TWI701466B - 附防護膜之偏光板及含有該偏光板之積層體 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種附防護膜之偏光板、及含有該偏光板之積層體，其中該附防護膜之偏光板係具備含有偏光片之偏光板、及層積在其一表面之防護膜，該防護膜在溫度40℃、相對濕度90%之透濕度為15g/(m²．24hr)以下。

Description

附防護膜之偏光板及含有該偏光板之積層體

本發明係有關於一種附防護膜之偏光板、及含有該偏光板之積層體，其中該附防護膜之偏光板，係將防護膜層積在偏光板表面而成。

近年來，如智慧型手機之可移動式終端設備，從設計和攜帶性方面而言，大銀幕化、超薄化正急速地進展。為了以有限的厚度實現長時間的驅動，對於所使用的偏光板亦被要求高亮度化、薄型輕量化。

作為偏光板，歷來一般係使用將三乙酸纖維素所構成之保護膜藉由聚乙烯醇系接著劑貼合在聚乙烯醇系偏光片之兩面而成者。但是，從薄膜化、耐久性、成本、生產性等的觀點而言，近年來，保護膜除了三乙酸纖維素以外，亦進一步使用由(甲基)丙烯酸系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂等、各式各樣的樹脂所構成之膜的保護膜(例如，參照日本特開2004-245925號公報的段落[0005])。

(先前技術文獻)

專利文獻

[專利文獻1]日本特開2004-245925號公報

如上述，近年來，有使用較薄且無剛性的偏光板之傾向。但是，此種偏光板對其所放置之環境的變化、尤其是溫度變化及濕度變化較為敏感，而有隨著環境變化而容易產生以捲曲(翹曲)作為代表的變形之傾向。偏光板係通常以附防護膜之偏光板的方式而在市面上流通，其中該附防護膜之偏光板係貼附有用以保護其表面且能夠剝離的防護膜(亦稱為表面保護膜)，在該附防護膜之偏光板亦同樣地有上述的傾向。

因此，本發明之目的係提供一種不容易隨著溫度變化及濕度變化而產生捲曲之附防護膜之偏光板、及含有該偏光板之積層體。

本發明提供下述所示之附防護膜之偏光板及影像顯示裝置。

[1]一種附防護膜之偏光板，係具備含有偏光片之偏光板、及層積在其一表面之防護膜，該防護膜在溫度40℃、相對濕度90%之透濕度為15g/(m²．24hr)以下。

[2]如[1]所述之附防護膜之偏光板，其中前 述偏光板的厚度為125μm以下。

[3]如[1]或[2]所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光板的另一表面係由第1黏著劑層表面所構成。

[4]如[1]至[3]項中任一項所述之附防護膜之偏光板，其中前述防護膜係由層積在前述一表面之第2黏著劑層、及層積在其上之單層基材膜所構成。

[5]如[1]至[4]項中任一項所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光板係進一步含有隔著活性能量線硬化性接著劑的硬化物層而層積在前述偏光片的至少一表面之保護膜。

[6]如[1]至[5]項中任一項所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光板的另一表面係由第1黏著劑層之表面所構成，且該偏光板進一步具備層積在前述偏光板的另一表面之隔離膜。

[7]如[1]至[6]項中任一項所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光板係進一步含有前述偏光片以外的光學膜，前述防護膜係層積在前述光學膜之表面。

[8]如[7]所述之附防護膜之偏光板，其中前述光學膜係增亮膜。

[9]如[1]至[8]項中任一項所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光片的厚度為15μm以下。

[10]一種積層體，係含有影像顯示元件、及層積在其上之如[1]至[9]項中任一項所述之附防護膜之偏 光板。

依照本發明，能夠提供一種不容易隨著溫度變化及濕度變化而產生捲曲之附防護膜之偏光板及含有該偏光板之積層體。該附防護膜之偏光板及含有該偏光板之積層體係能夠適合使用在影像顯示裝置。

10:偏光片

21:保護膜

22:保護膜

31:第1黏著劑層

32:第3黏著劑層

50:增亮膜

60:防護膜

61:基材膜

62:第2黏著劑層

70:隔離膜

100:偏光板

第1圖係示意性地顯示本發明之附防護膜的偏光板的層構成之一例之概略剖面圖。

第2圖係顯示本發明之附防護膜的偏光板的層構成之一例之概略剖面圖。

第3圖係顯示本發明之附防護膜的偏光板的層構成之另一例之概略剖面圖。

第4圖係顯示本發明之附防護膜的偏光板的層構成之又另一例之概略剖面圖。

<附防護膜之偏光板>

(1)附防護膜之偏光板的構成

第1圖係示意性地顯示本發明之附防護膜的偏光板的層構成之一例之概略剖面圖。參照第1圖而說明本發明之附防護膜的偏光板之一例。本發明之附防護膜之偏光板，係具備含有偏光片(在第1圖未圖示)之偏光板100、及層積在其一表面之防護膜60。偏光板100之防護膜60側的表 面(貼合有防護膜60之表面)，係例如為保護膜、其它光學膜或附加在膜上之層的表面。

偏光板100的另一表面、亦即與層積防護膜60之面為相反側的表面並無特別限制，如第1圖所示地，可以是例如由第1黏著劑層31的表面所構成。此時，第1黏著劑層31的外表面(偏光板100的另一表面)可層積用以暫時保護該面之可剝離的隔離膜70。

防護膜60，係由基材膜61、及層積在其上之第2黏著劑層62所構成，隔著該黏著劑層而貼合層積在偏光板100。

本發明中所謂偏光板100，係至少含有偏光片之偏光元件，通常係進一步含有貼合在其一面或兩面之保護膜。除了保護膜以外，亦能夠含有如具有與偏光片為不同光學功能的膜之其它光學膜、如光學層之加在膜上之層。含有保護膜之各種光學膜，係能夠隔著接著劑層或黏著劑層而貼合。偏光板100的一最表層為第1黏著劑層31且在其外面層積有隔離膜70時，該隔離膜70係不含在偏光板100之物。

防護膜60，係使用亦包含第2黏著劑層62之全體的透濕度M，在溫度40℃、相對濕度90%的條件下為15g/(m²．24hr)以下者。透濕度M之較佳為12g/(m²．24hr)以下。藉此，能夠有效地抑制附防護膜之偏光板隨著溫度變化及濕度變化所產生的捲曲。捲曲(翹曲)的抑制，對於抑制下述問題為有利：1)在步驟內承受應力致使偏光板產 生破裂；2)因捲曲引起變形(畸變)致使異物混入防護膜與偏光板之間；3)將偏光板貼合在影像顯示元件時，引起貼合不良、或產生氣泡混入貼合界面。透濕度M係使用JIS Z 0208所規定的杯法來測定。透濕度M一般為0g/(m²．24hr)以上，更典型地係大於0g/(m²．24hr)。

偏光板100的厚度T一般為200μm以下，從薄膜化的觀點而言，以150μm以下為佳，較佳為125μm以下，更佳為100μm以下。厚度T越小者越容易產生捲曲，依照本發明，即便如此的情況亦能夠有效地抑制捲曲。厚度T一般為50μm以上。

附防護膜之偏光板係以滿足下述式(1)者為佳。

M≦T/15+10 (1)

藉此，能夠有效地抑制依偏光板100的厚度T隨著溫度變化及濕度變化所產生的捲曲。較佳的一實施形態中，附防護膜之偏光板係滿足M≦15及T≦100且滿足上述式(1)。

又，當偏光板100的濕度膨脹係數設為C₁，防護膜60的濕度膨脹係數設為C₂時，該等差之絕對值，係以50[ppm．%RH^-1]以下為佳，以30[ppm．%RH^-1]以下更佳。藉此，能夠更有效地抑制附防護膜之偏光板隨著溫度變化及濕度變化而產生的捲曲。該差的絕對值為0以上，亦可為10[ppm．%RH^-1]以上。濕度膨脹係數C₁及C₂，係依照後述實施例的項目所記載而測定。

本發明之附防護膜之偏光板通常為附防護膜之偏光板的片狀物。該片狀物係能夠藉由以下的方法而得到：對從膜捲物連續地捲出而運送之原料膜，將同樣地從膜捲物連續地捲出之其它原料膜進行層積，並將所得到的長條狀積層膜捲成圓筒狀，藉由所謂捲軸式方式製成長條附防護膜之偏光板之後，將其進行裁切。

上述片狀物的形狀並無特別限制，以具備具有長邊及短邊之方形形狀為佳，典型為長方形。長邊及短邊的長度並無特別限制，一般片狀物的長邊為50mm以上，短邊為30mm以上。捲曲係片狀物的尺寸越大，越容易產生。尺寸(長邊及/或短邊)太小時，其本身不容易產生捲曲的問題。

其次，參照第2圖至第4圖而說明偏光板100的層構成之例，但是層構成不僅限於該等例。例如，在偏光板的另一表面、亦即與層積防護膜60之面為相反側的表面，不限定為第1黏著劑層31，亦可由保護膜等的光學膜或膜上所加成之層的表面所構成。

第2圖所示之附防護膜之偏光板所具有的偏光板，係由下列所構成：偏光片10；貼合在其一面之保護膜21；貼合在另一面之保護膜22；及層積在保護膜22的外表面之第1黏著劑層31。第3圖所示之附防護膜之偏光板所具有之偏光板，係由下列所構成：偏光片10；貼合在其一面之保護膜21；貼合在另一面之保護膜22；層積在保護膜22的外表面之第1黏著劑層31；隔著第3黏著劑層 32而層積在保護膜21之外表面的光學膜之增亮膜50。第4圖所示之附防護膜之偏光板所具有之偏光板，除了省略保護膜21，並將第3黏著劑層32直接層積在偏光片10表面以外，係與第3圖所示之偏光板具有同樣的層構成。

雖將圖示省略，然偏光片10與保護膜21、22的貼合係能夠使用接著劑而進行。

(2)偏光片

偏光片10，係具有：吸收具有與其吸收軸平行的振動面之直線偏光，且透射具有與吸收軸正交的(與透射軸平行的)振動面之直線偏光的性質之吸收型的偏光片，能夠適合使用使二色性色素吸附配向在聚乙烯醇系樹脂膜而成之偏光膜。偏光片10係能夠藉由例如包含以下的步驟之方法來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸之步驟；藉由將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色使其吸附二色性色素之步驟；將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜使用硼酸水溶液進行處理之步驟；及在使用硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟。

作為聚乙烯醇系樹脂，係能夠使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而成者。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了乙酸乙烯酯的同元聚合物之聚乙酸乙烯酯，可舉出可與乙酸乙烯酯共聚合的其它單體之共聚物等，能夠與乙酸乙烯酯共聚合之其它單體的例，係包含不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、及具有銨基之(甲基)丙烯 醯胺類等。

聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85至100mol%，98mol%以上為佳。聚乙烯醇系樹脂亦能夠被改性，例如亦能夠使用經醛類改性之聚乙烯基甲醛或聚乙烯基縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度通常為1000至10000，以1500至5000為佳。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度係能夠依據JIS K 6726而求取。

將此種聚乙烯醇系樹脂製膜而成之物，係能夠使用作為偏光片10(偏光膜)的胚膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法並無特別限定，能夠採用眾所周知的方法。聚乙烯醇系胚膜的厚度並無特別限制，為了使偏光片10的厚度成為15μm以下，係以使用5至35μm者為佳。較佳為20μm以下。欲將厚度大於35μm的聚乙烯醇系胚膜延伸而得到厚度15μm以下的偏光片10時，必須提高延伸倍率，即便使偏光片10的厚度成為15μm以下時，在高溫環境下的尺寸收縮亦變大。又，厚度小於5μm時，延伸時的操作性降低且在偏光片製造時，容易產生如斷裂之問題。

聚乙烯醇系樹脂膜的單軸延伸，係能夠在二色性色素的染色前、染色之同時、或染色後進行。單軸延伸在染色後進行時，該單軸延伸係可以在硼酸處理前或硼酸處理中進行。又，亦可在該等複數個階段進行單軸延伸。

在單軸延伸時，可在周速不同的輥筒之間進行單軸延伸，亦可使用熱輥筒進行單軸延伸。又，單軸延 伸係可以是在大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可以是使用溶劑或水使聚乙烯醇系樹脂膜在膨潤之狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率係通常為3至8倍。

作為使用二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色之方法，例如能夠採用將該膜浸漬於含有二色性色素的水溶液之方法。作為二色性色素，能夠使用碘和二色性有機染料。又，聚乙烯醇系樹脂膜，係以預先在染色處理之前在水中施行浸漬處理者為佳。

作為使用碘之染色處理，一般係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有碘及碘化鉀的水溶液中之方法。在該水溶液之碘的含量，係每100重量份之水通常為0.01至1重量份。碘化鉀的含量，係每100重量份之水通常為0.5至20重量份。又，該水溶液的溫度通常為20至40℃。另一方面，作為使用二色性有機染料之染色處理，通常能夠採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有二色性有機染料的水溶液中之方法。含有二色性有機染料之水溶液，亦可含有硫酸鈉等的無機鹽作為染色助劑。該水溶液中之二色性有機染料的含量，係每100重量份之水，通常為1×10^-4至10重量份。該水溶液的溫度通常為20至80℃。

作為使用二色性色素染色後的硼酸處理，一般係採用將染色後的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有硼酸的水溶液中之方法。使用碘作為二色性色素時，該含有硼酸的水溶液，係以含有碘化鉀者為佳。含有硼酸的水溶液中之硼酸的量，係每100重量份之水，通常為2至15重量份。 在該水溶液之碘化鉀的量，係每100重量份之水通常為0.1至15重量份。該水溶液的溫度可為50℃以上，例如為50至85℃。

硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜通常係進行水洗處理。水洗處理係例如能夠藉由將硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在水中來進行。水洗處理中之水的溫度通常為5至40℃。

水洗後，施行乾燥處理而得到偏光片10。乾燥處理係能夠使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器而進行。偏光片10的厚度係以15μm以下為佳，以10μm以下更佳。使偏光片10的厚度成為15μm以下，係對偏光板100、進而對影像顯示裝置的薄型化有利。偏光片10的厚度通常為2μm以上。依照本發明，即便偏光片10的厚度薄至15μm以下，亦能夠抑制附防護膜之偏光板隨著溫度變化及濕度變化而產生的捲曲。

藉由乾燥處理，偏光片10的水分率係能夠減低至實用程度。該水分率通常為5至20重量%，以8至15重量%為佳。水分率低於5重量%時，偏光片10的可撓性消失，偏光片10在其乾燥後會有損傷或斷裂之情形。又，水分率高於20重量%時，偏光片10的熱安定性有變差之情形。

(3)保護膜

能夠層積在偏光片10的一面或兩面之保護膜21、22， 係具有透光性之(較佳是在光學上為透明的)熱可塑性樹脂，例如能夠是由如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；如三乙酸纖維素、二乙酸纖維素之纖維素系樹脂；如聚對酞酸乙二酯、聚對酞酸丁二酯之聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；如甲基丙烯酸甲酯系樹脂之(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚氯乙烯系樹脂；丙烯腈．丁二烯．苯乙烯系樹脂；丙烯腈．苯乙烯系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚偏二氯乙烯(polyvinylidene chloride)系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚縮醛系樹脂；改性聚苯醚系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚芳香酯(polyarylate)系樹脂；聚醯胺醯亞胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂等所構成之膜。尤其是以使用聚烯烴系樹脂、纖維素系樹脂為佳。而且，本說明書所謂「(甲基)丙烯酸系樹脂」，係表示選自由丙烯酸系樹脂及甲基丙烯酸系樹脂所組成群組中之至少1種。在其它附有「(甲基)」之用語亦同樣。

作為鏈狀聚烯烴系樹脂，除了如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂之鏈狀烯烴的同元聚合物，可列舉由2種以上的鏈狀烯烴所構成之共聚物。

環狀聚烯烴系樹脂，係將環狀烯烴作為聚合單元而聚合之樹脂的總稱。舉出環狀聚烯烴系樹脂的具體例時，有環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與如乙烯、丙烯的鏈狀烯烴之共聚物(代表性為無規共聚物)、及使用不飽和羧酸或其衍生物將該等改 性而成之接枝聚合物、以及該等的氫化物等。尤其是使用降莰烯或多環降莰烯系單體等的降莰烯系單體作為環狀烯烴之降莰烯系樹脂為適用。

所謂纖維素系樹脂，係指在從棉花棉絨、木材木槳(闊葉樹木槳、針葉樹木槳)等原料纖維素所得到的纖維素的羥基之氫原子的一部分或全部經乙醯基、丙醯基及/或丁醯基取代後之纖維素有機酸酯或纖維素混合有機酸酯。例如可舉出包含纖維素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯及該等的混合酯等者。尤其是以三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素為佳。

(甲基)丙烯酸系樹脂，係含有源自(甲基)丙烯酸系單體的構成單元之聚合物。該聚合物基本上係含有甲基丙烯酸酯之聚合物。較佳者係相對於總構造單元，含有源自甲基丙烯酸酯之構造單元的比率為50重量%以上之聚合物。(甲基)丙烯酸系樹脂可為甲基丙烯酸酯的同元聚合物，亦可為含有源自其它聚合性單體的構成單元之共聚物。此時，相對於總構造單元，源自其它聚合性單體的構成單元的比率，係以50%以下為佳。

作為能夠構成(甲基)丙烯酸系樹脂之甲基丙烯酸酯，係以甲基丙烯酸烷酯為佳。作為甲基丙烯酸烷酯，可舉出如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯之烷基的 碳數為1至8之甲基丙烯酸烷酯。甲基丙烯酸烷酯中所含有的烷基之碳數，較佳為1至4。(甲基)丙烯酸系樹脂中，甲基丙烯酸酯係可只有單獨使用1種，亦可併用2種以上。

作為能夠構成(甲基)丙烯酸系樹脂之上述其它聚合性單體，能夠舉出丙烯酸酯、及其它在分子內具有聚合性碳-碳雙鍵之化合物。其它聚合性單體係可只有單獨使用1種，亦可併用2種以上。作為丙烯酸酯，係以丙烯酸烷酯為佳。作為丙烯酸烷酯，可舉出如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸2-羥基乙酯之烷基的碳數為1至8之丙烯酸烷酯等。丙烯酸烷酯中所含有的烷基之碳數，較佳為1至4。(甲基)丙烯酸系樹脂中，丙烯酸酯可只有單獨使用1種，亦可併用2種以上。

作為其它在分子內具有聚合性碳-碳雙鍵之化合物，可舉出如乙烯、丙烯、苯乙烯等的乙烯系化合物；如丙烯腈之乙烯基氰化合物。其它在分子內具有聚合性碳-碳雙鍵之化合物，係可只有單獨使用1種，亦可併用2種以上。

將保護膜21、22的相位差值，控制成為適合液晶顯示裝置等的影像顯示裝置之值亦為有用。例如在面內切換(IPS；In-Plane Switching)模式的液晶顯示裝置，以使用實質上相位差值為零的膜作為保護膜22者為佳。所謂實質上相位差值為零，係指在波長590nm之面內相位差值 R₀為10nm以下，在波長590nm之厚度方向相位差值R_th的絕對值為10nm以下，在波長480至750nm之厚度方向相位差值R_th的絕對值為15nm以下。

依照液晶顯示裝置的模式，可對保護膜21、22進行延伸及/或收縮加工，來賦予適合的相位差值。例如以視角補償作為目的，能夠使用單層或多層構造的相位差層(或膜)作為保護膜22。此時，偏光板100係能夠是包含偏光片10及相位差層的積層構造之橢圓偏光板或是圓偏光板；或是兼備包含相位差層的視角補償功能之偏光板等。

保護膜21、22的厚度通常係1至100μm，從強度、操作性等的觀點而言，係以5至60μm為佳，以5至50μm更佳。如為該範圍內的厚度時，能夠機械性地保護偏光片10，即便暴露在濕熱環境下，偏光片10亦不收縮而保持穩定的光學特性。保護膜21、22越薄化，越不容易隨著溫度變化及濕度變化而產生捲曲，依照本發明，即便保護膜21、22的厚度薄至例如30μm以下，亦能夠抑制隨著溫度變化及濕度變化而產生之捲曲。

從薄膜化的觀點而言，偏光板100係能夠是不具有保護膜21、22的至少任一方之構成，較佳是在偏光片10的至少一面具備保護膜。只有在偏光片10的一面層積保護膜時，容易隨著溫度變化及濕度變化而產生捲曲，但是依照本發明，即便此種情況，亦能夠抑制隨著溫度變化及濕度變化而產生之捲曲。

只有在偏光片10的一面層積保護膜時，亦能夠在偏光片10之與層積保護膜的面為相反側的面，設置由與後述的活性能量線硬化性接著劑同樣的活性能量線硬化性樹脂組成物所形成之保護層。藉由設置保護層，即使為只有在偏光片10的一面具有保護膜時之構成，亦能夠更有效地抑制隨著溫度變化及濕度變化而產生之捲曲和偏光片10的劣化。

在偏光片10的兩面貼合保護膜時，該等保護膜可為由同種的熱可塑性樹脂所構成，亦可為由異種的熱可塑性樹脂所構成。又，厚度可為相同亦可為不同。而且，可具有相同的相位差特性，亦可具有不同的相位差特性。

保護膜21、22的至少任一方，亦可在其外表面(與偏光片10為相反側的面)，具備如硬塗層、防眩層、光擴散層、相位差層(具有1/4波長的相位差值之相位差層等)、抗反射層、抗靜電層、防污層之表面處理層(塗佈層)或光學層。

在偏光片10的兩面所層積的保護膜的構成(樹脂種、厚度、有無表面處理層等)互相不同時，容易隨著溫度變化及濕度變化而產生捲曲，但是依照本發明，即便此種情況，亦能夠抑制隨著溫度變化及濕度變化而產生之捲曲。

保護膜21、22係例如能夠隔著接著劑層而貼合在偏光片10。作為形成接著劑層之接著劑，能夠使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑或熱硬化性接著劑， 較佳為水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。

作為水系接著劑，可舉出由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之接著劑、水系二液型胺酯系乳化液接著劑等。尤其是以使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之水系接著劑為佳。作為聚乙烯醇系樹脂，除了乙酸乙烯酯的同元聚合物之聚乙酸乙烯酯進行皂化處理而得到的乙烯醇同元聚合物，可列舉乙酸乙烯酯和能夠與其共聚合的其它單體之共聚物進行皂化處理而得到的聚乙烯醇系共聚物、或是將該等的羥基部分地改性而成之改性聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑係能夠含有醛化合物(乙二醛等)、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等的交聯劑。

使用水系接著劑時，在將偏光片10與保護膜21、22貼合之後，為了將水系接著劑中所含有的水分去除，以實施乾燥步驟為佳。乾燥步驟後，亦可設置例如在20至45℃的溫度進行硬化之硬化步驟。

上述活性能量線硬化性接著劑係指藉由照射如紫外線或電子束的活性能量線而硬化之接著劑，例如能夠舉出含有聚合性化合物及光聚合起始劑之硬化性組成物；含有光反應性樹脂之硬化性組成物；以及含有黏結劑樹脂及光反應性交聯劑之硬化性組成物等。較佳為紫外線硬化性接著劑。作為聚合性化合物，能夠舉出如光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性胺酯系單體之光聚合性單體；或源自光聚合性單體之寡聚 物。作為光聚合起始劑，能夠舉出含有藉由照射活性能量線而產生如中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基的活性物種之物質者。作為含有聚合性化合物及光聚合起始劑之活性能量線硬化性接著劑，能夠適合使用含有光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑之硬化性組成物；含有光硬化性(甲基)丙烯酸系單體及光自由基聚合起始劑之硬化性組成物；或該等硬化性組成物之混合物。

作為光硬化性環氧系單體，係以脂環式環氧化合物為佳。所謂脂環式環氧化合物，係指在分子內具有1個以上與脂環式環的碳原子一起形成環氧乙烷環之構造之化合物。脂環式環氧化合物係可只有單獨使用1種，亦可併用2種以上。所謂「與脂環式環的碳原子一起形成環氧乙烷環之構造」，係從以下所示的構造之(CH₂)_m去除1個或複數個氫原子後的狀態之基。下式中，m為2至5的整數。

因而，去除(CH₂)_m中的1個或複數個氫原子後的狀態之基，鍵結在其它化學構造之化合物，係能夠成為脂環式環氧樹脂。(CH₂)_m中的1個或複數個氫原子亦可被甲基、乙基等的直鏈狀烷基適當地取代。脂環式環氧化合物之中，就顯示優異的接著性而言，係以具有氧雜雙環己烷環(在上述式，m=4者)、氧雜雙環庚烷環(在上述式，m=5者)之脂環式環氧化合物為佳。以下，具體地例示適用 之脂環式環氧化合物。

使用活性能量線硬化性接著劑時，將偏光片10與保護膜21、22貼合之後，係按照必要而進行乾燥步驟，其次，進行藉由照射活性能量線而使活性能量線硬化性接著劑硬化之硬化步驟。因而，使用活性能量線硬化性接著劑時，接著劑層為其硬化物層。活性能量線的光源並 無特別限定，惟以波長400nm以下具有發光分布之紫外線為佳，具體而言，能夠使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。

在將偏光片10與保護膜21、22貼合時，為了提高接著性，能夠對該等至少任一貼合面施行皂化處理、電暈處理、電漿處理等。

在偏光片10的兩面貼合保護膜之情況，用以貼合該等保護膜之接著劑，可為同種接著劑，亦可為異種接著劑。使用異種接著劑時，係容易隨著溫度變化及濕度變化而產生捲曲，但是依照本發明，即便此種情況亦能夠抑制隨著溫度變化及濕度變化而產生之捲曲。

(4)其它光學膜

偏光板100係除了偏光片10及保護膜21、22以外，亦能夠含有其它的光學膜，其代表例為增亮膜50及相位差膜。偏光板100在含有其它光學膜時，亦可在該光學膜表面層積防護膜60。

增亮膜50亦被稱為反射型偏光膜，能夠使用具有將來自光源(背光)的射出光分離成為透射偏光及反射偏光或散射偏光的功能之偏光轉換元件。藉由在偏光片10上配置增亮膜50，利用反射偏光或散射偏光之遞歸光而能夠提升從偏光片10射出的直線偏光之射出效率。增亮膜50係能夠隔著黏著劑層(第3黏著劑層32)而層積在偏光片 10上。亦可使如保護膜的其它膜隔在偏光片10與增亮膜50之間。

增亮膜50係例如可為各向異性反射偏光片。各向異性反射偏光片的一例，係將一振動方向的直線偏光透射而將另一振動方向的直線偏光反射之各向異性多層膜，其具體例係3M公司製的「DBEF」(參照日本特開平4-268505號公報等)。各向異性反射偏光片之另一例係膽固醇型液晶層與λ/4板之複合體，其具體例係日東電工製的「PCF」(參照日本特開平11-231130號公報等)。各向異性反射偏光片之又另一例係反射柵偏光片，其具體例係如在金屬施行微細加工，即便在可見光區域亦射出反射偏光之金屬晶格反射偏光片(參照美國特許第6288840號說明書等)；及在高分子基質中添加金屬微粒子且進行延伸而成之膜(參照日本特開平8-184701號公報等)。

在增亮膜50與第3黏著劑層32之貼合面可預先進行表面活性化處理。藉此，於濕熱環境下，不容易在第3黏著劑層32與增亮膜50之間產生剝落，而能夠成為具有優異的濕熱耐久性之偏光板100。作為表面活性化處理，可舉出如電暈處理、電漿處理、放電處理(輝光放電處理等)、火焰處理、臭氧處理、UV臭氧處理、電離活性線處理(紫外線處理、電子束處理等)之乾式處理；如使用水、丙酮等的溶劑之超音波處理、鹼處理、錨塗處理之濕式處理。該等處理係可單獨進行，亦可組合2種以上。就連續地處理圓筒狀膜而言。尤其是以電暈處理、電漿處理 為佳。

亦可在增亮膜50的外表面，設置如硬塗層、防眩層、光擴散層、相位差層(具有1/4波長的相位差值之相位差層等)、抗反射層、抗靜電層、防污層之表面處理層(塗佈層)或光學層。藉由形成此種層，能夠提升與背光板膠帶的密著性和顯示影像的均勻性。增亮膜50的厚度通常係10至100μm，惟從偏光板100的薄膜化的觀點而言，係以10至50μm為佳，以10至30μm更佳。

(5)黏著劑層(感壓式接著劑層)

為了將附防護膜之偏光板貼合在影像顯示元件(例如液晶單元)或其它的光學構件，係能夠使用第1黏著劑層31。為了將構成偏光板100之光學膜之間(例如增亮膜50之其它光學膜與偏光片10或保護膜21)貼合，係能夠使用第3黏著劑層32。第1黏著劑層31、第3黏著劑層32係能夠由以如(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺酯系、酯系、矽酮系、聚乙烯基醚系的樹脂作為主成分之黏著劑組成物所構成。尤其是以具有優異的透明性、耐候性、耐熱性等之(甲基)丙烯酸系樹脂作為基質聚合物之黏著劑組成物為佳。黏著劑組成物係可為活性能量線硬化型、熱硬化型。

作為使用在黏著劑組成物之(甲基)丙烯酸系樹脂(基質聚合物)，例如能夠適用以如(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之(甲基)丙烯酸酯的1種或2種以上作為單體之 聚合物或共聚物。基質聚合物係以使極性單體共聚合者為佳。作為極性單體，例如能夠舉出如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙基、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、環氧丙基(甲基)丙烯酸酯之具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等之單體。

黏著劑組成物可為只含有上述基質聚合物者，通常係進一步含有交聯劑。作為交聯劑，可例示2價以上的金屬離子且在與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；多胺化合物且與羧基之間形成醯胺鍵者；聚環氧化合物或多元醇且在與羧基之間形成酯鍵者；多異氰酸酯化合物且在與羧基之間形成醯胺鍵者。尤其是以多異氰酸酯化合物為佳。

所謂活性能量線硬化型黏著劑組成物，係指具有接受如紫外線和電子射線之活性能量線的照射而硬化之性質，在活性能量線照射前亦具有黏著性而能夠使其密著在膜等的被黏著物，而且具有能夠藉由照射活性能量線而硬化來調整密著力的性質之黏著劑組成物。活性能量線硬化型黏著劑組成物，係以紫外線硬化型為佳。活性能量線硬化型黏著劑組成物，係除了基質聚合物、交聯劑以外，亦進一步含有活性能量線聚合性化合物。而且按照必要亦含有光聚合起始劑、光敏劑等。

黏著劑組成物，係能夠含有用以賦予光散射性之微粒子，珠粒(樹脂珠粒、玻璃珠粒等)、玻璃纖維、基質聚合物以外的樹脂、黏著性賦予劑、填充劑(金屬粉、 其它的無機粉末等)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、抗腐蝕劑、光聚合起始劑等的添加劑。

第1黏著劑層31及第3黏著劑層32，係能夠藉由在基材上塗佈上述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液且使其乾燥來形成。基材係能夠是偏光片10、保護膜21、22、如增亮膜50之其它光學膜、隔離膜(例如隔離膜70)等。使用活性能量線硬化型黏著劑組成物時，能夠藉由對所形成的黏著劑層，照射活性能量線而成為具有所需要的硬化度之硬化物。

第1黏著劑層31及第3黏著劑層32的厚度通常係1至40μm，惟從偏光板100的薄膜化之觀點、及邊保持良好的加工性邊抑制偏光板100的尺寸變化的觀點而言，係以3至25μm(例如3至20μm、進而3至15μm)為佳。

第3黏著劑層32，係以在23至80℃的溫度範圍顯示0.15至1MPa的儲存彈性模數者為佳。藉此，能夠抑制伴隨著偏光片10在濕熱環境下收縮而容易產生的尺寸變化，而提高偏光板100的耐久性。又，即便搭載有偏光板100之影像顯示裝置設置在濕熱環境下時，因為能夠抑制偏光板100的移動，所以能夠提高影像顯示裝置的可靠性。

所謂「在23至80℃的溫度範圍顯示0.15至1MPa的儲存彈性模數」，係指在該範圍的任一溫度，儲存 彈性模數均為上述範圍內之值。因為儲存彈性模數通常係伴隨著溫度上升而逐漸減小，所以在23℃及80℃之儲存彈性模數的任一者均落入上述範圍時，能夠觀察到在該範圍的溫度，係顯示上述範圍內的儲存彈性模數。第3黏著劑層32的儲存彈性模數，係能夠使用市售的黏彈性測定裝置、例如REOMETRIC公司製的黏彈性測定裝置「DYNAMIC ANALYZER RDA II」而測定。

作為將儲存彈性模數調整成為上述範圍之方法，可舉出在基質聚合物、或進一步含有交聯劑之黏著劑組成物，進一步添加寡聚物、具體而言為胺酯(甲基)丙烯酸酯系的寡聚物，而成為活性能量線硬化型黏著劑組成物(較佳為紫外線硬化型黏著劑組成物)。較佳是照射活性能量線而使黏著劑層適當地硬化

第1黏著劑層31的儲存彈性模數可與第3黏著劑層32同樣，亦可不同。

(6)隔離膜

隔離膜70，係為了保護第1黏著劑層31至貼合在影像顯示元件(例如液晶單元)或其它光學構件為止而將其表面暫時貼合之膜。隔離膜70通常係由在一面施行有脫模處理之熱可塑性樹脂膜所構成，該脫模處理面係貼合在第1黏著劑層31。構成隔離膜70之熱可塑性樹脂，係例如能夠是如聚乙烯的聚乙烯系樹脂、如聚丙烯的聚丙烯系樹脂、如聚對酞酸乙二酯和聚萘二甲酸乙二酯的聚酯系樹脂 等。在第3黏著劑層32的表面，為了保護其表面至貼合增亮膜50等的光學膜為止，亦能夠預先貼合與上述同樣的隔離膜。隔離膜70的厚度係例如10至50μm。

(7)防護膜

防護膜60，係由基材膜61、及層積在其上之第2黏著劑層62所構成。防護膜60係為了保護偏光板100的表面之膜，通常係例如將附防護膜之偏光板貼合在影像顯示元件或其它光學構件之後，剝離去除其各所具有之第2黏著劑層62。

如上述防護膜60，亦包含第2黏著劑層62之全體的透濕度，係在溫度40℃、相對濕度90%的條件下為15g/(m²．24hr)以下，較佳為12g/(m²．24hr)以下。作為將防護膜60的透濕度調整成為上述範圍內之方法，可舉出使用低透濕性材料作為基材膜61的構成材料。低透濕性材料的例係低透濕性的樹脂，較佳為熱可塑性樹脂，具體而言，能夠舉出如聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂之聚烯烴系樹脂；環狀聚烯烴系樹脂；如聚對酞酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯之聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂等。

基材膜61可為單層構成，亦可為多層構造。例如即便使用具有比較高的透濕度之樹脂膜時，藉由在此層積低透濕性的膜或層，亦能夠將防護膜60的透濕度調整為上述範圍內。從製造容易性及製造成本等的觀點而言， 基材膜61較佳為單層構成。

又，亦可藉由增大基材膜61的厚度，而將防護膜60的透濕度調整為上述範圍內。基材膜61的厚度，係能夠是20至190μm(例如30至140μm)，防護膜60的厚度係能夠是60至200μm(例如70至150μm)。防護膜60的厚度大於200μm，在成本、捲物搬運性、防護膜60的再加工(rework)性方面為不利。

關於第2黏著劑層62的構成，基本上係能夠引用前述第1黏著劑層31及第3黏著劑層32之相關記載，藉由增加第2黏著劑層62的厚度，或是使第2黏著劑層62含有吸濕性物質(吸濕性粒子等)，亦能夠將防護膜60的透濕度調整成為上述範圍內。亦可將上面所敘述的方法組合複數種而將防護膜60的透濕度調整為上述範圍內。

本發明係包含在附防護膜之偏光板所含有的偏光板100具有以偏光片10作為基準之非對稱的層構成之情況等，在具有因溫度變化及濕度變化而容易產生捲曲的構成之情況為特別有利。因溫度變化及濕度變化而容易產生捲曲的構成之例係如下所述。

(a)偏光片10及/或保護膜21、22為較薄的構成，(b)隔在偏光片10與保護膜之間之接著劑層，為活性能量線硬化性接著劑的硬化物層之構成、(c)只在偏光片10的一面貼合有保護膜之構成，(d)在偏光片10的一面貼合有保護膜，而在另一面貼合有保護膜以外的光學膜(增亮膜等)之構成， (e)在偏光片10的兩面貼合的保護膜的構成(樹脂種類、厚度、有無表面處理層等)係互為不同之構成，(f)用以在偏光片10的兩面貼合保護膜之接著劑層係由互為異種的接著劑所形成之構成，(g)在偏光片10的兩面貼合有保護膜，而且在一方的保護膜上貼合其它光學膜之構成，(h)此外，以偏光片10作為基準，在一側之膜及層的合計數係與在另一側之膜及層的合計數為不同之構成。

<積層體、液晶面板及影像顯示裝置>

本發明之附防護膜之偏光板，係能夠適合應用在積層體，該積層體係包含影像顯示元件、及層積在其上之附防護膜之偏光板。在該積層體，附防護膜之偏光板係能夠隔著黏著劑層(例如第1黏著劑層31)而(具有如隔離膜70的隔離膜時，係將其剝離去除之後)貼合在影像顯示元件上。將附防護膜之偏光板貼合在影像顯示元件之後，在所需要的時間點將防護膜60剝離去除。該積層體係能夠是包含影像顯示元件、及層積在其一面或兩面的偏光板之液晶面板或其製造中間體。防護膜60係建構積層體之後，建構貼合有防護膜60的狀態之液晶面板之後，或是使用貼合有防護膜60的狀態之液晶面板而建構影像顯示裝置之後等而剝離去除。通常，作為影像顯示裝置之最後製品，係將防護膜60剝離去除。

影像顯示裝置，係可為液晶顯示裝置、有機 EL顯示裝置等任一者，以液晶顯示裝置為佳。液晶顯示裝置係具備液晶面板及背光板，其中該液晶面板係具備作為影像顯示元件之液晶單元。在建構液晶顯示裝置時，本發明之附防護膜之偏光板係可以使用於被配置在視認側之偏光板，亦可以使用於被配置在背光側之偏光板，亦可以使用於視認側及背光側之雙方的偏光板，較佳者是本發明之附防護膜之偏光板至少使用於背光側的偏光板。

[實施例]

以下，顯示實施例及比較例而更具體地說明本發明，但是本發明係不被該等例所限定。下述例中，膜的透濕度、濕度膨脹係數、厚度、面內相位差值R₀及厚度方向相位差值R_th、黏著劑層的儲存彈性模數、以及附防護膜之偏光板的捲曲量，係依照以下的方法而測定。

(1)透濕度

依據在JIS Z 0208規定之杯法，測定在溫度40℃、相對濕度90%之防護膜的透濕度[g/(m²．24hr)]。

(2)濕度膨脹係數

偏光板及防護膜的濕度膨脹係數[ppm．%RH^-1]，係依照以下的方法而測定。將膜試樣切割成為100mm×100mm，測定在23℃ 50%RH時、及23℃ 90%RH時的膜搬運方向之長度，依照下述式：濕度膨脹係數=(L90-L50)/(L50×ΔH)

測定濕度膨脹係數[ppm．%RH^-1]。在此，L50係在23℃ 50%RH時的膜搬運方向之長度(mm)，L90係在23℃ 90%RH時的膜搬運方向之長度(mm)，ΔH為40(=90-50)%RH。

(3)厚度

使用Nikon(股)製的數位測微計「MH-15M」而測定。

(4)面內相位差值R_e及厚度方向相位差值R_th

使用以平行尼科耳旋轉法作為原理之相位差計亦即王子計量機器(股)製的「KOBRA-ADH」，在23℃採用波長590nm、483nm或755nm的光線進行測定。

(5)儲存彈性模數

黏著劑層的儲存彈性模數G’係依照以下的(I)至(III)而測定。

(I)從黏著劑層取出二個試料各25±1mg，各自成形為近球狀。

(II)將所得到近球狀的試料，貼在I型夾具的上下面，上下面均使用L型夾具夾入。測定試料的構成，係成為L型夾具/黏著劑/I型夾具/黏著劑/L型夾具。

(III)使用IT計量控制(股)製的動態黏彈性測定裝置「DVA-220」在溫度23℃或80℃、頻率1Hz、初期應變1N的條件下測定如此進行而製成的試料之儲存彈性模數 G’。

(6)捲曲量

從附防護膜之偏光板切取221mm×139mm尺寸的片狀物，將貼在該片狀物的第1黏著劑層之隔離膜剝下且貼合在225mm×145mm、厚度0.4mm的無鹼玻璃而得到測定試樣。將該測定試樣在80℃ 90%RH環境下靜置5小時之後，使其返回室溫(23℃ 50%RH)。隨後，將測定試樣，使其偏光板側朝上而放置在Nikon(股)製的二維測定器「NEXIV VMR-12072」的測定台上。其次，將焦點對準偏光板之中央部的表面且以其作為基準，將焦點對準偏光板的4角部，來測定從作為基準之焦點起算之高度差的距離。將4角部的平均距離設作捲曲量。

(偏光片的製造)

藉由乾式延伸將厚度20μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上)在縱向單軸延伸約5倍，而且在保持拉緊狀態下，在60℃的純水浸漬1分鐘之後，在碘/碘化鉀/水的重量比為0.05/5/100之28℃的水溶液浸漬60秒鐘。隨後，在碘化鉀/硼酸/水的重量比為8.5/8.5/100之72℃的水溶液浸漬300秒鐘。接著，使用26℃的純水洗淨20秒鐘之後，在65℃進行乾燥處理而得到碘吸附配向在聚乙烯醇膜之厚度7μm的偏光片。

(準備防護膜)

準備以下3種類的防護膜：

‧防護膜A：由厚度75μm的基材膜、及厚度13μm之丙烯酸系的第2黏著劑層所構成(透濕度8g/(m²．24hr)、濕度膨脹係數6.4ppm．%RH^-1、總厚度88μm)，其中該基材膜係由聚對酞酸乙二酯所構成。

‧防護膜B：由厚度75μm的基材膜、及厚度18μm之丙烯酸系的第2黏著劑層所構成(透濕度10g/(m²．24hr)、濕度膨脹係數6.8ppm．%RH^-1、總厚度93μm)，其中該基材膜係由聚對酞酸乙二酯所構成。

‧防護膜C：由厚度38μm的基材膜、及厚度20μm之丙烯酸系的第2黏著劑層所構成(透濕度17g/(m²．24hr)、濕度膨脹係數6.4ppm．%RH^-1、總厚度58μm)，其中該基材膜係由聚對酞酸乙二酯所構成。

(準備第1保護膜)

準備在Konica Minolta(股)製的三乙酸纖維素膜(厚度25μm、商品名「KC2UA」)層積有厚度7μm的丙烯酸系硬塗層之膜。

(準備第2保護膜)

準備日本ZEON(股)製的環狀聚烯烴系樹脂膜(厚度13μm，在波長590nm的面內相位差值R_e=0.8nm，在波長590nm的厚度方向相位差值R_th=3.4nm，在波長483nm的厚 度方向相位差值R_th=3.5nm，在波長755nm的厚度方向相位差值R_th=2.8nm)。

(準備第1黏著劑層)

準備市售之附隔離膜的黏著劑層作為附隔離膜的第1黏著劑層，其中該市售之附隔離膜的黏著劑層係在經施行脫模處理之由厚度38μm的聚對酞酸乙二酯所構成之隔離膜的脫模處理面設置有厚度20μm的丙烯酸系黏著劑層。該黏著劑層的儲存彈性模數係在23℃為0.05MPa，在80℃為0.04MPa。

(水系接著劑的調製)

相對於水100重量份，將3重量份羧基改性聚乙烯醇[(股)KURARAY製的「KL-318」]溶解而調製聚乙烯醇水溶液。相對於水100重量份，將水溶性聚醯胺環氧樹脂[田岡化學工業(股)製的「Sumirez Resin 650(30)」、固體含量濃度30重量%]，以1.5重量份的比率混合在所得到的水溶液而得到水系接著劑。

<實施例1>

在以下的程序，製造具有與第2圖同樣的層構成之附防護膜之偏光板。首先，使用上述水系接著劑，將上述第1保護膜21以硬塗層成為從偏光片10較遠側之方式，貼合在上述的偏光片10之一面，而且，相同地使用上述水系 接著劑，將第2保護膜22貼合在相反面。隨後，在80℃使其乾燥5分鐘且在40℃硬化168小時。所得到的偏光板之濕度膨脹係數為28ppm．%RH^-1。

其次，將上述的第1黏著劑層31(在外面具有隔離膜)貼合在第2保護膜22之與偏光片10側為相反側的面。而且，將上述的防護膜A隔著其第2黏著劑層而貼合在第1保護膜21的硬塗層之外表面，而得到附防護膜之偏光板。針對所得到之附防護膜之偏光板，依照上述的方法測定捲曲量。將結果顯示在表1。

<實施例2>

除了使用防護膜B代替防護膜A以外，係與實施例1同樣地進行而製造附防護膜之偏光板及其片狀物且測定捲曲量。將結果顯示在表1。

<比較例1>

除了使用防護膜C代替防護膜A以外，係與實施例1同樣地進行而製造附防護膜之偏光板及其片狀物且測定捲曲量。將結果顯示在表1。

(準備第1保護膜(B))

準備Konica Minolta(股)製的三乙酸纖維素膜(厚度25μm、商品名「KC2TW」、在波長590nm的面內相位差值R_e=1.2nm、在波長590nm的厚度方向相位差值R_th=1.3nm)。

(第3黏著劑層的調製)

將在丙烯酸丁酯與丙烯酸的共聚物中添加有胺酯丙烯酸酯寡聚物及異氰酸酯系交聯劑之有機溶劑溶液，使用模塗佈機且以乾燥後的厚度成為5μm之方式塗佈在由經施行脫模處理之厚度38μm的聚對酞酸乙二酯膜所構成之隔離膜的脫模處理面，而且藉由使其乾燥而調製附隔離膜的第3黏著劑層。該第3黏著劑層的儲存彈性模數係在23℃為0.40MPa，在80℃為0.18MPa。

<實施例3>

首先，使用上述水系接著劑將上述第1保護膜(B)作為第1保護膜21而貼合在上述偏光片10的一面，將上述第3黏著劑層(外表面具有隔離膜)貼合在相反面。其次，將第3黏著劑層的隔離膜剝離去除之後，將厚度26μm的增亮膜(3M公司製的「Advanced Polarized Film,Version 3」)貼合在因剝離而露出的第3黏著劑層表面。所得到的偏光板之濕度膨脹係數為9.3ppm．%RH^-1。

而且，將上述防護膜A隔著其第2黏著劑層而貼合在增亮膜的外表面，得到附防護膜之偏光板。針對所得到之附防護膜之偏光板，依照上述的方法而測定捲曲量。將結果顯示在表1。

<比較例2>

除了使用防護膜C代替防護膜A以外，係與實施例3同樣地進行而製造附防護膜之偏光板及其片狀物且測定捲曲量。將結果顯示在表1。

31:第1黏著劑層

60:防護膜

61:基材膜

62:第2黏著劑層

70:隔離膜

100:偏光板

Claims (10)

1. 一種附防護膜之偏光板，係具備含有偏光片之偏光板、及可剝離地層積在其一表面之防護膜，該防護膜在溫度40℃、相對濕度90%之透濕度為15g/(m²．24hr)以下。
2. 如申請專利範圍第1項所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光板的厚度為125μm以下。
3. 如申請專利範圍第1項所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光板的另一表面係由第1黏著劑層表面所構成。
4. 如申請專利範圍第1項所述之附防護膜之偏光板，其中前述防護膜係由層積在前述一表面之第2黏著劑層、及層積在其上之單層基材膜所構成。
5. 如申請專利範圍第1項所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光板係進一步含有隔著活性能量線硬化性接著劑的硬化物層而層積在前述偏光片的至少一表面之保護膜。
6. 如申請專利範圍第1項所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光板的另一表面係由第1黏著劑層之表面所構成，且該偏光板進一步具備：層積在前述偏光板的另一表面之隔離膜。
7. 如申請專利範圍第1項所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光板係進一步含有前述偏光片以外的光學膜，前述防護膜係層積在前述光學膜的表面。
8. 如申請專利範圍第7項所述之附防護膜之偏光板，其中 前述光學膜係增亮膜。
9. 如申請專利範圍第1項所述之附防護膜之偏光板，其中前述偏光片的厚度為15μm以下。
10. 一種積層體，係含有影像顯示元件、及層積在其上之如申請專利範圍第1至9項中任一項所述之附防護膜之偏光板。

Images