TWI707165B - 偏光板 - Google Patents

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TWI707165B
TWI707165B TW105142054A TW105142054A TWI707165B TW I707165 B TWI707165 B TW I707165B TW 105142054 A TW105142054 A TW 105142054A TW 105142054 A TW105142054 A TW 105142054A TW I707165 B TWI707165 B TW I707165B
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宮本浩史
松本寿和
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明之目的在於提供一種起因於偏光片及反射型偏光板的收縮之翹曲受到抑制的偏光板。本發明之又一目的在於例如提供一種液晶單元貼合於玻璃面板的黏著劑之凝集破壞亦受到抑制的偏光板。
本發明之偏光板係依序積層有反射型偏光板、第1黏著劑層、偏光片、保護膜及第2黏著劑層，其中，從前述反射型偏光板之第1黏著劑層側表面至前述第2黏著劑層之與前述保護膜為相反側之表面為止的層間厚度為60μm以下，前述保護膜在85℃的拉伸彈性率為2500MPa以下。

Description

偏光板
本發明係關於可使用在各式各樣之光學用途的偏光板。
隨著對偏光板之薄膜化要求，係研究將通常貼合於偏光片之兩面的由透明樹脂所構成之保護膜僅配置於偏光片之單側。
例如，在專利文獻1係揭示一種積層有液晶單元之基板、黏著劑層及偏光片之液晶面板。
而且，為了滿足對偏光板之薄膜化要求，例如，正在開發一種依序積層有第一感壓接著劑層、透明保護膜、偏光片、第二感壓接著劑層及透明塑膠基板之偏光板(專利文獻2)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2006-292939號公報
[專利文獻2]日本特開2010-39458號公報
具有上述構造之偏光板，其構成上係易朝正捲曲方向(端部浮起之方向)變化。例如，若偏光板曝露在高溫條件下，特別是反覆曝露在高溫、低溫之條件下(以下，有稱為冷熱循環環境下之情形)，在偏光片及反射型偏光板會產生收縮。再者，由於此等之收縮，在保護膜會產生翹曲。尚且，貼合於玻璃面板之對面板黏膠係在朝向反射型偏光板翹曲之力、與黏著劑和玻璃面板之接著力朝相反方向作用之條件下被賦予，故會導致在對面板黏膠產生凝集破壞。若於對面板黏膠產生凝集破壞，則對面板黏膠之一部分殘存於保護膜，其餘殘存於玻璃面板，不僅對外觀造成不良影響，組入於液晶顯示裝置時，在液晶顯示裝置之端部產生光洩漏，顯示之品質降低。
因此，尋求抑制因偏光片及反射型偏光板之收縮所引起的保護膜等的翹曲，且進一步抑制對面板黏膠之凝集破壞，但在以往之保護膜使用纖維素樹脂膜之構成係會產生上述之問題，而為不充分。
是以，本發明之目的在於提供一種因偏光片及反射型偏光板之收縮所引起的翹曲受到抑制之偏光板。本發明之又一目的在於提供一種例如液晶單元貼合於玻璃面板之黏著劑層的凝集破壞亦受到抑制之偏光板。
本發明係包括以下所述者。
[1]一種偏光板，其係依序積層有反射型偏光板、第1黏著 劑層、偏光片、保護膜及第2黏著劑層，從前述反射型偏光板之第1黏著劑層側表面至前述第2黏著劑層之與前述保護膜為相反側之表面為止的層間厚度為60μm以下，前述保護膜在85℃的拉伸彈性率為2500MPa以下。
[2]如[1]記載之偏光板，其中，前述保護膜係環狀聚烯烴系樹脂膜。
[3]如[1]記載之偏光板，其中，前述保護膜係丙烯酸系樹脂膜。
[4]如[1]至[3]中任一項記載之偏光板，其中，前述第1黏著劑層之厚度係20μm以下。
[5]如[1]至[4]中任一項記載之偏光板，其中，前述第2黏著劑層在80℃之儲存彈性率為0.025MPa以上，且厚度為10至30μm。
[6]如[1]至[5]中任一項記載之偏光板，其中，前述偏光片之厚度為10μm以下。
[7]如[1]至[6]中任一項記載之偏光板，其中，前述反射型偏光板具有至少2層之薄膜，前述至少2層之薄膜之折射率異向性係相異。
依據本發明，可獲得薄型之偏光板。而且，即使偏光板曝露在高溫條件下，特別是曝露在冷熱循環環境下之時，仍可抑制偏光板之翹曲，且可進一步抑制第2黏著劑層之凝集破壞。
11‧‧‧偏光片
12‧‧‧反射型偏光板
13‧‧‧第1黏著劑層
22‧‧‧保護膜
23‧‧‧第2黏著劑層
24‧‧‧基材
100‧‧‧偏光板
D‧‧‧層間厚度
第1圖係例示本發明之偏光板中之較佳的層構成之概略剖面圖。
第2(A)圖係在偏光板中朝正捲曲方向產生翹曲時的概略剖面圖。第2(B)圖係在偏光板中朝正捲曲方向產生翹曲時，從反射型偏光板12側觀察偏光板之顯微鏡照片。
以下，使用適當圖式說明本發明之偏光板，但本發明不限定於此等實施形態。
本發明之偏光板，係依序積層有反射型偏光板、第1黏著劑層、偏光片、保護膜及第2黏著劑層，從前述反射型偏光板之第1黏著劑層側表面至前述第2黏著劑層之與前述保護膜為相反側之表面為止的層間厚度為60μm以下，前述保護膜在85℃的拉伸彈性率為2500MPa以下。
本發明之偏光板係例如第1圖所示，為依序積層有反射型偏光板12、第1黏著劑層13、偏光片11、保護膜22、第2黏著劑層23之偏光板100。
本發明中之偏光板係從反射型偏光板之第1黏著劑層側表面至第2黏著劑層之與前述保護膜為相反側之表面為止的層間厚度(以下，亦有僅記載為「層間厚度」之情形)為60μm以下，較佳係55μm以下，更佳係47μm以下。從反射型偏光板之第1黏著劑層側表面至第2黏著劑層之與前述保護膜為相反側之表面為止之層間厚度的 下限值，較佳係20μm，更佳係30μm，特佳係40μm。
層間厚度較佳係20至60μm，更佳係20至55μm，再更佳係20至47μm。
在此，層間厚度係例如相當於第1圖中之層間厚度(D)。此情形下，層間厚度(D)相當於第1黏著劑層13、偏光片11、保護膜22及第2黏著劑層23之厚度的總計。
在第1圖中雖未顯示，但例如在第1圖所示之反射型偏光板12及第2黏著劑層23之間，亦可設有上述層以外之層。此時，新設的層之厚度亦包括在層間厚度中。而且，偏光片11及保護膜22通常係經由接著劑層貼合。該接著劑層之厚度亦可包括在層間厚度中。
本發明中之偏光板的層間厚度之測定，係可使用在該技術領域中公知之測定方法來進行。
在本發明之偏光板中，保護膜在85℃之拉伸彈性率係2500MPa以下，較佳係拉伸彈性率為2200MPa以下，更佳係1800MPa以下。
保護膜在85℃之拉伸彈性率通常為600MPa以上，較佳係1400MPa以上，更佳係1500MPa以上。
而且，較佳係保護膜在85℃之拉伸彈性率為600至2500MPa，更佳係1400至2200MPa，再更佳係1500至1800MPa。
在本發明之偏光板中，從反射型偏光板之第1黏著劑層側表面至前述第2黏著劑層之與前述保護膜 為相反側之表面為止之層間厚度，係包含於本案預定之範圍內，而且，保護膜在85℃之拉伸彈性率包含於本案預定之範圍內，藉此，例如偏光板即使曝露於高溫條件下，特別是曝露於冷熱循環環境下，仍可抑制反射型偏光板、第1黏著劑層、偏光片、保護膜以及第2黏著劑層之翹曲。其結果係可抑制偏光板全體之翹曲。
在此，所謂偏光板曝露在高溫條件下，意指例如偏光板在70℃至95℃之溫度曝露30至60分鐘。
又，若偏光板曝露在高溫條件下，反射型偏光板、第1黏著劑層、偏光片、保護膜及第2黏著劑層之至少1者係朝正捲曲方向(端部浮起之方向)浮起並產生翹曲，更詳細而言，係以其等之端部朝向反射型偏光板之方式浮起並產生翹曲。
又，當本發明中之偏光板曝露於高溫條件下，在偏光板會產生些微地翹曲時，反射型偏光板、第1黏著劑層、偏光片、保護膜、第2黏著劑層會成為一體而翹曲。因此，本發明之偏光板通常在反射型偏光板、第1黏著劑層、偏光片、保護膜及第2黏著劑層中之至少1個層間不會產生層間剝離。
因偏光板所引起之翹曲，即使在第2黏著劑層也會產生翹曲(浮起)，並進一步對構成第2黏著劑層之黏著劑產生凝集破壞。如此，若在第2黏著劑層產生凝集破壞，則第2黏著劑之一部分係殘存於保護膜，而第2黏著劑之其餘部分係殘存在與第2黏著劑貼合之基材，例如 殘存在玻璃面板。此種狀態在本說明書中亦稱為產生黏膠紋之狀態。而且，在本發明中之黏膠紋，係意指例如殘存在玻璃面板等且為連續的條狀或放射狀之構成第2黏著劑層的黏著劑之紋。
對於如此之翹曲，在本發明中係可藉由測定翹曲量等來評估。例如，該翹曲量係將偏光板之第2黏著層貼合於玻璃面板，以在-40℃之環境下30分鐘、然後在85℃之環境下30分鐘作為1個循環，而對靜置50小時後之偏光板測定端部隆起之相對於反射型偏光板之與第1黏著劑層為相反側之面的面內中心部的水平面之相對高度。
第2(A)圖係在偏光板中朝正捲曲方向產生翹曲時的概略剖面圖。例如，於上述冷熱循環環境下靜置50小時後之偏光板之翹曲量，係如圖所示，可由偏光板全體100中之端部全體的隆起高度、和偏光板100之與反射型偏光板12的第1黏著劑層13為相反側之面的面內中央部的水平面的高度之距離來算出。但是，各層之變形態樣為一例，並不限定於該種形態。第2(A)圖係在上述冷熱循環環境下靜置50小時後，偏光片之收縮量更大於反射型偏光板之收縮量時之一例。而且，例如依反射型偏光板之種類、厚度等，亦可產生與第2(A)圖相異之變形態樣。
較佳係本發明之偏光板之翹曲量為0.1至10μm，更佳係0.1至8μm。若翹曲量超過上述範圍，則會在第2黏著劑層產生明顯之凝集破壞。若第2黏著劑層之凝集破壞 明顯，則不僅會對偏光板之外觀造成不良影響，於組入液晶顯示裝置時，在液晶顯示裝置之端部會產生光洩漏，顯示之品質降低。例如，為長度12至16cm、寬6至10cm之偏光板時，翹曲量係0.1至10μm，更佳係0.1至8μm。
另一方面，例如，如第2(A)圖所示，亦可計測玻璃面板之第2黏著層側之表面至浮起之偏光板端部之距離，亦即，計測殘存於保護膜之第2黏著層的玻璃面板側之表面端部至浮起之偏光板端部之距離(以下，亦稱為「浮起量」)。此時，較佳的浮起量係0.1至10μm，更佳係0.1至8μm。若浮起量超過上述範圍，則在第2黏著劑層產生明顯之凝集破壞。第2黏著劑層之凝集破壞明顯時，不僅對偏光板之外觀造成不良影響，組入於液晶顯示裝置時，在液晶顯示裝置之端部會產生光洩漏，顯示之品質降低。
而且，為長度12至16cm、寬6至10cm之偏光板時，浮起量較佳係0.1至10μm，更佳係0.1至8μm。
又，上述「翹曲量」之值與「浮起量」之值的關係，只要各個值為上述範圍內，並無特別限制。例如，「翹曲量」之值為上述最大值時，「浮起量」之值可為上述最小值。「翹曲量」之值與「浮起量」之值可為相近。
在本發明中，「黏膠紋長度」係從反射型偏光板側觀察偏光板，藉由測定所觀察到之黏膠紋長度而算出。具體而言，係測定連結所觀察到之黏膠紋中之凸部之兩側下端而形成之直線與凸部之頂點的距離，進行此測定 複數次，將所得到之測定結果之最大值設為「黏膠紋長度」。
例如，從反射型偏光板側觀察偏光板時，如第2(B)圖所示，係觀察到黏膠紋，從黏膠紋中之凸部的兩側下端及凸部的頂點算出黏膠紋長度。
黏膠紋長度係可以在該技術領域中公知之方法測定。黏膠紋長度較佳係未達100μm，更佳係未達50μm。藉由使黏膠紋長度包含於如此之範圍，不對偏光板之識認性造成不良影響。另一方面，若黏膠紋長度為100μm以上，則會對偏光板之識認性造成不良影響，而且偏光板之外觀亦會變差。
在較佳的實施態樣中，上述翹曲量為0.1至10μm時，黏膠紋長度係5至90μm，更佳係5.0至50μm。
在另一較佳的實施態樣中，上述浮起量為5.0μm時，黏膠紋長度係5至90μm，更佳係5.0至50μm。
在本發明中，「黏膠偏移距離」係表示因偏光板的收縮所致之偏光板端部之移動距離。例如，黏膠偏移距離係可為從剛貼合於玻璃面板等基材之後的偏光板端部至在85℃之環境下靜置240小時後之偏光板端部為止的偏光板端部之移動距離。如第2(B)圖中所示，由上方觀察偏光板時，黏膠偏移距離係可表示從剛貼合於玻璃面板等基材後之偏光板端部至收縮後之偏光板端部為止之收縮距離。又，第2(B)圖所示之偏光板端部係意指反射型偏光板12之端部。而且，黏膠偏移距離會因使用之第2黏著劑、 偏光片等的組合而變動。
[反射型偏光板]
反射型偏光板亦稱為增亮膜，可使用具有將來自光源(背光)之射出光分離成透射偏光與反射偏光或散射偏光之功能的偏光轉換元件。如上述，藉由將反射型偏光板配置於偏光片之上方，利用反射偏光或散射偏光之遞迴光，可提升從偏光片所射出之直線偏光的射出效率。反射型偏光板係接於第1黏著劑層而積層。
反射型偏光板係可為例如異向性反射偏光片。異向性反射偏光片之一例，係將一者之振動方向的直線偏光透射，將他者之振動方向的直線偏光反射的異向性多層薄膜，其具體例係3M製之DBEF(日本特開平4-268505號公報等)。如此之反射型偏光板係使以折射率異向性相異之至少2層的薄膜構成之多層積層體延伸而成之反射型偏光板。因而，如此之反射型偏光板係具有至少2層之薄膜，經延伸之至少2層的薄膜係折射率異向性相異者。
異向性反射偏光片之另一例係膽固醇型(cholesteric)液晶層與λ/4板之複合體，其具體例係日東電工製之PCF(日本特開平11-231130號公報等)。異向性反射偏光片之又另一例係反射光柵偏光片，其具體例係對金屬施予微細加工而可見光區域亦射出反射偏光之金屬格子反射偏光片(美國專利第6288840號說明書等)、將金屬微粒子添加於高分子基質中而經延伸之膜(日本特開平8-184701 號公報)。
反射型偏光板之與第1黏著劑層為相反側之面，可設有如硬塗層、防眩層、光擴散層、具有1/4波長之相位差值的相位差層之光學層。藉由光學層之形成，可提高與背光膠帶之密著性和顯示圖像的均勻性。反射型偏光板之厚度可為5至100μm左右，惟從偏光板之薄膜化的觀點來看，較佳係10至40μm，更佳係10至30μm。
本發明之偏光板中，於反射型偏光板之第1黏著劑層側的表面可施予表面活性化處理。該表面活性化處理係在反射型偏光板與第1黏著劑層之貼合前進行。藉此，可獲得在濕熱環境下於第1黏著劑層與反射型偏光板之間不易產生剝離且濕熱耐久性優異之偏光板。
表面活性化處理係可為表面之親水化處理，可為乾式處理亦可為濕式處理。乾式處理可舉例如：如電暈處理、電漿處理、電暈放電處理之放電處理；火焰處理；臭氧處理；UV臭氧處理；如紫外線處理、電子射線處理之電離活性射線處理等。濕式處理係可例示例如：使用如水和丙酮之溶劑的超音波處理、鹼處理、錨塗處理等。此等處理係可單獨進行，亦可組合2種以上而進行。
其中，從於濕熱環境下之反射型偏光板的剝離抑制效果及偏光板之生產性的觀點來看，表面活性化處理係以電暈處理及/或電漿處理為較佳。藉由此等之表面活性化處理，反射型偏光板之厚度薄，即使為例如30μm以下之情形，也可有效地抑制於濕熱環境下之第1黏著劑 層與反射型偏光板之間的剝離。又，亦可對第1黏著劑層之亮度反射型偏光板側之表面一併實施表面活性化處理。
[第1黏著劑層]
第1黏著劑層係中介於偏光片與反射型偏光板之間的層。第1黏著劑層典型上係以偏光片與第1黏著劑層相接之方式直接積層於偏光片。
第1黏著劑層係可以如丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、聚矽氧系、聚乙烯基醚系之樹脂作為主成分之黏著劑組成物構成。其中，尤其以透明性、耐候性、耐熱性等優異之丙烯酸系樹脂作為基材聚合物之黏著劑組成物為適宜。黏著劑組成物可為活性能量射線硬化型、熱硬化型。
上述丙烯酸系基材聚合物係可適宜使用例如：如(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之(甲基)丙烯酸酯系基材聚合物、使用此等(甲基)丙烯酸酯的2種以上之共聚合系基材聚合物。基材聚合物係以使極性單體共聚合為較佳。極性單體可舉例如：如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物通常更含有交聯劑。交聯劑係2價以上之金屬離子，可例示：在與羧基之間形成羧酸 金屬鹽者；為聚胺化合物，且在與羧基之間形成醯胺鍵者；為聚環氧化合物、多元醇，且在與羧基之間形成酯鍵者；為聚異氰酸酯化合物，且在與羧基之間形成醯胺鍵者。其中，係以聚異氰酸酯化合物為較佳。
所謂活性能量射線硬化型黏著劑組成物，係具有受到如紫外線、電子射線之活性能量射線的照射而硬化之性質，即使在活性能量射線照射前亦具有黏著性而可密著於膜等被著體，具有可藉活性能量射線之照射硬化並調整密著力之性質的黏著劑組成物。活性能量射線硬化型黏著劑組成物係以紫外線硬化型為較佳。活性能量射線硬化型黏著劑組成物於基材聚合物、交聯劑之外，可更含有活性能量射線聚合性化合物。進一步視所需，亦有含有光聚合起始劑、光增敏劑等情形。
黏著劑組成物可含有用以賦予光散射性之微粒子；珠粒；基材聚合物以外之樹脂；賦黏劑；填充劑；抗氧化劑；紫外線吸收劑；顏料；著色劑等添加劑。
第1黏著劑層係可藉由將上述黏著劑組成物之有機溶劑稀釋液塗佈於基材上，並使其乾燥來形成。基材可為偏光片、反射型偏光板、分離膜(separator)等。使用活性能量射線硬化型黏著劑組成物時，係可對所形成之黏著劑層照射活性能量射線以形成所希望之硬化物。
第1黏著劑層係以在23至80℃之溫度範圍中顯示0.15至1.2MPa之儲存彈性率者為較佳。藉此，抑制在耐熱及冷熱循環環境下伴隨偏光片之收縮而易產生之 尺寸變化，可提高偏光板之耐久性。而且，搭載有偏光板之液晶顯示裝置(例如中小型攜帶終端用之液晶顯示裝置)被放置於耐熱及冷熱循環環境下時，因偏光板之變動受到抑制，故可提高液晶顯示裝置之可靠性。
所謂「在23至80℃之溫度範圍中顯示0.15至1.2MPa之儲存彈性率」，係意指在此範圍之任一溫度，儲存彈性率皆為上述範圍內之值。儲存彈性率通常係伴隨溫度上昇而漸減，因此只要於23℃及在80℃之儲存彈性率皆落在上述範圍，即可視為在此範圍之溫度中顯示上述範圍內之儲存彈性率。第1黏著劑層之儲存彈性率可使用市售之黏彈性測定裝置而測定，例如使用於後揭示之實施例所示之REOMETERIC公司製之黏彈性測定裝置「DYNAMIC ANALYZER RDA II」而測定。
用以將儲存彈性率調整至上述範圍之方法係可舉出在含有基材聚合物及交聯劑之黏著劑組成物中更添加寡聚物而形成活性能量射線硬化型黏著劑組成物(較佳係紫外線硬化型黏著劑組成物)，具體而言，該寡聚物可舉出胺基甲酸酯丙烯酸酯系之寡聚物。更佳係照射活性能量射線而使黏著劑層適度硬化。
第1黏著劑層之厚度可為30μm以下。較佳係25μm以下，更佳係20μm以下，尤佳係15μm以下。藉由第1黏著劑層之厚度在如此之範圍，可維持良好之加工性，同時抑制偏光板之尺寸變化。又，第1黏著劑層之厚度係可以使上述層間厚度成為預定之範圍的方式而適當 調整。
[偏光片]
偏光片係具有吸收具有平行於其吸收軸之振動面的直線偏光，並使具有正交於吸收軸(與透射軸平行)之振動面的直線偏光透射之性質的吸收型偏光片，可適宜使用在聚乙烯醇系樹脂膜吸附定向有二色性色素之偏光膜。偏光片係例如可藉由包含下述步驟的方法製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸之步驟；將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色以使二色性色素吸附之步驟；將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液處理之步驟；及在以硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂係可使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化者。聚乙酸乙烯酯系樹脂在乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙酯之外，可舉出乙酸乙烯酯及可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體之共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體之例，包含：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類及具有銨基之丙烯酸醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85至100莫耳%左右，以98莫耳%以上為較佳。聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如，可使用經醛類改質之聚乙烯基甲醛或聚乙烯基縮醛等。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度通常為1000至10000左右，以1500至5000左右為較佳。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度係可依據JIS K 6726而求得。
將如此之聚乙烯醇系樹脂製膜者可使用作為偏光片(偏光膜)之胚膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法係無特別限定，可採用公知之方法。聚乙烯醇系胚膜之厚度係無特別限制，但為了使偏光片之厚度為10μm以下，以使用5至35μm左右者為較佳。更佳係20μm以下。
聚乙烯醇系樹脂膜之單軸延伸，可在二色性色素之染色前進行、與染色同時進行、或在染色之後進行。在染色之後進行單軸延伸時，此單軸延伸可在硼酸處理之前進行或在硼酸處理中進行。而且，亦可在此等之複數個階段進行單軸延伸。
單軸延伸時，係可在轉速相異之輥間於單軸延伸，亦可使用熱輥而於單軸延伸。而且，單軸延伸可為在大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可為使用溶劑使聚乙烯醇系樹脂膜以膨潤之狀態進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通常為3至8倍左右。
將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色之方法，可採用例如將該膜浸漬於含有二色性色素之水溶液中的方法。二色性色素可使用碘、二色性有機染料。又，聚乙烯醇系樹脂膜較佳係在染色處理之前施予浸漬於水之處理。
以碘進行之染色處理，通常可此採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液中之方法。此水溶液中之碘的含量，每100重量份水可為0.01至1重量份左右。碘化鉀之含量係每100重量份水可為0.5 至20重量份左右。而且，此水溶液之溫度可為20至40℃左右。另一方面，以二色性有機染料進行之染色處理，通常可採用在含有二色性有機染料之水溶液中浸漬聚乙烯醇系樹脂膜之方法。含有二色性有機染料之水溶液係可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。此水溶液中之二色性有機染料的含量係每100重量份水可為1×10-4至10重量份左右。此水溶液之溫度可為20至80℃左右。
以二色性色素進行染色後之硼酸處理，通常採用將經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有硼酸之水溶液中的方法。使用碘作為二色性色素時，此含有硼酸之水溶液係以含有碘化鉀為較佳。
含有硼酸之水溶液中之硼酸的量，係每100重量份水可為2至15重量份左右。此水溶液中之碘化鉀的量係每100重量份水可為0.1至15重量份左右。此水溶液之溫度可為50℃以上，例如為50至85℃。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜通常經水洗處理。水洗處理係例如可藉由將經硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水中而進行。水洗處理中之水的溫度通常為5至40℃左右。
水洗後施予乾燥處理，可獲得偏光片。乾燥處理係可使用熱風乾燥機、遠紅外線加熱器來進行。偏光片之厚度係以15μm以下為較佳，以10μm以下為更佳。使偏光片之厚度為15μm以下，係有利於偏光板以及液晶顯示裝置之薄膜化。偏光片之厚度通常為4μm以上。 又，偏光片之厚度係可以使上述層間厚度成為預定之範圍的方式適當調整。
[保護膜]
保護膜係積層於偏光片之與第1黏著劑層為相反側之面的膜。保護膜係可為具有透光性(較佳係光學透明)之熱塑性樹脂，例如：如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；如三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素之纖維素系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯之聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；如(甲基)丙烯酸系樹脂之丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚氯乙烯基系樹脂；丙烯腈/丁二烯/苯乙烯系樹脂；丙烯腈/苯乙烯系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚偏二氯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚縮醛系樹脂；改質聚苯醚系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚芳酸酯系樹脂；聚醯胺醯亞胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂等所構成之膜。其中，以使用聚烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂為較佳，特佳係以使用環狀聚烯烴系樹脂為宜。
鏈狀聚烯烴系樹脂在如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂之鏈狀烯烴的均聚物之外，尚可舉包含2種以上的鏈狀烯烴之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元而聚合之樹脂的統稱。若要舉環狀聚烯烴系樹脂之具體例，有：環狀烯烴之開環(共)聚合物、環狀烯烴之加成 聚合物、環狀烯烴與如乙烯、丙烯之鏈狀烯烴的共聚物(代表性係隨機共聚物)、及將此等以不飽和羧酸或其衍生物改質之接枝聚合物、以及該等之氫化物等。其中，較佳為降莰烯系樹脂，其係使用降莰烯和多環降莰烯系單體等降莰烯系單體作為環狀烯烴者。在較佳的實施態樣中，本發明之保護膜係包含環狀聚烯烴系樹脂。
所謂纖維素系樹脂，係指由棉花棉絨、木材漿料(闊葉樹漿料、針葉樹漿料)等原料纖維素所得之纖維素的羥基中之氫原子的一部分或全部經乙醯基、丙醯基及/或丁醯基取代之纖維素有機酸酯或混合纖維素之有機酸酯。可舉例如：由纖維素之乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯及該等之混合酯等所構成者。
丙烯酸系樹脂膜之較佳的具體例可舉例如含有甲基丙烯酸甲酯系樹脂之膜。所謂甲基丙烯酸甲酯系樹脂，係含有甲基丙烯酸甲酯單元50重量%以上之聚合物。甲基丙烯酸甲酯單元之含量較佳係70重量%以上，可為100重量%。甲基丙烯酸甲酯單元為100重量%之聚合物，係單以甲基丙烯酸甲酯聚合而得之甲基丙烯酸甲酯均聚物。
此甲基丙烯酸甲酯系樹脂，通常係可藉由將甲基丙烯酸甲酯為主成分之單官能單體及視所需使用之多官能單體在與自由基聚合起始劑及視所需使用之鏈轉移劑共存下進行聚合而得。
可與甲基丙烯酸甲酯共聚合之單官能單體 係可舉例如：甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯甲酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯及甲基丙烯酸2-羥基乙酯等甲基丙烯酸甲酯以外的甲基丙烯酸酯類；丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苯甲酯、丙烯酸2-乙基己酯及丙烯酸2-羥基乙酯等丙烯酸酯類；2-(羥基甲基)丙烯酸甲酯、3-(羥基乙基)丙烯酸甲酯、2-(羥基甲基)丙烯酸乙酯及2-(羥基甲基)丙烯酸丁酯等羥基丙烯酸酯類；甲基丙烯酸及丙烯酸等不飽和酸類；氯苯乙烯及溴苯乙烯等鹵化苯乙烯類；乙烯基甲苯及α-甲基苯乙烯等取代苯乙烯類；丙烯腈及甲基丙烯腈等不飽和腈類；馬來酸酐及檸康酸酐等不飽和酸酐類；以及苯基馬來醯亞胺及環己基馬來醯亞胺等不飽和醯亞胺類等。如此之單體係可分別單獨使用，亦可組合2種以上而使用。
可與甲基丙烯酸甲酯共聚合之多官能單體，係可舉例如：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、九乙二醇二(甲基)丙烯酸酯及十四(乙二醇)(甲基)丙烯酸酯等將乙二醇或其寡聚物的兩末端羥基以丙烯酸或甲基丙烯酸進行酯化而成者；將丙二醇或其寡聚物之兩末端羥基以丙烯酸或甲基丙烯酸進行酯化而成者；將新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯及丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等之2元醇的羥基以丙烯酸或甲基丙烯酸進行酯化而成者；將雙酚A、雙酚A之環氧 烷加成物或此等之鹵素取代物的兩末端羥基以丙烯酸或甲基丙烯酸進行酯化而成者；將三羥甲基丙烷及新戊四醇等多元醇以丙烯酸或甲基丙烯酸進行酯化而成者、以及在此等末端羥基開環加成丙烯酸縮水甘油酯或甲基丙烯酸縮水甘油酯之環氧基而成者；琥珀酸、己二酸、對苯二甲酸、鄰苯二甲酸、此等之鹵素取代物等二質子酸及於此等之環氧烷加成物等開環加成丙烯酸縮水甘油酯或甲基丙烯酸縮水甘油酯之環氧基而成者；(甲基)丙烯酸芳酯；及二乙烯基苯等二芳基化合物等。其中，以使用乙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯及新戊二醇二甲基丙烯酸酯為較佳。
甲基丙烯酸甲酯系樹脂可為藉由進行該樹脂所具有之官能基間的反應而改質之改質甲基丙烯酸甲酯系樹脂。其反應係可舉例如：丙烯酸甲酯之甲基酯基與2-(羥基甲基)丙烯酸甲酯的羥基之高分子鏈內脫甲醇縮合反應、及丙烯酸之羧基與2-(羥基甲基)丙烯酸甲酯的羥基之高分子鏈內脫水縮合反應等。
保護膜之相位差值亦有用於將液晶顯示裝置控制在適宜值。例如，於面內切換(IPS，In-Plane Switching)模式之液晶顯示裝置中，係以使用實質上相位差值為零之膜為較佳。實質上相位差值為零，係指於波長590nm之面內相位差值為10nm以下，於波長590nm之厚度方向相位差值的絶對值為10nm以下，於波長480至750nm之厚度方向相位差值的絶對值為15nm以下。
亦可藉由液晶顯示裝置之模式對保護膜進行延伸及/或收縮加工，以賦予適當之相位差值。
保護膜之厚度可為1至30μm左右，但從強度、處理性等觀點來看，係以5至25μm為較佳，以5至20μm為更佳。若為此範圍內之厚度，可機械性地保護偏光片，即使曝露在濕熱環境下偏光片亦不收縮，維持安定之光學特性。又，保護膜之厚度係可以使上述層間厚度成為預定之範圍的方式適當調整。
保護膜係可經由接著劑層貼合於偏光片。形成接著劑層之接著劑，可使用水系接著劑或活性能量射線硬化性接著劑。
水系接著劑可舉例如包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之接著劑、水系二液型胺基甲酸酯系乳劑接著劑等。其中，適宜使用聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之水系接著劑。聚乙烯醇系樹脂，除了將乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯進行皂化處理而得之乙烯基醇均聚物之外，可使用將乙酸乙烯酯及可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物進行皂化處理而得之聚乙烯醇系共聚物、或其等之羥基的一部分經改質之改質聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑係可包含：醛化合物、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。
使用水系接著劑時，較佳係於貼合偏光片與保護膜之後，為了除去水系接著劑中所含之水而實施使 其乾燥之步驟。乾燥步驟後，可設有以例如20至45℃左右之溫度進行熟成之熟成步驟。
上述活性能量射線硬化性接著劑係所謂藉由照射紫外線等活性能量射線而進行硬化之接著劑，可舉例如：含有聚合性化合物及光聚合起始劑者、含有光反應性樹脂者、含有黏結劑樹脂及光反應性交聯劑者等。聚合性化合物係可舉例如：如光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體之光聚合性單體和源自光聚合性單體之寡聚物。光聚合起始劑係可舉出包含藉由如紫外線之活性能量射線的照射而產生如中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基之活性物種的物質者。含有聚合性化合物及光聚合起始劑之活性能量射線硬化性接著劑，可適宜使用含有光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑者。
使用活性能量射線硬化性接著劑時，係將偏光片與保護膜貼合之後，視所需進行乾燥步驟，然後進行照射活性能量射線以使活性能量射線硬化性接著劑硬化之硬化步驟。活性能量射線之光源係無特別限定，但以在波長400nm以下具有發光分布之紫外線為較佳，具體而言，可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、螢光燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。
當貼合偏光片與保護膜時，可對此等之至少任意一者的貼合面施予皂化處理、電暈處理、電漿處理 等。
[第2黏著劑層]
形成第2黏著劑層之黏著劑只要適當選擇以往公知者即可，在偏光板被暴露之高溫環境、濕熱環境或反覆為高溫及低溫之環境下，只要具有不產生剝離等之程度的接著性者即可。具體而言，係可舉例如丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、橡膠系黏著劑等，就透明性、耐候性、耐熱性、加工性之點，以丙烯酸系黏著劑為特佳。
而且，第1黏著劑層及第2黏著劑層可使用同種之黏著劑，亦可使用不同種的黏著劑。
在較佳的實施態樣中，第2黏著劑層係由丙烯酸系黏著劑所形成。
在黏著劑中，視所需可適當調配賦黏劑、塑化劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、包含其他無機粉末等之填充劑、顏料、著色劑、填充劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、矽烷耦合劑等各種添加劑。
黏著劑層，通常係藉由以黏著劑之溶液於離型片上塗佈黏著劑，並乾燥而形成。在離型片上之塗佈係可採用例如：反向塗佈、凹版塗佈等輥塗佈法，旋轉塗佈法、網版塗佈法、噴注塗佈(fountain coating)法、浸漬法、噴塗法等。設有黏著劑層之離型片，可藉由將之轉印的方法等加以應用。黏著劑層之厚度通常為3至30μm左右，較佳係10至30μm，更佳係10至25μm。在較佳的實施 態樣中，藉由第2黏著劑層具有如此之厚度，可抑制偏光板破壞，組入於液晶顯示裝置時，可抑制在液晶顯示裝置之端部產生光洩漏。又，第2黏著劑層之厚度係可以使上述層間厚度成為預定之範圍的方式適當調整。
第2黏著劑層在80℃的儲存彈性率較佳係0.025MPa以上，更佳係0.07MPa以上。若黏著劑層之儲存彈性率未達0.025MPa，會產生第2黏著劑層之凝集破壞，若凝集破壞明顯，則不僅會對偏光板之外觀造成不良影響，組入於液晶顯示裝置時，在液晶顯示裝置之端部會產生光洩漏，對顯示有不良影響。較佳係第2黏著劑層在80℃之儲存彈性率為1.1MPa以下，較佳係0.9MPa以下。若在80℃之黏著劑層的儲存彈性率超過1.1MPa，對於第2黏著劑層與玻璃或面板之耐熱耐久性會變差，變得容易在層間產生氣泡。
至將第2黏著劑層貼合於其他構件為止，為了保護其表面，亦可設有分離膜。例如，可使用以聚矽氧系等離型劑對如聚對苯二甲酸乙二酯之透明樹脂所構成之膜施予處理者。
[偏光板之製造方法]
本發明之偏光板係例如可經由以下之步驟來製作：在反射型偏光板之第1黏著劑層側的表面施予表面活性化處理之步驟、及在經施予表面活性化處理之上述表面上積層第1黏著劑層之步驟。
而且，本發明之偏光板係包含例如：在偏光片之單面經由接著劑層貼合保護膜；在保護膜中與偏光片為相反側之面積層第2黏著劑層；在偏光片中與保護膜為相反側之面貼合第1黏著劑層；在第1黏著劑層中與偏光片為相反側之面積層反射型偏光板。藉由經由此等步驟，可得到本發明之偏光板。又，可在第2黏著劑層之外面係暫時接著分離膜，亦可在第1黏著劑層中與反射型偏光板之貼合面施予表面活性化處理。
對第1黏著劑層之反射型偏光板的貼合方法，可為葉片貼合法，亦可為在日本特開2004-262071號公報記載之片/捲筒複合貼合法。而且，可以長條生產，且在所需數量大時，捲筒至捲筒(roll-to-roll)之貼合手法亦屬有用。
如此，本發明之偏光板的製造方法係可藉由在該技術領域中公知之方法製作。
[液晶顯示裝置]
本發明之偏光板係可良好地適用於液晶顯示裝置。液晶顯示裝置包含：液晶單元、貼合於其表面之本發明的偏光板。對液晶單元之偏光板的貼合係可經由第2黏著劑層進行。本發明之偏光板通常可使用作為配置在液晶單元之背光側的偏光板。液晶單元之驅動方式可為以往公知之任意方式，惟較佳係IPS模式。使用本發明之偏光板的液晶顯示裝置係濕熱耐久性優異。
本發明係可藉由將偏光板經由第2黏著劑層貼合於有機電激發光顯示器，製得有機電激發光顯示裝置。
[實施例]
以下，顯示實施例而進一步具體地說明本發明，惟本發明係不受此等例限定者。例中，表示含量或使用量之%及份，只要無特別記載，即為重量基準。
又，膜之厚度、拉伸彈性率及黏著劑層之儲存彈性率係依據下述而測定。
(1)厚度
使用Nikon公司製之Digital Micrometer「MH-15M」而測定。
(2)拉伸彈性率
從膜裁出2.5cm寬度×10cm長度之試驗片。然後，用拉伸試驗機[島津股份公司製作所製AUTOGRAPH AG-1S試驗機]之上下夾具，以夾具之間隔成為5cm之方式夾住上述試驗片之長邊方向兩端，在85℃之環境下以拉伸速度1mm/分拉伸，由所得之應力-應變曲線(stress-strain curve)中初期的直線之斜率算出在85℃之拉伸彈性率。此測定係於「膜之搬送方向(MD方向)進行，以算出值作為膜之拉伸彈性率。
(3)儲存彈性率
黏著劑層之儲存彈性率G’係依據以下之(I)至(III)而測定。
(I)從黏著劑層取出2個各為25±1mg的試料，分別成形為大致呈球狀。
(II)將所得之大致呈球狀之試料貼附於I型治具之上下面，上下面皆以L型治具夾住。測定試料之構成係成為L型治具/黏著劑/I型治具/黏著劑/L型治具。
(III)將如此所製作之試料的儲存彈性率G’使用IT計測控制股份公司製之動態黏彈性測定裝置「DVA-220」，在溫度80℃、頻率1Hz、初期應變1N之條件下進行測定。
[偏光片之製作]
將厚度20μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸進行單軸延伸成約5倍，並進一步維持緊繃狀態，浸漬於60℃之純水1分鐘，之後在碘/碘化鉀/水之重量比為0.05/5/100之水溶液中以28℃浸漬60秒鐘。其後，在碘化鉀/硼酸/水之重量比為8.5/8.5/100之水溶液中以72℃浸漬300秒鐘。繼而，以26℃之純水洗淨20秒鐘後，以65℃乾燥，得到在聚乙烯醇膜吸附定向碘之厚度7μm的偏光片-1。
[第1黏著劑層之調製例]
將含有表1所示之組成的有機溶劑溶液以乾燥後成為 預定厚度之方式，以模塗機塗佈在經施予離型處理之厚度38μm的包含聚對苯二甲酸乙二酯之分離膜的離型處理面，並使其乾燥，得到附分離膜之黏著劑層。將各實施例及比較例中之第1黏著劑層之厚度、在80℃之儲存彈性率表示於表1中。
Figure 105142054-A0202-12-0029-1
[第2黏著劑層之調製例]
將含有表2所示之組成的有機溶劑溶液以乾燥後成為預定厚度之方式，用模塗機塗佈在經施予離型處理之厚度38μm的包含聚對苯二甲酸乙二酯之分離膜的離型處理面，並使其乾燥，得到附分離膜之黏著劑層。將各實施例及比較例中之第1黏著劑層之厚度、在80℃之儲存彈性率表示於表2中。
Figure 105142054-A0202-12-0030-2
[反射型偏光板]
反射型偏光板-1係使用3M公司製之「Advanced Polarized Film，Version 3」(厚度26μm)。
[保護膜]
使用以下之保護膜。
COP-1：環烯烴系保護膜(日本Zeon股份公司製)、厚度13μm、於波長590nm之面內相位差值=3.46nm、在80℃之拉伸彈性率=1764MPa。
COP-2：環烯烴系保護膜(JSR股份公司製)、厚度15μm、於波長590nm之面內相位差值=2.44nm、在80℃之拉伸彈性率=1601MPa。
Zero TAC：三乙醯基纖維素系保護膜(Konica Minolta股份公司製)、厚度20μm、於波長590nm之面內相位差值=(1.37)nm、在80℃之拉伸彈性率=3956MPa。
丙烯酸-1：(大倉工業股份公司製)耐熱丙烯酸保護膜、厚度21μm、於波長590nm之面內相位差值=-1.6nm、在80℃之拉伸彈性率=2025MPa。
丙烯酸-2：(住友化學股份公司製)添加橡膠粒之泛用丙烯酸保護膜、厚度21μm、於波長590nm之面內相位差值=-1.6nm、在80℃之拉伸彈性率=820MPa。
「水系接著劑之調製」
相對於水100重量份，溶解羧基改質聚乙烯醇[Kuraray股份公司製之「KL-318」]3重量份，調製聚乙烯醇水溶液。於所得到之水溶液中將水溶性聚醯胺環氧樹脂[田岡化學工業股份公司製之「Sumirez Resin 650(30)」、固形分濃度30重量%]以相對於水100重量份為1.5重量份之比率混合，獲得水系接著劑。
將雙(3,4-環氧基環己基甲基)己二酸100份、氫化雙酚A之二縮水甘油醚25份及作為光陽離子聚合起始劑之4,4'-雙(二苯基硫二氫硫基)二苯基硫醚 雙(六氟磷酸酯)(50%碳酸丙烯酯溶液)2.2份(有效成分量)混合之後，進行脫泡，調製包含硬化性環氧樹脂組成物之活性能量射線硬化性接著劑。
[偏光板之製作例]
使用水系接著劑之情形。
首先，在偏光片11之單面，使用上述水系接著劑(厚 度10至100nm)貼合保護膜22。於貼合之前，對保護膜之與偏光片的貼合面實施0.8kJ/m2之電暈處理。其後，以80℃乾燥5分鐘，以40℃熟成72小時。
使用活性能量射線硬化性接著劑之情形。
在偏光片11之單面使用上述活性能量射線硬化性接著劑貼合保護膜22。於貼合之前，對保護膜之與偏光片的貼合面實施0.8kJ/m2之電暈處理。貼合偏光片11與保護膜22之後，以紫外線照射裝置(燈：Fusion D燈、累計光量：1000m J/cm2)照射紫外線，在室溫放置1小時。
然後，在偏光片之與積層保護膜之面為相反側之面貼合第1黏著劑層。於貼合之前，對偏光片之貼合面及第1黏著劑層之貼合面這兩者實施10.8kJ/m2之電暈處理。
然後，在保護膜之外面貼合第2黏著劑層。於貼合之前，對保護膜之貼合面及第2黏著劑層之貼合面這兩者實施0.8kJ/m2之電暈處理。
最後，剝離第1黏著劑層之分離膜，對反射型偏光板之單面實施0.8kJ/m2之電暈處理後，將反射型偏光板以其電暈處理面側貼合於第1黏著劑層之外面，獲得偏光板。
將如此方式所得到之偏光板的構成表示於表3(實施例)及表4(比較例)。
而且，依據以下之記載進行所得到之各偏光板的物性評估。
[層間厚度之測定]
算出從反射型偏光板之第1黏著劑層側表面至第2黏著劑層之與前述保護膜為相反側之表面為止的層間厚度。將實施例及比較例之層間厚度表示於表3(實施例)及表4(比較例)。又，各種層之厚度的測定係使用Nikon股份公司製之Digital micrometer「MH-15M」測定。而且，層間厚度係總計各層之厚度而算出。
[翹曲量之測定]
對於上述所製作之偏光板，以如下之方法測定翹曲量。首先，在製作之偏光板中，將第2黏著劑層之與保護膜為相反側之面貼合於玻璃(康寧公司製，型號：EAGLE XG(註冊商標))，在冷熱循環(-40℃，30分鐘，然後在85℃下30分鐘為1循環)之環境下，靜置50小時。對於產生翹曲之偏光板，測定從端部之隆起處的高度減去偏光板面內之中央部的高度的值作為翹曲量。翹曲量之測定係使用(SENSOFAR公司製、型號：PLu neox 3D Optical Profiler)測定端部之翹曲高度3次，並將翹曲量的平均值表示於表3(實施例)及表4(比較例)。
[黏膠紋長度之測定]
在上述翹曲量之測定所使用的偏光板中，若產生翹曲，則在第2黏著劑層會產生凝集破壞，在保護膜之第2 黏著劑層側及玻璃面板之第2黏著劑層側，第2黏著劑被斷開，而於保護膜與玻璃面板分別殘存第2黏著劑。
在此，殘存於玻璃面板面之第2黏著劑，係以連續之條狀或輻射狀之形態存在。如此之殘存於玻璃面板之第2黏著劑的紋路長度，亦即，黏膠紋之長度，係使用(KEYENCE公司製、型號：VHX-1000)500x之倍率，測定例如第2圖(A)及(B)所示之黏膠紋的長度。對3條黏膠紋測定其長度，以所得到之最大值作為各實施例及比較例之黏膠紋長度。結果表示於表3(實施例)及表4(比較例)。
[外觀評估]
關於在上述翹曲量之測定所使用之偏光板，觀察偏光板之外觀。依據以下之基準，進行評估。以放大鏡確認黏膠紋之識認性，其後將之與另一片貼合有偏光板之玻璃以成為正交偏光(crossed nicol)之方式以重疊的狀態觀察偏光板之漏光。
◎：偏光板之識認性極良好，未觀察到偏光板之漏光。
○：偏光板之識認性良好，未觀察到偏光板之漏光。
△：偏光板之識認性差，或觀察到偏光板之漏光。
×：偏光板之識認性差，而且觀察到偏光板之漏光。
Figure 105142054-A0202-12-0035-3
Figure 105142054-A0202-12-0036-4
從如此之結果，本發明之偏光板可獲得薄型之偏光板。而且，即使偏光板曝露在高溫條件下，特別 是曝露在冷熱循環環境下時，也可抑制偏光板之翹曲，且可進一步抑制第2黏著劑層之凝集破壞。又且，本發明之偏光板即使曝露在高溫條件下，尤其是曝露在冷熱循環環境下時，偏光板之識認性亦極為良好，且不產生偏光板之漏光。
[產業上之可利用性]
依據本發明，可提供一種抑制因偏光片及反射型偏光板之收縮所引起的翹曲之偏光板。再者，依據本發明，可提供一種亦抑制貼合於液晶面板之玻璃面板的黏著劑層之凝集破壞之偏光板。
11‧‧‧偏光片
12‧‧‧反射型偏光板
13‧‧‧第1黏著劑層
22‧‧‧保護膜
23‧‧‧第2黏著劑層
100‧‧‧偏光板
D‧‧‧層間厚度

Claims (7)

  1. 一種偏光板，其係依序積層有反射型偏光板、第1黏著劑層、偏光片、保護膜及第2黏著劑層，從前述反射型偏光板之第1黏著劑層側表面至前述第2黏著劑層之與前述保護膜為相反側之表面為止的層間厚度為20至60μm，前述保護膜在85℃的拉伸彈性率為2500MPa以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中，前述保護膜為環狀聚烯烴系樹脂膜。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中，前述保護膜為丙烯酸系樹脂膜。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之偏光板，其中，前述第1黏著劑層之厚度為20μm以下。
  5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之偏光板，其中，前述第2黏著劑層在80℃之儲存彈性率為0.025MPa以上，厚度為10至30μm。
  6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之偏光板，其中，前述偏光片之厚度為10μm以下。
  7. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之偏光板，其中，前述反射型偏光板具有至少2層之薄膜，前述至少2層之薄膜之折射率異向性係相異。
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