CN110275237A - 光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法 - Google Patents

光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法 Download PDF

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Abstract

一种依次层叠有光学膜、第一粘合层、第一液晶层、第二粘合层及第二液晶层的光学层叠体的制造方法，其包括：将附带基材层的第一液晶层和附带基材层的第二液晶层以第一液晶层与第二液晶层隔着第二粘合层相对的方式进行层叠，从而得到附带基材层的液晶层层叠体的工序；从附带基材层的液晶层层叠体至少剥离第一基材层，从而得到液晶层层叠体的工序；以及，在通过剥离第一基材层而露出的液晶层层叠体的第一露出面侧隔着第一粘合层层叠光学膜的工序。

Description

光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造 方法
技术领域
本发明涉及光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法。
背景技术
使用了有机发光二极管(OLED)的有机EL显示装置与液晶显示装置等相比，不仅能够实现轻质化、薄型化，而且能够实现大范围的视角、快速的响应速度、高对比度等高画质，因此被用于智能手机、电视、数码相机等各种领域。另外，就有机EL显示装置而言，从薄型且能够不使用背光源地进行显示的观点出发，还提出如弯折或卷取那样的装置形状。在有机EL显示装置中，已知为了抑制由外界光的反射所致的视觉辨认性的降低而使用圆偏振板等来提高防反射性能。
例如，在专利文献1及2中，作为应用于有机EL显示装置等的图像显示面板的膜，记载了具有防反射功能的光学膜，并且记载了该光学膜具有使用液晶材料而形成的相位差层。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2015-230386号公报
专利文献2：日本特开2015-79256号公报
发明内容
发明要解决的课题
对于如上所述的光学膜而言，为了不损害显示装置的特征即轻质化/薄型化，而要求现有程度以上的薄型化、弯折性。另外，上述光学膜贴合于光学显示元件来使用，但是，若光学膜产生与光学显示元件贴合的一侧卷曲成凹状的所谓逆卷曲，则存在如下倾向：容易发生在将光学膜与光学显示元件贴合时因气泡混入或出现褶皱而被视觉辨认为不均等不良情况。这样的不良情况成为图像显示面板不良的原因，因此期望抑制光学膜的逆卷曲。
本发明的目的在于，提供能够制造抑制了逆卷曲的光学层叠体及附带粘合层的光学层叠体的制造方法。
用于解决课题的手段
本发明提供以下所示的光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法。
〔1〕一种光学层叠体的制造方法，其是依次层叠有光学膜、第一粘合层、第一液晶层、第二粘合层及第二液晶层的光学层叠体的制造方法，
该制造方法包括：
准备附带基材层的第一液晶层的工序，所述附带基材层的第一液晶层具有第一基材层和在上述第一基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的上述第一液晶层；
准备附带基材层的第二液晶层的工序，所述附带基材层的第二液晶层具有第二基材层和在上述第二基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的上述第二液晶层；
将上述附带基材层的第一液晶层和上述附带基材层的第二液晶层以上述第一液晶层与上述第二液晶层隔着上述第二粘合层相对的方式进行层叠，从而得到附带基材层的液晶层层叠体的工序；
从上述附带基材层的液晶层层叠体至少剥离上述第一基材层，从而得到液晶层层叠体的工序；以及
在通过剥离上述第一基材层而露出的上述液晶层层叠体的第一露出面侧隔着上述第一粘合层层叠上述光学膜的工序。
〔2〕根据〔1〕所述的光学层叠体的制造方法，其中，层叠上述光学膜的工序包括：
在上述光学膜上形成上述第一粘合层，从而得到附带粘合层的光学膜的工序；以及
将上述附带粘合层的光学膜中的上述第一粘合层与上述液晶层层叠体的上述第一露出面进行贴合的工序。
〔3〕根据(2〕所述的光学层叠体的制造方法，其中，上述得到附带粘合层的光学膜的工序包括：
准备层叠有上述第一粘合层和第一剥离层的附带剥离层的第一粘合层的工序；以及
将上述附带剥离层的第一粘合层中的上述第一粘合层与上述光学膜进行贴合后，剥离上述第一剥离层的工序。
〔4〕根据〔1〕所述的光学层叠体的制造方法，其中，层叠上述光学膜的工序包括：
在上述液晶层层叠体的上述第一露出面上形成上述第一粘合层，从而得到附带第一粘合层的液晶层层叠体的工序；以及
将上述附带第一粘合层的液晶层层叠体中的上述第一粘合层与上述光学膜进行贴合的工序。
〔5〕根据〔4〕所述的光学层叠体的制造方法，其中，上述得到附带第一粘合层的液晶层层叠体的工序包括：
准备层叠有上述第一粘合层和第一剥离层的附带剥离层的第一粘合层的工序；以及
将上述附带剥离层的第一粘合层中的上述第一粘合层与上述液晶层层叠体的上述第一露出面进行贴合后，剥离上述第一剥离层的工序。
〔6〕根据〔1〕～〔5〕中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，上述得到附带基材层的液晶层层叠体的工序包括：
准备层叠有第二粘合层和第二剥离层的附带剥离层的第二粘合层的工序；以及
将上述附带剥离层的第二粘合层中的上述第二粘合层与上述附带基材层的第一液晶层中的上述第一液晶层或上述附带基材层的第二液晶层中的上述第二液晶层进行贴合后，剥离上述第二剥离层的工序。
〔7〕根据〔1〕～〔6〕中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，上述光学膜包含偏振板。
〔8〕根据〔1〕～〔7〕中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，上述光学膜包含在偏振板的至少单面层叠有保护膜的附带保护膜的偏振板。
〔9〕根据〔1〕～〔8〕中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，上述得到液晶层层叠体的工序为从上述附带基材层的液晶层层叠体剥离上述第一基材层且不剥离上述第二基材层的工序，
在层叠上述光学膜的工序之后，还包括剥离上述第二基材层的工序。
〔10〕根据〔1〕～〔8〕中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，得到上述液晶层层叠体的工序为从上述附带基材层的液晶层层叠体剥离上述第一基材层及上述第二基材层，从而得到液晶层层叠体的工序。
〔11〕一种附带粘合层的光学层叠体的制造方法，其是依次层叠有光学膜、第一粘合层、第一液晶层、第二粘合层、第二液晶层及第三粘合层的附带粘合层的光学层叠体的制造方法，
该制造方法包括：
准备利用上述〔9〕或〔10〕所述的光学层叠体的制造方法而制造的光学层叠体的工序；以及
在通过剥离上述第二基材层而露出的上述光学层叠体的第二露出面侧层叠上述第三粘合层的工序。
〔12〕根据〔11〕所述的附带粘合层的光学层叠体的制造方法，其中，层叠上述第三粘合层的工序包括：
准备层叠有上述第三粘合层和第三剥离层的附带剥离层的第三粘合层的工序；以及
将上述附带剥离层的第三粘合层中的上述第三粘合层与上述光学层叠体的上述第二露出面进行贴合的工序。
〔13〕一种附带粘合层的光学层叠体的制造方法，其是依次层叠有光学膜、第一粘合层、第一液晶层、第二粘合层、第二液晶层及第三粘合层的附带粘合层的光学层叠体的制造方法，
该制造方法包括：
准备附带基材层的第一液晶层的工序，所述附带基材层的第一液晶层具有第一基材层和在上述第一基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的上述第一液晶层；
准备附带基材层的第二液晶层的工序，所述附带基材层的第二液晶层具有第二基材层和在上述第二基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的上述第二液晶层；
将上述附带基材层的第一液晶层和上述附带基材层的第二液晶层以上述第一液晶层与上述第二液晶层隔着上述第二粘合层相对的方式进行层叠，从而得到附带基材层的液晶层层叠体的工序；
从上述附带基材层的液晶层层叠体至少剥离上述第二基材层，从而得到液晶层层叠体的工序；
在通过剥离上述第二基材层而露出的上述液晶层层叠体的第二露出面侧层叠上述第三粘合层，从而得到附带第三粘合层的液晶层层叠体的工序；
从上述附带基材层的液晶层层叠体或上述附带第三粘合层的液晶层层叠体剥离上述第一基材层的工序；以及
在通过剥离上述第一基材层而露出的上述附带第三粘合层的液晶层层叠体的第一露出面侧隔着上述第一粘合层层叠上述光学膜的工序。
〔14〕根据〔13〕所述的附带粘合层的光学层叠体的制造方法，其中，上述得到附带第三粘合层的液晶层层叠体的工序包括：
准备层叠有上述第三粘合层和第三剥离层的附带剥离层的第三粘合层的工序；以及
将上述附带剥离层的第三粘合层中的上述第三粘合层与上述液晶层层叠体的上述第二露出面进行贴合后，剥离上述第三剥离层的工序。
发明的效果
根据本发明，可以制造抑制了逆卷曲的光学层叠体及附带粘合层的光学层叠体。
附图说明
图1的(a)～(e)为示意性表示本发明的光学层叠体的制造工序的一例的概略剖视图。
图2的(a)及(b)为示意性表示图1所示的光学层叠体的制造工序的后续的概略剖视图。
图3的(a)～(c)为示意性表示图2所示的光学层叠体的制造工序的后续的概略剖视图。
图4的(a)及(b)为示意性表示图3所示的光学层叠体的制造工序的后续的概略剖视图。
图5的(a)及(b)为示意性表示本发明的附带粘合层的光学层叠体的制造工序的一例的概略剖视图。
图6的(a)～(d)为示意性表示本发明的其它附带粘合层的光学层叠体的制造工序的一例的概略剖视图。
图7的(a)～(e)为示意性表示与本发明不同的光学层叠体的制造工序的一例的概略剖视图。
图8的(a)～(d)为示意性表示图7所示的光学层叠体的制造工序的后续的概略剖视图。
附图标记说明
10，10p附带基材层的第一液晶层、11，11p第一基材层、12，12p第一液晶层、20，20p附带基材层的第二液晶层、21，21p第二基材层、22，22p第二液晶层、25附带粘合层的第二液晶层、31，31p第一粘合层、32，32p第二粘合层、33第三粘合层、40附带基材层的液晶层层叠体、41，43液晶层层叠体、45附带第三粘合层的液晶层层叠体、50附带粘合层的第一粘合层、51第一剥离层、52第二剥离层、53第三剥离层、57附带剥离层的第二粘合层、58附带剥离层的第三粘合层、60，60p光学膜、61附带粘合层的光学膜、70，70p光学层叠体、71，71p附带基材层的光学层叠体(光学层叠体)、80，81附带粘合层的光学层叠体。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法的优选实施方式进行说明。
[实施方式1(光学层叠体的制造方法)]
图1～图4为示意性表示本实施方式的光学层叠体的制造工序的一例的概略剖视图。图中，W表示宽度方向。如图4的(b)所示，利用本实施方式的光学层叠体70的制造方法而制造的光学层叠体70为依次层叠有光学膜60、第一粘合层31、第一液晶层12、第二粘合层32及第二液晶层22的光学层叠体。
光学层叠体70的制造方法包括准备图1的(a)所示的附带基材层的第一液晶层10和图1的(b)所示的附带基材层的第二液晶层20的工序。附带基材层的第一液晶层10具有第一基材层11和在第一基材层11上将聚合性液晶化合物聚合而形成的第一液晶层12，附带基材层的第二液晶层20具有第二基材层21和在第二基材层21上将聚合性液晶化合物聚合而形成的第二液晶层22。
准备附带基材层的第一液晶层10的工序可以包括以下工序：在第一基材层11上涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物，进行干燥，通过照射紫外线等活性能量射线而将聚合性液晶化合物聚合并使之固化，形成第一液晶层12。同样地，准备附带基材层的第二液晶层20的工序可以包括以下工序：在第二基材层21上涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物，进行干燥，通过照射紫外线等活性能量射线而将聚合性液晶化合物聚合并使之固化，形成第二液晶层22。
接着，准备在第二剥离层52上形成有第二粘合层32的附带剥离层的第二粘合层57(图1的(c))。准备附带粘合层的第二粘合层57的工序可以包含在第二剥离层52上涂布粘合剂组合物并干燥等从而形成第二粘合层32的工序。另外，根据需要，可以设置用其他剥离层覆盖第二粘合层32的与第二剥离层52相反一侧的面的工序。将准备的附带剥离层的第二粘合层57中的第二粘合层32与附带基材层的第二液晶层20中的第二液晶层22进行贴合后(图1的(d))，进行剥离第二剥离层52的工序，从而得到附带粘合层的第二液晶层25(图1的(e))。如图1的(e)所示，附带粘合层的第二液晶层25依次层叠有第二粘合层32、第二液晶层22及第二基材层21。
将所得的附带粘合层的第二液晶层25中的第二粘合层32和附带基材层的第一液晶层10中的第一液晶层12进行贴合，从而得到附带基材层的液晶层层叠体40(图2的(a))。如图2的(a)所示，附带基材层的液晶层层叠体40依次层叠有第一基材层11、第一液晶层12、第二粘合层32、第二液晶层22及第二基材层21。从该附带基材层的液晶层层叠体40剥离第一基材层11，且不剥离第二基材层21，由此得到液晶层层叠体41(图2的(b))。如图2的(b)所示，液晶层层叠体41依次层叠有第一液晶层12、第二粘合层32、第二液晶层22及第二基材层21。
接下来，准备在第一剥离层51上形成有第一粘合层31的附带剥离层的第一粘合层50(图3的(a))。准备附带粘合层的第一粘合层50的工序可以包括在第一剥离层51上涂布粘合剂组合物并使之干燥等而形成第一粘合层31的工序。另外，可以根据需要而设置用其他剥离层覆盖第一粘合层31的与第一剥离层51相反一侧的面的工序。将所准备的附带剥离层的第一粘合层50中的第一粘合层31与光学膜60进行贴合(图3的(b))，剥离第一剥离层51，得到附带粘合层的光学膜61(图3的(c))。如图3的(c)所示，附带粘合层的光学膜61层叠有光学膜60和第一粘合层31。
之后，将附带粘合层的光学膜61中的第一粘合层31和通过剥离第一基材层11而露出的液晶层层叠体41中的第一液晶层12(第一露出面)进行贴合，得到附带基材层的光学层叠体71(光学层叠体)(图4的(a))。如图4的(a)所示，附带基材层的光学层叠体71依次层叠有光学膜60、第一粘合层31、第一液晶层12、第二粘合层32、第二液晶层22及第二基材层21。通过从该附带基材层的光学层叠体71剥离第二基材层21，由此可以得到光学层叠体70(图4的(b))。
在上述光学层叠体70的制造方法中，使用的是在第一基材层11或第二基材层21(以下有时将两者统称为“基材层”)上将聚合性化合物聚合并使之固化而成的附带基材层的第一液晶层10或附带基材层的第二液晶层20(以下有时将两者统称为“附带基材层的液晶层”)。在附带基材层的液晶层中，通常在基材层上涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物，进行干燥，并通过照射紫外线等活性能量射线而使聚合性液晶化合物聚合并固化，由此可以形成第一液晶层12或第二液晶层22(以下有时将两者统称为“液晶层”)。可推测：在经过上述涂布、干燥、聚合、固化等工序而形成的液晶层中残留有与所涂布的液晶层形成用组合物的干燥或聚合性液晶化合物的聚合相伴的固化时产生的收缩应力。在液晶层存在于基材层上的附带基材层的液晶层的状态下，上述收缩应力受到基材层的抑制，但是如上所述，基材层在制造光学层叠体70的工序中被剥离，因此可认为液晶层的收缩应力因基材层的剥离而得到释放。此时，若将液晶层与光学膜进行贴合，则有时因剥离基材层而释放的收缩应力而在光学膜与液晶层的层叠体中发生以液晶层侧为内侧翘曲成弓形的变形(以下有时称作“逆卷曲”)。
可认为：在将光学膜60和液晶层层叠后，剥离基材层而释放液晶层的收缩应力的次数越多，则越容易发生这样的卷曲。例如，如图7及图8所示，当在光学膜上依次层叠液晶层而制造光学层叠体的情况下，存在将光学膜和液晶层层叠后释放液晶层的收缩应力的次数变多的倾向。图7及图8为示意性表示与图1～图4所示的光学层叠体的制造工序不同的光学层叠体的制造工序的一例的概略剖视图。
在图8的(d)所示的光学层叠体70p的制造方法中，首先，将在第一基材层11p上具有将聚合性液晶化合物聚合而形成的第一液晶层12p的附带基材层的第一液晶层10p(图7的(b))中的第一液晶层12p侧贴合于层叠有光学膜60p和第一粘合层31p的附带粘合层的光学膜61p(图7的(a))中的第一粘合层31p(图7的(c))。之后，剥离第一基材层11p(图7的(d))，将通过该剥离而露出的第一液晶层12p和形成在第二剥离层52p上的第二粘合层32p进行贴合(图7的(e))，剥离第二剥离层52p(图8的(a))。接着，将在第二基材层21p上具有将聚合性液晶化合物聚合而形成的第二液晶层22p的附带基材层的第二液晶层20p(图8的(b))中的第二液晶层20p侧贴合于第二粘合层32p，从而得到附带基材层的光学层叠体71p(图8的(c))。从该附带基材层的光学层叠体71p剥离第二基材层21p，得到光学层叠体70p(图8的(d))。
像这样，在图7及图8所示的制造工序中，在光学膜60p上隔着第一粘合层31p层叠第一液晶层12p后，剥离第一基材层11p，在第一液晶层12p上隔着第二粘合层32p层叠第二液晶层22p后，剥离第二基材层21p。因此可认为：在剥离第一基材层11p及第二基材层21p的各工序中，分别释放第一液晶层12p及第二液晶层22p的收缩应力，因此，在光学层叠体70p中容易产生逆卷曲。
与此相对，在图1～图4所示的本实施方式的光学层叠体70的制造方法中，首先，将附带基材层的第一液晶层10和附带基材层的第二液晶层20隔着第二粘合层32进行层叠，得到附带基材层的液晶层层叠体40(图2的(a))。之后，剥离第一基材层11，得到释放了第一液晶层12的收缩应力的液晶层层叠体41(图2的(b))，将该液晶层层叠体41与光学膜60进行贴合(图4的(a))，并剥离第二基材层21(图4的(b))。因此，根据光学层叠体70的制造方法，在将第一液晶层12或第二液晶层22层叠于光学膜60后进行的剥离工序仅为剥离第二基材层21的工序，与图7及图8所示的制造工序相比，可以降低在将液晶层层叠于光学膜后释放液晶层的收缩应力的次数。由此可认为：在图1～图4所示的光学层叠体70的制造方法中，与利用图7及图8所示的制造工序而得到的光学层叠体70p相比，能够降低在光学层叠体70中产生的逆卷曲。通过降低在光学层叠体70中产生的逆卷曲，从而在将使用该光学层叠体70得到的附带粘合层的光学层叠体(后述)贴合于光学显示元件时，可以抑制在附带粘合层的光学层叠体与光学显示元件之间混入气泡、产生褶皱、或者产生贴合失误这样的不良情况。
另外，如图7的(e)所示，有时在将光学膜60p与第一液晶层12p层叠后，在第一液晶层12p上设置第二粘合层32p。在该情况下，有时如上述那样将设置于第二剥离层52p上的第二粘合层32p与第二剥离层52p一起层叠在第一液晶层12p上，然后剥离第二剥离层52p。剥离第二剥离层52p的工序也可能成为使光学层叠体70p中容易产生逆卷曲的原因。
另一方面，在图1～图4所示的本实施方式的光学层叠体70的制造方法中，将第一液晶层12与第二液晶层22隔着第二粘合层32进行贴合，得到图2的(b)所示的液晶层层叠体41。而且，由于将该液晶层层叠体41与光学膜60层叠，因此，在本实施方式的光学层叠体70的制造方法中，若与图7及图8所示的光学层叠体70p的制造工序相比，则至少不存在剥离第二剥离层52p的工序，因此，可以降低在层叠于光学膜60后进行剥离的层的数量。因此可认为：在光学层叠体70的制造方法中，与光学层叠体70p的制造工序相比，容易抑制在光学层叠体70中产生的逆卷曲。
对于在光学层叠体中产生的逆卷曲而言，可认为：光学层叠体中所含的光学膜60的厚度或刚性越小，则越容易受到液晶层的收缩应力的释放的影响。另外，基材层的厚度或刚性越大，则在液晶层中残留的收缩应力越大，因此，越容易受到在剥离基材层时所释放的收缩应力的影响。因此，本实施方式的光学层叠体的制造方法适合于光学膜60的厚度为2μm以上且500μm以下的情况。光学膜60的厚度可以为10μm以上，另外，可以350μm以下，也可以为200μm以下，还可以为150μm以下。
予以说明，在本实施方式中为了制造光学层叠体而使用的附带基材层的第一液晶层10、附带基材层的第二液晶层20、附带剥离层的第一粘合层50、附带剥离层的第二粘合层57、光学膜60、附带粘合层的光学膜61等膜状物均优选为长条的膜状物，优选一边将它们连续地运送一边进行各工序。宽度方向W为与膜状物的长度方向正交的方向。
本实施方式的光学层叠体的制造方法可以如以下所示的变形例那样进行变更。另外，也可以将上述实施方式与下述所示的变形例任意地组合。
(实施方式1的变形例1)
上述列举出使用图1的(c)所示的附带剥离层的第二粘合层57，在附带基材层的第二液晶层20的第二液晶层22侧设置第二粘合层32，并且在该第二粘合层32上层叠附带基材层的第一液晶层10中的第一液晶层12的情况为例进行了说明，但是，只要能够将附带基材层的第一液晶层10中的第一液晶层12和附带基材层的第二液晶层20中的第二液晶层22隔着第二粘合层32进行层叠，从而得到图2的(a)所示的附带基材层的液晶层层叠体40，则并不限定于此。例如，可以使用图1的(c)所示的附带剥离层的第二粘合层57，在附带基材层的第一液晶层10的第一液晶层12侧设置第二粘合层32，并在该第二粘合层32上层叠附带基材层的第二液晶层20的第二液晶层22。
(实施方式1的变形例2)
上述列举出使用图3的(a)所示的附带剥离层的第一粘合层50在光学膜60上设置第一粘合层31而得到附带粘合层的光学膜61(图3的(c))，并且将该附带粘合层的光学膜61中的第一粘合层31与液晶层层叠体41中的第一液晶层12进行贴合的情况为例进行了说明，但是，只要能够在通过剥离第一基材层11而露出的液晶层层叠体41的露出面(第一液晶层12)隔着第一粘合层31而层叠光学膜60，则并不限定于此。例如，可以用图3的(a)所示的附带剥离层的第一粘合层50，得到在液晶层层叠体41的露出面(第一液晶层12)上设有第一粘合层31的附带第一粘合层的液晶层层叠体，并且在该第一粘合层31上层叠光学膜60。在该情况下，附带第一粘合层的液晶层层叠体只要依次具有第一粘合层31、第一液晶层12、第二粘合层32、第二液晶层22及第二基材层21即可，可以在第一粘合层31的与第一液晶层12相反一侧的面上具有第一剥离层51。
(实施方式1的变形例3)
上述列举出从图2的(a)所示的附带基材层的液晶层层叠体40剥离第一基材层11且不剥离第二基材层21而得到图2的(b)所示的液晶层层叠体41，并且将光学膜60与液晶层层叠体41隔着第一粘合层31进行层叠后再剥离第二基材层21的情况为例进行了说明，但并不限定于此。例如，可以从图2的(a)所示的附带基材层的液晶层层叠体40剥离第一基材层11及第二基材层21而得到液晶层层叠体，并且在通过剥离第一基材层11而露出的液晶层层叠体的露出面侧隔着第一粘合层31而层叠光学膜60。从附带基材层的液晶层层叠体40剥离第一基材层11及第二基材层21而得到的液晶层层叠体依次层叠有第一液晶层12、第二粘合层32及第二液晶层22。
[实施方式2(附带粘合层的光学层叠体的制造方法)]
图5的(a)及(b)为示意性表示本实施方式的附带粘合层的光学层叠体的制造工序的一例的概略剖视图。图中，W表示宽度方向。如图5的(b)所示，利用本实施方式的附带粘合层的光学层叠体80的制造方法而制造的附带粘合层的光学层叠体80依次层叠有光学膜60、第一粘合层31、第一液晶层12、第二粘合层32、第二液晶层22及第三粘合层33。也可以在第三粘合层33的与第二液晶层22相反的一侧具有第三剥离层53。
附带粘合层的光学层叠体80的制造方法包括：准备图4的(b)所示的光学层叠体70的工序；以及如图5的(a)所示那样准备层叠有第三剥离层53和第三粘合层33的附带剥离层的第三粘合层58的工序。准备附带剥离层的第三粘合层58的工序可以包括在第三剥离层53上涂布粘合剂组合物并使之干燥等而形成第三粘合层33的工序。另外，也可以根据需要而设置用其他剥离层覆盖第三粘合层33的与第三剥离层53相反一侧的面的工序。
将所准备的附带剥离层的第三粘合层58中的第三粘合层33与通过剥离第二基材层21而露出的光学层叠体70中的第二液晶层22(第二露出面)进行贴合，得到附带粘合层的光学层叠体80(图5的(b))。此时所得的附带粘合层的光学层叠体80具有第三剥离层53。在将该附带粘合层的光学层叠体80与光学显示元件层叠的情况下，可以剥离第三剥离层53，并将第三粘合层33与光学显示元件进行贴合而制成图像显示面板。
附带粘合层的光学层叠体80可以将第三粘合层33贴合于光学显示元件来使用。在上述附带粘合层的光学层叠体80的制造方法中，使用的是在先前的实施方式中说明的抑制了逆卷曲的光学层叠体70，因此可认为能够抑制附带粘合层的光学层叠体80的第三粘合层33侧卷曲成凹状的所谓逆卷曲。由此，在将附带粘合层的光学层叠体80与光学显示元件进行贴合时，可以抑制在光学层叠体与光学显示元件之间混入气泡、产生贴合失误等不良情况。
予以说明，在本实施方式中为了制造附带粘合层的光学层叠体而使用的光学层叠体70或附带剥离层的第三粘合层58等膜状物优选为长条的膜状物，优选一边将它们连续地运送一边进行各工序。宽度方向W为与膜状部的长度方向正交的方向。
[实施方式3(附带粘合层的光学层叠体的制造方法)]
图6的(a)～(d)为示意性表示本实施方式的附带粘合层的光学层叠体的制造工序的一例的概略剖视图。图中，W表示宽度方向。利用本实施方式的附带粘合层的光学层叠体的制造方法而制造的附带粘合层的光学层叠体81与在先前的实施方式中说明的附带粘合层的光学层叠体80(图5的(b))相同，如图6的(d)所示那样依次层叠有光学膜60、第一粘合层31、第一液晶层12、第二粘合层32、第二液晶层22及第三粘合层33。也可以在第三粘合层33的与第二液晶层22相反的一侧具有第三剥离层53。
在附带粘合层的光学层叠体81的制造方法中，与先前的实施方式中说明的制造方法同样地得到图2的(a)所示的附带基材层的液晶层层叠体40，并准备图5的(a)所示的附带剥离层的第三粘合层58。关于得到附带基材层的液晶层层叠体40的工序，如在先前的实施方式中基于图1的(a)～(e)及图2的(a)说明得那样，关于准备附带剥离层的第三粘合层58的工序，如在先前的实施方式中基于图5的(a)说明得那样，因此省略对其的说明。
接着，从图2的(a)所示的附带基材层的液晶层层叠体40剥离第二基材层21且不剥离第一基材层11而得到液晶层层叠体43(图6的(a))。如图6的(a)所示，液晶层层叠体43依次层叠有第一基材层11、第一液晶层12、第二粘合层32及第二液晶层22。将通过剥离第二基材层21而露出的液晶层层叠体43中的第二液晶层22(第二露出面)与附带剥离层的第三粘合层58中的第三粘合层33进行贴合，得到附带第三粘合层的液晶层层叠体45(图6的(b))。如图6的(b)所示，附带第三粘合层的液晶层层叠体45依次层叠有第一基材层11、第一液晶层12、第二粘合层32、第二液晶层22、第三粘合层33及第三剥离层53。
接下来，准备图3的(c)所示的附带粘合层的光学膜61。关于得到附带粘合层的光学膜61的工序，如在先前的实施方式中基于图3的(a)～(c)说明得那样，因此省略对其的说明。之后，从附带第三粘合层的液晶层层叠体45剥离第一基材层11(图6的(c))，并将通过剥离第一基材层11而露出的第一液晶层12(第一露出面)与附带粘合层的光学膜61中的第一粘合层31进行贴合，得到附带粘合层的光学层叠体81(图6的(d))。
在上述附带粘合层的光学层叠体81的制造方法中，将第一液晶层12和第二液晶层22隔着第二粘合层32进行层叠而得到液晶层层叠体43，再在第二液晶层22上层叠第三粘合层33而得到附带第三粘合层的液晶层层叠体45。而且可认为：由于从该附带第三粘合层的液晶层层叠体45剥离第一基材层11，并隔着第一粘合层而层叠于光学膜61，因此，基于与在先前的实施方式中说明的理由同样的理由，能够抑制所得的附带粘合层的光学层叠体81的逆卷曲。由此，能够抑制在将附带粘合层的光学层叠体81贴合于光学显示元件时在光学层叠体与光学显示元件之间混入气泡、出现褶皱、产生贴合失误等不良情况。
予以说明，在本实施方式中为了制造附带粘合层的光学层叠体而使用的附带基材层的第一液晶层10、附带基材层的第二液晶层20、附带剥离层的第一粘合层50、附带剥离层的第二粘合层57、附带剥离层的第三粘合层58、光学膜60、附带粘合层的光学膜61等膜状物均优选为长条的膜状物，优选一边将它们连续地运送一边进行各工序。宽度方向W为与膜状物的长度方向正交的方向。
本实施方式的光学层叠体的制造方法可以如以下所示的变形例那样进行变更。另外，也可以将上述实施方式与下述所示的变形例任意地组合。
(实施方式3的变形例1)
上述列举出使用图3的(a)所示的附带剥离层的第一粘合层50而得到在光学膜60上设有第一粘合层31的附带粘合层的光学膜61，并且将该附带粘合层的光学膜61中的第一粘合层31与液晶层层叠体41的第一液晶层12进行贴合的情况为例进行了说明，但是，只要能够在通过剥离第一基材层11而露出的附带第三粘合层的液晶层层叠体45的第一露出面(第一液晶层12)隔着第一粘合层31层叠光学膜60，则并不限定于此。例如，可以使用图3的(a)所示的附带剥离层的第一粘合层50在剥离第一基材层11后的附带第三粘合层的液晶层层叠体45的第一露出面(第一液晶层12)上设置第一粘合层31，并且在该第一粘合层31上层叠光学膜60。
(实施方式3的变形例2)
上述列举出从图2的(a)所示的附带基材层的液晶层层叠体40剥离第二基材层21且不剥离第一基材层11而得到图6的(a)所示的液晶层层叠体43，并且将液晶层层叠体43与附带剥离层的第三粘合层58中的第三粘合层33进行层叠后再剥离第一基材层11的情况为例进行了说明，但并不限定于此。例如，可以从图2的(a)所示的附带基材层的液晶层层叠体40剥离第一基材层11及第二基材层21而得到液晶层层叠体，并且将该液晶层层叠体的第二液晶层侧与附带剥离层的第三粘合层58进行层叠而得到附带第三粘合层的液晶层层叠体后，在该附带第三粘合层的液晶层层叠体的第一液晶层12侧隔着第一粘合层31而层叠光学膜60。在该情况下，液晶层层叠体依次层叠有第一液晶层12、第二粘合层32及第二液晶层22，附带第三粘合层的液晶层层叠体依次层叠有第一液晶层12、第二粘合层32、第二液晶层22、第三粘合层33及第三剥离层53。
以上，对本发明的实施方式及其变形例进行了说明，但是，本发明并不限定于这些实施方式及其变形例，例如，也可以将上述实施方式及其变形例的各工序组合后再实施。以下，对在全部的实施方式及其变形例中通用的各工序进行详细说明。
(光学膜)
光学膜可以为偏振片、在偏振片的至少单面形成有保护层的偏振板、在偏振板的至少单面层叠有保护膜的附带保护膜的偏振板、反射膜、半透射型反射膜、增亮膜、光学补偿膜、带有防眩功能的膜等。光学膜可以为1层结构，也可以为2层以上的多层结构的层叠光学膜。在本说明书中，“偏振片”是指：具有在使未偏振的光入射时使具有与吸收轴正交的振动面的直线偏振光透射这一性质的层。
(偏振片)
作为偏振片，可以采用任意的适当偏振片。在本说明书中，“偏振片”是指：具有在使未偏振的光入射时使具有与吸收轴正交的振动面的直线偏振光透射这一性质的直线偏振片。例如，形成偏振片的树脂膜可以为单层的树脂膜，也可以为两层以上的层叠膜。偏振片可以为使二色性色素取向于聚合性液晶化合物，并且使聚合性液晶化合物聚合而成的固化膜。
作为由单层的树脂膜构成的偏振片的具体例，可列举：对聚乙烯醇(以下有时也简称为“PVA”)系膜、部分缩甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜实施基于碘或二色性染料等二色性物质的染色处理及拉伸处理而得的偏振片；PVA的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向膜等。从使光学特性优异的方面出发，优选使用将PVA系膜用碘染色并进行单轴拉伸而得到的偏振片。
聚乙烯醇系树脂可以通过将聚乙酸乙烯酯系树脂进行皂化来制造。除了乙酸乙烯酯的均聚物即聚乙酸乙烯酯之外，聚乙酸乙烯酯系树脂也可以为乙酸乙烯酯和能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体的共聚物。作为能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体，可列举例如不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的丙烯酰胺类等。
聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85～100摩尔％左右，优选为98摩尔％以上。聚乙烯醇系树脂可以被改性，例如也可以使用被醛类改性后的聚乙烯醇缩甲醛或聚乙烯醇缩乙醛等。聚乙烯醇系树脂的聚合度通常为1,000～10,000左右，优选为1,500～5,000左右。
这样的聚乙烯醇系树脂制成的膜被用作偏振片的原材膜。聚乙烯醇系树脂的制膜方法并无特别限定，可以用公知的方法进行制膜。聚乙烯醇系树脂原材膜的膜厚为例如10～100μm左右，优选为10～60μm左右，更优选为15～30μm左右。
作为其他偏振片的制造方法，可列举包括以下工序的方法：首先，准备基材膜，在基材膜上涂布聚乙烯醇系树脂等树脂的溶液，进行除去溶剂的干燥等，在基材膜上形成树脂层。予以说明，可以在基材膜的要形成树脂层的面上预先形成底漆层。作为基材膜，可以使用PET等树脂膜。作为底漆层的材料，可列举将偏振片中使用的亲水性树脂交联而成的树脂等。
接着，根据需要调整树脂层的水分等溶剂量，之后，将基材膜及树脂层进行单轴拉伸，接着，将树脂层用碘等二色性色素进行染色，使二色性色素吸附取向于树脂层。接着，根据需要将吸附取向有二色性色素的树脂层用硼酸水溶液进行处理，再进行洗去硼酸水溶液的清洗工序。由此制造吸附取向有二色性色素的树脂层、即偏振片的膜。在各工序中可以采用公知的方法。
基材膜及树脂层的单轴拉伸可以在染色之前进行，也可以在染色中进行，还可以在染色后的硼酸处理中进行，还可以在以上多个阶段中分别进行单轴拉伸。基材膜及树脂层可以沿着MD方向(膜运送方向)进行单轴拉伸，在该情况下，可以在圆周速度不同的辊之间进行单轴拉伸，也可以使用热辊进行单轴拉伸。另外，基材膜及树脂层也可以沿着TD方向(与膜运送方向垂直的方向)进行单轴拉伸，在该情况下，可以使用所谓的拉幅机法。另外，基材膜及树脂层的拉伸可以为在大气中进行拉伸的干式拉伸，也可以为在利用溶剂使树脂层溶胀的状态下进行拉伸的湿式拉伸。为了体现偏振片的性能，拉伸倍率为4倍以上，优选为5倍以上，特别优选为5.5倍以上。拉伸倍率的上限并无特别限制，但是从抑制断裂等的观点出发，优选为8倍以下。
利用上述方法制作的偏振片可以通过在层叠后述保护层后剥离基材膜而得到。根据该方法，可以实现偏振片的进一步的薄膜化。
作为使二色性色素取向于聚合性液晶化合物、并且使聚合性液晶化合物聚合而成的固化膜即偏振片的制造方法，可列举以下方法：在基材膜上涂布包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏振片形成用组合物，将聚合性液晶化合物在保持液晶状态的条件下进行聚合，并使之固化而形成偏振片。这样得到的偏振片处于层叠在基材膜上的状态，可以使用附带基材膜的偏振片作为光学膜。或者，也可以将附带基材膜的偏振片隔着第一粘合层31层叠于液晶层层叠体后或者层叠于附带剥离层的第一粘合层50后，剥离基材膜而使用偏振片作为光学膜。
作为二色性色素，可以使用分子的长轴方向的吸光度与短轴方向的吸光度具有不同性质的色素，优选例如在300～700nm的范围具有吸收极大波长(λmax)的色素。作为这样的二色性色素，可列举例如吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等，其中，优选偶氮色素。作为偶氮色素，可列举单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、二苯乙烯偶氮色素(stilbene azo dye)等，更优选双偶氮色素、三偶氮色素。
偏振片形成用组合物可以包含溶剂、光聚合引发剂等聚合引发剂、光敏化剂、阻聚剂等。关于偏振片形成用组合物中所含的聚合性液晶化合物、二色性色素、溶剂、聚合引发剂、光敏化剂、阻聚剂等，可以用公知的物质，可以使用例如日本特开2017-102479号公报、日本特开2017-83843号公报中例示的物质。另外，聚合性液晶化合物可以使用与作为为了得到后述的第一液晶层及第二液晶层而使用的聚合性液晶化合物所例示的化合物同样的聚合性液晶化合物。关于使用偏振片形成用组合物而形成偏振片的方法，也可以采用上述公报中所例示的方法。
偏振片的厚度优选为2μm以上，更优选为3μm以上。另外，上述偏振片的厚度为25μm以下，优选为15μm以下，更优选为13μm以下，进一步优选为7μm以下。予以说明，上述的上限值及下限值可以任意地组合。偏振片的厚度越薄，则刚性越小，在作为光学层叠体的光学膜使用的情况下，容易受到第一液晶层或第二液晶层的收缩应力的影响，因此，在使用厚度小的偏振片作为光学膜的情况下，可以适合地使用上述实施方式的光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法。
(偏振板)
偏振片可以在其单面或双面隔着公知的粘合层或粘接层层叠保护层而制成偏振板。该偏振板为所谓的直线偏振板。作为能够层叠于偏振片的单面或双面的保护层，可以使用例如由透明性、机械强度、热稳定性、水分隔绝性、各向同性、拉伸性等优异的热塑性树脂形成的膜。作为这样的热塑性树脂的具体例，可列举：三乙酰基纤维素等纤维素树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂；聚醚砜树脂；聚砜树脂；聚碳酸酯树脂；尼龙或芳香族聚酰胺等聚酰胺树脂；聚酰亚胺树脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃树脂；具有环系及降冰片烯结构的环状聚烯烃树脂(也称作降冰片烯系树脂)；(甲基)丙烯酸类树脂；聚芳酯树脂；聚苯乙烯树脂；聚乙烯醇树脂；以及它们的混合物。在将保护层层叠于偏振片的双面的情况下，两个保护层的树脂组成可以相同，也可以不同。上述实施方式的光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法即使在从薄型化的观点出发而使用仅在偏振片的单面层叠了保护层的偏振板作为光学膜的情况下也能抑制逆卷曲，因此是适合的。予以说明，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是指可以为丙烯酸或甲基丙烯酸中的任一者。(甲基)丙烯酸酯等的“(甲基)”也为同样的含义。
为了提高与包含PVA系树脂及二色性物质的偏振片的密合性，可以对由热塑性树脂形成的膜实施表面处理(例如电晕处理等)，也可以形成底漆层(也称作底涂层)等薄层。
保护层在温度40℃、湿度90％RH下的透湿度优选为1～1500g/m2·24hr。若保护层的透湿度超过1500g/m2·24hr，则有时在高温高湿环境中容易发生偏振板的经时性的卷曲变化。保护层的透湿度越低，则越容易得到能够抑制偏振板的卷曲的经时变化的效果。保护层在温度40℃、湿度90％RH下的透湿度更优选为1000g/m2·24hr以下，进一步优选为100g/m2·24hr以下，更进一步优选为10g/m2·24hr以下。透湿度可以依据JIS Z 0208：1976来测定。
予以说明，在将保护层层叠于偏振片双面的情况下，优选使在光学层叠体或附带粘合层的光学层叠体贴合于光学显示元件时的能见侧所层叠的外侧保护层的透湿度与在第一粘合层侧所层叠的内侧保护层的透湿度彼此相同，或者使外侧保护层的透湿度小于内侧保护层。由此，尤其在偏振板的保存中施加了水分时，可以保持FLAT(平坦)的形状、或者通过使内侧保护层溶胀而成为将偏振板向正卷曲侧卷曲的状态，容易制成将光学层叠体或附带粘合层的光学层叠体向正卷曲侧卷曲的状态。另外，外侧保护层的透湿度更优选为10g/m2·24hr以下。由此，即使是仅在偏振片的单面层叠有保护层的偏振板，也能控制卷曲，在光学层叠体或附带粘合层的光学层叠体贴合于光学显示元件后，也能抑制经时性的尺寸变化(变形)。
进而，为了更进一步降低第一液晶层或第二液晶层的收缩应力的影响而抑制在光学层叠体或附带粘合层的光学层叠体中产生的正卷曲，优选在作为光学膜使用的偏振板中提高被层叠于偏振片的保护层的刚性。在此，刚性以保护层中使用的膜的室温(23℃)下的拉伸弹性模量(以下有时称作“23℃弹性模量”)与膜厚相乘的积的形式来定义。例如，使用了以三乙酰基纤维素为代表的纤维素系聚合物的保护层的23℃弹性模量优选为3000～5000MPa的范围，使用了以聚甲基丙烯酸甲酯为代表的丙烯酸系聚合物的保护层的23℃弹性模量优选为2000～4000MPa的范围，使用了如具有降冰片烯结构那样的环烯烃系聚合物的保护层的23℃弹性模量优选为2000～4000MPa的范围。在外侧保护层中，从上述透湿度和刚性的观点出发，适合使用丙烯酸系聚合物或聚烯烃系聚合物，特别优选使用环烯烃系聚合物。
保护层例如可以为拉伸上述热塑性树脂而得的热塑性树脂，也可以为未被拉伸的热塑性树脂(以下有时称作“未拉伸树脂”)。作为拉伸处理，可列举单轴拉伸或双轴拉伸等。
拉伸处理中的拉伸方向可以为未拉伸树脂的长度方向，也可以为与长度方向正交的方向，还可以为与长度方向斜交的方向。在单轴拉伸的情况下，只要沿着这些方向中的任一方向拉伸未拉伸树脂即可。双轴拉伸可以为沿着这些方向中的2个拉伸方向同时进行拉伸的同时双轴拉伸，也可以为沿着规定的方向拉伸后再沿着其他方向拉伸的逐次双轴拉伸。
拉伸处理例如可以通过使用增大了下游侧的圆周速度的2对以上的夹持辊沿着长度方向进行拉伸、或者将未拉伸树脂的两侧端用夹具夹持并且沿着与长度方向正交的方向拉伸等来进行。此时，通过调整拉伸后的热塑性树脂的厚度或调整拉伸倍率，从而可以控制期望的相位差值及波长分散。
所拉伸的热塑性树脂优选满足下述式。
(1) 80nm≤Re(590)≤180nm
(2) 0.5＜Rth(590)/Re(590)≤0.8
(3) 0.85≤Re(450)/Re(550)＜1.00
式中，Re(590)、Re(450)、Re(550)分别表示在测定波长590nm、450nm、550nm下的面内相位差值，Rth(590)表示在测定波长590nm下的厚度方向相位差值。这些面内相位差值及厚度方向相位差值是指在温度23℃、相对湿度55％的环境下测定的值。
在将面内慢轴方向的折射率设为nx、将面内快轴方向(与面内慢轴方向正交的方向)的折射率设为ny、将厚度方向的折射率设为nz、将所拉伸的热塑性树脂的厚度设为d时，面内相位差值Re、厚度方向相位差值Rth以下述式(S1)、式(S2)来定义。
(S1) Re＝(nx-ny)×d
(S2) Rth＝[{(nx+ny)/2}-nz]×d
上述的外侧保护层优选为满足上述式(1)～(3)的被拉伸后的热塑性树脂。另外，上述的外侧保护层优选以在与偏振片的吸收轴斜交的方向上具有慢轴的方式贴合于偏振片，优选以例如使外侧保护层的慢轴的角度相对于偏振片的吸收轴达到45±10°或135±10°的方式将外侧保护层与偏振片进行贴合。通过使慢轴的角度为上述范围，从而使快轴方向上的光的相位与慢轴方向上的光的相位之间产生差异，因此，若将本实施方式的光学层叠体应用于光学显示元件，则可以使通过光学层叠体而出射的光成为圆偏振光。因此，将本实施方式的光学层叠体应用于光学显示元件而得的显示装置即使在透过偏光太阳镜观看显示图像等的情况下视觉辨认性也优异。
保护层的厚度优选为3μm以上，更优选为5μm以上。另外，保护层的厚度优选为50μm以下，更优选为30μm以下。予以说明，上述的上限值及下限值可以任意地组合。偏振板的厚度越薄，则刚性越小，越容易受到第一液晶层或第二液晶层的收缩应力的影响，因此，在使用厚度小的偏振板作为光学膜的情况下，可以适合地使用上述实施方式的光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法。
保护层的与偏振片相反一侧的表面可以具有表面处理层，可以具有例如硬涂层、防反射层、防粘连层、防眩光层、扩散层等。表面处理层可以为层叠在保护层上的其它层，也可以为对保护层表面实施表面处理而形成的层。
硬涂层是以防止偏振板表面的损伤等为目的的层，例如可以利用对保护层的表面附加由丙烯酸系、硅酮系等的紫外线固化型树脂得到的硬度或滑动特性等优异的固化皮膜的方式等来形成。防反射层是以防止偏振板表面上的外界光的反射为目的的层，可以通过基于以往的防反射膜等的形成来实现。另外，防粘连层是以防止与邻接层密合为目的的层。
防眩光层是以防止因在偏振板的表面上反射外界光而阻碍偏振板的透射光的视觉辨认等为目的的层，例如可以通过利用基于喷砂方式或压花加工方式的粗面化方式、透明微粒的配合方式等方式对保护层的表面赋予微细凹凸结构来形成。作为为了对保护层的表面赋予微细凹凸结构而使用的透明微粒，可列举例如：平均粒径为0.5～50μm的二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化铟、氧化镉、氧化锑等可以具有导电性的无机系微粒；交联或未交联的聚合物等有机系微粒等微粒。透明微粒的含量相对于构成形成微细凹凸结构的层的树脂100质量份而通常为2～50质量份，优选为5～25质量份。防眩光层可以兼作用于扩散偏振板的透射光而扩大视角等的扩散层(视角扩大功能等)。
在表面处理层为层叠在偏振板的保护层上的其它层的情况下，表面处理层的厚度优选为0.5μm以上，更优选为1μm以上。另外，优选为10μm以下，更优选为8μm以下。若厚度不足0.5μm，则存在难以有效地防止偏振板表面损伤的倾向。另外，若厚度超过10μm，则有时因固化收缩变大等而变得难以抑制偏振板的逆卷曲。
上述实施方式的光学层叠体及附带粘合层的光学层叠体的制造方法适合于偏振板的厚度为2μm以上且300μm以下的情况。偏振板的厚度可以为10μm以上，另外，可以为150μm以下，也可以为120μm以下，还可以为80μm以下。
对于偏振板而言，利用后述实施例中记载的方法测定的从附带保护膜的偏振板剥离保护膜后的偏振板的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值分别独立地优选为-40mm以上且40mm以下的范围，更优选为-30mm以上且35mm以下的范围，进一步优选为-20mm以上且30mm以下的范围。若上述实测MD卷曲值及实测TD卷曲值为上述的范围以外，则存在偏振板容易形成筒状的倾向，并且存在不易得到卷曲形状的倾向。另外，若后述附带保护膜的偏振板的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值与偏振板的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值相背离，则在保护膜与偏振板之间产生浮起，或者发生在保护膜与偏振板之间产生间隙的隧穿效应(tunneling)，故不优选。
(附带保护膜的偏振板)
偏振板通常在其单面层叠保护膜，由此可以制成附带保护膜的偏振板。保护膜包含保护膜用树脂膜和层叠在其上的保护膜用粘合层。保护膜的厚度可以为例如30～200μm，优选为40～150μm，更优选为50～120μm。
作为构成保护膜用树脂膜的树脂，可列举例如：如聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂那样的聚烯烃系树脂；环状聚烯烃系树脂；如聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯那样的聚酯系树脂；聚碳酸酯系树脂；(甲基)丙烯酸系树脂等。其中，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂。保护膜用树脂膜可以为1层结构，也可以具有2层以上的多层结构。
作为构成保护膜用粘合层的粘合剂，可以使用与构成后述粘合层的粘合剂同样的粘合剂。另外，通过在保护膜用树脂膜面上涂布粘合剂组合物并使之干燥等而形成粘合层，从而可以得到保护膜。为了提高密合性，可以根据需要对保护膜用树脂膜的粘合剂涂布面实施表面处理(例如电晕处理等)，也可以形成底漆层(也称作底涂层)等薄层。另外，也可以根据需要而具有用于覆盖保护膜用粘合层的与保护膜用树脂膜侧相反一侧的表面而进行保护的剥离层。该剥离层可以在与偏振板贴合时的适当时机进行剥离。
在将保护膜贴合于偏振板的附带保护膜的偏振板的制作工序中，通过赋予张力差或圆周速度差，也可以对附带保护膜的偏振板的长度方向赋予正卷曲。因此，在上述实施方式的光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法中，在使用附带保护膜的偏振板作为光学膜的情况下，通过在附带保护膜的偏振板的制作工序中对附带保护膜的偏振板赋予正卷曲，从而可以期待更容易抑制光学层叠体或附带粘合层的光学层叠体的逆卷曲。
对于附带保护膜的偏振板而言，利用后述实施例中记载的方法测定的附带保护膜的偏振板的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值分别独立地优选为-40mm以上且40mm以下的范围，更优选为-30mm以上且35mm以下的范围，进一步优选为-20mm以上且30mm以下的范围。若上述实测MD卷曲值及实测TD卷曲值为上述的范围以外，则存在附带保护膜的偏振板容易形成筒状的倾向，并且存在不易得到卷曲形状的倾向。另外，存在在将附带保护膜的偏振板加工成规定尺寸并与光学显示元件贴合时难以用贴合装置的吸引机构等加以适当地保持、在贴合时混入气泡或产生褶皱等倾向，故不优选。
附带保护膜的偏振板的厚度越薄，则刚性越小，越容易受到第一液晶层或第二液晶层的收缩应力的影响，因此，在使用厚度小的偏振板作为光学膜的情况下，可以适合地使用上述实施方式的光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法。在上述实施方式的光学膜60为附带保护膜的偏振板的情况下，上述实施方式的光学层叠体及附带粘合层的光学层叠体的制造方法适合于附带保护膜的偏振板的厚度为32μm以上且500μm以下的情况。附带保护膜的偏振板的厚度可以为40μm以上，另外，可以为350μm以下，也可以为200μm以下，还可以为150μm以下。
(粘合层)
第一粘合层、第二粘合层及第三粘合层(以下有时将它们统称为“粘合层”)是指由粘合剂构成的层。在本说明书中，“粘合剂”为柔软的橡胶状，通过将其自身粘贴于光学膜或液晶层等被粘物而体现粘接性，被称作所谓的压敏型粘接剂。另外，后述的活性能量射线固化型粘合剂可以通过照射能量射线而调整交联度或粘接力。
作为粘合剂，可以无特别限制地使用以往公知的光学透明性优异的粘合剂，例如可以使用具有丙烯酸系、聚氨酯系、硅酮系、聚乙烯基醚系等基础聚合物的粘合剂。另外，也可以为活性能量射线固化型粘合剂、热固化型粘合剂等。其中，适合的是以透明性、粘合力、再剥离性(以下也称作再加工性)、耐候性、耐热性等优异的丙烯酸系树脂作为基础聚合物的粘合剂。粘合层优选由包含(甲基)丙烯酸系树脂(1)、交联剂(2)、硅烷化合物(3)的粘合剂组合物的反应生成物形成，也可以包含其他成分(4)。
((甲基)丙烯酸系树脂(1))
粘合剂组合物中所含的(甲基)丙烯酸系树脂(1)优选为以来自下述式(I)所示的(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元(以下也称作“结构单元(I)”)为主成分(例如包含50质量％以上的该结构单元)的聚合物(以下也称作“(甲基)丙烯酸酯聚合物”)。在本说明书中，“来自”是指：由于(甲基)丙烯酸烷基酯等化合物发生聚合，因此化学结构发生变化。
[化1]
[式中，R10表示氢原子或甲基，R20表示碳原子数1～20的烷基，上述烷基可以具有直链状、支链状或环状中的任一结构，上述烷基的氢原子可以被碳原子数1～10的烷氧基取代。]
作为式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯，可列举例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸异己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯等。作为含烷氧基的丙烯酸烷基酯的具体例，可列举(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯等。其中，优选包含(甲基)丙烯酸正丁酯或(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，特别优选包含(甲基)丙烯酸正丁酯。
(甲基)丙烯酸酯聚合物可以包含除了结构单元(I)以外的来自其他单体的结构单元。来自其他单体的结构单元可以为1种，也可以为2种以上。作为(甲基)丙烯酸酯聚合物可以包含的其他单体，可列举具有极性官能团的单体、具有芳香族基团的单体、丙烯酰胺系单体。
作为具有极性官能团的单体，可列举具有极性官能团的(甲基)丙烯酸酯。作为极性官能团，可列举羟基、羧基、取代氨基、未取代氨基等。作为极性官能团，还可列举环氧基等杂环基等。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中的来自具有极性官能团的单体的结构单元的含量相对于(甲基)丙烯酸酯聚合物的全部结构单元100质量份优选为20质量份以下，更优选为0.1质量份以上且20质量份以下，进一步优选为0.1质量份以上且10质量份以下，特别优选为0.5质量份以上且10质量份以下。
作为具有芳香族基团的单体，可列举在分子内具有1个(甲基)丙烯酰基和1个以上芳香环(例如苯环、萘环等)，并且具有苯基、苯氧基乙基或苄基的(甲基)丙烯酸酯。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中的来自具有芳香族基团的单体的结构单元的含量相对于(甲基)丙烯酸酯聚合物的全部结构单元100质量份优选为50质量份以下，更优选为4质量份以上且50质量份以下，进一步优选为4质量份以上且25质量份以下。
作为丙烯酰胺系单体，可列举N-(甲氧基甲基)丙烯酰胺、N-(乙氧基甲基)丙烯酰胺、N-(丙氧基甲基)丙烯酰胺、N-(丁氧基甲基)丙烯酰胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯酰胺等。通过包含这些结构单元，可以抑制后述抗静电剂等添加剂的渗出。
进而，作为除了结构单元(I)以外的来自其他单体的结构单元，可以包括来自苯乙烯系单体的结构单元、来自乙烯基系单体的结构单元、来自在分子内具有多个(甲基)丙烯酰基的单体的结构单元等。
(甲基)丙烯酸系树脂(1)的重均分子量(以下也简称为“Mw”)优选为50万～250万。若重均分子量为50万以上，则可以提高在高温、高湿环境下的粘合层的耐久性。若重均分子量为250万以下，则涂敷含有粘合剂组合物的涂敷液时的操作性变得良好。以重均分子量(Mw)与数均分子量(以下也简称为“Mn”)之比来表示的分子量分布(Mw/Mn)通常为2～10。在本说明书中，“重均分子量”及“数均分子量”为利用凝胶渗透色谱(GPC)法测定的聚苯乙烯换算值。
就(甲基)丙烯酸系树脂(1)而言，在溶解于乙酸乙酯而制成浓度20质量％的溶液时，在25℃下的粘度优选20Pa·s以下，更优选为0.1～15Pa·s。若(甲基)丙烯酸类树脂(1)在25℃下的粘度为上述范围内，则有助于再加工性等。上述粘度可以利用Brookfield粘度计来测定。
从兼顾粘合性及耐久性的观点出发，(甲基)丙烯酸系树脂(1)的玻璃化转变温度优选为-10℃～-60℃。予以说明，玻璃化转变温度可以利用差示扫描量热计(DSC)来测定。
(甲基)丙烯酸系树脂(1)可以包含2种以上的(甲基)丙烯酸酯聚合物。作为此种(甲基)丙烯酸酯聚合物，可列举例如：以来自上述(甲基)丙烯酸酯的结构单元(I)为主成分、并且重均分子量为5万～30万的范围之类的分子量较低的(甲基)丙烯酸酯聚合物。
(交联剂(2))
形成粘合层的粘合剂组合物优选包含交联剂(2)。作为交联剂(2)，可列举惯用的交联剂(例如异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物、金属螯合化合物、过氧化物等)，尤其从粘合剂组合物的适用期、交联速度等观点出发，优选为异氰酸酯系化合物。
作为异氰酸酯系化合物，优选在分子内具有至少2个异氰酰基(-NCO)的化合物，可列举例如脂肪族异氰酸酯系化合物(例如六亚甲基二异氰酸酯等)、脂环族异氰酸酯系化合物(例如异佛尔酮二异氰酸酯)、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯、芳香族异氰酸酯系化合物(例如甲苯二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、三苯基甲烷三异氰酸酯等)等。另外，交联剂(2)可以为上述异氰酸酯化合物的基于多元醇化合物得到的加成物(加合物)[例如基于甘油、三羟甲基丙烷等得到的加成物]、异氰脲酸酯化物、缩二脲型化合物、与聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸类多元醇、聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇等发生加成反应而得到的氨基甲酸酯预聚物型的异氰酸酯化合物等衍生物。交联剂(2)可以单独使用或组合使用2种以上。其中，从耐久性的观点出发，优选甲苯二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、以及它们的多元醇化合物或它们的异氰脲酸酯化合物。
交联剂(2)的比例相对于(甲基)丙烯酸系树脂(1)100质量份可以为例如0.01～10质量份，优选为0.1～3质量份，进一步优选为0.1～1质量份。若为上述的上限值以下，则对于提高耐久性有利，若为上述的下限值以上，则抑制气体的产生，对于提高再加工性有利。
(硅烷化合物(3))
粘合剂组合物含有硅烷化合物(3)。通过含有硅烷化合物(3)，可以提高粘合层与所层叠的层的密合性。也可以使用2种以上的硅烷化合物(3)。
作为硅烷化合物(3)，可列举例如乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基乙氧基二甲基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷等。
另外，硅烷化合物(3)可以包含来自上述硅烷化合物(3)的低聚物。
粘合剂组合物中的硅烷化合物(3)的含量相对于(甲基)丙烯酸系树脂(1)100质量份通常为0.01～10质量份，优选为0.03～5质量份，更优选为0.05～2质量份，进一步优选为0.1～1质量份。若硅烷化合物(3)的含量为0.01质量份以上，则容易提高粘合层与光学膜或液晶层等被粘物的密合性。若含量为10质量份以下，则可以抑制硅烷化合物(3)从粘合层渗出。
(其他成分(4))
形成粘合层的粘合剂组合物中，作为其他成分(4)，可以包含单独一种或2种以上的以下物质：使用了离子性化合物等的抗静电剂、溶剂、交联催化剂、增粘树脂(增粘剂)、增塑剂、耐候稳定剂、软化剂、染料、颜料、无机填料、除丙烯酸类树脂以外的树脂等添加剂。
(活性能量射线固化型粘合剂)
在粘合剂组合物中配合多官能性丙烯酸酯等紫外线固化性化合物，在形成粘合层后照射紫外线使其固化而制成更硬的粘合层也是有用的，可以使用活性能量射线固化型粘合剂。“活性能量射线固化型粘合剂”具有受到紫外线或电子射线等能量射线的照射而固化的性质。活化能量射线固化型粘合剂即使在能量射线照射前也具有粘合性，因此是具有能够与光学膜或液晶层等被粘物密合、并且利用能量射线的照射使之固化来调整密合力这一性质的粘合剂。
活性能量射线固化型粘合剂通常包含丙烯酸系粘合剂和能量射线聚合性化合物作为主成分。通常还配合交联剂，另外，也可以根据需要而配合光聚合引发剂或光敏化剂等。
粘合层的储能模量在23℃下优选为0.10～10.0MPa，更优选为0.15～5.0MPa。若在23℃下的储能模量为0.10MPa以上，则在发生温度变化时能够抑制剥离等不良情况，故而优选。另外，若在23℃下的储能模量为10.0MPa以下，则不易引起由粘合力的降低所致的耐久性降低，故而优选。予以说明，粘合层的储能模量可以利用市售的粘弹性测定装置、例如REOMETRIC公司制的粘弹性测定装置“DYNAMIC ANALYZER RDA II”来测定。
粘合层的厚度优选为3μm以上，更优选为5μm以上。另外，粘合层的厚度优选为40μm以下，更优选为30μm以下。予以说明，上述的上限值及下限值可以任意地组合。
(附带剥离层的粘合层)
附带剥离层的第一粘合层、附带剥离层的第二粘合层及附带剥离层的第三粘合层(以下有时将它们统称为“附带剥离层的粘合层”)例如可以通过在剥离层的脱模处理面上涂布粘合剂组合物并使之干燥等而形成粘合层来得到。附带剥离层的粘合层可以根据需要而具有用于覆盖粘合层的与剥离层侧相反一侧的表面而进行保护的其他剥离层。剥离层及其他剥离层可以在适当的时机剥离。
(剥离层)
第一剥离层、第二剥离层及第三剥离层(以下有时将它们统称为“剥离层”)能够从粘合层剥离，其具有支撑形成在剥离层上的粘合层、并保护粘合层的功能。剥离层可以使用公知的剥离膜或剥离纸，例如可以为对由作为后述基材层而例示的树脂材料形成的膜实施硅酮涂布等脱模处理而得的剥离膜。关于其他的剥离层，也可以使用与剥离层同样的材料。
剥离层能够从粘合层剥离，剥离层与粘合层之间的剥离力的大小需要考虑将剥离层剥离的顺序来决定。关于上述剥离力，可以准备在剥离层上具有粘合层的测定用试验片(长度200mm、宽度25mm的大小)，与适当大小的玻璃进行贴合，使用岛津制作所制的自动绘图仪(AGS-50NX)，将以形成剥离开始点的方式进行部分剥离后的剥离层和玻璃分别夹紧，以300mm/分钟的速度在180°的方向剥离剥离层，将此时所测定的剥离强度设为剥离力。剥离层与粘合层之间的剥离力优选为0.01～0.20N/25mm，更优选为0.02～0.10N/25mm，进一步优选为0.02～0.06N/25mm。若低于0.01N/25mm，则存在运送过程中在剥离层与粘合层之间产生浮起的风险。另外，若超过0.20N/25mm，则剥离层与粘合层的密合性高，剥离层不易从粘合层剥离，因此，若剥离剥离层，则存在如下风险：粘合层断裂而成为在剥离后的剥离层上附着有一部分粘合层的状态，或者发生在非目标层之间的剥离(例如粘合层的与剥离层相反一侧上接合的层与粘合层之间的剥离)。
(液晶层)
第一液晶层及第二液晶层(以下有时将两者统称为“液晶层”)为通过使聚合性液晶化合物聚合而形成的固化层，可以为相位差层。液晶层的光学特性可以利用聚合性液晶化合物的取向状态来调整。
在本说明书中，将聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面水平地取向的情况定义为水平取向，将聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面垂直地取向的情况定义为垂直取向。光轴是指：在由聚合性液晶化合物的取向而形成的折射率椭球体中，在与光轴正交的方向切割的截面为圆的方向、即2个方向的折射率达到相等的方向。
作为聚合性液晶化合物，可列举棒状的聚合性液晶化合物、圆盘状的聚合性液晶化合物。在棒状的聚合性液晶化合物相对于基材层水平取向或垂直取向的情况下，该聚合性液晶化合物的光轴与该聚合性液晶化合物的长轴方向一致。在圆盘状的聚合性液晶化合物发生取向的情况下，该聚合性液晶化合物的光轴存在于与该聚合性液晶化合物的圆盘面正交的方向。
为了使将聚合性液晶化合物聚合而形成的液晶层显现面内相位差，只要使聚合性液晶化合物向适当的方向取向即可。在聚合性液晶化合物为棒状的情况下，通过使该聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面水平地取向来显现面内相位差，在该情况下，光轴方向与慢轴方向一致。在聚合性液晶化合物为圆盘状的情况下，通过使该聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面水平地取向来显现面内相位差，在该情况下，光轴与慢轴正交。聚合性液晶化合物的取向状态可以利用取向膜与聚合性液晶化合物的组合来调整。
聚合性液晶化合物是具有聚合性基团且具有液晶性的化合物。聚合性基团是指参与聚合反应的基团，优选为光聚合性基团。在此，光聚合性基团是指通过由后述光聚合引发剂产生的活性自由基或酸等而能够参与聚合反应的基团。作为聚合性基团，可列举乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙基、氧杂环丁基等。其中，优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基氧基、环氧乙基及氧杂环丁基，更优选丙烯酰氧基。关于聚合性液晶化合物所具有的液晶性，可以为热致性液晶，也可以为溶致液晶，若将热致液晶按有序度进行分类，则可以为向列型液晶，也可以为近晶型液晶。
作为棒状的聚合性液晶化合物或圆盘状的聚合性液晶化合物，可以使用公知的聚合性液晶化合物，可以使用例如日本特开2015-163937号公报、日本特开2016-42185号公报、国际公开第2016/158940号、日本特开2016-224128号公报中所例示的聚合性液晶化合物。
液晶层可以为1层结构，也可以为2层以上的多层结构。在具有2层以上的多层结构的情况下，只要在准备后述附带基材层的液晶层时，在基材层上形成2层以上的多层结构的液晶层即可。在液晶层为1层结构的情况下，液晶层的厚度优选为0.3μm以上，也可以为1μm以上，通常为10μm以下，优选为5μm以下。在液晶层为2层以上的多层结构的情况下，液晶层的厚度优选为0.5μm以上，也可以为1μm以上，通常为10μm以下，优选为5μm以下。从有助于偏振板整体的薄型化、有效地抑制可能产生的逆卷曲的观点出发，液晶层的厚度优选为5μm以下。另外，在液晶层的厚度不足0.3μm的情况下，存在逆卷曲的程度为轻微的倾向，因此，使用上述实施方式的光学层叠体的制造方法或附带粘合层的光学层叠体的制造方法的必要性小。
(附带基材层的液晶层)
附带基材层的第一液晶层及附带基材层的第二液晶层(以下有时将两者统称为“附带基材层的液晶层”)可以通过以下方式得到，即，在基材层上涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物，进行干燥，并使聚合性液晶化合物聚合而形成固化层、即形成液晶层。当在基材层上形成有后述取向层的情况下，液晶层形成用组合物只要涂布在取向层上即可，在液晶层为2层以上的多层结构的情况下，只要通过依次涂布液晶层形成用组合物等来形成多层结构即可。
液晶层形成用组合物中，在包含聚合性液晶化合物的基础上通常还包含溶剂。液晶层形成用组合物可以还包含聚合引发剂、反应性添加剂、阻聚剂等。关于溶剂、聚合引发剂、反应性添加剂、阻聚剂等，可以使用在日本特开2015-163937号公报、日本特开2016-42185号公报、国际公开第2016/158940号、日本特开2016-224128号公报中所例示的物质。
液晶层形成用组合物的涂布可以利用例如旋涂法、挤压法、凹版涂布法、模涂法、狭缝涂布法、棒涂法、敷涂器法等涂布法或者柔版法等印刷法等公知的方法来进行。在进行液晶层形成用组合物的涂布后，优选在不使涂布层中所含的聚合性液晶化合物发生聚合的条件下除去溶剂。作为干燥方法，可列举自然干燥法、通风干燥法、加热干燥、减压干燥法等。
在涂布层的干燥后进行的聚合性液晶化合物的聚合可以利用使具有聚合性官能团的化合物发生聚合的公知方法来进行。作为聚合方法，可列举例如热聚合或光聚合等，从聚合容易性的观点出发，优选为光聚合。在利用光聚合使聚合性液晶化合物聚合的情况下，优选的是：作为液晶层形成用组合物而使用含有光聚合引发剂的液晶层形成用组合物，将该液晶层形成用组合物进行涂布、干燥，使干燥后的干燥被膜中所含的聚合性液晶化合物发生液晶取向，在维持该液晶取向状态的条件下进行光聚合。
光聚合可以通过对干燥被膜中的进行液晶取向后的聚合性液晶化合物照射活性能量射线来进行。作为所照射的活性能量射线，可以根据聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团的种类及其量、光聚合引发剂的种类等进行适当选择，可列举例如选自可见光线、紫外线、激光、X射线、α射线、β射线及γ射线中的1种以上的活性能量射线。其中，从容易控制聚合反应的进行、能够使用作为光聚合装置而被广泛地用于本领域的装置的方面出发，优选紫外线，优选按照能够利用紫外线进行光聚合的方式来选择聚合性液晶化合物或光聚合引发剂的种类。在光聚合时，一边利用适当的冷却手段来冷却干燥被膜，一边照射活性能量射线，由此也可以控制聚合温度。
(基材层)
第一基材层及第二基材层(以下有时将两者统称为“基材层”)具有作为支撑在这些基材层上形成的后述第一取向层及第二取向层、以及第一液晶层及第二液晶层的支撑层的功能。基材层优选为由树脂材料形成的膜。
作为树脂材料，使用例如透明性、机械强度、热稳定性、拉伸性等优异的树脂材料。具体而言，可列举：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系树脂；降冰片烯系聚合物等环状聚烯烃系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系树脂；三乙酰基纤维素、二乙酰基纤维素、乙酸丙酸纤维素等纤维素酯系树脂；聚乙烯醇、聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系树脂；聚碳酸酯系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚芳酯系树脂；聚砜系树脂；聚醚砜系树脂；聚酰胺系树脂；聚酰亚胺系树脂；聚醚酮系树脂；聚苯硫醚系树脂；聚苯醚系树脂；以及它们的混合物、共聚物等。在这些树脂中，优选使用环状聚烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素酯系树脂及(甲基)丙烯酸系树脂中的任一者或它们的混合物。
基材层可以为1种树脂的单层或混合2种以上树脂的单层，也可以具有2层以上的多层结构。在具有多层结构的情况下，构成各层的树脂可以彼此相同，也可以不同，也可以为硬涂层那样的涂布/固化物层。
在构成由树脂材料形成的膜的树脂材料中可以添加任意的添加剂。作为添加剂，可列举例如紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、抗静电剂、颜料及着色剂等。
第一基材层及第二基材层的厚度并无特别限定，通常从强度、处理性等操作性的方面出发，优选为1～300μm，更优选为10～200μm，进一步优选为30～120μm。
在附带基材层的第一液晶层具有后述第一取向层的情况或附带基材层的第二液晶层具有后述第二取向层的情况下，为了提高第一基材层与第一取向层的密合性、以及第二基材层与第二取向层的密合性，可以对至少第一基材层的要形成第一取向层的一侧的表面及至少第二基材层的要形成第二取向层的一侧的表面进行电晕处理、等离子体处理、火焰处理等，也可以形成底漆层等。
基材层能够从液晶层或后述取向层(第一取向层或第二取向层)剥离，基材层与液晶层或取向层之间的剥离力的大小需要考虑剥离基材层的顺序来决定。除了使用在基材层上具有液晶层的测定用试验片或者在基材层上具有取向层及液晶层的测定用试验片以外，剥离力可以与测定剥离层与粘合层之间的剥离力的方法同样地测定。基材层与液晶层或取向层之间的剥离力优选为0.01～0.50N/25mm，更优选为0.03～0.20N/25mm，进一步优选为0.05～0.18N/25mm。若剥离力低于上述的下限值，则存在运送过程中在基材层与液晶层或取向层之间产生浮起的风险。另外，若剥离力超过上述的上限值，则存在如下风险：因密合性过高而无法将液晶层或者液晶层及取向层转印至另一个液晶层或光学膜等，在制造光学层叠体或附带粘合层的光学层叠体的工序中运送各构件的过程中，剥离界面发生改变等。
第一基材层和第一液晶层或后述的第一取向层之间的剥离力(以下有时称作“第一剥离力”)与第二基材层和第二液晶层或后述的第二取向层之间的剥离力(以下有时称作“第二剥离力”)之差优选为0.01N/25mm以上，更优选为0.03N/25mm以上。在从附带基材层的液晶层层叠体先剥离第一基材层的情况下，优选使第二剥离力大于第一剥离力，在从附带基材层的液晶层层叠体先剥离第二基材层的情况下，优选使第一剥离力大于第二剥离力。另外，在从附带基材层的液晶层层叠体先剥离第一基材层的情况下，从长条加工的观点出发，优选为第二剥离层与第二粘合层之间的剥离力<第一剥离力<第二剥离力的关系。
(取向层)
附带基材层的第一液晶层可以在第一基材层和第一液晶层之间包含第一取向层。另外，附带基材层的第二液晶层可以在第二基材层和第二液晶层之间包含第二取向层。
第一取向层及第二取向层具有使形成在这些取向层上的第一液晶层及第二液晶层中所含的液晶化合物朝向期望方向进行液晶取向的取向控制力。作为第一取向层及第二取向层，可列举由取向性聚合物形成的取向性聚合物层、由光取向聚合物形成的光取向性聚合物层、在层表面具有凹凸图案或多个沟槽(groove)的沟槽取向层，第一取向层和第二取向层可以为相同种类的层，也可以为不同种类的层。第一取向层及第二取向层的厚度通常为10～4000nm，优选为50～3000nm。
取向性聚合物层可以通过在基材层(第一基材层或第二基材层)上涂布将取向性聚合物溶解于溶剂后的组合物，除去溶剂，再根据需要进行刷磨处理来形成。在该情况下，对于由取向性聚合物形成的取向性聚合物层而言，取向控制力可以根据取向性聚合物的表面状态或刷磨条件进行任意地调整。
光取向性聚合物层可以通过将包含具有光反应性基团的聚合物或单体且包含溶剂的组合物涂布于基材层(第一基材层或第二基材层)，并照射紫外线等光来形成。尤其在水平方向体现取向控制力的情况等下，可以通过照射偏振光来形成。在该情况下，对于光取向性聚合物层而言，取向控制力可以根据对于光取向性聚合物的偏振光照射条件等进行任意地调整。
沟槽取向层可以利用例如以下方法来形成，即，隔着具有图案形状的狭缝的曝光用掩模对感光性聚酰亚胺膜表面进行曝光、显影等而形成凹凸图案的方法；在表面具有沟槽的板状母盘上形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，将该层转印于基材层(第一基材层或第二基材层)并进行固化的方法；在基材层(第一基材层或第二基材层)上形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，将具有凹凸的辊状母盘按压至该层等，形成凹凸并使之固化的方法等。
在附带基材层的第一液晶层包含第一取向层的情况下，在剥离第一基材层时，可以将第一取向层与第一基材层一起剥离，也可以在第一液晶层上残留第一取向层。在附带基材层的第二液晶层包含第二取向层的情况下，在剥离第二基材层时，可以将第二取向层与第二基材层一起剥离，也可以在第二液晶层上残留第二取向层。予以说明，将第一取向层与第一基材层一起剥离还是残留于第一液晶层可以通过调整各层间的密合力的关系来设定，例如可以利用对第一基材层进行的上述电晕处理、等离子体处理、火焰处理、底漆层等表面处理或者为了形成第一液晶层而使用的液晶层形成用组合物的成分等来调整。同样地，可以利用对第二基材层进行的表面处理、制备为了形成第二液晶层而使用的液晶层形成用组合物的成分，将第二取向层与第二基材层一起剥离，也可以使第二取向层残留于第二液晶层。
当在第一液晶层上残留第一取向层的情况下，第一粘合层可以设置在第一取向层上。另外，当在第二液晶层上残留第二取向层的情况下，第三粘合层可以设置在第二取向层上。
(圆偏振板)
本实施方式的光学层叠体可以作为圆偏振板来使用。在使用图4的(b)所示的光学层叠体70作为圆偏振板的情况下，可以将光学膜60设为偏振片、偏振板或附带保护膜的偏振板，将第一液晶层12设为1/2波长相位差层，将第二液晶层22设为1/4波长相位差层。或者，在与上述同样地将光学膜60设为偏振片、偏振板或附带保护膜的偏振板的基础上，将第一液晶层12设为逆波长分散性的1/4波长相位差层，将第二液晶层22设为正C板，由此也可以得到圆偏振板。
实施例
以下，示出实施例及比较例对本发明进行更具体地说明，但是，本发明并不受这些例子的限定。只要没有特别说明，则实施例、比较例中的“％”及“份”为质量％及质量份。
〔卷曲的测定(1)〕
将从各实施例、各比较例中所得的附带粘合层的光学层叠体中以成为一边的长度为100mm的菱形形状、且其对角线与MD方向及TD方向分别平行的方式切割成的切割片，在温度23℃、相对湿度55％的环境下放置24小时后，剥离第一间隔件，制成试验片。对该试验片充分除电后，将试验片的凹面朝上，放置在基准面(水平的台)上，针对试验片的4个角分别测定其距离基准面的高度。关于测定值，若将试验片以保护膜侧成为上侧的方式放置于基准面，则在试验片的角浮起的情况下，将该卷曲设为正卷曲，并且以正数值来表示角距离基准面的高度。另一方面，若将试验片以保护膜侧成为下侧的方式放置于基准面，则在试验片的角浮起的情况下，将该卷曲设为逆卷曲，并且以负数值来表示角距离基准面的高度。
关于针对来自附带粘合层的光学层叠体的试验片得到的测定值，将处于与MD方向平行的对角线上的2个角距离基准面的高度的测定值的平均值作为实测MD卷曲值，将处于与TD方向平行的对角线上的2个角距离基准面的高度的测定值的平均值作为实测TD卷曲值。
另外，关于各实施例、各比较例中使用的附带保护膜的偏振板，也利用与上述同样的步骤针对所切割的试验片的4个角分别测定其距离基准面的高度，并且利用与上述同样的步骤将测定值进行平均，针对附带保护膜的偏振板，算出实测MD卷曲值及实测TD卷曲值。
将从所得的附带保护膜的偏振板的实测MD卷曲值减去附带粘合层的光学层叠体的实测MD卷曲值所得的值作为具有保护膜时的附带粘合层的光学层叠体的MD卷曲值。同样地，将从所得的附带保护膜的偏振板的实测TD卷曲值减去附带粘合层的光学层叠体的实测TD卷曲值所得的值作为具有保护膜时的附带粘合层的光学层叠体的TD卷曲值。
〔卷曲的测定(2)〕
从自各实施例、各比较例中所得的附带粘合层的光学层叠体切割成的切割片中，连同第一间隔件一起剥离保护膜后，制成试验片，除此以外，利用与上述卷曲的测定(1)同样的步骤，算出剥离保护膜后的光学层叠体的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值。予以说明，关于测定值，若将试验片以偏振板侧成为上侧的方式放置于基准面，则在试验片的角浮起的情况下，将该卷曲设为正卷曲，并且以正数值来表示角距离基准面的高度。另一方面，若将试验片以偏振板侧成为下侧的方式放置于基准面，则在试验片的角浮起的情况下，将该卷曲设为逆卷曲，并且以负数值来表示角距离基准面的高度。
另外，关于从自各实施例、各比较例中使用的附带保护膜的偏振板切割成的切割片中剥离保护膜后的偏振板，也利用与上述同样的步骤针对所切割的试验片的4个角分别测定其距离基准面的高度，并且利用与上述同样的步骤将测定值进行平均，从而算出剥离保护膜后的偏振板的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值。
将从剥离保护膜后的偏振板的实测MD卷曲值减去剥离保护膜后的光学层叠体的实测MD卷曲值所得的值设为无保护膜时的附带粘合层的光学层叠体的MD卷曲值。同样地，将从剥离保护膜后的偏振板的实测TD卷曲值减去剥离保护膜后的光学层叠体的实测TD卷曲值所得的值设为无保护膜时的附带粘合层的光学层叠体的TD卷曲值。
关于上述卷曲的测定(1)及(2)中所得的MD卷曲值及TD卷曲值，如果该值为正或0，则表示抑制了逆卷曲，另外，在该值为负的情况下，其绝对值越大，则表示逆卷曲越加剧。
〔两面附带间隔件的粘合层的准备〕
利用以下的方法制造了粘合剂。在具备搅拌机、温度计、回流冷凝器、滴加装置及氮气导入管的反应容器中投入丙烯酸正丁酯97.0份、丙烯酸1.0份、丙烯酸2-羟基乙酯0.5份、乙酸乙酯200份及2，2′-偶氮二异丁腈0.08份，将上述反应容器内的空气用氮气进行置换。在氮气气氛下边搅拌边将反应溶液升温至60℃，使其反应6小时后，冷却至室温。对所得溶液的一部分的重均分子量进行了测定，结果确认得到重均分子量为180万的(甲基)丙烯酸酯聚合物。
将上述所得的(甲基)丙烯酸酯聚合物100份(固体成分换算值；以下相同)、作为异氰酸酯系交联剂的三羟甲基丙烷改性甲苯二异氰酸酯(东曹株式会社制、商品名“CoronateL”)0.30份和作为硅烷偶联剂的3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制、商品名“KBM403”)0.30份混合，充分地搅拌，用乙酸乙酯进行稀释，由此得到粘合剂组合物的涂敷溶液。
利用敷涂机在构成剥离层的第一间隔件(LINTEC株式会社制：SP-PLR382190)的脱模处理面(剥离面)上以干燥后的厚度达到25μm的方式涂敷上述粘合剂组合物的涂敷溶液，之后，在100℃下干燥1分钟，形成粘合层，在粘合层的贴合有间隔件的面的相反面贴合另一片第二间隔件(LINTEC公司制：SP-PLR381031)，得到两面附带间隔件的粘合层。
〔附带保护膜的偏振板(1)的准备〕
将厚度30μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度约2,400、皂化度99.9摩尔％以上)浸渍于30℃的纯水后，在30℃下浸渍于碘/碘化钾/水的质量比为0.02/2/100的水溶液中。之后，在56.5℃下浸渍于碘化钾/硼酸/水的质量比为12/5/100的水溶液中。接着，使用8℃的纯水对膜进行清洗后，在90℃下干燥，得到使碘吸附取向于聚乙烯醇膜而成的偏振片。拉伸以湿式拉伸来进行，主要在碘染色及硼酸处理中进行，总拉伸倍率为5.7倍。所得的偏振片为使碘吸附取向于聚乙烯醇膜而成的膜，厚度为12μm。
接下来，在该偏振片的单侧涂敷相对于水100份溶解3份羧基改性聚乙烯醇(从可乐丽公司获得的商品名“KL-318”)、并且在该水溶液中添加作为水溶性环氧树脂的聚酰胺环氧系添加剂(从田冈化学工业株式会社获得的商品名“Sumirez Resin 650(30)”、固体成分浓度为30％的水溶液)1.5份而得到的环氧系粘接剂，以慢轴的角度相对于偏振片的吸收轴成45°的方式贴合作为保护层的厚度30μm的经拉伸后的透明降冰片烯系树脂膜。对该膜的一个表面实施了表面处理，并且以另一个面成为与偏振片的贴合面的方式进行贴合。在偏振片的另一侧，使用上述的环氧系粘接剂贴合作为保护层的厚度20μm的三乙酰基纤维素系树脂膜。这样得到在偏振片的双面层叠有保护层的偏振板。再在降冰片烯系树脂膜的表面处理面侧贴合在厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜上形成有15μm的丙烯酸系粘合层的保护膜，得到厚度115μm的附带保护膜的偏振板(1)。该附带保护膜的偏振板的实测MD卷曲值为0mm，实测TD卷曲值为18mm。另外，剥离保护膜后的偏振板的实测MD卷曲值为20mm，实测TD卷曲值为-2mm。
〔附带基材层的第一液晶层及附带基材层的第二液晶层的准备〕
(光取向层形成用组合物(1)的制备)
将下述的成分混合，将所得混合物在温度80℃下搅拌1小时，由此得到光取向层形成用组合物(1)。
·光取向性材料(5份)：
[化2]
·溶剂(95份)：环戊酮
(取向层形成用组合物(2)的制备)
在作为市售的取向性聚合物的Sunever SE-610(日产化学工业株式会社制)中加入2-丁氧基乙醇，得到取向层形成用组合物(2)。所得的取向层形成用组合物(2)中，固体成分相对于该组合物总量的含有比例为1％，溶剂相对于该组合物总量的含有比例为99％。Sunever SE-610的固体成分量由产品规格书中记载的浓度进行换算。
(液晶层形成用组合物(A-1)的制备)
将下述的成分混合，将所得混合物在80℃下搅拌1小时，由此得到液晶层形成用组合物(A-1)。聚合性液晶化合物A1及聚合性液晶化合物A2利用日本特开2010-31223号公报中记载的方法来合成。
·聚合性液晶化合物A1(80份)：
[化3]
·聚合性液晶化合物A2(20份)：
[化4]
·聚合引发剂(6份)：
2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-吗啉代苯基)丁烷-1-酮(Irgacure 369；CibaSpecialty Chemicals公司制)
·溶剂(400份)：环戊酮
(液晶层形成用组合物(B-1)的制备)
将下述的成分混合，将所得混合物在80℃下搅拌1小时后，冷却至室温，得到液晶层形成用组合物(B-1)。
·聚合性液晶化合物LC242(BASF公司制)(19.2％)：
[化5]
·聚合引发剂(0.5％)：
Irgacure(注册商标)907(BASF JAPAN公司制)
·反应添加剂(1.1％)：
Laromer(注册商标)LR-9000(BASF JAPAN公司制)
·溶剂(79.1％)：丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯
(附带基材层的第一液晶层的制造)
使用电晕处理装置(AGF-B10、春日电机株式会社制)，在输出功率0.3kW、处理速度3m/分钟的条件下，对厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜进行1次处理。用棒涂机在实施过电晕处理的表面涂布光取向层形成用组合物(1)，在80℃下干燥1分钟，使用偏振光UV照射装置(SPOT CURE SP-7；USHIO电机株式会社制)，以100mJ/cm2的累积光量实施偏振光UV曝光，得到光取向层。用激光显微镜(LEXT、奥林巴斯株式会社制)对所得光取向层的厚度进行了测定，结果为100nm。
接着，使用棒涂机在光取向层上涂布液晶层形成用组合物(A-1)，在120℃下干燥1分钟后，使用高压汞灯(Unicure VB-15201BY-A、USHIO电机株式会社制)，照射紫外线(氮气气氛下、波长：365nm、在波长365nm下的累积光量：1000mJ/cm2)，由此形成作为相位差层的第一液晶层，得到附带基材层的第一液晶层。第一液晶层的厚度为2μm。
(附带基材层的第二液晶层的制造)
使用电晕处理装置(AGF-B10、春日电机株式会社制)，在输出功率0.3kW、处理速度3m/分钟的条件下，对厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜进行1次处理。用棒涂机在实施过电晕处理的表面涂布取向层形成用组合物(2)，在90℃下干燥1分钟，得到取向层。利用激光显微镜(LEXT、奥林巴斯株式会社制)对所得取向层的厚度进行了测定，结果为34mm。
接着，使用棒涂机在取向层上涂布液晶层形成用组合物(B-1)，在90℃下干燥1分钟后，使用高压汞灯(Unicure VB-15201BY-A、USHIO电机株式会社制)，照射紫外线(氮气气氛下、波长：365nm、在波长365nm下的累积光量：1000mJ/cm2)，由此形成作为相位差层的第二液晶层，得到附带基材层的第二液晶层。第二液晶层的厚度为1μm。
〔实施例1〕
使用上述准备的附带基材层的第一液晶层、附带基材层的第二液晶层及两面附带间隔件的粘合层，用图1～图5所示的工序得到附带粘合层的光学层叠体。具体按照以下方式来进行。
对上述准备的附带基材层的第二液晶层(MD方向长度300mm×TD方向长度200mm)的第二液晶层侧的表面实施电晕处理(800W、10m/min、棒宽度700mm、1Pass)。另外，从上述准备的两面附带间隔件的粘合层(300mm×200mm)剥离第二间隔件。使用自动贴合机HALTEC，将附带基材层的第二液晶层中的电晕处理面与通过从两面附带间隔件的粘合层剥离第二间隔件而露出的粘合层进行单片贴合，从而得到附带粘合层的第二液晶层(参照图1的(d))。接着，在与上述同样的条件下对上述准备的附带基材层的第一液晶层(MD方向长度300mm×TD方向长度200mm)的第一液晶层侧实施电晕处理，使用自动贴合机HALTEC，将该电晕处理面和通过从附带粘合层的第二液晶层剥离第一间隔件而露出的粘合层进行单片贴合，从而得到附带基材层的液晶层层叠体(参照图2的(a))。
对上述准备的附带保护膜的偏振板(1)(MD方向长度300mm×TD方向长度200mm)的与保护膜侧相反一侧(三乙酰基纤维素系树脂膜侧)的面实施电晕处理(800W、10m/min、棒宽度700mm、1Pass)。另外，从上述准备的两面附带间隔件的粘合层(300mm×200mm)剥离第二间隔件。使用自动贴合机HALTEC，进行附带保护膜的偏振板(1)的电晕处理面与通过从两面附带间隔件的粘合层剥离第二间隔件而露出的粘合层的单片贴合，得到附带粘合层的偏振板(参照图3的(b))。
使用自动贴合机HALTEC，将通过剥离附带基材层的液晶层层叠体的附带基材层的第一液晶层中的PET膜(厚度100μm)而露出的面(第一液晶层侧的面)与通过从附带粘合层的偏振板剥离第一间隔件而露出的粘合层进行单片贴合，得到附带基材层的光学层叠体(参照图4的(a))。使用自动贴合机HALTEC，将通过剥离所得的附带基材层的光学层叠体的附带基材层的第二液晶层中的PET膜(厚度38μm)而露出的面(第二液晶层侧的面)与通过从上述准备的两面附带间隔件的粘合层(300mm×200mm)剥离第二间隔件而露出的粘合层进行单片贴合，得到附带粘合层的光学层叠体(1)(参照图5的(b))。对所得的附带粘合层的光学层叠体(1)进行卷曲的测定(1)及(2)，算出附带粘合层的光学层叠体(1)的MD卷曲值及TD卷曲值。其结果如表1所示。
〔实施例2〕
利用与实施例1同样的步骤得到附带基材层的液晶层层叠体(参照图2的(a))。使用自动贴合机HALTEC，将通过剥离附带基材层的液晶层层叠体的附带基材层的第一液晶层中的PET膜(厚度100μm)而露出的面(第一液晶层侧的面)与通过从上述准备的两面附带间隔件的粘合层(300mm×200mm)剥离第二间隔件而露出的粘合层进行单片贴合，得到附带粘合层的液晶层层叠体。使用自动贴合机HALTEC，将通过从附带粘合层的液晶层层叠体剥离第一间隔件而露出的粘合层与上述准备的附带保护膜的偏振板(1)(300mm×200mm)的保护膜侧的相反侧(三乙酰基纤维素系树脂膜侧)的面进行单片贴合，得到附带基材层的光学层叠体。
使用自动贴合机HALTEC，将通过剥离附带基材层的光学层叠体的附带基材层的第二液晶层中的PET膜(厚度38μm)而露出的面(第二液晶层侧的面)与通过从上述准备的两面附带间隔件的粘合层(300mm×200mm)剥离第二间隔件而露出的粘合层进行单片贴合，得到附带粘合层的光学层叠体(2)。对所得的附带粘合层的光学层叠体(2)进行卷曲的测定(1)及(2)，算出附带粘合层的光学层叠体(2)的MD卷曲值及TD卷曲值。其结果如表1所示。
〔比较例1〕
使用上述准备的附带基材层的第一液晶层、附带基材层的第二液晶层及两面附带间隔件的粘合层，利用图7及图8所示的工序得到光学层叠体，使用该光学层叠体，得到附带粘合层的光学层叠体。具体而言，使用上述准备的附带保护膜的偏振板(1)及两面附带间隔件的粘合层，利用与实施例1同样的步骤得到附带粘合层的偏振板。使用自动贴合机HALTEC，将通过从该附带粘合层的偏振板剥离第一间隔件而露出的粘合层与上述准备的附带基材层的第一液晶层(MD方向长度300mm×TD方向长度200mm)的第一液晶层进行单片贴合(参照图7的(c))。
接着，使用自动贴合机HALTEC，将通过剥离与附带保护膜的偏振板(1)贴合的附带基材层的第一液晶层中的PET膜(厚度100μm)而露出的面(第一液晶层侧的面)与通过从上述准备的两面附带间隔件的粘合层(300mm×200mm)剥离第二间隔件而露出的粘合层进行单片贴合，之后，再剥离第一间隔件(参照图8的(a))。使用自动贴合机HALTEC，将通过剥离第一间隔件而露出的粘合层与上述准备的附带基材层的第二液晶层(MD方向长度300mm×TD方向长度200mm)的第二液晶层进行单片贴合，得到附带基材层的光学层叠体(图8的(c))。
使用自动贴合机HALTEC，将通过从所得的附带基材层的光学层叠体剥离附带基材层的第二液晶层中的PET膜(厚度38μm)而露出的面(第二液晶层侧的面)与通过从上述准备的两面附带间隔件的粘合层(300mm×200mm)剥离第二间隔件而露出的粘合层进行单片贴合，得到附带粘合层的光学层叠体(3)。对所得的附带粘合层的光学层叠体(3)进行卷曲的测定(1)及(2)，算出附带粘合层的光学层叠体(3)的MD卷曲值及TD卷曲值。其结果如表1所示。
[表1]
如表1所示，可知：与比较例1中所得的附带粘合层的光学层叠体相比，实施例1和2中所得的附带粘合层的光学层叠体抑制了逆卷曲，根据上述实施方式中说明的光学层叠体的制造方法及附带粘合层的光学层叠体的制造方法，能够抑制逆卷曲。

Claims (14)

1.一种光学层叠体的制造方法，其是依次层叠有光学膜、第一粘合层、第一液晶层、第二粘合层及第二液晶层的光学层叠体的制造方法，
该制造方法包括：
准备附带基材层的第一液晶层的工序，所述附带基材层的第一液晶层具有第一基材层和在所述第一基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的所述第一液晶层；
准备附带基材层的第二液晶层的工序，所述附带基材层的第二液晶层具有第二基材层和在所述第二基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的所述第二液晶层；
将所述附带基材层的第一液晶层和所述附带基材层的第二液晶层以所述第一液晶层与所述第二液晶层隔着所述第二粘合层相对的方式进行层叠，从而得到附带基材层的液晶层层叠体的工序；
从所述附带基材层的液晶层层叠体至少剥离所述第一基材层，从而得到液晶层层叠体的工序；以及
在通过剥离所述第一基材层而露出的所述液晶层层叠体的第一露出面侧隔着所述第一粘合层层叠所述光学膜的工序。
2.根据权利要求1所述的光学层叠体的制造方法，其中，层叠所述光学膜的工序包括：
在所述光学膜上形成所述第一粘合层，从而得到附带粘合层的光学膜的工序；以及
将所述附带粘合层的光学膜中的所述第一粘合层与所述液晶层层叠体的所述第一露出面进行贴合的工序。
3.根据权利要求2所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述得到附带粘合层的光学膜的工序包括：
准备层叠有所述第一粘合层和第一剥离层的附带剥离层的第一粘合层的工序；以及
将所述附带剥离层的第一粘合层中的所述第一粘合层与所述光学膜进行贴合后，剥离所述第一剥离层的工序。
4.根据权利要求1所述的光学层叠体的制造方法，其中，层叠所述光学膜的工序包括：
在所述液晶层层叠体的所述第一露出面上形成所述第一粘合层，从而得到附带第一粘合层的液晶层层叠体的工序；以及
将所述附带第一粘合层的液晶层层叠体中的所述第一粘合层与所述光学膜进行贴合的工序。
5.根据权利要求4所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述得到附带第一粘合层的液晶层层叠体的工序包括：
准备层叠有所述第一粘合层和第一剥离层的附带剥离层的第一粘合层的工序；以及
将所述附带剥离层的第一粘合层中的所述第一粘合层与所述液晶层层叠体的所述第一露出面进行贴合后，剥离所述第一剥离层的工序。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述得到附带基材层的液晶层层叠体的工序包括：
准备层叠有第二粘合层和第二剥离层的附带剥离层的第二粘合层的工序；以及
将所述附带剥离层的第二粘合层中的所述第二粘合层与所述附带基材层的第一液晶层中的所述第一液晶层或所述附带基材层的第二液晶层中的所述第二液晶层进行贴合后，剥离所述第二剥离层的工序。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述光学膜包含偏振板。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述光学膜包含在偏振板的至少单面层叠有保护膜的附带保护膜的偏振板。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述得到液晶层层叠体的工序为从所述附带基材层的液晶层层叠体剥离所述第一基材层且不剥离所述第二基材层的工序，
在层叠所述光学膜的工序之后，还包括剥离所述第二基材层的工序。
10.根据权利要求1～8中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，得到所述液晶层层叠体的工序为从所述附带基材层的液晶层层叠体剥离所述第一基材层及所述第二基材层，从而得到液晶层层叠体的工序。
11.一种附带粘合层的光学层叠体的制造方法，其是依次层叠有光学膜、第一粘合层、第一液晶层、第二粘合层、第二液晶层及第三粘合层的附带粘合层的光学层叠体的制造方法，
该制造方法包括：
准备利用权利要求9或10所述的光学层叠体的制造方法而制造的光学层叠体的工序；以及
在通过剥离所述第二基材层而露出的所述光学层叠体的第二露出面侧层叠所述第三粘合层的工序。
12.根据权利要求11所述的附带粘合层的光学层叠体的制造方法，其中，层叠所述第三粘合层的工序包括：
准备层叠有所述第三粘合层和第三剥离层的附带剥离层的第三粘合层的工序；以及
将所述附带剥离层的第三粘合层中的所述第三粘合层与所述光学层叠体的所述第二露出面进行贴合的工序。
13.一种附带粘合层的光学层叠体的制造方法，其是依次层叠有光学膜、第一粘合层、第一液晶层、第二粘合层、第二液晶层及第三粘合层的附带粘合层的光学层叠体的制造方法，
该制造方法包括：
准备附带基材层的第一液晶层的工序，所述附带基材层的第一液晶层具有第一基材层和在所述第一基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的所述第一液晶层；
准备附带基材层的第二液晶层的工序，所述附带基材层的第二液晶层具有第二基材层和在所述第二基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的所述第二液晶层；
将所述附带基材层的第一液晶层和所述附带基材层的第二液晶层以所述第一液晶层与所述第二液晶层隔着所述第二粘合层相对的方式进行层叠，从而得到附带基材层的液晶层层叠体的工序；
从所述附带基材层的液晶层层叠体至少剥离所述第二基材层，从而得到液晶层层叠体的工序；
在通过剥离所述第二基材层而露出的所述液晶层层叠体的第二露出面侧层叠所述第三粘合层，从而得到附带第三粘合层的液晶层层叠体的工序；
从所述附带基材层的液晶层层叠体或所述附带第三粘合层的液晶层层叠体剥离所述第一基材层的工序；以及
在通过剥离所述第一基材层而露出的所述附带第三粘合层的液晶层层叠体的第一露出面侧隔着所述第一粘合层层叠所述光学膜的工序。
14.根据权利要求13所述的附带粘合层的光学层叠体的制造方法，其中，所述得到附带第三粘合层的液晶层层叠体的工序包括：
准备层叠有所述第三粘合层和第三剥离层的附带剥离层的第三粘合层的工序；以及
将所述附带剥离层的第三粘合层中的所述第三粘合层与所述液晶层层叠体的所述第二露出面进行贴合后，剥离所述第三剥离层的工序。
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