TWI773678B - 光學膜積層體的製造裝置及製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明之目的是提供可容易地確認表面產生的變形及附著雜質之存在的貼合輥,以及使用此貼合輥的光學膜積層體之製造裝置及製造方法。
本發明之解決方法為,提供一種由第1輥及第2輥所構成之用於貼合複數片光學膜使用的貼合輥,第1輥及第2輥的至少任一者之表面是以橡膠層構成,橡膠層之以正反射光射入的方式測定之視感反射率RSCI是在10%以下,根據JIS K 6253-3:2012,所測得之硬度計(durometer)A型的硬度是在80°以上,本發明也提供使用此貼合輥的光學膜積層體之製造裝置以及製造方法。
Description
本發明是有關為了貼合複數片光學膜而使用的貼合輥。又,本發明是有關含有複數片光學膜之光學膜積層體的製造裝置及製造方法。
屬光學膜的積層體之偏光板,一般是在偏光膜的單面或兩面使用接著劑將保護膜等熱可塑性樹脂膜加以貼合即可製造。具體而言,將偏光膜與熱可塑性樹脂膜隔著接著劑進行積層而作成積層體,將此積層體通過一對輥之間,藉由將積層體自上向下按壓而貼合偏光膜與熱可塑性樹脂膜[例如,日本特開2014-122967號公報(專利文獻1)]。本說明書中,將上述一對輥(揑合輥)稱為「貼合輥」。貼合後,藉由將接著劑層乾燥,或硬化而可以得到偏光板。
[專利文獻1] 日本特開2014-122967號公報
在光學膜積層體的製造中,於所使用的貼合輥表面會產生凹凸等的變形,或當雜質附著時,此變形或雜質會轉印到連接在貼合輥之膜的表面,而光學膜積層體之品質會發生不良。
本發明的目的,係提供可以容易地確認在表面產生的變形及附著雜質存在之貼合輥,以及使用此等貼合輥之光學膜積層體的製造裝置及製造方法。
本發明是提供以下所示的貼合輥,並且,提供光學膜積層體的製造裝置以及製造方法。
[1]一種貼合輥,係由第1輥及第2輥構成,為了貼合複數片光學膜而使用的貼合輥,前述第1輥及前述第2輥的至少一者,表面是以橡膠層所構成,前述橡膠層之以正反射光射入的方式所測定之視感反射率RSCI是在10%以下,根據JIS K 6253-3:2012所測得的硬度計(Durometer)A型之硬度是在80°以上。
[2]如[1]中記載的貼合輥,其中,前述橡膠層是含有橡膠成分與碳黑。
[3]如[2]中記載的貼合輥,其中,相對於前述橡膠成分100重量份,前述碳黑的含量係40至100重量。
[4]如[2]或[3]中記載的貼合輥,其中,前述碳黑之算 術平均粒徑是60nm以上。
[5]如[2]至[4]中任一項記載的貼合輥,其中,前述碳黑的容積密度是在400kg/m3以上。
[6]如[1]至[5]中任一項記載的貼合輥,其中,前述複數片光學膜是含有偏光膜與熱可塑性樹脂膜。
[7]一種製造裝置,係含有複數片光學膜之光學膜積層體的製造裝置,且含有如[1]至[6]中任一項記載的貼合輥。
[8]如[7]中記載的製造裝置,其中,前述光學膜積層體是含有偏光膜與熱可塑性樹脂膜之偏光板。
[9]一種光學膜積層體的製造方法,係含有:使複數片光學膜隔著接著劑及/或黏著劑(pressure-sensitive adhesive)所積層的積層體,通過一對輥之間藉此進行按壓之步驟,前述之一對輥係[1]至[6]中記載之貼合輥。
[10]如[9]中記載的製造方法,其中,前述積層體是含有偏光膜,與隔著接著劑積層在前述偏光膜上的熱可塑性樹脂膜。
[11]如[9]或[10]中記載的製造方法,更含有選自由下列步驟所組成群組中之1個以上的步驟:檢查前述貼合輥的表面狀態之步驟、檢查前述接著劑的使用量之步驟及檢查前述黏著劑的使用量之步驟。
依據本發明,可以提供可以容易且精度良好地確認表面產生的變形及附著雜質存在之貼合輥,以及使用此貼合輥的光學膜積層體之製造裝置及製造方法。
1‧‧‧貼合輥
1a‧‧‧第1輥
1b‧‧‧第2輥
2a‧‧‧第1表面橡膠層
2b‧‧‧第2表面橡膠層
5‧‧‧偏光膜
10‧‧‧第1熱可塑性樹脂膜
15‧‧‧第1接著劑
20‧‧‧第2熱可塑性樹脂膜
25‧‧‧第2接著劑
30‧‧‧導引輥
40‧‧‧第1接著劑注入裝置
41‧‧‧第2接著劑注入裝置
60‧‧‧積分球
61‧‧‧光源
62‧‧‧測定樣品
第1圖係表示本發明相關的貼合輥及含有此貼合輥之光學膜積層體(偏光板)的製造裝置之一個例子以模式表示的側面圖。
第2圖係將用於測定視感反射率RSCI的光學系統以模式表示之截面圖。
第3圖係有關彈性回復率的測定之圖。
以下顯示實施的形態,而詳細說明本發明中相關的貼合輥,以及光學膜積層體的製造裝置及製造方法。在以下的說明中雖然是採用光學膜積層體作為偏光板,惟應可以容易理解,光學膜積層體並不限定是偏光板,以下的說明也同樣可以適用於偏光板之外的光學膜積層體。
光學膜是指在光學用途中使用的膜。在光學用途中使用的膜是指,例如,屬於光學裝置的構成要素的膜,其中,光學裝置係以液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等的畫像顯示裝置為代表。
第1圖是表示與本發明相關的貼合輥1,及光學膜積層體製造裝置(偏光板製造裝置)中的貼合輥1周邊部分之示意圖。第1圖中實線的箭頭是表示光學膜的搬送方向。在第1圖所示的偏光板製造裝置中,貼合輥1是由第1輥 1a及第2輥1b所構成,係用於在光學膜的偏光膜5之一面,隔著第1接著劑15貼合作為光學膜的第1熱可塑性樹脂膜10,以及在偏光膜5的另外一面,隔著第2接著劑25貼合作為光學膜之第2熱可塑性樹脂膜20使用者。
亦即,由第1熱可塑性樹脂膜10/第1接著劑15的層/偏光膜5/第2接著劑25的層/第2熱可塑性樹脂膜20的層構成所構成的積層體,係在構成貼合輥1之第1輥1a與第2輥1b之間通過。藉此而按壓積層體,使第1熱可塑性樹脂膜10與偏光膜5與第2熱可塑性樹脂膜20進行貼合。關於偏光膜5、第1熱可塑性樹脂膜10、第2熱可塑性樹脂膜20、第1接著劑15及第2接著劑25,將在後面詳述。
與本發明相關的貼合輥1是由第1輥1a及第2輥1b的一對輥所構成,第1輥1a及第2輥1b的至少一者,表面是以橡膠層構成。該橡膠層之以正反射光射入之方式於測定溫度23℃的視感反射率RSCI(以下,稱為「視感反射率RSCI」。)為10%以下,根據JIS K 6253-3:2012所測得之硬度計A型的硬度(以下,稱為「硬度」。)在溫度23℃為80°以上。以下,將該橡膠層也稱為「表面橡膠層」。第1圖表示,第1輥1a具有第1表面橡膠層2a,且第2輥1b具有第2表面橡膠層2b的形態。又,貼合輥1通常是驅動輥。驅動輥係指可對與其接觸之膜賦予搬送薄膜用之驅動力的輥。
具有視感反射率RSCI在10%以下、硬度在 80°以上的表面橡膠層之貼合輥1,與以往的貼合輥相比較,在輥表面產生之凹凸等的變形及在輥表面可能附著之雜質的確認容易性較優良,又,也有優良的確認精度。
在偏光板的連續製造中,膜通常是使用將長方形膜捲起而成的膜卷作為偏光膜或熱可塑性樹脂膜等的原料。從膜卷將原料膜連續地捲出,並實施與其他原料膜的貼合等處理,藉此就可以得到成為長方形物的偏光板。此時,先前使用的膜卷接近完成時,藉由將此膜卷的終端,與其後使用的膜卷之開端接合而可以繼續連續製造。在實施如此之膜接合的情形,通常在接合部會產生較高的段差。該段差通過構成貼合輥的一對輥之間時,由於因輥所導致之按壓會較段差之外的部分大,因而輥表面容易變形。此變形典型上係段差部分的形狀被轉印到輥表面而導致之凹凸變形。在輥表面產生變形時,通過一對輥之間的膜(上述的積層體)的表面會被轉印變形之形狀,而會招致偏光板製品品質不良。
又,偏光板的連續製造雖然通常是在潔淨室內進行,但由於靜電現象等,源自膜的灰塵或其他雜質會附著在貼合輥的表面。如此之附著雜質也會與在輥表面產生變形的情形同樣,發生附著雜質的形狀之轉印而招致偏光板製品的品質不良。
因此,在確認輥表面變形或附著雜質時,期望能儘快地進行對應處理(輥的交換或保養),因此,要求可以容易地確認變形及附著雜質的存在。然而,以往的 貼合輥,不容易確認有此等情況,且確認的精度並不高。在為了貼合偏光膜與熱可塑性樹脂膜而使用之以往的貼合輥中,通常是在表面橡膠層調配二氧化矽等,此形態可說是已是成為偏光板製造領域中之技術常識。在偏光板之外的光學膜積層體製造領域中也是同樣,在表面橡膠層中調配二氧化矽等之形態是一種技術常識。本發明是明確地推翻此種技術常識者。
例如,依據視感反射率RSCI是在10%以下的本發明之貼合輥1,在貼合輥1的表面(表面橡膠層的表面)之凹凸等的變形或微小的附著雜質,可以根據目視或經由CCD照像機等所取得之畫像等,而容易且精度良好地檢測得知。或,依據本發明的貼合輥1,於貼合輥的近傍所實施的光學檢查可以容易且精度良好地進行。於貼合輥的近傍所實施的光學檢查,例如可以列舉,對構成光學膜積層體的複數片光學膜之間(例如,偏光膜與熱可塑性樹脂膜之間)夾著之接著劑及/或黏著劑的使用量以光學進行檢查。更具體而言,可以列舉:在剛要通過一對輥間之前,對複數片光學膜之間(例如,偏光膜與熱可塑性樹脂膜之間)的接著劑之積液的寬度(積液與空氣的界面位置),用照射測定光而檢出其透過光等的光學方法來檢知,檢查接著劑之使用量是否適當。有關黏著劑也同樣操作,而可以光學檢查其使用量。在貼合輥的近傍所實施之光學檢查的其他例子,係對通過一對輥間之後的積層體所具有的接著劑層及/或黏著劑層之厚度,使用紅外線等的光學方法來測 定,檢查接著劑及/或黏著劑的使用量是否適當。
從輥表面的變形及附著雜質的確認容易性及確認精度更高的觀點而言,視感反射率RSCI宜為8%以下,更宜為5%以下。視感反射率RSCI通常是0.5%以上。
關於以正反射光射入方式所測定之視感反射率RSCI的測定方法,參照第2圖加以說明。第2圖是用於測定視感反射率RSCI的光學系統之以示意表示之截面圖。第2圖中表示的光學系統,係擴散照明方式的光學系統。擴散照明方式是使用積分球等,將測定樣品從四面八方均等地照明的方法,第2圖中,設置有積分球60(會將光幾乎完全擴散反射的硫酸鋇等的白色塗料被塗布在內面而成之球)。由光源61發出的光,係在積分球60的內部擴散,於測定樣品62的表面反射。由於第2圖中表示的光學系統係構成為,包含對受光部而言為正反射方向的光之各方向的光係照射至測定樣品表面,故稱為正反射光射入模式、亦即(SCI)模式。
又,相對於此,在對受光部而言為正反射方向的積分球60之位置設置光阱(進入此之光會被吸收而不會回到積分球60中)等,使對受光部而言為正反射方向的光不會照射至測定樣品表面之方式而構成的光學系統,係稱為除去正反射光模式(SCE模式)。
使用第2圖所示的光學系統取得測定樣品的反射光譜,由此反射光譜根據JIS Z 8722:2009「色的測定方法-反射及透過物體色」之規定方法而計算之視感反 射率,係以正反射光入射方式所測定之視感反射率RSCI。作為測定樣品者,係使用具有表面橡膠層之輥本身或與表面橡膠層相同材質的評估用樣品。
表面橡膠層的硬度(溫度23℃)在80°以上者,就藉由通過輥間而適當地將按壓傳導到積層體之點而言,及就使偏光板中接著劑層的膜厚均一之點而言為有利。由此等觀點而言,表面橡膠層的硬度宜為85°以上。表面橡膠層的硬度通常是在100°以下,宜為95°以下。
具有視感反射率RSCI是10%以下,硬度是在80°以上的表面橡膠層之輥,可以是第1輥1a,也可以是第2輥1b,也可以是此二者。就提高輥表面產生的凸凹等之變形及在輥表面附著之雜質的確認容易性以及其確認的精度,以及在偏光板等的光學膜積層體中之接著劑層及/或黏著劑層的膜厚均一性等之觀點而言,第1輥1a及第2輥1b二者,以具有視感反射率RSCI在10%以下,並且硬度是80°以上之表面橡膠層之橡膠輥較佳。
在第1輥1a及第2輥1b的任一者並非具有視感反射率RSCI在10%以下,並且硬度是80°以上的表面橡膠層之橡膠輥的情形,則此輥例如可以是:金屬輥、彈性金屬輥,或視感反射率RSCI及硬度的至少一者是在上述規定的範圍以外之橡膠輥。
金屬輥是指,具有由金屬構成的表面層之輥。彈性金屬輥是指,在由橡膠或油等所成彈性體的層上,具有由金屬構成的表面層之輥。構成表面層之金屬,可以 列舉:鐵、鋁、鎳、合金(SUS 304等的不銹鋼等)。在金屬輥、彈性金屬輥中,在由金屬構成的表面層之上,也可以形成由鍍鉻、鍍鎳、DLC(類鑽石碳)等構成之表面被覆層。
橡膠輥的表面橡膠層(第1表面橡膠層2a、第2表面橡膠層2b)含有橡膠成分,宜為含有橡膠成分與碳黑。藉由含有適當量碳黑,可以實現視感反射率RSCI為10%以下的表面橡膠層。表面橡膠層的厚度例如是1至50mm左右,宜為5至40mm,更宜為10至30mm。
作為橡膠成分者,可以使用NBR(腈橡膠)、泰坦系列橡膠、聚胺酯橡膠、矽酮橡膠、EPDM(乙烯-丙烯-二烯橡膠)等,宜為NBR、EPDM,更宜為NBR。作為碳黑者並無特別的限制,可以使用:SAF、SAF-HS、ISAF、ISAF-LS、ISAF-HS、HAF、HAF-LS、HAF-HS、EPC、XCF、FEF、GPF、HMF、SRF、SRF-LS、SRF-HS、FT、FT-HS、MT、T-HS、G-MS等型。
從使表面橡膠層的視感反射率RSCI成為10%或較其更小之觀點而言,相對於橡膠成分100重量份,表面橡膠層中碳黑的含量係以30重量份以上為佳,35重量份以上為較佳,40重量份以上為更佳。從使表面橡膠層的硬度成為80°或較其更大之觀點而言,相對於橡膠成分100重量份,表面橡膠層中,碳黑的含量係以40重量份以上為佳,以50重量份以上為較佳,55重量份以上為更佳。硬度太高時,表面橡膠層的彈性回復能會過度下降,因此,在該層的表面產生的變形會不易回復。因此,相對於橡膠 成分100重量份,表面橡膠層中碳黑的含量係以100重量份以下為佳,以90重量份以下為更佳。
根據本發明人等的檢討,碳黑的粒徑與表面橡膠層的彈性回復率之間的相關性已經很清楚。為了形成具有充分的高彈性回復率之表面橡膠層,碳黑的算術平均粒徑係以60nm以上為佳,65nm以上為更佳。碳黑的算術平均粒徑例如是在300nm以下或200nm以下。為了即使增加如賦予變形的應力時,也盡可能不會殘留此變形,表面橡膠層的彈性回復率以在溫度23℃為80%以上為佳,85%以上為較佳,90%以上為更佳。碳黑的算術平均粒徑及表面橡膠層的彈性回復率,係依據後述實施例的項目中之記載而測定。
不使用以往使用的二氧化矽,而使用碳黑之事,不僅能提昇輥表面的變形及附著雜質的確認容易性,也可以更提高表面橡膠層的彈性回復率,故而有利。
將含有橡膠成分、碳黑、及因應必要而調配之添加劑(加硫劑、加硫促進劑、製程油、碳黑以外的充填劑等)之橡膠組成物,例如形成薄片狀(或帶狀),將此等捲繞在卷筒的軸芯,因應必要藉由加硫處理的方法等即可形成表面橡膠層。為了使上述橡膠組成物的黏度適度地降低,成為其成形性良好者,碳黑的容積密度以在400kg/m3以上為佳,以在450kg/m3以上為更佳。碳黑的容積密度,例如是在1000kg/m3以下。上述橡膠組成物的黏度,從成形性的觀點而言,根據JIS K 6300-1:2013之溫度100 ℃之孟納黏度(Mooney viscosity)宜為25至60,更宜為30至45。碳黑的容積密度,係根據後述實施例的項目之記載而測定。
第1輥1a及第2輥1b的直徑,例如是40至400mm,更典型的是50至300mm。第1輥1a及第2輥1b的直徑可以是相同,也可以是相異。第1輥1a及第2輥1b的長度(所製造之偏光板的寬方向),雖依所製造之偏光板的寬度不同而改變,但例如可以是300至3000mm。第1輥1a及第2輥1b通常雖然是直徑橫跨長度方向為均一的平輥,但也可以是第1輥1a及第2輥1b的一者具有由中央部到端部之徑變小之錐狀的外形形狀之冠狀輥。
本發明中,相關的光學膜積層體之製造裝置,係含有上述的本發明相關之貼合輥1。光學膜積層體的一個例子是偏光板製造裝置。此偏光板製造裝置,通常是在貼合輥1之外,尚具有偏光膜5、第1熱可塑性樹脂膜10、第2熱可塑性樹脂膜20等的原料膜(光學膜),以及通過貼合輥1之後用於搬送積層體及偏光板的搬送通路。搬送通路是如第1圖所示,可藉由支持或導引運行的膜的指導輥(搬送輥)30而構築。
偏光板製造裝置,係在偏光膜5與第1熱可塑性樹脂膜10之間、在偏光膜5與第2熱可塑性樹脂膜20之間,可以分別具備用於注入第1接著劑15、第2接著 劑25的第1接著劑注入裝置40、第2接著劑注入裝置41。但是並不侷限於此,接著劑的使用,可以使用塗布接著劑之裝置在偏光膜5的表面或熱可塑性樹脂膜的表面,或此等二者的膜進行。
又,在第1圖中,雖是表示在偏光膜5的兩面貼合熱可塑性樹脂膜之例子,但並不侷限於此等,也可以只在偏光膜5的單面貼合熱可塑性樹脂膜。又在偏光膜5的兩面積層熱可塑性樹脂膜之情形,可以只在一方的熱可塑性樹脂膜與偏光膜5之間使用接著劑,而在另一方的熱可塑性樹脂膜與偏光膜5之間不使用接著劑。
偏光板製造裝置,通常是具備使通過貼合輥1之後的具有接著劑層的積層體乾燥用或硬化用的手段。作為該手段者,可以列舉:加熱乾燥裝置、紅外線光束、活性能量線照射裝置等。
偏光板製造裝置可以具備用於檢知貼合輥1的表面(表面橡膠層的表面)可能產生的變形或可能附著的雜質之手段。作為該手段者,可以列舉:用於取得貼合輥1的表面畫像之畫像取得/畫像處理裝置,及因應必要付隨於該裝置之用於照亮貼合輥表面的照明裝置。
偏光板製造裝置可具備:將隔著構成偏光板的複數片光學膜之間(例如,上述的偏光膜5與熱可塑性樹脂膜之間)的接著劑使用量進行光學檢查用的手段。作為該手段者,可以列舉:在積層體剛要通過一對輥間之前,於複數片光學膜之間(例如,偏光膜5與熱可塑性樹脂膜之 間),以光學檢測接著劑的積液的寬(積液與空氣之界面位置),檢查接著劑的使用量是否適當之裝置(例如,使用照射測定光而檢測出其透過光等的光學方法而檢測上述寬(界面位置),檢查接著劑的使用量是否適當的裝置);通過一對輥間之後對積層體所具有的接著劑層厚度以光學測定,檢查接著劑的使用量是否適當之裝置(例如,使用紅外線等測定上述厚度,檢查接著劑的使用量是否適當的裝置)。
偏光板製造裝置可以具備,對構成偏光板的複數片光學膜之間(例如,上述的偏光膜5與熱可塑性樹脂膜之間)夾著的黏著劑之使用量進行光學檢查用的手段。作為該手段者,可列舉:在積層體剛要通過一對輥間之前,以光學檢知存在於複數片光學膜之間(例如,偏光膜5與熱可塑性樹脂膜之間)的黏著劑的積液的寬度(積液與空氣的界面位置),檢查黏著劑的使用量是否適當的裝置(例如,使用照射測定光並檢出其透過光等的光學方法而檢知上述寬度(界面位置),檢查黏著劑的使用量是否適當的裝置);以光學測定通過一對輥間之後的積層體所具有的黏著劑層厚度,檢查黏著劑的使用量是否適當的裝置(例如,使用紅外線等測定上述厚度,檢查黏著劑的使用量是否適當的裝置)。
偏光板製造裝置可以含有:選自用於檢知在貼合輥1的表面(表面橡膠層的表面)可能產生的變形或可能附著的雜質之手段、用於檢查構成偏光板的複數片光 學膜之間夾者的接著劑之使用量的手段及用以檢查構成偏光板的複數片光學膜之間夾著的黏著劑使用量之手段所組成群組中1種以上的手段。
偏光板製造裝置,也可以復含有:用於在偏光板積層其他光學構材(其他的光學膜、黏著劑層、保護膜等)的裝置,用於捲取偏光板製品的捲取機等。
本發明相關之光學膜積層體的製造方法,其特徵是含有藉由使複數片光學膜隔著接著劑及/或黏著劑而積層的積層體,通過一對輥之間而按壓的步驟,而該一對的輥是上述的本發明相關之貼合輥1。
例舉作為光學膜積層體的製造方法之一例的偏光板之製造方法。偏光板的製造方法,係含有藉由將偏光膜5與熱可塑性樹脂膜隔著接著劑及/或黏著劑所積層的積層體,通過一對的輥之間而按壓的步驟,其特徵是該一對的輥是上述本發明相關的貼合輥1。如上文之說明,偏光板的製造方法中的上述積層體,例如是可以具有:第1熱可塑性樹脂膜10/第1接著劑15的層/偏光膜5/第2接著劑25的層/第2熱可塑性樹脂膜20的層構成(層構成1)。但是,上述積層體的層構成,也可以是由層構成1省略第1熱可塑性樹脂膜10及第1接著劑15的層之構成,也可以是由層構成1省略第2熱可塑性樹脂膜20及第2接著劑25的層之構成。又上述積層體的層構成,也可以是由層構 成1省略第1接著劑15的層或第2接著劑25的層之構成。
在上述按壓步驟中,賦予積層體的壓力(捏壓),例如是0.3至3MPa,宜為0.5至2MPa。
偏光板的製造方法,可以復含有選自:檢查貼合輥1的表面狀態之步驟、檢查接著劑的使用量之步驟及檢查黏著劑的使用量之步驟所組成群組中1種以上的步驟。檢查貼合輥1的表面狀態之步驟,具體而言,係基於對貼合輥1的表面(表面橡膠層的表面),有無凸凹等的變形或微小附著雜質之存在,以目視或藉由CCD照像機等取得之畫像等而檢查之步驟。依據使用本發明相關貼合輥1的偏光板之製造方法,即可可以容易且精度良好地進行此種檢查。
作為檢查接著劑的使用量之步驟,可以例舉以光學檢查接著劑的使用量之步驟。接著劑的使用量以光學檢查之步驟的具體例,係含有:在積層體剛要通過一對輥間之前,以光學檢知存在於複數片光學膜之間(例如,偏光膜5與熱可塑性樹脂膜之間)的接著劑之積液的寬度(積液與空氣之界面位置),而檢查接著劑的使用量是否適當的步驟(例如,使用照射測定光而檢出其透過光等的光學方法檢知上述寬度(界面位置),檢查接著劑的使用量是否適當的步驟);以光學測定通過一對的輥間之後的積層體所具有的接著劑層厚度,檢查接著劑的使用量是否適當的步驟(例如使用紅外線等測定上述厚度,檢查接著劑的使用量是否適當之步驟)。根據使用本發明相關的貼合輥1之偏光 板的製造方法,可以容易且精度良好地進行此種檢查。
作為檢查黏著劑的使用量之步驟,可以例舉,以光學檢查黏著劑的使用量之步驟。以光學檢查黏著劑的使用量之步驟的具體例,係含有:在積層體剛要通過一對的輥間之前,以光學檢知複數片光學膜之間(例如,偏光膜5與熱可塑性樹脂膜之間)的黏著劑積液之寬度(積液與空氣之界面位置),檢查黏著劑的使用量是否適當之步驟(例如,使用測定光照射檢知其透過光等的光學方法而檢知上述寬度(界面位置),檢查黏著劑的使用量是否適當之步驟);以光學測定通過一對的輥間之後的積層體所具有的黏著劑層厚度,檢查黏著劑的使用量是否適當之步驟(例如,使用紅外線等測定上述厚度,檢查黏著劑的使用量是否適當之步驟)。依據使用本發明相關的貼合輥1之偏光板的製造方法,可以容易且精度良好地進行此種檢查。
其次,說明有關偏光膜5、第1熱可塑性樹脂膜10、第2熱可塑性樹脂膜20、第1接著劑15以及第2接著劑25。
偏光膜5,可以是在單軸延伸的聚乙烯醇系樹脂膜吸著配向二色性色素者。作為構成聚乙烯醇系樹脂膜之聚乙烯醇系樹脂,可以使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂經過皂化者。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂,除了乙酸乙烯酯的單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯以外,可以例示乙酸乙烯酯與可能與 其共聚合之其他單體的共聚合物。作為可能與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體,例如,可以列舉:不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度,雖可以是80.0至100.0莫耳%的範圍,但宜為90.0至100.0莫耳%的範圍,更宜為98.0至100.0莫耳%的範圍。皂化度未達80.0莫耳%時,得到的偏光板之耐水性及耐濕熱性會下降。
皂化度是以下述式來定義:皂化度(莫耳%)=100×(羥基數)/(羥基數+乙酸基數)
皂化度是根據JIS K 6726(1994)而可以求得。皂化度較高,則顯示羥基的比率高,從而表示阻害結晶化的乙酸基的比率低。
聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度,宜為100至10000,較宜為1500至8000,更宜為2000至5000。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度也可根據JIS K 6726(1994)而求得。平均聚合度未達100則難以得到理想的偏光性能,超過10000,則對溶媒的溶解性會變差,聚乙烯醇系樹脂膜的形成會變得困難。
在偏光膜5中所含有(吸著配向)的二色性色素,可以是碘或二色性有機染料。二色性有機染料的具體例,包含:紅BR、紅LR、紅R、粉紅LB、紅寶石BL、棗紅GS、天藍LG、檸檬黃、藍BR、藍2R、海軍藍RY、綠LG、紫LB、紫B、黑H、黑B、黑GSP、黃3G、黃R、 橘LR、橘3R、猩紅GL、猩紅KGL、剛果紅、亮紫BK、超藍G、超藍GL、超橘GL、直接天藍、直接第一橘S、第一黑。二色性色素,也可以只使用單獨1種,也可以併用2種以上。二色性色素宜為碘。
偏光膜5的厚度,通常是2至40μm左右。從偏光板的薄膜化觀點而言,偏光膜5的厚度,宜為20μm以下,較宜為15μm以下,更宜為10μm以下。
第1熱可塑性樹脂膜10以具有透光性的熱可塑性樹脂,宜為光學透明的熱可塑性樹脂所構成之膜。構成第1熱可塑性樹脂膜10的熱可塑性樹脂,例如可以是:鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、如環狀聚烯烴系樹脂(聚降冰片烯系樹脂等)的聚烯烴系樹脂;如三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素的纖維素系樹脂;如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯的聚酯系樹脂;如聚碳酸酯系樹脂;甲基丙烯酸甲酯系樹脂的(甲基)丙烯酸系樹脂;聚苯乙烯系樹脂;聚氯化乙烯系樹脂;丙烯腈/丁二烯/苯乙烯系樹脂;丙烯腈/苯乙烯系樹脂;聚乙酸乙烯酯系樹脂;聚偏二氯乙烯系樹脂;聚醯胺系樹脂;聚縮醛系樹脂;改質聚苯醚系樹脂;聚碸系樹脂;聚醚碸系樹脂;聚芳酯系樹脂;聚醯胺醯亞胺系樹脂;聚醯亞胺系樹脂等。
又,在本說明書中「(甲基)丙烯酸系樹脂」是表示選自丙烯酸系樹脂及甲基丙烯酸系樹脂所組成群組 中的至少1種。其他附有「(甲基)」之用語也是同樣意思。
作為鏈狀聚烯烴系樹脂,除了如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂的鏈狀烯烴之單獨聚合物之外,尚可以列舉:由2種以上的鏈狀烯烴所成之共聚合物。更具體的例子,係包含:聚丙烯系樹脂(為丙烯的單獨聚合物之聚丙烯樹脂,或以丙烯為主體之共聚合物)、聚乙烯系樹脂(為乙烯的單獨聚合物之聚乙烯樹脂,或以乙烯作為主體之共聚合物)。
環狀聚烯烴系樹脂,係將環狀烯烴當作聚合單元而聚合的樹脂之總稱。例舉環狀聚烯烴系樹脂的具體例,其為環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯類鏈狀烯烴之共聚合物(代表的是無規共聚合物)、及將此等以不飽和羧酸或其衍生物改質的接枝聚合物、以及此等的氫化物等。其中,以使用降冰片烯或多環降冰片烯系單體等的降冰片烯系單體作為環狀烯烴之降冰片烯系樹脂為合適。
纖維素系樹脂是指,在由綿花短絨或木漿(闊葉樹樹漿、針葉樹樹漿)等的原料纖維素得到的纖維素之羥基中,氫原子的一部份或全部經乙醯基、丙醯基及/或丁醯基取代,稱為纖維素有機酸酯或纖維素混合有機酸酯者。例如,可以列舉:由纖維素的乙酸酯、丙酸酯、酪酸酯、及此等的混合酯等所構成者。其中,以三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯為佳。
聚酯系樹脂,係具有酯結合,除了上述纖維素系樹脂之外的樹脂,一般是由多價羧酸或其衍生物與多價醇的縮聚物所構成。多價羧酸或其衍生物可以使用2價的二羧酸或其衍生物,例如可以列舉:對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯等。多價醇可以使用2價的二醇,例如可以列舉:乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇等。適合的聚酯系樹脂的例子,係含有聚對苯二甲酸乙二酯。
聚碳酸酯系樹脂,係由單體單元隔著碳酸根基結合的聚合物所構成的工程塑膠,係具有高的耐衝擊性、耐熱性、難燃性、透明性的樹脂。聚碳酸酯系樹脂可以是為了降低光彈性係數,而聚合物骨架經修飾之稱為改質聚碳酸酯的樹脂,或也可以是經改良波長依存性的共聚合聚碳酸酯等。
(甲基)丙烯酸系樹脂是含有源自(甲基)丙烯酸系單體的結構單元之聚合物。該聚合物,典型的是含有甲基丙烯酸酯之聚合物。宜為,相對於全結構單元,含有源自於甲基丙烯酸酯之結構單元的比率為50重量%以上的聚合物。(甲基)丙烯酸系樹脂,也可以是甲基丙烯酸酯的單獨聚合物,也可以是含有源自於其他聚合性單體的結構單元之共聚合物。此情形,源自於其他聚合性單體之結構單元的比率,宜為,相對於全結構單元,為50重量%以下。
作為可以構成(甲基)丙烯酸系樹脂的甲基 丙烯酸酯者,係以甲基丙烯酸烷酯為佳。作為甲基丙烯酸烷酯者,可以列舉:如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯之烷基的碳數為1至8之甲基丙烯酸烷酯。甲基丙烯酸烷酯中所含的烷基碳原子數,宜為1至4。(甲基)丙烯酸系樹脂中,甲基丙烯酸酯可以只使用單獨1種,也可以是併用2種以上。
作為可以構成(甲基)丙烯酸系樹脂的上述其他聚合性單體者,可以列舉:丙烯酸酯,及其他分子內具有聚合性碳原子-碳原子雙鍵之化合物。其他的聚合性單體可以只使用單獨1種,也可以併用2種以上。作為丙烯酸酯者,係以丙烯酸烷酯為佳。作為丙烯酸烷酯者,可以列舉:如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸2-羥基乙酯的烷基之碳原子數為1至8的丙烯酸烷酯等。丙烯酸烷酯中含有的烷基之碳原子數,宜為1至4。(甲基)丙烯酸系樹脂中,丙烯酸酯可以只使用單獨1種,也可以併用2種以上。
作為其他分子內具有聚合性碳原子-碳原子雙鍵之化合物者,可以列舉:乙烯、丙烯、苯乙烯等的乙烯系化合物,或如丙烯腈的乙烯氰化合物。其他分子內具 有聚合性碳原子-碳原子雙鍵之化合物,可以只使用單獨1種,也可以併用2種以上。
第1熱可塑性樹脂膜10,可為貼合積層在偏光膜5的一面,用以保護偏光膜5的保護膜,或用以暫時保護偏光膜5的表面之假保護膜。為假保護膜的第1熱可塑性樹脂膜10,係在構築偏光板之後,於所期望的時期剝離除去。又,第1熱可塑性樹脂膜10,也可以是兼具如相位差膜、亮度提昇膜的光學機能之保護膜。例如,藉由延伸(單軸延伸或雙軸延伸等)由上述材料所構成的熱可塑性樹脂膜,或在該膜上形成液晶層等,可以作成賦予任意相位差值的相位差膜。第1熱可塑性樹脂膜10亦可具有積層在其表面上的硬塗層、防眩層、反射防止層、帶電防止層、防污層等的表面處理層(塗布層)。
第1熱可塑性樹脂膜10的厚度通常雖是1至100μm,但從強度或處理性等的觀點而言,係以5至60μm為佳,以5至40μm為更佳。
第2熱可塑性樹脂膜20是與第1熱可塑性樹脂膜10同樣,為具有透光性之熱可塑性樹脂,宜為以光學透明的熱可塑性樹脂所構成。有關可以構成第2熱可塑性樹脂膜20的熱可塑性樹脂之具體例者,也可以引用第1熱可塑性樹脂膜10之相關記述者。
第2熱可塑性樹脂膜20,係與第1熱可塑 性樹脂膜10同樣,可以為保護膜、假保護膜、或兼具如相位差膜、亮度提昇膜的光學機能之保護膜。第2熱可塑性樹脂膜20也可具有積層在其表面的硬塗層、防眩層、反射防止層、帶電防止層、防污層等的表面處理層(塗布層)。第2熱可塑性樹脂膜20的厚度,雖通常是1至100μm,但從強度或處理性等的觀點而言,係以5至60μm為佳,以5至40μm為更佳。
第1熱可塑性樹脂膜10與第2熱可塑性樹脂膜20,在其材質(構成膜的熱可塑性樹脂之種類)、膜的厚度、可以附設在膜表面之表面處理層(塗布層)的有無等,可以是相同,也可以是相異。
作為第1接著劑15、第2接著劑25者,可以使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑或熱硬化性接著劑,宜為水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。第1接著劑15與第2接著劑25,也可以是同種的接著劑,也可以是異種的接著劑。
水系接著劑,係將接著劑成分在水中溶解或在水中分散者。較佳所用之水系接著劑,例如是,使用以聚乙烯醇系樹脂或胺酯樹脂作為主成分的接著劑組成物。
使用作為接著劑的主成分的聚乙烯醇系樹脂之情形,該聚乙烯醇系樹脂,除了如部分皂化聚乙烯醇、 完全皂化聚乙烯醇類的聚乙烯醇樹脂之外,也可以是,羧基改質聚乙烯醇、乙醯乙醯基改質聚乙烯醇、羥甲基改質聚乙烯醇、胺基改質聚乙烯醇類的經改質之聚乙烯醇系樹脂。聚乙烯醇系樹脂,除了將為乙酸乙烯酯單獨聚合物之聚乙酸乙烯酯加以皂化處理而得到的乙烯醇均聚物之外,也可以是將乙酸乙烯酯與可與其共聚合的其他單體之共聚合物加以皂化處理而得到的聚乙烯醇系共聚合物。
將聚乙烯醇系樹脂當作接著劑成分之水系接著劑,通常是聚乙烯醇系樹脂的水溶液。接著劑中之聚乙烯醇系樹脂的濃度,相對於水100重量份,通常是1至10重量份,宜為1至5重量份。
由聚乙烯醇系樹脂的水溶液所構成的接著劑,為了提高接著性,係以含有如多價醛、美耐皿系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物、乙二醛、乙二醛衍生物、水溶性環氧樹脂類的硬化性成分或交聯劑為佳。作為水溶性環氧樹脂者,例如,可以適合使用:將二乙三胺、三乙四胺等的多乙基多胺,與己二酸等的二羧酸反應所得到的多醯胺胺,再與環氧氯丙烷反應而得到的聚醯胺多胺環氧樹脂。作為相關的聚醯胺多胺環氧樹脂的市售品,可以列舉:「Sumirez Resin 650」(田岡化學工業(股)製)、「Sumirez Resin 675」(田岡化學工業(股)製)、「WS-525」(日本PMC(股)製)等。此等硬化性成分或交聯劑的添加量(硬化性成分及交聯劑一起添加之情形為其合計量),相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份,通常是1至100重量份,宜為1至50重量 份。上述硬化性成分或交聯劑的添加量,相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份,在未達1重量份時,接著性提昇的效果會有變小之傾向,又,該添加量,相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份,在超過100重量份的情形,接著劑層會有變脆的傾向。
又,使用胺酯樹脂作為接著劑主成分的情形之適當例子,可以列舉:聚酯系離子聚合型胺酯樹脂與具有縮水甘油氧基之化合物的混合物。聚酯系離子聚合型胺酯樹脂,係具有聚酯骨架之胺酯樹脂,在其中導入少量的離子性成分(親水成分)者。該離子聚合型胺酯樹脂,由於不使用乳化劑而直接在水中乳化而成為乳液,而適合作為水系的接著劑。
活性能量線硬化性接著劑,係藉由如紫外線、可視光、電子線、X線的活性能量線之照射而硬化的接著劑。使用活性能量線硬化性接著劑的情形,偏光板等的光學膜積層體所具有之接著劑層,係該接著劑的硬化物層。
活性能量線硬化性接著劑,可以是含有藉由陽離子聚合而硬化之環氧系化合物作為硬化性成分之接著劑,宜為含有該環氧系化合物作為硬化性成分之紫外線硬化性接著劑。在此所謂的環氧系化合物,係意指在分子內具有平均1個以上,宜為2個以上的環氧基之化合物。環氧系化合物,可以只使用1種,也可以併用2種以上。
可以適合使用的環氧系化合物之具體例, 係包含:使芳香族多醇的芳香環進行氫化反應所得到的脂環式聚醇,與環氧氯丙烷反應而得到的氫化環氧系化合物(具有脂環式環之多醇縮水甘油醚);脂肪族多價醇或其環氧烷加成物的聚縮水甘油醚等之脂肪族環氧系化合物;在分子內具有1個以上與脂環式環結合的環氧基的環氧系化合物之脂環式環氧系化合物。
活性能量線硬化性接著劑可以含有自由基聚合性的(甲基)丙烯酸系化合物來取代上述環氧系化合物,或同時含有彼等作為硬化性成分。作為(甲基)丙烯酸系化合物者,可以列舉:在分子內至少具有1個(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯單體;2種以上含有官能基之化合物反應而得到,在分子內至少有2個(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯寡聚物等的含有(甲基)丙烯醯氧基之化合物。
活性能量線硬化性接著劑在含有會因為陽離子聚合而硬化的環氧系化合物作為硬化性成分時,以含有光陽離子聚合起始劑者為佳。作為光陽離子聚合起始劑者,例如,可以列舉:芳香族重氮鹽;芳香族錪鹽或芳香族鎏鹽等的鎓鹽;鐵-芳烴錯合物等。又,活性能量線硬化性接著劑含有如(甲基)丙烯酸系化合物的自由基聚合性硬化性成分時,係以含有光自由基聚合起始劑為佳。作為光自由基聚合起始劑者,例如,可以列舉:苯乙酮系起始劑、二苯甲酮系起始劑、苯偶姻醚系起始劑、噻噸酮系起始劑、呫噸酮、芴酮、樟腦醌、苯甲醛、蒽醌等。
在偏光膜5隔著接著劑貼合熱可塑性樹脂膜之前,可在偏光膜5及/或熱可塑性樹脂膜的貼合面,進行如電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火熖(flame)處理、皂化處理的表面活性化處理。藉由在此表面活性化處理,可以提高偏光膜5與熱可塑性樹脂膜的接著性。
本發明相關的貼合輥,係為了貼合複數片光學膜而使用者。於上述,複數片光學膜是包含偏光膜與熱可塑性樹脂膜(偏光膜以外的熱可塑性樹脂膜),雖以光學膜積層體為偏光板的情形為主加以說明,但並不侷限於此等,複數片光學膜也可以是偏光膜與熱可塑性樹脂膜的組合以外的光學膜組合。例如,複數片光學膜,也可以是任一者都不是偏光膜的2個以上的光學膜。偏光膜之外的光學膜,也可以是偏光膜之外的熱可塑性樹脂。藉由貼合輥貼合的光學膜數是2以上,通常是2或3左右。
作為偏光膜之外的光學膜者,例如可以列舉:相位差膜、亮度提昇膜等的光學機能性膜;分離膜;保護膜等。
分離膜係用於保護黏著劑層的表面而貼合之膜。分離膜通常是以在單面經實施離型處理的熱可塑性樹脂膜所構成,此離型處理面是貼合在黏著劑層上。構成分離膜的熱可塑性樹脂,例如可以是如聚乙烯的聚乙烯系樹脂、如聚丙烯的聚丙烯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯或 聚萘二甲酸乙二酯的聚酯系樹脂等。分離膜的厚度例如是10至100μm。
保護膜通常是基材膜與在其上積層的黏著劑層所構成。保護膜係用於保護其他光學膜表面的膜。基材膜是熱可塑性樹脂,例如可由:聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂等的聚烯烴系樹脂;聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;(甲基)丙烯酸系樹脂等所構成。黏著劑層可以是由丙烯酸系黏著劑、環氧系黏著劑、胺酯系黏著劑及矽氧系黏著劑等而構成。又,保護膜也可以是以聚丙烯系樹脂、聚乙烯系樹脂等具有自己黏著性的樹脂層所構成。
藉由貼合輥所貼合的複數片光學膜之中,至少1個光學膜是其自身,也可以是光學膜的積層體。作為膜積層體者,可以列舉:含有偏光膜與熱可塑性樹脂膜之偏光板。例如,藉由使屬於偏光板的光學膜、與黏著劑層及分離膜的積層體通過貼合輥,可以具得到有偏光板/黏著劑層/分離膜的層構成之光學膜積層體。又例如,藉由使屬於偏光板的光學膜、與屬於黏著劑層及基材膜的積層體之保護膜通過貼合輥,可以得到具有偏光板/黏著劑層/基材膜的層構成之光學膜積層體。
如上述,在通過貼合輥之積層體中,欲貼合的複數片光學膜,也可以隔著接著劑及/或黏著劑而積層。接著劑的例子是如上述。作為黏著劑者,可以列舉:以如(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺酯系、酯系、矽氧系、 聚乙烯醚系的樹脂當作主成分(基礎聚合物)之黏著劑組成物。其中,以將透明性、耐候性、耐熱性等優良的(甲基)丙烯酸系樹脂當作基礎聚合物之黏著劑組成物是適合者。黏著劑組成物可以是活性能量線硬化型,也可以是熱硬化型。
作為在黏著劑組成物中使用的(甲基)丙烯酸系樹脂者,例如,係以使用如(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯類(甲基)丙烯酸酯的1種或2種以上作為單體之聚合物或共聚合物為合適。在(甲基)丙烯酸系樹脂中,係以將極性單體共聚合為佳。作為極性單體者,例如,可以列舉:如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯。(甲基)丙烯酸縮水甘油酯類具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等之單體。
黏著劑組成物雖也可以是只含有上述基礎聚合物者,但通常可進一步含有交聯劑。作為交聯劑者,係例示:2價以上的金屬離子,其與羧基之間形成羧酸金屬鹽者;聚胺化合物,其與羧基之間形成醯胺結合者;聚環氧化合物或聚醇,其與羧基之間形成酯結合者;聚異氰酸酯化合物,其與羧基之間形成醯胺結合者。其中,以聚異氰酸酯化合物為佳。
活性能量線硬化型黏著劑組成物,係具有接受如紫外線或電子線的活性能量線的照射而硬化之性 質,且在活性能量線照射前亦具有黏著性而可以密著在膜等的被著體,及具有藉由活性能量線的照射而硬化之可以調整密著力的性質之黏著劑組成物。活性能量線硬化型黏著劑組成物,係以紫外線硬化型為佳。活性能量線硬化型黏著劑組成物,除了基礎聚合物、交聯劑之外,可以進一步含有活性能量線聚合性化合物。又,因應必要,也含有光聚合起始劑或光增感劑等。
黏著劑組成物可以含有:為了賦予光散射性的微粒子、珠粒(樹脂珠粒、玻璃珠粒等)、玻璃纖維、基礎聚合物之外的樹脂、黏著性賦予劑、充填劑(金屬粉或其他的無機粉末等)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、腐蝕防止劑、光聚合起始劑、溶劑等的添加劑。
以下,雖例示實驗例更具體的說明本發明,但本發明是不被此等例示所限定者。又,以下的例示中,表面橡膠層的視感反射率RSCI、硬度及彈性回復率、碳黑的算術平均粒徑及容積密度,係根據以下的方法而測定。
使用分光測色計(日本Konicaminolta(股)公司製的「CM2002」),根據上述的方法而測定。作為測定樣品者,係使用具有表面橡膠層的輥其本體。測定溫度是設為23℃。
根據JIS K 6253-3:2012,使用A型Durometer硬度試驗機(日本Aska公司製的橡膠硬度計「Type-A」),測定在溫度23℃,相對濕度50%的硬度。
使用微小硬度計(日本Fischer儀器(股)公司製的「FISCHER SCOPE HM 2000」),在溫度23℃,相對濕度50%測定。作為測定樣品者,係使用與具有表面橡膠層的輥的表面橡膠層相同材質之評估用樣品。測定是將正四角錐的維氏(Vickers)壓頭(鑽石製,對面角136°),對著評估用樣品以壓入速度100μm/10s自表面壓入,達到最大壓入深度100μm後,以壓入維氏壓頭狀態的負重保持10秒鐘,之後以回復速度5μm/10s將維氏壓頭自評估用樣品表面除去之際,使用微小硬度計附屬的解析程序(日本Fischer儀器(股)公司製的「WIN-HCU」)由試驗負重與壓入深入而求得。具體而言,將維氏壓頭按壓到評估用樣品時的壓入深度(h),與所觀測的試驗負重大小(F)之關係以曲線圖表示時,成為如第3圖所示。在此橫軸的h是表示維氏壓頭的高度中,在評估用樣品中壓入部分的長度。自測定開始點t0,壓入維氏壓頭經過t1到t2為止,之後,解除壓入時來到t3。在此,圍著t0至t3的各點區域是塑性變形的工作量(Wp),在解除壓入時經緩和時產生的t2-t3線與縱 軸平行的hhmax線與圍繞橫軸之區域是彈性變形的工作量(We)。此時的彈性回復率,係以彈性回復率(%)={Welast/(Welast+Wplast)}×100所定義之值。
使用電子顯微鏡(日本電子(股)製的「JSM-7500F」)並攝影,由得到的畫像,測定其中任意的100個粒子之粒徑,將其平均值當作算術平均粒徑。
碳黑的容積密度是根據JIS K 6219-2,在體積為785cm3的圓筒容器中注入樣品,藉由測定質量而求得。
準備具有表1所示結構的橡膠輥No.1至No.3。此等的橡膠輥係任一者都是直徑100mm,長度240mm的平輥,具有厚度8.5mm的表面橡膠層者。
No.1至No.3的橡膠輥所具有的表面橡膠層,含有作為橡膠成分的NBR與充填劑。No.1及No.2的表面橡膠層,係含有碳黑(CB),其含量是如表1所示。表1中記載的CB含量,係相對於橡膠成分100重量份之份數。在No.1及No.2使用的CB是相同者(算術平均粒徑:120nm,容積密度:440kg/m3)。No.3的表面橡膠層不含 碳黑,而係含有二氧化矽50重量份者。將表面橡膠層的視感反射率RSCI及硬度的測定結果在表1中表示。
關於No.1至No.3的橡膠輥,進行如次的變形確認容易性評估試驗。在橡膠輥的表面將5張厚度53μm的聚醯亞胺黏著膠帶(日東電工(股)製的「No.360A」)重疊貼合,形成高度265μm的段差,加上1MPa的一定應力,故意使表面橡膠層變形(形成凹陷)。剝除黏著膠帶,於照像燈(LPL(股)公司製的「VL-501」)的照明環境下,以目視確認加入變形1分鐘後的表面狀態。可以確認的是No.1及No.2的橡膠輥,極容易呈現凹陷。No.3的橡膠輥,相對於變形的凹陷,自垂直方向照射照明,可以認出稍微變形的程度,因此不能說是可以容易確認。
準備CB的含量是如表2所示之量(相對於橡膠成分100重量份之份數)的具有表面橡膠層之No.4至No.8的橡 膠輥,測定此等的表面橡膠層之硬度。將結果在表2中表示。此等的橡膠輥任一者都是直徑100mm,長度240mm的平輥,具有厚度8.5mm的表面橡膠層者。No.4至No.8使用的橡膠成分任一者都是NBR,CB也是相同者(算術平均粒徑:120nm,容積密度:440kg/m3)。No.4、No.5的橡膠輥,係分別與No.1、No.2的橡膠輥相同。
準備具有CB的算術平均粒徑是表3所示之值的表面橡膠層之No.9至No.12的橡膠輥,測定此等的表面橡膠層之彈性回復率。將結果在表3中表示。此等的任何一個橡膠輥都是直徑100mm,長度240mm的平輥,具有厚度8.5mm的表面橡膠層者。在No.9至No.12使用的橡膠成分,任一者都是NBR,CB的含量也是相同(相對於橡膠成分100重量份是50重量份)。
相對於NBR 100重量份,調配具有表4中所示的容積密度之CB60重量份,調製No.13至No.17的橡膠組成物,根據JIS K 6300-1:2013,測定溫度100℃之孟尼黏度(Mooney viscosity)。將結果在表4中表示。
1‧‧‧貼合輥
1a‧‧‧第1輥
1b‧‧‧第2輥
2a‧‧‧第1表面橡膠層
2b‧‧‧第2表面橡膠層
5‧‧‧偏光膜
10‧‧‧第1熱可塑性樹脂膜
15‧‧‧第1接著劑
20‧‧‧第2熱可塑性樹脂膜
25‧‧‧第2接著劑
30‧‧‧導引輥
40‧‧‧第1接著劑注入裝置
41‧‧‧第2接著劑注入裝置
Claims (12)
- 一種光學膜積層體的製造裝置,為製造包含複數片光學膜之光學膜積層體的裝置,前述製造裝置包含由第1輥及第2輥構成之為了貼合前述複數片光學膜而使用之貼合輥,前述第1輥及前述第2輥的至少一者,表面是以橡膠層所構成,前述橡膠層之以正反射光射入方式所測定的視感反射率RSCI是10%以下,根據JIS K 6253-3:2012所測得之硬度計(Durometer)A型硬度是在80°以上,前述橡膠層含有橡膠成分與碳黑,前述碳黑的算術平均粒徑是65nm以上。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學膜積層體的製造裝置,其中,相對於前述橡膠成分100重量份,前述碳黑的含量係40至100重量份。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜積層體的製造裝置,其中,根據JIS K 6253-3:2012所測得之硬度計(Durometer)A型硬度超過85°。
- 一種光學膜積層體的製造裝置,為製造包含複數片光學膜之光學膜積層體的裝置,前述製造裝置包含由第1輥及第2輥構成之為了貼合前述複數片光學膜而使用之貼合輥,前述第1輥及前述第2輥的至少一者,表面是以橡膠層所構成,前述橡膠層之以正反射光射入方式所測定的視感 反射率RSCI是10%以下,根據JIS K 6253-3:2012所測得之硬度計(Durometer)A型硬度超過85°,前述橡膠層含有橡膠成分與碳黑,相對於前述橡膠成分100重量份,前述碳黑的含量係65至100重量份。
- 如申請專利範圍第4項所述之光學膜積層體的製造裝置,其中,前述碳黑的算術平均粒徑是60nm以上。
- 如申請專利範圍第1、2、4及5項中任一項所述之光學膜積層體的製造裝置,其中,前述碳黑的容積密度是400kg/m3以上。
- 如申請專利範圍第1、2、4及5項中任一項所述之光學膜積層體的製造裝置,其中,前述複數片光學膜是含有偏光膜與熱可塑性樹脂膜。
- 如申請專利範圍第1、2、4及5項中任一項所述之光學膜積層體的製造裝置,其中,前述光學膜積層體是含有偏光膜與熱可塑性樹脂膜之偏光板。
- 一種光學膜積層體的製造方法,係含有:使由複數片光學膜隔著接著劑及/或黏著劑所積層而成的積層體,通過一對輥之間藉此進行按壓之步驟,前述之一對輥由第1輥及第2輥構成,係為了貼合前述複數片光學膜而使用之貼合輥,前述第1輥及前述第2輥的至少一者,表面是以橡膠層所構成,前述橡膠層之以正反射光射入方式所測定的視感反射率RSCI是10%以下,根據JIS K 6253-3:2012所測 得之硬度計A型硬度是在80°以上,前述橡膠層含有橡膠成分與碳黑,前述碳黑的算術平均粒徑是65nm以上。
- 一種光學膜積層體的製造方法,係含有:使由複數片光學膜隔著接著劑及/或黏著劑所積層而成的積層體,通過一對輥之間藉此進行按壓之步驟,前述之一對輥由第1輥及第2輥構成,係為了貼合前述複數片光學膜而使用之貼合輥,前述第1輥及前述第2輥的至少一者,表面是以橡膠層所構成,前述橡膠層之以正反射光射入方式所測定的視感反射率RSCI是10%以下,根據JIS K 6253-3:2012所測得之硬度計(Durometer)A型硬度超過85°,前述橡膠層含有橡膠成分與碳黑,相對於前述橡膠成分100重量份,前述碳黑的含量係65至100重量份。
- 如申請專利範圍第9或10項所述之製造方法,其中,前述積層體是含有偏光膜,與隔著接著劑積層在前述偏光膜上的熱可塑性樹脂膜。
- 如申請專利範圍第9或10項所述之製造方法,更含有選自由下列步驟所組成群組中之1個以上的步驟:檢查前述貼合輥的表面狀態之步驟、檢查前述接著劑的使用量之步驟及檢查前述黏著劑的使用量之步驟。
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