TWI660024B - 活性能量線硬化型接著劑組成物、偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

活性能量線硬化型接著劑組成物、偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

提供一種偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜以及影像顯示裝置，該偏光薄膜即便係剛自高溼度中或水中取出之後(非乾燥狀態)，具備偏光件與透明保護薄膜的接著性亦優異之接著劑層者。一種活性能量線硬化型接著劑組成物，含有：具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(A)，以及有氫摘取作用之自由基聚合起始劑(B)，作為硬化性成份。活性亞甲基宜為乙醯乙醯基，而自由基聚合起始劑(B)宜為9-氧硫

Description

活性能量線硬化型接著劑組成物、偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置 發明領域
本發明係關於形成將2以上的構件予以接著之接著劑層的活性能量線硬化型接著劑組成物，特別係關於形成偏光件與透明保護薄膜之接著劑層之活性能量線硬化型接著劑組成物、偏光薄膜及其製造方法。該偏光薄膜可單獨、或以將其積層所成之光學薄膜來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示裝置。
發明背景
在鐘錶、行動電話、PDA、筆記型電腦、個人電腦用螢幕、DVD播放器、TV等液晶顯示裝置來說，市場急遽地擴展。液晶顯示裝置係使藉由液晶轉換所致之偏光狀態可視化者，由於其顯示原理，將使用有偏光件。特別是在TV等用途，越來越需求更高亮度、高對比及廣視角，對於偏光板亦越來越需求更高穿透率、高偏光度及高色彩再現性等。
作為偏光件，由於具有高穿透率、高偏光度的緣故，例如，一般來說最廣泛地使用碘系偏光件，該碘系偏光件之構造係經使碘吸附於聚乙烯醇(以下，亦單稱為「PVA」)並拉伸者。一般而言，偏光薄膜係使用，藉由將 聚乙烯醇系的材料溶於水所成之所謂水系接著劑，而在偏光件的兩面經貼合有透明保護薄膜者(下述專利文獻1及專利文獻2)。就透明保護薄膜而言係使用透溼度高的三醋酸纖維素等。
製造偏光薄膜之際，當使用有聚乙烯醇系接著劑般之水系接著劑的狀況(所謂濕層合(wet lamination))而言，在將偏光件與透明保護薄膜貼合之後，乾燥步驟係必須的。為了提升偏光薄膜的生產性，所欲的係縮短乾燥步驟，或者採用不需要乾燥步驟的其他接著方法。
又，當使用水系接著劑的狀況時，為了提高與偏光件的接著性，偏光件的含水率亦是要是不先相對地高(通常偏光件的含水率係30%左右)，則無法獲得接著性良好的偏光薄膜。惟，就如此進行所獲得的偏光薄膜來說，有在高溫，或高溫高濕度下的尺寸變化大，光學特性差等問題。另一方面，為抑制尺寸變化，或可降低偏光件的含水率，或可使用透溼度低的透明保護薄膜。但，要是使用水系接著劑來貼合這樣所得的偏光件與透明保護薄膜，則或乾燥效率降低、或偏光特性降低，或者是產生外觀不良而無法獲得實質上有用的偏光薄膜。
又，特別係以TV為代表，近年，伴隨著影像顯示裝置的大畫面化進展，從生產性及成本之面(成品率、取數(取数)提升)來看偏光薄膜的大型化亦變得非常重要。但，在使用有前述水系接著劑之偏光薄膜而言，偏光薄膜由於背光的熱而引起尺寸變化，其成為不均而有在畫面全 體中一部分有黑色顯示看起來為白色這樣所謂的漏光(不均)變得顯著這樣的問題。
為了解決上述在濕層合的問題點，建議有不含有水及有機溶劑的活性能量線硬化型接著劑。例如，在下述專利文獻3揭示有一種活性能量線硬化型接著劑，其含有(A)含有極性基之分子量1,000以下的自由基聚合性化合物、(B)不含極性基之分子量1,000以下的自由基聚合性化合物，以及(D)光聚合起始劑。惟，構成這樣之接著劑的自由基聚合性化合物(單體)的組合，由於特別係以提升對降莰烯系樹脂薄膜之接著性為目的所設計者的緣故，而在與偏光膜的接著性有較劣的傾向。
在下述專利文獻4而言，揭示以在波長360~450nm中之莫耳吸光係數為400以上之光聚合起始劑與紫外線硬化性化合物為必須成份的活性能量線硬化型接著劑。惟，構成這樣之接著劑的單體的組合，由於主要係以防止接著光碟等之際的翹曲/變形為目的所設計者的緣故，當作為偏光膜用使用的狀況時，與偏光膜的接著性有較劣的傾向。
在下述專利文獻5而言，揭示一種活性能量線硬化型接著劑，其在(甲基)丙烯酸系化合物合計量100重量份中含有(a)在分子中具有2個以上(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸系化合物、(b)在分子中具有羥基且僅具有1個聚合性雙鍵之(甲基)丙烯酸系化合物，以及(c)苯酚環氧乙烷改性丙烯酸酯或壬基苯酚環氧乙烷改性丙烯酸酯。惟，構成這樣 的接著劑之單體的組合，各單體彼此的相容性相對地低，伴隨著進行相分離，有接著劑層的透明性降低等顧慮。又，這樣的接著劑係，藉由使硬化物(接著劑層)軟化(使Tg降低)來圖謀接著性提升者，而有龜裂抗性等耐久性惡化的顧慮。龜裂抗性係可藉由冷熱衝撃試驗(熱震試驗)來評價。
本發明人等開發了將N-取代醯胺系單體作為硬化性成份使用之自由基聚合型的活性能量線硬化型接著劑(下述專利文獻6及專利文獻7)。這樣的接著劑，雖係在高溼度下及高溫下的嚴苛環境下會發揮優異耐久性者，但實際情況是在市場上來說，逐漸需求可更加提升接著性及/或耐水性的接著劑。
先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2006-220732號公報
專利文獻2：日本特開2001-296427號公報
專利文獻3：日本特開2008-009329號公報
專利文獻4：日本特開平09-31416號公報
專利文獻5：日本特開2008-174667號公報
專利文獻6：日本特開2008-287207號公報
專利文獻7：日本特開2010-78700號公報
發明概要
經使用習知之活性能量線硬化型接著劑組成 物，將偏光件與透明保護薄膜貼合者，自高溼度環境或水中取出，就經乾燥之階段來說雖有表現充分之接著力的狀況，但在剛自高溼度環境或水中取出後(非乾燥狀態)來說，特別係在偏光件與接著劑層之間的界面發生剝離，而有接著性變得不充分的狀況。再者，偏光薄膜及光學薄膜，取決於用途有需求耐溼性，進一步需求耐水性的狀況，但就習知之活性能量線硬化型接著劑組成物而言，就剛自高溼度環境或水中取出後來說，特別係有偏光件與透明保護薄膜之間的接著性不充分的狀況，而實際情形係需求更進一步之接著性的提升。
本發明係有鑒於上述實際情形而作者，其目的係在於提供，即便係剛從高溼度環境或水中取出後(非乾燥狀態)，具備偏光件與透明保護薄膜的接著性亦優異之接著劑層的偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置。
又，本發明係在於提供一種活性能量線硬化型接著劑組成物，其可形成，提升了2個以上的構件，特別係偏光件與透明保護薄膜層之接著性，且提升了耐久性的接著劑層。
本發明人等，為解決上述課題，針對為非乾燥狀態之偏光薄膜是否在偏光件-接著劑層-透明保護薄膜之3層構造之任一處發生接著破壞，一邊與乾燥後之偏光薄膜的接著破壞機制相比較一邊進行深入探討。其結果發現：(1)就乾燥後之偏光薄膜而言，由於偏光件與，構成接著劑層 的基底聚合物係透過氫鍵牢固地接著的緣故，導致變成非接著主要原因係在透明保護薄膜處的凝集破壞(cohesive failure)，以及(2)就非乾燥狀態來說，在偏光件與，構成接著劑層的基底聚合物之間的氫鍵被水分子所阻礙，具體來說，構成接著劑層之基底聚合物與水分子，或者偏光件與水分子形成氫鍵，而在偏光件與，構成接著劑層的基底聚合物之間的氫鍵變弱。基於這樣的知識，本發明人等進行進一步探討的結果，(3)使氫鍵在偏光件與，構成接著劑層的基底聚合物之間形成。(4)在(3)之外，考慮阻礙偏光件與，構成接著劑層的基底聚合物的氫鍵之水分子的存在，發現到藉由進一步使共價鍵在偏光件與，構成接著劑層之基底聚合物之間形成，即便係非乾燥狀態，偏光薄膜的接著性顯著提升。本發明係此等探討之結果所成者，具備下述構成。
即，本發明係關於活性能量線硬化型接著劑組成物，其特徵在於含有具有活性亞甲基(active methylene group)的自由基聚合性化合物(A)，以及有氫摘取(hydrogen abstraction)作用的自由基聚合起始劑(B)，作為硬化性成份。
在上述活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述活性亞甲基宜為乙醯乙醯基。
在上述活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述自由基聚合性化合物(A)宜為乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯。
在上述活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述自由基聚合起始劑(B)宜為9-氧硫(thioxanthone)系自由 基聚合起始劑。
在上述活性能量線硬化型接著劑組成物中，當令組成物總量為100重量%時，宜含有(A)1~50重量%，以及(B)0.1~10重量%。再者，在本發明中，所謂「組成物總量」係意指在自由基聚合性化合物之外，包含各種起始劑及添加劑之總量。
在上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，宜進一步含有N-取代醯胺系單體。
在上述活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述N-取代醯胺系單體宜為羥乙基丙烯醯胺及/或丙烯醯基啉。
又，本發明係關於偏光薄膜，係在偏光件之至少其中一面，透過接著劑層而設有波長365nm的光線穿透率未達5%之透明保護薄膜；該偏光薄膜之特徵在於，前述接著劑層係藉由硬化物層而形成者，且該硬化物層係對前述記載之活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而成者。
在上述偏光薄膜中，前述接著劑層的玻璃轉移溫度(Tg)宜為60℃以上。
又，本發明係關於偏光薄膜之製造方法，係製造在偏光件的至少其中一面，透過接著劑層設有波長365nm之光線穿透率未達5%的透明保護薄膜之偏光薄膜；該方法之特徵在於包含下述步驟：塗敷步驟，係在前述偏光件或前述透明保護薄膜之至少其中一面，塗敷前述任一項中之活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，係與前述偏 光件及前述透明保護薄膜貼合；以及，接著步驟，其係自前述偏光件面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線，且透過藉由使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所獲得之接著劑層，使前述偏光件及前述透明保護薄膜接著。
在上述偏光薄膜之製造方法中，前述貼合步驟時之前述偏光件的含水率宜未達15%。
又，本發明係關於光學薄膜，其特徴在於至少積層有1片前述記載的偏光薄膜。進一步本發明係關於影像顯示裝置，其特徴在於使用有前述記載之偏光薄膜，及/或前述記載的光學薄膜。
當藉由根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物的硬化物來形成接著劑層的狀況時，可形成2以上的構件，特別係偏光件與透明保護薄膜層的接著性經提升，且耐久性及耐水性經提升的接著劑層。特別係，即便係剛自高溼度環境或是水中取出後(非乾燥狀態)，由於偏光薄膜具有之接著劑層的接著性顯著提升的緣故，即便係強烈需求耐溼性及耐水性的用途，亦可適宜地使用。
當使用了根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物的狀況時，特別係即便係剛自高溼度環境或水中取出後(非乾燥狀態)，偏光薄膜具有之接著劑層的接著性顯著提升的理由雖不清楚，但可想到以下的原因。亦即，具有活性亞甲基的自由基聚合性化合物(A)係與構成接著劑 層的其他自由基聚合性化合物一起進行聚合，並且被納入接著劑層中基底聚合物的主鏈及/或側鏈，形成接著劑層。在這樣的聚合過程中，要是存在具氫摘取作用的自由基聚合起始劑(B)，構成接著劑層之基底聚合物被形成，並且氫自具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(A)被摘取，而在亞甲基產生自由基。然後，產生自由基之亞甲基與PVA等偏光件的羥基進行反應，而在接著劑層與偏光件之間形成共價鍵。其結果，推測特別係即便係非乾燥狀態，偏光薄膜具有之接著劑層的接著性顯著提升。
又，當具備根據本發明之接著劑層的狀況時，由於可製作尺寸變化小的偏光薄膜的緣故，亦能容易地對應偏光薄膜的大型化，從成品率、取數的觀點來看亦能抑制生產成本。又，由於根據本發明之偏光薄膜尺寸安定性良好的緣故，而能夠抑制因背光的外部熱所致之影像顯示裝置之不均的產生。
用以實施發明之形態
根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物含有：具有活性亞甲基的自由基聚合性化合物(A)，以及有氫摘取作用的自由基聚合起始劑(B)。
具有活性亞甲基的自由基聚合性化合物(A)，係在末端或分子中具有(甲基)丙烯醯基等活性雙鍵基，且具有 活性亞甲基的化合物。就活性亞甲基而言，例如可舉：乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基，或氰基乙醯基等。就具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物的具體例而言，例如可舉：2-乙醯乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯等乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯；2-乙氧基丙二醯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-氰基乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺基乙基)丙烯醯胺等。
在本發明中，就有氫摘取作用之自由基聚合起始劑(B)而言，例如可舉：9-氧硫系自由基聚合起始劑，二苯甲酮系自由基聚合起始劑等。就9-氧硫系自由基聚合起始劑而言，例如可舉以下述一般式(1)所表示的化合物；
(式中，R1及R2係表示-H、-CH2CH3、-iPr、-SH，或-Cl，R1及R2係可相同或相異)。作為以一般式(1)所表示之化合物的具體例，例如可舉：9-氧硫、二甲基9-氧硫、二乙基9-氧硫、異丙基9-氧硫、氯9-氧硫、巰基9-氧硫等。在以一般式(1)所表示之化合物中，以R1及R2係-CH2CH3之二乙基9-氧硫為特佳。
如上述，在本發明中，在有氫摘取作用之自由基聚合起始劑(B)的存在下，使在具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(A)的亞甲基產生自由基，這樣的亞甲基與PVA等偏光件的羥基進行反應，形成共價鍵。因此，為了使在具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(A)的亞甲基產生自由基，而充分地形成這樣的共價鍵，當令組成物總量為100重量%時，宜含有(A)1~50重量%，及(B)0.1~10重量%，而以含有(A)3~30重量%，及(B)0.3~9重量%為更佳。要是具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(A)未達1重量%，則在非乾燥狀態下之接著性的提升效果低，有耐水性未充分提升的狀況，而要是超過50重量%，則有發生接著劑層硬化不良的狀況。又，要是有氫摘取作用之自由基聚合起始劑(B)未達0.1重量%，則有氫摘取反應未充分進行的狀況，而要是超過10重量%，則有在組成物中未完全地溶解的狀況。
根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，在具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(A)，及有氫摘取作用之自由基聚合起始劑(B)之外，宜進一步含有N-取代醯胺系單體(C)。藉由含有N-取代醯胺系單體(C)，所獲得之接著劑層的接著性、耐久性及耐水性進一步提升。
N-取代醯胺系單體(C)係可適宜地使用，以下述一般式(1)所表示者：CH2=C(R1)-CONH2-m-(X-O-R2)m (1)
(R1係表示氫原子或甲基，X係表示-CH2-基或-CH2CH2-基，R2係表示-(CH2)n-H基(惟，n係0、1或2)、甲基或乙基， m係表示1或2)。
作為以一般式(1)所表示之N-取代醯胺系單體的具體例，例如可舉：N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基乙基(甲基)丙烯醯胺、N-乙氧基乙基(甲基)丙烯醯胺等。又，在以一般式(1)所表示之N-取代醯胺系單體以外，例如亦可適宜地使用丙烯醯基啉等。
作為N-取代醯胺系單體(C)，亦可適宜地使用市售品。具體來說例如可舉：N-羥乙基丙烯醯胺(商品名「HEAA」，興人公司製)、丙烯醯基啉(商品名「ACMO」，興人公司製)、N-甲氧基甲基丙烯醯胺(商品名「Wasmer 2MA」，笠野興產公司製)、N-乙氧基甲基丙烯醯胺(商品名「Wasmer EMA」，笠野興產公司製)、N-甲氧基甲基甲基丙烯醯胺(商品名「Wasmer 2MA」，笠野興產公司製)等。
為了進一步提升所獲得之接著劑層的接著性及耐久性，就N-取代醯胺系單體(C)而言，宜使用羥乙基丙烯醯胺及/或丙烯醯基啉。
為了進一步提升所獲得之接著劑層的接著性及耐久性，當令組成物總量為100重量%時，宜含有N-取代醯胺系單體(C)3~95重量%，以含有5~80重量%為更佳。偏光件及/或透明保護薄膜，特別係考慮三醋酸纖維素(TAC)與接著劑層的接著性，當令組成物總量為100重量%時，宜令N-取代醯胺系單體(C)為3重量%以上，以令為5重量%以上為更佳。當大量地摻混N-取代醯胺系單體(C)的狀況時，有 接著劑之吸水性變高的狀況。因此，宜令N-取代醯胺系單體(C)為95重量%以下，以令為80重量%以下為更佳。
根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，亦可進一步含有具有2個以上活性雙鍵基的交聯劑(D)。藉由具有這樣的交聯劑(D)，所獲得之接著劑層的耐水性進一步提升。作為這樣的交聯劑(D)，例如可舉：三伸丙二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、環狀三羥甲基丙烷縮甲醛丙烯酸酯(cyclic trimethylolpropane formal acrylate)、二烷二醇二丙烯酸酯、EO改性二甘油四丙烯酸酯等。再者，作為交聯劑(D)亦可適宜地使用市售品，例如可舉：ARONIX M-220(東亞合成公司製)、LIGHT-ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製)、LIGHT-ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製)、LIGHT-ACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製)、SR-531(Sartomer公司製)、CD-536(Sartomer公司製)等。
為了進一步提升所獲得之接著劑層的耐水性，當令組成物總量為100重量%時，宜含有交聯劑(D)5~80重量%，以含有10~70重量%為較佳。為了均衡良好地提升耐水性及接著性，宜令交聯劑(D)之組成比率為5~80重量%。當考慮到組成物整體而言的相容性及與透明保護薄膜的接著性的狀況時，以交聯劑(D)之組成比率係10重量%以上為較佳。又，當考慮到耐水性的狀況時，以交聯劑(D)之組成比率係70重量%以下為較佳。
根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成 物，亦可進一步含有將(甲基)丙烯酸單體予以聚合而成之丙烯酸系寡聚物(E)。藉由具有這樣的將(甲基)丙烯酸單體予以聚合而成的丙烯酸系寡聚物(E)，可降低使活性能量線照射/硬化該組成物之際的硬化收縮，並且可降低接著劑與，偏光件及透明保護薄膜等被接著物的界面應力。其結果，可抑制接著劑層與被接著物之接著性的降低。
活性能量線硬化型接著劑組成物，當考慮到塗敷時的作業性及均勻性的狀況時，由於宜為低黏度的緣故，將(甲基)丙烯酸單體予以聚合而成之丙烯酸系寡聚物(E)亦宜為低黏度。作為係低黏度，且可防止接著劑層之硬化收縮的丙烯酸系寡聚物，宜為重量平均分子量(Mw)係15000以下者，以10000以下者為較佳，以5000以下者為特佳。另一方面，為了充分地抑制硬化物層(接著劑層)的硬化收縮，丙烯酸系寡聚物(E)的重量平均分子量(Mw)宜為500以上，以1000以上為較佳，以1500以上為特佳。作為構成丙烯酸系寡聚物(E)的(甲基)丙烯酸單體，具體來說，例如可舉：甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、正丙基(甲基)丙烯酸酯、異丙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基-2-硝基丙基(甲基)丙烯酸酯、正丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、二級丁基(甲基)丙烯酸酯、三級丁基(甲基)丙烯酸酯、正戊基(甲基)丙烯酸酯、三級戊基(甲基)丙烯酸酯、3-戊基(甲基)丙烯酸酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、正己基(甲基)丙烯酸酯、鯨蠟基(甲基)丙烯酸酯、正辛基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲 基)丙烯酸酯、正十八基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類，進一步，例如，環烷基(甲基)丙烯酸酯(例如，環己基(甲基)丙烯酸酯、環戊基(甲基)丙烯酸酯等)、芳烷基(甲基)丙烯酸酯(例如，苄基(甲基)丙烯酸酯等)、多環(甲基)丙烯酸酯(例如，2-異莰基(甲基)丙烯酸酯、2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯、5-降莰烯-2-基-甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯等)、含羥基之(甲基)丙烯酸酯類(例如，羥乙基(甲基)丙烯酸酯，2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯，2,3-二羥丙基甲基-丁基(甲基)甲基丙烯酸酯等)，含烷氧基或苯氧基之(甲基)丙烯酸酯類(2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲氧基甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等)、含環氧基之(甲基)丙烯酸酯類(例如，環氧丙基(甲基)丙烯酸酯等)、含鹵素之(甲基)丙烯酸酯類(例如，2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基乙基(甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、六氟丙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、十七氟癸基(甲基)丙烯酸酯等)、烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯(例如，二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等)等。此等(甲基)丙烯酸酯係可單獨使用或併用2種類以上。作為丙烯酸系寡聚物(E)的具體例可舉：東亞合成公司製「ARUFON」、綜研化學公司製「Actflow」、BASF日本公司製「JONCRYL」等。
為了減少所獲得之接著劑層的硬化收縮，並減少 接著劑與，偏光件及透明保護薄膜等被接著物的界面應力，當令組成物總量為100重量%時，宜含有將(甲基)丙烯酸單體予以聚合而成之丙烯酸系寡聚物(E)3~20重量%，以含有5~15重量%為更佳。藉由將(甲基)丙烯酸單體予以聚合而成之丙烯酸系寡聚物(E)摻混至接著劑組成物中，可進一步抑制接著劑層與被接著物之接著性的降低。為了充分地抑制硬化物層(接著劑層)的硬化收縮，接著劑組成物中，宜含有丙烯酸系寡聚物(E)3重量%以上，以含有5重量%以上為更佳。另一方面，要是接著劑組成物中之丙烯酸系寡聚物(E)的含量過多，則有對該組成物照射活性能量線之際反應速度激烈降低，而成為硬化不良的狀況。因此，接著劑組成物中丙烯酸系寡聚物(E)的含量宜為20重量%以下，以15重量%以下為更佳。
在根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物中，作為光聚合起始劑，在有氫摘取作用的自由基聚合起始劑(B)之外，進一步宜使用以下述一般式(2)所表示之化合物；
(式中，R3、R4及R5係表示-H、-CH3、-CH2CH3、-iPr或Cl，R3、R4及R5係可相同或相異)。作為以一般式(2)所表示之化合物，可適宜地使用亦係市售品之2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-啉基丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE907製造 商：BASF)。此外，2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-啉基苯基)-丁酮-1(商品名：IRGACURE369製造商：BASF)、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE379製造商：BASF)因為係敏感度高而為佳。以一般式(2)所表示之化合物的含量宜為0.1~10重量%，以0.5~4.0重量%為更佳。當以下述一般式(2)所表示之化合物的摻混量未達0.1重量%的狀況時，有發生硬化不良的可能性。另一方面，當超過10重量%的狀況時，有在接著劑組成物中發生析出的可能性。
又，在自由基聚合起始劑(B)之外，宜因應需要添加聚合起始助劑。作為聚合起始助劑，可舉：三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲基胺基苯甲酸、4-二甲基胺基苯甲酸甲酯、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸異戊酯等，以4-二甲基胺基苯甲酸乙酯為特佳。當使用聚合起始助劑的狀況，當令組成物總量為100重量%時，其添加量通常係0~5重量%，較佳係0~4重量%，最佳係0~3重量%。
又，可因應需要併用已知的光聚合起始劑。因為具有UV吸收能力的透明保護薄膜，不穿透380nm以下的光的緣故，作為光聚合起始劑，宜使用對380nm以上之光係高敏感度的光聚合起始劑。具體來說，可舉：2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-啉基苯基)-丁酮-1、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基- 二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。
又，在根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物來說，在不損及本發明的目的、效果的範圍下，可摻混各種添加劑作為其他的任意成份。作為這樣的添加劑，可舉：環氧樹脂、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚胺甲酸乙酯、聚丁二烯、聚氯丁二烯、聚醚、聚酯、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、石油樹脂、二甲苯樹脂、酮樹脂、纖維素樹脂、氟系寡聚物、矽酮系寡聚物、多硫化物系寡聚物等聚合物或寡聚物；啡噻、2,6-二-三級丁基-4-甲基苯酚等聚合抑制劑；聚合起始助劑；流平劑；濕潤性改良劑；界面活性劑；塑化劑；紫外線吸收劑；矽烷耦合劑；無機填充劑；顏料；染料等。
在上述添加劑之中，矽烷耦合劑係作用於偏光件表面，可賦予進一步的耐水性。當使用矽烷耦合劑的狀況時，當令組成物總量為100重量%時，其添加量通常係0~10重量%，較佳係0~5重量%，最佳係0~3重量%。
矽烷耦合劑，宜使用活性能量線硬化性的化合物，但即便非活性能量線硬化性亦可賦予相同的耐水性。
作為矽烷耦合劑的具體例，就活性能量線硬化性的化合物而言可舉：乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙 基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等。
作為非活性能量線硬化性之矽烷耦合劑的具體例可舉：N-2(胺基乙基)3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2(胺基乙基)3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2(胺基乙基)3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基-亞丁基)丙基胺、N-苯基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(乙烯基苄基)-2-胺基乙基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷鹽酸鹽、3-脲基丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫化物、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、咪唑矽烷等。
較佳係3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷。
根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，可使用電子束硬化型、紫外線硬化型的態樣。
在電子束硬化型來說，電子束的照射條件，係能硬化上述活性能量線硬化型接著劑組成物的條件即可，可採用任意適切的條件。例如，電子束照射係以加速電壓5kV~300kV為佳，更佳係10kV~250kV。當加速電壓未達5kV 的狀況時，有電子束未到達接著劑而成為硬化不足之虞，要是加速電壓超過300kV，則有通過樣本的滲透力過強，對透明保護薄膜及偏光件造成損傷之虞。作為照射線量，為5~100kGy，更佳為10~75kGy。當照射線量未達5kGy的狀況時，接著劑變得硬化不足，要是超過100kGy，則有對透明保護薄膜及偏光件造成損傷，機械強度降低或產生黃變，而無法獲得預定的光學特性。
電子束照射，通常係在惰性氣體中進行照射，但若需要的話亦可在大氣中或是經導入少許氧的條件下進行。雖亦取決於透明保護薄膜的材料，藉由適宜地導入氧，特意地使在最初電子束照到的透明保護薄膜面產生氧阻礙，可防止對透明保護薄膜的損傷，且可有效率地使電子束僅照射於接著劑。
另一方面，在紫外線硬化型來說，當使用經賦予紫外線吸收能力之透明保護薄膜的狀況時，由於會吸收較約380nm短波長的光，而較380nm短波長的光不會到達活性能量線硬化型接著劑組成物的緣故，而對該聚合反應沒有貢獻。進一步，藉透明保護薄膜所吸收之較380nm短波長的光轉換為熱，透明保護薄膜本身發熱，而成為偏光薄膜卷曲/皺紋等不良的原因。因此，當在本發明採用紫外線硬化型的狀況時，宜使用不會發出較380nm短波長之光的裝置作為紫外線產生裝置，更具體來說，波長範圍380~440nm之積算照度與波長範圍250~370nm之積算照度的比宜為100：0~100：50，以100：0~100：40為更佳。作為滿足這 般積算照度的關係的紫外線，宜為封入鎵的金屬鹵素燈、發出波長範圍380~440nm之光的LED光源。或者，亦能夠以低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熾燈泡、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、日光燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射或太陽光為光源，並且使用帶通濾波器來阻絕較380nm短波長的光來使用。
在紫外線硬化型中，以在照射紫外線前將活性能量線硬化型接著劑組成物加溫(照射前加溫)為佳，該狀況時宜加溫至40℃以上，以加溫至50℃以上為更佳。又，在照射紫外線後加溫活性能量線硬化型接著劑組成物(照射後加溫)亦佳，該狀況時宜加溫至40℃以上，以加溫至50℃以上為更佳。
根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，特別係可適宜地使用於形成將偏光件與波長365nm下之光線穿透率未達5%之透明保護薄膜予以接著之接著劑層的狀況。於此處，根據本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物係藉由含有9-氧硫系自由基聚合起始劑，可越過具有UV吸收能力之透明保護薄膜來照射紫外線，而硬化形成接著劑層。因此，即便係就在偏光件的兩面經積層有具有UV吸收能力之透明保護薄膜的偏光薄膜而言，亦可使接著劑層硬化。但，理所當然的係，即便係就經積層有不具UV吸收能力之透明保護薄膜的偏光薄膜而言，亦可使接著劑層硬化。再者，所謂具有UV吸收能力之透明保護薄膜，係意指對於380nm的光穿透率未達10%的透明保護薄膜。
作為對透明保護薄膜賦予UV吸收能力之方法，可舉：使透明保護薄膜中含有紫外線吸收劑之方法，或是使含有紫外線吸收劑之表面處理層積層在透明保護薄膜表面的方法。
作為紫外線吸收劑的具體例，例如可舉：習知已知的氧二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物、三系化合物等。
藉由活性能量線硬化型接著劑組成物所形成之接著劑層相較於水系接著劑層，耐久性高。就本發明而言，宜使用Tg為60℃以上者作為接著劑層。又，接著劑層的厚度，宜控制成為0.01~7μm。如此，在本發明的偏光薄膜來說，當使用接著劑層係成為60℃以上的高Tg之活性能量線硬化型接著劑組成物，並且將接著劑層的厚度控制在上述範圍的狀況時，可防止在高溼及高溫下的嚴苛環境下的熱震龜裂(heat shock crack)，且滿足耐久性。於此處，所謂「熱震龜裂」，係意指例如當偏光件收縮之際，在拉伸方向裂開的現象，為了防止此情形，抑制在熱震溫度範圍(-40℃~60℃)下偏光件的膨脹/收縮係重要的。正如上述，當接著劑層之Tg係60℃以上的狀況時，由於可抑制在熱震溫度範圍下之接著劑層急遽的彈性模數變化，且減低作用在偏光件的膨脹/收縮力的緣故，而可防止熱震龜裂的產生。
當考慮到偏光薄膜的耐久性的狀況時，在本發明中，特別係定義接著劑層之Tg(℃)為A，接著劑層之厚度(μm) 為B的狀況，宜滿足算式(1)：A-12×B>58。
如上述，活性能量線硬化型接著劑組成物，宜選擇使得藉此所形成之接著劑層的Tg成為60℃以上，以70℃以上為較佳，以75℃以上為更佳，進一步係100℃以上，再進一步係以120℃以上為佳。另一方面，由於要是接著劑層的Tg變得過高則偏光薄膜的可撓性降低的緣故，接著劑層的Tg係宜作成300℃以下，進一步作成240℃以下為佳，以作成180℃以下為更佳。
又，如上述，接著劑層的厚度係以0.01~7μm為佳，較佳係0.01~5μm，更佳係0.01~2μm，最佳係0.01~1μm。當接著劑層的厚度薄於0.01μm的狀況時，不能獲得接著力本身的凝集力，而有無法獲得接著強度之虞。另一方面，要是接著劑層的厚度超過7μm，則偏光薄膜無法滿足耐久性。
根據本發明之偏光薄膜之製造方法，其係在偏光件的至少其中一面，透過接著劑層來設有波長365nm之光線穿透率未達5%之透明保護薄膜的偏光薄膜之製造方法，該方法包含下述步驟：塗敷步驟，其係將前述任一記載之活性能量線硬化型接著劑組成物塗敷在前述偏光件或前述透明保護薄膜之至少其中一面；貼合步驟，其係將前述偏光件及前述透明保護薄膜貼合；以及接著步驟，藉由自前述偏光件面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線，來使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所獲得之接著劑層，透過該接著劑層來接著前述偏光件及前述透明保護薄膜。當前述貼合步驟時前述偏光件的含水率未達15%的 狀況時，因為可減低在貼合步驟(層合)後所獲得之偏光薄膜的乾燥負荷而為佳。就這樣的低含水率偏光件而言，可舉在加熱乾燥時能容易地進行含水率降低的薄型偏光件。針對薄型偏光件係予後述。
偏光件、透明保護薄膜，在塗敷上述活性能量線硬化型接著劑組成物之前，亦可進行表面改質處理。就具體的處理來說可舉：藉由電暈處理、電漿處理、皂化處理進行之處理等。
活性能量線硬化型接著劑組成物的塗敷方式係可依組成物的黏度及目標的厚度來適宜地選擇。作為塗敷方式的例子，例如可舉：逆輥塗佈機、凹版塗佈機(直接式、逆輥式或平版式)、棒式逆輥塗佈機、輥塗機、模塗佈機、棒式塗佈機(bar coater)、桿式塗佈機(rod coater)等。此外，就塗敷而言，可適宜地使用浸漬方式等方式。
透過經如上述般塗敷的接著劑，來將偏光件與透明保護薄膜貼合。偏光件與透明保護薄膜的貼合係可藉由，輥層合機(roll laminator)等來進行。
在經貼合偏光件與透明保護薄膜之後，照射活性能量線(電子束、紫外線等)，硬化活性能量線硬化型接著劑組成物來形成接著劑層。活性能量線(電子束、紫外線等)的照射方向係可自任意適切的方向進行照射。較佳係自透明保護薄膜側進行照射。要是自偏光件側進行照射，則偏光件有因活性能量線(電子束、紫外線等)而劣化之虞。
當以連續生產線來製造根據本發明之偏光薄膜 的狀況時，生產線速度雖取決於接著劑的硬化時間，但以1~500m/min為佳，較佳係5~300m/min，更佳係10~100m/min。當生產線速度過小時，缺乏生產性，或者對透明保護薄膜的損傷過大，而無法製作經得起耐久性試驗等的偏光薄膜。而當生產線速度過大的狀況時，有接著劑的硬化變得不充分，而無法獲得目標的接著性的狀況。
再者，本發明的偏光薄膜係，偏光件與透明保護薄膜透過藉由上述活性能量線硬化型接著劑組成物的硬化物層所形成的接著劑層來貼合，但在透明保護薄膜與接著劑層之間，可設易接著層。易接著層，可由例如：具有聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸乙酯骨架、矽酮系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等的各種樹脂來形成。可單獨地使用1種此等聚合物樹脂，或者組合2種以上來使用。又，在易接著層的形成亦可添加其他的添加劑。具體來說，進一步亦可使用增黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱安定劑等安定劑等。
易接著層，通常係可預先設於透明保護薄膜，藉由接著劑層來貼合該透明保護薄膜的易接著層側與偏光件。易接著層的形成係可藉由在透明保護薄膜上將易接著層的形成材料透過已知的技術來塗敷、乾燥而進行。易接著層的形成材料係考慮乾燥後的厚度、塗敷的流暢性等而通常調整為經稀釋至適當濃度的溶液。易接著層乾燥後的厚度宜為0.01~5μm，較佳係0.02~2μm，更佳係0.05~1μm。再者，易接著層雖可設複數層，但即便係這樣的狀況，亦 以使得易接著層的總厚度係上述範圍來進行為佳。
本發明的偏光薄膜係，透過藉由上述活性能量線硬化型接著劑組成物的硬化物層所形成的接著劑層，來在偏光件的至少單面貼合有透明保護薄膜。
偏光件未被特別限制，可使用各種類者。就偏光件而言，例如可舉：經使碘或二色性染料等之二色性材料吸附於聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化(formalization)聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜並經單軸拉伸者；聚乙烯醇的脫水處理物或聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。此等之中，由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質構成之偏光件為適宜的。此等偏光件的厚度未被特別限制，惟一般係80μm左右以下。
經以碘染色並單軸拉伸之聚乙烯醇系薄膜的偏光件，例如，可藉由將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液來染色，並且拉伸至原始長度3~7倍來製作。因應需要亦可浸漬於硼酸或碘化鉀等的水溶液。進一步因應需要，亦可在染色之前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中來進行水洗。透過水洗聚乙烯醇系薄膜，在能夠洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的髒污及抗結塊劑之外，透過使聚乙烯醇系薄膜膨潤亦有防止染色不均等不均勻之效果。拉伸係可在經以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊進行拉伸，或者亦可在拉伸之後再以碘來染色。在硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中亦可進行拉伸。
又，作為偏光件可使用厚度為10μm以下的薄型 偏光件。從薄型化的觀點來說，該厚度係以1~7μm為佳。這樣的薄型的偏光件，厚度不均少且可見度優異，又，因為尺寸變化少的緣故而耐久性優異，進一步作為偏光薄膜的厚度亦能夠圖謀薄型化之點而為佳。又，薄型偏光件由於加熱乾燥時之含水率降低係容易的緣故，可適宜地使用含水率係15%以下的偏光件。
作為薄型的偏光件，代表性地，可舉記載於日本特開昭51-069644號公報或日本特開2000-338329號公報、WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460的說明書，或者日本特願2010-269002號說明書或日本特願2010-263692號說明書的薄型偏光膜。此等薄型偏光膜，可藉由包含將聚乙烯醇系樹脂(以下，亦稱PVA系樹脂)層與拉伸用樹脂基材在積層體的狀態下予以拉伸之步驟與染色之步驟的製法來獲得。此製法的話，即便PVA系樹脂層薄，藉由被支持在拉伸用樹脂基材而能夠進行沒有因拉伸所致之斷裂等不良的拉伸。
就前述薄型偏光膜而言，在包含在積層體的狀態下進行拉伸之步驟與染色之步驟的製法中，在可高倍率地拉伸並可使偏光性能提升之點，宜為透過包含如有記載在WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460之說明書，或日本特願2010-269002號說明書及日本特願2010-263692號說明書之，在硼酸水溶液中進行拉伸之步驟的製法所能夠獲得者，特佳係藉由包含有記載在日本特願2010-269002號說明書及日本特願2010-263692號說明書之，在硼酸水溶 液中進行拉伸之前進行輔助性地空中拉伸之步驟的製法所能夠獲得者。
記載於上述之PCT/JP2010/001460說明書之薄型高機能偏光膜，係由在樹脂基材一體性地被製膜之，經配向有二色性物質之PVA系樹脂構成之厚度7μm以下的薄型高機能偏光膜，具有單體穿透率為42.0%以上及偏光度為99.95%以上之光學特性。
上述薄型高機能偏光膜，係可藉由在具有至少20μm之厚度的樹脂基材，藉由PVA系樹脂的塗佈及乾燥來生成PVA系樹脂層，將所生成之PVA系樹脂層浸漬於二色性物質的染色液，使二色性物質吸附於PVA系樹脂層，再在硼酸水溶液中將經吸附有二色性物質的PVA系樹脂層與樹脂基材一體地以使得總拉伸倍率成為原始長度的5倍以上的方式來拉伸，而製造。
又，製造包含經配向有二色性物質之薄型高機能偏光膜的積層體薄膜的方法，藉由包含下述步驟，而能夠製造上述薄型高機能偏光膜：生成積層體薄膜的步驟，該積層體薄膜包含具有至少20μm厚度的樹脂基材，與藉由在樹脂基材的單面塗佈及乾燥包含PVA系樹脂之水溶液所形成的PVA系樹脂層；使二色性物質吸附於包含於積層體薄膜之PVA系樹脂層的步驟，其係藉由將包含樹脂基材與經形成在樹脂基材之單面之PVA系樹脂層的前述積層體薄膜，浸漬於包含二色性物質的染色液中；拉伸步驟，其係將包含經使二色性物質吸附的PVA系樹脂層的前述積層體 薄膜，在硼酸水溶液中，以使得總拉伸倍率成為原始長度之5倍以上的方式來進行拉伸；以及，製造積層體薄膜的步驟，該積層體薄膜係藉由經使吸附有二色性物質之PVA系樹脂層係與樹脂基材一體地被拉伸，而在樹脂基材的單面製膜有，由經配向有二色性物質之PVA系樹脂層構成之厚度為7μm以下、具有單體穿透率為42.0%以上且偏光度為99.95%以上之光學特性的薄型高機能偏光膜。
上述日本特願2010-269002號說明書或日本特願2010-263692號說明書薄型偏光膜係由經配向有二色性物質之PVA系樹脂構成的連續卷狀(continuous web)的偏光膜，係藉由積層體(其包含經製膜在非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層)係以由空中輔助拉伸與硼酸水中拉伸構成之2段拉伸步驟所拉伸，而作成10μm以下之厚度者。這樣的薄型偏光膜，當令單體穿透率為T、偏光度為P時，以作成具有滿足P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟，T<42.3)，以及P≧99.9(惟，T≧42.3)之條件之光學特性者為佳。
具體來說，前述薄型偏光膜係可藉由包含下述步驟之薄型偏光膜的製造方法來製造：生成拉伸中間產物之步驟，其係藉由對經製膜在連續卷狀之非晶形酯系熱可塑性樹脂基材的PVA系樹脂層進行空中高溫拉伸，而生成由被配向之PVA系樹脂層構成之拉伸中間產物；生成著色中間產物之步驟，藉由對拉伸中間產物進行二色性物質的吸附，來生成由經使配向有二色性物質(宜為碘或者碘與有機染料的混合物)之PVA系樹脂層構成的著色中間產物；以及， 生成偏光膜的步驟，其係藉由對著色中間產物進行硼酸水中拉伸，而生成由經使配向有二色性物質之PVA系樹脂層構成之厚度為10μm以下的偏光膜。
在此製造方法中，以使得藉由空中高溫拉伸與硼酸水中拉伸進行之PVA系樹脂層(其經製膜在非晶形酯系熱可塑性樹脂基材)的總拉伸倍率係5倍以上為理想的。用於硼酸水中拉伸之硼酸水溶液的液溫可令為60℃以上。在硼酸水溶液中拉伸著色中間產物之前，以對著色中間產物施以不溶解化處理為理想的，該狀況時，以藉由將前述著色中間產物浸漬在液溫不超過40℃的硼酸水溶液來進行為理想的。上述非晶形酯系熱可塑性樹脂基材係可令為非晶形聚對苯二甲酸乙二酯(其包含經使共聚合有間苯二甲酸之共聚聚對苯二甲酸乙二酯、經使共聚合有環己烷二甲醇之共聚聚對苯二甲酸乙二酯或其他之共聚聚對苯二甲酸乙二酯)，以由透明樹脂構成者為佳，其厚度可令為所製膜之PVA系樹脂層之厚度的7倍以上。又，空中高溫拉伸的拉伸倍率宜為3.5倍以下，空中高溫拉伸之拉伸溫度宜為PVA系樹脂的玻璃轉移溫度以上，具體來說95℃~150℃的範圍。當以自由端單軸拉伸來進行空中高溫拉伸的狀況時，經製膜在非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總拉伸倍率宜為5倍以上且7.5倍以下。又，當以固定端單軸拉伸來進行空中高溫拉伸的狀況時，經製膜在非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總拉伸倍率宜為5倍以上且8.5倍以下。更具體地說，可藉由下面的方法來製造薄型偏 光膜。
製作經使共聚合有6mol%間苯二甲酸之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(非晶形PET)之連續卷狀的基材。非晶形PET的玻璃轉移溫度係75℃。如以下般製作由連續卷狀之非晶形PET基材與聚乙烯醇(PVA)層構成的積層體。附帶一提，PVA的玻璃轉移溫度係80℃。
準備200μm厚的非晶形PET基材與，經將聚合度1000以上、皂化度99%以上之PVA粉末溶解於水所成之4~5%濃度的PVA水溶液。其次，在200μm厚的非晶形PET基材塗佈PVA水溶液，以50~60℃的溫度進行乾燥，獲得在非晶形PET基材經製膜有7μm厚之PVA層的積層體。
將包含7μm厚之PVA層的積層體，經由以下步驟(其包含空中輔助拉伸及硼酸水中拉伸之2段拉伸步驟)，製造3μm厚的薄型高機能偏光膜。藉由第1段的空中輔助拉伸步驟，將含7μm厚之PVA層之積層體與非晶形PET基材一體地進行拉伸，而生成含5μm厚之PVA層的拉伸積層體。具體來說，此拉伸積層體係將含7μm厚之PVA層的積層體放上經配備在被設定為130℃之拉伸溫度環境之烘箱中的拉伸裝置，以使拉伸倍率成為1.8倍的方式進行自由端單軸地拉伸所得者。藉由此拉伸處理，使包含於拉伸積層體的PVA層變化為PVA分子被配向之5μm厚之PVA層。
其次，藉由染色步驟來生成經使碘吸附於PVA分子被配向之5μm厚的PVA層的著色積層體。具體來說，此著色積層體，係藉由將拉伸積層體，以使得構成最終所生成 之高機能偏光膜之PVA層的單體穿透率成為40~44%的任意時間，浸漬於液溫30℃之包含碘及碘化鉀之染色液中，經使碘吸附於包含於拉伸積層體之PVA層者。在本步驟來說，染色液係令水為溶劑、令碘濃度為0.12~0.30重量%的範圍內且令碘化鉀濃度為0.7~2.1重量%的範圍內。碘與碘化鉀之濃度的比係1比7。附帶一提，為了將碘溶解於水，碘化鉀係必須的。更詳細地說，藉由將拉伸積層體浸漬在碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%的染色液中60秒，來生成經使碘吸附於PVA分子被配向之5μm厚之PVA層的著色積層體。
進一步，藉由第2段之硼酸水中拉伸步驟，將著色積層體與非晶形PET基材一體地進一步進行拉伸，來生成含3μm厚之構成高機能偏光膜之PVA層的光學薄膜積層體。具體來說，此光學薄膜積層體，係將著色積層體放上經配備在處理裝置(其被設定在包含硼酸與碘化鉀之液溫範圍60~85℃的硼酸水溶液中)中的拉伸裝置，以使得拉伸倍率成為3.3倍的方式自由端單軸地進行拉伸而成者。更詳細地，硼酸水溶液的液溫係65℃。除此之外，相對於水100重量份令硼酸含量為4重量份，而相對於水100重量份令碘化鉀含量為5重量份。本步驟中，將經調整碘吸附量之著色積層體，首先浸漬於硼酸水溶液5~10秒。此後，將該著色積層體逕通過配備在處理裝置的拉伸裝置之周速相異之複數組的輥筒間，費時30~90秒以使得拉伸倍率成為3.3倍的方式自由端單軸地進行拉伸。藉由此拉伸處理，使得包含 於著色積層體的PVA層，轉變為所吸附之碘以聚碘離子錯合物的形式經單一方向高度配向的3μm厚的PVA層。此PVA層係構成光學薄膜積層體的高機能偏光膜。
雖然非係在光學薄膜積層體的製造中所必須的步驟，宜將光學薄膜積層體自硼酸水溶液取出，透過洗淨步驟以碘化鉀水溶液來洗淨附著在經製膜在非晶形PET基材之3μm厚的PVA層表面的硼酸。此後，將經洗淨之光學薄膜積層體藉著由60℃的溫風所行之乾燥步驟進行乾燥。再者，洗淨步驟係用以消除硼酸析出等外觀不良的步驟。
同樣地，雖然並非係在光學薄膜積層體的製造中所必須的步驟，但可藉由貼合及/或轉移步驟，一邊在經製膜在非晶形PET基材之3μm厚之PVA層的表面塗佈接著劑，並在貼合80μm厚的三醋酸纖維素膜之後，剝離非晶形PET基材，將3μm厚之PVA層轉移至80μm厚的三醋酸纖維素膜。
[其他的步驟]
上述薄型偏光膜的製造方法，在上述步驟以外，可含有其他的步驟。就其他的步驟而言，例如可舉：不溶解化步驟、交聯步驟、乾燥(含水率的調節)步驟等。其他的步驟，能在任意適切的時機進行。
上述不溶解化步驟，代表性來說，係藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。藉由施行不溶解化處理，可對PVA系樹脂層賦予耐水性。該硼酸水溶液的濃度，相對於水100重量份，宜為係1重量份~4重量份。不溶解化浴(硼酸水溶液)的液溫較佳係20℃~50℃。較佳地，不溶解 化步驟係在積層體製作後，在染色步驟及水中拉伸步驟之前進行。
上述交聯步驟，代表性地，係藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。藉由施行交聯處理，可對PVA系樹脂層賦予耐水性。該硼酸水溶液的濃度，相對於水100重量份，宜為1重量份~4重量份。又，當在上述染色步驟後進行交聯步驟的狀況時，進一步以摻混碘化物為佳。藉由摻混碘化物，可抑制經使吸附於PVA系樹脂層之碘的溶離。碘化物的摻混量，相對於水100重量份，較佳係1重量份~5重量份。碘化物的具體例係如上述。交聯浴(硼酸水溶液)的液溫較佳係20℃~50℃。較佳地，交聯步驟係在上述第2之硼酸水中拉伸步驟之前進行。在較佳的實施形態而言，係以染色步驟、交聯步驟及第2之硼酸水中拉伸步驟依此順序進行。
作為形成設在上述偏光件之單面或兩面之透明保護薄膜的材料，宜為透明性、機械強度、熱安定性、水分阻絕性、等向性等優異者，特別係以透溼度為150g/m2/24h以下者為較佳，以140g/m2/24h以下者為特佳，以120g/m2/24h以下者為更佳。透溼度係可藉由於實施例記載的方法求得。
透明保護薄膜的厚度，可適宜地決定，但一般來說從強度及操作性等作業性、薄層性等點來看係1~500μm左右，以1~300μm為佳，以5~200μm更佳。進一步以10~200μm為佳，以20~80μm為更佳。
作為滿足前述低透溼度之透明保護薄膜的形成 材料料，例如可使用：三醋酸纖維素(TAC)等纖維素樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚碳酸酯樹脂；芳酯系樹脂；耐綸或芳香族聚醯胺等醯胺系樹脂；如聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、具有環系或者降莰烯結構之環狀烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂，或此等之混合物。前述樹脂之中，以聚碳酸酯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂為佳，特別係以環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂為佳。
作為環狀聚烯烴樹脂的具體例，較佳係降莰烯系樹脂。環狀烯烴系樹脂係以環狀烯烴為聚合單位所聚合之樹脂的總稱，例如可舉記載於日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等的樹脂。作為具體例，可舉：環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴及其共聚物(代表性地係無規共聚物)，以及將此等以不飽和羧酸或其衍生物改性而成的接枝聚合物，以及此等的氫化物等。作為環狀烯烴的具體例，可舉降莰烯系單體。
作為環狀聚烯烴樹脂，各種的製品在市面上販售。作為具體例可舉：日本Zeon股份有限公司製之商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」，JSR股份公司製之商品名「ARTON」，TICONA公司製之商品名「TOPAS」，三井化學股份有限公司製之商品名「APEL」。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg(玻璃轉移溫度)宜為115℃以上，較佳係120℃以上，更佳係125℃以上，特佳 係130℃以上。因為Tg係115℃以上，而能夠成為偏光板的耐久性優異者。上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg的上限值未被特別限定，但從成形性等觀點來看，較佳係170℃以下。從(甲基)丙烯酸系樹脂，所獲得面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)幾乎為零的薄膜。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，在不損及本發明效果的範圍內，能採用任意適切的(甲基)丙烯酸系樹脂。例如，可舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚合物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。較佳係可舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。更佳係可舉以甲基丙烯酸甲酯為主成份(50~100重量%，較佳係70~100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例，例如可舉：三菱麗陽股份公司製之ACRYPET VH及ACRYPET VRL20A、記載於日本特開2004-70296號公報之在分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、藉由分子內交聯或分子內環化反應所獲得之高Tg(甲基)丙烯酸系樹脂。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，可使用具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。那是因為高耐熱性、高透明性並進行雙軸拉伸而具有高機械強度。
作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可舉：於日本特開2000-230016號公報、日本特開2001-151814號公報、日本特開2002-120326號公報、日本特開2002-254544號公報，以及日本特開2005-146084號公報等記載之，具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂。
再者，設在偏光件的兩面之前述低透溼度的透明保護薄膜，在其表裡可使用由相同聚合物材料構成之透明保護薄膜，亦可使用由相異之聚合物材料等構成之透明保護薄膜。
作為前述透明保護薄膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或，厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板。正面相位差，通常係控制在40~200nm的範圍，而厚度方向相位差，通常控制在80~300nm的範圍。當使用相位差板作為透明保護薄膜的狀況時，由於該相位差板亦有作為透明保護薄膜之機能的緣故，而可圖謀薄型化。
作為相位差板，可舉將高分子材料進行單軸或雙軸拉伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物的配向薄膜、經以薄膜來支持液晶聚合物的配向層而成者等。相位差板的厚度亦未被特別限制，但20~150μm左右係一般的。
再者，前述具有相位差的薄膜，可另行貼合在不具有相位差的透明保護薄膜，而賦予上述機能。
在上述透明保護薄膜之不接著偏光件之面，可設硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層或者抗眩光層等機能層。再者，上述硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層及抗 眩光層等機能層，除了可設在透明保護薄膜其本身外，亦能夠另行以和透明保護薄膜為不同物體的方式來設置。
本發明的偏光薄膜，在實際使用之際能以經與其他光學層積層的光學薄膜來使用。就該光學層而言未特別限定，但，能夠使用1層或2層以上例如：反射板或半穿透板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等有使用於液晶顯示裝置等之形成的光學層。特別地，較佳係在本發明的偏光薄膜進一步積層反射板或半穿透反射板而成之反射型偏光薄膜或半穿透型偏光薄膜、在偏光薄膜進一步積層相位差板而成的橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、在偏光薄膜進一步積層視角補償薄膜而成的廣視角偏光薄膜，或者在偏光薄膜進一步積層輝度提升薄膜(luminance improving film)而成的偏光薄膜。
在偏光薄膜經積層上述光學層的光學薄膜，在液晶顯示裝置等製造過程中雖亦能以依次個別地積層的方式來形成，但預先積層而作成光學薄膜者，在品質安定性及組裝作業等優異而有能夠提升液晶顯示裝置等製造步驟的優點。就積層而言能使用黏著層等適宜的接著方法。在上述的偏光薄膜及其他光學薄膜接著之際，此等的光學軸係可因應作為目標的相位差特性等作成適宜的配置角度。
在前述的偏光薄膜及，至少積層有1層偏光薄膜的光學薄膜，亦可設置用以接著液晶胞等其他構件的黏著層。形成黏著層的黏著劑未被特別限制，例如可適宜地選擇使用以丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺甲 酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基底聚合物者。特別係，較佳可使用如丙烯酸系黏著劑光學透明性優異、顯示適當的濕潤性與凝集性與接著性的黏著特性，並且在耐候性及耐熱性等優異者。
黏著層亦可作成相異之組成或種類等者的重疊層來設在偏光薄膜及光學薄膜的單面或兩面。又，當設置在兩面的狀況時，在偏光薄膜及光學薄膜的表裡來說亦可作成相異組成、種類、厚度等的黏著層。黏著層的厚度可因應使用目的、接著力等來適宜地決定，一般來說係1~500μm，1~200μm係較佳，以1~100μm為特佳。
對黏著層的露出面，至供至實際使用之期間，為了防止其受到汚染等目的，係被分離件暫時黏著而覆蓋。藉此，可防止在慣例的操作狀態下接觸黏著層。作為分離件，除上述厚度條件外，能夠使用將例如：塑料薄膜、橡皮片、紙、布、不織布、網狀織物(net)、發泡片材及金屬箔、此等層合體等適宜的薄葉體，因應需要經使用矽酮系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適宜的剝離劑來塗佈處理者等準據習知適宜者。
本發明的偏光薄膜或光學薄膜係可較佳地使用在液晶顯示裝置等各種裝置的形成等。液晶顯示裝置的形成能準據習知方式進行。亦即，液晶顯示裝置一般係藉由適宜地組裝液晶胞與偏光薄膜或光學薄膜，以及因應需要之照明系統等構成部件，並將驅動電路組入等所形成，但，就本發明而言除了使用根據本發明之偏光薄膜或光學薄膜 之點外未特別限定，能準據習知方式。就液晶胞而言亦能夠使用例如：TN型或STN型、π型等任意類型者。
可形成在液晶胞的單側或兩側經配置有偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置，或在照明系統使用有背光或反射板而成者等適宜的液晶顯示裝置。該狀況時，依據本發明之偏光薄膜或光學薄膜係可設置在液晶胞的單側或兩側。當在兩側設偏光薄膜或光學薄膜的狀況時，該等可係相同者，亦可係相異者。進一步，於形成液晶顯示裝置之際，可在適宜的位置配置1層或2層以上例如：擴散板、抗眩光層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光等適宜的部件。
實施例
雖在以下記載本發明的實施例，但本發明的實施形態未被限定於此等。
<Tg：玻璃轉移溫度>
Tg係使用TA Instruments製動態黏彈性測定裝置RSAIII使用以下的測定條件來測定。
樣本尺寸：寬度10mm、長度30mm， 夾鉗距離20mm， 測定模式：拉伸，頻率：1Hz，升溫速度：5℃/分，進行動態黏彈性的測定，採用tanδ的峰頂溫度作為Tg。
<透明保護薄膜的透溼度>
透溼度的測定係準據JIS Z0208的透溼度試驗(杯式法)來測定。將經切割為直徑60mm的樣本組裝至裝入有約15g 之氯化鈣的透溼杯，放入溫度40℃、溼度90%R.H.的恆溫機，藉測定放置24小時之前後氯化鈣的重量增加來求得透溼度(g/m2/24h)。
<透明保護薄膜>
對厚度40μm之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂(透溼度96g/m2/24h)施以電暈處理來使用作為透明保護薄膜。
<活性能量線>
作為活性能量線，係使用紫外線(封入鎵的金屬鹵素燈)照射裝置：Fusion UV Systems,Inc公司製Light HAMMER10燈：V燈尖峰照度：1600mW/cm2，積算照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)。再者，紫外線的照度係使用Solatell公司製Sola-Check系統來測定。
(活性能量線硬化型接著劑組成物的調整)
實施例1~3、比較例1
按照記載於表1的摻混表，混合各成份在50℃下攪拌1小時，獲得根據實施例1~3、比較例1之活性能量線硬化型接著劑組成物。表中的數值係顯示令組成物總量為100重量%時的重量%。基於下述條件來評價該接著劑組成物的相容性。使用的各成份係如以下。
(1)具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(A)
AAEM(2-乙醯乙醯氧基乙基甲基丙烯酸酯)，同元聚合物的Tg9℃，日本合成化學公司製
(2)有氫摘取作用之自由基聚合起始劑(B)KAYACURE DETX-S(DETX-S)(二乙基9-氧硫)， 日本化藥公司製
(3)N-取代醯胺系單體(C)HEAA(羥乙基丙烯醯胺)，同元聚合物的Tg123℃，興人公司製ACMO(丙烯醯基啉)，同元聚合物的Tg150℃，興人公司製
(4)交聯劑(D)
ARONIX M-220(M-220)(三伸丙二醇二丙烯酸酯)，同元聚合物的Tg60℃，東亞合成公司製
(5)將(甲基)丙烯酸單體予以聚合而成的丙烯酸系寡聚物(E)
ARUFON UP-1190(UP-1190)，東亞合成公司製
(6)光聚合起始劑(以一般式(2)所表示之化合物)
IRGACURE907(IRG907)(2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-啉基丙烷-1-酮)，BASF公司製
(薄型偏光膜X的製作與使用有其之偏光薄膜的製作)
為了製作薄型偏光膜X，首先，將在非晶形PET基材製膜有24μm厚之PVA層的積層體藉由拉伸溫度130℃的空中補助拉伸來生成拉伸積層體；其次，藉由將拉伸積層體染色來生成著色積層體；進一步，將著色積層體藉由拉伸溫度65度之硼酸水中拉伸，以使得總拉伸倍率成為5.94倍的方式來生成包含經與非晶形PET基材一體地被拉伸之10μm厚的PVA層的光學薄膜積層體。藉由這樣的2段拉伸，可生成包含構成高機能偏光膜Y之厚度10μm之PVA層的光學薄膜積層體，該高機能偏光膜Y係經製膜在非晶形PET基材之PVA層的PVA分子被高度地配向，而藉由染色所吸附之碘以 聚碘離子錯合物的形式在單一方向上被高度地配向者。進一步，在該光學薄膜積層體之薄型偏光膜X(含水率5.0%)的表面使用MCD COATER(富士機械公司製)(室形狀：蜂窩，凹版輥線數：1000根/英吋，轉速140%/相對於生產線速)以使得厚度成為0.5μm來塗佈根據實施例1~4、比較例1之活性能量線硬化型接著劑組成物，從接著劑塗佈面貼合透明保護薄膜。其後，從經貼合之透明保護薄膜側(兩側)，使用IR加熱器加溫至50℃，對兩面照射上述紫外線來使根據實施例1~4、比較例1的活性能量線硬化型接著劑組成物硬化之後，在70℃下熱風乾燥3分鐘。其後，剝離非晶形PET基材，來製作使用有薄型偏光膜X的偏光薄膜。貼合的生產線速度係以25m/min進行。基於下述條件來評價所獲得之各偏光薄膜的接著力、耐水性(溫水浸漬試驗)、耐久性(熱震試驗)。
<初期接著力>
將偏光薄膜以與偏光件拉伸方向平行200mm，垂直方向15mm之大小來切出，在透明保護薄膜(丙烯酸樹脂薄膜)與偏光件之間以截切刀來切出切口，將偏光薄膜貼合至玻璃板。藉由萬能拉力試驗機(Tensilon)，以剝離速度300mm/min，在90度方向上將保護薄膜與偏光件剝離，測定其初期剝離強度(N/15mm)。令初期剝離強度為0.5N/15mm以上的狀況為○，令未達0.5N/15mm的狀況為×。
<溫水浸漬後的接著力(耐水性評價)>
將偏光薄膜以與偏光件拉伸方向平行200mm，垂直方向15mm之大小來切出，在透明保護薄膜(丙烯酸樹脂薄膜) 與偏光件之間以截切刀來切出切口，將偏光薄膜貼合至玻璃板。使這樣的偏光薄膜浸漬於40℃的溫水中2小時後，取出並在30分鐘以內(非乾燥狀態下)藉由萬能拉力試驗機，以剝離速度300mm/min在90度方向上來剝離保護薄膜與偏光件，測定其剝離強度(N/15mm)。令剝離強度為0.5N/15mm以上的狀況為○，令未達0.5N/15mm的狀況為×。
<耐久性(熱震試驗)>
在偏光薄膜的偏光膜面積層黏著劑層，並切割出在偏光件拉伸方向200mm，垂直方向400mm的長方形。將上述偏光薄膜層合至玻璃板，進行-40℃85℃之熱循環試驗，目視觀察50循環後的偏光薄膜，基於下述基準進行評價。
○：未見龜裂的產生
△：在偏光件的拉伸方向產生未貫通的龜裂(龜裂長度200mm以下)
×：在偏光件的拉伸方向產生貫通的龜裂(龜裂長度200mm)

Claims (13)

  1. 一種活性能量線硬化型接著劑組成物，其特徵在於含有具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(A)，以及有氫摘取作用之自由基聚合起始劑(B)作為硬化性成份；並且，令組成物總量為100重量%時，該活性能量線硬化型接著劑組成物含有(A)1~50重量%及(B)0.1~10重量%。
  2. 如請求項1之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述活性亞甲基係乙醯乙醯基。
  3. 如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基聚合性化合物(A)係乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯。
  4. 如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基聚合起始劑(B)係9-氧硫系自由基聚合起始劑。
  5. 如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其進一步含有N-取代醯胺系單體。
  6. 如請求項5之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述N-取代醯胺系單體係羥乙基丙烯醯胺及/或丙烯醯基啉。
  7. 如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其係用以於偏光件的至少單面設置透明保護薄膜者。
  8. 一種偏光薄膜，係在偏光件的至少其中一面，透過接著劑層而設有波長365nm之光線穿透率未達5%之透明保護薄膜；該偏光薄膜之特徵在於：前述接著劑層係藉由硬化物層而形成者，且該硬化物層係對如請求項1至8之活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而成者。
  9. 如請求項8之偏光薄膜，其中前述接著劑層的玻璃轉移溫度(Tg)係60℃以上。
  10. 一種偏光薄膜之製造方法，係製造在偏光件的至少其中一面，透過接著劑層設有波長365nm之光線穿透率未達5%的透明保護薄膜之偏光薄膜；該方法之特徵在於包含下述步驟：塗敷步驟，係在前述偏光件或前述透明保護薄膜之至少其中一面，塗敷如請求項1至7中任一項之活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，係與前述偏光件及前述透明保護薄膜貼合；以及接著步驟，係從前述偏光件面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線，且透過藉由使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所獲得之接著劑層，使前述偏光件與前述透明保護薄膜接著。
  11. 如請求項10之偏光薄膜之製造方法，其中前述貼合步驟時之前述偏光件的含水率未達15%。
  12. 一種光學薄膜，其特徵在於至少積層有1片如請求項8或9之偏光薄膜。
  13. 一種影像顯示裝置，其特徵在於使用有如請求項8或9的偏光薄膜，及/或如請求項12的光學薄膜。
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