CN110275234B - 光学层叠体、及带有粘合层的光学层叠体的制造方法 - Google Patents

光学层叠体、及带有粘合层的光学层叠体的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种光学层叠体的制造方法，是依次层叠有光学膜、第一粘接剂固化层、第一液晶层、粘接层、以及第二液晶层的光学层叠体的制造方法，该制造方法包括：得到带有基材层的第一液晶层层叠体的工序，夹隔着第一粘接剂固化层，在带有基材层的第一液晶层的第一液晶层侧层叠光学膜；得到第一液晶层层叠体的工序，从带有基材层的第一液晶层层叠体剥离第一基材层；和得到第二液晶层层叠体的工序，以使因剥离第一基材层而露出的第一液晶层层叠体的第一露出面侧与第二液晶层夹隔着所述粘接层相面对的方式，将第一液晶层层叠体与带有基材层的第二液晶层层叠。粘接层为第一粘合层或第二粘接剂固化层。

Description

光学层叠体、及带有粘合层的光学层叠体的制造方法
技术领域
本发明涉及光学层叠体的制造方法及带有粘合层的光学层叠体的制造方法。
背景技术
使用了有机发光二极管(OLED)的有机EL显示装置与液晶显示装置等相比不仅能够实现轻量化、薄型化，而且可以实现大范围的视角、快速的响应速度、高对比度等高画质，因此在智能手机和电视、数码相机等各种领域中得到使用。另外，就有机EL显示装置而言，由于超薄且可以不使用背光灯地显示，因此还提出过弯曲、卷绕之类的装置形状。有机EL显示装置中，为了抑制由外来光的反射造成的可视性的降低，已知有使用圆偏振板等来提高防反射性能的做法。
例如在专利文献1及2中，作为应用于有机EL显示装置等图像显示面板的膜，记载过具有防反射功能的光学膜，根据记载，该光学膜具有使用液晶材料形成的相位差层。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2015－230386号公报
专利文献2：日本特开2015－79256号公报
发明内容
发明所要解决的问题
对于如上所述的光学膜，为了不损害作为显示装置的特征的轻量化、薄型化，要求现有水平以上的薄型化、弯曲性。另外，上述光学膜是贴合于光学显示元件后使用，然而一旦在光学膜中产生所谓的反卷曲，即，贴合于光学显示元件的一侧变凹地卷曲，则会因将光学膜与光学显示元件贴合时混入气泡、或者形成褶皱而有易于产生被作为不均观察到等不佳状况的趋势。这种不佳状况成为图像显示面板的不良的原因，因此希望抑制光学膜的反卷曲。
本发明的目的在于，提供可以制造抑制了反卷曲的光学层叠体及带有粘合层的光学层叠体的制造方法。
用于解决问题的方法
本发明提供以下所示的光学层叠体的制造方法及带有粘合层的光学层叠体的制造方法。
〔1〕一种光学层叠体的制造方法，是依次层叠有光学膜、第一粘接剂固化层、第一液晶层、粘接层、以及第二液晶层的光学层叠体的制造方法，
所述粘接层为第一粘合层或第二粘接剂固化层，
该制造方法包括：
准备带有基材层的第一液晶层的工序，所述带有基材层的第一液晶层具有第一基材层、和在所述第一基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的所述第一液晶层；
准备带有基材层的第二液晶层的工序，所述带有基材层的第二液晶层具有第二基材层、和在所述第二基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的所述第二液晶层；
得到带有基材层的第一液晶层层叠体的工序，夹隔着所述第一粘接剂固化层，在所述带有基材层的第一液晶层的所述第一液晶层侧层叠所述光学膜；
得到第一液晶层层叠体的工序，从所述带有基材层的第一液晶层层叠体剥离所述第一基材层；和
得到第二液晶层层叠体的工序，以使因剥离所述第一基材层而露出的所述第一液晶层层叠体的第一露出面侧与所述第二液晶层夹隔着所述粘接层相面对的方式，将所述第一液晶层层叠体与所述带有基材层的第二液晶层层叠。
〔2〕根据〔1〕中记载的光学层叠体的制造方法，其中，
所述得到带有基材层的第一液晶层层叠体的工序包括：
形成第一粘接剂组合物层的工序，在所述光学膜、以及所述带有基材层的第一液晶层的所述第一液晶层侧的至少一方，形成包含用于形成所述第一粘接剂固化层的第一粘接剂组合物的第一粘接剂组合物层；和
形成所述第一粘接剂固化层的工序，夹隔着所述第一粘接剂组合物层在所述带有基材层的第一液晶层的所述第一液晶层侧层叠所述光学膜后，将所述第一粘接剂组合物层固化。
〔3〕根据〔1〕或〔2〕中记载的光学层叠体的制造方法，其中，
所述粘接层为所述第一粘合层，
所述得到第二液晶层层叠体的工序包括：
得到带有粘合层的第一液晶层层叠体的工序，在所述第一液晶层层叠体的所述第一露出面上形成所述第一粘合层；和
将所述带有粘合层的第一液晶层层叠体的所述第一粘合层与所述带有基材层的第二液晶层的所述第二液晶层贴合的工序。
〔4〕根据〔3〕中记载的光学层叠体的制造方法，其中，
所述得到带有粘合层的第一液晶层层叠体的工序包括：
准备层叠所述第一粘合层与第一剥离层而得的带有剥离层的第一粘合层的工序；和将所述带有剥离层的第一粘合层的所述第一粘合层与所述第一液晶层层叠体的所述第一露出面贴合后、剥离所述第一剥离层的工序。
〔5〕根据〔1〕或〔2〕中记载的光学层叠体的制造方法，其中，
所述粘接层为所述第一粘合层，
所述得到第二液晶层层叠体的工序包括：
得到带有粘合层的第二液晶层的工序，在所述带有基材层的第二液晶层的所述第二液晶层上形成所述第一粘合层；和
将所述带有粘合层的第二液晶层的所述第一粘合层与所述第一液晶层层叠体的所述第一露出面贴合的工序。
〔6〕根据〔5〕中记载的光学层叠体的制造方法，其中，
所述得到带有粘合层的第二液晶层的工序包括：
准备层叠所述第一粘合层与第一剥离层而得的带有剥离层的第一粘合层的工序；和将所述带有剥离层的第一粘合层的所述第一粘合层与所述带有基材层的第二液晶层的所述第二液晶层贴合后，剥离所述第一剥离层的工序。
〔7〕根据〔1〕或〔2〕中记载的光学层叠体的制造方法，其中，
所述粘接层为所述第二粘接剂固化层，
所述得到第二液晶层层叠体的工序包括：
形成第二粘接剂组合物层的工序，在所述第一液晶层层叠体的所述第一露出面侧、以及所述带有基材层的第二液晶层的所述第二液晶层侧中的至少一方，形成包含用于形成所述第二粘接剂固化层的第二粘接剂组合物的第二粘接剂组合物层；和
形成所述第二粘接剂固化层的工序，在以夹隔着所述第二粘接剂组合物层使所述第一露出面与所述第二液晶层相面对的方式将所述第一液晶层层叠体与所述带有基材层的第二液晶层层叠后，将所述第二粘接剂组合物层固化。
〔8〕根据〔1〕～〔7〕中任一项记载的光学层叠体的制造方法，其中，所述光学膜包含偏振板。
〔9〕根据〔1〕～〔8〕中任一项记载的光学层叠体的制造方法，其中，所述光学膜包含在偏振板的至少一面层叠防护膜而得的带有防护膜的偏振板。
〔10〕根据〔1〕～〔9〕中任一项记载的光学层叠体的制造方法，其中，还包括从所述第二液晶层层叠体剥离所述第二基材层的工序。
〔11〕一种带有粘合层的光学层叠体的制造方法，是依次层叠有光学膜、第一粘接剂固化层、第一液晶层、粘接层、第二液晶层、以及第二粘合层的带有粘合层的光学层叠体的制造方法，
该制造方法包括：
准备利用所述〔10〕中记载的光学层叠体的制造方法制造的光学层叠体的工序、和
在因剥离所述第二基材层而露出的所述光学层叠体的第二露出面侧层叠所述第二粘合层的工序。
〔12〕根据〔11〕中记载的带有粘合层的光学层叠体的制造方法，其中，层叠所述第二粘合层的工序包括：
准备层叠所述第二粘合层与第二剥离层而得的带有剥离层的第二粘合层的工序、和将所述带有剥离层的第二粘合层的所述第二粘合层与所述光学层叠体的所述第二露出面贴合的工序。
发明效果
根据本发明，可以制造抑制了反卷曲的光学层叠体及带有粘合层的光学层叠体。
附图说明
图1(a)～(d)是示意性地表示本发明的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。
图2(a)及(b)是示意性地表示图1所示的光学层叠体的制造工序的后续部分的示意剖视图。
图3(a)及(b)是示意性地表示图2所示的光学层叠体的制造工序的后续部分的示意剖视图。
图4(a)～(c)是示意性地表示图3所示的光学层叠体的制造工序的后续部分的示意剖视图。
图5(a)～(d)是示意性地表示本发明的其他的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。
图6(a)及(b)是示意性地表示本发明的带有粘合层的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。
图7(a)～(e)是示意性地表示与本发明不同的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。
图8(a)～(d)是示意性地表示图7所示的光学层叠体的制造工序的后续部分的示意剖视图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的光学层叠体的制造方法及带有粘合层的光学层叠体的制造方法的优选的实施方式进行说明。
[实施方式1(光学层叠体的制造方法)]
图1～图4是示意性地表示本实施方式的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。利用本实施方式的光学层叠体70x的制造方法制造的光学层叠体70x如图4(c)所示，依次层叠有光学膜60、第一粘接剂固化层31、第一液晶层12、第一粘合层32x(粘接层)、以及第二液晶层22。
光学层叠体70x的制造方法包括准备图1(a)所示的带有基材层的第一液晶层10、和图1(b)所示的带有基材层的第二液晶层20的工序。带有基材层的第一液晶层10具有第一基材层11、在第一基材层11上将聚合性液晶化合物聚合而形成的第一液晶层12，带有基材层的第二液晶层20具有第二基材层21、和在第二基材层21上将聚合性液晶化合物聚合而形成的第二液晶层22。
准备带有基材层的第一液晶层10的工序可以包括形成第一液晶层12 的工序，在第一基材层11上涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物并干燥，利用紫外线等活性能量射线的照射将聚合性液晶化合物聚合而使之固化。同样地，准备带有基材层的第二液晶层20的工序可以包括形成第二液晶层22的工序，在第二基材层21上，涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物并干燥，利用紫外线等活性能量射线的照射将聚合性液晶化合物聚合而使之固化。
然后，进行在光学膜60上形成包含用于形成第一粘接剂固化层31 的第一粘接剂组合物的第一粘接剂组合物层31a的工序。利用该工序，可以得到带有组合物层的光学膜61(图1(c))。带有组合物层的光学膜61 如图1(c)所示，层叠光学膜60与第一粘接剂组合物层31a而得。形成第一粘接剂组合物层31a的工序可以包括在光学膜60的表面涂布第一粘接剂组合物的工序。
在将所得的带有组合物层的光学膜61的第一粘接剂组合物层31a与带有基材层的第一液晶层10的第一液晶层12层叠后(图1(d))，将第一粘接剂组合物层31a固化而形成第一粘接剂固化层31，由此得到带有基材层的第一液晶层层叠体65(图2(a))。使第一粘接剂组合物层31a 固化的方法可以根据第一粘接剂组合物的种类等适当地选择，例如可以举出活性能量射线照射、加热处理、固化剂的添加等。对于第一粘接剂组合物的种类、其固化方法在后面叙述。带有基材层的第一液晶层层叠体65 如图2(a)所示，依次层叠有光学膜60、第一粘接剂固化层31、第一液晶层12、以及第一基材层11。从该带有基材层的第一液晶层层叠体65 剥离第一基材层11而得到第一液晶层层叠体66(图2(b))。第一液晶层层叠体66如图2(b)所示，依次层叠有光学膜60、第一粘接剂固化层 31、以及第一液晶层12。
接下来，准备在第一剥离层52上形成第一粘合层32x而得的带有剥离层的第一粘合层57(图3(a))。准备带有粘合层的第一粘合层57的工序可以包括在第一剥离层52上涂布粘合剂组合物、并进行干燥等而形成第一粘合层32x的工序。另外，根据需要，也可以设置将第一粘合层32x 的与第一剥离层52相反一侧的面用其他剥离层包覆的工序。在将所准备的带有剥离层的第一粘合层57的第一粘合层32x与因剥离第一基材层11 而露出的第一液晶层层叠体66的第一液晶层12(第一露出面)贴合后(图 3(b))，剥离第一剥离层52而得到带有粘合层的第一液晶层层叠体67(图 4(a))。带有粘合层的第一液晶层层叠体67如图4(a)所示，依次层叠有光学膜60、第一粘接剂固化层31、第一液晶层12、以及第一粘合层32x。
将图4(a)所示的带有粘合层的第一液晶层层叠体67的第一粘合层 32x与图1(b)所示的带有基材层的第二液晶层20的第二液晶层22贴合，得到图4(b)所示的第二液晶层层叠体71x(光学层叠体)。第二液晶层层叠体71x如图4(b)所示，依次层叠有光学膜60、第一粘接剂固化层 31、第一液晶层12、第一粘合层32x、第二液晶层22、第二基材层21。通过从所得的第二液晶层层叠体71x剥离第二基材层21，可以得到光学层叠体70x(图4(c))。
上述的光学层叠体70x的制造方法中，使用了在第一基材层11、第二基材层21(以下有时将两者统称为“基材层”。)上将聚合性化合物聚合而使之固化的带有基材层的第一液晶层10、带有基材层的第二液晶层 20(以下有时将两者统称为“带有基材层的液晶层”。)。带有基材层的液晶层中，通常在基材层上涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物并进行干燥，利用紫外线等活性能量射线的照射使聚合性液晶化合物聚合而使之固化，由此可以形成第一液晶层12、第二液晶层22(以下有时将两者统称为“液晶层”。)。推测在经过上述的涂布、干燥、聚合、固化等工序而形成的液晶层中，残留有在所涂布的液晶层形成用组合物的干燥、伴随着聚合性液晶化合物的聚合的固化时产生的收缩应力。可以认为，在液晶层存在于基材层上的带有基材层的液晶层的状态下，上述的收缩应力被基材层所抑制，然而如上所述，由于基材层在制造光学层叠体70x 的工序中被剥离，因此液晶层的收缩应力因基材层的剥离而被释放。此时，若将液晶层贴合于光学膜，则有因剥离基材层而释放出的收缩应力使光学膜与液晶层的层叠体中产生以液晶层侧为内侧翘曲成弓形的变形(以下有时称作“反卷曲”。)的情况。
这种卷曲的产生被认为易于在将光学膜60与液晶层层叠时使用了与粘接剂固化层相比刚性低而易于变形的粘合层的情况下发生。例如可以推测，如图7及图8所示，在光学膜上夹隔着粘合层依次层叠液晶层而制造光学层叠体的情况下，受到因剥离基材层而释放出的液晶层的收缩应力的影响，粘合层、光学膜易于变形，易于在光学层叠体中产生反卷曲。图7 及图8是示意性地表示与图1～图4所示的光学层叠体的制造工序不同的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。
图8(d)所示的光学层叠体70p的制造方法中，首先，将在第一基材层11p上具有将聚合性液晶化合物聚合而形成的第一液晶层12p的带有基材层的第一液晶层10p(图7(b))的第一液晶层12p侧(图7(c)) 贴合于将光学膜60p与第一’粘合层31p层叠而得的带有粘合层的光学膜 61p的第一’粘合层31p(图7(a))。然后，剥离第一基材层11p(图7(d))，将因该剥离而露出的第一液晶层12p与形成于第二剥离层52p上的第二’粘合层32p贴合(图7(e))，剥离第二剥离层52p(图8(a))。然后，将在第二基材层21p上具有将聚合性液晶化合物聚合而形成的第二液晶层22p的带有基材层的第二液晶层20p(图8(b))的第二液晶层20p侧贴合于第二’粘合层32p，得到带有基材层的光学层叠体71p(图8(c))。从该带有基材层的光学层叠体71p剥离第二基材层21p，得到光学层叠体 70p(图8(d))。
如此所述在图7及图8所示的制造工序中，夹隔着第一’粘合层31p 将第一液晶层12p层叠于光学膜60p后剥离第一基材层11p，夹隔着第二’粘合层32p将第二液晶层22p层叠于第一液晶层12p上后剥离第二基材层21p。由此可以推测，在剥离第一基材层11p及第二基材层21p的各工序中，第一液晶层12p及第二液晶层22p的收缩应力分别得到释放。可以认为，受到该被释放出的收缩应力的影响，第一’粘合层31p、第二’粘合层 32p、光学膜60p易于变形，易于在光学层叠体70p中产生反卷曲。
与之不同，图1～图4所示的本实施方式的光学层叠体70x的制造方法中，光学膜60与第一液晶层12被夹隔着第一粘接剂固化层31层叠。第一粘接剂固化层31与第一’粘合层31p相比刚性高，难以变形。因此可以推测，即使从图2(a)所示的带有基材层的第一液晶层层叠体65剥离第一基材层11，也易于保持为利用第一粘接剂固化层31抑制了第一液晶层12的收缩应力的状态。因此可以认为，图1～图4所示的光学层叠体70x的制造方法中，与图7及图8所示的制造工序中得到的光学层叠体 70p相比可以减小光学层叠体70x中产生的反卷曲。通过减小光学层叠体 70x中产生的反卷曲，在将使用该光学层叠体70x得到的带有粘合层的光学层叠体(后述)贴合于光学显示元件时，可以抑制在带有粘合层的光学层叠体与光学显示元件之间混入气泡、产生褶皱、产生贴合错误之类的不佳状况。
对于光学层叠体中产生的反卷曲可以认为，光学层叠体中所含的光学膜60的厚度、刚性越小，则越易于受到由液晶层造成的收缩应力的释放的影响。另外可以认为，基材层的厚度、刚性越大，则残留于液晶层中的收缩应力越大，因此越易于受到剥离基材层时释放的收缩应力的影响。因此，本实施方式的光学层叠体的制造方法适于光学膜60的厚度为2μm以上且500μm以下的情况。光学膜60的厚度可以为10μm以上，另外，可以为350μm以下，也可以为200μm以下，也可以为150μm以下。
需要说明的是，本实施方式中为了制造光学层叠体而使用的、带有基材层的第一液晶层10、带有基材层的第二液晶层20、带有剥离层的第一粘合层57、光学膜60、带有组合物层的光学膜61等膜状物优选均为长尺寸的膜状物，优选一边连续地搬运它们一边进行各工序。宽度方向W为与膜状物的长度方向正交的方向。
本实施方式的光学层叠体的制造方法可以像以下所示的变形例那样变更。
另外，可以将上述的实施方式及下述所示的变形例任意组合。
(实施方式1的变形例1)
上述说明中，举出以在光学膜60上设置第一粘接剂组合物层31a而得到带有组合物层的光学膜61、在该带有组合物层的光学膜61的第一粘接剂组合物层31a上层叠带有基材层的第一液晶层10的第一液晶层12 的情况为例而进行了说明，然而只要可以夹隔着第一粘接剂组合物层31a 在带有基材层的第一液晶层10的第一液晶层12侧层叠光学膜60、得到图2(a)所示的带有基材层的第一液晶层层叠体65，则不限定于此。例如，可以在带有基材层的第一液晶层10的第一液晶层12侧设置第一粘接剂组合物层31a，在该第一粘接剂组合物层31a上层叠光学膜60后，将第一粘接剂组合物层31a固化而形成第一粘接剂固化层31。
(实施方式1的变形例2)
上述说明中，举出以使用图3(a)所示的带有剥离层的第一粘合层 57、在第一液晶层层叠体66的第一液晶层12上设置第一粘合层32x、在该第一粘合层32x上层叠带有基材层的第二液晶层20的第二液晶层22 的情况为例而进行了说明，然而只要是可以将第一液晶层层叠体66的第一液晶层12与带有基材层的第二液晶层20的第二液晶层22夹隔着第一粘合层32x层叠，则不限定于此。例如，可以使用图3(a)所示的带有剥离层的第二粘合层57，在带有基材层的第二液晶层20的第二液晶层22 侧设置第一粘合层32x，将该第一粘合层32x与第一液晶层层叠体66的第一液晶层12贴合。
[实施方式2(光学层叠体的制造方法)]
图5(a)～(d)是示意性地表示本实施方式的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。利用本实施方式的光学层叠体70y的制造方法制造的光学层叠体70y如图5(d)所示，依次层叠有光学膜60、第一粘接剂固化层31、第一液晶层12、第二粘接剂固化层32y(粘接层)、以及第二液晶层22。需要说明的是，以下说明中，对于与先前的实施方式中说明的构件相同的构件使用相同符号，省略其说明。
光学层叠体70y的制造方法中，与先前的实施方式中说明的制造方法相同，包括准备图1(a)所示的带有基材层的第一液晶层10、和图1(b) 所示的带有基材层的第二液晶层20的工序。另外，进行在光学膜60上形成包含用于形成第一粘接剂固化层31的第一粘接剂组合物的第一粘接剂组合物层31a的工序，得到图1(c)所示的带有组合物层的光学膜61。在使用带有组合物层的光学膜61、和带有基材层的第一液晶层10得到图 2(a)所示的带有基材层的第一液晶层层叠体65后，剥离第一基材层11 而得到第一液晶层层叠体66(图2(b))。对于准备带有基材层的第一液晶层10及带有基材层的第二液晶层20的工序、得到带有组合物层的光学膜61、带有基材层的第一液晶层层叠体65、以及第一液晶层层叠体66 的工序，由于如先前的实施方式中说明所示，因此省略其说明。
然后，进行在带有基材层的第二液晶层20的第二液晶层22侧的表面形成包含用于形成第二粘接剂固化层32y的粘接剂组合物的第二粘接剂组合物层32a的工序。利用该工序，可以得到带有组合物层的第二液晶层 25(图5(a))。带有组合物层的第二液晶层25如图5(a)所示，依次层叠有第二粘接剂组合物层32a、第二液晶层22、以及第二基材层21。形成第二粘接剂组合物层32a的工序也可以包括在带有基材层的第二液晶层20的第二液晶层22侧的表面涂布粘接剂组合物的工序。
在将所得的带有组合物层的第二液晶层25的第二粘接剂组合物层 32a与第一液晶层层叠体66的第一液晶层12层叠后(图5(b))，将第二粘接剂组合物层32a固化而形成第二粘接剂固化层32y，得到第二液晶层层叠体71y(图5(c))。使第二粘接剂组合物层32a固化的方法可以根据第二粘接剂组合物的种类等适当地选择，例如可以举出活性能量射线照射、加热处理、固化剂的添加等。对于第二粘接剂组合物的种类、其固化方法在后面叙述。
第二液晶层层叠体71y如图5(c)所示，依次层叠有光学膜60、第一粘接剂固化层31、第一液晶层12、第二粘接剂固化层32y、第二液晶层22、以及第二基材层21。通过从所得的第二液晶层层叠体71y剥离第二基材层21，可以得到光学层叠体70y(图5(d))。
上述的光学层叠体70y的制造方法中，与先前的实施方式相同，使用了在第一基材层11、第二基材层21(以下有时将两者统称为“基材层”。) 上将聚合性化合物聚合而使之固化了的带有基材层的第一液晶层10、带有基材层的第二液晶层20(以下有时将两者统称为“带有基材层的液晶层”。)。因此，如先前的实施方式中说明所示，在光学膜与液晶层的层叠体中，有因基材层的剥离而产生以液晶层侧为内侧翘曲为弓形的反卷曲的情况。
本实施方式的光学层叠体70y中，光学膜60与第一液晶层12被夹隔着第一粘接剂固化层31层叠，第一液晶层12与第二液晶层22被夹隔着第二粘接剂固化层32层叠。第一粘接剂固化层31及第二粘接剂固化层 32与图7及图8所示的制造工序中得到的光学层叠体70p的第一’粘合层31p及第二’粘合层32p相比刚性高，难以变形。因此可以推测，即使从图2(a)所示的带有基材层的第一液晶层层叠体65剥离第一基材层11，从图5(c)所示的第二液晶层层叠体71y剥离第二基材层21，利用第一粘接剂固化层31及第二粘接剂固化层32也易于保持为抑制了第一液晶层 12及第二液晶层22的收缩应力的状态。因此可以认为，本实施方式的光学层叠体70y的制造方法中，与图7及图8所示的制造工序中得到的光学层叠体70p相比可以减小光学层叠体70y中产生的反卷曲。通过减小光学层叠体70y中产生的反卷曲，在将使用该光学层叠体70y得到的带有粘合层的光学层叠体(后述)贴合于光学显示元件时，可以抑制在带有粘合层的光学层叠体与光学显示元件之间混入气泡、形成褶皱、产生贴合错误之类的不佳状况。
需要说明的是，本实施方式中为了制造光学层叠体而使用的、带有基材层的第一液晶层10、带有基材层的第二液晶层20、带有组合物层的第二液晶层25、光学膜60、带有组合物层的光学膜61等膜状物优选均为长尺寸的膜状物，优选一边连续地搬运它们一边进行各工序。宽度方向W 为与膜状物的长度方向正交的方向。
(实施方式2的变形例1)
如先前的实施方式中说明所示，可以替代在光学膜60上设置第一粘接剂组合物层31a的做法，在带有基材层的第一液晶层10的第一液晶层 12侧设置第一粘接剂组合物层31a。该情况下，可以在形成于带有基材层的第一液晶层10的第一液晶层12侧的第一粘接剂组合物层31a上层叠光学膜60后，将第一粘接剂组合物层31a固化而形成第一粘接剂固化层31。
(实施方式2的变形例2)
上述说明中，举出以在带有基材层的第二液晶层20的第二液晶层22 侧设置第二粘接剂组合物层32a而得到带有组合物层的第二液晶层25、并将该带有组合物层的第二液晶层25的第二粘接剂组合物层32a与第一液晶层层叠体66的第一液晶层12层叠的情况为例而进行了说明，然而只要是可以得到将带有基材层的第二液晶层20的第二液晶层22与第一液晶层层叠体66的第一液晶层12夹隔着第二粘接剂固化层32层叠的第二液晶层层叠体71y(图5(c))，则不限定于此。例如，可以在第一液晶层层叠体66的第一液晶层12侧设置第二粘接剂组合物层32a，将该第二粘接剂组合物层32a与带有基材层的第二液晶层20的第二液晶层22层叠后，将第二粘接剂组合物层32a固化而形成第二粘接剂固化层32y。另外，也可以在第一液晶层层叠体66的第一液晶层12侧、以及带有基材层的第二液晶层20的第二液晶层22侧的双方形成第二粘接剂组合物层32a。
[实施方式3(带有粘合层的光学层叠体的制造方法)]
图6(a)及(b)是示意性地表示本实施方式的带有粘合层的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。利用本实施方式的带有粘合层的光学层叠体80的制造方法制造的带有粘合层的光学层叠体80如图5(b)所示，依次层叠有光学膜60、第一粘接剂固化层31、第一液晶层12、粘接层32、第二液晶层22、以及第二粘合层33。可以在第二粘合层33的与第二液晶层22相反一侧具有第二剥离层53。粘接层32为第一粘合层32x或第二粘接剂固化层32y。
带有粘合层的光学层叠体80的制造方法包括：准备图4(c)所示的光学层叠体70x或图5(d)所示的光学层叠体70y(以下有时将两者称作“光学层叠体70”。)的工序、准备如图6(a)所示地层叠第二剥离层53 与第二粘合层33而得的带有剥离层的第二粘合层58的工序。准备带有剥离层的第二粘合层58的工序可以包括在第二剥离层53上涂布粘合剂组合物并进行干燥等而形成第二粘合层33的工序。另外，根据需要，可以设置将第二粘合层33的与第二剥离层53相反一侧的面用其他剥离层包覆的工序。
将所准备的带有剥离层的第二粘合层58的第二粘合层33与因剥离第二基材层21而露出的光学层叠体70的第二液晶层22(第二露出面)贴合，得到带有粘合层的光学层叠体80(图6(b))。此时得到的带有粘合层的光学层叠体80具有第二剥离层53。在将该带有粘合层的光学层叠体 80层叠于光学显示元件的情况下，可以剥离第二剥离层53，将第二粘合层33与光学显示元件贴合而制成图像显示面板。
带有粘合层的光学层叠体80可以将第二粘合层33贴合于光学显示元件后使用。上述的带有粘合层的光学层叠体80的制造方法中，由于使用了先前的实施方式中说明的抑制了反卷曲的光学层叠体70，因此可以抑制所谓的反卷曲，即，带有粘合层的光学层叠体80的第二粘合层33侧变凹地卷曲。由此，在将带有粘合层的光学层叠体80贴合于光学显示元件时，可以抑制在光学层叠体与光学显示元件之间混入气泡、产生贴合错误等不佳状况。
需要说明的是，本实施方式中为了制造带有粘合层的光学层叠体而使用的、光学层叠体70、带有剥离层的第二粘合层58等膜状物优选为长尺寸的膜状物，优选一边连续地搬运它们一边进行各工序。宽度方向W为与膜状物的长度方向正交的方向。
以上，对本发明的实施方式及其变形例进行了说明，然而本发明并不限定于这些实施方式及其变形例，例如也可以将上述实施方式及其变形例的各工序组合后实施。以下，对在所有的实施方式及其变形例中共同的各工序进行详细说明。
(光学膜)
光学膜可以是偏振片、在偏振片的至少一面形成有保护层的偏振板、在偏振板的至少一面层叠有防护膜的带有防护膜的偏振板、反射膜、半透射型反射膜、增亮膜、光学补偿膜、带有防眩功能的膜等。光学膜可以是 1层结构，也可以是2层以上的多层结构的层叠光学膜。本说明书中所谓“偏振片”，是指具备在射入无偏振光的光时使具有与吸收轴正交的振动面的直线偏振光透射的性质的层。
(偏振片)
作为偏振片，可以采用任意的合适的偏振片。本说明书中所谓“偏振片”，是指具备在射入无偏振光的光时使具有与吸收轴正交的振动面的直线偏振光透射的性质的直线偏振片。例如，形成偏振片的树脂膜可以是单层的树脂膜，也可以是两层以上的层叠膜。偏振片可以是在聚合性液晶化合物中使二色性色素取向、并使聚合性液晶化合物聚合而得的固化膜。
作为由单层的树脂膜构成的偏振片的具体例，可以举出对聚乙烯醇 (以下有时也简称为“PVA”。)系膜、部分甲缩醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜实施了利用碘、二色性染料等二色性物质的染色处理、以及拉伸处理的偏振片、PVA的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向膜等。由于光学特性优异，因此优选使用将PVA系膜用碘染色并进行单轴拉伸而得的偏振片。
聚乙烯醇系树脂可以通过将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化来制造。聚乙酸乙烯酯系树脂除了可以是作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，还可以是乙酸乙烯酯与能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体的共聚物。作为能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体，例如可以举出不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的丙烯酰胺类等。
聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85～100摩尔％左右，优选为98摩尔％以上。聚乙烯醇系树脂可以被改性，例如也可以使用由醛类改性了的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛等。聚乙烯醇系树脂的聚合度通常为 1000～10000左右，优选为1500～5000左右。
将这种聚乙烯醇系树脂制膜而得的膜被作为偏振片的原材膜使用。将聚乙烯醇系树脂制膜的方法没有特别限定，可以利用公知的方法制膜。聚乙烯醇系树脂原材膜的膜厚例如为10～100μm左右，优选为10～60μm 左右，更优选为15～30μm左右。
作为其他的偏振片的制造方法，可以举出包括如下工序的制造方法，即，首先准备基材膜，在基材膜上涂布聚乙烯醇系树脂等树脂的溶液，进行除去溶剂的干燥等而在基材膜上形成树脂层。需要说明的是，可以在基材膜的形成树脂层的面预先形成底漆层。作为基材膜，可以使用PET等树脂膜。作为底漆层的材料，可以举出将偏振片中所用的亲水性树脂交联了的树脂等。
然后，根据需要调整树脂层的水分等溶剂量，然后，对基材膜及树脂层进行单轴拉伸，接下来，将树脂层用碘等二色性色素染色而使二色性色素吸附于树脂层并取向。接下来，根据需要将吸附有二色性色素并取向了的树脂层用硼酸水溶液处理，进行冲掉硼酸水溶液的清洗工序。由此可以制造吸附有二色性色素并取向了的树脂层，即偏振片的膜。各工序中可以采用公知的方法。
基材膜及树脂层的单轴拉伸可以在染色前进行，也可以在染色中进行，也可以在染色后的硼酸处理中进行，也可以在这些多个阶段中分别进行单轴拉伸。基材膜及树脂层可以沿MD方向(膜搬运方向)进行单轴拉伸，该情况下，可以在圆周速度不同的辊间以单轴方式拉伸，也可以使用热辊以单轴方式拉伸。另外，基材膜及树脂层可以沿TD方向(与膜搬运方向垂直的方向)进行单轴拉伸，该情况下，可以使用所谓的拉幅机法。另外，基材膜及树脂层的拉伸可以是在大气中进行拉伸的干式拉伸，也可以是在用溶剂使树脂层溶胀的状态下进行拉伸的湿式拉伸。为了体现偏振片的性能，拉伸倍率为4倍以上，优选为5倍以上，特别优选为5.5倍以上。拉伸倍率的上限没有特别限制，然而从抑制断裂等观点考虑，优选为8倍以下。
利用上述方法制作出的偏振片可以通过在层叠后述的保护层后剥离基材膜而得到。根据该方法，能够实现偏振片的进一步的薄膜化。
对于作为在聚合性液晶化合物中使二色性色素取向、并使聚合性液晶化合物聚合而得的固化膜的偏振片的制造方法，可以举出如下的方法，即，在基材膜上涂布包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏振片形成用组合物，将聚合性液晶化合物保持液晶状态不变地聚合而使之固化，形成偏振片。如此所述地得到的偏振片处于层叠于基材膜的状态，可以使用带有基材膜的偏振片作为光学膜。或者，也可以在夹隔着第一粘接剂固化层将带有基材膜的偏振片与液晶层层叠体层叠后，剥离基材膜，使用偏振片作为光学膜。
作为二色性色素，可以使用具有分子的长轴方向上的吸光度与短轴方向上的吸光度不同的性质的色素，例如优选在300～700nm的范围具有吸收极大波长(λmax)的色素。作为这种二色性色素，例如可以举出吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等，其中优选偶氮色素。作为偶氮色素，可以举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、二苯乙烯偶氮色素等，更优选双偶氮色素、三偶氮色素。
偏振片形成用组合物可以包含溶剂、光聚合引发剂等聚合引发剂、光敏剂、阻聚剂等。对于偏振片形成用组合物中所含的聚合性液晶化合物、二色性色素、溶剂、聚合引发剂、光敏剂、阻聚剂等，可以使用公知的物质，例如可以使用日本特开2017－102479号公报、日本特开2017－83843 号公报中例示的物质。另外，聚合性液晶化合物可以使用与后述的作为为了获得第一液晶层及第二液晶层而使用的聚合性液晶化合物例示的化合物相同的化合物。对于使用偏振片形成用组合物形成偏振片的方法，也可以采用上述公报中例示的方法。
偏振片的厚度优选为2μm以上，更优选为3μm以上。另外，所述偏振片的厚度为25μm以下，优选为15μm以下，更优选为13μm以下，进一步优选为7μm以下。需要说明的是，上述的上限值及下限值可以任意地组合。偏振片的厚度越薄，则刚性越小，越易于受到第一液晶层、第二液晶层的收缩应力的影响，因此在使用厚度小的偏振片作为光学膜的情况下，可以合适地使用上述实施方式的光学层叠体的制造方法及带有粘合层的光学层叠体的制造方法。
(偏振板)
偏振片可以在其一面或两面夹隔着公知的粘合层或粘接层层叠保护层而制成偏振板。该偏振板是所谓的直线偏振板。作为可以层叠于偏振片的一面或两面的保护层，例如可以使用透明性、机械强度、热稳定性、阻水性、各向同性、拉伸性等优异的由热塑性树脂形成的膜。
作为这种热塑性树脂的具体例，可以举出三乙酰纤维素等纤维素树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂；聚醚砜树脂；聚砜树脂；聚碳酸酯树脂；尼龙或芳香族聚酰胺等聚酰胺树脂；聚酰亚胺树脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃树脂；具有环系及降冰片烯结构的环状聚烯烃树脂(也称作降冰片烯系树脂)；(甲基)丙烯酸类树脂；聚芳酯树脂；聚苯乙烯树脂；聚乙烯醇树脂、以及它们的混合物。在偏振片的两面层叠有保护层的情况下，两个保护层的树脂组成可以相同，也可以不同。上述实施方式的光学层叠体的制造方法和带有粘合层的光学层叠体的制造方法由于在从薄型化的观点考虑使用仅在偏振片的一面层叠保护层的偏振板作为光学膜的情况下也可以抑制反卷曲，因此优选。需要说明的是，本说明书中所谓“(甲基)丙烯酸类”，是指可以是丙烯酸类或甲基丙烯酸类的任意一种。(甲基)丙烯酸酯等的“(甲基)”也是同样的意思。
由热塑性树脂形成的膜为了提高与包含PVA系树脂及二色性物质的偏振片的密合性，可以实施表面处理(例如电晕处理等)，也可以形成底漆层(也称作底涂层)等薄层。
保护层优选温度40℃、湿度90％RH时的透湿度为1～1500g/m2· 24hr。若保护层的透湿度大于1500g/m2·24hr，则在高温高湿环境中，有易于产生偏振板的经时中的卷曲变化的情况。保护层的透湿度越低，越易于获得可以抑制偏振板的卷曲的经时变化的效果。保护层的温度40℃、湿度90％RH时的透湿度更优选为1000g/m2·24hr以下，进一步优选为100g/m2·24hr以下，更进一步优选为10g/m2·24hr以下。透湿度可以依照JIS Z 0208：1976进行测定。
需要说明的是，在偏振片的两面层叠保护层的情况下，优选将光学层叠体或带有粘合层的光学层叠体贴合于光学显示元件时的层叠于可视侧的外侧保护层的透湿度与层叠于第一粘合层侧的内侧保护层的透湿度彼此相同，或与内侧保护层相比外侧保护层的一方更小。由此，特别是在偏振板的保管中加入水分时，可以保持平坦的形状，或者可以通过使内侧保护层溶胀而设为将偏振板向正卷曲侧卷曲的状态，从而易于使光学层叠体或带有粘合层的光学层叠体为向正卷曲侧卷曲的状态。另外，外侧保护层的透湿度更优选为10g/m2·24hr以下。由此，即使是仅在偏振片的一面层叠有保护层的偏振板，也能够控制卷曲，在将光学层叠体或带有粘合层的光学层叠体贴合于光学显示元件后，也可以抑制经时中的尺寸变化(变形)。
此外，为了进一步减小第一液晶层、第二液晶层的收缩应力的影响，抑制在光学层叠体、带有粘合层的光学层叠体中产生的正卷曲，在作为光学膜使用的偏振板中，优选提高层叠于偏振片的保护层的刚性。此处所谓刚性，是作为在保护层中所用的膜的室温(23℃)下的拉伸弹性模量(以下有时简称为“23℃弹性模量”。)上乘以膜厚而得的值定义。例如，使用了以三乙酰纤维素为代表的纤维素系聚合物的保护层优选23℃弹性模量为3000～5000MPa的范围，使用了以聚甲基丙烯酸甲酯为代表的丙烯酸系聚合物的保护层优选23℃弹性模量为2000～4000MPa的范围，使用了像具有降冰片烯结构那样的环烯烃系聚合物的保护层优选23℃弹性模量为2000～4000MPa的范围。在外侧保护层中，从上述透湿度和刚性的观点考虑可以合适地使用丙烯酸系聚合物或聚烯烃系聚合物，特别优选使用环烯烃系聚合物。
保护层例如可以是对前述的热塑性树脂进行了拉伸的树脂，也可以是未经拉伸的树脂(以下有时称作“未拉伸树脂”。)。作为拉伸处理，可以举出单轴拉伸、双轴拉伸等。
拉伸处理中的拉伸方向可以是未拉伸树脂的长度方向，也可以是与长度方向正交的方向，还可以是与长度方向斜交的方向。在单轴拉伸的情况下，只要沿这些方向中的任意一个方向拉伸未拉伸树脂即可。双轴拉伸可以是沿这些方向中的两个拉伸方向同时地拉伸的同时双轴拉伸，也可以是在沿给定的方向拉伸后沿另一个方向拉伸的逐次双轴拉伸。
拉伸处理例如可以通过使用增大了下游侧的圆周速度的两对以上的夹持辊沿长度方向拉伸、或者用夹钳握持未拉伸树脂的两侧端而沿与长度方向正交的方向拉伸等来进行。此时，通过调整拉伸后的热塑性树脂的厚度、或调整拉伸倍率，可以控制所期望的相位差值及波长分散。
经过拉伸的热塑性树脂优选满足下式。
(1)80nm≤Re(590)≤180nm；
(2)0.5＜Rth(590)/Re(590)≤0.8；
(3)0.85≤Re(450)/Re(550)＜1.00。
式中，Re(590)、Re(450)、Re(550)分别表示测定波长590nm、 450nm、550nm处的面内相位差值，Rth(590)表示测定波长590nm处的厚度方向相位差值。这些面内相位差值及厚度方向相位差值是指在温度23℃、相对湿度55％的环境下测定的值。
在将面内慢轴方向的折射率设为nx、将面内快轴方向(与面内慢轴方向正交的方向)的折射率设为ny、将厚度方向的折射率设为nz、将经过拉伸的热塑性树脂的厚度设为d时，以下述式(S1)、式(S2)来定义面内相位差值Re、厚度方向相位差值Rth。
(S1)Re＝(nx－ny)×d；
(S2)Rth＝[{(nx+ny)/2}－nz]×d。
上述的外侧保护层优选为满足上述式(1)～(3)的经过拉伸的热塑性树脂。另外，上述的外侧保护层优选以沿与偏振片的吸收轴斜交的方向具有慢轴的方式贴合于偏振片，例如优选以使外侧保护层的慢轴的角度相对于偏振片的吸收轴为45±10°或135±10°的方式将外侧保护层与偏振片贴合。通过使慢轴的角度为上述范围，则在快轴方向上的光的相位与慢轴方向上的光的相位之间产生差别，因此若将本实施方式的光学层叠体应用于光学显示元件，则可以使穿过光学层叠体射出的光为圆偏振光。因而，将本实施方式的光学层叠体应用于光学显示元件的显示装置即使在隔着偏振太阳镜观看显示图像等时也可以成为可视性优异的显示图像。
保护层的厚度优选为3μm以上，更优选为5μm以上。另外，保护层的厚度优选为50μm以下，更优选为30μm以下。需要说明的是，上述的上限值及下限值可以任意地组合。由于偏振板的厚度越薄，则刚性越小，越易于受到第一液晶层、第二液晶层的收缩应力的影响，因此在使用厚度小的偏振板作为光学膜的情况下，可以合适地使用上述实施方式的光学层叠体的制造方法及带有粘合层的光学层叠体的制造方法。
保护层的与偏振片相反一侧的表面可以具有表面处理层，例如可以具有硬涂层、防反射层、防粘连层、防眩层、扩散层等。表面处理层可以是层叠于保护层上的另外的层，也可以是对保护层表面实施表面处理而形成的层。
硬涂层是以防止偏振板表面的损伤等为目的的层，例如可以通过向保护层的表面附加利用丙烯酸系、硅酮系等紫外线固化型树脂的硬度、滑动特性等优异的固化被膜的方式等来形成。防反射层是以防止偏振板表面处的外来光的反射为目的的层，可以通过形成依照以往方法的防反射膜等来实现。另外，防粘连层是以防止与邻接层的密合为目的的层。
防眩层是以防止因外来光在偏振板的表面反射而阻碍偏振板的透射光的辨识等为目的的层，例如可以通过基于喷砂方式、压花加工方式的粗面化方式或透明微粒的配合方式等方式对保护层的表面赋予微细凹凸结构而形成。作为为了对保护层的表面赋予微细凹凸结构而使用的透明微粒，例如可以举出平均粒径为0.5～50μm的二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化铟、氧化镉、氧化锑等能够具有导电性的无机系微粒、交联或未交联的聚合物等有机系微粒等微粒。透明微粒的含量相对于制作形成微细凹凸结构的层的树脂100质量份一般为2～50质量份，优选为5～25质量份。防眩层也可以兼作用于扩散偏振板的透射光而扩大视角等的扩散层(视角扩大功能等)。
在表面处理层为层叠于偏振板的保护层上的另外的层的情况下，表面处理层的厚度优选为0.5μm以上，更优选为1μm以上。另外，优选为10μm 以下，更优选为8μm以下。若厚度小于0.5μm，则有难以有效地防止偏振板表面的损伤的趋势。另外，若厚度大于10μm，则有因固化收缩变大等而难以抑制偏振板的反卷曲的情况。
上述实施方式的光学层叠体和带有粘合层的光学层叠体的制造方法适于偏振板的厚度为2μm以上且300μm以下的情况。偏振板的厚度也可以为10μm以上，另外，也可以为150μm以下，也可以为120μm以下，也可以为80μm以下。
偏振板的利用后述的实施例中记载的方法测定的从带有防护膜的偏振板剥离防护膜而得的偏振板的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值优选各自独立地处于－40mm以上且40mm以下的范围，更优选处于－30mm以上且35mm以下的范围，进一步优选处于－20mm以上且30mm以下的范围。若上述实测MD卷曲值及实测TD卷曲值为上述的范围外，则偏振板有易于变为筒状的趋势，有难以获得卷曲形状的趋势。另外，若后述的带有防护膜的偏振板的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值与偏振板的实测 MD卷曲值及实测TD卷曲值偏离，则在防护膜与偏振板之间产生翘起、或出现在防护膜与偏振板之间产生间隙的隧道现象(tunneling)，因此不优选。
(带有防护膜的偏振板)
偏振板通常在其一面层叠防护膜，由此可以制成带有防护膜的偏振板。防护膜包含防护膜用树脂膜和层叠于其上的防护膜用粘合层。防护膜的厚度例如可以为30～200μm，优选为40～150μm，更优选为50～120μm。
作为构成防护膜用树脂膜的树脂，例如可以举出聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂之类的聚烯烃系树脂；环状聚烯烃系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯之类的聚酯系树脂；聚碳酸酯系树脂；(甲基) 丙烯酸系树脂等。其中，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂。防护膜用树脂膜可以为1层结构，也可以具有2层以上的多层结构。
作为构成防护膜用粘合层的粘合剂，可以使用与构成后述的粘合层的粘合剂相同的粘合剂。另外，防护膜可以通过在防护膜用树脂膜面上涂布粘合剂组合物并进行干燥等来形成粘合层而得到。根据需要，对于防护膜用树脂膜的粘合剂涂布面，为了提高密合性，可以实施表面处理(例如电晕处理等)，也可以形成底漆层(也称作底涂层)等薄层。另外，根据需要，可以具有用于通过包覆来保护防护膜用粘合层的与防护膜用树脂膜侧相反一侧的表面的剥离层。该剥离层可以在与偏振板贴合时的合适的时机剥离。
在向偏振板贴合防护膜的带有防护膜的偏振板的制作工序中，也可以通过赋予张力差、圆周速度差，而沿带有防护膜的偏振板的长度方向赋予正卷曲。因此，在上述实施方式的粘合层的光学层叠体的制造方法和带有粘合层的光学层叠体的制造方法中，在使用带有防护膜的偏振板作为光学膜的情况下，通过在带有防护膜的偏振板的制作工序中对带有防护膜的偏振板赋予正卷曲，可以期待更加易于抑制光学层叠体、带有粘合层的光学层叠体的反卷曲。
带有防护膜的偏振板优选利用后述的实施例中记载的方法测定的带有防护膜的偏振板的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值各自独立地处于－ 40mm以上且40mm以下的范围，更优选处于－30mm以上且35mm以下的范围，进一步优选处于－20mm以上且30mm以下的范围。若上述实测 MD卷曲值及实测TD卷曲值为上述的范围外，则带有防护膜的偏振板有易于变为筒状的趋势，有难以获得卷曲形状的趋势。另外，在将带有防护膜的偏振板加工为给定的尺寸并贴合于光学显示元件时，难以利用贴合装置的抽吸机构等恰当地保持，在贴合时有混入气泡或产生褶皱等趋势，因此不优选。
由于带有防护膜的偏振板的厚度越薄，则刚性越小，越易于受到第一液晶层、第二液晶层的收缩应力的影响，因此在使用厚度小的偏振板作为光学膜的情况下，可以合适地使用上述实施方式的光学层叠体的制造方法及带有粘合层的光学层叠体的制造方法。在上述实施方式中的光学膜60 为带有防护膜的偏振板的情况下，上述实施方式的光学层叠体的制造方法及带有粘合层的光学层叠体的制造方法适于带有防护膜的偏振板的厚度为32μm以上且500μm以下的情况。带有防护膜的偏振板的厚度也可以为40μm以上，另外，也可以为350μm以下，也可以为200μm以下，也可以为150μm以下。
(粘合层)
第一粘合层和第二粘合层(以下有时它们统称为“粘合层”)是指由粘合剂构成的层。本说明书中所谓“粘合剂”，是柔软的橡胶状、且通过将其自身贴于光学膜、液晶层等被粘物而体现出粘接性的物质，是被称作所谓的压敏型粘接剂的物质。另外，后述的活性能量射线固化型粘合剂可以通过照射能量射线来调整交联度、粘接力。
作为粘合剂，可以没有特别限制地使用以往公知的光学透明性优异的粘合剂，例如可以使用具有丙烯酸系、氨基甲酸酯系、硅酮系、聚乙烯基醚系等基础聚合物的粘合剂。另外，也可以是活性能量射线固化型粘合剂、热固型粘合剂等。它们当中，适合为以透明性、粘合力、再剥离性(以下也称作再加工性。)、耐候性、耐热性等优异的烯酸系树脂作为基础聚合物的粘合剂。粘合层优选由包含(甲基)丙烯酸系树脂(1)、交联剂(2)、硅烷化合物(3)的粘合剂组合物的反应产物构成，也可以包含其他成分 (4)。
((甲基)丙烯酸系树脂(1))
粘合剂组合物中所含的(甲基)丙烯酸系树脂(1)优选为以来自于以下述式(I)表示的(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元(以下也称作“结构单元(I)”。)作为主成分(例如包含50质量％以上的该结构单元。)的聚合物(以下也称作“(甲基)丙烯酸酯聚合物”。)。本说明书中所谓“来自于”，是指(甲基)丙烯酸烷基酯等化合物由于聚合而使化学结构发生变化。
[化1]
Figure BDA0001994080360000241
[式中，R10表示氢原子或甲基，R20表示碳原子数1～20的烷基，所述烷基可以具有直链状、支链状或环状的任意一种结构，所述烷基的氢原子可以用碳原子数1～10的烷氧基取代。]
作为以式(I)表示的(甲基)丙烯酸酯，例如可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸异己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸 2－乙基己酯、(甲基)丙烯酸正及异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基) 丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯等。作为含有烷氧基的丙烯酸烷基酯的具体例，可以举出(甲基)丙烯酸2－甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯等。其中优选包含(甲基)丙烯酸正丁酯或(甲基)丙烯酸2－乙基己酯，特别优选包含(甲基)丙烯酸正丁酯。
(甲基)丙烯酸酯聚合物可以包含来自于结构单元(I)以外的其他单体的构成单元。来自于其他单体的结构单元可以是1种，也可以是2 种以上。作为(甲基)丙烯酸酯聚合物能够包含的其他单体，可以举出具有极性官能团的单体、具有芳香族基团的单体、丙烯酰胺系单体。
作为具有极性官能团的单体，可以举出具有极性官能团的(甲基)丙烯酸酯。作为极性官能团，可以举出羟基、羧基、取代氨基、未取代氨基等。作为极性官能团，也可以举出环氧基等杂环基等。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中的来自于具有极性官能团的单体的结构单元的含量相对于(甲基)丙烯酸酯聚合物的全部结构单元100质量份优选为20质量份以下，更优选为0.1质量份以上且20质量份以下，进一步优选为0.1质量份以上且10质量份以下，特别优选为0.5质量份以上且10 质量份以下。
作为具有芳香族基团的单体，可以举出在分子内具有1个(甲基)丙烯酰基和1个以上的芳香环(例如苯环、萘环等)，具有苯基、苯氧基乙基、或苄基的(甲基)丙烯酸酯。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中的来自于具有芳香族基团的单体的结构单元的含量相对于(甲基)丙烯酸酯聚合物的全部结构单元100质量份优选为50质量份以下，更优选为4质量份以上且50质量份以下，进一步优选为4质量份以上且25质量份以下。
作为丙烯酰胺系单体，可以举出N－(甲氧基甲基)丙烯酰胺、N－ (乙氧基甲基)丙烯酰胺、N－(丙氧基甲基)丙烯酰胺、N－(丁氧基甲基)丙烯酰胺、N－(2－甲基丙氧基甲基)丙烯酰胺等。通过包含这些结构单元，可以抑制后述的防静电干扰剂等添加剂的渗出。
此外，作为结构单元(I)以外的来自于其他单体的结构单元，可以包含来自于苯乙烯系单体的结构单元、来自于乙烯基系单体的结构单元、来自于在分子内具有多个(甲基)丙烯酰基的单体的结构单元等。
(甲基)丙烯酸系树脂(1)的重均分子量(以下也简称为“Mw”。) 优选为50万～250万。若重均分子量为50万以上，则可以提高高温、高湿的环境下的粘合层的耐久性。若重均分子量为250万以下，则涂布含有粘合剂组合物的涂布液时的操作性变得良好。以重均分子量(Mw)与数均分子量(以下也简称为“Mn”。)的比表示的分子量分布(Mw/Mn)通常为2～10。本说明书中所谓“重均分子量”及“数均分子量”，是利用凝胶渗透色谱(GPC)法测定的聚苯乙烯换算值。
在使(甲基)丙烯酸系树脂(1)溶解于乙酸乙酯中而制成浓度20 质量％的溶液时，25℃时的粘度优选为20Pa·s以下，更优选为0.1～15Pa·s。若(甲基)丙烯酸类树脂(1)的25℃时的粘度为上述范围内，则有助于再加工性等。上述粘度可以利用布氏粘度计测定。
从兼顾粘合性以及耐久性的观点考虑，(甲基)丙烯酸系树脂(1)的玻璃化转变温度优选为－10℃～－60℃。需要说明的是，玻璃化转变温度可以利用差示扫描量热计(DSC)测定。
(甲基)丙烯酸系树脂(1)可以包含2种以上的(甲基)丙烯酸酯聚合物。作为这种(甲基)丙烯酸酯聚合物，例如可以举出以来自于所述 (甲基)丙烯酸酯的结构单元(I)作为主成分、且重均分子量处于5万～ 30万的范围的分子量较低的(甲基)丙烯酸酯聚合物。
(交联剂(2))
形成粘合层的粘合剂组合物优选包含交联剂(2)。作为交联剂(2)，可以举出惯用的交联剂(例如异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物、金属螯合物化合物、过氧化物等)，特别是从粘合剂组合物的可使用时间、交联速度等观点考虑，优选为异氰酸酯系化合物。
作为异氰酸酯系化合物，优选在分子内具有至少2个异氰酸酯基(－ NCO)的化合物，例如可以举出脂肪族异氰酸酯系化合物(例如六亚甲基二异氰酸酯等)、脂环族异氰酸酯系化合物(例如异佛尔酮二异氰酸酯)、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯、芳香族异氰酸酯系化合物(例如甲苯二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、三苯基甲烷三异氰酸酯等)等。另外，交联剂(2)也可以是上述异氰酸酯化合物的利用多元醇化合物的加成物(加合物)[例如利用丙三醇、三羟甲基丙烷等的加成物]、异氰脲酸酯化物、缩二脲型化合物、与聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇等加成反应而得的氨基甲酸酯预聚物型的异氰酸酯化合物等衍生物。交联剂(2)可以单独地使用或组合使用2种以上。它们当中，从耐久性的观点考虑，优选甲苯二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯及它们的多元醇化合物或它们的异氰脲酸酯化合物。
交联剂(2)的比例相对于(甲基)丙烯酸系树脂(1)100质量份例如可以为0.01～10质量份，优选为0.1～3质量份，更优选为0.1～1质量份。若为上述的上限值以下，则有利于耐久性的提高，若为上述的下限值以上，则抑制气体的产生，有利于再加工性的提高。
(硅烷化合物(3))
粘合剂组合物含有硅烷化合物(3)。通过含有硅烷化合物(3)，可以提高粘合层与被层叠的层的密合性。也可以使用2种以上的硅烷化合物 (3)。
作为硅烷化合物(3)，例如可以举出乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2－甲氧基乙氧基)硅烷、3－环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3－环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3－环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3－环氧丙氧基丙基乙氧基二甲基硅烷、2－(3，4－环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3－氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3－氯丙基三甲氧基硅烷、3－甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3－巯基丙基三甲氧基硅烷等。
另外，硅烷化合物(3)可以包含来自于上述硅烷化合物(3)的低聚物。
粘合剂组合物中的硅烷化合物(3)的含量相对于(甲基)丙烯酸系树脂(1)100质量份通常为0.01～10质量份，优选为0.03～5质量份，更优选为0.05～2质量份，进一步优选为0.1～1质量份。若硅烷化合物(3) 的含量为0.01质量份以上，则易于提高粘合层与光学膜、液晶层等被粘物的密合性。若含量为10质量份以下，则可以抑制硅烷化合物(3)从粘合层中的渗出。
(其他成分(4))
形成粘合层的粘合剂组合物中，作为其他成分(4)，可以包含使用了离子性化合物等的防静电干扰剂、溶剂、交联催化剂、增粘树脂(增粘剂)、增塑剂、耐候稳定剂、软化剂、染料、颜料、无机填料、丙烯酸类树脂以外的树脂等添加剂的单独1种或2种以上。
(活性能量射线固化型粘合剂)
在粘合剂组合物中配合多官能性丙烯酸酯等紫外线固化性化合物，在形成粘合层后照射紫外线而使之固化，制成更硬的粘合层，这也是有用的做法，可以使用活性能量射线固化型粘合剂。“活性能量射线固化型粘合剂”具有因受到紫外线、电子束等能量射线的照射而固化的性质。活性能量射线固化型粘合剂是具有如下性质的粘合剂，即，由于在能量射线照射前也具有粘合性，因此可以与光学膜、液晶层等被粘物密合，并可以通过照射能量射线固化从而调整密合力。
活性能量射线固化型粘合剂一般包含丙烯酸系粘合剂、和能量射线聚合性化合物作为主成分。通常还配合有交联剂，另外根据需要还可以配合光聚合引发剂、光敏剂等。
粘合层优选其储能模量在23℃时为0.10～10.0MPa，更优选为0.15～ 5.0MPa。若23℃时的储能模量为0.10MPa以上，则在产生温度变化时可以抑制剥离等不佳状况，因此优选。另外，若为10.0MPa以下，则难以发生由粘合力的降低造成的耐久性的降低，因此优选。需要说明的是，粘合层的储能模量可以利用市售的粘弹性测定装置、例如REOMETRIC公司制的粘弹性测定装置“DYNAMIC ANALYZER RDA II”来测定。
粘合层的厚度优选为3μm以上，更优选为5μm以上。另外，粘合层的厚度优选为40μm以下，更优选为30μm以下。需要说明的是，上述的上限值及下限值可以任意地组合。
(粘接剂固化层)
第一粘接剂固化层及第二粘接剂固化层(以下有时将它们统称为“粘接剂固化层”。)是指通过使粘接剂组合物中的固化性成分固化而形成的层。作为用于形成粘接剂固化层的粘接剂组合物，是压敏型粘接剂(粘合剂)以外的粘接剂，例如可以举出水系粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂。作为水系粘接剂，例如可以举出将聚乙烯醇系树脂溶解、或分散于水中的粘接剂。作为活性能量射线固化性粘接剂，例如可以举出包含通过紫外线、可见光、电子束、X射线之类的活性能量射线的照射而固化的固化性化合物的无溶剂型的活性能量射线固化性粘接剂。通过使用无溶剂型的活性能量射线固化性粘接剂，可以提高层间的密合性。与之不同，若在活性能量射线固化性粘接剂中包含溶剂(特别是有机溶剂)，则即使粘接剂中所含的固化性成分相同，也无法获得足够的密合性，在将光学层叠体裁割为给定的尺寸时，易于发生在其端部剥离等不佳状况。另外，由于追加将溶剂干燥的工序，因此受到由热造成的追加的收缩应力，有可能易于在光学层叠体、带有粘合层的光学层叠体中产生反卷曲。
在使用了包含通过活性能量射线的照射而固化的固化性化合物的无溶剂型的活性能量射线固化性粘接剂的情况下，在作为表示固化后的活性能量射线固化性粘接剂的硬度的指标的储能模量上乘以厚度而得的刚性经常高于固化后的水系粘接剂的刚性。若设于第一液晶层与第二液晶层之间的粘接剂固化层的刚性高，则可以防止由基材剥离时的收缩应力造成的卷曲加剧，因此优选使用无溶剂型的活性能量射线固化性粘接剂。
作为活性能量射线固化性粘接剂，由于显示出良好的粘接性，因此优选包含阳离子聚合性的固化性化合物、自由基聚合性的固化性化合物的任意一方或双方。活性能量射线固化性粘接剂可以还包含用于引发上述固化性化合物的固化反应的阳离子聚合引发剂、或自由基聚合引发剂。
作为阳离子聚合性的固化性化合物，例如可以举出环氧系化合物(在分子内具有1个或2个以上的环氧基的化合物)、氧杂环丁烷系化合物(在分子内具有1个或2个以上的氧杂环丁烷环的化合物)、或它们的组合。
作为自由基聚合性的固化性化合物，例如可以举出(甲基)丙烯酸系化合物(在分子内具有1个或2个以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物)、具有自由基聚合性的双键的其他乙烯基系化合物、或它们的组合。
活性能量射线固化型粘接剂根据需要可以含有敏化剂。通过使用敏化剂，反应性提高，可以进一步提高粘接层的机械强度、粘接强度。作为敏化剂，可以适当地使用公知的敏化剂。在配合敏化剂的情况下，其配合量相对于活性能量射线固化型粘接剂的总量100质量份优选设为0.1～20质量份的范围。
活性能量射线固化性粘接剂根据需要可以含有离子捕获剂、抗氧剂、链转移剂、增粘剂、热塑性树脂、填充剂、流动调整剂、增塑剂、消泡剂、防静电干扰剂、流平剂、溶剂等添加剂。
可以通过将粘接剂组合物涂布于带有基材层的第一液晶层、带有基材层的第二液晶层的接合面而形成粘接剂组合物层。作为涂布方法，采用使用了模缝涂布机、逗点型刮刀涂布机、逆转辊涂布机、槽辊涂布机、棒式涂布机、绕线棒涂布机、刮板涂布机、气刀涂布机等的通常的涂布技术即可。
对于使用了水系粘接剂时的干燥方法没有特别限定，例如可以采用使用热风干燥机、红外线干燥机进行干燥的方法。
在使用了活性能量射线固化性粘接剂的情况下，可以照射紫外线、可见光、电子束、X射线之类的活性能量射线，使粘接剂组合物层固化而形成粘接剂固化层。作为活性能量射线，优选紫外线，作为此时的光源，可以使用低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、黑光灯、微波激发水银灯、金属卤化物灯等。
在利用紫外线照射使粘接剂组合物层固化的情况下，紫外线的光照射强度要按照粘接剂组合物的组成来确定，没有特别限定，然而优选为10～ 1000mW/cm2，更优选为100～600mW/cm2。
若对树脂组合物的光照射强度小于10mW/cm2，则反应时间过长，若大于1000mW/cm2，则因从光源辐射的热及粘接剂组合物的聚合时的发热，有可能在所得的粘接剂固化层中产生黄变。另外，还有可能因从光源辐射的热而产生更大的收缩应力。照射强度是对于聚合引发剂、优选对于光阳离子聚合引发剂的活化有效的波长区域中的强度，更优选为波长400nm以下的波长区域中的强度，进一步优选为波长280～320nm的波长区域中的强度。优选以这种光照射强度照射1次或多次，以使其累积光量为10mJ/cm2以上、优选为100～1000mJ/cm2、更优选为200～600mJ/cm2的方式设定。若对粘接剂组合物层的累积光量小于10mJ/cm2，则来自于聚合引发剂的活性种的产生不够充分，粘接剂组合物层的固化不够充分。若累积光量大于1000mJ/cm2，则照射时间变得非常长，不利于提高生产率。另外，也有可能因从光源辐射的热而产生更大的收缩应力。根据第一基材层、第二基材层、第一液晶层、第二液晶层等的种类、粘接剂组合物中的成分的组合等，光照射时的波长(UVA(320～390nm)、UVB(280～ 320nm)等)不同，必需的累积光量也根据光照射时的波长而发生变化。
作为活性能量射线固化型粘接剂的粘度，只要以可以利用任意的涂布方法涂布的方式选择即可，然而温度25℃时的粘度优选处于10～ 1000mPa·sec的范围，更优选处于20～500mPa·sec的范围。若粘度太小，则有难以形成所期望的厚度的粘接剂固化层的趋势。另一方面，若粘度太大，则涂布时活性能量射线固化型粘接剂难以流动，有难以获得没有不均的均匀涂膜的趋势。此处所说的粘度是在将该粘接剂调温为25℃后使用E型粘度计以10rps测定的值。
对于粘接剂固化层的温度30℃时的储能模量，从作为光学膜的偏振板的耐久性、抑制反卷曲的观点考虑，优选为100MPa以上，更优选为 1000MPa以上，进一步优选为1500MPa以上，特别优选为2000MPa以上。另一方面，若粘接剂固化层的储能模量太大，则粘接剂固化层过硬，在进行用于使光学层叠体、带有粘合层的光学层叠体为给定的大小的冲裁加工等时的加工性会降低。因此，粘接剂固化层的温度30℃时的储能模量优选为10000MPa以下，更优选为8000MPa以下，进一步优选为5000MPa 以下。
粘接剂固化层的温度30℃时的储能模量可以利用以下的步骤算出。在厚度50μm的环状聚烯烃系树脂膜的一面，使用涂布机〔棒涂机、第一理化(株)制〕，涂布上述的活性能量射线固化性粘接剂，在该涂布面再层叠厚度50μm的环状聚烯烃系树脂膜。然后，利用FUSIONUV SYSTEMS公司制的“D灯管”，以使累积光量为1500mJ/cm2(UVB)的方式照射紫外线，使粘接剂组合物层固化。将其裁割为5mm×30mm的大小，剥离一方的环状聚烯烃系树脂膜，得到带有树脂膜的粘接剂固化层。将该带有树脂膜的粘接剂固化层以使其长边为牵拉方向的方式用IT计测控制(株)制的动态粘弹性测定装置“DVA－220”以2cm的夹具间隔握持，将牵拉与收缩的频率设定为10Hz、将升温速度设定为10℃/分钟而进行升温，求出温度30℃时的储能模量。
粘接剂固化层的厚度优选为10μm以下，更优选为5μm以下，进一步优选为2μm以下。另外，优选为0.1μm以上，更优选为0.5μm以上，进一步优选为1μm以上。通过使粘接剂固化层的厚度为下限值以上，刚性变高，可以提高光学层叠体、带有粘合层的光学层叠体的卷曲抑制效果。另一方面，通过将粘接剂固化层的厚度设为上限值以内，可以防止气泡的混入等涂布不良。
(带有剥离层的粘合层)
带有剥离层的第一粘合层及带有剥离层的第二粘合层(以下有时将它们统称为带有剥离层的粘合层)例如可以通过在剥离层的脱模处理面上涂布粘合剂组合物并干燥等而形成粘合层来获得。带有剥离层的粘合层根据需要也可以具有用于通过包覆来保护粘合层的与剥离层侧相反一侧的表面的其他剥离层。剥离层及其他剥离层可以在适当的时机剥离。
(剥离层)
第一剥离层及第二剥离层(以下有时将它们统称为剥离层)能够相对于粘合层剥离，且具有支撑形成于剥离层上的粘合层、保护粘合层的功能。剥离层可以使用公知的剥离膜、剥离纸，例如可以是对后述的作为基材层例示出的由树脂材料形成的膜实施了硅酮涂覆等脱模处理的层。对于其他剥离层，也可以使用与剥离层相同的材料。
剥离层能够相对于粘合层剥离，且剥离层与粘合层之间的剥离力的大小需要考虑将剥离层剥离的顺序来确定。对于上述剥离力，可以准备在剥离层上具有粘合层的测定用试验片(长度200mm、宽度25mm的大小)，贴合于适当大小的玻璃，使用岛津制作所制万能试验机(AGS－50NX)，将以形成剥离起点的方式局部剥离了的剥离层和玻璃分别夹紧，以300mm/分钟的速度沿180°的方向将剥离层剥离，将此时所测定出的剥离强度设为剥离力。剥离层与粘合层之间的剥离力优选为0.01～ 0.20N/25mm，更优选为0.02～0.10N/25mm，进一步优选为0.02～ 0.06N/25mm。若低于0.01N/25mm，则在搬运的途中有可能在剥离层与粘合层之间产生翘起。另外，若大于0.20N/25mm，则剥离层与粘合层的密合性高，剥离层变得难以从粘合层剥离，因此有可能变成将剥离层剥离时粘合层断裂，在剥离了的剥离层上附着有粘合层的一部分的状态，或产生意料之外的层之间的剥离(例如在粘合层的与剥离层相反一侧接合的层与粘合层之间的剥离)。
(液晶层)
第一液晶层及第二液晶层(以下有时将两者统称为“液晶层”。)是通过使聚合性液晶化合物聚合而形成的固化层，可以是相位差层。液晶层的光学特性可以利用聚合性液晶化合物的取向状态进行调整。
本说明书中，将聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面而言水平地取向的情况定义为水平取向，将聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面而言垂直地取向的情况定义为垂直取向。所谓光轴是指，在因聚合性液晶化合物的取向而形成的折射率椭圆体中，在与光轴正交的方向上切出的剖面为圆的方向，即2个方向的折射率相等的方向。
作为聚合性液晶化合物，可以举出棒状的聚合性液晶化合物、圆盘状的聚合性液晶化合物。在棒状的聚合性液晶化合物相对于基材层而言进行水平取向或垂直取向的情况下，该聚合性液晶化合物的光轴与该聚合性液晶化合物的长轴方向一致。在圆盘状的聚合性液晶化合物发生取向的情况下，该聚合性液晶化合物的光轴存在于与该聚合性液晶化合物的圆盘面正交的方向。
为了使通过将聚合性液晶化合物聚合而形成的液晶层体现出面内相位差，只要使聚合性液晶化合物沿适当的方向取向即可。在聚合性液晶化合物为棒状的情况下，通过使该聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面而言水平地取向来体现出面内相位差，该情况下，光轴方向与慢轴方向一致。在聚合性液晶化合物为圆盘状的情况下，通过使该聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面而言水平地取向来体现出面内相位差，该情况下，光轴与慢轴正交。聚合性液晶化合物的取向状态可以利用取向膜与聚合性液晶化合物的组合来调整。
聚合性液晶化合物是具有聚合性基团、并且具有液晶性的化合物。所谓聚合性基团，是指参与聚合反应的基团，优选为光聚合性基团。此处，所谓光聚合性基团，是指能够因从后述的光聚合引发剂中产生的活性自由基、酸等而参与聚合反应的基团。作为聚合性基团，可以举出乙烯基、乙烯氧基、1－氯乙烯基、异丙烯基、4－乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙基、氧杂环丁烷基等。其中，优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、环氧乙基及氧杂环丁烷基，更优选丙烯酰氧基。聚合性液晶化合物所具有的液晶性可以是热致液晶，也可以是溶致液晶，若将热致液晶以有序度分类，则可以是向列型液晶，也可以是近晶型液晶。
作为棒状的聚合性液晶化合物、圆盘状的聚合性液晶化合物，可以使用公知的化合物，例如可以使用日本特开2015－163937号公报、日本特开2016－42185号公报、国际公开第2016/158940号、日本特开2016－ 224128号公报中例示的化合物。
液晶层可以是1层结构，也可以是2层以上的多层结构。在具有2 层以上的多层结构的情况下，在准备后述的带有基材层的液晶层时，只要在基材层上形成2层以上的多层结构的液晶层即可。在液晶层为1层结构的情况下，液晶层的厚度优选为0.3μm以上，也可以为1μm以上，通常为10μm以下，优选为5μm以下。在液晶层为2层以上的多层结构的情况下，液晶层的厚度优选为0.5μm以上，也可以为1μm以上，通常为10μm 以下，优选为5μm以下。从有助于偏振板整体的薄型化、有效地抑制可能产生的反卷曲的观点考虑，液晶层的厚度优选为5μm以下。另外，在液晶层的厚度小于0.3μm的情况下，有反卷曲的程度轻微的趋势，因此使用上述实施方式的光学层叠体的制造方法及带有粘合层的光学层叠体的制造方法的必要性小。
(带有基材层的液晶层)
带有基材层的第一液晶层及带有基材层的第二液晶层(以下有时将两者统称为“带有基材层的液晶层”。)可以通过如下操作获得，即，在基材层上，涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物并干燥，形成作为通过使聚合性液晶化合物聚合而形成的固化层的液晶层。在基材层上形成有后述的取向层的情况下，将液晶层形成用组合物涂布于取向层上即可，在液晶层为2层以上的多层结构的情况下，通过依次涂布液晶层形成用组合物等而形成多层结构即可。
液晶层形成用组合物除了包含聚合性液晶化合物以外，通常还包含溶剂。液晶层形成用组合物可以还包含聚合引发剂、反应性添加剂、阻聚剂等。对于溶剂、聚合引发剂、反应性添加剂、阻聚剂等，可以使用日本特开2015－163937号公报、日本特开2016－42185号公报、国际公开第 2016/158940号、日本特开2016－224128号公报中例示的物质。
液晶层形成用组合物的涂布例如可以利用旋涂法、挤出法、凹版涂布法、模涂法、模缝涂布法、棒涂法、涂布器法等涂布法、柔版法等印刷法等公知的方法来进行。在进行液晶层形成用组合物的涂布后，优选在涂布层中所含的聚合性液晶化合物不会聚合的条件下除去溶剂。作为干燥方法，可以举出自然干燥法、通风干燥法、加热干燥、减压干燥法等。
涂布层的干燥后进行的聚合性液晶化合物的聚合可以利用使具有聚合性官能团的化合物聚合的公知的方法来进行。作为聚合方法，例如可以举出热聚合、光聚合等，从聚合的容易度的观点考虑优选为光聚合。在利用光聚合使聚合性液晶化合物聚合的情况下，优选使用含有光聚合引发剂的组合物作为液晶层形成用组合物，涂布该液晶层形成用组合物并干燥，使干燥后的干燥被膜中所含的聚合性液晶化合物进行液晶取向，维持液晶取向状态不变地进行光聚合。
光聚合可以通过对干燥被膜中的进行了液晶取向的聚合性液晶化合物照射活性能量射线来进行。作为所照射的活性能量射线，可以根据聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团的种类及其量、光聚合引发剂的种类等适当地选择，例如可以举出选自可见光、紫外线、激光、X射线、α射线、β射线及γ射线中的1种以上的活性能量射线。其中，从易于控制聚合反应的进行、作为光聚合装置可以使用该领域中广泛地使用的装置的方面考虑，优选紫外线，优选以能够利用紫外线进行光聚合的方式，选择聚合性液晶化合物、光聚合引发剂的种类。在光聚合时，也可以通过在利用适当的冷却机构将干燥被膜冷却的同时照射活性能量射线，来控制聚合温度。
(基材层)
第一基材层及第二基材层(以下有时将两者统称为“基材层”。)具有作为支撑形成于这些基材层上的后述的第一取向层及第二取向层、以及第一液晶层及第二液晶层的支撑层的功能。基材层优选为由树脂材料形成的膜。
作为树脂材料，例如可以使用透明性、机械强度、热稳定性、拉伸性等优异的树脂材料。具体而言，可以举出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系树脂；降冰片烯系聚合物等环状聚烯烃系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等 (甲基)丙烯酸系树脂；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素、纤维素乙酸酯丙酸酯等纤维素酯系树脂；聚乙烯醇、聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系树脂；聚碳酸酯系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚芳酯系树脂；聚砜系树脂；聚醚砜系树脂；聚酰胺系树脂；聚酰亚胺系树脂；聚醚酮系树脂；聚苯硫醚系树脂；聚苯醚系树脂；以及它们的混合物、共聚物等。这些树脂当中，优选使用环状聚烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素酯系树脂及(甲基)丙烯酸系树脂的任意一种或它们的混合物。
基材层可以是1种树脂或混合2种以上树脂的单层，也可以具有2 层以上的多层结构。在具有多层结构的情况下，制作各层的树脂彼此可以相同也可以不同，也可以是硬涂层之类的涂布/固化物层。
在制作由树脂材料形成的膜的树脂材料中，可以添加任选的添加剂。作为添加剂，例如可以举出紫外线吸收剂、抗氧剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、防静电干扰剂、颜料、以及着色剂等。
第一基材层及第二基材层的厚度没有特别限定，然而一般从强度、处置性等操作性的方面考虑，优选为1～300μm，更优选为10～200μm，进一步优选为30～120μm。
在带有基材层的第一液晶层具有后述的第一取向层的情况下，或带有基材层的第二液晶层具有后述的第二取向层的情况下，为了提高第一基材层与第一取向层的密合性、以及第二基材层与第二取向层的密合性，可以至少对第一基材层的形成第一取向层的一侧的表面、以及至少对第二基材层的形成第二取向层的一侧的表面，进行电晕处理、等离子体处理、火焰处理等，也可以形成底漆层等。
基材层能够相对于液晶层或后述的取向层(第一取向层或第二取向层)剥离，基材层与液晶层或取向层之间的剥离力的大小需要考虑剥离基材层的顺序来确定。剥离力除了使用在基材层上具有液晶层的测定用试验片、或使用在基材层上具有取向层及液晶层的测定用试验片以外，可以与测定剥离层与粘合层之间的剥离力的方法相同地测定。基材层与液晶层或取向层之间的剥离力优选为0.01～0.50N/25mm，更优选为0.03～ 0.20N/25mm，进一步优选为0.05～0.18N/25mm。若剥离力低于上述的下限值，则有可能在搬运的途中在基材层与液晶层或取向层之间产生翘起。另外，若剥离力大于上述的上限值，则由于密合性过高，因此有可能无法将液晶层、或液晶层及取向层向另一方的液晶层、光学膜等转印，在制造光学层叠体、带有粘合层的光学层叠体的工序中有可能在搬运各构件的途中剥离界面发生改变等。
第一基材层与第一液晶层或后述的第一取向层之间的剥离力(以下有时称作“第一剥离力”。)、与第二基材层与第二液晶层或后述的第二取向层之间的剥离力(以下有时称作“第二剥离力”。)的差优选为0.01N/25mm 以上，更优选为0.03N/25mm以上。在从带有基材层的液晶层层叠体先剥离第一基材层的情况下，优选第二剥离力大于第一剥离力，在从带有基材层的液晶层层叠体先剥离第二基材层的情况下，优选第一剥离力大于第二剥离力。另外，在从带有基材层的液晶层层叠体先剥离第一基材层的情况下，从长尺寸加工的观点考虑，优选存在第二剥离层与第二粘合层之间的剥离力＜第一剥离力＜第二剥离力的关系。
(取向层)
带有基材层的第一液晶层可以在第一基材层与第一液晶层之间包含第一取向层。另外，带有基材层的第二液晶层可以在第二基材层与第二液晶层之间包含第二取向层。
第一取向层及第二取向层具有使形成于这些取向层上的第一液晶层及第二液晶层中所含的液晶化合物沿所期望的方向进行液晶取向的取向限制力。作为第一取向层及第二取向层，可以举出由取向性聚合物形成的取向性聚合物层、由光取向聚合物形成的光取向性聚合物层、在层表面具有凹凸图案或多个沟槽(groove)的沟槽取向层，第一取向层与第二取向层可以是相同种类的层，也可以是不同种类的层。第一取向层及第二取向层的厚度通常为10～4000nm，优选为50～3000nm。
取向性聚合物层可以如下形成，即，将取向性聚合物溶解于溶剂中，将所得的组合物涂布于基材层(第一基材层或第二基材层)后除去溶剂，根据需要进行摩擦处理。该情况下，在由取向性聚合物形成的取向性聚合物层中，可以利用取向性聚合物的表面状态、摩擦条件来任意地调整取向限制力。
光取向性聚合物层可以通过将包含具有光反应性基团的聚合物或单体和溶剂的组合物涂布于基材层(第一基材层或第二基材层)、并照射紫外线等光而形成。特别是在沿水平方向体现取向限制力等情况下，可以通过照射偏振光来形成。该情况下，在光取向性聚合物层中，可以利用对光取向性聚合物的偏振光照射条件等来任意地调整取向限制力。
沟槽取向层例如可以利用如下的方法等来形成，即，在感光性聚酰亚胺膜表面夹隔着具有图案形状的狭缝的曝光用掩模进行曝光、显影等而形成凹凸图案的方法；在表面具有槽的板状的原盘上，形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，将该层转印到基材层(第一基材层或第二基材层) 并固化的方法；在基材层(第一基材层或第二基材层)形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，通过将具有凹凸的辊状的原盘向该层压接等而形成凹凸并使之固化。
在带有基材层的第一液晶层包含第一取向层的情况下，在剥离第一基材层时，可以与第一基材层一起剥离第一取向层，也可以在第一液晶层上残留第一取向层。在带有基材层的第二液晶层包含第二取向层的情况下，在剥离第二基材层时，可以与第二基材层一起剥离第二取向层，也可以在第二液晶层上残留第二取向层。需要说明的是，对于是将第一取向层与第一基材层一起剥离，还是残留于第一液晶层，可以通过调整各层间的密合力的关系来设定，例如，可以利用对第一基材层进行的上述的电晕处理、等离子体处理、火焰处理、底漆层等表面处理、或为了形成第一液晶层而使用的液晶层形成用组合物的成分等来调整。同样地，利用对第二基材层进行的表面处理，可以将第二取向层与第二基材层一起剥离，也可以使之残留于第二液晶层。
在第一液晶层上残留有第一取向层的情况下，可以将第一粘接剂固化层设于第一取向层上。另外，在第二液晶层上残留有第二取向层的情况下，可以将第二粘合层设于第二取向层上。
(圆偏振板)
本实施方式的光学层叠体可以作为圆偏振板使用。在使用图4(b) 所示的光学层叠体70作为圆偏振板的情况下，可以将光学膜60设为偏振片、偏振板、或带有防护膜的偏振板，将第一液晶层12设为1/2波长相位差层，将第二液晶层22设为1/4波长相位差层。或者，与上述相同地在将光学膜60设为偏振片、偏振板、或带有防护膜的偏振板的基础上，将第一液晶层12设为逆波长分散性的1/4波长相位差层，将第二液晶层 22设为正C板，由此也可以得到圆偏振板。
[实施例]
以下，给出实施例及比较例而对本发明进一步具体说明，然而本发明并不受这些例子限定。实施例、比较例中的“％”及“份”只要没有特别指出，就是质量％及质量份。
〔卷曲的测定(1)〕
从各实施例、各比较例中得到的带有粘合层的光学层叠体中，切出一边的长度为100mm的菱形形状，并使其对角线与MD方向及TD方向分别平行，将所得的切出片在温度23℃、相对湿度55％的环境下放置24 小时后，剥离第一隔膜而制成试验片。将该试验片充分地消除静电后，使试验片的凹面朝上地放置于基准面(水平的台)上，对试验片的4个角分别测定出相对于基准面的高度。对于测定值，若以使防护膜侧为上侧的方式将试验片放置于基准面，则在试验片的角翘起的情况下，将该卷曲设为正卷曲，将角相对于基准面的高度用正的数值表示。另一方面，若以使防护膜侧为下侧的方式将试验片放置于基准面，则在试验片的角翘起的情况下，将该卷曲设为反卷曲，将角相对于基准面的高度用负的数值表示。
对于测定来自带有粘合层的光学层叠体的试验片而得的测定值，对处于平行于MD方向的对角线上的2个角的相对于基准面的高度的测定值加以平均，将所得的值作为实测MD卷曲值算出，对处于平行于TD方向的对角线上的2个角的相对于基准面的高度的测定值加以平均，将所得的值作为实测TD卷曲值算出。
另外，对于各实施例、各比较例中所用的带有防护膜的偏振板，也利用与上述相同的步骤切出，对所得的试验片的4个角分别测定相对于基准面的高度，利用与上述相同的步骤对测定值加以平均，对带有防护膜的偏振板算出实测MD卷曲值及实测TD卷曲值。
从所得的带有防护膜的偏振板的实测MD卷曲值中，减去带有粘合层的光学层叠体的实测MD卷曲值，将所得的值作为有防护膜时的带有粘合层的光学层叠体的MD卷曲值。同样地，从所得的带有防护膜的偏振板的实测TD卷曲值中，减去带有粘合层的光学层叠体的实测TD卷曲值，将所得的值作为有防护膜时的带有粘合层的光学层叠体的TD卷曲值。
〔卷曲的测定(2)〕
从各实施例、各比较例中得到的带有粘合层的光学层叠体中切出切出片，将从切出片中与第一隔膜一起剥离防护膜而得的材料作为试验片，除此以外，利用与上述卷曲的测定(1)相同的步骤，算出剥离了防护膜的光学层叠体的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值。需要说明的是，对于测定值，若以使偏振板侧为上侧的方式将试验片放置于基准面，则在试验片的角翘起的情况下，将该卷曲设为正卷曲，将角相对于基准面的高度用正的数值表示。另一方面，若以使偏振板侧为下侧的方式将试验片放置于基准面，则在试验片的角翘起的情况下，将该卷曲设为反卷曲，将角相对于基准面的高度用负的数值表示。
另外，从各实施例、各比较例中所用的带有防护膜的偏振板中切出切出片，对于从切出片中剥离了防护膜的偏振板，也对利用与上述相同的步骤切出的试验片的4个角分别测定相对于基准面的高度，利用与上述相同的步骤对测定值加以平均，算出剥离了防护膜的偏振板的实测MD卷曲值及实测TD卷曲值。
从剥离了防护膜的偏振板的实测MD卷曲值中，减去剥离了防护膜的光学层叠体的实测MD卷曲值，将所得的值作为无防护膜时的带有粘合层的光学层叠体的MD卷曲值。同样地，从剥离了防护膜的偏振板的实测TD卷曲值中，减去剥离了防护膜的光学层叠体的实测TD卷曲值，将所得的值作为无防护膜时的带有粘合层的光学层叠体的TD卷曲值。
上述卷曲的测定(1)及(2)中所得的MD卷曲值及TD卷曲值若其值为正或0，则表示反卷曲得到抑制，另外，在其值为负的情况下，其绝对值越大，则表示反卷曲越加剧。
〔双面带有隔膜的粘合层的准备〕
利用下面的方法制造出粘合剂。向具备搅拌机、温度计、回流冷却器、滴加装置及氮气导入管的反应容器中，加入丙烯酸正丁酯97.0份、丙烯酸1.0份、丙烯酸2－羟基乙酯0.5份、乙酸乙酯200份、以及2，2'－偶氮二异丁腈0.08份，将上述反应容器内的空气用氮气置换。一边在氮气气氛下搅拌，一边将反应溶液升温到60℃，反应6小时后，冷却到室温。测定出所得的溶液的一部分的重均分子量，其结果是，确认得到180万的 (甲基)丙烯酸酯聚合物。
将利用上述操作得到的(甲基)丙烯酸酯聚合物100份(固体成分换算值；以下相同)、作为异氰酸酯系交联剂的三羟甲基丙烷改性甲苯二异氰酸酯(Tosoh株式会社制、商品名“CORONATE L”)0.30份、和作为硅烷偶联剂的3－环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制、商品名“KBM403”)0.30份混合，充分地搅拌，用乙酸乙酯稀释，由此得到粘合剂组合物的涂布溶液。
向形成剥离层的第一隔膜(LINTEC株式会社制：SP－PLR382190) 的脱模处理面(剥离面)利用涂布器以使干燥后的厚度为25μm的方式涂布上述粘合剂组合物的涂布溶液后，在100℃干燥1分钟而形成粘合层，在粘合层的与贴合隔膜的面相反一面，贴合另一片第二隔膜(LINTEC公司制：SP－PLR381031)，得到双面带有隔膜的粘合层。
〔粘接剂组合物的准备〕
将下述所示的阳离子固化性成分a1～a3及阳离子聚合引发剂混合后，再混合下述所示的阳离子聚合引发剂及敏化剂，然后进行脱泡，制备出光固化型的粘接剂组合物。需要说明的是，下述配合量基于固体成分量。
·阳离子固化性成分a1(70份)：
3'，4'－环氧环己基甲基3'，4'－环氧环己基甲酸酯(商品名： CEL2021P、株式会社Daicel制)
·阳离子固化性成分a2(20份)：
新戊二醇二缩水甘油醚(商品名：EX－211、Nagase ChemteX株式会社制)
·阳离子固化性成分a3(10份)：
2－乙基己基缩水甘油醚(商品名：EX－121、Nagase ChemteX株式会社制)
·阳离子聚合引发剂(2.25份(固体成分量))：
商品名：CPI－100(San-Apro株式会社制)的50％碳酸亚丙酯溶液
·敏化剂(2份)：
1，4－二乙氧基萘
〔带有防护膜的偏振板(1)的准备〕
将厚度20μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度约2400、皂化度99.9摩尔％以上)利用干式拉伸单轴拉伸为约5倍，再保持紧张状态不变地在60℃的纯水中浸渍1分钟后，在碘/碘化钾/水的质量比为0.05/5/100的水溶液中在28℃浸渍60秒。然后，在碘化钾/硼酸/水的质量比为8.5/8.5/100的水溶液中在72℃浸渍300秒。接下来用26℃的纯水清洗20秒后，在65℃干燥，得到在聚乙烯醇膜上吸附有碘并取向了的厚度7μm的偏振片。
然后，在该偏振片的一侧涂布如下得到的环氧系粘接剂，即，相对于水100份，溶解羧基改性聚乙烯醇(从(株)Kuraray获得的商品名“KL －318”)3份，并向该水溶液中添加作为水溶性环氧树脂的聚酰胺环氧系添加剂(从田冈化学工业(株)获得的商品名“SumirezResin 650(30)”、固体成分浓度30％的水溶液)1.5份，作为保护层，贴合厚度13μm的透明的降冰片烯系树脂膜。如此所述地操作，得到在偏振片的一面层叠有保护层的偏振板。再在降冰片烯系树脂膜的与偏振片相反一侧的表面贴合在厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜上形成有15μm的丙烯酸系粘合层的防护膜，得到厚度73μm的带有防护膜的偏振板。该带有防护膜的偏振板的实测MD卷曲值为－20mm，实测TD卷曲值为1mm。另外，剥离了防护膜的偏振板的实测MD卷曲值为4mm，实测TD卷曲值为－ 1mm。
〔带有基材层的第一液晶层及带有基材层的第二液晶层的准备〕
(光取向层形成用组合物(1)的制备)
将下述的成分混合，将所得的混合物在温度80℃搅拌1小时，由此得到光取向层形成用组合物(1)。
·光取向性材料(5份)：
[化2]
Figure BDA0001994080360000431
·溶剂(95份)：环戊酮
(取向层形成用组合物(2)的制备)
向市售的作为取向性聚合物的SUNEVER SE－610(日产化学工业株式会社制)中加入2－丁氧基乙醇而得到取向层形成用组合物(2)。所得的取向层形成用组合物(2)的固体成分相对于该组合物的总量的含有比例为1％，溶剂相对于该组合物的总量的含有比例为99％。SUNEVER SE －610的固体成分量是根据货品规格书中记载的浓度换算而得。
(液晶层形成用组合物(A－1)的制备)
混合下述的成分，将所得的混合物在80℃搅拌1小时，由此得到液晶层形成用组合物(A－1)。聚合性液晶化合物A1及聚合性液晶化合物 A2利用日本特开2010－31223号公报中记载的方法合成。
·聚合性液晶化合物A1(80份)：
[化3]
Figure BDA0001994080360000432
·聚合性液晶化合物A2(20份)：
[化4]
Figure BDA0001994080360000441
·聚合引发剂(6份)：
2－二甲基氨基－2－苄基－1－(4－吗啉苯基)－1－丁酮(Irgacure 369；CibaSpecialty Chemicals公司制)
·溶剂(400份)：环戊酮
(液晶层形成用组合物(B－1)的制备)
混合下述的成分，将所得的混合物在80℃搅拌1小时后，冷却到室温而得到液晶层形成用组合物(B－1)。
·聚合性液晶化合物LC242(BASF公司制)(19.2％)：
[化5]
Figure BDA0001994080360000442
·聚合引发剂(0.5％)：
Irgacure(注册商标)907(BASF Japan公司制)
·反应添加剂(1.1％)：
Laromer(注册商标)LR－9000(BASF Japan公司制)
·溶剂(79.1％)：丙二醇1－单甲醚2－乙酸酯
(带有基材层的第一液晶层的制造)
对厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜使用电晕处理装置(AGF－B10、春日电机株式会社制)在功率0.3kW、处理速度3m/分钟的条件处理1次。在实施了电晕处理的表面棒涂机涂布光取向层形成用组合物(1)，在80℃干燥1分钟，使用偏振UV光照射装置(SPOT CURE SP－7；USHIO电机株式会社制)，以100mJ/cm2的累积光量实施偏振UV 光曝光，得到光取向层。利用激光显微镜(LEXT、奥林巴斯株式会社制) 测定出所得的光取向层的厚度，其结果为100nm。第一液晶层的厚度为 2μm。
接下来，在光取向层上使用棒涂机涂布液晶层形成用组合物(A－1)，在120℃干燥1分钟后，使用高压水银灯(Unicure VB―15201BY－A、 USHIO电机株式会社制)，照射紫外线(氮气气氛下、波长：365nm、波长365nm处的累积光量：1000mJ/cm2)，由此形成作为相位差层的第一液晶层，得到带有基材层的第一液晶层。
(带有基材层的第二液晶层的制造)
对厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜使用电晕处理装置 (AGF－B10、春日电机株式会社制)在功率0.3kW、处理速度3m/分钟的条件下处理1次。在实施了电晕处理的表面棒涂机涂布取向层形成用组合物(2)，在90℃干燥1分钟，得到取向层。利用激光显微镜(LEXT、奥林巴斯株式会社制)测定出所得的取向层的厚度，其结果为34nm。
接下来，在取向层上使用棒涂机涂布液晶层形成用组合物(B－1)，在90℃干燥1分钟后，使用高压水银灯(Unicure VB―15201BY－A、 USHIO电机株式会社制)，照射紫外线(氮气气氛下、波长：365nm、波长365nm处的累积光量：1000mJ/cm2)，由此形成作为相位差层的第二液晶层，得到带有基材层的第二液晶层。第二液晶层的厚度为1μm。
〔实施例1〕
使用上述中准备的带有基材层的第一液晶层、带有基材层的第二液晶层、以及双面带有隔膜的粘合层，利用图1～图4及图6所示的工序得到带有粘合层的光学层叠体。具体而言，如下所示地进行。
对上述中准备的带有防护膜的偏振板(1)(MD方向长度300mm×TD 方向长度200mm)的与防护膜侧相反一侧(偏振片侧)的面实施电晕处理(800W、10m/min、棒电极宽度700mm、1Pass)。将上述中准备的粘接剂组合物使用涂布机(第一理化(株)制的棒涂机)以使粘接剂固化层的厚度为1μm的方式涂布，形成粘接剂组合物层，得到带有组合物层的偏振板(参照图1(c))。
将所得的带有组合物层的偏振板的粘接剂组合物层与上述中准备的带有基材层的第一液晶层的第一液晶层使用粘贴装置(FUJIPLA(株)制的“LPA3301”)贴合后(参照图1(d))，从带有组合物层的偏振板的防护膜侧，利用带有传送带的紫外线照射装置(灯使用Fusion UV Systems 公司制的“H灯管”)，以在UVA区域中照射强度为390mW/cm2、累积光量为420mJ/cm2、在UVB区域中为400mW/cm2、累积光量为400mJ/cm2的方式，照射紫外线而使粘接剂组合物固化，得到带有基材层的第一液晶层层叠体(参照图2(a))。需要说明的是，若利用上述的算出方法算出上述粘接剂组合物层固化而得的粘接剂固化层的室温下的储能模量，则约为3000MPa。
然后，从带有基材层的第一液晶层层叠体中，剥离带有基材层的第一液晶层的PET膜(厚度100μm)，得到第一液晶层层叠体(参照图2(b))。另外，从上述中准备的双面带有隔膜的粘合层(300mm×200mm)剥离第二隔膜。使用自动贴合机HALTEC，进行剥离PET膜(厚度100μm)而露出的第一液晶层层叠体的面(第一液晶层侧的面)与从双面带有隔膜的粘合层剥离第二隔膜而露出的粘合层的单张贴合后，剥离第一隔膜而得到带有粘合层的第一液晶层层叠体(参照图3(b))。
将剥离第一隔膜而露出的带有粘合层的第一液晶层层叠体的粘合层与上述中准备的带有基材层的第二液晶层的第二液晶层使用自动贴合机 HALTEC进行单张贴合，得到第二液晶层层叠体(参照图4(b))。将从所得的第二液晶层层叠体剥离带有基材层的第二液晶层的PET膜(厚度 38μm)而露出的面(第二液晶层侧的面)与从上述中准备的双面带有隔膜的粘合层(300mm×200mm)剥离第二隔膜而露出的粘合层使用自动贴合机HALTEC进行单张贴合，得到带有粘合层的光学层叠体(1)(参照图6(b))。对所得的带有粘合层的光学层叠体(1)进行卷曲的测定(1) 及(2)，算出带有粘合层的光学层叠体(1)的MD卷曲值及TD卷曲值。将其结果表示于表1中。
〔实施例2〕
利用与上述实施例1相同的步骤得到第一液晶层层叠体(参照图2 (b))，对剥离PET膜(厚度100μm)而露出的第一液晶层层叠体的面(第一液晶层侧的面)实施电晕处理(800W、10m/min、棒电极宽度700mm、 1Pass)。
在该电晕处理面，使用涂布机(第一理化(株)制的棒涂机)以使粘接剂固化层的厚度为1μm的方式涂布上述中准备的粘接剂组合物，形成粘接剂组合物层。将形成于第一液晶层层叠体的第一液晶层上的粘接剂组合物层与上述中准备的带有基材层的第二液晶层的第二液晶层使用粘贴装置(FUJIPLA(株)制的“LPA3301”)贴合后，从带有基材层的第二液晶层侧，利用带有传送带的紫外线照射装置(灯使用Fusion UV Systems 公司制的“H灯管”)，以在UVA区域中照射强度为390mW/cm2、累积光量为420mJ/cm2、在UVB区域中为400mW/cm2、累积光量为400mJ/cm2的方式，照射紫外线而使粘接剂组合物固化，得到第二液晶层层叠体(参照图5(c))。
将从所得的第二液晶层层叠体剥离带有基材层的第二液晶层的PET 膜(厚度38μm)而露出的面(第二液晶层侧的面)与从上述中准备的双面带有隔膜的粘合层(300mm×200mm)剥离第二隔膜而露出的粘合层使用自动贴合机HALTEC进行单张贴合，得到带有粘合层的光学层叠体(2) (参照图6(b))。对所得的带有粘合层的光学层叠体(1)进行卷曲的测定(1)及(2)，算出带有粘合层的光学层叠体(1)的MD卷曲值及TD 卷曲值。将其结果表示于表1中。
〔比较例1〕
使用上述中准备的带有基材层的第一液晶层、带有基材层的第二液晶层、以及双面带有隔膜的粘合层，利用图7～图8所示的工序得到带有粘合层的光学层叠体。具体而言，如下所示地进行。
对上述中准备的带有防护膜的偏振板(1)(MD方向长度300mm×TD 方向长度200mm)的与防护膜侧相反一侧(偏振片侧)的面实施电晕处理(800W、10m/min、棒电极宽度700mm、1Pass)。另外，从上述中准备的双面带有隔膜的粘合层(300mm×200mm)剥离第二隔膜。使用自动贴合机HALTEC，进行带有防护膜的偏振板(1)的电晕处理面与从双面带有隔膜的粘合层剥离第二隔膜而露出的粘合层的单张贴合而得到带有粘合层的偏振板(参照图7(a))。
将从上述带有粘合层的偏振板剥离第一隔膜而露出的粘合层与上述中准备的带有基材层的第一液晶层(MD方向长度300mm×TD方向长度 200mm)的第一液晶层使用自动贴合机HALTEC进行单张贴合(参照图 7(c))。
接下来，将与带有防护膜的偏振板(2)贴合了的带有基材层的第一液晶层的剥离PET膜(厚度100μm)而露出的面(第一液晶层侧的面)、与从上述中准备的双面带有隔膜的粘合层(300mm×200mm)剥离第二隔膜而露出的粘合层使用自动贴合机HALTEC进行单张贴合，然后，再剥离第一隔膜(参照图8(a))。将剥离第一隔膜而露出的粘合层与上述中准备的带有基材层的第二液晶层(MD方向长度300mm×TD方向长度 200mm)的第二液晶层使用自动贴合机HALTEC进行单张贴合，得到带有基材层的光学层叠体(图8(c))。
将从所得的带有基材层的光学层叠体剥离带有基材层的第二液晶层的PET膜(厚度38μm)而露出的面(第二液晶层侧的面)、与从上述中准备的双面带有隔膜的粘合层(300mm×200mm)剥离第二隔膜而露出的粘合层使用自动贴合机HALTEC进行单张贴合，得到带有粘合层的光学层叠体(3)。
对所得的带有粘合层的光学层叠体(3)进行卷曲的测定(1)及(2)，算出带有粘合层的光学层叠体(3)的MD卷曲值及TD卷曲值。将其结果表示于表1中。
[表1]
Figure BDA0001994080360000481
如表1所示，实施例1及2中得到的带有粘合层的光学层叠体与比较例1中得到的带有粘合层的光学层叠体相比，反卷曲得到抑制，可知根据上述实施方式中说明的带有粘合层的光学层叠体的制造方法，可以抑制反卷曲。
符号的说明
10、10p带有基材层的第一液晶层，11、11p第一基材层，12、12p 第一液晶层，20、20p带有基材层的第二液晶层，21、21p第二基材层， 22、22p第二液晶层，31第一粘接剂固化层，31a第一粘接剂组合物层，31p第一’粘合层，32a第二粘接剂组合物层，32x第一粘合层，32y第二粘接剂固化层，32p第二’粘合层，33第二粘合层，33p第三’粘合层，52第一剥离层，52p第二’剥离层，53第二剥离层，53p 第三’剥离层，57带有剥离层的第一粘合层，58带有剥离层的第二粘合层，60、60p光学膜，61带有组合物层的光学膜，65带有基材层的第一液晶层层叠体，66第一液晶层层叠体，67带有粘合层的第一液晶层层叠体，70、70x、70y、70p光学层叠体，71、71x、71y、71p带有基材层的光学层叠体(光学层叠体)，80、81带有粘合层的光学层叠体。

Claims (10)

1.一种光学层叠体的制造方法，
是依次层叠有光学膜、第一粘接剂固化层、第一液晶层、粘接层、以及第二液晶层的光学层叠体的制造方法，
所述粘接层为第一粘合层或第二粘接剂固化层，
所述光学膜包含在偏振板的至少一面层叠了防护膜的带有防护膜的偏振板，
该制造方法包括：
准备带有基材层的第一液晶层的工序，所述带有基材层的第一液晶层具有第一基材层、和在所述第一基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的所述第一液晶层，所述第一基材层的厚度为100μm以上且300μm以下；
准备带有基材层的第二液晶层的工序，所述带有基材层的第二液晶层具有第二基材层、和在所述第二基材层上将聚合性液晶化合物聚合而形成的所述第二液晶层；
得到带有基材层的第一液晶层层叠体的工序，夹隔着所述第一粘接剂固化层，在所述带有基材层的第一液晶层的所述第一液晶层侧层叠所述光学膜；
得到第一液晶层层叠体的工序，从所述带有基材层的第一液晶层层叠体剥离所述第一基材层；和
得到第二液晶层层叠体的工序，以使因剥离所述第一基材层而露出的所述第一液晶层层叠体的第一露出面侧与所述第二液晶层夹隔着所述粘接层地相面对的方式，将所述第一液晶层层叠体与所述带有基材层的第二液晶层层叠。
2.根据权利要求1所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述得到带有基材层的第一液晶层层叠体的工序包括：
形成第一粘接剂组合物层的工序，在所述光学膜、以及所述带有基材层的第一液晶层的所述第一液晶层侧的至少一方，形成包含用于形成所述第一粘接剂固化层的第一粘接剂组合物的第一粘接剂组合物层；和
形成所述第一粘接剂固化层的工序，夹隔着所述第一粘接剂组合物层在所述带有基材层的第一液晶层的所述第一液晶层侧层叠所述光学膜后，将所述第一粘接剂组合物层固化。
3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述粘接层为所述第一粘合层，
所述得到第二液晶层层叠体的工序包括：
得到带有粘合层的第一液晶层层叠体的工序，在所述第一液晶层层叠体的所述第一露出面上形成所述第一粘合层；和
将所述带有粘合层的第一液晶层层叠体的所述第一粘合层、与所述带有基材层的第二液晶层的所述第二液晶层贴合的工序。
4.根据权利要求3所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述得到带有粘合层的第一液晶层层叠体的工序包括：
准备层叠了所述第一粘合层与第一剥离层的带有剥离层的第一粘合层的工序；和将所述带有剥离层的第一粘合层的所述第一粘合层与所述第一液晶层层叠体的所述第一露出面贴合后，剥离所述第一剥离层的工序。
5.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述粘接层为所述第一粘合层，
所述得到第二液晶层层叠体的工序包括：
得到带有粘合层的第二液晶层的工序，在所述带有基材层的第二液晶层的所述第二液晶层上形成所述第一粘合层；和
将所述带有粘合层的第二液晶层的所述第一粘合层与所述第一液晶层层叠体的所述第一露出面贴合的工序。
6.根据权利要求5所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述得到带有粘合层的第二液晶层的工序包括：
准备层叠了所述第一粘合层与第一剥离层的带有剥离层的第一粘合层的工序；和将所述带有剥离层的第一粘合层的所述第一粘合层与所述带有基材层的第二液晶层的所述第二液晶层贴合后，剥离所述第一剥离层的工序。
7.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述粘接层为所述第二粘接剂固化层，
所述得到第二液晶层层叠体的工序包括：
形成第二粘接剂组合物层的工序，在所述第一液晶层层叠体的所述第一露出面侧、以及所述带有基材层的第二液晶层的所述第二液晶层侧中的至少一方，形成包含用于形成所述第二粘接剂固化层的第二粘接剂组合物的第二粘接剂组合物层；和
形成所述第二粘接剂固化层的工序，在以夹隔着所述第二粘接剂组合物层使所述第一露出面与所述第二液晶层相面对的方式将所述第一液晶层层叠体与所述带有基材层的第二液晶层层叠后，将所述第二粘接剂组合物层固化。
8.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其中，
还包括从所述第二液晶层层叠体剥离所述第二基材层的工序。
9.一种带有粘合层的光学层叠体的制造方法，
是依次层叠有光学膜、第一粘接剂固化层、第一液晶层、粘接层、第二液晶层、以及第二粘合层的带有粘合层的光学层叠体的制造方法，
该制造方法包括：
准备利用权利要求8所述的光学层叠体的制造方法制造的光学层叠体的工序、和在因剥离所述第二基材层而露出的所述光学层叠体的第二露出面侧层叠所述第二粘合层的工序。
10.根据权利要求9所述的带有粘合层的光学层叠体的制造方法，其中，
层叠所述第二粘合层的工序包括：
准备层叠了所述第二粘合层与第二剥离层的带有剥离层的第二粘合层的工序、和将所述带有剥离层的第二粘合层的所述第二粘合层与所述光学层叠体的所述第二露出面贴合的工序。
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