JP2019159197A - 光学積層体の製造方法及び粘着層付き光学積層体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】逆カールが抑制された光学積層体及び粘着層付き光学積層体を製造することができる製造方法を提供する。【解決手段】光学フィルム、第１粘着層、第１液晶層、第２粘着層、及び第２液晶層がこの順に積層された光学積層体の製造方法は、第２粘着層を介して第１液晶層と第２液晶層とが対向するように、基材層付き第１液晶層と基材層付き第２液晶層とを積層して基材層付き液晶層積層体を得る工程と、基材層付き液晶層積層体から少なくとも第１基材層を剥離して液晶層積層体を得る工程と、第１基材層を剥離することによって露出した液晶層積層体の第１露出面側に、第１粘着層を介して光学フィルムを積層する工程と、を含む。【選択図】図２

Description

本発明は、光学積層体の製造方法及び粘着層付き光学積層体の製造方法に関する。

有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を用いた有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置等に比べて軽量化や薄型化が可能であるだけでなく、幅広い視野角、速い応答速度、高いコントラスト等の高画質を実現できるため、スマートフォンやテレビ、デジタルカメラ等、様々な分野で用いられている。また、有機ＥＬ表示装置では、薄型でバックライトを用いずに表示できることから、折り曲げたり、巻き取るような装置形状も提案されている。有機ＥＬ表示装置では、外光の反射による視認性の低下を抑制するために、円偏光板等を用いて反射防止性能を向上させることが知られている。

例えば特許文献１及び２には、有機ＥＬ表示装置等の画像表示パネルに適用されるフィルムとして、反射防止機能を有する光学フィルムが記載されており、この光学フィルムは、液晶材料を用いて形成された位相差層を有することが記載されている。

特開２０１５−２３０３８６号公報 特開２０１５−７９２５６号公報

上記のような光学フィルムには、表示装置の特徴である軽量化・薄型化を損なわないよう、従来以上の薄型化、折り曲げ性が求められている。また、上記光学フィルムは光学表示素子に貼合して使用されるが、光学フィルムに、光学表示素子に貼合する側が凹となるようにカールする、いわゆる逆カールが生じていると、光学フィルムと光学表示素子とを貼り合わせる際に気泡が混入する、あるいはシワが入ることでムラとして視認される等の不具合が生じやすくなる傾向にある。このような不具合は、画像表示パネルの不良の原因となるため、光学フィルムの逆カールを抑制することが望まれている。

本発明は、逆カールが抑制された光学積層体及び粘着層付き光学積層体を製造することができる製造方法の提供を目的とする。

本発明は、以下に示す光学積層体の製造方法及び粘着層付き光学積層体の製造方法を提供する。
〔１〕 光学フィルム、第１粘着層、第１液晶層、第２粘着層、及び第２液晶層がこの順に積層された光学積層体の製造方法であって、
第１基材層と、前記第１基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した前記第１液晶層とを有する基材層付き第１液晶層を準備する工程と、
第２基材層と、前記第２基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した前記第２液晶層とを有する基材層付き第２液晶層を準備する工程と、
前記第２粘着層を介して前記第１液晶層と前記第２液晶層とが対向するように、前記基材層付き第１液晶層と前記基材層付き第２液晶層とを積層して基材層付き液晶層積層体を得る工程と、
前記基材層付き液晶層積層体から少なくとも前記第１基材層を剥離して液晶層積層体を得る工程と、
前記第１基材層を剥離することによって露出した前記液晶層積層体の第１露出面側に、前記第１粘着層を介して前記光学フィルムを積層する工程と、を含む、光学積層体の製造方法。
〔２〕 前記光学フィルムを積層する工程は、
前記光学フィルム上に前記第１粘着層を形成して粘着層付き光学フィルムを得る工程と、
前記粘着層付き光学フィルムの前記第１粘着層と、前記液晶層積層体の前記第１露出面とを貼合する工程と、を含む、〔１〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔３〕 前記粘着層付き光学フィルムを得る工程は、
前記第１粘着層と第１剥離層とが積層された剥離層付き第１粘着層を準備する工程と、
前記剥離層付き第１粘着層の前記第１粘着層と前記光学フィルムとを貼合した後、前記第１剥離層を剥離する工程と、を含む、〔２〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔４〕 前記光学フィルムを積層する工程は、
前記液晶層積層体の前記第１露出面上に前記第１粘着層を形成して第１粘着層付き液晶層積層体を得る工程と、
前記第１粘着層付き液晶層積層体の前記第１粘着層と、前記光学フィルムとを貼合する工程と、を含む、〔１〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔５〕 前記第１粘着層付き液晶層積層体を得る工程は、
前記第１粘着層と第１剥離層とが積層された剥離層付き第１粘着層を準備する工程と、
前記剥離層付き第１粘着層の前記第１粘着層と前記液晶層積層体の前記第１露出面とを貼合した後、前記第１剥離層を剥離する工程と、を含む、〔４〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔６〕 前記基材層付き液晶層積層体を得る工程は、
第２粘着層と第２剥離層とが積層された剥離層付き第２粘着層を準備する工程と、
前記剥離層付き第２粘着層の前記第２粘着層と、前記基材層付き第１液晶層の前記第１液晶層、又は、前記基材層付き第２液晶層の前記第２液晶層とを貼合した後、前記第２剥離層を剥離する工程と、を含む、〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
〔７〕 前記光学フィルムは、偏光板を含む、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
〔８〕 前記光学フィルムは、偏光板の少なくとも片面にプロテクトフィルムが積層されたプロテクトフィルム付き偏光板を含む、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
〔９〕 前記液晶層積層体を得る工程は、前記基材層付き液晶層積層体から前記第１基材層を剥離し、前記第２基材層を剥離しない工程であり、
前記光学フィルムを積層する工程の後に、さらに、前記第２基材層を剥離する工程を含む、〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
〔１０〕 前記液晶層積層体を得る工程は、前記基材層付き液晶層積層体から前記第１基材層及び前記第２基材層を剥離して液晶層積層体を得る工程である、〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
〔１１〕 光学フィルム、第１粘着層、第１液晶層、第２粘着層、第２液晶層、及び第３粘着層がこの順に積層された粘着層付き光学積層体の製造方法であって、
前記〔９〕又は〔１０〕に記載の光学積層体の製造方法で製造された光学積層体を準備する工程と、
前記第２基材層を剥離することによって露出した前記光学積層体の第２露出面側に、前記第３粘着層を積層する工程と、を含む、粘着層付き光学積層体の製造方法。
〔１２〕 前記第３粘着層を積層する工程は、
前記第３粘着層と第３剥離層とが積層された剥離層付き第３粘着層を準備する工程と、
前記剥離層付き第３粘着層の前記第３粘着層と、前記光学積層体の前記第２露出面とを貼合する工程と、を含む、〔１１〕に記載の粘着層付き光学積層体の製造方法。
〔１３〕 光学フィルム、第１粘着層、第１液晶層、第２粘着層、第２液晶層、及び第３粘着層がこの順に積層された粘着層付き光学積層体の製造方法であって、
第１基材層と、前記第１基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した前記第１液晶層とを有する基材層付き第１液晶層を準備する工程と、
第２基材層と、前記第２基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した前記第２液晶層とを有する基材層付き第２液晶層を準備する工程と、
前記第２粘着層を介して前記第１液晶層と前記第２液晶層とが対向するように、前記基材層付き第１液晶層と前記基材層付き第２液晶層とを積層して基材層付き液晶層積層体を得る工程と、
前記基材層付き液晶層積層体から少なくとも前記第２基材層を剥離して液晶層積層体を得る工程と、
前記第２基材層を剥離することによって露出した前記液晶層積層体の第２露出面側に、前記第３粘着層を積層して第３粘着層付き液晶層積層体を得る工程と、
前記基材層付き液晶層積層体又は前記第３粘着層付き液晶層積層体から前記第１基材層を剥離する工程と、
前記第１基材層を剥離することによって露出した前記第３粘着層付き液晶層積層体の第１露出面側に、前記第１粘着層を介して前記光学フィルムを積層する工程と、を含む、粘着層付き光学積層体の製造方法。
〔１４〕 前記第３粘着層付き液晶層積層体を得る工程は、
前記第３粘着層と第３剥離層とが積層された剥離層付き第３粘着層を準備する工程と、
前記剥離層付き第３粘着層の前記第３粘着層と、前記液晶層積層体の前記第２露出面とを貼合した後、前記第３剥離層を剥離する工程と、を含む、〔１３〕に記載の粘着層付き光学積層体の製造方法。

本発明によれば、逆カールが抑制された光学積層体及び粘着層付き光学積層体を製造することができる。

（ａ）〜（ｅ）は、本発明の光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は、図１に示す光学積層体の製造工程の続きを模式的に示す概略断面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、図２に示す光学積層体の製造工程の続きを模式的に示す概略断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は、図３に示す光学積層体の製造工程の続きを模式的に示す概略断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は、本発明の粘着層付き光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）〜（ｄ）は、本発明の他の粘着層付き光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）〜（ｅ）は、本発明とは異なる光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）〜（ｄ）は、図７に示す光学積層体の製造工程の続きを模式的に示す概略断面図である。

以下、図面を参照して本発明の光学積層体の製造方法及び粘着層付き光学積層体の製造方法の好ましい実施形態について説明する。

［実施形態１（光学積層体の製造方法）］
図１〜図４は、本実施形態の光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の光学積層体７０の製造方法によって製造される光学積層体７０は、図４（ｂ）に示すように、光学フィルム６０、第１粘着層３１、第１液晶層１２、第２粘着層３２、及び第２液晶層２２がこの順に積層されたものである。

光学積層体７０の製造方法は、図１（ａ）に示す基材層付き第１液晶層１０と、図１（ｂ）に示す基材層付き第２液晶層２０とを準備する工程を含む。基材層付き第１液晶層１０は、第１基材層１１と、第１基材層１１上で重合性液晶化合物を重合して形成した第１液晶層１２とを有するものであり、基材層付き第２液晶層２０は、第２基材層２１と、第２基材層２１上で重合性液晶化合物を重合して形成した第２液晶層２２とを有するものである。

基材層付き第１液晶層１０を準備する工程は、第１基材層１１上に、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布して乾燥し、紫外線等の活性エネルギー線照射により重合性液晶化合物を重合して硬化させた第１液晶層１２を形成する工程を含んでいてもよい。同様に、基材層付き第２液晶層２０を準備する工程は、第２基材層２１上に、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布して乾燥し、紫外線等の活性エネルギー線照射により重合性液晶化合物を重合して硬化させた第２液晶層２２を形成する工程を含んでいてもよい。

次に、第２剥離層５２上に第２粘着層３２が形成された剥離層付き第２粘着層５７を準備する（図１（ｃ））。粘着層付き第２粘着層５７を準備する工程は、第２剥離層５２上に、粘着剤組成物を塗布、乾燥等して第２粘着層３２を形成する工程を含んでいてもよい。また、必要に応じて、第２粘着層３２の第２剥離層５２とは反対側の面を、他の剥離層で被覆する工程を設けてもよい。準備した剥離層付き第２粘着層５７の第２粘着層３２と、基材層付き第２液晶層２０の第２液晶層２２とを貼合した後（図１（ｄ））、第２剥離層５２を剥離する工程を行って、粘着層付き第２液晶層２５を得る（図１（ｅ））。粘着層付き第２液晶層２５は、図１（ｅ）に示すように、第２粘着層３２、第２液晶層２２、及び第２基材層２１がこの順に積層されたものである。

得られた粘着層付き第２液晶層２５の第２粘着層３２と、基材層付き第１液晶層１０の第１液晶層１２とを貼合して基材層付き液晶層積層体４０を得る（図２（ａ））。基材層付き液晶層積層体４０は、図２（ａ）に示すように、第１基材層１１、第１液晶層１２、第２粘着層３２、第２液晶層２２、及び第２基材層２１がこの順に積層されたものである。この基材層付き液晶層積層体４０から、第１基材層１１を剥離して、第２基材層２１を剥離しないことにより、液晶層積層体４１を得る（図２（ｂ））。液晶層積層体４１は、図２（ｂ）に示すように、第１液晶層１２、第２粘着層３２、第２液晶層２２、及び第２基材層２１がこの順に積層されたものである。

続いて、第１剥離層５１上に第１粘着層３１が形成された剥離層付き第１粘着層５０を準備する（図３（ａ））。粘着層付き第１粘着層５０を準備する工程は、第１剥離層５１上に、粘着剤組成物を塗布、乾燥等して第１粘着層３１を形成する工程を含んでいてもよい。また、必要に応じて、第１粘着層３１の第１剥離層５１とは反対側の面を、他の剥離層で被覆する工程を設けてもよい。準備した剥離層付き第１粘着層５０の第１粘着層３１と光学フィルム６０とを貼合し（図３（ｂ））、第１剥離層５１を剥離して、粘着層付き光学フィルム６１を得る（図３（ｃ））。粘着層付き光学フィルム６１は、図３（ｃ）に示すように、光学フィルム６０と第１粘着層３１とが積層されたものである。

その後、粘着層付き光学フィルム６１の第１粘着層３１と、第１基材層１１を剥離することによって露出した液晶層積層体４１の第１液晶層１２（第１露出面）とを貼合して基材層付き光学積層体７１（光学積層体）を得る（図４（ａ））。基材層付き光学積層体７１は、図４（ａ）に示すように、光学フィルム６０、第１粘着層３１、第１液晶層１２、第２粘着層３２、第２液晶層２２、及び第２基材層２１がこの順に積層されたものである。この基材層付き光学積層体７１から第２基材層２１を剥離することにより、光学積層体７０を得ることができる（図４（ｂ））。

上記した光学積層体７０の製造方法では、第１基材層１１や第２基材層２１（以下、両者をまとめて「基材層」ということがある。）上で重合性化合物を重合して硬化させた基材層付き第１液晶層１０や基材層付き第２液晶層２０（以下、両者をまとめて「基材層付き液晶層」ということがある。）を用いている。基材層付き液晶層では、通常、基材層上に、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布して乾燥し、紫外線等の活性エネルギー線照射により重合性液晶化合物を重合させて硬化させることにより、第１液晶層１２や第２液晶層２２（以下、両者をまとめて「液晶層」ということがある。）が形成され得る。上記した塗布、乾燥、重合、硬化等の工程を経て形成された液晶層には、塗布された液晶層形成用組成物の乾燥や、重合性液晶化合物の重合に伴う硬化時に生じた収縮応力が残留していると推測される。液晶層が基材層上に存在している基材層付き液晶層の状態では、上記の収縮応力は基材層によって抑制されているが、上記したように、基材層は光学積層体７０を製造する工程において剥離されるため、基材層の剥離により液晶層の収縮応力が解放されると考えられる。このとき、液晶層が光学フィルムに貼合されていると、基材層を剥離することによって解放された収縮応力により、光学フィルムと液晶層との積層体には、液晶層側を内側として弓なりに反る変形（以下、「逆カール」ということがある。）が発生することがある。

このようなカールの発生は、光学フィルム６０と液晶層とを積層した後に、基材層を剥離して液晶層の収縮応力を解放する回数が多いほど生じやすいと考えられる。例えば、図７及び図８に示すように、光学フィルムに液晶層を順次積層して光学積層体を製造する場合には、光学フィルムと液晶層とを積層した後に、液晶層の収縮応力を解放する回数が多くなる傾向にある。図７及び図８は、図１〜図４に示す光学積層体の製造工程とは異なる光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。

図８（ｄ）に示す光学積層体７０ｐの製造方法では、まず、光学フィルム６０ｐと第１粘着層３１ｐとを積層した粘着層付き光学フィルム６１ｐ（図７（ａ））の第１粘着層３１ｐに、第１基材層１１ｐ上で重合性液晶化合物を重合して形成した第１液晶層１２ｐを有する基材層付き第１液晶層１０ｐ（図７（ｂ））の第１液晶層１２ｐ側を貼合する（図７（ｃ））。その後、第１基材層１１ｐを剥離し（図７（ｄ））、この剥離によって露出した第１液晶層１２ｐと、第２剥離層５２ｐ上に形成された第２粘着層３２ｐとを貼合して（図７（ｅ））、第２剥離層５２ｐを剥離する（図８（ａ））。次に、第２基材層２１ｐ上で重合性液晶化合物を重合して形成した第２液晶層２２ｐを有する基材層付き第２液晶層２０ｐ（図８（ｂ））の第２液晶層２０ｐ側を、第２粘着層３２ｐに貼合して基材層付き光学積層体７１ｐを得る（図８（ｃ））。この基材層付き光学積層体７１ｐから第２基材層２１ｐを剥離して、光学積層体７０ｐ（図８（ｄ））を得る。

このように図７及び図８に示す製造工程では、光学フィルム６０ｐに第１粘着層３１ｐを介して第１液晶層１２ｐを積層した後に第１基材層１１ｐを剥離し、第１液晶層１２ｐ上に第２粘着層３２ｐを介して第２液晶層２２ｐを積層した後に第２基材層２１ｐを剥離している。そのため、第１基材層１１ｐ及び第２基材層２１ｐを剥離する各工程において、第１液晶層１２ｐ及び第２液晶層２２ｐの収縮応力がそれぞれ解放されるため、光学積層体７０ｐに逆カールが発生しやすいと考えられる。

これに対し、図１〜図４に示す本実施形態の光学積層体７０の製造方法では、まず、基材層付き第１液晶層１０と基材層付き第２液晶層２０とを、第２粘着層３２を介して積層して基材層付き液晶層積層体４０を得ている（図２（ａ））。その後、第１基材層１１を剥離して、第１液晶層１２の収縮応力を解放した液晶層積層体４１を得（図２（ｂ））、この液晶層積層体４１と光学フィルム６０とを貼合して（図４（ａ））、第２基材層２１を剥離している（図４（ｂ））。そのため、光学積層体７０の製造方法によれば、光学フィルム６０に第１液晶層１２や第２液晶層２２を積層した後に行われる剥離工程は、第２基材層２１を剥離する工程のみであり、図７及び図８に示す製造工程に比べて、光学フィルムに液晶層を積層した後に、液晶層の収縮応力を解放する回数を低減することができる。これにより、図１〜図４に示す光学積層体７０の製造方法では、光学積層体７０に発生する逆カールを、図７及び図８に示す製造工程で得られた光学積層体７０ｐに比較して低減することができると考えられる。光学積層体７０に発生する逆カールを低減することにより、この光学積層体７０を用いて得られる粘着層付き光学積層体（後述）を、光学表示素子に貼合する際に、粘着層付き光学積層体と光学表示素子との間に気泡が混入したり、シワが生じたり、貼合ミスが生じたりするといった不具合を抑制することができる。

また、図７（ｅ）に示すように、光学フィルム６０ｐと第１液晶層１２ｐとを積層した後に、第１液晶層１２ｐ上に第２粘着層３２ｐを設けることがある。この場合、上記したように、第２剥離層５２ｐ上に設けられた第２粘着層３２ｐを、第２剥離層５２ｐとともに第１液晶層１２ｐ上に積層した後、第２剥離層５２ｐを剥離することがある。第２剥離層５２ｐを剥離する工程も、光学積層体７０ｐに逆カールが発生しやすくなる原因となり得る。

一方、図１〜図４に示す本実施形態の光学積層体７０の製造方法では、第２粘着層３２を介して第１液晶層１２と第２液晶層２２とを貼合して、図２（ｂ）に示す液晶層積層体４１を得ている。そして、この液晶層積層体４１を光学フィルム６０に積層しているため、本実施形態の光学積層体７０の製造方法では、図７及び図８に示す光学積層体７０ｐの製造工程に比べると、少なくとも第２剥離層５２ｐを剥離する工程が存在しないため、光学フィルム６０に積層した後に剥離する層の数を低減することができる。そのため、光学積層体７０の製造方法では、光学積層体７０ｐの製造工程に比較して、光学積層体７０に発生する逆カールを抑制しやすいと考えられる。

光学積層体に発生する逆カールは、光学積層体に含まれる光学フィルム６０の厚みや剛性が小さいほど、液晶層による収縮応力の解放の影響を受けやすいと考えられる。また、基材層の厚みや剛性が大きいほど、液晶層に残留する収縮応力が大きくなるため、基材層を剥離したときに解放される収縮応力の影響を受けやすいと考えられる。そのため、本実施形態の光学積層体の製造方法は、光学フィルム６０の厚みが２μｍ以上５００μｍ以下の場合に好適である。光学フィルム６０の厚みは、１０μｍ以上であってもよく、また、３５０μｍ以下であってもよく、２００μｍ以下であってもよく、１５０μｍ以下であってもよい。

なお、本実施形態において光学積層体を製造するために用いられる、基材層付き第１液晶層１０、基材層付き第２液晶層２０、剥離層付き第１粘着層５０、剥離層付き第２粘着層５７、光学フィルム６０、粘着層付き光学フィルム６１等のフィルム状物は、いずれも長尺のフィルム状物であることが好ましく、これらを連続的に搬送しながら各工程を行うことが好ましい。幅方向Ｗは、フィルム状物の長さ方向に直交する方向である。

本実施形態の光学積層体の製造方法は、以下に示す変形例のように変更されてもよい。また、上記した実施形態及び下記に示す変形例を任意に組み合わせてもよい。

（実施形態１の変形例１）
上記では、図１（ｃ）に示す剥離層付き第２粘着層５７を用いて、基材層付き第２液晶層２０の第２液晶層２２側に第２粘着層３２を設け、この第２粘着層３２上に基材層付き第１液晶層１０の第１液晶層１２を積層する場合を例に挙げて説明したが、基材層付き第１液晶層１０の第１液晶層１２と、基材層付き第２液晶層２０の第２液晶層２２とを、第２粘着層３２を介して積層して、図２（ａ）に示す基材層付き液晶層積層体４０を得ることができれば、これに限定されない。例えば、図１（ｃ）に示す剥離層付き第２粘着層５７を用いて、基材層付き第１液晶層１０の第１液晶層１２側に第２粘着層３２を設け、この第２粘着層３２上に基材層付き第２液晶層２０の第２液晶層２２を積層してもよい。

（実施形態１の変形例２）
上記では、図３（ａ）に示す剥離層付き第１粘着層５０を用いて、光学フィルム６０に第１粘着層３１を設けて粘着層付き光学フィルム６１を得（図３（ｃ））、この粘着層付き光学フィルム６１の第１粘着層３１と、液晶層積層体４１の第１液晶層１２とを貼合する場合を例に挙げて説明したが、第１基材層１１を剥離することによって露出した液晶層積層体４１の露出面（第１液晶層１２）に、第１粘着層３１を介して光学フィルム６０を積層することができれば、これに限定されない。例えば、図３（ａ）に示す剥離層付き第１粘着層５０を用いて、液晶層積層体４１の露出面（第１液晶層１２）上に第１粘着層３１を設けた第１粘着層付き液晶層積層体を得、この第１粘着層３１上に光学フィルム６０を積層してもよい。この場合、第１粘着層付き液晶層積層体は、第１粘着層３１、第１液晶層１２、第２粘着層３２、第２液晶層２２、及び第２基材層２１をこの順に有していればよく、第１粘着層３１の第１液晶層１２とは反対側の面上に第１剥離層５１を有していてもよい。

（実施形態１の変形例３）
上記では、図２（ａ）に示す基材層付き液晶層積層体４０から、第１基材層１１を剥離して第２基材層２１を剥離せずに、図２（ｂ）に示す液晶層積層体４１を得、光学フィルム６０と液晶層積層体４１とを第１粘着層３１を介して積層した後に、第２基材層２１を剥離する場合を例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、図２（ａ）に示す基材層付き液晶層積層体４０から、第１基材層１１及び第２基材層２１を剥離して、液晶層積層体を得、第１基材層１１を剥離することによって露出した液晶層積層体の露出面側に、第１粘着層３１を介して光学フィルム６０を積層してもよい。基材層付き液晶層積層体４０から、第１基材層１１及び第２基材層２１を剥離して得られる液晶層積層体は、第１液晶層１２、第２粘着層３２、及び第２液晶層２２がこの順に積層されたものである。

［実施形態２（粘着層付き光学積層体の製造方法）］
図５（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態の粘着層付き光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の粘着層付き光学積層体８０の製造方法によって製造される粘着層付き光学積層体８０は、図５（ｂ）に示すように、光学フィルム６０、第１粘着層３１、第１液晶層１２、第２粘着層３２、第２液晶層２２、及び第３粘着層３３がこの順に積層されたものである。第３粘着層３３の第２液晶層２２とは反対側に、第３剥離層５３を有していてもよい。

粘着層付き光学積層体８０の製造方法は、図４（ｂ）に示す光学積層体７０を準備する工程と、図５（ａ）に示すように、第３剥離層５３と第３粘着層３３とが積層された剥離層付き第３粘着層５８を準備する工程とを含む。剥離層付き第３粘着層５８を準備する工程は、第３剥離層５３上に、粘着剤組成物を塗布、乾燥等して第３粘着層３３を形成する工程を含んでいてもよい。また、必要に応じて、第３粘着層３３の第３剥離層５３とは反対側の面を、他の剥離層で被覆する工程を設けてもよい。

準備した剥離層付き第３粘着層５８の第３粘着層３３と、第２基材層２１を剥離することによって露出した光学積層体７０の第２液晶層２２（第２露出面）とを貼合して、粘着層付き光学積層体８０を得る（図５（ｂ））。このとき得られた粘着層付き光学積層体８０は、第３剥離層５３を有している。この粘着層付き光学積層体８０を、光学表示素子に積層する場合には、第３剥離層５３を剥離し、第３粘着層３３と光学表示素子とを貼合して画像表示パネルとすることができる。

粘着層付き光学積層体８０は、第３粘着層３３が光学表示素子に貼合されて用いることができる。上記した粘着層付き光学積層体８０の製造方法では、先の実施形態で説明した逆カールが抑制された光学積層体７０を用いているため、粘着層付き光学積層体８０の第３粘着層３３側が凹となるようにカールする、いわゆる逆カールを抑制することができると考えられる。これにより、粘着層付き光学積層体８０を光学表示素子に貼合する際に、光学積層体と光学表示素子との間に気泡が混入する、貼合ミスが生じる等の不具合を抑制することができる。

なお、本実施形態において粘着層付き光学積層体を製造するために用いられる、光学積層体７０や、剥離層付き第３粘着層５８等のフィルム状物は、長尺のフィルム状物であることが好ましく、これらを連続的に搬送しながら各工程を行うことが好ましい。幅方向Ｗは、フィルム状部の長さ方向に直交する方向である。

［実施形態３（粘着層付き光学積層体の製造方法）］
図６（ａ）〜（ｄ）は、本実施形態の粘着層付き光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の粘着層付き光学積層体の製造方法によって製造される粘着層付き光学積層体８１は、先の実施形態で説明した粘着層付き光学積層体８０（図５（ｂ））と同じであり、図６（ｄ）に示すように、光学フィルム６０、第１粘着層３１、第１液晶層１２、第２粘着層３２、第２液晶層２２、及び第３粘着層３３がこの順に積層されたものである。第３粘着層３３の第２液晶層２２とは反対側に、第３剥離層５３を有していてもよい。

粘着層付き光学積層体８１の製造方法では、先の実施形態で説明した製造方法と同様に、図２（ａ）に示す基材層付き液晶層積層体４０を得、図５（ａ）に示す剥離層付き第３粘着層５８を準備する。基材層付き液晶層積層体４０を得る工程については、先の実施形態において図１（ａ）〜（ｅ）及び図２（ａ）に基づいて説明したとおりであり、剥離層付き第３粘着層５８を準備する工程については、先の実施形態において図５（ａ）に基づいて説明したとおりであるため、その説明を省略する。

次に、図２（ａ）に示す基材層付き液晶層積層体４０から第２基材層２１を剥離して第１基材層１１を剥離せずに、液晶層積層体４３を得る（図６（ａ））。液晶層積層体４３は、図６（ａ）に示すように、第１基材層１１、第１液晶層１２、第２粘着層３２、及び第２液晶層２２がこの順に積層されたものである。第２基材層２１を剥離することによって露出した液晶層積層体４３の第２液晶層２２（第２露出面）と、剥離層付き第３粘着層５８の第３粘着層３３とを貼合して第３粘着層付き液晶層積層体４５を得る（図６（ｂ））。第３粘着層付き液晶層積層体４５は、図６（ｂ）に示すように、第１基材層１１、第１液晶層１２、第２粘着層３２、第２液晶層２２、第３粘着層３３、及び第３剥離層５３がこの順に積層されたものである。

続いて、図３（ｃ）に示す粘着層付き光学フィルム６１を準備する。粘着層付き光学フィルム６１を得る工程については、先の実施形態において図３（ａ）〜（ｃ）に基づいて説明したとおりであるため、その説明を省略する。その後、第３粘着層付き液晶層積層体４５から第１基材層１１を剥離し（図６（ｃ））、第１基材層１１を剥離することによって露出した第１液晶層１２（第１露出面）と、粘着層付き光学フィルム６１の第１粘着層３１とを貼合して粘着層付き光学積層体８１を得る（図６（ｄ））。

上記の粘着層付き光学積層体８１の製造方法では、第１液晶層１２と第２液晶層２２とを第２粘着層３２を介して積層した液晶層積層体４３を得、さらに第２液晶層２２上に第３粘着層３３を積層した第３粘着層付き液晶層積層体４５を得ている。そして、この第３粘着層付き液晶層積層体４５から第１基材層１１を剥離して、第１粘着層を介して光学フィルム６１に積層しているため、先の実施形態で説明した理由と同様の理由により、得られる粘着層付き光学積層体８１の逆カールを抑制することができると考えられる。これにより、粘着層付き光学積層体８１を光学表示素子に貼合する際に、光学積層体と光学表示素子との間に気泡が混入する、シワが入る、貼合ミスが生じる等の不具合を抑制することができる。

なお、本実施形態において粘着層付き光学積層体を製造するために用いられる、基材層付き第１液晶層１０、基材層付き第２液晶層２０、剥離層付き第１粘着層５０、剥離層付き第２粘着層５７、剥離層付き第３粘着層５８、光学フィルム６０、粘着層付き光学フィルム６１等のフィルム状物は、いずれも長尺のフィルム状物であることが好ましく、これらを連続的に搬送しながら各工程を行うことが好ましい。幅方向Ｗは、フィルム状物の長さ方向に直交する方向である。

本実施形態の光学積層体の製造方法は、以下に示す変形例のように変更されてもよい。また、上記した実施形態及び下記に示す変形例を任意に組み合わせてもよい。

（実施形態３の変形例１）
上記では、図３（ａ）に示す剥離層付き第１粘着層５０を用いて、光学フィルム６０に第１粘着層３１を設け粘着層付き光学フィルム６１を得、この粘着層付き光学フィルム６１の第１粘着層３１と、液晶層積層体４１の第１液晶層１２とを貼合する場合を例に挙げて説明したが、第１基材層１１を剥離することによって露出した第３粘着層付き液晶層積層体４５の第１露出面（第１液晶層１２）に、第１粘着層３１を介して光学フィルム６０を積層することができれば、これに限定されない。例えば、図３（ａ）に示す剥離層付き第１粘着層５０を用いて、第１基材層１１を剥離した第３粘着層付き液晶層積層体４５の第１露出面（第１液晶層１２）上に第１粘着層３１を設け、この第１粘着層３１上に光学フィルム６０を積層してもよい。

（実施形態３の変形例２）
上記では、図２（ａ）に示す基材層付き液晶層積層体４０から、第２基材層２１を剥離して第１基材層１１を剥離せずに、図６（ａ）に示す液晶層積層体４３を得、液晶層積層体４３と剥離層付き第３粘着層５８の第３粘着層３３とを積層した後、第１基材層１１を剥離する場合を例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、図２（ａ）に示す基材層付き液晶層積層体４０から、第１基材層１１及び第２基材層２１を剥離して、液晶層積層体を得、この液晶層積層体の第２液晶層側と剥離層付き第３粘着層５８とを積層して第３粘着層付き液晶層積層体を得た後、この第３粘着層付き液晶層積層体の第１液晶層１２側に、第１粘着層３１を介して光学フィルム６０を積層してもよい。この場合、液晶層積層体は、第１液晶層１２、第２粘着層３２、及び第２液晶層２２がこの順に積層されたものであり、第３粘着層付き液晶層積層体は、第１液晶層１２、第２粘着層３２、第２液晶層２２、第３粘着層３３、及び第３剥離層５３がこの順に積層されたものである。

以上、本発明の実施形態及びその変形例について説明したが、本発明はこれらの実施形態及びその変形例に限定されることはなく、例えば、上記実施形態及びその変形例の各工程を組み合わせて実施することもできる。以下、全ての実施形態及びその変形例において共通する各工程について詳細に説明する。

（光学フィルム）
光学フィルムは、偏光子、偏光子の少なくとも片面に保護層が形成された偏光板、偏光板の少なくとも片面にプロテクトフィルムが積層されたプロテクトフィルム付き偏光板、反射フィルム、半透過型反射フィルム、輝度向上フィルム、光学補償フィルム、防眩機能付きフィルム等であることができる。光学フィルムは１層構造であってもよく、２層以上の多層構造の積層光学フィルムであってもよい。本明細書において「偏光子」とは、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する層をいう。

（偏光子）
偏光子としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。本明細書において「偏光子」とは、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する直線偏光子をいう。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層フィルムであってもよい。偏光子は、重合性液晶化合物に二色性色素を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜であってもよい。

単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体的な例としては、ポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」と略すこともある。）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理、及び延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子を用いることが好ましい。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより製造できる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルと酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体との共重合体であることもできる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールなども使用可能である。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１，０００〜１０，０００程度であり、好ましくは１，５００〜５，０００程度である。

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光子の原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものでなく、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系樹脂原反フィルムの膜厚は、例えば１０〜１００μｍ程度、好ましくは１０〜６０μｍ程度、より好ましくは１５〜３０μｍ程度である。

その他の偏光子の製造方法としては、まず基材フィルムを用意し、基材フィルム上にポリビニルアルコール系樹脂等の樹脂の溶液を塗布し、溶媒を除去する乾燥等を行って基材フィルム上に樹脂層を形成する工程を含むものを挙げることができる。なお、基材フィルムの樹脂層が形成される面には、予めプライマー層を形成することができる。基材フィルムとしては、ＰＥＴ等の樹脂フィルムを使用できる。プライマー層の材料としては、偏光子に用いられる親水性樹脂を架橋した樹脂等を挙げることができる。

次いで、必要に応じて樹脂層の水分等の溶媒量を調整し、その後、基材フィルム及び樹脂層を一軸延伸し、続いて、樹脂層をヨウ素等の二色性色素で染色して二色性色素を樹脂層に吸着配向させる。続いて、必要に応じて二色性色素が吸着配向した樹脂層をホウ酸水溶液で処理し、ホウ酸水溶液を洗い落とす洗浄工程を行う。これにより、二色性色素が吸着配向された樹脂層、すなわち、偏光子のフィルムが製造される。各工程には公知の方法を採用できる。

基材フィルム及び樹脂層の一軸延伸は、染色の前に行ってもよいし、染色中に行ってもよいし、染色後のホウ酸処理中に行ってもよく、これら複数の段階においてそれぞれ一軸延伸を行ってもよい。基材フィルム及び樹脂層は、ＭＤ方向（フィルム搬送方向）に一軸延伸してもよく、この場合、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、基材フィルム及び樹脂層は、ＴＤ方向（フィルム搬送方向に垂直な方向）に一軸延伸してもよく、この場合、いわゆるテンター法を使用することができる。また、基材フィルム及び樹脂層の延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤にて樹脂層を膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。偏光子の性能を発現するためには延伸倍率は４倍以上であり、５倍以上であることが好ましく、特に５．５倍以上が好ましい。延伸倍率の上限は特にないが、破断等を抑制する観点から８倍以下が好ましい。

上記方法で作製した偏光子は後述する保護層を積層した後に基材フィルムを剥離することで得ることができる。この方法によれば、偏光子の更なる薄膜化が可能となる。

重合性液晶化合物に二色性色素を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜である偏光子の製造方法としては、基材フィルム上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を液晶状態を保持したまま重合して硬化させて偏光子を形成する方法を挙げることができる。このようにして得られた偏光子は、基材フィルムに積層された状態にあり、基材フィルム付き偏光子を光学フィルムとして用いてもよい。あるいは、基材フィルム付き偏光子を、液晶層積層体に第１粘着層３１を介して積層した後に、又は、剥離層付き第１粘着層５０に積層した後に、基材フィルムを剥離して、偏光子を光学フィルムとして用いてもよい。

二色性色素としては、分子の長軸方向における吸光度と短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素を用いることができ、例えば、３００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λｍａｘ）を有する色素が好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、アントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、スチルベンアゾ色素等が挙げられ、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素がより好ましい。

偏光子形成用組成物は、溶剤、光重合開始剤等の重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤等を含むことができる。偏光子形成用組成物に含まれる、重合性液晶化合物、二色性色素、溶剤、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤等については、公知のものを用いることができ、例えば、特開２０１７−１０２４７９号公報、特開２０１７−８３８４３号公報に例示されているものを用いることができる。また、重合性液晶化合物は、後述する第１液晶層及び第２液晶層を得るために用いた重合性液晶化合物として例示した化合物と同様のものを用いてもよい。偏光子形成用組成物を用いて偏光子を形成する方法についても、上記公報に例示された方法を採用することができる。

偏光子の厚みは、２μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがより好ましい。また、前記偏光子の厚みは、２５μｍ以下であり、１５μｍ以下であることが好ましく、１３μｍ以下であることがより好ましく、さらに７μｍ以下であることが好ましい。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。偏光子の厚みが薄くなるほど剛性が小さくなり、光学積層体の光学フィルムとして用いた場合に、第１液晶層や第２液晶層の収縮応力の影響を受けやすくなるため、厚みの小さい偏光子を光学フィルムとして用いる場合には、上記実施形態の光学積層体の製造方法及び粘着層付き光学積層体の製造方法を好適に用いることができる。

（偏光板）
偏光子はその片面又は両面に、公知の粘着層又は接着層を介して保護層を積層して偏光板とすることができる。この偏光板はいわゆる直線偏光板である。偏光子の片面又は両面に積層することができる保護層としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる熱可塑性樹脂から形成されたフィルムが用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリカーボネート樹脂；ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド樹脂；ポリイミド樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂；シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂ともいう）；（メタ）アクリル樹脂；ポリアリレート樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリビニルアルコール樹脂、並びにこれらの混合物を挙げることができる。偏光子の両面に保護層が積層されている場合、二つの保護層の樹脂組成は同一であってもよいし、異なっていてもよい。上記実施形態の光学積層体の製造方法及び粘着層付き光学積層体の製造方法は、薄型化の観点より偏光子の片面にのみ保護層が積層された偏光板を光学フィルムとして用いた場合にも逆カールを抑制できるため、好適である。なお、本明細書において「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルのいずれでもよいことを意味する。（メタ）アクリレート等の「（メタ）」も同様の意味である。

熱可塑性樹脂から形成されたフィルムは、ＰＶＡ系樹脂及び二色性物質からなる偏光子との密着性を向上するため、表面処理（例えば、コロナ処理等）が施されていてもよく、プライマー層（下塗り層ともいう）等の薄層が形成されていてもよい。

保護層は、温度４０℃、湿度９０％ＲＨでの透湿度が１〜１５００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒであることが好ましい。保護層の透湿度が１５００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒを超えると、高温高湿環境において、偏光板の経時でのカール変化が発生しやすくなることがある。保護層の透湿度が低いほど、偏光板のカールの経時変化を抑制できる効果が得られやすくなる。保護層の温度４０℃、湿度９０％ＲＨでの透湿度は、１０００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒ以下であることがより好ましく、１００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒ以下であることがさらに好ましく、１０ｇ／ｍ^２・２４ｈｒ以下であることがよりさらに好ましい。透湿度は、ＪＩＳ Ｚ ０２０８：１９７６に準拠して測定をすることができる。

なお、偏光子の両面に保護層が積層される場合、光学積層体や粘着層付き光学積層体が光学表示素子に貼合された際の視認側に積層される外側保護層の透湿度と、第１粘着層側に積層される内側保護層の透湿度とは、互いに同じであるか、内側保護層よりも外側保護層の方が小さくなることが好ましい。これにより、特に偏光板の保管中に水分が加わったときに、フラットな形状を保持するか、あるいは内側保護層が膨潤することにより、偏光板を正カール側へカールした状態とすることができ、光学積層体や粘着層付き光学積層体を正カール側へカールした状態にしやすい。また、外側保護層の透湿度は、１０ｇ／ｍ^２・２４ｈｒ以下であることがより好ましい。これにより、偏光子の片面のみに保護層が積層された偏光板であっても、カール制御可能であり、光学積層体や粘着層付き光学積層体が光学表示素子に貼合された後も、経時での寸法変化（変形）を抑制することができる。

さらに、第１液晶層や第２液晶層の収縮応力の影響をより一層低減して、光学積層体や粘着層付き光学積層体に生じる正カールを抑制するためには、光学フィルムとして用いる偏光板において、偏光子に積層される保護層の剛性を高めることが好ましい。ここで剛性とは、保護層に用いるフィルムの室温（２３℃）下での引っ張り弾性率（以下、「２３℃弾性率」ということがある。）に膜厚を掛け合わせたものとして定義される。例えば、トリアセチルセルロースに代表されるセルロース系ポリマーを用いた保護層は、２３℃弾性率が３０００〜５０００ＭＰａの範囲であることが好ましく、ポリメチルメタクリレートに代表されるアクリル系ポリマーを用いた保護層は、２３℃弾性率が２０００〜４０００ＭＰａの範囲であることが好ましく、ノルボルネン構造を有するようなシクロオレフィン系ポリマーを用いた保護層は、２３℃弾性率が２０００〜４０００ＭＰａの範囲であることが好ましい。外側保護層には、上記透湿度と剛性の観点からアクリル系ポリマーかポリオレフィン系ポリマーが好適に用いられ、特にシクロオレフィン系ポリマーを用いることが好ましい。

保護層は、例えば上述の熱可塑性樹脂を延伸したものであってもよいし、延伸されていないものであってもよい（以下、「未延伸樹脂」ということがある。）。延伸処理としては、一軸延伸や二軸延伸等が挙げられる。

延伸処理における延伸方向は、未延伸樹脂の長さ方向であってもよく、長さ方向に直交する方向であってもよく、長さ方向に対して斜交する方向であってもよい。一軸延伸の場合は、これらの方向のうちのいずれかの方向に未延伸樹脂を延伸すればよい。二軸延伸は、これらの方向のうちの２つの延伸方向に同時に延伸する同時二軸延伸でもよく、所定の方向に延伸した後で他の方向に延伸する逐次二軸延伸であってもよい。

延伸処理は、例えば、下流側の周速を大きくした２対以上のニップロールを用いて、長さ方向に延伸する、又は、未延伸樹脂の両側端をチャックで把持して長さ方向に直交する方向に延伸する等によって行うことができる。この際、延伸後の熱可塑性樹脂の厚みを調整したり、延伸倍率を調整したりすることによって、所望の位相差値及び波長分散を制御することが可能である。

延伸された熱可塑性樹脂は、下記式を満足することが好ましい。
（１） ８０ｎｍ≦Ｒe（５９０）≦１８０ｎｍ
（２） ０．５＜Ｒth（５９０）／Ｒe（５９０）≦０．８
（３） ０．８５≦Ｒe（４５０）／Ｒe（５５０）＜１．００
式中、Ｒe（５９０）、Ｒe（４５０）、Ｒe（５５０）はそれぞれ、測定波長５９０ｎｍ、４５０ｎｍ、５５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒth（５９０）は、測定波長５９０ｎｍにおける厚み方向位相差値を表す。これらの面内位相差値及び厚み方向位相差値は、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下にて測定された値のことをいう。

面内位相差値Ｒe、厚み方向位相差値Ｒthは、面内遅相軸方向の屈折率をｎx、面内進相軸方向（面内遅相軸方向と直交する方向）の屈折率をｎy、厚み方向の屈折率をｎz、延伸された熱可塑性樹脂の厚みをｄとするとき、下記式（Ｓ１）、式（Ｓ２）で定義される。

（Ｓ１） Ｒe＝（ｎx−ｎy）×ｄ
（Ｓ２） Ｒth＝［｛（ｎx＋ｎy）／２｝−ｎz］×ｄ

上記した外側保護層は、上記式（１）〜（３）を満たす延伸された熱可塑性樹脂であることが好ましい。また、上記した外側保護層は、偏光子の吸収軸に対して斜交する方向に遅相軸を有するように偏光子に貼り合わせることが好ましく、例えば外側保護層の遅相軸の角度が偏光子の吸収軸に対して４５±１０°又は１３５±１０°となるように、外側保護層と偏光子とを貼り合わせることが好ましい。遅相軸の角度が上記範囲であることにより、進相軸方向における光の位相と遅相軸方向における光の位相との間に差が生じるため、本実施形態の光学積層体を光学表示素子に適用すると、光学積層体を通過して出射した光を円偏光にすることができる。そのため、本実施形態の光学積層体を光学表示素子に適用した表示装置は、偏光サングラス越しに表示画像等を見た場合にも視認性に優れたものとなり得る。

保護層の厚みは、３μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であることがより好ましい。また、保護層の厚みは、５０μｍ以下であることが好ましく、３０μｍ以下であることがより好ましい。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。偏光板の厚みが薄くなるほど剛性が小さくなり、第１液晶層や第２液晶層の収縮応力の影響を受けやすくるため、厚みの小さい偏光板を光学フィルムとして用いる場合に、上記実施形態の光学積層体の製造方法及び粘着層付き光学積層体の製造方法を好適に用いることができる。

保護層の偏光子とは反対側の表面は、表面処理層を有していてもよく、例えばハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、アンチグレア層、拡散層等を有していてもよい。表面処理層は、保護層上に積層される別の層であってもよく、保護層表面に表面処理が施されて形成されたものであってもよい。

ハードコート層は、偏光板表面の傷つき防止等を目的とするものであり、例えばアクリル系、シリコーン系等の紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を保護層の表面に付加する方式等にて形成することができる。反射防止層は、偏光板表面での外光の反射防止を目的とするものであり、従来に準じた反射防止膜等の形成により達成することができる。また、スティッキング防止層は隣接層との密着防止を目的とするものである。

アンチグレア層は、偏光板の表面で外光が反射して、偏光板の透過光の視認を阻害することを防止する等を目的とするものであり、例えば、サンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式等の方式により、保護層の表面に微細凹凸構造を付与して形成することができる。保護層の表面に微細凹凸構造を付与するために用いる透明微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜５０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性を有し得る無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等の有機系微粒子等の微粒子が挙げられる。透明微粒子の含有量は、微細凹凸構造を形成する層をなす樹脂１００質量部に対して、一般的に２〜５０質量部であり、５〜２５質量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板の透過光を拡散して視角等を拡大するための拡散層（視角拡大機能等）を兼ねるものであってもよい。

表面処理層が偏光板の保護層上に積層される別の層である場合、表面処理層の厚みは０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましい。また、１０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以下であることがより好ましい。厚みが０．５μｍ未満であると、偏光板表面の傷つきを有効に防止しにくくなる傾向にある。また、厚みが１０μｍを超えると、硬化収縮が大きくなる等により、偏光板の逆カールが抑制されにくくなることがある。

上記実施形態の光学積層体及び粘着層付き光学積層体の製造方法は、偏光板の厚みが２μｍ以上３００μｍ以下である場合に好適である。偏光板の厚みは、１０μｍ以上であってもよく、また、１５０μｍ以下であってもよく、１２０μｍ以下であってもよく、８０μｍ以下であってもよい。

偏光板は、後述する実施例に記載の方法で測定されるプロテクトフィルム付き偏光板からプロテクトフィルムを剥離した偏光板の実測ＭＤカール値及び実測ＴＤカール値がそれぞれ独立して、−４０ｍｍ以上４０ｍｍ以下の範囲にあることが好ましく、−３０ｍｍ以上３５ｍｍ以下の範囲にあることがより好ましく、−２０ｍｍ以上３０ｍｍ以下の範囲にあることがさらに好ましい。上記実測ＭＤカール値及び実測ＴＤカール値が上記の範囲外になると、偏光板が筒状になりやすい傾向にあり、カール形状が得られにくくなる傾向にある。また、後述するプロテクトフィルム付き偏光板の実測ＭＤカール値及び実測ＴＤカール値と、偏光板の実測ＭＤカール値及び実測ＴＤカール値とが乖離していると、プロテクトフィルムと偏光板との間に浮きが発生したり、プロテクトフィルムと偏光板との間に隙間が生じるトンネリングが発生したりするため、好ましくない。

（プロテクトフィルム付き偏光板）
偏光板は、通常その片面に、プロテクトフィルムを積層することにより、プロテクトフィルム付き偏光板とすることができる。プロテクトフィルムは、プロテクトフィルム用樹脂フィルムと、その上に積層されるプロテクトフィルム用粘着層とを含む。プロテクトフィルムの厚みは、例えば３０〜２００μｍであることができ、好ましくは４０〜１５０μｍであり、より好ましくは５０〜１２０μｍである。

プロテクトフィルム用樹脂フィルムを構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂のようなポリオレフィン系樹脂；環状ポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートのようなポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂等を挙げることができる。このうち、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂が好ましい。プロテクトフィルム用樹脂フィルムは、１層構造であってもよいが、２層以上の多層構造を有していてもよい。

プロテクトフィルム用粘着層を構成する粘着剤としては、後述する粘着層を構成する粘着剤と同様のものを用いることができる。また、プロテクトフィルムは、プロテクトフィルム用樹脂フィルム面上に、粘着剤組成物を塗布、乾燥等することにより粘着層を形成して得ることができる。必要に応じて、プロテクトフィルム用樹脂フィルムの粘着剤塗布面には密着性を向上するために、表面処理（例えば、コロナ処理等）が施されていてもよく、プライマー層（下塗り層ともいう）等の薄層が形成されていてもよい。また、必要に応じて、プロテクトフィルム用粘着層の、プロテクトフィルム用樹脂フィルム側とは反対側の表面を被覆して保護するための剥離層を有していてもよい。この剥離層は、偏光板と貼りあわせる際の適宜のタイミングで剥離することができる。

偏光板にプロテクトフィルムを貼り合わせるプロテクトフィルム付き偏光板の作製工程では、張力差や周速差を付与することで、プロテクトフィルム付き偏光板の長さ方向に正カールを付与することもできる。そのため、上記実施形態の光学積層体の製造方法及び粘着層付き光学積層体の製造方法において、光学フィルムとしてプロテクトフィルム付き偏光板を用いる場合、プロテクトフィルム付き偏光板の作製工程でプロテクトフィルム付き偏光板に正カールを付与することにより、光学積層体や粘着層付き光学積層体の逆カールをより抑制しやすくすることが期待できる。

プロテクトフィルム付き偏光板は、後述する実施例に記載の方法で測定されるプロテクトフィルム付き偏光板の実測ＭＤカール値及び実測ＴＤカール値がそれぞれ独立して、−４０ｍｍ以上４０ｍｍ以下の範囲にあることが好ましく、−３０ｍｍ以上３５ｍｍ以下の範囲にあることがより好ましく、−２０ｍｍ以上３０ｍｍ以下の範囲にあることがさらに好ましい。上記実測ＭＤカール値及び実測ＴＤカール値が上記の範囲外になると、プロテクトフィルム付き偏光板が筒状になりやすい傾向にあり、カール形状が得られにくくなる傾向にある。また、プロテクトフィルム付き偏光板を所定のサイズに加工し光学表示素子に貼合する際に、貼合装置の吸引機構等で適切に保持することが難しくなる、貼合に際して気泡が混入したりシワが発生したりする等の傾向があるため、好ましくない。

プロテクトフィルム付き偏光板の厚みが薄くなるほど剛性が小さくなり、第１液晶層や第２液晶層の収縮応力の影響を受けやすくなるため、厚みの小さい偏光板を光学フィルムとして用いる場合に、上記実施形態の光学積層体の製造方法及び粘着層付き光学積層体の製造方法を好適に用いることができる。上記実施形態における光学フィルム６０がプロテクトフィルム付き偏光板の場合、上記実施形態の光学積層体及び粘着層付き光学積層体の製造方法は、プロテクトフィルム付き偏光板の厚みが３２μｍ以上５００μｍ以下の場合に好適である。プロテクトフィルム付き偏光板の厚みは、４０μｍ以上であってもよく、また、３５０μｍ以下であってもよく、２００μｍ以下であってもよく、１５０μｍ以下であってもよい。

（粘着層）
第１粘着層、第２粘着層及び第３粘着層（以下、これらをまとめて「粘着層」ということがある。）は、粘着剤で構成された層をいう。本明細書において「粘着剤」とは、柔軟なゴム状であり、それ自体を光学フィルムや液晶層等の被着体に張り付けることで接着性を発現するものであり、いわゆる感圧型接着剤と称されるものである。また、後述する活性エネルギー線硬化型粘着剤は、エネルギー線を照射することにより、架橋度や接着力を調整することができる。

粘着剤としては、従来公知の光学的な透明性に優れる粘着剤を特に制限なく用いることができ、例えば、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系等のベースポリマーを有する粘着剤を用いることができる。また、活性エネルギー線硬化型粘着剤、熱硬化型粘着剤等であってもよい。これらの中でも、透明性、粘着力、再剥離性（以下、リワーク性ともいう。）、耐候性、耐熱性等に優れるアクリル系樹脂をベースポリマーとした粘着剤が好適である。粘着層は、（メタ）アクリル系樹脂（１）、架橋剤（２）、シラン化合物（３）を含む粘着剤組成物の反応生成物から構成されることが好ましく、その他の成分（４）を含んでいてもよい。

（（メタ）アクリル系樹脂（１））
粘着剤組成物に含まれる（メタ）アクリル系樹脂（１）は、下記式（Ｉ）で示される（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（以下、「構造単位（Ｉ）」ともいう。）を主成分（例えば、これを５０質量％以上含む。）とする重合体（以下、「（メタ）アクリル酸エステル重合体」ともいう。）であることが好ましい。本明細書において「由来」とは、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等の化合物が重合するために、化学構造が変化することを意味する。

［式中、Ｒ^１０は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２０は、炭素数１〜２０のアルキル基を表し、前記アルキル基は直鎖状、分岐状または環状のいずれの構造を有していてもよく、前記アルキル基の水素原子は、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置き換わっていてもよい。］

式（Ｉ）で表される（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−へキシル（メタ）アクリレート、ｉ−へキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、ｎ−及びｉ−ノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、ｉ−デシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。アルコキシ基含有アルキルアクリレートの具体例としては、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でもｎ−ブチル（メタ）アクリレート又は２−エチルへキシル（メタ）アクリレートを含むことが好ましく、特にｎ−ブチル（メタ）アクリレートを含むことが好ましい。

（メタ）アクリル酸エステル重合体は、構造単位（Ｉ）以外の他の単量体に由来する構成単位を含んでいてもよい。他の単量体に由来する構造単位は、１種であってもよいし、２種以上であってもよい。（メタ）アクリル酸エステル重合体が含み得る他の単量体としては、極性官能基を有する単量体、芳香族基を有する単量体、アクリルアミド系単量体が挙げられる。

極性官能基を有する単量体としては、極性官能基を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。極性官能基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、置換アミノ基、無置換アミノ基等が挙げられる。極性官能基としては、エポキシ基等の複素環基等も挙げられる。

（メタ）アクリル酸エステル重合体中の極性官能基を有する単量体に由来する構造単位の含有量は、（メタ）アクリル酸エステル重合体の全構造単位１００質量部に対して、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは０．１質量部以上２０質量部以下、さらに好ましくは０．１質量部以上１０質量部以下、特に好ましくは０．５質量部以上１０質量部以下である。

芳香族基を有する単量体としては、分子内に１個の（メタ）アクリロイル基と１個以上の芳香環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環等）を有し、フェニル基、フェノキシエチル基、又はベンジル基を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。

（メタ）アクリル酸エステル重合体中の芳香族基を有する単量体に由来する構造単位の含有量は、（メタ）アクリル酸エステル重合体の全構造単位１００質量部に対して、好ましくは５０質量部以下、より好ましくは４質量部以上５０質量部以下、さらに好ましくは４質量部以上２５質量部以下である。

アクリルアミド系単量体としては、Ｎ−（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−メチルプロポキシメチル）アクリルアミド等が挙げられる。これらの構造単位を含むことで、後述する帯電防止剤等の添加剤のブリードアウトを抑制することができる。

さらに、構造単位（Ｉ）以外の他の単量体に由来する構造単位として、スチレン系単量体に由来する構造単位、ビニル系単量体に由来する構造単位、分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有する単量体に由来する構造単位等が含まれていてもよい。

（メタ）アクリル系樹脂（１）の重量平均分子量（以下、単に「Ｍｗ」ともいう。）は、５０万〜２５０万であることが好ましい。重量平均分子量が５０万以上であると、高温、高湿の環境下における粘着層の耐久性を向上させることができる。重量平均分子量が２５０万以下であると、粘着剤組成物を含有する塗工液を塗工する際の操作性が良好となる。重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（以下、単に「Ｍｎ」ともいう。）との比で表される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常２〜１０である。本明細書において「重量平均分子量」及び「数平均分子量」とは、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定されるポリスチレン換算値である。

（メタ）アクリル系樹脂（１）は、酢酸エチルに溶解させて濃度２０質量％の溶液としたとき、２５℃における粘度が、２０Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．１〜１５Ｐａ・ｓであることがより好ましい。（メタ）アクリル樹脂（１）の２５℃における粘度が上記範囲内であると、リワーク性等に寄与する。上記粘度は、ブルックフィールド粘度計によって測定できる。

粘着性、及び耐久性の両立の観点から、（メタ）アクリル系樹脂（１）のガラス転移温度は、好ましくは、−１０℃〜−６０℃である。なお、ガラス転移温度は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）により測定することができる。

（メタ）アクリル系樹脂（１）は、２種以上の（メタ）アクリル酸エステル重合体を含んでもよい。そのような（メタ）アクリル酸エステル重合体としては、例えば、前記（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位（Ｉ）を主成分とするものであって、重量平均分子量が５万〜３０万の範囲にあるような比較的低分子量の（メタ）アクリル酸エステル重合体が挙げられる。

（架橋剤（２））
粘着層を形成する粘着剤組成物は、架橋剤（２）を含むことが好ましい。架橋剤（２）としては、慣用の架橋剤（例えば、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、金属キレート化合物、過酸化物等）が挙げられ、特に粘着剤組成物のポットライフや架橋速度等の観点から、イソシアネート系化合物であることが好ましい。

イソシアネート系化合物としては、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有する化合物が好ましく、例えば、脂肪族イソシアネート系化合物（例えばヘキサメチレンジイソシアネート等）、脂環族イソシアネート系化合物（例えばイソホロンジイソシアネート）、水添キシリレンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、芳香族イソシアネート系化合物（例えばトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等）等が挙げられる。また、架橋剤（２）は、上記イソシアネート化合物の多価アルコール化合物による付加体（アダクト体）［例えば、グリセロール、トリメチロールプロパン等による付加体］、イソシアヌレート化物、ビュレット型化合物、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール等と付加反応させたウレタンプレポリマー型のイソシアネート化合物等の誘導体であってもよい。架橋剤（２）は単独又は２種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、耐久性の観点からトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート及びこれらの多価アルコール化合物又はこれらのイソシアヌレート化合物が好ましい。

架橋剤（２）の割合は、（メタ）アクリル系樹脂（１）１００質量部に対して、例えば、０．０１〜１０質量部、好ましくは０．１〜３質量部、さらに好ましくは０．１〜１質量部であってもよい。上記の上限値以下であると、耐久性の向上に有利であり、上記の下限値以上であると、ガスの発生を抑制し、リワーク性の向上に有利である。

（シラン化合物（３））
粘着剤組成物は、シラン化合物（３）を含有する。シラン化合物（３）を含有することにより粘着層と、積層される層との密着性を高めることができる。２種以上のシラン化合物（３）を使用してもよい。

シラン化合物（３）としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。

また、シラン化合物（３）は、上記シラン化合物（３）に由来するオリゴマーを含むことができる。

粘着剤組成物におけるシラン化合物（３）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（１）１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０３〜５質量部であり、より好ましくは０．０５〜２質量部であり、さらに好ましくは０．１〜１質量部である。シラン化合物（３）の含有量が０．０１質量部以上であると、粘着層と、光学フィルムや液晶層等の被着体との密着性が向上しやすい。含有量が１０質量部以下であると、粘着層からのシラン化合物（３）のブリードアウトを抑制することができる。

（その他の成分（４））
粘着層を形成する粘着剤組成物は、その他の成分（４）として、イオン性化合物等を用いた帯電防止剤、溶媒、架橋触媒、粘着付与樹脂（タッキファイヤー）、可塑剤、耐候安定剤、軟化剤、染料、顔料、無機フィラー、アクリル樹脂以外の樹脂等の添加剤を単独または２種以上含むことができる。

（活性エネルギー線硬化型粘着剤）
粘着剤組成物に、多官能性アクリレート等の紫外線硬化性化合物を配合し、粘着層を形成した後に紫外線を照射して硬化させ、より硬い粘着層とすることも有用であり、活性エネルギー線硬化型粘着剤を用いることができる。「活性エネルギー線硬化型粘着剤」は、紫外線や電子線等のエネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有している。活性化エネルギー線硬化型粘着剤は、エネルギー線照射前においても粘着性を有しているため、光学フィルムや液晶層等の被着体に密着し、エネルギー線の照射により硬化して密着力を調整することができる性質を有する粘着剤である。

活性エネルギー線硬化型粘着剤は、一般にはアクリル系粘着剤と、エネルギー線重合性化合物とを主成分として含む。通常はさらに架橋剤が配合されており、また必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を配合することもできる。

粘着層は、その貯蔵弾性率が２３℃において０．１０〜１０．０ＭＰａであることが好ましく、０．１５〜５．０ＭＰａであることがより好ましい。２３℃における貯蔵弾性率が０．１０ＭＰａ以上であると、温度変化が生じた際に剥がれ等の不具合を抑制できるため好ましい。また、１０．０ＭＰａ以下であると粘着力の低下による耐久性の低下が起こりにくいため好ましい。なお、粘着層の貯蔵弾性率は、市販の粘弾性測定装置、例えば、ＲＥＯＭＥＴＲＩＣ社製の粘弾性測定装置“ＤＹＮＡＭＩＣ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＲＤＡ ＩＩ”により測定することができる。

粘着層の厚みは、３μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であることがより好ましい。また、粘着層の厚みは、４０μｍ以下であることが好ましく、３０μｍ以下であることがより好ましい。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。

（剥離層付き粘着層）
剥離層付き第１粘着層、剥離層付き第２粘着層、及び剥離層付き第３粘着層（以下、これらをまとめて「剥離層付き粘着層」ということがある。）は、例えば、剥離層の離型処理面上に、粘着剤組成物を塗布、乾燥等することにより粘着層を形成して得ることができる。剥離層付き粘着層は、必要に応じて、粘着層の剥離層側とは反対側の表面を被覆して保護するための他の剥離層を有していてもよい。剥離層及び他の剥離層は、適宜のタイミングで剥離することができる。

（剥離層）
第１剥離層、第２剥離層、及び第３剥離層（以下、これらをまとめて「剥離層」ということがある。）は、粘着層に対して剥離可能であって、剥離層上に形成される粘着層を支持し、粘着層を保護する機能を有する。剥離層は、公知の剥離フィルムや剥離紙を用いることができるが、例えば、後述する基材層として例示した樹脂材料で形成されたフィルムに、シリコーンコーティング等の離型処理を施したものであってもよい。他の剥離層についても、剥離層と同様の材料を用いることができる。

剥離層は粘着層に対して剥離可能であって、剥離層と粘着層との間の剥離力の大きさは、剥離層を剥離する順番を考慮して決定する必要がある。上記剥離力は、剥離層上に粘着層を有する測定用試験片（長さ２００ｍｍ、幅２５ｍｍの大きさ）を準備し、適当な大きさのガラスに貼合し、島津製作所製オートグラフ（ＡＧＳ−５０ＮＸ）を用いて、剥離開始点を形成するように部分的に剥離した剥離層とガラスとをそれぞれチャッキングし、３００ｍｍ／分の速度で１８０°の方向に剥離層を剥離したときに測定された剥離強度を剥離力とすることができる。剥離層と粘着層との間の剥離力は、０．０１〜０．２０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、０．０２〜０．１０Ｎ／２５ｍｍであることがより好ましく、０．０２〜０．０６Ｎ／２５ｍｍであることがさらに好ましい。０．０１Ｎ／２５ｍｍを下回ると搬送の途中で剥離層と粘着層との間で浮きが生じてしまうおそれがある。また、０．２０Ｎ／２５ｍｍを超えると、剥離層と粘着層との密着性が高く剥離層が粘着層から剥離しにくくなっているために、剥離層を剥離すると粘着層が破断し、剥離した剥離層に粘着層の一部が付着した状態となったり、意図しない層の間での剥離（例えば、粘着層の剥離層とは反対側で接合している層と、粘着層との間での剥離）が生じたりするおそれがある。

（液晶層）
第１液晶層及び第２液晶層（以下、両者をまとめて「液晶層」ということがある。）は、重合性液晶化合物を重合させることにより形成された硬化層であって、位相差層であってもよい。液晶層の光学特性は、重合性液晶化合物の配向状態により調整することができる。

本明細書では、重合性液晶化合物の光軸が基材層平面に対して水平に配向したものを水平配向、重合性液晶化合物の光軸が基材層平面に対して垂直に配向したものを垂直配向と定義する。光軸とは、重合性液晶化合物の配向により形成される屈折率楕円体において、光軸に直交する方向で切り出した断面が円となる方向、すなわち２方向の屈折率が等しくなる方向を意味する。

重合性液晶化合物としては、棒状の重合性液晶化合物や、円盤状の重合性液晶化合物が挙げられる。棒状の重合性液晶化合物が基材層に対して水平配向又は垂直配向した場合は、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶化合物が配向した場合は、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の円盤面に対して直交する方向に存在する。

重合性液晶化合物を重合することによって形成される液晶層が面内位相差を発現するためには、重合性液晶化合物を適した方向に配向させればよい。重合性液晶化合物が棒状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を基材層平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現し、この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶化合物が円盤状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を基材層平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現し、この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶化合物の配向状態は、配向膜と重合性液晶化合物との組み合わせによって調整することができる。

重合性液晶化合物は、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

棒状の重合性液晶化合物や、円盤状の重合性液晶化合物としては、公知のものを用いることができ、例えば、特開２０１５−１６３９３７号公報、特開２０１６−４２１８５号公報、国際公開第２０１６／１５８９４０号、特開２０１６−２２４１２８号公報に例示されているものを用いることができる。

液晶層は、１層構造であってもよく、２層以上の多層構造であってもよい。２層以上の多層構造を有する場合には、後述する基材層付き液晶層を準備する際に、基材層上に２層以上の多層構造の液晶層を形成すればよい。液晶層が１層構造の場合、液晶層の厚みは、０．３μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であってもよく、通常１０μｍ以下であり、５μｍ以下であることが好ましい。液晶層が２層以上の多層構造の場合、液晶層の厚みは、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であってもよく、通常１０μｍ以下であり、５μｍ以下であることが好ましい。偏光板全体の薄型化に寄与し、生じうる逆カールを効果的に抑制する観点から、液晶層の厚みは５μｍ以下であることが好ましい。また、液晶層の厚みが０．３μｍ未満の場合、逆カールの程度は軽微である傾向があるため、上記実施形態の光学積層体の製造方法や粘着層付き光学積層体の製造方法を用いる必要性が小さい。

（基材層付き液晶層）
基材層付き第１液晶層及び基材層付き第２液晶層（以下、両者をまとめて「基材層付き液晶層」ということがある。）は、基材層上に、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布、乾燥し、重合性液晶化合物を重合させることによって形成された硬化層である液晶層を形成することによって得ることができる。液晶層形成用組成物は、基材層上に後述する配向層が形成されている場合は、配向層上に塗布すればよく、液晶層が２層以上の多層構造である場合には、液晶層形成用組成物を順次塗布する等により、多層構造を形成すればよい。

液晶層形成用組成物は、重合性液晶化合物に加えて通常、溶剤を含む。液晶層形成用組成物は、さらに、重合開始剤、反応性添加剤、重合禁止剤等を含んでいてもよい。溶剤、重合開始剤、反応性添加剤、重合禁止剤等については、特開２０１５−１６３９３７号公報、特開２０１６−４２１８５号公報、国際公開第２０１６／１５８９４０号、特開２０１６−２２４１２８号公報に例示されているものを用いることができる。

液晶層形成用組成物の塗布は、例えば、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法等の塗布法や、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法によって行うことができる。液晶層形成用組成物の塗布を行った後には、塗布層中に含まれる重合性液晶化合物が重合しない条件で溶剤を除去することが好ましい。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥、減圧乾燥法等が挙げられる。

塗布層の乾燥後に行う重合性液晶化合物の重合は、重合性官能基を有する化合物を重合させる公知の方法によって行うことができる。重合方法としては、例えば熱重合や光重合等を挙げることができ、重合の容易さの観点から光重合であることが好ましい。光重合により重合性液晶化合物を重合させる場合、液晶層形成用組成物として光重合開始剤を含有するものを用い、この液晶層形成用組成物を塗布、乾燥し、乾燥後の乾燥被膜中に含まれる重合性液晶化合物を液晶配向させ、この液晶配向状態を維持したまま光重合を行うことが好ましい。

光重合は、乾燥被膜中の液晶配向させた重合性液晶化合物に対して活性エネルギー線を照射することによって行うことができる。照射する活性エネルギー線としては、重合性液晶化合物が有する重合性基の種類及びその量、光重合開始剤の種類等に応じて適宜選択することができるが、例えば、可視光線、紫外線、レーザー光、Ｘ線、α線、β線及びγ線からなる群より選択される１種以上の活性エネルギー線を挙げることができる。このうち、重合反応の進行を制御しやすく、光重合装置として当分野で広範に用いられているものを使用できるという点から、紫外線が好ましく、紫外線によって光重合可能なように、重合性液晶化合物や光重合開始剤の種類を選択することが好ましい。光重合にあたっては、適切な冷却手段により、乾燥被膜を冷却しながら活性エネルギー線を照射することで、重合温度を制御することもできる。

（基材層）
第１基材層及び第２基材層（以下、両者をまとめて「基材層」ということがある。）は、これらの基材層上に形成される後述する第１配向層及び第２配向層、並びに、第１液晶層及び第２液晶層を支持する支持層としての機能を有する。基材層は、樹脂材料で形成されたフィルムであることが好ましい。

樹脂材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、延伸性等に優れる樹脂材料が用いられる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂；ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリエーテルケトン系樹脂；ポリフェニレンスルフィド系樹脂；ポリフェニレンオキシド系樹脂、及びこれらの混合物、共重合物等を挙げることができる。これらの樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂及び（メタ）アクリル酸系樹脂のいずれか又はこれらの混合物を用いることが好ましい。

基材層は、樹脂１種類又は２種以上を混合した単層であってもよく、２層以上の多層構造を有していてもよい。多層構造を有する場合、各層をなす樹脂は互いに同じであってもよく異なっていてもよく、ハードコート層のような塗布・硬化物層であってもよい。

樹脂材料で形成されたフィルムをなす樹脂材料には、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。

第１基材層及び第２基材層の厚さは、特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の点から１〜３００μｍであることが好ましく、１０〜２００μｍであることがより好ましく、３０〜１２０μｍであることがさらに好ましい。

基材層付き第１液晶層が後述する第１配向層を有する場合や、基材層付き第２液晶層が後述する第２配向層を有する場合、第１基材層と第１配向層との密着性、及び、第２基材層と第２配向層との密着性を向上させるために、少なくとも第１基材層の第１配向層が形成される側の表面、及び、少なくとも第２基材層の第２配向層が形成される側の表面に、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等を行ってもよく、プライマー層等を形成してもよい。

基材層は、液晶層又は後述する配向層（第１配向層又は第２配向層）に対して剥離可能であって、基材層と液晶層又は配向層との間の剥離力の大きさは、基材層を剥離する順番を考慮して決定する必要がある。剥離力は、基材層上に液晶層を有する測定用試験片、又は、基材層上に配向層及び液晶層を有する測定用試験片を用いること以外は、剥離層と粘着層との間の剥離力を測定する方法と同様にして測定することができる。基材層と液晶層又は配向層との間の剥離力は、０．０１〜０．５０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、０．０３〜０．２０Ｎ／２５ｍｍであることがより好ましく、０．０５〜０．１８Ｎ／２５ｍｍであることがさらに好ましい。剥離力が上記の下限値を下回ると搬送の途中で基材層と液晶層又は配向層と間で浮きが生じてしまうおそれがある。また、剥離力が上記の上限値を超えると密着性が高すぎるため、液晶層、又は、液晶層及び配向層、を他方の液晶層や光学フィルム等に転写することができない、光学積層体や粘着層付き光学積層体を製造する工程で各部材が搬送される途中で剥離界面が変わってしまう等のおそれがある。

第１基材層と第１液晶層又は後述する第１配向層との間の剥離力（以下、「第１剥離力」ということがある。）と、第２基材層と第２液晶層又は後述する第２配向層との間の剥離力（以下、「第２剥離力」ということがある。）との差は、０．０１Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、０．０３Ｎ／２５ｍｍ以上であることがより好ましい。基材層付き液晶層積層体から先に第１基材層を剥離する場合には、第２剥離力が第１剥離力よりも大きいことが好ましく、基材層付き液晶層積層体から先に第２基材層を剥離する場合には、第１剥離力が第２剥離力よりも大きいことが好ましい。また、基材層付き液晶層積層体から先に第１基材層を剥離する場合には、長尺加工の観点から、第２剥離層と第２粘着層との間の剥離力＜第１剥離力＜第２剥離力の関係にあることが好ましい。

（配向層）
基材層付き第１液晶層は、第１基材層と第１液晶層との間に第１配向層を含んでいてもよい。また、基材層付き第２液晶層は、第２基材層と第２液晶層との間に第２配向層を含んでいてもよい。

第１配向層及び第２配向層は、これらの配向層上に形成される第１液晶層及び第２液晶層に含まれる液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる配向規制力を有する。第１配向層及び第２配向層としては、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向性ポリマー層、層表面に凹凸パターンや複数のグルブ（溝）を有するグルブ配向層を挙げることができ、第１配向層と第２配向層とは、同じ種類の層であってもよく、異なる種類の層であってもよい。第１配向層及び第２配向層の厚みは、通常１０〜４０００ｎｍであり、５０〜３０００ｎｍであることが好ましい。

配向性ポリマー層は、配向性ポリマーを溶剤に溶解した組成物を基材層（第１基材層又は第２基材層）に塗布して溶剤を除去し、必要に応じてラビング処理をして形成することができる。この場合、配向規制力は、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層では、配向性ポリマーの表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能である。

光配向性ポリマー層は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物を基材層（第１基材層又は第２基材層）に塗布し、紫外線等の光を照射することで形成することができる。特に水平方向に配向規制力を発現する場合等においては、偏光を照射することによって形成することができる。この場合、配向規制力は、光配向性ポリマー層では、光配向性ポリマーに対する偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。

グルブ配向層は、例えば感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光、現像等を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層を基材層（第１基材層又は第２基材層）に転写して硬化する方法、基材層（第１基材層又は第２基材層）に活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層に、凹凸を有するロール状の原盤を押し当てる等により凹凸を形成して硬化させる方法等によって形成することができる。

基材層付き第１液晶層が第１配向層を含む場合、第１基材層を剥離する際に、第１基材層とともに第１配向層を剥離してもよく、第１液晶層上に第１配向層が残存してもよい。基材層付き第２液晶層が第２配向層を含む場合、第２基材層を剥離する際に、第２基材層とともに第２配向層を剥離してもよく、第２液晶層上に第２配向層が残存してもよい。なお、第１配向層が第１基材層とともに剥離されるか、第１液晶層に残存するかは、各層間の密着力の関係を調整することによって設定することができ、例えば、第１基材層に対して行われる、上記したコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、プライマー層等の表面処理や、第１液晶層を形成するために用いる液晶層形成用組成物の成分等によって調整することができる。同様に、第２基材層に対して行われる表面処理や、第２液晶層を形成するために用いる液晶層形成用組成物の成分を調製することによって、第２配向層を第２基材層とともに剥離するようにしてもよく、第２液晶層に残存させるようにしてもよい。

第１液晶層上に第１配向層が残存した場合、第１粘着層は第１配向層上に設けることができる。また、第２液晶層上に第２配向層が残存した場合、第３粘着層は第２配向層上に設けることができる。

（円偏光板）
本実施形態の光学積層体は円偏光板として用いることができる。図４（ｂ）に示す光学積層体７０を円偏光板として用いる場合、光学フィルム６０を、偏光子、偏光板、又はプロテクトフィルム付き偏光板とし、第１液晶層１２を１／２波長位相差層とし、第２液晶層２２を１／４波長位相差層としてもよい。あるいは、上記と同様に、光学フィルム６０を、偏光子、偏光板、又はプロテクトフィルム付き偏光板とした上で、第１液晶層１２を逆波長分散性の１／４波長位相差層とし、第２液晶層２２をポジティブＣプレートとすることによっても円偏光板を得ることができる。

以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。実施例、比較例中の「％」及び「部」は、特記しない限り、質量％及び質量部である。

〔カールの測定（１）〕
各実施例、各比較例で得られた粘着層付き光学積層体から、一辺の長さが１００ｍｍの菱形形状となり、その対角線がＭＤ方向及びＴＤ方向のそれぞれに平行となるように切り出した切出し片を、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で２４時間放置した後、第１セパレータを剥離して試験片とした。この試験片を十分に除電した後、試験片の凹面を上にして基準面（水平な台）上に置き、試験片の４つの角のそれぞれについて基準面からの高さを測定した。測定値は、プロテクトフィルム側が上側となるように試験片を基準面に置くと、試験片の角が浮き上がる場合、このカールを正カールとし、基準面からの角の高さを正の数値で表した。一方、プロテクトフィルム側が下側となるように試験片を基準面に置くと、試験片の角が浮き上がる場合、このカールを逆カールとし、基準面からの角の高さを負の数値で表した。

粘着層付き光学積層体からの試験片について得られた測定値について、ＭＤ方向に平行な対角線上にある２つの角の基準面からの高さの測定値を平均した値を、実測ＭＤカール値とし、ＴＤ方向に平行な対角線上にある２つの角の基準面からの高さの測定値を平均した値を、実測ＴＤカール値として算出した。

また、各実施例、各比較例で用いるプロテクトフィルム付き偏光板についても、上記と同様の手順で切出した試験片の４つの角のそれぞれについて基準面からの高さを測定し、上記と同様の手順で測定値を平均して、プロテクトフィルム付き偏光板について、実測ＭＤカール値及び実測ＴＤカール値を算出した。

得られたプロテクトフィルム付き偏光板の実測ＭＤカール値から、粘着層付き光学積層体の実測ＭＤカール値を差し引いた値を、プロテクトフィルム有の場合の粘着層付き光学積層体のＭＤカール値とした。同様に、得られたプロテクトフィルム付き偏光板の実測ＴＤカール値から、粘着層付き光学積層体の実測ＴＤカール値を差し引いた値を、プロテクトフィルム有の場合の粘着層付き光学積層体のＴＤカール値とした。

〔カールの測定（２）〕
各実施例、各比較例で得られた粘着層付き光学積層体から切り出した切出し片から、第１セパレータとともにプロテクトフィルムを剥離したものを試験片としたこと以外は、上記カールの測定（１）と同様の手順で、プロテクトフィルムを剥離した光学積層体の実測ＭＤカール値及び実測ＴＤカール値を算出した。なお、測定値は、偏光板側が上側となるように試験片を基準面に置くと、試験片の角が浮き上がる場合、このカールを正カールとし、基準面からの角の高さを正の数値で表した。一方、偏光板側が下側となるように試験片を基準面に置くと、試験片の角が浮き上がる場合、このカールを逆カールとし、基準面からの角の高さを負の数値で表した。

また、各実施例、各比較例で用いるプロテクトフィルム付き偏光板から切り出した切出し片から、プロテクトフィルムを剥離した偏光板についても、上記と同様の手順で切出した試験片の４つの角のそれぞれについて基準面からの高さを測定し、上記と同様の手順で測定値を平均して、プロテクトフィルムを剥離した偏光板の実測ＭＤカール値及び実測ＴＤカール値を算出した。

プロテクトフィルムを剥離した偏光板の実測ＭＤカール値から、プロテクトフィルムを剥離した光学積層体の実測ＭＤカール値を差し引いた値を、プロテクトフィルム無の場合の粘着層付き光学積層体のＭＤカール値とした。同様に、プロテクトフィルムを剥離した偏光板の実測ＴＤカール値から、プロテクトフィルムを剥離した光学積層体の実測ＴＤカール値を差し引いた値を、プロテクトフィルム無の場合の粘着層付き光学積層体のＴＤカール値とした。

上記カールの測定（１）及び（２）で得られたＭＤカール値及びＴＤカール値は、その値が正又は０であれば逆カールが抑制されていることを示し、また、その値が負である場合はその絶対値が大きいほど、逆カールが進行していることを示す。

〔両面セパレータ付き粘着層の準備〕
粘着剤を次の方法により製造した。撹拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置及び窒素導入管を備えた反応容器に、アクリル酸ｎ−ブチル９７．０部、アクリル酸１．０部、アクリル酸２−ヒドロキシエチル０．５部、酢酸エチル２００部、及び２，２'−アゾビスイソブチロニトリル０．０８部を仕込み、上記反応容器内の空気を窒素ガスで置換した。窒素雰囲気下で撹拌しながら、反応溶液を６０℃に昇温し、６時間反応させた後、室温まで冷却した。得られた溶液の一部の重量平均分子量を測定したところ、１８０万の（メタ）アクリル酸エステル重合体が得られたことを確認した。

上記で得られた（メタ）アクリル酸エステル重合体１００部（固形分換算値；以下同じ）と、イソシアネート系架橋剤としてトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート（東ソー株式会社製、商品名「コロネートＬ」）０．３０部と、シランカップリング剤として３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製、商品名「ＫＢＭ４０３」）０．３０部とを混合し、十分に撹拌して、酢酸エチルで希釈することにより、粘着剤組成物の塗工溶液を得た。

剥離層をなす第１セパレータ（リンテック株式会社製：ＳＰ−ＰＬＲ３８２１９０）の離型処理面（剥離面）に、アプリケーターにより、乾燥後の厚さが２５μｍとなるように上記粘着剤組成物の塗工溶液を塗工した後、１００℃で１分間乾燥して粘着層を形成し、粘着層のセパレータが貼合された面とは反対面に、もう１枚の第２セパレータ（リンテック社製：ＳＰ−ＰＬＲ３８１０３１）を貼合し、両面セパレータ付き粘着層を得た。

〔プロテクトフィルム付き偏光板（１）の準備〕
厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルム（平均重合度約２，４００、ケン化度９９．９モル％以上）を、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００である水溶液に３０℃で浸漬した。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００である水溶液に５６．５℃で浸漬した。引き続き、８℃の純水を用いてフィルムを洗浄した後、９０℃で乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向した偏光子を得た。延伸は、湿式延伸にて行い、主に、ヨウ素染色及びホウ酸処理中において行い、トータル延伸倍率は５．７倍であった。得られた偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向しているフィルムであって、厚みが１２μｍであった。

次に、この偏光子の片側に、水１００部に対し、カルボキシ基変性ポリビニルアルコール（（株）クラレから入手した商品名“ＫＬ−３１８”）を３部溶解し、その水溶液に水溶性エポキシ樹脂であるポリアミドエポキシ系添加剤（田岡化学工業（株）から入手した商品名“スミレーズレジン ６５０（３０）”、固形分濃度３０％の水溶液）を １．５部添加したエポキシ系接着剤を塗工し、保護層として厚み３０μｍの延伸された透明のノルボルネン系樹脂フィルムを、遅相軸の角度が偏光子の吸収軸に対して４５°となるように貼り合せた。このフィルムの一方の表面には、表面処理が施されており、他方の面が偏光子との貼合面となるように貼合した。偏光子のもう一方の側には上記のエポキシ系接着剤を用いて、保護層として、厚み２０μｍのトリアセチルセルロース系樹脂フィルムを貼合した。このようにして、偏光子の両面に保護層が積層された偏光板を得た。さらにノルボルネン系樹脂フィルムの表面処理面側に厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に１５μｍのアクリル系粘着層が形成されたプロテクトフィルムを貼合し、厚み１１５μｍのプロテクトフィルム付き偏光板（１）を得た。このプロテクトフィルム付き偏光板の実測ＭＤカール値は０ｍｍ、実測ＴＤカール値は１８ｍｍであった。また、プロテクトフィルムを剥離した偏光板の実測ＭＤカール値は２０ｍｍ、実測ＴＤカール値は−２ｍｍであった。

〔基材層付き第１液晶層及び基材層付き第２液晶層の準備〕
（光配向層形成用組成物（１）の調製）
下記の成分を混合し、得られた混合物を温度８０℃で１時間攪拌することにより、光配向層形成用組成物（１）を得た。
・光配向性材料（５部）：

・溶剤（９５部）：シクロペンタノン

（配向層形成用組成物（２）の調製）
市販の配向性ポリマーであるサンエバーＳＥ−６１０（日産化学工業株式会社製）に２−ブトキシエタノールを加えて配向層形成用組成物（２）を得た。得られた配向層形成用組成物（２）は、当該組成物の全量に対する固形分の含有割合が１％であり、当該組成物の全量に対する溶剤の含有割合が９９％であった。サンエバーＳＥ−６１０の固形分量は、納品仕様書に記載された濃度から換算した。

（液晶層形成用組成物（Ａ−１）の調製）
下記の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、液晶層形成用組成物（Ａ−１）を得た。重合性液晶化合物Ａ１及び重合性液晶化合物Ａ２は、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で合成した。
・重合性液晶化合物Ａ１（８０部）：

・重合性液晶化合物Ａ２（２０部）：

・重合開始剤（６部）：
２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；チバスペシャルティケミカルズ社製）
・溶剤（４００部）：シクロペンタノン

（液晶層形成用組成物（Ｂ−１）の調製）
下記の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却して液晶層形成用組成物（Ｂ−１）を得た。
・重合性液晶化合物ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製）（１９．２％）：

・重合開始剤（０．５％）：
イルガキュア（登録商標）９０７（ＢＡＳＦジャパン社製）
・反応添加剤（１．１％）：
Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤（７９．１％）：プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート

（基材層付き第１液晶層の製造）
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、光配向層形成用組成物（１）をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施して、光配向層を得た。得られた光配向層の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。

続いて、光配向層上に液晶層形成用組成物（Ａ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、位相差層としての第１液晶層を形成して、基材層付き第１液晶層を得た。第１液晶層の厚みは２μｍであった。

（基材層付き第２液晶層の製造）
厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、配向層形成用組成物（２）をバーコーター塗布し、９０℃で１分間乾燥し、配向層を得た。得られた配向層の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、３４ｎｍであった。

続いて、配向層上に液晶層形成用組成物（Ｂ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、位相差層としての第２液晶層を形成して、基材層付き第２液晶層を得た。第２液晶層の厚みは１μｍであった。

〔実施例１〕
上記で準備した基材層付き第１液晶層、基材層付き第２液晶層、及び両面セパレータ付き粘着層を用いて、図１〜図５に示す工程で粘着層付き光学積層体を得た。具体的には、次のように行った。

上記で準備した基材層付き第２液晶層（ＭＤ方向長さ３００ｍｍ×ＴＤ方向長さ２００ｍｍ）の第２液晶層側の表面にコロナ処理（８００Ｗ、１０ｍ／ｍｉｎ、バー幅７００ｍｍ、１Ｐａｓｓ）を施した。また、上記で準備した両面セパレータ付き粘着層（３００ｍｍ×２００ｍｍ）から第２セパレータを剥離した。自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて、基材層付き第２液晶層のコロナ処理面と両面セパレータ付き粘着層から第２セパレータを剥離して露出した粘着層との枚葉貼合を行って粘着層付き第２液晶層を得た（図１（ｄ）参照）。次に、上記で準備した基材層付き第１液晶層（ＭＤ方向長さ３００ｍｍ×ＴＤ方向長さ２００ｍｍ）の第１液晶層側に上記と同様の条件でコロナ処理を施し、このコロナ処理面と、粘着層付き第２液晶層から第１セパレータを剥離して露出した粘着層とを、自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて枚葉貼合して、基材層付き液晶層積層体を得た（図２（ａ）参照）。

上記で準備したプロテクトフィルム付き偏光板（１）（ＭＤ方向長さ３００ｍｍ×ＴＤ方向長さ２００ｍｍ）のプロテクトフィルム側とは反対側（トリアセチルセルロース系樹脂フィルム側）の面にコロナ処理（８００Ｗ、１０ｍ／ｍｉｎ、バー幅７００ｍｍ、１Ｐａｓｓ）を施した。また、上記で準備した両面セパレータ付き粘着層（３００ｍｍ×２００ｍｍ）から第２セパレータを剥離した。自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて、プロテクトフィルム付き偏光板（１）のコロナ処理面と両面セパレータ付き粘着層から第２セパレータを剥離して露出した粘着層との枚葉貼合を行って粘着層付き偏光板を得た（図３（ｂ）参照）。

基材層付き液晶層積層体の基材層付き第１液晶層のＰＥＴフィルム（厚み１００μｍ）を剥離して露出した面（第１液晶層側の面）と、粘着層付き偏光板から第１セパレータを剥離して露出した粘着層とを、自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて枚葉貼合し、基材層付き光学積層体を得た（図４（ａ）参照）。得られた基材層付き光学積層体の基材層付き第２液晶層のＰＥＴフィルム（厚み３８μｍ）を剥離して露出した面（第２液晶層側の面）と、上記で準備した両面セパレータ付き粘着層（３００ｍｍ×２００ｍｍ）から第２セパレータを剥離して露出した粘着層とを、自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて枚葉貼合して、粘着層付き光学積層体（１）を得た（図５（ｂ）参照）。得られた粘着層付き光学積層体（１）についてカールの測定（１）及び（２）を行って、粘着層付き光学積層体（１）のＭＤカール値及びＴＤカール値を算出した。その結果を表１に示す。

〔実施例２〕
実施例１と同様の手順で基材層付き液晶層積層体を得た（図２（ａ）参照）。基材層付き液晶層積層体の基材層付き第１液晶層のＰＥＴフィルム（厚み１００μｍ）を剥離して露出した面（第１液晶層側の面）と、上記で準備した両面セパレータ付き粘着層（３００ｍｍ×２００ｍｍ）から第２セパレータを剥離して露出した粘着層とを、自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて枚葉貼合して、粘着層付き液晶層積層体を得た。粘着層付き液晶層積層体から第１セパレータを剥離して露出した粘着層と、上記で準備したプロテクトフィルム付き偏光板（１）（３００ｍｍ×２００ｍｍ）のプロテクトフィルム側とは反対側（トリアセチルセルロース系樹脂フィルム側）の面とを、自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて枚葉貼合して、基材層付き光学積層体を得た。

基材層付き光学積層体の基材層付き第２液晶層のＰＥＴフィルム（厚み３８μｍ）を剥離して露出した面（第２液晶層側の面）と、上記で準備した両面セパレータ付き粘着層（３００ｍｍ×２００ｍｍ）から第２セパレータを剥離して露出した粘着層とを、自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて枚葉貼合して、粘着層付き光学積層体（２）を得た。得られた粘着層付き光学積層体（２）についてカールの測定（１）及び（２）を行って、粘着層付き光学積層体（２）のＭＤカール値及びＴＤカール値を算出した。その結果を表１に示す。

〔比較例１〕
上記で準備した基材層付き第１液晶層、基材層付き第２液晶層、及び両面セパレータ付き粘着層を用いて、図７及び図８に示す工程で光学積層体を得、この光学積層体を用いて粘着層付き光学積層体を得た。具体的には、上記で準備したプロテクトフィルム付き偏光板（１）及び両面セパレータ付き粘着層を用いて、実施例１と同様の手順で、粘着層付き偏光板を得た。この粘着層付き偏光板から第１セパレータを剥離して露出した粘着層と、上記で準備した基材層付き第１液晶層（ＭＤ方向長さ３００ｍｍ×ＴＤ方向長さ２００ｍｍ）の第１液晶層とを、自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて枚葉貼合した（図７（ｃ）参照）。

続いて、プロテクトフィルム付き偏光板（１）と貼合した基材層付き第１液晶層のＰＥＴフィルム（厚み１００μｍ）を剥離して露出した面（第１液晶層側の面）と、上記で準備した両面セパレータ付き粘着層（３００ｍｍ×２００ｍｍ）から第２セパレータを剥離して露出した粘着層とを、自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて枚葉貼合した後、さらに第１セパレータを剥離した（図８（ａ）参照）。第１セパレータを剥離して露出した粘着層と、上記で準備した基材層付き第２液晶層（ＭＤ方向長さ３００ｍｍ×ＴＤ方向長さ２００ｍｍ）の第２液晶層とを、自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて枚葉貼合して、基材層付き光学積層体を得た（図８（ｃ））。

得られた基材層付き光学積層体から基材層付き第２液晶層のＰＥＴフィルム（厚み３８μｍ）を剥離して露出した面（第２液晶層側の面）と、上記で準備した両面セパレータ付き粘着層（３００ｍｍ×２００ｍｍ）から第２セパレータを剥離して露出した粘着層とを、自動貼合機ＨＡＬＴＥＣを用いて枚葉貼合して、粘着層付き光学積層体（３）を得た。得られた粘着層付き光学積層体（３）についてカールの測定（１）及び（２）を行って、粘着層付き光学積層体（３）のＭＤカール値及びＴＤカール値を算出した。その結果を表１に示す。

表１に示すように、実施例１及び２で得た粘着層付き光学積層体は、比較例１で得た粘着層付き光学積層体に比較して、逆カールが抑制されており、上記実施形態で説明した光学積層体の製造方法及び粘着層付き光学積層体の製造方法によれば、逆カールを抑制できることがわかる。

１０，１０ｐ 基材層付き第１液晶層、１１，１１ｐ 第１基材層、１２，１２ｐ 第１液晶層、２０，２０ｐ 基材層付き第２液晶層、２１，２１ｐ 第２基材層、２２，２２ｐ 第２液晶層、２５ 粘着層付き第２液晶層、３１，３１ｐ 第１粘着層、３２，３２ｐ 第２粘着層、３３ 第３粘着層、４０ 基材層付き液晶層積層体、４１，４３ 液晶層積層体、４５ 第３粘着層付き液晶層積層体、５０ 粘着層付き第１粘着層、５１ 第１剥離層、５２ 第２剥離層、５３ 第３剥離層、５７ 剥離層付き第２粘着層、５８ 剥離層付き第３粘着層、６０，６０ｐ 光学フィルム、６１ 粘着層付き光学フィルム、７０，７０ｐ 光学積層体、７１，７１ｐ 基材層付き光学積層体（光学積層体）、８０，８１ 粘着層付き光学積層体。

Claims (14)

1. 光学フィルム、第１粘着層、第１液晶層、第２粘着層、及び第２液晶層がこの順に積層された光学積層体の製造方法であって、
   第１基材層と、前記第１基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した前記第１液晶層とを有する基材層付き第１液晶層を準備する工程と、
   第２基材層と、前記第２基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した前記第２液晶層とを有する基材層付き第２液晶層を準備する工程と、
   前記第２粘着層を介して前記第１液晶層と前記第２液晶層とが対向するように、前記基材層付き第１液晶層と前記基材層付き第２液晶層とを積層して基材層付き液晶層積層体を得る工程と、
   前記基材層付き液晶層積層体から少なくとも前記第１基材層を剥離して液晶層積層体を得る工程と、
   前記第１基材層を剥離することによって露出した前記液晶層積層体の第１露出面側に、前記第１粘着層を介して前記光学フィルムを積層する工程と、を含む、光学積層体の製造方法。
2. 前記光学フィルムを積層する工程は、
   前記光学フィルム上に前記第１粘着層を形成して粘着層付き光学フィルムを得る工程と、
   前記粘着層付き光学フィルムの前記第１粘着層と、前記液晶層積層体の前記第１露出面とを貼合する工程と、を含む、請求項１に記載の光学積層体の製造方法。
3. 前記粘着層付き光学フィルムを得る工程は、
   前記第１粘着層と第１剥離層とが積層された剥離層付き第１粘着層を準備する工程と、
   前記剥離層付き第１粘着層の前記第１粘着層と前記光学フィルムとを貼合した後、前記第１剥離層を剥離する工程と、を含む、請求項２に記載の光学積層体の製造方法。
4. 前記光学フィルムを積層する工程は、
   前記液晶層積層体の前記第１露出面上に前記第１粘着層を形成して第１粘着層付き液晶層積層体を得る工程と、
   前記第１粘着層付き液晶層積層体の前記第１粘着層と、前記光学フィルムとを貼合する工程と、を含む、請求項１に記載の光学積層体の製造方法。
5. 前記第１粘着層付き液晶層積層体を得る工程は、
   前記第１粘着層と第１剥離層とが積層された剥離層付き第１粘着層を準備する工程と、
   前記剥離層付き第１粘着層の前記第１粘着層と前記液晶層積層体の前記第１露出面とを貼合した後、前記第１剥離層を剥離する工程と、を含む、請求項４に記載の光学積層体の製造方法。
6. 前記基材層付き液晶層積層体を得る工程は、
   第２粘着層と第２剥離層とが積層された剥離層付き第２粘着層を準備する工程と、
   前記剥離層付き第２粘着層の前記第２粘着層と、前記基材層付き第１液晶層の前記第１液晶層、又は、前記基材層付き第２液晶層の前記第２液晶層とを貼合した後、前記第２剥離層を剥離する工程と、を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
7. 前記光学フィルムは、偏光板を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
8. 前記光学フィルムは、偏光板の少なくとも片面にプロテクトフィルムが積層されたプロテクトフィルム付き偏光板を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
9. 前記液晶層積層体を得る工程は、前記基材層付き液晶層積層体から前記第１基材層を剥離し、前記第２基材層を剥離しない工程であり、
   前記光学フィルムを積層する工程の後に、さらに、前記第２基材層を剥離する工程を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
10. 前記液晶層積層体を得る工程は、前記基材層付き液晶層積層体から前記第１基材層及び前記第２基材層を剥離して液晶層積層体を得る工程である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
11. 光学フィルム、第１粘着層、第１液晶層、第２粘着層、第２液晶層、及び第３粘着層がこの順に積層された粘着層付き光学積層体の製造方法であって、
    請求項９又は１０に記載の光学積層体の製造方法で製造された光学積層体を準備する工程と、
    前記第２基材層を剥離することによって露出した前記光学積層体の第２露出面側に、前記第３粘着層を積層する工程と、を含む、粘着層付き光学積層体の製造方法。
12. 前記第３粘着層を積層する工程は、
    前記第３粘着層と第３剥離層とが積層された剥離層付き第３粘着層を準備する工程と、
    前記剥離層付き第３粘着層の前記第３粘着層と、前記光学積層体の前記第２露出面とを貼合する工程と、を含む、請求項１１に記載の粘着層付き光学積層体の製造方法。
13. 光学フィルム、第１粘着層、第１液晶層、第２粘着層、第２液晶層、及び第３粘着層がこの順に積層された粘着層付き光学積層体の製造方法であって、
    第１基材層と、前記第１基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した前記第１液晶層とを有する基材層付き第１液晶層を準備する工程と、
    第２基材層と、前記第２基材層上で重合性液晶化合物を重合して形成した前記第２液晶層とを有する基材層付き第２液晶層を準備する工程と、
    前記第２粘着層を介して前記第１液晶層と前記第２液晶層とが対向するように、前記基材層付き第１液晶層と前記基材層付き第２液晶層とを積層して基材層付き液晶層積層体を得る工程と、
    前記基材層付き液晶層積層体から少なくとも前記第２基材層を剥離して液晶層積層体を得る工程と、
    前記第２基材層を剥離することによって露出した前記液晶層積層体の第２露出面側に、前記第３粘着層を積層して第３粘着層付き液晶層積層体を得る工程と、
    前記基材層付き液晶層積層体又は前記第３粘着層付き液晶層積層体から前記第１基材層を剥離する工程と、
    前記第１基材層を剥離することによって露出した前記第３粘着層付き液晶層積層体の第１露出面側に、前記第１粘着層を介して前記光学フィルムを積層する工程と、を含む、粘着層付き光学積層体の製造方法。
14. 前記第３粘着層付き液晶層積層体を得る工程は、
    前記第３粘着層と第３剥離層とが積層された剥離層付き第３粘着層を準備する工程と、
    前記剥離層付き第３粘着層の前記第３粘着層と、前記液晶層積層体の前記第２露出面とを貼合した後、前記第３剥離層を剥離する工程と、を含む、請求項１３に記載の粘着層付き光学積層体の製造方法。

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