に示すように、第１基材層１１ｃ、第１位相差層１２ｃ、及び接着層１３ｃをこの順に含む接着層付き第１積層部１０ｃと、図５（ｂ）に示すように第２基材層２１ｃ及び第２位相差層２２ｃを含む第２積層部２０ｃとを準備する。接着層付き第１積層部１０ｃ及び第２積層部２０ｃは長尺のフィルム状物であり、接着層付き第１積層部１０ｃ及び第２積層部２０ｃを連続的に搬送しながら、後述する工程が行われる。幅方向Ｗは、フィルム状物の長さ方向に直交する方向である。
接着層付き第１積層部１０ｃが有する第１基材層１１ｃ、第１位相差層１２ｃ及び接着層１３ｃについては、先の実施形態で説明した図１（ａ）に示す接着層付き第１積層部１０ａが有する第１基材層１１ａ、第１位相差層１２ａ、及び接着層１３ａと同様であるため、その説明を省略する。また、第２積層部２０ｃが有する第２基材層２１ｃ及び第２位相差層２２ｃについては、先の実施形態で説明した図１（ｂ）に示す第２積層部２０ａが有する第２基材層２１ａ及び第２位相差層２２ａと同様であるため、その説明を省略する。
次に、接着層付き第１積層部１０ｃの接着層１３ｃ側の表面、及び、第２積層部２０ｃの第２位相差層２２ｃ側の表面を表面活性化処理した後、接着層付き第１積層部１０ｃの接着層１３ｃと、第２積層部２０ｃの第２位相差層２２ｃとを貼合して、図５（ｃ）に示す位相差層積層体４０ｃを得る。得られた位相差層積層体４０ｃは、その幅方向断面において、図５（ｃ）に示すように、接着層１３ｃの幅方向両端の位置が第２位相差層２２ｃの幅方向端部の位置よりも内側となっている。
接着層付き第１積層部１０ｃの接着層１３ｃ側の表面、及び、第２積層部２０ｃの第２位相差層２２ｃ側の表面に対して行う表面活性化処理は、先の実施形態で説明したように行うことができ、表面活性化処理後の各表面の水接触角の大きさも、先の実施形態で説明したとおりである。
続いて、図５（ｃ）に示す位相差層積層体４０ｃについて、その幅方向両端を点線Ｘｃにて切断し、点線Ｘｃよりも幅方向外側の第２端部４４ｃを除去する。これにより、図５（ｄ）に示すように、第１基材層１１ｃ１、第１位相差層１２ｃ１、接着層１３ｃ１、第２位相差層２２ｃ１、及び、第２基材層２１ｃ１をこの順に有する、第２端部４４ｃ除去後の位相差層積層体４０ｃ１（以下、「位相差層積層体４０ｃ１」ということがある。）が得られる。その後、位相差層積層体４０ｃ１から第２基材層２１ｃ１（第１剥離層）を剥離することにより、図５（ｅ）に示す位相差フィルム５０ｃを得る。
図５（ｃ）における点線Ｘｃの位置は、第２端部４４ｃ除去後の位相差層積層体４０ｃ１の幅方向断面において、接着層１３ｃ１の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｃ１の幅方向両端の位置と同じとなり、かつ、第２位相差層２２ｃ１の幅方向両端の位置と同じとなるように定められる。図５（ｃ）に示す位相差層積層体４０ｃでは、点線Ｘｃの位置は、通常、第２端部４４ｃが、第１基材層１１ｃ、第１位相差層１２ｃ、第２位相差層２２ｃ及び第２基材層２１ｃの端部を含むように定められ、第１基材層１１ｃ、第１位相差層１２ｃ、接着層１３ｃ、第２位相差層２２ｃ及び第２基材層２１ｃの端部を含むように定めることが好ましい。位相差層積層体４０ｃの幅方向両端から除去される第２端部４４ｃのそれぞれに含まれる層は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
第２端部４４ｃを除去して得られた位相差層積層体４０ｃ１では、図５（ｄ）に示すように、その幅方向断面において、接着層１３ｃ１の幅方向両端の位置が、第１基材層１１ｃ１、第１位相差層１２ｃ１、第２位相差層２２ｃ１及び第２基材層２１ｃ１の幅方向両端の位置と同じとなっている。
第２端部４４ｃの領域を規定する点線Ｘｃの位置は、位相差層積層体４０ｃの最も幅方向外側に位置する端部から幅方向内側に通常０．５ｃｍ以上の領域であり、１．０ｃｍ以上の領域であってもよく、１．５ｃｍ以上の領域であってもよく、また、通常２０ｃｍ以下の領域であり、１５ｃｍ以下の領域であることが好ましく、１０ｃｍ以下の領域であることがより好ましい。位相差層積層体４０ｃの最も幅方向外側に位置する端部から点線Ｘｃの位置までの距離は、位相差層積層体４０ｃの幅方向両端で同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
位相差フィルム５０ｃは、位相差層積層体４０ｃ１から第２基材層２１ｃ１（第１剥離層）を剥離して得ることができる。位相差フィルム５０ｃは、図５（ｅ）に示すように、第１基材層１１ｃ１、第１位相差層１２ｃ１、接着層１３ｃ１及び第２位相差層２２ｃ１を有する。位相差フィルム５０ｃでは、その幅方向断面において、接着層１３ｃ１の幅方向両端の位置が、第１基材層１１ｃ１、第１位相差層１２ｃ１及び第２位相差層２２ｃ１の幅方向両端の位置と同じとなっている。
図５（ｃ）に示す位相差層積層体４０ｃは、その幅方向断面において、接着層１３ｃの幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｃの幅方向両端の位置及び第２位相差層２２ｃの幅方向端部の位置よりも内側となっている。そのため、上記した図７（ａ）に示す位相差層積層体４０ｐと同様に、第１位相差層１２ｃと第２位相差層２２ｃとが直接接触すると、第１位相差層１２ｃの一部が第２位相差層２２ｃに移行する、あるいは、第２位相差層２２ｃの一部が第１位相差層１２ｃに移行するという現象が生じやすい傾向にある。
そこで、本実施の形態では、位相差層積層体４０ｃの幅方向両端を含む第２端部４４ｃを除去し（図５（ｄ））、第２端部４４ｃ除去後の位相差層積層体４０ｃ１の幅方向断面において、接着層１３ｃ１の幅方向両端の位置を、第１位相差層１２ｃ１の幅方向両端の位置と同じとし、かつ、第２位相差層２２ｃ１の幅方向両端の位置と同じにしている。そのため、図５（ｃ）に示す位相差層積層体４０ｃの幅方向両端において、第１位相差層１２ｃの一部が第２位相差層２２ｃに移行する、あるいは、第２位相差層２２ｃの一部が第１位相差層１２ｃに移行するという現象が生じたとしても、このような現象が生じた部分を第２端部４４ｃとして除去することができる。これにより、第２端部４４ｃ除去後の位相差層積層体４０ｃ１から位相差フィルム５０ｃを製造することができるので、この位相差フィルム５０ｃを用いて光学積層体を製造する際に、光学積層体の端部が破断することを抑制することができ、また、製造中の製品や搬送路の汚染を抑制することができる。
（光学積層体の製造方法）
本実施の形態の光学積層体の製造方法は、
位相差フィルム５０ｃを準備する工程と、
光学フィルムを準備する工程と、
光学フィルムを、光学フィルム用接着層を介して、第２基材層２１ｃ１（第１剥離層）を剥離して露出した第２位相差層２２ｃ１に積層する工程と、を有する。
本実施形態の光学積層体の製造方法は、さらに、第１基材層１１ｃ１（第２剥離層）を剥離する工程を有していてもよく、第１基材層１１ｃ１を剥離することによって露出した第１位相差層１２ｃ１上に光学積層体用接着層を積層してもよい。
本実施の形態の光学積層体の製造方法は、位相差フィルム５０ｃを用いること以外は、先の実施形態において図２（ａ）～（ｃ）に基づいて説明した製造工程と同様であるため、詳細な説明は省略する。
上記したように、図５（ｅ）に示す位相差フィルム５０ｃでは、位相差層積層体４０ｃにおいて、第１位相差層１２ｃと第２位相差層２２ｃとが直接接触し、欠落部ｐや欠落部由来の移行部分が生じる可能性のある部分を、第２端部４４ｃとして除去している。そのため、図７（ａ）～（ｄ）に基づいて説明した光学積層体７０ｐのように端部が破断することを抑制し、製造中の製品や搬送路が汚染されることを抑制して、好適に光学積層体を製造することができる。
本実施の形態の位相差フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法は、以下に示す変形例のように変更されてもよい。また、上記した実施形態及び下記に示す変形例を任意に組み合わせてもよい。
（第３の実施形態の変形例１）
上記で説明した位相差フィルム５０ｃの製造方法では、位相差層積層体４０ｃの幅方向両端を含む第２端部４４ｃを除去する場合を例に挙げて説明したが、位相差層積層体４０ｃの幅方向の一方の第２端部４４ｃを除去するものであってもよい。この場合、第２端部４４ｃを除去した側において、光学積層体の端部が破断することを抑制し、製造中の製品や搬送路が汚染されることを抑制することができる。
（第３の実施形態の変形例２）
上記で説明した位相差フィルム５０ｃの製造方法では、図５（ｃ）に示す第２端部４４ｃ除去後の位相差層積層体４０ｃ１の幅方向断面において（図５（ｄ））、接着層１３ｃ１の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｃ１の幅方向両端の位置と同じとなり、かつ、第２位相差層２２ｃ１の幅方向両端の位置と同じとなるように、第２端部４４ｃを除去する場合を例に挙げて説明したが、接着層１３ｃ１の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｃ１の幅方向両端の位置と同じとなるように、又は、第２位相差層２２ｃ１の幅方向両端の位置と同じとなるように、第２端部４４ｃを除去してもよい。これによっても、光学積層体の端部が破断することを抑制し、製造中の製品や搬送路が汚染されることを抑制することができる。
（第３の実施形態の変形例３）
上記で説明した位相差フィルム５０ｃの製造方法では、表面活性化処理を、接着層付き第１積層部１０ｃの接着層１３ｃ側の表面、及び、第２積層部２０ｃの第２位相差層２２ｃ側の表面の両方に行う場合を例に挙げて説明したが、いずれか一方の表面にのみ表面活性化処理を行ってもよい。接着層付き第１積層部１０ｃの接着層１３ｃと、第２積層部２０ｃの第２位相差層２２ｃとが良好に貼合しやすくなるため、表面活性化処理は、接着層付き第１積層部１０ｃの接着層１３ｃ側の表面、及び、第２積層部２０ｃの第２位相差層２２ｃ側の表面の両方に行うことが好ましい。
（第３の実施形態の変形例４）
上記で説明した位相差フィルム５０ｃの製造方法では、接着層付き第１積層部１０ｃが、その幅方向断面において、接着層１３ｃの幅方向両端の位置が第１位相差層１２ｃの幅方向両端の位置よりも幅方向内側である場合を例に挙げて説明したが、接着層の幅方向の一方の端部の位置のみが、第１位相差層の端部の位置よりも幅方向内側であってもよい。この場合、位相差層積層体において、接着層付き第１積層部における接着層の上記した一方の端部側の第２端部を除去すればよい。
（第３の実施形態の変形例５）
上記で説明した位相差フィルム５０ｃの製造方法では、第１剥離層が第２基材層２１ｃ１であり、第２剥離層が第１基材層１１ｃ１である場合を例に挙げて説明したが、第１剥離層が第１基材層１１ｃ１であり、第２剥離層が第２基材層２１ｃ１であってもよい。この場合、第１基材層１１ｃ１を剥離して露出した第１位相差層１２ｃ１上に光学フィルム用接着層を介して光学フィルムを積層し、第２基材層２１ｃ１を剥離して露出した第２位相差層２２ｃ１に光学積層体用接着層を形成してもよい。あるいは、第１基材層１１ｃ１を剥離して露出した第１位相差層１２ｃ１上に先に光学積層体用接着層を積層し、その後、第２基材層２１ｃを剥離して露出した第２位相差層２２ｃ１上に光学フィルム用接着層を介して光学フィルムを積層してもよい。
［第４の実施形態］
（位相差フィルムの製造方法）
図６（ａ）～（ｅ）は、本実施形態の位相差フィルム５０ｄの製造工程を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の位相差フィルム５０ｄ（液晶フィルム）の製造方法は、
第１基材層１１ｄ、第１位相差層１２ｄ（第１液晶層）、及び接着層１３ｄをこの順に含む接着層付き第１積層部１０ｄを準備する工程と（図６（ａ））、
第２基材層２１ｄ及び第２位相差層２２ｄ（第２液晶層）を含む第２積層部２０ｄを準備する工程と（図６（ｂ））、
接着層付き第１積層部１０ｄの接着層１３ｄ側の表面、及び、第２積層部２０ｄの第２位相差層２２ｄ側の表面を表面活性化処理する工程と、
接着層付き第１積層部１０ｄの接着層１３ｄと、第２積層部２０ｄの第２位相差層２２ｄとを貼合して第１の位相差層積層体４０ｄ（第１の液晶層積層体）を得る工程と（図６（ｃ））、
第１の位相差層積層体４０ｄの第２基材層２１ｄ（第１剥離層）を剥離して、第２の位相差層積層体３０ｄ（第２の液晶層積層体）を得る工程と（図６（ｄ））、
第２の位相差層積層体３０ｄの幅方向両端を含む第３端部３４ｄを除去する工程と、を有する。
図６（ａ）に示す接着層付き第１積層部１０ｄは、その幅方向断面において、接着層１３ｄの幅方向両端の位置が第１位相差層１２ｄの幅方向両端の位置よりも幅方向内側であり、
図６（ｃ）に示す第１の位相差層積層体４０ｄは、その幅方向断面において、接着層１３ｄの幅方向両端の位置が第２位相差層２２ｄの幅方向両端の位置よりも幅方向内側であり、
図６（ｄ）に示す第３端部３４ｄを除去する工程は、第３端部３４ｄ除去後の第２の位相差層積層体３０ｄ２（第３端部除去後の第２の液晶層積層体）の幅方向断面において、接着層１３ｄ２の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなり、かつ、第２位相差層２２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなるように、第３端部３４ｄを除去する（図６（ｅ））。
以下、図面に基づいて具体的に説明する。図６（ｅ）に示す位相差フィルム５０ｄの製造方法では、まず、図６（ａ）に示すように、第１基材層１１ｄ、第１位相差層１２ｄ、及び接着層１３ｄをこの順に含む接着層付き第１積層部１０ｄと、図６（ｂ）に示すように第２基材層２１ｄ及び第２位相差層２２ｄを含む第２積層部２０ｄとを準備する。接着層付き第１積層部１０ｄ及び第２積層部２０ｄは長尺のフィルム状物であり、接着層付き第１積層部１０ｄ及び第２積層部２０ｄを連続的に搬送しながら、後述する工程が行われる。幅方向Ｗは、フィルム状物の長さ方向に直交する方向である。
接着層付き第１積層部１０ｄが有する第１基材層１１ｄ、第１位相差層１２ｄ及び接着層１３ｄについては、先の実施形態で説明した図１（ａ）に示す接着層付き第１積層部１０ａが有する第１基材層１１ａ、第１位相差層１２ａ、及び接着層１３ａと同様であるため、その説明を省略する。また、第２積層部２０ｄが有する第２基材層２１ｄ及び第２位相差層２２ｄについては、先の実施形態で説明した図１（ｂ）に示す第２積層部２０ａが有する第２基材層２１ａ及び第２位相差層２２ａと同様であるため、その説明を省略する。
次に、接着層付き第１積層部１０ｄの接着層１３ｄ側の表面、及び、第２積層部２０ｄの第２位相差層２２ｄ側の表面を表面活性化処理した後、接着層付き第１積層部１０ｄの接着層１３ｄと、第２積層部２０ｄの第２位相差層２２ｄとを貼合して、図６（ｃ）に示す第１の位相差層積層体４０ｄを得る。得られた第１の位相差層積層体４０ｄは、その幅方向断面において、図６（ｃ）に示すように、接着層１３ｃの幅方向両端の位置が第２位相差層２２ｃの幅方向端部の位置よりも内側となっている。
接着層付き第１積層部１０ｄの接着層１３ｄ側の表面、及び、第２積層部２０ｄの第２位相差層２２ｄ側の表面に対して行う表面活性化処理は、先の実施形態で説明したように行うことができ、表面活性化処理後の各表面の水接触角の大きさも、先の実施形態で説明したとおりであるため、その説明を省略する。
続いて、図６（ｃ）に示す第１の位相差層積層体４０ｄから、第２基材層２１ｄ（第１剥離層）を剥離して、第２の位相差層積層体３０ｄを得る（図６（ｄ））。第１の位相差層積層体４０ｄから第２基材層２１ｄを剥離すると、図６（ｄ）に示すように、剥離した第２基材層２１ｄに、第２位相差層２２ｄの一部が移行する。これは、図６（ｃ）に示す第１の位相差層積層体４０ｄでは、その幅方向断面において、第２位相差層２２ｄの幅方向両端の位置が接着層１３ｄの幅方向両端の位置よりも幅方向外側にあり、第２位相差層２２ｄが接着層１３ｄに固定されていない非固定領域（図６（ｃ）中、右上がり斜線で示す部分）を有しているためである。したがって、第１の位相差層積層体４０ｄから第２基材層２１ｄを剥離すると、図６（ｃ）に示す第２位相差層２２ｄは、接着層１３ｄに固定された領域（図６（ｄ）に示す第２位相差層２２ｄ１）と、第２基材層２１ｄに移行する非固定領域（図６（ｃ）及び（ｄ）中、右上がり斜線で示す部分）とに分離し、図６（ｄ）に示すように、幅方向断面において、第２位相差層２２ｄ１の幅方向両端の位置と接着層１３ｄの幅方向両端の位置とが同じである第２の位相差層積層体３０ｄを得ることができる。
次に、図６（ｄ）に示す第２の位相差層積層体３０ｄについて、その幅方向両端を点線Ｘｄにて切断し、点線Ｘｄよりも幅方向外側の第３端部３４ｄを除去する。これにより、図６（ｅ）に示すように、第１基材層１１ｄ２、第１位相差層１２ｄ２、接着層１３ｄ２、及び、第２位相差層２２ｄ２をこの順に有する、第３端部３４ｄ除去後の第２の位相差層積層体３０ｄ２（以下、「位相差層積層体３０ｄ２」ということがある。）が得られ、位相差フィルム５０ｄを製造することができる。
図６（ｄ）における点線Ｘｄの位置は、第３端部３４ｄ除去後の第２の位相差層積層体３０ｄ２の幅方向断面において、接着層１３ｄ２の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなるように、かつ、第２位相差層２２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなるように定められる。図６（ｄ）に示す第２の位相差層積層体３０ｄでは、点線Ｘｄの位置は、通常、第３端部３４ｄが、第１基材層１１ｄ、第１位相差層１２ｄ及び第２位相差層２２ｄの端部を含むように定められ、第１基材層１１ｄ、第１位相差層１２ｄ、接着層１３ｄ及び第２位相差層２２ｄの端部を含むように定めることが好ましい。第２の位相差層積層体３０ｄの幅方向両端から除去される第３端部３４ｄのそれぞれに含まれる層は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
第３端部３４ｄを除去して得られた第２の位相差層積層体３０ｄ２では、図６（ｅ）に示すように、その幅方向断面において、接着層１３ｄ２の幅方向両端の位置が、第１基材層１１ｄ２、第１位相差層１２ｄ２及び第２位相差層２２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなっている。
第３端部３４ｄの領域を規定する点線Ｘｄの位置は、第２の位相差層積層体３０ｄの最も幅方向外側に位置する端部から幅方向内側に通常０．５ｃｍ以上の領域であり、１．０ｃｍ以上の領域であってもよく、１．５ｃｍ以上の領域であってもよく、また、通常２０ｃｍ以下の領域であり、１５ｃｍ以下の領域であることが好ましく、１０ｃｍ以下の領域であることがより好ましい。第２の位相差層積層体３０ｄの最も幅方向外側に位置する端部から点線Ｘｄの位置までの距離は、第２の位相差層積層体３０ｄの幅方向両端で同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
図６（ｃ）に示す第１の位相差層積層体４０ｄは、その幅方向断面において、接着層１３ｄの幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｄの幅方向両端の位置及び第２位相差層２２ｄの幅方向端部の位置よりも内側となっている。そのため、上記した図７（ａ）に示す位相差層積層体４０ｐと同様に、第１位相差層１２ｄと第２位相差層２２ｄとが直接接触すると、第１位相差層１２ｄの一部が第２位相差層２２ｄに移行する、あるいは、第２位相差層２２ｄの一部が第１位相差層１２ｄに移行するという現象が生じやすい傾向にある。
そこで、本実施の形態では、第１の位相差層積層体４０ｄから第２基材層２１ｄを剥離して得られた第２の位相差層積層体３０ｄ（図６（ｄ））において、その幅方向両端を含む第３端部３４ｄを除去している。第３端部３４ｄ除去後の第２の位相差層積層体３０ｄ２では、その幅方向断面において、接着層１３ｄ２の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなり、かつ、第２位相差層２２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなっている。これにより、第１の位相差層積層体４０ｄの幅方向両端において、第１位相差層１２ｄの一部が第２位相差層２２ｄに移行する、あるいは、第２位相差層２２ｄの一部が第１位相差層１２ｄに移行するという現象が生じたとしても、このような現象が生じた部分を第３端部３４ｄとして除去して第２の位相差層積層体３０ｄ２を得ることができる。位相差フィルム５０ｄを用いて光学積層体を製造する際に、光学積層体の端部が破断することを抑制することができ、また、製造中の製品や搬送路の汚染を抑制することができる。
（光学積層体の製造方法）
本実施の形態の光学積層体の製造方法は、
位相差フィルム５０ｄを準備する工程と、
光学フィルムを準備する工程と、
光学フィルムを、光学フィルム用接着層を介して、第２基材層２１ｄ（第１剥離層）を剥離して露出した層であって、第３端部３４ｄ除去後の第２位相差層２２ｄ２に積層する工程と、を有する。
本実施形態の光学積層体の製造方法は、さらに、第１基材層１１ｄ２（第２剥離層）を剥離する工程を有していてもよく、第１基材層１１ｄ２を剥離することによって露出した第１位相差層１２ｄ２上に光学積層体用接着層を積層してもよい。
本実施の形態の光学積層体の製造方法は、位相差フィルム５０ｄを用いること以外は、先の実施形態において図２（ａ）～（ｃ）に基づいて説明した製造工程と同様であるため、詳細な説明は省略する。
上記したように、図６（ｅ）に示す位相差フィルム５０ｄでは、第１の位相差層積層体４０ｄにおいて、第１位相差層１２ｄと第２位相差層２２ｄとが直接接触し、欠落部ｐや欠落部由来の移行部分が生じる可能性のある部分を、第３端部３４ｄとして除去している。そのため、図７（ａ）～（ｄ）に基づいて説明した光学積層体７０ｐのように端部が破断することを抑制し、製造中の製品や搬送路が汚染されることを抑制して、好適に光学積層体を製造することができる。
本実施の形態の位相差フィルムの製造方法及び光学積層体の製造方法は、以下に示す変形例のように変更されてもよい。また、上記した実施形態及び下記に示す変形例を任意に組み合わせてもよい。
（第４の実施形態の変形例１）
上記で説明した位相差フィルム５０ｄの製造方法では、第２の位相差層積層体３０ｄの幅方向両端を含む第３端部３４ｄを除去する場合を例に挙げて説明したが、第２の位相差層積層体３０ｄの幅方向の一方の第３端部３４ｄを除去するものであってもよい。この場合、第３端部３４ｄを除去した側において、光学積層体の端部が破断することを抑制し、製造中の製品や搬送路が汚染されることを抑制することができる。
（第４の実施形態の変形例２）
上記で説明した位相差フィルム５０ｄの製造方法では、図６（ｄ）に示す第３端部３４ｄ除去後の第２の位相差層積層体３０ｄ２の幅方向断面において（図６（ｅ））、接着層１３ｄ２の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなり、かつ、第２位相差層２２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなるように、第３端部３４ｄを除去する場合を例に挙げて説明したが、接着層１３ｄ２の幅方向両端の位置が、第１位相差層１２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなるように、又は、第２位相差層２２ｄ２の幅方向両端の位置と同じとなるように、第３端部３４ｄを除去してもよい。これによっても、光学積層体の端部が破断することを抑制し、製造中の製品や搬送路が汚染されることを抑制することができる。
（第４の実施形態の変形例３）
上記で説明した位相差フィルム５０ｄの製造方法では、表面活性化処理を、接着層付き第１積層部１０ｄの接着層１３ｄ側の表面、及び、第２積層部２０ｄの第２位相差層２２ｄ側の表面の両方に行う場合を例に挙げて説明したが、いずれか一方の表面にのみ表面活性化処理を行ってもよい。接着層付き第１積層部１０ｄの接着層１３ｄと、第２積層部２０ｄの第２位相差層２２ｄとが良好に貼合しやすくなるため、表面活性化処理は、接着層付き第１積層部１０ｄの接着層１３ｄ側の表面、及び、第２積層部２０ｄの第２位相差層２２ｄ側の表面の両方に行うことが好ましい。
（第４の実施形態の変形例４）
上記で説明した位相差フィルム５０ｄの製造方法では、第１剥離層が第２基材層２１ｄであり、第２剥離層が第１基材層１１ｄ２である場合を例に挙げて説明したが、第１剥離層が第１基材層であり、第２剥離層が第２基材層であってもよい。この場合も、第１基材層を剥離して得られる第２の位相差層積層体の幅方向両端を含む第３端部を除去して、第３端部除去後の第２の位相差層積層体の幅方向断面において、接着層の幅方向両端の位置が、第１位相差層の幅方向両端の位置と同じとし、かつ、第２位相差層の幅方向両端の位置と同じとする。そして、第２端部除去後の第２の位相差層積層体の第１位相差層上に光学フィルム用接着層を介して光学フィルムを積層すればよい。
あるいは、第１基材層１１ｄを剥離して露出した第１位相差層上に光学積層体用接着層を積層し、その後、第２基材層２１ｄを剥離して露出した第２位相差層上に光学フィルム用接着層を介して光学フィルムを積層してもよい。
以上、本発明の実施形態及びその変形例について説明したが、本発明はこれらの実施形態及びその変形例に限定されることはなく、例えば、上記の各実施形態及びその変形例の各構造及び各工程を組合わせて実施することもできる。以下、全ての実施形態及びその変形例において共通する各事項について詳細に説明する。
（第１基材層及び第２基材層）
第１基材層及び第２基材層は、これらの基材層上に形成される後述する第１配向層及び第２配向層、並びに、第１液晶及び第２液晶層を支持する支持層としての機能を有する。第１基材層及び第２基材層は、樹脂材料で形成されたフィルムであることが好ましい。
樹脂材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、延伸性等に優れる樹脂材料が用いられる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂；ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリエーテルケトン系樹脂；ポリフェニレンスルフィド系樹脂；ポリフェニレンオキシド系樹脂、及びこれらの混合物、共重合物等を挙げることができる。これらの樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂及び（メタ）アクリル酸系樹脂のいずれか又はこれらの混合物を用いることが好ましい。なお、上記「（メタ）アクリル酸」とは、「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも１種」を意味する。
第１基材層及び第２基材層は、樹脂１種類又は２種以上を混合した単層であってもよく、２層以上の多層構造を有していてもよい。多層構造を有する場合、各層をなす樹脂は互いに同じであってもよく異なっていてもよい。
樹脂材料で形成されたフィルムをなす樹脂材料には、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。
第１基材層及び第２基材層の厚さは、特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の点から１～５００μｍであることが好ましく、１～３００μｍであることがより好ましく、５～２００μｍであることがさらに好ましい。
接着層付き第１積層部が後述する第１配向層を有する場合や、第２積層部が後述する第２配向層を有する場合、第１基材層と第１配向層との密着性、及び、第２基材層と第２配向層との密着性を向上させるために、少なくとも第１基材層の第１配向層が形成される側の表面、及び、少なくとも第２基材層の第２配向層が形成される側の表面に、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等を行ってもよく、プライマー層等を形成してもよい。また、第１配向層及び第２配向層を形成するために用いる配向層形成用の組成物の成分や、第１液晶層及び第２液晶層を形成するために用いる液晶層形成用の組成物の成分を調整することによって、上記の密着性を調整してもよい。
（第１配向層及び第２配向層）
接着層付き第１積層部は、第１基材層と第１液晶層との間に第１配向層を含んでいてもよい。また、第２積層部は、第２基材層と第２液晶層との間に第２配向層を含んでいてもよい。
第１配向層及び第２配向層は、これらの配向層上に形成される第１液晶層及び第２液晶層に含まれる液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有する。第１配向層及び第２配向層としては、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向性ポリマー層、層表面に凹凸パターンや複数のグルブ（溝）を有するグルブ配向層を挙げることができ、第１配向層と第２配向層とは、同じ種類の層であってもよく、異なる種類の層であってもよい。第１配向層及び第２配向層の厚みは、通常１０～５００ｎｍであり、１０～２００ｎｍであることが好ましい。
配向性ポリマー層は、配向性ポリマーを溶剤に溶解した組成物を基材層（第１基材層又は第２基材層）に塗布して溶剤を除去し、必要に応じてラビング処理をして形成することができる。この場合、配向規制力は、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層では、配向性ポリマーの表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能である。
光配向性ポリマー層は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物を基材層（第１基材層又は第２基材層）に塗布し、偏光を照射することによって形成することができる。この場合、配向規制力は、光配向性ポリマー層では、光配向性ポリマーに対する偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。
グルブ配向層は、例えば感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光、現像等を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層を基材層（第１基材層又は第２基材層）に転写して硬化する方法、基材層（第１基材層又は第２基材層）に活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層に、凹凸を有するロール状の原盤を押し当てる等により凹凸を形成して硬化させる方法等によって形成することができる。
上記で説明した第１剥離層及び第２剥離層には、第１配向層及び第２配向層が含まれていてもよい。すなわち、第１剥離層が第２基材層を含む場合、第１剥離層は、第２配向層を含んでいてもよい。同様に、第２剥離層が第１基材層を含む場合、第２剥離層は、第１配向層を含んでいてもよい。第１剥離層が第１基材層を含む場合、第２基材層が第２基材層を含む場合についても、同様である。また、第１剥離層が第１配向層又は第２配向層を含んでいない場合、第１剥離層の剥離後において、第１配向層又は第２配向層はそれぞれ第１液晶層上又は第２液晶層上に残存すればよい。同様に、第２剥離層が第１配向層又は第２配向層を含んでいない場合、第２剥離層剥離後において、第１配向層又は第２配向層はそれぞれ第１液晶層上又は第２液晶層上に残存すればよい。なお、第１剥離層及び第２剥離層に含まれる層は、各層間の密着力の関係を調整することによって設定することができ、例えば、第１基材層及び第２基材層に対して行われる、上記したコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、プライマー層、配向層形成用の組成物の成分、液晶層形成用の組成物等によって調整することができる。
第１液晶層上に第１配向層が残存した場合、光学積層体用接着層は第１配向層上に設けることができる。また、第２液晶層上に第２配向層が残存した場合、光学フィルム用接着層は第２配向層上に設けることができる。
（第１液晶層及び第２液晶層）
第１液晶層及び第２液晶層は、公知の液晶化合物を用いて形成することができる。液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。また、液晶化合物は、高分子液晶化合物であってもよく、重合性液晶化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。例えば、重合性液晶化合物を用いる場合には、重合性液晶化合物を含む組成物を、配向層（第１配向層又は第２配向層）上に塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることによって、液晶硬化層である第１液晶層や第２液晶層を形成することができる。あるいは、基材層（第１基材層又は第２基材層）上に液晶化合物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材層とともに延伸することによって、液晶層（第１液晶層又は第２液晶層）を形成してもよい。
第１液晶層及び第２液晶層は、例えばそれぞれ第１位相差層及び第２位相差層であってもよい。第１位相差層及び第２位相差層は、光に所定の位相差を与えるものであれば特に限定されず、例えば、１／２波長板、１／４波長板、ポジティブＣプレート、逆波長分散性の１／４波長板等として機能するものを挙げることができる。
本実施形態の光学積層体において光学フィルムが偏光フィルムである場合、本実施形態の光学積層体は、複合偏光板として用いることができる。複合偏光板が円偏光板を構成する場合には、複合偏光板の層構造は、偏光層（直線偏光層）、１／２波長板、１／４波長板の順に積層された構造、又は、偏光層（直線偏光層）、逆波長分散性の１／４波長板、ポジティブＣプレートの順に積層された構造となるように、第１液晶層及び第２液晶層（第１位相差層及び第２位相差層）をなす液晶層の種類を選定することが好ましい。
（液晶フィルム）
液晶フィルムは、第１液晶層及び第２液晶層を含むものであり、例えば、第１液晶層及び第２液晶層が、それぞれ第１位相差層及び第２位相差層である場合には、位相差フィルムとなり得る。
（光学フィルム）
光学フィルムとしては、偏光フィルム、反射フィルム、半透過型反射フィルム、輝度向上フィルム、光学補償フィルム、防眩機能付きフィルム等を挙げることができる。また、上記した位相差フィルム（液晶フィルム）と同様の構造を有するものであってもよい。光学フィルムは１層構造であってもよく、２層以上の多層構造の積層光学フィルムであってもよい。
（接着層）
接着層は、接着剤、粘着剤及びこれらの組み合わせによって形成することができ、通常１層であるが、２層以上であってもよい。接着層が２層以上の層からなる場合、各層は互いに同じ材料で形成されていてもよく、異なる材料で形成されていてもよい。
接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤等のうち１又は２種以上を組み合せて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。
粘着剤としては、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとし、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物等の架橋剤を加えた組成物を挙げることができる。
接着層は、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて形成されることが好ましく、特に、紫外線硬化性のエポキシ系モノマー及び光カチオン重合開始剤を含む接着剤を用いて形成されることが好ましい。
（光学フィルム用接着層）
光学フィルム用接着層は、接着剤、粘着剤及びこれらの組み合わせによって形成することができる。光学フィルム用接着層は、通常１層であるが、２層以上の層で形成されていてもよい。光学フィルム用接着層が２層以上の層からなる場合、各層は互いに同じ材料で形成されていてもよく、異なる材料で形成されていてもよい。
光学フィルム用接着層をなす接着剤及び粘着剤としては、上記接着層に用いられる接着剤及び粘着剤の例と同様のものを挙げることができる。光学フィルム用接着層としては、粘着剤を用いることが好ましい。
（光学積層体用接着層）
光学積層体用接着層は、接着剤、粘着剤及びこれらの組み合わせによって形成することができる。光学積層体用接着層は、通常１層であるが、２層以上の層で形成されていてもよい。光学積層体用接着層が２層以上の層からなる場合、各層は互いに同じ材料で形成されていてもよく、異なる材料で形成されていてもよい。
光学積層体用接着層をなす接着剤及び粘着剤としては、上記接着層に用いられる接着剤及び粘着剤の例と同様のものを挙げることができる。光学フィルム用接着層としては、粘着剤を用いることが好ましい。
１０ａ～１０ｄ，１０ｐ 接着層付き第１積層部、１０ａ１ 第１端部除去後の接着層付き第１積層部、１１ａ～１１ｄ，１１ａ１，１１ｃ１，１１ｄ２，１１ｐ 第１基材層、１２ａ～１２ｄ，１２ａ１，１２ｃ１，１２ｂ１，１２ｄ２，１２ｐ，１２ｐ１ 第１位相差層（第１液晶層）、１２’ｐ 移行部分、１３ａ～１３ｄ，１３ａ１，１３ｃ１，１３ｄ２，１３ｐ 接着層、１４ａ 第１端部、２０ａ～２０ｄ，２０ｐ 第２積層部、２１ａ～２１ｄ，２１ｃ１，２１ｐ 第２基材層、２２ａ～２２ｄ，２２ａ１，２２ｃ１，２２ｄ１，２２ｄ２，２２ｐ 第２位相差層（第２液晶層）、３０ｄ 第２の位相差層積層体（第２の液晶層積層体）、３０ｄ２ 第３端部除去後の第２の位相差層積層体（第３端部除去後の第２の液晶層積層体）、３４ｄ 第３端部、４０ａ～４０ｃ，４０ｐ 位相差層積層体（液晶層積層体）、４０ｄ 第１の位相差層積層体（第１の液晶層積層体）、４０ｃ１ 第２端部除去後の位相差層積層体（第２端部除去後の液晶層積層体）、４４ｃ 第２端部、５０ａ～５０ｄ，５０ｐ 位相差フィルム（液晶フィルム）、６０ａ～６０ｄ，６０ｐ 光学フィルム、６０’ｐ 光学フィルムの一部、６２ａ～６２ｄ，６２ｐ 光学フィルム用接着層、６２’ｐ 光学フィルム用接着層の一部、７０ａ～７０ｄ，７０ｐ 光学積層体、Ｗ 幅方向。

Claims (22)

  1. 第１基材層、第１液晶層、及び接着層をこの順に含む接着層付き第１積層部を準備する工程と、
    第２基材層及び第２液晶層を含む第２積層部を準備する工程と、
    前記接着層付き第１積層部の前記接着層側の表面、及び、前記第２積層部の前記第２液晶層側の表面のうちの少なくとも一方を表面活性化処理する工程と、
    前記接着層付き第１積層部における、前記接着層の幅方向の少なくとも一方の端部が位置する側の端部を含む第１端部を除去する工程と、
    前記第１端部除去後の前記接着層付き第１積層部の前記接着層と、前記第２積層部の前記第２液晶層とを貼合して液晶層積層体を得る工程と、
    前記液晶層積層体における、前記第２基材層を含む第１剥離層を剥離する工程と、を有し、
    前記接着層付き第１積層部は、その幅方向断面において、前記接着層の前記一方の端部の位置が前記第１液晶層の端部の位置よりも幅方向内側であり、
    前記除去する工程は、
    前記表面活性化処理する工程の前又は後に行われ、
    前記第１端部除去後の前記接着層付き第１積層部の幅方向断面において、前記第１端部を除去した側の前記接着層の端部の位置が、前記第１液晶層の端部の位置と同じとなるように、前記第１端部を除去し、
    前記液晶層積層体の幅方向断面において、前記第２液晶層の両端部の位置は前記接着層の両端部の位置よりも幅方向外側にある、液晶フィルムの製造方法。
  2. 前記除去する工程は、前記表面活性化処理する工程の前に行われる、請求項１に記載の液晶フィルムの製造方法。
  3. 前記接着層付き第１積層部は、その幅方向断面において、前記接着層の幅方向両端の位置が、前記第１液晶層の幅方向両端の位置よりも幅方向内側であり、
    前記第１端部は、前記接着層付き第１積層部の幅方向両端を含む、請求項１又は２に記載の液晶フィルムの製造方法。
  4. 前記液晶層積層体は、前記第１端部除去後の前記接着層付き第１積層部と前記第２積層部とを積層したものであり、
    前記剥離する工程は、前記液晶層積層体から前記第１剥離層を剥離する、請求項１～３のいずれか１項に記載の液晶フィルムの製造方法。
  5. 第１基材層、第１液晶層、及び接着層をこの順に含む接着層付き第１積層部を準備する工程であって、前記接着層付き第１積層部の幅方向断面において、前記接着層の幅方向の少なくとも一方の端部の位置が前記第１液晶層の端部の位置よりも幅方向内側である前記接着層付き第１積層部を準備する工程と、
    第２基材層及び第２液晶層を含む第２積層部を準備する工程と、
    前記接着層付き第１積層部の前記接着層側の表面、及び、前記第２積層部の前記第２液晶層側の表面のうちの少なくとも一方を表面活性化処理する工程と、
    前記接着層付き第１積層部の前記接着層と、前記第２積層部の前記第２液晶層とを貼合して、前記接着層付き第１積層部と前記第２積層部とが積層された液晶層積層体を得る工程であって、前記液晶層積層体の幅方向断面において、前記接着層の前記一方の端部の位置が前記第２液晶層の端部の位置よりも幅方向内側となるように、前記液晶層積層体を得る工程と、
    前記液晶層積層体において、前記液晶層積層体の、前記接着層の前記一方の端部が位置する側の端部を含む第２端部を除去する工程と、を有し、
    前記除去する工程は、前記第２端部除去後の前記液晶層積層体の幅方向断面において、前記第２端部を除去した側の前記接着層の端部の位置が、前記第１液晶層の端部の位置と同じとなる、又は、前記第２液晶層の端部の位置と同じとなるように、前記第２端部を除去する、液晶フィルムの製造方法。
  6. 前記除去する工程は、前記第２端部除去後の前記液晶層積層体の幅方向断面において、前記第２端部を除去した側の前記接着層の端部の位置が、前記第１液晶層の端部の位置と同じとなり、かつ、前記第２液晶層の端部の位置と同じとなるように、前記第２端部を除去する、請求項５に記載の液晶フィルムの製造方法。
  7. 前記接着層付き第１積層部は、その幅方向断面において、前記接着層の幅方向両端の位置が、前記第１液晶層の幅方向両端の位置よりも幅方向内側となっており、
    前記液晶層積層体は、その幅方向断面において、前記接着層の両端の位置が、前記第２液晶層の両端の位置よりも幅方向内側となっており、
    前記第２端部は、前記液晶層積層体の幅方向両端を含む、請求項５又は６に記載の液晶フィルムの製造方法。
  8. さらに、前記第２端部除去後の前記液晶層積層体における、前記第１基材層及び前記第２基材層のうちの一方を含む第１剥離層を剥離する工程を有する、請求項５～７のいずれか１項に記載の液晶フィルムの製造方法。
  9. 前記接着層付き第１積層部を準備する工程は、
    前記第１基材層及び第１液晶層を含む第１積層部を準備する工程と、
    前記第１液晶層の前記第１基材層とは反対側に接着層を積層して、前記接着層付き第１積層部を得る工程とを有する、請求項１～８のいずれか１項に記載の液晶フィルムの製造方法。
  10. 前記表面活性化処理する工程は、前記接着層付き第１積層部の前記接着層側の表面、及び、前記第２積層部の前記第２液晶層側の表面を表面活性化処理する、請求項１～９のいずれか１項に記載の液晶フィルムの製造方法。
  11. 前記表面活性化処理は、コロナ処理である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の液晶フィルムの製造方法。
  12. 前記第１液晶層は位相差層である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の液晶フィルムの製造方法。
  13. 前記第２液晶層は位相差層である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の液晶フィルムの製造方法。
  14. 前記接着層付き第１積層部は、前記第１基材層と前記第１液晶層との間に第１配向層を含む、請求項１～１３のいずれか１項に記載の液晶フィルムの製造方法。
  15. 前記第２積層部は、前記第２基材層と前記第２液晶層との間に第２配向層を含む、請求項１～１４のいずれか１項に記載の液晶フィルムの製造方法。
  16. 液晶フィルムを準備する工程と、光学フィルムを準備する工程と、を有する光学積層体の製造方法であって、
    前記液晶フィルムを準備する工程は、
    第１基材層、第１液晶層、及び接着層をこの順に含む接着層付き第１積層部を準備する工程であって、前記接着層付き第１積層部の幅方向断面において、前記接着層の幅方向の少なくとも一方の端部の位置が前記第１液晶層の端部の位置よりも幅方向内側である前記接着層付き第１積層部を準備する工程と、
    第２基材層及び第２液晶層を含む第２積層部を準備する工程と、
    前記接着層付き第１積層部の前記接着層側の表面、及び、前記第２積層部の前記第２液晶層側の表面のうちの少なくとも一方を表面活性化処理する工程と、
    前記接着層付き第１積層部の前記接着層と、前記第２積層部の前記第２液晶層とを貼合して第１の液晶層積層体を得る工程であって、前記第１の液晶層積層体の幅方向断面において、前記接着層の前記一方の端部の位置が前記第２液晶層の端部の位置よりも幅方向内側となるように、前記第１の液晶層積層体を得る工程と、
    前記第１の液晶層積層体の前記第１基材層及び前記第２基材層のうちの一方を含む第１剥離層を剥離して、第２の液晶層積層体を得る工程と、
    前記第２の液晶層積層体における、前記接着層の前記一方の端部が位置する側の端部を含む第３端部を除去する工程と、を有し、
    前記除去する工程は、前記第３端部除去後の前記第２の液晶層積層体の幅方向断面において、前記第３端部を除去した側の前記接着層の端部の位置が、前記第１液晶層の端部の位置と同じとなる、又は、前記第２液晶層の端部の位置と同じとなるように、前記第３端部を除去し、
    前記光学積層体の製造方法は、さらに、前記除去する工程よりも後に、前記第２の液晶層積層体における前記第１剥離層を剥離して露出した層に、光学フィルム用接着層を介して前記光学フィルムを積層する工程を有する、光学積層体の製造方法。
  17. 前記除去する工程は、前記第３端部除去後の前記第２の液晶層積層体の幅方向断面において、前記第３端部を除去した側の前記接着層の端部の位置が、前記第１液晶層の端部の位置と同じとなり、かつ、前記第２液晶層の端部の位置と同じとなるように、前記第３端部を除去する、請求項１６に記載の光学積層体の製造方法。
  18. 前記接着層付き第１積層部は、その幅方向断面において、前記接着層の両端の位置が、前記第１液晶層の両端の位置よりも幅方向内側となっており、
    前記第１の液晶層積層体は、その幅方向断面において、前記接着層の両端の位置が、前記第２液晶層の両端の位置よりも幅方向内側となっており、
    前記第３端部は、前記第２の液晶層積層体の幅方向両端を含む、請求項１６又は１７に記載の光学積層体の製造方法。
  19. 前記第２の液晶層積層体は、前記第１の液晶層積層体の前記第１基材層及び前記第２基材層のうちの前記第１剥離層に含まれていない方を含む、請求項１６～１８のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
  20. 請求項１～４及び８のいずれか１項に記載の液晶フィルムの製造方法で製造された液晶フィルムを準備する工程と、
    光学フィルムを準備する工程と、
    前記光学フィルムを、光学フィルム用接着層を介して、前記第１剥離層を剥離して露出した層に積層する工程と、を有する、光学積層体の製造方法。
  21. さらに、前記第１基材層及び前記第２基材層のうちの前記第１剥離層に含まれていない層を含む第２剥離層を剥離する工程を有する、請求項１６～２０のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
  22. 前記第２剥離層を剥離することによって露出した層上に、光学積層体用接着層を積層する、請求項２１に記載の光学積層体の製造方法。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230172504A (ko) * 2021-04-22 2023-12-22 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 적층체 및 그 제조 방법

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002071947A (ja) 2000-08-31 2002-03-12 Nippon Mitsubishi Oil Corp 光学素子の連続的製造法
JP2004184673A (ja) 2002-12-03 2004-07-02 Sumitomo Chem Co Ltd 感圧接着剤付き機能性フィルムの製造方法
JP2011161887A (ja) 2010-02-15 2011-08-25 Nippon Zeon Co Ltd 長尺のフィルムのロール体
WO2013114583A1 (ja) 2012-02-01 2013-08-08 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
JP2014044355A (ja) 2012-08-28 2014-03-13 Nitto Denko Corp 偏光板の製造方法
JP2015021975A (ja) 2013-07-16 2015-02-02 大日本印刷株式会社 光学フィルム用転写体、光学フィルム用転写体の製造方法
WO2016072358A1 (ja) 2014-11-04 2016-05-12 住友化学株式会社 プロテクトフィルム付光学フィルムの製造方法
JP6148775B1 (ja) 2016-02-25 2017-06-14 住友化学株式会社 積層光学フィルムの製造方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0529500Y2 (ja) * 1988-02-02 1993-07-28
JPH07120761A (ja) * 1993-10-22 1995-05-12 Nippon Petrochem Co Ltd 光学素子の製造方法
JPH07120748A (ja) * 1993-10-22 1995-05-12 Nippon Petrochem Co Ltd 光学素子の連続製造法
JPH1126733A (ja) * 1997-07-03 1999-01-29 Seiko Epson Corp 薄膜デバイスの転写方法、薄膜デバイス、薄膜集積回路装置，アクティブマトリクス基板、液晶表示装置および電子機器
WO2007072625A1 (ja) * 2005-12-20 2007-06-28 Sharp Kabushiki Kaisha 光学部品、光学部品の表裏判別方法、及び光学部品の表裏判別装置
JP2008122885A (ja) * 2006-10-16 2008-05-29 Dainippon Printing Co Ltd 位相差フィルム、および、偏光板
JP4998941B2 (ja) * 2006-11-20 2012-08-15 日東電工株式会社 積層光学フィルム、積層光学フィルムを用いた液晶パネルおよび液晶表示装置
JP4188407B2 (ja) * 2006-12-19 2008-11-26 日東電工株式会社 粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
JP2009157347A (ja) * 2007-12-03 2009-07-16 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板のセット、ならびにこれを用いた液晶パネルおよび液晶表示装置
CN102159988A (zh) * 2009-12-03 2011-08-17 夏普株式会社 液晶显示装置
JP2013235232A (ja) * 2012-04-13 2013-11-21 Fujifilm Corp 位相差フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP6136526B2 (ja) * 2012-10-29 2017-05-31 大日本印刷株式会社 インセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体及びこれを用いたインセルタッチパネル型液晶表示装置
JP5799989B2 (ja) * 2013-07-26 2015-10-28 大日本印刷株式会社 光学フィルム、画像表示装置、光学フィルム用転写体、光学フィルムの製造方法及び光学フィルム用転写体の製造方法
CN103435257B (zh) * 2013-08-09 2016-04-27 刘国正 玻璃膜层叠板及其制造方法
TWI636285B (zh) * 2013-08-09 2018-09-21 住友化學股份有限公司 Optical film
JP6376872B2 (ja) * 2014-07-16 2018-08-22 日東電工株式会社 積層光学フィルムの製造方法
JP2016033527A (ja) * 2014-07-30 2016-03-10 富士フイルム株式会社 位相差フィルム、光学積層体、液晶表示装置、及びセルロースエステルフィルム
KR101813755B1 (ko) * 2015-05-28 2017-12-29 삼성에스디아이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 표시장치
CN106338792B (zh) * 2015-07-07 2018-04-10 住友化学株式会社 偏光板的制造方法
JP6442435B2 (ja) * 2016-05-26 2018-12-19 住友化学株式会社 偏光板、及び液晶表示装置
EP3264147B1 (en) * 2016-06-30 2024-05-08 LG Display Co., Ltd. Method of fabricating a polarizer
TWI773678B (zh) * 2016-07-12 2022-08-11 日商住友化學股份有限公司 光學膜積層體的製造裝置及製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002071947A (ja) 2000-08-31 2002-03-12 Nippon Mitsubishi Oil Corp 光学素子の連続的製造法
JP2004184673A (ja) 2002-12-03 2004-07-02 Sumitomo Chem Co Ltd 感圧接着剤付き機能性フィルムの製造方法
JP2011161887A (ja) 2010-02-15 2011-08-25 Nippon Zeon Co Ltd 長尺のフィルムのロール体
WO2013114583A1 (ja) 2012-02-01 2013-08-08 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
JP2014044355A (ja) 2012-08-28 2014-03-13 Nitto Denko Corp 偏光板の製造方法
JP2015021975A (ja) 2013-07-16 2015-02-02 大日本印刷株式会社 光学フィルム用転写体、光学フィルム用転写体の製造方法
WO2016072358A1 (ja) 2014-11-04 2016-05-12 住友化学株式会社 プロテクトフィルム付光学フィルムの製造方法
JP6148775B1 (ja) 2016-02-25 2017-06-14 住友化学株式会社 積層光学フィルムの製造方法

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