TW202242458A - 光學積層體的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題為提供一種可有效地進行光學積層體之捲曲調整之光學積層體的製造方法。

本發明之解決手段為提供一種光學積層體的製造方法，係依序包括下列步驟：加濕相位差積層體之步驟，前述相位差積層體係含有吸濕性膜及液晶硬化層；及於偏光板隔著黏著劑層貼合前述相位差積層體而獲得積層體之步驟，前述偏光板係具有偏光膜及積層於前述偏光膜的至少一面之樹脂膜。

Description

光學積層體的製造方法
本發明係關於一種光學積層體的製造方法。
液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置中所使用之偏光板以往一般係使用於聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光膜藉由接著劑貼合三乙酸纖維素(TAC)所構成之保護膜者。近年來，以薄膜化、耐久性、成本、生產性等觀點來看，亦使用TAC以外之樹脂所構成之保護膜(例如專利文獻1)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本特開2004-245925號公報。
有時於偏光板的一面積層相位差層及黏著劑(pressure-sensitive adhesive)層。含有該偏光板之光學積層體係要求薄型化，但由較薄光學積層體， 尤其是由長條狀光學積層體裁切所獲得的光學積層體之薄片體係容易產生弓狀彎曲變形。本說明書中亦將該變形稱為「捲曲」。
為了抑制捲曲，以往係將光學積層體夾於保護膜及分離膜並裁切成薄片體，再將所得薄片體於調濕室進行加濕之方法。藉由加濕偏光板而可調整光學積層體之捲曲。但是保護膜及分離膜多使用透濕性較低的膜，故有加濕偏光板需要較長時間之問題。
本發明的目的在於提供一種可有效地進行光學積層體之捲曲調整之光學積層體的製造方法。
本發明提供以下例示之光學積層體的製造方法。
[1]一種光學積層體的製造方法，係依序包括下列步驟：
加濕相位差積層體之步驟，前述相位差積層體係含有吸濕性膜及液晶硬化層；及
於偏光板隔著黏著劑層貼合前述相位差積層體而獲得積層體之步驟，前述偏光板係具有偏光膜及積層於前述偏光膜的至少一面之樹脂膜。
[2]如[1]所述的製造方法，其中前述吸濕性膜係含有纖維素系樹脂。
[3]如[1]或[2]所述的製造方法，其中前述偏光板係於前述偏光膜的一面積層前述樹脂膜，
在前述獲得積層體之步驟中，於前述偏光膜的另一面積層前述相位差積層體。
[4]如[1]至[3]中任一項所述的製造方法，其中在前述獲得積層體之步驟之後包括捲繞前述積層體之步驟。
[5]如[4]所述的製造方法，其中在前述捲繞步驟之後進一步包括剝離前述吸濕性膜之步驟。
[6]如[1]至[5]中任一項所述的製造方法，其中在前述加濕步驟中係加濕直到前述吸濕性膜之含水率成為溫度20℃以上80℃以下、相對濕度45%以上之環境下的平衡含水率。
根據本發明，在光學積層體的製造方法中可有效率地調整光學積層體之捲曲。
10:保護膜
11:偏光板
12,18:黏著劑層
13,19:分離膜
14,16:吸濕性膜
15:液晶硬化層
17:相位差積層體
101,102,103,104:積層體
圖1係呈示本發明之光學積層體的製造方法之一例。
本發明之光學積層體的製造方法係依序包括下列步驟：
加濕相位差積層體之步驟，前述相位差積層體係含有吸濕性膜及液晶硬化層；及
於偏光板隔著黏著劑層貼合前述相位差積層體而獲得積層體之步驟，前述偏光板係具有偏光膜及積層於前述偏光膜的至少一面之樹脂膜。
若預先加濕含有吸濕性膜及液晶硬化層之相位差積層體並隔著黏著劑層貼合於偏光板，則吸濕性膜之水分會移動至偏光板，並可在短時間內加濕偏光板。黏著劑層及液晶硬化層不易妨礙水分從吸濕性膜移動至偏光板。以往在積層保護膜、偏光板、液晶硬化層及分離膜後，會將光學積層體置於加濕環境 下3至7天，藉此加濕偏光板。藉由本發明之方法，夾於保護膜及分離膜之光學積層體無需長期間調濕。例如可在從液晶硬化層貼合至偏光板起到於液晶硬化層貼合分離膜為止的數小時至數天左右之以往的保管期間內，可實現偏光板的充分加濕。在貼合分離膜之步驟中，即使剝離吸濕性膜，相較於用以往方法加濕夾於保護膜及分離膜之光學積層體，可進一步提升偏光板的加濕量(偏光板的含水率)。
藉由加濕偏光板而可調整光學積層體之捲曲。即使是積層有保護膜之光學積層體，若形成薄片體則容易產生捲曲。光學積層體之捲曲有「正向捲曲」及「反向捲曲」等2種類。光學積層體中，「正向捲曲」是指保護膜側之面產生凹陷的捲曲，「反向捲曲」是指保護膜側之面產生凸出的捲曲。若產生反向捲曲，則將光學積層體之薄片體隔著其黏著劑層貼合於液晶單元、有機EL元件等圖像顯示元件時，容易產生貼合失誤、或是於黏著劑層與圖像顯示元件的界面混入氣泡等不良。
光學積層體之捲曲除了上述「正向捲曲」及「反向捲曲」之分類以外，可分類為「MD捲曲」及「TD捲曲」等2種類。「MD捲曲」是指由與光學積層體之薄片體裁切的長條狀光學積層體之MD方向平行之方向的應力(收縮力、膨脹力等)所產生的捲曲。「TD捲曲」是指與光學積層體之薄片體裁切的長條狀光學積層體之TD方向平行之方向的應力(收縮力、膨脹力等)所產生的捲曲。MD方向是指膜之機械流動方向，亦即膜之長度方向，TD方向是指與MD方向正交之方向。
偏光膜，尤其是延伸聚乙烯醇系樹脂膜所成之偏光膜，係具有一旦吸濕即膨脹之性質，尤其容易在TD方向膨脹。藉由偏光膜之加濕而可調整光 學積層體之TD捲曲。正向捲曲/反向捲曲係可藉由變更光學積層體內的偏光膜位置而調整。
TD捲曲具體而言係可用以下方式測定其大小：根據後述實施例之記載由長條狀光學積層體裁切測定用樣品(薄片體)，將該測定用樣品以凹側之面朝上置於水平台上，測定此時測定用樣品的2個對角線中與測定用樣品之偏光板之吸收軸方向的角度較大者的對角線上的2個角翹起的捲曲(吸收軸方向之捲曲)，作為其大小。長條狀之附保護膜之偏光板中，偏光板之吸收軸方向與保護膜之MD方向平行時，MD捲曲可用以下方式測定：測定測定用樣品的2個對角線中與長條狀光學積層體之MD方向的角度較大的對角線上的2個角的翹起，作為捲曲。
<光學積層體>
本發明之光學積層體係含有偏光板(線性偏光板)、1層以上之液晶硬化層、及黏著劑層。含有1層以上之液晶硬化層之光學積層體係容易產生捲曲，但根據本發明可在短時間內將捲曲調整為所求值，故可有效地製造光學積層體。光學積層體例如依序具備保護膜、偏光板、黏著劑層、液晶硬化層及吸濕性膜。光學積層體之另一例係依序包含保護膜、偏光板、黏著劑層、液晶硬化層、黏著劑層及分離膜。
光學積層體可為長條物或薄片體。本說明書中，「薄片體」是指由大尺寸膜(例如長條狀(帶狀)膜)裁切的較小尺寸的膜。
長條狀光學積層體之長度例如為100m以上20000m以下，較佳為1000m以上10000m以下。長條狀光學積層體之寬度例如為0.5m以上3m以下，較佳為1m以上2.5m以下。
薄片體的光學積層體之尺寸、形狀及裁切角度並無特別限制。光學積層體之薄片體較佳為方形形狀，更佳為具有長邊及短邊之方形形狀。該方形形狀較佳為長方形。薄片體之形狀為長方形時，長邊之長度例如為50mm至300mm，較佳為70mm至150mm。短邊之長度例如為30mm至200mm，較佳為40mm至100mm。
雖無特別限制，但薄片體之形狀為長方形時，其若由保護膜側觀看時，偏光板之吸收軸方向相對於其長邊及短邊可成為45度之角度。薄片體之形狀為長方形時，其若由保護膜側觀看時，偏光板之吸收軸方向相對於其長邊可為平行，或可形成90度之角度。
將光學積層體之薄片體隔著其黏著劑層貼合於液晶單元、有機EL元件等圖像顯示元件時，薄片體較佳為不具有根據後述實施例之記載所測定之反向捲曲，更佳為正向捲曲量為20mm以下或不具有捲曲之平坦狀態，又更佳為正向捲曲量為10mm以下或不具有捲曲之平坦狀態，特佳為正向捲曲量為5mm以下且不具有捲曲之平坦狀態。光學積層體較佳為在具有分離膜之構成或不具有分離膜之構成中捲曲狀態如上所述，更佳為至少在不具有分離膜之構成中捲曲狀態如上所述。
<加濕相位差積層體之步驟>
以下參照圖1詳細說明光學積層體的製造方法。本步驟中，藉由加濕提升相位差積層體17之含水率。相位差積層體17係包含吸濕性膜14、16及液晶硬化層15。容易吸收空氣中的水分之吸濕性膜14、16可在短時間內提升其含水率。
加濕只要藉由在相對濕度經調整之環境下放置相位差積層體17而進行即可，例如只要於相對濕度經調節之調濕室導入相位差積層體17即可。可將長條狀相位差積層體17導入調濕室，並一邊沿著導輥運送一邊加濕。
加濕可在溫度20℃以上80℃以下且相對濕度為45%以上之環境下進行，較佳為在相對濕度55%以上之環境下進行，更佳為在相對濕度60%以上之環境下進行，藉此可有效地加濕相位差積層體17。相對濕度通常為99%以下，較佳為95%以下。
加濕時間只要為充分加濕相位差積層體17所含的吸濕性膜14、16的程度，則無特別限定，例如為5秒以上120分鐘以下，較佳為3分鐘以上60分鐘以下，更佳為30分鐘以上60分鐘以下。加濕時間可為在調濕室內的相位差積層體17的滯留時間，也可為長條狀相位差積層體17的運送時間。加濕步驟中，可加濕至吸濕性膜14、16達到平衡含水率為止。
加濕步驟後，相位差積層體17所含的吸濕性膜14、16較佳為調整至含水率高於在製造積層體103後保管之一般環境下(溫度23℃左右、相對濕度55%左右)的平衡含水率。例如吸濕性膜14、16為三乙酸纖維素膜時，加濕步驟後之含水率較佳為1質量%以上5質量%以下，更佳為2質量%以上4.5質量%以下，又更佳為2質量%以上4質量%以下。含水率與平衡含水率同樣地可藉由乾燥重量法測定，具體上係可根據下述式求得。
含水率(質量%)={(乾燥處理前之相位差積層體質量-乾燥處理後之相位差積層體質量)/乾燥處理前之相位差積層體質量}×100。
乾燥是指將膜在105℃乾燥2小時之處理。
加濕步驟中，使加濕相位差積層體17中所含之吸濕性膜14、16的含水率高於溫度23℃、相對濕度55%的平衡含水率，藉此可在後述步驟中有效地加濕偏光板11。經加濕之吸濕性膜14、16較佳為在後述步驟中，直到貼合偏光板11與相位差積層體17為止，係保持或大致保持為加濕處理後之含水率。
加濕步驟中，例如將長條狀相位差積層體17之膜原料導入調濕室，並一邊沿著導輥運送一邊加濕時，膜之拉出速度係可一邊確認膜的運送穩定性一邊逐漸提高速度至設定速度。此時，開始拉出之膜在調濕室中的滯留時間會比到達設定速度後之膜更長，在膜之MD方向中會產生在調濕室中的滯留時間的不一致。因該不一致而會使加濕後之膜在MD方向產生含水率的不一致，結果在MD方向會產生捲曲之分佈(MD方向中有部分產生捲曲的部分及未產生捲曲的部分)。
作為本發明一實施型態，在加濕相位差積層體17之步驟中，加濕相位差積層體17所含的吸濕性膜14、16，直到成為積層體103之製造後之保管環境或裁切後述積層體之步驟之環境等的平衡含水率，藉此而抑制相位差積層體17之MD方向之含水率的不一致，結果可抑制MD方向的捲曲分佈。相位差積層體17較佳為加濕直到吸濕性膜14、16之含水率成為溫度20℃以上80℃以下、相對濕度45%以上之環境下的平衡含水率，更佳為溫度20℃以上80℃以下、相對濕度55%以上之環境下的平衡含水率，又更佳為溫度20℃以上80℃以下、相對濕度60%以上之環境下的平衡含水率。
(吸濕性膜)
吸濕性膜14、16只要為高吸濕性膜，則無特別限定，可舉例如含有纖維素系樹脂之膜。纖維素系樹脂是指從棉絨或木材紙漿(闊葉樹紙漿、針葉樹紙漿)等 原料纖維素獲得纖維素，將該纖維素的羥基中的氫原子的一部分或全部取代為乙醯基、丙醯基及/或丁醯基之纖維素有機酸酯或纖維素混合有機酸酯。纖維素系樹脂可舉例如纖維素之乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、及該等的混合酯等所構成者。吸濕性膜14、16較佳為含有三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丙酸纖維素或乙酸丁酸纖維素。吸濕性膜14及16可為相同膜，也可為相異膜。吸濕性膜14、16較佳為纖維素系樹脂所構成之膜，更佳為含有三乙酸纖維素之膜。
吸濕性膜14、16之厚度通常為5μm以上100μm以下。以容易保持水分並可更有效地進行偏光板11之加濕之觀點來看，吸濕性膜14、16之厚度宜厚。
吸濕性膜14、16可在形成液晶硬化層15之後積層，也可使用作為用以形成液晶硬化層15之基材膜。相位差積層體17可於液晶硬化層15的單面具有吸濕性膜14或16，也可於兩面具有吸濕性膜14或16。吸濕性膜14、16較佳為可由液晶硬化層15剝離之膜。
(液晶硬化層)
液晶硬化層15為液晶化合物之硬化物所構成之相位差層(液晶硬化型相位差層)。光學積層體可為具備線性偏光板及相位差層之圓偏光板(包括橢圓偏光板)。液晶化合物較佳為使用具有聚合性基之聚合性液晶化合物。聚合性液晶化合物之聚合反應可為使用熱聚合起始劑之熱聚合反應，但較佳為使用光聚合起始劑之光聚合反應。液晶硬化型相位差層係可使用公知的液晶化合物而形成。液晶化合物之種類無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、盤狀液晶化合物、及該等的混合物。
相位差層所含的液晶化合物之配向方向可藉由形成於基材膜與塗佈層之間之配向膜而調整，可藉由照射偏光而使聚合性液晶化合物進行光配向，並藉由使聚合性液晶化合物之配向性展現或提升，而可進行調整。
塗佈含有液晶化合物之組成物之基材膜可為上述吸濕性膜14或16。液晶硬化層15可以具有配向膜之形態積層於偏光板11。
相位差層之液晶硬化層15可為1層，也可為2層以上。
個別之相位差層可具有相同方向之慢軸，也可具有互為相異方向之慢軸。相位差層係具有λ/4層，進一步可具有λ/2層及正C層之至少一者。相位差層具有λ/2層時，由線性偏光板側起依序積層λ/2層及λ/4層。相位差層包含正C層時，可由線性偏光板側起依序積層λ/4層及正C層，也可由線性偏光板側起依序積層正C層及λ/4層。液晶硬化層15之厚度例如為0.1μm以上10μm以下，較佳為0.5μm以上8μm以下，更佳為0.5μm以上4μm以下。以更有效地加濕偏光板11之觀點來看，液晶硬化層15宜薄。
<於偏光板貼合有相位差積層體而獲得積層體之步驟>
本步驟中，於偏光板11隔著黏著劑層12貼合相位差積層體17。於偏光板11積層保護膜10時(積層體101)，係於保護膜10積層側的相反側之偏光板11之面積層黏著劑層12及相位差積層體17。
所獲得之積層體103較佳為長條狀。長條狀積層體103之長度例如為100m以上20000m以下，較佳為1000m以上10000m以下。長條狀之積層體103之寬度例如為0.5m以上3m以下，較佳為1m以上2.5m以下。
偏光板11與相位差積層體17的貼合例如連續地運送長條狀偏光板11並連續地運送長條狀相位差積層體17，使偏光板11及相位差積層體17重疊並通過一對貼合輥間並夾壓，藉此可製造貼合有兩膜之積層體103。
可在積層相位差積層體17之前，於偏光板11表面積層黏著劑層12。在積層偏光板11與相位差積層體17之前，可於至少任一者之貼合面進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火炎處理、皂化處理等表面活化處理。偏光板11之黏著劑層12側可積層有分離膜13(積層體102)。此時通常會在積層相位差積層體17時將分離膜13剝離去除。
相位差積層體17在液晶硬化層15的兩面具有吸濕性膜14、16時，較佳為剝離單面之吸濕性膜14，並以使液晶硬化層15側積層於偏光板11之方式貼合。相位差積層體17在液晶硬化層15的單面具有吸濕性膜16並於另一面具有基材層時，較佳為將基材層剝離，並將含有液晶硬化層15及吸濕性膜16之積層體以液晶硬化層15側積層於偏光板11之方式貼合。
偏光板11為在偏光膜的一面積層有樹脂膜之單面保護偏光板時，為了更有效地加濕偏光板11，較佳為在偏光膜的另一面(未積層樹脂膜側)積層相位差積層體17。
(偏光板)
偏光板11為具有偏光膜之線性偏光板，並在偏光膜的單面或兩面積層樹脂膜。僅於偏光膜的一面具有樹脂膜之偏光板11係有利於偏光板11之薄膜化。
偏光板11之厚度通常為5μm以上150μm以下，以偏光板11之薄膜化之觀點來看，較佳為80μm以下，更佳為70μm以下，又更佳為60μm以下，特佳為50μm以下或40μm以下。偏光板11之厚度越小，則光學積層體越容易 產生捲曲，但根據本發明，即使偏光板11之厚度較小時，亦可有效地調整光學積層體之捲曲。偏光板11之厚度可為20μm以上、25μm以上或30μm以上。
(偏光膜)
偏光膜具有以下性質，亦即吸收具有與吸收軸平行之振動面之線性偏光，並透射具有與吸收軸正交(與透射軸平行)之振動面之線性偏光。偏光膜一例為於經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向有二色性色素之偏光膜。該偏光膜例如可藉由包括下列步驟的方法製造，該方法包括：單軸延伸聚乙烯醇系樹脂膜之步驟；以二色性色素染色聚乙烯醇系樹脂膜，藉此而吸附二色性色素之步驟；將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液等交聯液處理之步驟；及在交聯液處理後進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂係可使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化者。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了屬於乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，可舉出與可與乙酸乙烯酯共聚之其他單體的共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚之其他單體之例係包含不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、及具有銨基之(甲基)丙烯醯胺類等。
本說明書中「(甲基)丙烯酸」是指選自丙烯酸及甲基丙烯酸之至少一者。「(甲基)丙烯醯基」、「(甲基)丙烯酸酯」等亦同。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85莫耳%以上100莫耳%以下，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如可使用以醛類改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度通常為1000以上10000以下，較佳為1500以上5000以下。聚乙烯醇系樹脂之皂化度及平均聚合度可根據JIS K 6726求得。
該聚乙烯醇系樹脂成膜者可使用作為偏光膜之原料膜。聚乙烯醇系樹脂之成膜方法並無特別限定，可採用公知方法。聚乙烯醇系樹脂膜之厚度並無特別限制，例如為10μm以上150μm以下左右，較佳為50μm以下，更佳為35μm以下。
聚乙烯醇系樹脂膜之單軸延伸可在二色性色素染色前、與染色同時、或染色後進行。在染色後進行單軸延伸時，該單軸延伸可在交聯處理前或交聯處理中進行。又，可在該等複數階段中進行單軸延伸。
單軸延伸時，可在周速相異之輥間進行單軸延伸，也可使用熱輥進行單軸延伸。又，單軸延伸可為在大氣中進行延伸之乾式延伸，也可為使用溶劑或水使聚乙烯醇系樹脂膜在膨潤狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通常為3倍以上8倍以下。
以二色性色素染色聚乙烯醇系樹脂膜之方法例如可使用將該膜浸漬於含有二色性色素之水溶液之方法。二色性色素係使用碘或二色性有機染料。又，聚乙烯醇系樹脂膜較佳為在染色處理前實施水的浸漬處理。
以二色性色素染色後之交聯處理通常係採用將經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有硼酸之水溶液之方法。二色性色素使用碘時，該含有硼酸之水溶液較佳為含有碘化鉀。
交聯處理後之聚乙烯醇系樹脂膜通常係進行水洗處理。水洗處理例如可藉由將經交聯處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水而進行。水洗處理中的水之溫度通常為1℃以上40℃以下左右。
水洗後實施乾燥處理而獲得偏光膜。乾燥處理可為經熱風乾燥機之乾燥、與熱輥接觸之乾燥、以遠紅外線加熱器之乾燥等。乾燥處理之溫度通常為30℃以上100℃以下左右，較佳為50℃以上90℃以下。
藉由乾燥處理使偏光膜之含水率降低至實用程度。該含水率通常為5質量%以上20質量%以下，較佳為8質量%以上15質量%以下。含水率若低於5質量%則會失去偏光膜的可撓性，偏光膜會於乾燥後有損傷、破裂的情形。含水率若高於20質量%，則有偏光膜之熱穩定性較差的情形。在此，所述含水率係藉由乾燥重量法測定，其測定方法係如上述。
偏光膜之厚度通常為2μm以上40μm以下左右。以偏光板11之薄膜化之觀點來看，偏光膜之厚度較佳為20μm以下，更佳為15μm以下，又更佳為10μm以下。偏光膜越厚則光學積層體越容易產生捲曲，但根據本發明，即使偏光膜之厚度例如為10μm以上，進一步為15μm以上，特別是為20μm以上，亦可有效地調整光學積層體之捲曲。
(樹脂膜)
樹脂膜為具有透光性之熱塑性樹脂所構成之膜，較佳為光學上透明之熱塑性樹脂所構成之膜。樹脂膜可舉例如環聚烯烴系樹脂膜；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素等樹脂所構成之纖維素系樹脂膜；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等樹脂所構成之聚酯系樹脂膜；聚碳酸酯系樹脂膜；(甲基)丙烯酸系樹脂膜；聚丙烯系樹脂膜等該技術領域中的公知膜。樹脂膜較佳為纖維素系樹脂膜，更佳為含有三乙酸纖維素之樹脂膜。
以光學積層體之薄型化之觀點來看，樹脂膜之厚度通常為100μm以下，較佳為80μm以下，更佳為60μm以下，又更佳為40μm以下，再更佳為 30μm以下。樹脂膜之厚度通常為5μm以上，較佳為10μm以上。樹脂膜之厚度越小，則光學積層體越容易產生捲曲，但根據本發明，即使樹脂膜之厚度薄至例如為40μm以下，進一步為30μm以下，亦可有效地調整捲曲。
樹脂膜可為保護偏光膜之保護膜。樹脂膜可具有如相位差膜、增亮膜之光學功能。例如可為藉由延伸(單軸延伸或雙軸延伸等)上述材料所構成之熱塑性樹脂膜而賦予任意相位差值之相位差膜。樹脂膜可於其表面具有如硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層、防污層之表面處理層(塗層)。
樹脂膜可隔著接著劑層或黏著劑層貼合於偏光膜。樹脂膜較佳為隔著接著劑層貼合於偏光膜。形成接著劑層之接著劑可使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑或熱硬化性接著劑，較佳為水系接著劑或活性能量線硬化性接著劑。
水系接著劑可舉出聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之接著劑，水系二液型胺甲酸乙酯系乳液接著劑等。其中，較佳為使用聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之水系接著劑。聚乙烯醇系樹脂除了將屬於乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯進行皂化處理而獲得的乙烯醇均聚物以外，也可使用將乙酸乙烯酯與可與其共聚之其他單體的共聚物進行皂化處理而獲得的聚乙烯醇系共聚物、或將該等羥基部分改質之改質聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑可含有醛化合物(乙二醛等)、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。
使用水系接著劑時，較佳為在貼合偏光膜與樹脂膜後實施用以去除水系接著劑中所含的水之乾燥步驟。乾燥步驟後也可設置例如在20℃以上45℃以下的溫度熟化之熟化步驟。
活性能量線硬化性接著劑為含有藉由照射如紫外線、可見光、電子束、X射線之活性能量線而硬化的硬化性化合物之接著劑，較佳為紫外線硬化性接著劑。
硬化性化合物可為陽離子聚合性之硬化性化合物或自由基聚合性之硬化性化合物。陽離子聚合性之硬化性化合物可舉例如環氧系化合物(分子內具有1個或2個以上環氧基之化合物)、或氧環丁烷系化合物(分子內具有1個或2個以上氧環丁烷環之化合物)、或該等的組合。自由基聚合性之硬化性化合物可舉例如(甲基)丙烯酸系化合物(分子內具有1個或2個以上(甲基)丙烯醯氧基之化合物)、或具有自由基聚合性雙鍵之其他乙烯基系化合物、或該等的組合。可併用陽離子聚合性之硬化性化合物與自由基聚合性之硬化性化合物。活性能量線硬化性接著劑通常進一步含有使硬化性化合物之硬化反應開始進行之陽離子聚合起始劑及/或自由基聚合起始劑。
貼合偏光膜與樹脂膜時，為了提高接著性，可於該等至少任一者之貼合面實施表面活化處理。表面活化處理可舉出如電暈處理、電漿處理、放電處理(輝光放電處理等)、火焰處理、臭氧處理、UV臭氧處理、電離活性線處理(紫外線處理、電子束處理等)之乾式處理；如使用水或丙酮等溶媒之超音波處理、皂化處理、底塗處理之濕式處理。該等表面活化處理可單獨進行或組合2種以上。
於偏光膜的兩面貼合樹脂膜時，用以貼合該等樹脂膜之接著劑可為同種之接著劑，也可為異種之接著劑。
(黏著劑層)
黏著劑層12係貼合偏光板11與相位差積層體17。黏著劑層12係可以用(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、胺甲酸乙酯系樹脂、酯系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚乙烯醚系樹脂作為主成分之黏著劑組成物構成。其中，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異之(甲基)丙烯酸系樹脂作為基礎聚合物之黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。
黏著劑組成物所使用之(甲基)丙烯酸系樹脂(基礎聚合物)較佳為使用(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等以1種或2種以上(甲基)丙烯酸酯為單體之聚合物或共聚物。基礎聚合物中較佳為使極性單體共聚者。極性單體可舉出(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羥基乙酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、(甲基)丙烯酸N,N-二甲胺基乙酯化合物、(甲基)丙烯酸環氧丙酯化合物等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等之單體。
黏著劑組成物可為僅含有上述基礎聚合物者，但通常進一步含有交聯劑。交聯劑可舉例如與羧基之間形成羧酸金屬鹽之2價以上之金屬離子；與羧基之間形成醯胺鍵結之多胺化合物；與羧基之間形成酯鍵之聚環氧化合物或多元醇；與羧基之間形成醯胺鍵結之聚異氰酸酯化合物。其中較佳為聚異氰酸酯化合物。
活性能量線硬化型黏著劑組成物具有接受如紫外線或電子束之活性能量線的照射而硬化之性質，並具有在活性能量線照射前亦具有黏著性而可密著於膜等被黏著體，且可藉由照射活性能量線而硬化並調整密著力之性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著 劑組成物除了基礎聚合物、交聯劑以外，可進一步含有活性能量線聚合性化合物。視需要可含有光聚合起始劑或光敏劑等。
黏著劑組成物可含有用以賦予光散射性之微粒子、珠粒(樹脂珠、玻璃珠等)、玻璃纖維、基礎聚合物以外之樹脂、抗靜電劑、黏著性賦予劑、充填劑(金屬粉或其他無機粉末等)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、抗腐蝕劑等添加劑。
可將黏著劑組成物溶解或分散於甲苯或乙酸乙酯等有機溶劑而調製黏著劑液，並將其塗佈於偏光板11並乾燥，藉此可形成黏著劑層12。也可於實施脫模處理之分離膜13上先將黏著劑層12形成為薄片狀，並將其轉印至偏光板11之對象面。使用活性能量線硬化型黏著劑組成物時，可於所形成之黏著劑層12照射活性能量線，藉此形成具有所求硬化度之硬化物。
黏著劑層12之厚度通常為1μm以上40μm以下，以光學積層體之薄膜化等觀點來看，較佳為2μm以上30μm以下。
(分離膜)
分離膜13為直到黏著劑層12貼合至圖像顯示元件或其他光學構件為止暫時保護其表面的膜。分離膜13通常為單面實施以聚矽氧系、氟系等脫模劑等所進行的脫模處理之熱塑性樹脂膜所構成，該脫模處理面貼合於黏著劑層12。
構成分離膜13之熱塑性樹脂例如可為聚乙烯等聚乙烯系樹脂、聚丙烯等聚丙烯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂等。分離膜13之厚度例如為10μm以上50μm以下。
(保護膜)
偏光板11中可積層保護膜10。保護膜10為用以保護偏光板11的表面之可剝離膜。光學積層體在市面上流通時多黏貼有保護膜10。保護膜10係貼合於液晶硬化層15及黏著劑層12的積層側之相反側之偏光板11的表面。保護膜10例如為黏著劑層、及隔著黏著劑層積層之基材膜所構成。保護膜10通常例如在於光學積層體貼合圖像顯示元件等之後，與黏著劑層一起剝離去除。
保護膜10之基材膜可以熱塑性樹脂，例如聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂等聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂等構成。基材膜可為單層構造或多層構造。保護膜10之黏著劑層可用(甲基)丙烯酸系黏著劑、環氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等構成。保護膜10為聚丙烯系樹脂及聚乙烯系樹脂等具有自黏著性之樹脂膜。此時，保護膜10不具有黏著劑層。
保護膜10之厚度例如可為5μm以上150μm以下，較佳為10μm以上100μm以下，更佳為20μm以上75μm以下，又更佳為25μm以上70μm以下(例如60μm以下，進一步為55μm以下)。保護膜10之厚度未達5μm時，偏光板11的保護不充分，且處理性來看也較為不利。保護膜10之厚度若超過150μm，則以光學積層體之薄膜化或保護膜10之重工性來看較為不利。
<捲繞積層體之步驟>
偏光板11及相位差積層體17的積層體103為長條狀時，積層體103可依序捲繞為捲繞輥，也可不捲繞並進行積層分離膜19之步驟或剝離吸濕性膜16之後述步驟。通常在製造長條狀光學積層體時，會在積層步驟中捲繞長條物。捲繞的積層體103直到在接下來的步驟中使用為止，相位差積層體17之水分可充分 地移動至偏光板11。例如在捲繞依序包含保護膜10、偏光板11、黏著劑層12、液晶硬化層15及吸濕性膜16之積層體103並形成輥形態時，吸濕性膜16與空氣接觸的面積會減少，故水分可更快地移動至偏光板11。
在獲得偏光板11及相位差積層體17的積層體103之後，較佳為在不進行乾燥積層體103之步驟下捲繞積層體103。
<剝離吸濕性膜之步驟>
於偏光板11積層相位差積層體17之後，較佳為留下液晶硬化層15並由積層體103剝離去除吸濕性膜16。吸濕性膜16係可於偏光板11積層相位差積層體17之後直接剝離，也可先捲繞於輥(上述捲繞步驟)並在其後之步驟一邊拉出一邊剝離。
去除吸濕性膜16之光學積層體可進一步隔著黏著劑層18貼合分離膜19(積層體104)。分離膜19及黏著劑層18分別使用上述分離膜13及黏著劑層12即可。
<裁切積層體之步驟>
上述方法所得的積層體為長條狀時，較佳為由長條狀積層體裁切薄片體。裁切可使用裁切用切割機等以往公知的裁切手段進行。薄片體之尺寸、形狀及裁切角度可引用上述<光學積層體>的記載。
剛裁切後之薄片體係反向捲曲量為10mm以下，更佳係反向捲曲量為5mm以下，或不具有捲曲之平坦狀態或正向捲曲狀態。藉由如上述調整而不需後述之捲曲之最終調整步驟，或可減少捲曲之最終調整步驟的所需時間。
<捲曲之最終調整步驟>
於上述方法所得薄片體產生有反向捲曲時，可適當地進行加濕之調整。加濕可藉由將薄片體置於相對濕度經調整之環境下而進行，例如可將薄片體保管於相對濕度經調節之調濕室即可。
(實施例)
以下列舉實施例以更詳細說明本發明，但本發明並不限定於該等實施例。除非另有說明，否則實施例中之「%」及「份」為質量%及質量份。
〔捲曲之測定方法〕
從積層體104以對角線分別與MD方向及TD方向平行之方式裁切出長邊為155mm、短邊為78mm之菱形形狀裁切片，將由該裁切片剝離分離膜19者作為試驗片。使該試驗片的靜電充分消除後，以試驗片之凹面朝上之方式置於基準面(水平台)，分別測定試驗片的4個角從基準面起的高度。以保護膜側為上側之方式將試驗片置於基準面時，試驗片的角翹起時，以該捲曲作為正向捲曲，並以正值表示從基準面起的角的高度。另一方面，以保護膜側為下側之方式將試驗片置於基準面時，試驗片的角翹起時，以該捲曲作為反向捲曲，並以負值表示從基準面起的角的高度。
以與MD方向平行之對角線上的2個角從基準面起的高度的平均值作為實測MD捲曲值。以與TD方向平行之對角線上的2個角從基準面起的高度的平均值作為實測TD捲曲值。MD捲曲值及TD捲曲值若為正或0，則表示抑制反向捲曲，該值為負時，其絕對值越大則表示反向捲曲越大。
〔光學積層體之含水率測定方法〕
從積層體104以對角線分別與MD方向及TD方向平行之方式裁切出長邊為155mm、短邊為78mm之菱形形狀裁切片，將由該裁切片剝離分離膜19者作 為試驗片。將試驗片以105℃乾燥2小時，比較乾燥後之質量與乾燥前之質量，求得光學積層體之含水率。
含水率(質量%)={(乾燥處理前之光學積層體質量-乾燥處理後之光學積層體質量)/乾燥處理前之光學積層體質量}×100。
〔黏著劑層之準備〕
藉由以下方法製造黏著劑層。在具備攪拌機、溫度計、迴流冷卻器、滴入裝置及氮導入管之反應容器中加入丙烯酸正丁酯97.0份、丙烯酸1.0份、丙烯酸2-羥基乙酯0.5份、乙酸乙酯200份、及2,2'-偶氮雙異丁腈0.08份，以氮氣取代反應容器內之空氣。一邊攪拌一邊將反應溶液升溫至60℃，反應6小時後，冷卻至室溫。測定所得溶液的一部分之重量平均分子量，確認獲得分子量為180萬之(甲基)丙烯酸酯聚合物。
混合所得(甲基)丙烯酸酯聚合物100份(固形分換算值；以下亦同)、作為異氰酸酯系交聯劑之三羥甲基丙烷改質甲苯二異氰酸酯(TOSOH股份有限公司製，商品名「CORONATEL」)0.30份、作為矽烷耦合劑之3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業股份有限公司製，商品名「KBM403」)0.30份，並充分攪拌。將其以乙酸乙酯稀釋，獲得黏著劑組成物之塗佈溶液。
於成為剝離層之第1分離膜(LINTEC股份有限公司製：SP-PLR382190)之脫模處理面(剝離面)，以乾燥後之厚度成為25μm之方式藉由塗敷器塗佈黏著劑組成物之塗佈溶液，以100℃乾燥1分鐘，而形成黏著劑層。在黏著劑層之與貼合有第1分離膜之面的相反面貼合第2分離膜(LINTEC公司製：SP-PLR381031)，獲得兩面附有分離膜之黏著劑層。
〔附保護膜之偏光板(101)的準備〕
將厚度20μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸單軸延伸為約5倍。在保持拉緊狀態下浸漬於60℃之純水1分鐘後，於碘/碘化鉀/水之質量比為0.05/5/100之水溶液於28℃浸漬60秒。其後於碘化鉀/硼酸/水之質量比為8.5/8.5/100之水溶液於72℃浸漬300秒。以26℃純水洗淨20秒後，以65℃乾燥，獲得於聚乙烯醇膜吸附配向有碘之厚度7μm之偏光膜。
於該偏光膜單側塗佈環氧系接著劑，貼合作為保護層之厚度13μm之透明的降莰烯系樹脂膜。環氧系接著劑係使用相對於水100份溶解羧基改質聚乙烯醇(Kuraray股份有限公司，商品名「KL-318」)3份，並於該水溶液添加屬於水溶性環氧樹脂之聚醯胺環氧系添加劑(田岡化學工業股份有限公司，商品名「Sumirez Resin 650(30)」，固形分濃度30%之水溶液)1.5份之接著劑。以上述方式獲得於偏光膜單面積層有樹脂膜之偏光板。
於樹脂膜之與偏光膜相反側之表面貼合在厚度38μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜上形成有15μm之丙烯酸系黏著劑層之保護膜，獲得厚度73μm之附保護膜之偏光板101。
〔相位差積層體之準備〕
(第1液晶硬化層之製造)
將厚度50μm之環烯烴系聚合物(COP)膜使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件處理1次。於實施電暈處理之表面使用棒塗佈器塗佈下述配向層形成用組成物(1)，以80℃乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7，USHIO電機股份有限公司製) 以100mJ/cm2之累積光量實施偏光UV曝光，獲得配向層。以雷射顯微鏡(LEXT，OLYMPUS股份有限公司製)測定所得配向層之厚度為100nm。
接著於配向層上使用棒塗佈器塗佈下述液晶層形成用組成物(A-1)，以120℃乾燥1分鐘後，使用高壓汞燈(uniQure VB-15201BY-A，USHIO電機股份有限公司製)照射紫外線(氮環境下，波長：365nm，波長365nm中的累積光量：1000mJ/cm2)，藉此形成作為相位差層之第1液晶硬化層，獲得附基材層之第1液晶硬化層。第1液晶硬化層之厚度為2μm。
(配向層形成用組成物(1)之調製)
於下述溶劑混合配向性材料，在溫度80℃攪拌1小時，獲得配向層形成用組成物(1)。
．配向性材料(5份)：
Figure 110148933-A0202-12-0024-1
．溶劑(95份)：環戊酮。
(液晶層形成用組成物(A-1)之調製)
於下述溶劑混合聚合性液晶化合物及聚合起始劑，在80℃攪拌1小時，獲得液晶層形成用組成物(A-1)。聚合性液晶化合物A1及聚合性液晶化合物A2係以日本特開2010-31223號公報所記載之方法合成。
．聚合性液晶化合物A1(80份)：
Figure 110148933-A0202-12-0025-2
．聚合性液晶化合物A2(20份)：
Figure 110148933-A0202-12-0025-4
．聚合起始劑(6份)：
2-二甲胺基-2-苄基-1-(4-嗎福林基苯基)丁烷-1-酮(Ciba Specialty Chemicals公司製「IRGACURE 369」)。
．溶劑(400份)：環戊酮，
(第2液晶硬化層之製造)
將作為基材之屬於吸濕性膜之厚度80μm之三乙酸纖維素(TAC)膜使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件處理1次。於實施電暈處理的表面使用棒塗佈器塗佈下述配向層形成用組成物(2)，以90℃乾燥1分鐘，獲得配向層。以雷射顯微鏡(LEXT，OLYMPUS股份有限公司製)測定所得配向層之厚度為34nm。
接著於配向層上使用棒塗佈器塗佈下述液晶層形成用組成物(B-1)，在90℃乾燥1分鐘後，使用高壓汞燈(uniQure VB-15201BY-A，USHIO電機 股份有限公司製)照射紫外線(氮環境下，波長：365nm，波長365nm中的累積光量：1000mJ/cm2)，藉此形成作為相位差層之第2液晶硬化層，獲得附吸濕性膜之第2液晶硬化層。第2液晶硬化層之厚度為1μm。
(配向層形成用組成物(2)之調製)
在屬於配向性聚合物之SUNEVER SE-610(日產化學工業股份有限公司製)加入2-丁氧基乙醇，獲得配向層形成用組成物(2)。所得配向層形成用組成物(2)相對於該組成物總量之固形分含有比率為1%，相對於該組成物總量之溶劑的含有比率為99%。SUNEVER SE-610之固形分量係由交貨規格中所記載之濃度而換算。
(液晶層形成用組成物(B-1)之調製)
於下述溶劑中混合聚合性液晶化合物、聚合起始劑及反應添加劑，在80℃攪拌1小時後，冷卻至室溫，獲得液晶層形成用組成物(B-1)。
．聚合性液晶化合物LC242(BASF公司製)(19.2%)：
Figure 110148933-A0202-12-0026-5
．聚合起始劑(0.5%)：
IRGACURE(註冊商標)907(BASF JAPAN公司製)。
．反應添加劑(1.1%)：
Laromer(註冊商標)LR-9000(BASF JAPAN公司製)。
．溶劑(79.1%)：丙二醇-1-單甲基醚2-乙酸酯。
(接著劑組成物之調製)
混合下述所示陽離子硬化性成分a1至a3及陽離子聚合起始劑。進一步混台下述所示陽離子聚合起始劑及敏化劑後，進行脫泡，調製光硬化型之接著劑組成物。又，下述摻配量為固形分量。
．陽離子硬化性成分a1(70份)：
3',4'-環氧環己基甲基-3',4'-環氧環己烷羧酸酯(商品名：CEL2021P，Daicel股份有限公司製)。
．陽離子硬化性成分a2(20份)：
新戊二醇二環氧丙基醚(商品名：EX-211，Nagasechemtex股份有限公司製)。
．陽離子硬化性成分a3(10份)：
2-乙基己基環氧丙基醚(商品名：EX-121，Nagasechemtex股份有限公司製)。
．陽離子聚合起始劑(2.25份)：
商品名：CPI-100(san-apro股份有限公司製)之50%碳酸伸丙酯溶液。
．敏化劑(2份)：
1,4-二乙氧基萘。
(相位差積層體之製造)
於附吸濕性膜之第2液晶硬化層的第2液晶硬化層側表面實施電暈處理(800W、10m/min)。於該電暈處理面以接著劑層之厚度成為1μm之方式使用塗佈機塗佈接著劑組成物。接下來，於附基材層之第1液晶硬化層的第1液晶硬化層側以與上述相同之條件實施電暈處理，並與形成於附吸濕性膜之第2液晶硬化層上的接著劑組成物之塗佈層貼合。從第2液晶硬化層側藉由紫外線照射裝置照射紫外線，使接著劑組成物硬化，獲得於單面積層有吸濕性膜16之相位差積 層體17。照射條件為在UVA區域中照射強度為390mW/cm2、累積光量為420mJ/cm2，在UVB域中照射強度為400mW/cm2、累積光量為400mJ/cm2。
[實施例1]
使用上述準備之相位差積層體17、附保護膜之偏光板101及兩面附分離膜之黏著劑層，獲得光學積層體。具體而言是用以下方式進行。
於附保護膜之偏光板101之與保護膜10側為相反側之面實施電暈處理(800W、10m/min)。又，由上述準備之兩面附分離膜之黏著劑層剝離第2分離膜。貼合偏光板11之電暈處理面與黏著劑層之第2分離膜之剝離面，獲得附第1分離膜13之偏光板102。
將相位差積層體17在溫度23℃、濕度55%之環境下放置40分鐘後，剝離相位差積層體17之COP膜，將所露出之面(第1液晶硬化層側之面)與由附第1分離膜13之偏光板102剝離第1分離膜13所露出的黏著劑層12貼合，獲得隔著黏著劑層12積層有偏光板11及液晶硬化層15之積層體103。其後以鋁防濕袋捆包積層體103，在溫度23℃、濕度55%之環境下保管24小時。
24小時後，將由積層體103剝離TAC膜(吸濕性膜16)所露出的面(液晶硬化層15之第2液晶硬化層側之面)與由兩面附分離膜之黏著劑層剝離第2分離膜所露出的黏著劑層貼合，獲得具有黏著劑層18及第1分離膜19之積層體104。將積層體104裁切為特定尺寸之長方形薄片體，獲得光學積層體A。對所得光學積層體A進行捲曲之測定，計算光學積層體A之TD捲曲值。又，對於光學積層體A藉由乾燥重量法而測定含水率。其結果示於表1。
[實施例2]
將相位差積層體17於溫度23℃、濕度55%之環境下放置5分鐘，除此之外，以與實施例1相同之方法而獲得光學積層體B。對所得光學積層體B進行捲曲之測定，計算光學積層體B之TD捲曲值。又，對於光學積層體B藉由乾燥重量法而測定含水率。其結果示於表1。
[比較例1]
不對相位差積層體17實施加濕，以與實施例1相同之方法而獲得光學積層體C。對所得光學積層體C進行捲曲之測定，計算光學積層體C之TD捲曲值。又，對於光學積層體C藉由乾燥重量法而測定含水率。其結果示於表1。
[表1]
Figure 110148933-A0202-12-0029-6
表1中呈示實施例1及2所得之光學積層體A及光學積層體B之含水率高於比較例1所得之光學積層體C。推測是因水分從吸濕性膜有效地轉移至偏光板，藉此充分加濕偏光板，結果可抑制反向捲曲。
10:保護膜
11:偏光板
12,18:黏著劑層
13,19:分離膜
14,16:吸濕性膜
15:液晶硬化層
17:相位差積層體
101,102,103,104:積層體

Claims (6)

  1. 一種光學積層體的製造方法，係依序包括下列步驟：
    加濕相位差積層體之步驟，前述相位差積層體係含有吸濕性膜及液晶硬化層；及
    於偏光板隔著黏著劑層貼合前述相位差積層體而獲得積層體之步驟，前述偏光板係具有偏光膜及積層於前述偏光膜的至少一面之樹脂膜。
  2. 如請求項1所述的製造方法，其中前述吸濕性膜係含有纖維素系樹脂。
  3. 如請求項1或2所述的製造方法，其中前述偏光板係於前述偏光膜的一面積層前述樹脂膜，
    在前述獲得積層體之步驟中，於前述偏光膜的另一面積層前述相位差積層體。
  4. 如請求項1至3中任一項所述的製造方法，其中在前述獲得積層體之步驟之後包括捲繞前述積層體之步驟。
  5. 如請求項4所述的製造方法，其中在前述捲繞步驟之後進一步包括剝離前述吸濕性膜之步驟。
  6. 如請求項1至5中任一項所述的製造方法，其中在前述加濕步驟中係加濕直到前述吸濕性膜之含水率成為溫度20℃以上80℃以下、相對濕度45%以上之環境下的平衡含水率。
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