TW201402725A - 錨定層形成用塗布液、附黏著劑層之光學薄膜及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種錨定層形成用塗布液、附黏著劑層之光學薄膜及其製造方法，所述錨定層形成用塗布液可形成配設於光學薄膜與黏著劑層之間，且導電性能及與光學薄膜的潤濕性優異的錨定層；所述附黏著劑層之光學薄膜係錨定層的導電性能及光學薄膜與錨定層的潤濕性優異，且能夠抑制錨定層的單體透過率降低。一種錨定層形成用塗布液，該錨定層係配設於光學薄膜與黏著劑層之間者；該塗布液之特徵在於含有：聚噻吩系聚合物，含聚氧亞烷基的聚合物，及混合溶劑，係包含65~100重量%的水與0~35重量%的醇。

Description

錨定層形成用塗布液、附黏著劑層之光學薄膜及其製造方法 技術領域
本發明涉及配置於光學薄膜與黏著劑層之間的錨定層形成用塗布液、附黏著劑層之光學薄膜及其製造方法。作為前述光學薄膜，可列舉出偏光薄膜、相位差板、光學補償薄膜、增亮薄膜、防反射薄膜等表面處理薄膜、以及積層有該等的薄膜等。
背景技術
對於液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等而言，根據其影像形成方式，例如在液晶顯示裝置中，係必須在液晶單元的兩側配置偏光元件，且通常係黏貼有偏光薄膜。另外，在液晶面板及有機EL面板等顯示面板中，除了偏光薄膜以外，為了提高顯示器的顯示品質而逐漸開始使用各種光學元件。另外，為了對液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示裝置進行保護、或賦予高級感、或對設計進行區別化係使用了前面板。在與該等液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等影像顯示裝置、前面板等影像顯示裝置一同使用的構件中，使用有以下薄膜：例如， 用於防止著色的相位差板、用於改善液晶顯示器的視野角之視野角擴大薄膜、進而用於提高顯示器的對比度之增亮薄膜、為了賦予表面耐擦傷性而使用的硬塗層薄膜、用於防止對影像顯示裝置的投映之防眩處理薄膜、抗反射薄膜、低反射薄膜等防反射薄膜等的表面處理薄膜。而該等薄膜統稱為光學薄膜。
將前述光學薄膜黏貼在液晶單元及有機EL面板等顯示面板、或前面板上時，通常會使用黏著劑。另外，關於光學薄膜與液晶單元以及有機EL面板等顯示面板、或前面板、或光學薄膜間的接著，通常為了減少光的損失，各材料係使用黏著劑進行密合。這種情況下，由於具有在使光學薄膜固著時不需要乾燥步驟等優點，因此通常係使用在光學薄膜的一側已預先設置黏著劑層而得之附黏著劑層之光學薄膜。
光學薄膜在加熱、加濕條件下容易收縮．膨脹，故光學薄膜與黏著劑的密合性低時，有時在光學薄膜與黏著劑層之間會產生浮起、剝離。尤其是應用在要求具有比液晶面板更高耐久性之以車輛導航為代表的車載用途上時，光學薄膜受到的收縮應力也會增加，而變得更容易產生浮起、剝離。具體而言，例如即使在TV用等所實施的80℃左右的可靠性試驗中沒有問題，但在車輛導航等車載用所實施的95℃左右的可靠性試驗中也變得容易發生浮起、剝離等不良情況。另外，將附黏著劑層之光學薄膜黏貼於液晶顯示器之後，根據需要而暫時剝離並進行再黏貼 (rework)時，若光學薄膜與黏著劑的密合力低，則會有黏著劑殘留於液晶顯示器的表面，而再使用無法効率良好地進行這樣的不良情況。另外，在附黏著劑層之光學薄膜的切斷、輸送時等於使用步驟中進行處理時，若附黏著劑層之光學薄膜的端部與人或周圍的物體發生接觸，則也容易發生由於該部分的黏著劑缺失而引起的液晶面板的顯示缺陷等的不良情況。為了消除該等不良情況，而實施了在光學薄膜上塗布錨定層後塗布黏著劑，來提高光學薄膜與黏著劑層的密合性的手法。
然而，對於前述黏著劑層，在作為環境加速試驗而通常所進行之基於加熱及加濕等的耐久試驗時，會要求不產生由黏著劑導致的不良情況。但是，在光學薄膜與黏著劑層之間配置錨定層時，會有在耐久性試驗時，於光學薄膜的錨定層形成面側產生溶劑裂紋的問題。尤其是例如即使在TV用等所實施的80℃左右的可靠性試驗中不產生溶劑裂紋，但有時在車輛導航等車載用所實施的95℃左右的可靠性試驗中也會產生明顯的溶劑裂紋。
下述專利文獻1中記載了一種在光學薄膜與黏著劑層之間配置有錨定層的附黏著劑層之光學薄膜，該錨定層係使含有水及醇的混合溶劑與多胺化合物之錨定層形成用塗布液塗布．乾燥而得到者。但是，對於該附黏著劑層之光學薄膜，用於解決耐久性試驗時，在光學薄膜的錨定層形成面側會產生溶劑裂紋的問題之錨定層形成用塗布液的組成．乾燥條件的研究，尚未具體進行。
另外，在下述專利文獻2中記載了一種在光學薄膜與黏著劑層之間配置有錨定層的附黏著劑層之光學薄膜，所述錨定層是使含有水及醇的混合溶劑與含噁唑啉基聚合物之錨定層形成用塗布液塗布．乾燥而得到者，且作為該錨定層形成用塗布液的乾燥條件，則具體公開了設定為乾燥溫度40度、乾燥時間120秒的例子。進而，下述專利文獻3中記載了一種在光學薄膜與黏著劑層之間配置有錨定層的附黏著劑層之光學薄膜，所述錨定層是使由含有聚胺甲酸酯樹脂與水溶性聚噻吩系導電性聚合物之水溶液形成的錨定層形成用塗布液塗布．乾燥而得到者，作為該錨定層形成用塗布液的乾燥條件，具體公開了設定為乾燥溫度80度、乾燥時間120秒的例子。然而已經判明，該等乾燥條件從防止上述溶劑裂紋的產生的觀點出發尚有進一步改良的餘地。
進而，下述專利文獻4中記載了一種在光學薄膜與黏著劑層之間配置有錨定層的附黏著劑層之光學薄膜，所述錨定層是使含有氨且含有水分散型聚合物的錨定層形成用塗布液塗布．乾燥而得到者，作為該錨定層形成用塗布液的乾燥條件的例子，則具體公開了設定為乾燥溫度50度、乾燥時間60秒。但是，錨定層中存在的氨的比率變多時，在高熱、高濕度環境下，例如使用偏光薄膜作為光學薄膜時，偏光薄膜的偏光特性會產生變化。由此，會對光學特性造成影響，而有時變得無法滿足高熱、高濕度環境下的高耐久性。
如上所述，在現有的技術中，並沒有著眼於在光學薄膜的錨定層形成面側會產生溶劑裂紋的問題的例子，則為了改善該問題，還需要進一步研究。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2004-078143號公報
專利文獻2：日本特開2007-171892號公報
專利文獻3：日本特開2009-242786號公報
專利文獻4：日本特開2007-248485號公報
發明概要
最近，在IPS模式等的液晶面板中，通常作為防靜電對策而會對面板表面實施ITO處理等，但由於低成本化等的影響，也存在廉價而性能差的ITO處理等，故更加需要提高黏貼的偏光薄膜的導電性能。另一方面，特別是在大型TV用途等中，高亮度化、高對比化推進，與之相伴地，對偏光薄膜也要求高透過率、高偏光度，故抑制由包括錨定層在內之各構成材料導致的透過率的降低則成為重要課題。
為了提高偏光薄膜中錨定層的導電性能，例如可以藉由增加錨定層中的導電劑的添加量來達成，但若增加導電劑的添加量，則必然錨定層的透過率降低會增大。即，實際情況是錨定層中的導電性能的提高與透過率 降低的抑制是矛盾的關係。
本發明是鑒於前述實際情況而做出者，其目的在於提供一種可形成配設於光學薄膜與黏著劑層之間、且導電性能及與光學薄膜的潤濕性優異之錨定層的錨定層形成用塗布液。
進而，本發明提供錨定層的導電性能及光學薄膜與錨定層的潤濕性優異、可抑制錨定層的單體透過率的降低的附黏著劑層之光學薄膜及其製造方法。
本發明人等為了解決前述課題而進行了深入研究，結果發現，藉由使用在包含水及醇的混合溶劑中、尤其是在以水為主成分的混合溶劑中添加又有噻吩系聚合物及含聚氧亞烷基的聚合物而得到之錨定層形成用塗布液，在光學薄膜的至少一個面上形成錨定層，從而能夠製造光學薄膜與錨定層的潤濕性優異且可抑制錨定層的單體透過率的降低之附黏著劑層之光學薄膜。本發明是根據前述研究結果而完成的，其係藉由如下所述的構成來達成上述目的。
即，本發明涉及一種錨定層形成用塗布液，該錨定層係配設於光學薄膜與黏著劑層之間者；該塗布液之特徵在於含有：聚噻吩系聚合物，含聚氧亞烷基的聚合物，及包含65~100重量%的水與0~35重量%的醇之混合溶劑。
在上述錨定層形成用塗布液中，宜還含有聚 胺甲酸酯樹脂系黏結劑。
在上述錨定層形成用塗布液中，宜含有0.005~5重量%的前述聚噻吩系聚合物、0.005~5重量%的前述含聚氧亞烷基的聚合物、0.005~5重量%的前述聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑。
另外，本發明涉及一種附黏著劑層之光學薄膜，其係在光學薄膜的至少一個面上隔著錨定層積層有黏著劑層者，其特徵在於：前述錨定層是藉由將如前述任一項所述的錨定層形成用塗布液塗布於前述光學薄膜並乾燥而製得者，且其單體透過率的降低為1%以下。
在上述附黏著劑層之光學薄膜中，前述光學薄膜宜為已在其錨定層形成面側實施過易接著處理者。
在上述附黏著劑層之光學薄膜中，前述光學薄膜的前述錨定層形成面側宜為未皂化三醋酸纖維素。
在上述附黏著劑層之光學薄膜中，前述附黏著劑層之光學薄膜宜為附黏著劑層偏光薄膜。
另外，本發明涉及一種附黏著劑層之光學薄膜的製造方法，其係製造在光學薄膜的至少一個面上隔著錨定層積層有黏著劑層之附黏著劑層之光學薄膜者，該方法之特徵在於至少包括以下步驟：易接著處理步驟，係在形成前述錨定層的步驟前，對前述光學薄膜的前述錨定層形成面側實施易接著處理；及，塗布步驟，將如前述任一項所述的錨定層形成用塗布液塗布到前述光學薄膜的易接著處理面；且前述錨定層的單體透過率的降低為1%以下。
在上述附黏著劑層之光學薄膜的製造方法中，前述光學薄膜的前述錨定層形成面側宜為未皂化三醋酸纖維素。
在上述附黏著劑層之光學薄膜的製造方法中，宜在前述塗布步驟後還包括錨定層形成步驟，該步驟係藉由在滿足下述(1)~(2)兩者的乾燥條件下進行乾燥以去除前述混合溶劑，而形成錨定層：(1)乾燥溫度T=40~70℃，(2)前述乾燥溫度T(℃)與前述乾燥時間H(秒)相乘而得到的值(T×H)為400≦(T×H)≦4000。
在上述附黏著劑層之光學薄膜的製造方法中，從在前述光學薄膜上塗布前述錨定層形成用塗布液後到開始乾燥為止的時間宜為30秒以下。
本發明的影像顯示裝置的特徵在於，其係使用前述偏光薄膜或前述光學薄膜。
在本發明的錨定層形成用塗布液中，由於作為導電劑起作用的聚噻吩系聚合物係存在於富含水(醇量≦35重量%)的混合溶劑中，因而聚噻吩系聚合物的分散性會提高。因此，將錨定層形成用塗布液塗布並乾燥後得到的錨定層的導電性會提高。
此外，於使錨定層形成用塗布液中的混合溶劑富含水時，對光學薄膜的潤濕性會惡化，而有錨定層形成用塗布液的塗布性能降低之虞。然而，在本發明的錨定 層形成用塗布液中，由於係使混合溶劑富含水、並且含有含聚氧亞烷基的聚合物，因此能夠平衡性良好地提高將錨定層形成用塗布液塗布並乾燥後得到的錨定層的導電性能、及錨定層與光學薄膜的潤濕性。
當本發明的錨定層形成用塗布液中含有聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑作為黏結劑成分時，藉由該錨定層形成用塗布液得到的錨定層，光學薄膜與黏著劑層的密合性會提高，故而適宜。
在本發明的附黏著劑層之光學薄膜中，由於作為原料的錨定層形成用塗布液富含水，因而能夠減少錨定層中聚噻吩系聚合物的含量，並提高錨定層的導電性能，而且，伴隨聚合物成分的含量降低，還能夠抑制錨定層的單體透過率降低。另外，由於錨定層形成用塗布液含有含聚氧亞烷基的聚合物，因而光學薄膜與錨定層的潤濕性優異。
然而，通常在為了提高光學薄膜與黏著劑層的密合性而於對光學薄膜實施易接著處理步驟之後形成錨定層時，由於易接著處理會導致在光學薄膜上產生草酸等，故pH值會降低，因而錨定層形成用塗布液中的黏結劑樹脂成分的液體穩定性會降低，而有時會產生源自黏結劑樹脂的異物。但是，對本發明的附黏著劑層之光學薄膜而言，藉由使作為原料的錨定層形成用塗布液的混合溶劑富含水(醇量≦35重量%)，則即使黏結劑成分的pH值降低也能夠維持其液體穩定性。其結果，藉由抑制源自黏結劑的異 物的產生，可以在具有錨定層的附黏著劑層之光學薄膜中抑制錨定層中的異物產生量。
在本發明的附黏著劑層之光學薄膜中，尤其是在錨定層形成用塗布液中含有聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑作為黏結劑樹脂成分時，藉由製得的錨定層，光學薄膜與黏著劑層的密合性會提高，故而適宜。另一方面，使用聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑時，受易接著處理所引起的在光學薄膜上產生的草酸的影響，異物會更容易產生。雖然其理由尚不明確，但可以想到的是，若產生．存在草酸等酸時，黏結劑的pH值會降低，此時，由於胺基甲酸酯黏結劑具有在弱鹼性下穩定的傾向，因此，隨著pH值的降低，液體穩定性惡化的趨勢則強。尤其是當使用水溶性或水分散性聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑作為聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑時，會存在一旦pH值降低則異物產生量就會顯著增加的傾向。然而，在本發明中，即使在使用聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑、進而使用水溶性或水分散性聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑的情況下，藉由使錨定層形成用塗布液的混合溶劑富含水，則即使黏結劑成分的pH值降低，也能夠維持其液體穩定性。結果，能夠抑制錨定層中的異物產生。
進而，當光學薄膜的錨定層形成面側為未皂化三醋酸纖維素時，草酸產生量會增大，故而特別容易產生異物。但是，本發明由於係使用具有特定的混合溶劑比率的錨定層形成用塗布液，因而能夠更有效地抑制異物的產生。
在本發明中，藉由在滿足下述(1)~(2)兩者的乾燥條件下對含有以水及醇為主成分的混合溶劑的錨定層形成用塗布液進行乾燥，可在光學薄膜的錨定層形成面側有效地防止溶劑裂紋產生：(1)乾燥溫度T=40~70℃，(2)前述乾燥溫度T(℃)與前述乾燥時間H(秒)相乘得到的值(T×H)為400≦(T×H)≦4000。
用以實施發明之形態
本發明涉及一種配設於光學薄膜與黏著劑層之間的錨定層形成用塗布液，所述錨定層形成用塗布液含有聚噻吩系聚合物、含聚氧亞烷基的聚合物、及包含65~100重量%的水與0~35重量%的醇之混合溶劑。
作為醇，宜為在常溫(25℃)下為親水性者，且特別宜為能與水以任意比率混合者。作為這種醇，宜為碳數1~6的醇。進一步宜為碳數1~4的醇、更進一步宜為碳數1~3的醇。作為這種醇的具體例子，例如可列舉出甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、二級丁醇、三級丁醇、正戊醇、異戊醇、二級戊醇、三級戊醇、1-乙基-1-丙醇、2-甲基-1-丁醇、正己醇以及環己醇等。其中，宜為乙醇、異丙醇，更宜為異丙醇。醇可以單獨使用一種或混合使用兩種以上。兩種以上的醇可以以任意比率混合。例 如，可以使用將乙醇與異丙醇以任意比率混合而成的混合醇。
作為聚噻吩系聚合物，可以使用各種形式的聚噻吩系聚合物，且可以適宜地使用水溶性或水分散性的聚噻吩系聚合物。聚噻吩系聚合物之以聚苯乙烯換算的重量平均分子量宜為400000以下、進一步宜為300000以下。當重量平均分子量超過前述值時，會有變得不滿足前述水溶性或水分散性的傾向，且使用這種聚合物調製塗布液時，會有聚合物的固體成分殘留於該塗布液中、或因高黏度化而變得難以形成膜厚均勻的錨定層的傾向。
前述水溶性是指相對於100g水的溶解度為5g以上的情況。前述水溶性聚噻吩系聚合物之相對於100g水的溶解度宜為20~30g。水分散性聚噻吩系聚合物係聚噻吩系聚合物以微粒子狀分散於水中的物質，水分散液不僅液體黏度小、薄膜塗覆容易，而且塗布層的均勻性也優異。此處，作為微粒子的尺寸，從錨定層的均勻性的方面來看，宜為1μm以下。
另外，前述水溶性或水分散性的聚噻吩系聚合物宜在分子中具有親水性官能團。作為親水性官能團，例如可列舉出碸基、胺基、醯胺基、亞胺基、四級銨基、羥基、巰基、肼基、羧基、硫酸酯基、磷酸酯基、或該等的鹽等。藉由在分子內具有親水性官能團，會變得易溶於水、或變得容易以微粒子狀分散於水中，而能夠容易地製備前述水溶性或水分散性的聚噻吩系聚合物。
作為前述水溶性或水分散性的聚噻吩系聚合物，可列舉出Nagase ChemteX Corporation製的Denatron系列等。
藉由將混合溶劑的水/醇設為上述比率，使用具有導電性的聚噻吩系聚合物作為黏結劑成分，能進一步提高錨定層形成用塗布液中的聚噻吩系聚合物的分散性。其結果，將錨定層形成用塗布液塗布並乾燥後得到的錨定層的導電性會進一步提高。另外，藉由將混合溶劑的水/醇設為上述比率，則即使黏結劑成分的pH值降低也能夠維持其液體穩定性，因此能夠抑制錨定層中的異物產生。進而，使用富含水的混合溶劑時，能夠更有效地防止錨定層的溶劑裂紋。尤其是從提高錨定層的導電性能的觀點出發，宜使用包含80~100重量%的水與0~20重量%的醇之混合溶劑。
從提高錨定層的導電性能的觀點出發，錨定層形成用塗布液中的聚噻吩系聚合物的含量宜為0.005~5重量%、更宜為0.01~3重量%、且進一步宜為0.01~1重量%、最佳為0.01~0.5重量%。
本發明在錨定層形成用塗布液中係與前述混合溶劑及聚噻吩系聚合物一起含有含聚氧亞烷基的聚合物。作為含聚氧亞烷基的聚合物，例如可列舉出主鏈為聚(甲基)丙烯酸酯聚合物且側鏈含有聚氧亞乙基、聚氧亞丙基等聚氧亞烷基的含聚氧亞烷基的聚(甲基)丙烯酸酯等。當考慮錨定層與光學薄膜的潤濕性時，錨定層形成用塗布液中含聚氧亞烷基的聚合物的含量宜為0.005~5重量%、更宜為 0.01~3重量%、且進一步宜為0.01~1重量%、最佳為0.01~0.5重量%。
在本發明的錨定層形成用塗布液中，除了噻吩系聚合物及含聚氧亞烷基的聚合物，也可以為了提高錨定性及光學薄膜與黏著劑層的密合性而含有黏結劑成分。作為黏結劑成分，從提高黏著劑的錨定力的觀點出發，例如可以使用水溶性或水分散性聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑等聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑、環氧樹脂系黏結劑、異氰酸酯樹脂系黏結劑、聚酯樹脂系黏結劑、分子中含胺基的聚合物類、含有噁唑啉基等的各種丙烯酸類樹脂系黏結劑等之具有有機反應性基團的樹脂(聚合物)。尤其是在含有聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑作為黏結劑成分時，藉由該錨定層形成用塗布液所製得的錨定層，光學薄膜與黏著劑層的密合性會提高，故而適宜。錨定層形成用塗布液中黏結劑樹脂的含量宜為0.005~5重量%、更宜為0.01~3重量%、且進一步宜為0.01~1重量%、最佳為0.01~0.5重量%。
當使用水溶性或水分散性聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑等前述聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑時，特別會提高光學薄膜與黏著劑層的密合性，故而適宜。另一方面，使用聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑時，因草酸的產生等而導致錨定層形成用塗布液中的pH值降低時，會有由聚胺甲酸酯樹脂引起的異物產生量增大的傾向。但是，在本發明中，藉由將錨定層形成用塗布液的混合溶劑中的水與醇的比率設定為特定的比率，能夠抑制異物的產生。
另外，在錨定層形成用塗布液中，若除了水及醇以外的成分、例如氨的比例增多，則在高熱、高濕度環境下，例如使用偏光薄膜作為光學薄膜時，偏光薄膜的偏光特性會產生變化，由此，會對光學特性造成影響，而有時會變得無法滿足高熱、高濕度環境下的高耐久性。因此，錨定層形成用塗布液中的混合溶劑(黏結劑樹脂的稀釋溶劑)宜以水及醇為主成分，具體而言，混合溶劑中的水及醇的總量宜為90重量%以上。更佳的是混合溶劑中的水及醇的總量為95重量%以上，進一步適宜的是混合溶劑中的水及醇的總量為99重量%以上，最適宜的是混合溶劑中的水及醇實質上為100重量%。
此外，在錨定層形成用塗布液中含有氨時，雖然有時錨定層的塗布外觀性、光學可靠性優異，但從耐久性、防止溶劑裂紋的觀點出發，宜使氨的含量盡可能少。具體而言，相對於黏結劑樹脂(固體成分)100重量份，錨定層形成用塗布液中的氨的含量宜少於0.05重量份、更宜為少於0.03重量份。
在錨定層形成用塗布液中可以根據需要摻混添加劑。作為添加劑，可列舉出調平劑、消泡劑、增黏劑、抗氧化劑等。在該等添加劑當中，宜微調平劑(例如，具有乙炔骨架者等)。相對於黏結劑樹脂(固體成分)100重量份，該等添加劑的比例通常宜為0.01~500重量份左右、更宜為0.1~300重量份、進一步宜為1~100重量份。
本發明的附黏著劑層之光學薄膜，係在光學 薄膜的至少一個面上，隔著以前述錨定層形成用塗布液為原料而製得的錨定層，而積層有黏著劑層。在附黏著劑層之光學薄膜中，黏著劑層可以設於光學薄膜的一個面，也可以在光學薄膜的兩面上具有。
本發明的附黏著劑層之光學薄膜的特徵在於，錨定層的單體透過率的降低為1%以下這一點。此處，在本發明中，「錨定層的單體透過率的降低」係指在測定積層錨定層前的偏光薄膜的透過率之後，並測定積層了錨定層的偏光薄膜的透過率，而於「積層前的偏光薄膜」的透過率中「積層後的偏光薄膜」的透過率的降低量。錨定層的單體透過率的降低宜為0.3%以下、更宜為0.2%以下。
黏著劑層的形成可使用適宜的黏著劑，對其種類沒有特別限制。作為黏著劑，可列舉出橡膠系黏著劑、丙烯酸類黏著劑、矽氧系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
在該等黏著劑當中，宜使用光學透明性優異，顯示出適宜的密合性、凝聚性及接著性的黏著特性，且耐候性、耐熱性等優異的黏著劑。作為顯示出上述特徵的黏著劑，宜使用丙烯酸類黏著劑。
丙烯酸類黏著劑係將以(甲基)丙烯酸烷基酯的單體單元為主骨架的丙烯酸類聚合物作為基礎聚合物。此外，(甲基)丙烯酸烷基酯是指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，而本發明的(甲基)係表示同樣的意思。作為構 成丙烯酸類聚合物的主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示出直鏈狀或支鏈狀的烷基的碳數1~20的(甲基)丙烯酸烷基酯。例如，可例示出：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸月桂酯等。該等可以單獨使用或者組合使用。該等烷基的平均碳數優選為3~9。
為了改善接著性、耐熱性，可以藉由共聚一種以上的共聚單體來導入於前述丙烯酸類聚合物中。作為這樣的共聚單體的具體例子，例如可以列舉出：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯或丙烯酸(4-羥甲基環己基)-甲酯等含羥基單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸等含羧基單體；馬來酸酐、衣康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸的己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙烷磺酸、(甲基)丙烯酸磺酸丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。
另外，還可列舉出：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代) 醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧雜六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧雜八亞甲基琥珀醯亞胺、N-丙烯醯啉等琥珀醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基衣康醯亞胺、N-乙基衣康醯亞胺、N-丁基衣康醯亞胺、N-辛基衣康醯亞胺、N-2-乙基己基衣康醯亞胺、N-環己基衣康醯亞胺、N-月桂基衣康醯亞胺等衣康醯亞胺系單體等作為以改質為目的的單體例子。
進而，作為改質單體，也可以使用醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌嗪、乙烯基吡嗪、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基噁唑、乙烯基啉、N-乙烯基羧酸醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等乙烯基系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等含環氧基丙烯酸類單體；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟化(甲基)丙烯酸酯、有機矽(甲基)丙烯酸 酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯系單體等。
丙烯酸類聚合物在全構成單體的重量比率中係以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分，且對丙烯酸類聚合物中的前述共聚單體的比率並沒有特別限制，但在總構成單體的重量比率中，前述共聚單體的比率宜為0~20%左右、0.1~15%左右、進而0.1~10%左右。
在該等共聚單體當中，從接著性、耐久性的方面來看，宜使用含羥基單體、含羧基單體。該等單體會成為與交聯劑的反應點。含羥基單體、含羧基單體等富於與分子間交聯劑的反應性，因此，宜用於提高所得到的黏著劑層的凝聚性、耐熱性。
關於上述含羥基單體，當在羥烷基中的烷基為碳數4以上時，因與可作為交聯劑使用的異氰酸酯系化合物(C)的反應性高，故而適宜。當使用羥烷基中的烷基為碳數4以上的單體作為含羥基單體時，作為被共聚的(甲基)丙烯酸烷基酯，宜使用烷基的碳數為與含羥基單體的羥烷基的烷基碳數相同的數目以下。例如，於使用(甲基)丙烯酸4-羥丁酯作為含羥基單體時，作為被共聚的(甲基)丙烯酸烷基酯，宜使用(甲基)丙烯酸丁酯、或者具有烷基碳數比(甲基)丙烯酸丁酯更小的烷基的物質。
於含有含羥基單體及含羧基單體作為共聚單體時，該等共聚單體可以以前述共聚單體的比率來使用，只要是含羧基單體就宜含有0.1~10重量%，而只要是含羥基單體就宜含有0.01~10重量%。含羧基單體更宜為0.2~8重量 %、且進一步宜為0.6~6重量%。含羥基單體更宜為0.01~5重量%、且進一步宜為0.03~3重量%、最優選為0.05~1重量%。
對丙烯酸類聚合物的平均分子量並沒有特別限制，但重量平均分子量宜為30萬~250萬左右。前述丙烯酸類聚合物的製造可以藉由各種公知的手法來製造，例如可以適當選擇總體聚合法、溶液聚合法、懸浮聚合法等自由基聚合法。作為自由基聚合起始劑，可以使用偶氮系、過氧化物系之各種公知的自由基聚合起始劑。反應溫度通常係設為50~80℃左右，反應時間係設為1~8小時。另外，在前述製造法當中，宜為溶液聚合法，而作為丙烯酸類聚合物的溶劑，通常係使用醋酸乙酯、甲苯等。溶液濃度通常係設為20~80重量%左右。
另外，前述黏著劑宜製成含有交聯劑的黏著劑組合物。作為可摻混於黏著劑的多官能化合物，可列舉出有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可列舉出環氧系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、亞胺系交聯劑、過氧化物系交聯劑等。該等交聯劑可以組合一種或兩種以上來使用。作為有機系交聯劑，宜為異氰酸酯系交聯劑。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物共價鍵合或配位鍵合的螯合物。作為多價金屬原子，可列舉出Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵合或配位鍵合的有機化合物中的原子，可列舉出氧原子等， 而作為有機化合物，可列舉出烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
對丙烯酸類聚合物等基礎聚合物與交聯劑的摻混比例並沒有特別限定，但通常係相對於基礎聚合物(固體成分)100重量份，交聯劑(固體成分)宜為0.001~20重量份左右、進一步宜為0.01~15重量份左右。作為前述交聯劑，宜為異氰酸酯系交聯劑。相對於基礎聚合物(固體成分)100重量份，異氰酸酯系交聯劑宜為0.001~2重量份左右、進一步宜為0.01~1.5重量份左右。
進而，前述黏著劑中也可以根據需要適當使用增黏劑、增塑劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉末、及其它無機粉末等構成的填充劑，顏料，著色劑，填充劑，抗氧化劑，紫外線吸收劑，矽烷偶合劑等，另外，也可以在不偏離本發明的目的的範圍內適當使用各種添加劑。另外，也可以製成含有微粒子而顯示光漫射性的黏著劑層等。
作為矽烷偶合劑，可以沒有特別限制地使用現有已知的矽烷偶合劑。例如，可例示出：γ-環氧丙氧丙基三甲氧基矽烷、γ-環氧丙氧丙基三乙氧基矽烷、γ-環氧丙氧丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基的矽烷偶合劑，3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基甲矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁烯基)丙胺等含胺基的矽烷偶合劑，3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基的矽烷偶合劑，3- 異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基的矽烷偶合劑等。其中，在黏著劑層中含有矽烷偶合劑時，有時會助長光學薄膜的錨定層形成面側的溶劑裂紋產生，因此，相對於基礎聚合物(固體成分)100重量份，矽烷偶合劑(固體成分)的含量宜盡可能少。具體而言，宜摻混0~3重量份左右，更宜摻混0~2重量份左右，且進一步宜摻混0~1重量份左右。
本發明的附黏著劑層之光學薄膜的製造方法至少包括以下的步驟：易接著處理步驟，係在形成錨定層的步驟前對光學薄膜的錨定層形成面側實施易接著處理；以及，塗布步驟，係將錨定層形成用塗布液塗布到光學薄膜的易接著處理面。
在本發明的附黏著劑層之光學薄膜的製造方法中，宜以乾燥前的塗布厚度為20μm以下的方式將錨定層塗布液塗布到光學薄膜上。上述乾燥前的塗布厚度過厚(錨定層塗布液的塗布量過多)時，則會變得容易受到溶劑的影響，而有時會致使裂紋產生。另一方面，過薄時，光學薄膜與黏著劑的密合性會變得不充分，而有時耐久性惡化。從防止裂紋產生及提高耐久性的觀點出發，宜為2~17μm、更宜為4~13μm。此外，上述乾燥前的塗布厚度可以由乾燥後的錨定層厚度與錨定層塗布液中的黏結劑樹脂量的比例算出。此外，對錨定層塗布液的塗布方法並沒有特別限定，例如可以使用塗布法、浸漬法、噴塗法等塗覆法。
作為前述易接著處理，例如可列舉出電暈處理或電漿處理。藉由對光學薄膜的錨定層形成面側實施電 暈處理或電漿處理，能夠進一步提高光學薄膜與黏著劑層的密合性。
通常，在為了提高光學薄膜與黏著劑層的密合性而於對光學薄膜實施易接著處理步驟之後形成錨定層時，由於易接著處理會導致在光學薄膜上產生草酸等，而pH值降低，因此錨定層塗布液中的黏結劑樹脂成分的液體穩定性會降低，而有時會產生源自黏結劑樹脂的異物。但是，在本發明的附黏著劑層之光學薄膜的製造方法中，由於使用富含水(醇量≦35重量%)的混合溶劑，因此即使黏結劑成分的pH值降低也能夠維持其液體穩定性。其結果，藉由抑制源自黏結劑的異物的產生，能夠製造錨定層中的異物產生受到抑制的附黏著劑層之光學薄膜。
此外，雖然對光學薄膜的錨定層形成面側實施易接著處理而導致草酸等產生的機理尚不明確，但可以如下推測。
(A)用於易接著處理的放電會引起高能量的電子及離子在光學薄膜表面碰撞，而在光學薄膜表面生成自由基及離子。
(B)該等雖會與周圍的N2、O2、H2等反應而導入羧基、羥基、氰基等極性反應基團，但同時會產生草酸。
若產生的草酸混入到錨定層塗布液，則液體的pH值降低，而錨定層塗布液中的異物產生量會增大，這一點如前所述。
在本發明的附黏著劑層之光學薄膜的製造方 法中，宜在前述塗布步驟後還包括錨定層形成步驟，該錨定層形成步驟係藉由在滿足下述(1)~(2)兩者的乾燥條件下進行乾燥，以去除前述混合溶劑而形成錨定層：(1)乾燥溫度T=40~70℃，(2)前述乾燥溫度T(℃)與前述乾燥時間H(秒)相乘得到的值(T×H)為400≦(T×H)≦4000。
關於(1)的乾燥溫度T，乾燥得越快，則從防止光學薄膜的錨定層形成面的溶劑裂紋的觀點來說就越有效，但是，乾燥溫度T過高時會致使光學薄膜的劣化。另一方面，乾燥溫度T過低時，則有由乾燥不良引起的錨定層的塗布外觀性的惡化或產生溶劑裂紋之虞。因此，乾燥溫度T=40~70℃是重要的，且宜為T=45~60℃。
(2)的乾燥溫度T(℃)與乾燥時間H(秒)相乘得到的值(T×H)過大時會致使光學薄膜的劣化，故而不宜，而過小時，則有由乾燥不良引起的錨定層的塗布外觀性的惡化或產生溶劑裂紋之虞。因此，400≦(T×H)≦4000是重要的，且宜為500≦(T×H)≦2900、更宜為500≦(T×H)≦2000、特別宜為600≦(T×H)≦1250。
此外，對乾燥時間H而言，過長時，會致使光學薄膜的劣化，故而不宜，而過短時，則有由乾燥不良引起的錨定層的塗布外觀性的惡化或產生溶劑裂紋之虞。因此，宜為乾燥時間H=5~100秒、以H=5~70秒為佳、更以10~35秒為佳。
在本發明附黏著劑層之光學薄膜的製造方法 中，將在光學薄膜上塗布錨定層塗布液後到在上述乾燥條件下開始乾燥為止的時間設定得長時，有時錨定層的塗布外觀性會惡化，並且有時會助長光學薄膜的錨定層形成面側上的溶劑裂紋的產生。將塗布錨定層塗布液後到開始乾燥為止的時間設定得長時會助長溶劑裂紋的產生的原因尚不明確，但可以推測其原因在於，在構成光學薄膜的聚合物中，錨定層塗布液的混合溶劑會逐漸地浸透、擴散。因此，塗布錨定層塗布液後到開始乾燥為止的時間宜為短時間，具體而言，宜為30秒以下、更宜為20秒以下、特別宜為10秒以下。雖對下限沒有特別限定，但若考慮作業性等，可例示出1秒左右。
乾燥後的錨定層厚度(乾燥厚度)宜為3~300nm、更宜為5~180nm、進一步宜為11~90nm。少於3nm時，有時在確保光學薄膜與黏著劑層的錨定性的方面會不充分。另一方面，超過300nm時，錨定層的厚度會過厚而強度不足，因而錨定層內容易發生凝聚破壞，則有時無法得到充分的錨定性。
通常，在光學薄膜的錨定層形成面側為降烯系樹脂或(甲基)丙烯酸類樹脂、而尤其是降烯系樹脂的情況下，當塗布錨定層塗布液時，在高溫(95℃以上)下的可靠性試驗中，會變得容易產生溶劑裂紋。作為其原因，可列舉出(1)光學薄膜的玻璃化轉變溫度(Tg)變得接近試驗溫度，而光學薄膜變脆；(2)進而，偏光薄膜的收縮應力增大。由此，在需要高溫(95℃以上)下的可靠性試驗的車載用途等 中，尤其是對於在錨定層形成步驟中的錨定層塗布液的乾燥條件，係需要精細的條件設定。但是，若適用前述乾燥條件，則即使在光學薄膜的錨定層形成面側配置有降烯系樹脂或(甲基)丙烯酸類樹脂的情況下，也能夠有效地製造裂紋耐久性優異的附黏著劑層之光學薄膜。
在光學薄膜上形成錨定層後，在錨定層上形成黏著劑層，從而能夠製造附黏著劑層之光學薄膜。對黏著劑層的積層方法沒有特別限制，可列舉出在前述錨定層上塗布黏著劑溶液並乾燥的方法、利用設有黏著劑層的脫模片進行轉印的方法等。塗布法可以採用反轉塗布、凹版塗布等輥塗法、旋塗法、網版塗布法、噴注式塗布法、浸漬法、噴塗法等。黏著劑層的厚度宜為2~150μm、更宜為2~100μm、特別宜為5~50μm。黏著劑層的厚度過薄時，容易發生與錨定層的密合性不足、或與玻璃介面剝離等不良情況，而過厚時，有時容易產生黏著劑的發泡等不良情況。
作為脫模片的構成材料，可列舉出紙、聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯等合成樹脂薄膜、橡膠片、紙、布、不織布、網、發泡片或金屬箔、該等的層壓體等適宜的薄層體等。為了提高從黏著劑層的剝離性，對脫模片的表面也可以根據需要實施矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性的剝離處理。
此外，由本發明得到的附黏著劑層之光學薄膜的光學薄膜、黏著劑層等的各層，也可以為例如藉由利用水楊酸酯系化合物或苯酚系化合物、苯并三唑系化合物 或氰基丙烯酸酯系化合物、鎳複鹽系化合物等紫外線吸收劑進行處理的方式等方式而賦予了紫外線吸收性能者等。
作為在本發明的附黏著劑層之光學薄膜中使用的光學薄膜，例如可列舉出偏光薄膜。而偏光薄膜通常係使用在偏光件的一面或者兩面上具有透明保護薄膜者。
對偏光件沒有特別的限制，可以使用各種偏光件。作為偏光件，例如可列舉出：使聚乙烯醇系薄膜、部分縮醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘、雙色性染料的雙色性物質並單軸拉伸而成者；聚乙烯醇的脫水處理物或聚氯乙烯的脫氯化氫處理物等多烯系定向薄膜等。其中，適宜的是由聚乙烯醇系薄膜與碘等雙色性物質構成的偏光件。對該等偏光件的厚度沒有特別的限制，通常為3~80μm左右。
關於將聚乙烯醇系薄膜用碘染色並進行單軸拉伸而得到的偏光件，例如可以藉由在碘的水溶液中浸漬聚乙烯醇系薄膜來染色並拉伸成原長的3~7倍，由此而製作。根據需要可以在含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等也可的碘化鉀等水溶液中浸漬。進而，也可以根據需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬在水中來水洗。藉由將聚乙烯醇系薄膜水洗，不僅可以洗去聚乙烯醇系薄膜表面的汙物或防結塊劑，還具有藉由使聚乙烯醇系薄膜溶脹來防止染色不均等不均勻的效果。拉伸可在用碘染色後進行，也可以邊染色邊拉伸，另外也可以在拉伸後用碘染色。並且還可以 在硼酸或碘化鉀等的水溶液或水浴中進行拉伸。
作為構成透明保護薄膜的材料，例如可以使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、等向性等優異的熱塑性樹脂。作為這種熱塑性樹脂的具體例子，可列舉出三醋酸纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸類樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、以及該等的混合物。此外，在偏光件的一側上係藉由黏著劑層貼合透明保護薄膜，而在另一側上，作為透明保護薄膜，可以使用(甲基)丙烯酸類、胺基甲酸酯系、丙烯醯基胺基甲酸酯系、環氧系、矽氧系等的熱固化性樹脂或紫外線固化型樹脂。透明保護薄膜中也可以含有一種以上任意且適當的添加劑。作為添加劑，例如可列舉出紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、著色抑制劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中的前述熱塑性樹脂的含量宜為50~100重量%、更宜為50~99重量%、進一步宜為60~98重量%、特別宜為70~97重量%。透明保護薄膜中的前述熱塑性樹脂的含量為50重量%以下時，有無法充分顯現熱塑性樹脂固有的高透明性等之虞。
另外，作為透明保護薄膜，可列舉出日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載的聚合物薄膜，例如，含有(A)側鏈具有取代及/或非取代醯亞胺基的熱 塑性樹脂、及(B)側鏈具有取代及/或非取代苯基及腈基的熱塑性樹脂的樹脂組合物。作為具體例子，可列舉出含有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成的交替共聚物、與丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組合物的薄膜。薄膜可以使用由樹脂組合物的混合擠出物等所構成的薄膜。該等薄膜由於相位差小、光彈性係數小，因此可以消除由偏光薄膜的應變引起的不均等不良情況，另外，由於透濕度小，因此加濕耐久性優異。
透明保護薄膜的厚度可以適當地作決定，通常從強度或操作性等作業性、薄層性等方面來看，為1~500μm左右。尤其宜為1~300μm、更宜為5~200μm。透明保護薄膜為5~150μm的情況是特別適宜的。
此外，在偏光件的兩側設置透明保護薄膜時，可以在其表面及背面使用由相同聚合物材料構成的保護薄膜、也可以使用由不同聚合物材料等構成的保護薄膜。
作為本發明的透明保護薄膜，宜使用選自由纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸類樹脂中的任意至少一種樹脂。
纖維素樹脂是纖維素及脂肪酸的酯。作為這種纖維素酯系樹脂的具體例子，可列舉出三醋酸纖維素、二醋酸纖維素、三丙酸纖維素、二丙酸纖維素等。其中，特別宜為三醋酸纖維素。三醋酸纖維素有許多產品在市場上銷售，因此在獲得的容易性及成本方面也是有利的。作為三醋酸纖維素的市售品的例子，可列舉出FUJIFILM Corporation製的商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」、柯尼卡公司製的「KC系列」等。通常，該等三醋酸纖維素的面內相位差(Re)幾乎為零，而厚度方向相位差(Rth)則具有~60nm左右。
其中，作為前述三醋酸纖維素(以下也稱為「TAC」)，為了提高與貼合的黏著劑層的密合性，也可以使用皂化處理過的三醋酸纖維素(以下也稱為「皂化TAC」)。但是，最近，從光學薄膜製造時的成本降低等觀點出發，有時會使用省去皂化處理步驟的TAC(未皂化TAC)。但是，在未皂化TAC上直接塗布黏著劑溶液來形成黏著劑層時，由於未皂化TAC的表面上不存在反應位點，因而黏著劑的錨定力有時會變得不充分。同樣地，(甲基)丙烯酸類樹脂、降烯系樹脂也由於極性低而存在黏著劑的錨定力變得不充分的情況。其結果，為了消除上述錨定力的不足，則需要在未皂化TAC、(甲基)丙烯酸類樹脂．降烯系樹脂上形成錨定層，但是，尤其因未皂化TAC是非活性的，故存在排斥錨定層塗布液的傾向，而難以在未皂化TAC上形成均勻的錨定層。因此，使用未皂化TAC時，藉由在錨定層形成前進行易接著處理，能夠均勻地形成錨定層，則黏著劑層的錨定力也會提高。即，使用未皂化TAC時，在錨定層形成前實施易接著處理是不可或缺的(同樣地，對於(甲基)丙烯酸類樹脂．降烯系樹脂，也宜在錨定層形成前實施易接著處理)。本發明人等進行了深入研究，結果發現，對未皂化TAC進行易接著處理時，草酸產生率 會明顯上升，而有錨定層中的異物產生量增大之虞。但是，本發明藉由將錨定層塗布液的混合溶劑中的水與醇的比率設定為特定的比率，則即使在易接著處理過的未皂化TAC上形成錨定層時，也能夠抑制異物的產生。
此外，厚度方向相位差小的纖維素樹脂薄膜例如可以藉由處理前述纖維素樹脂而得到。例如，可列舉出：將塗覆有環戊酮、甲乙酮等溶劑的聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、不銹鋼等基材薄膜貼合到通常的纖維素系薄膜上，並在加熱乾燥(例如，在80~150℃下、3~10分鐘左右)後將基材薄膜剝離的方法；將使降烯系樹脂、(甲基)丙烯酸類樹脂等溶解於環戊酮、甲乙酮等溶劑而得到的溶液塗覆到通常的纖維素樹脂薄膜上，並在加熱乾燥(例如，在80~150℃下、3~10分鐘左右)後將塗覆薄膜剝離的方法等。
另外，作為厚度方向相位差小的纖維素樹脂薄膜，可以使用控制了脂肪取代度的脂肪酸纖維素系樹脂薄膜。在通常使用的三醋酸纖維素中，醋酸取代度為2.8左右，但宜將醋酸取代度控制在1.8~2.7，從而能夠使Rth減小。藉由在前述脂肪酸取代纖維素系樹脂中添加鄰苯二甲酸二丁酯、對甲苯磺醯苯胺、檸檬酸乙醯基三乙酯等塑化劑，可以將Rth控制得小。增塑劑的添加量宜相對於脂肪酸纖維素系樹脂100重量份，為40重量份以下、更宜為1~20重量份、進一步宜為1~15重量份。
作為環狀聚烯烴樹脂的具體例子，宜為降 烯系樹脂。環狀烯烴系樹脂是將環狀烯烴以聚合單元聚合的樹脂的總稱，例如可列舉出日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等中記載的樹脂。作為具體例子，可列舉出環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴與其之共聚物(代表性的是無規共聚物)及用不飽和羧酸及其衍生物將上述聚合物改質而成的接枝聚合物以及該等的氫化物等。作為環狀烯烴的具體例子，可列舉出降烯系單體。
作為環狀聚烯烴樹脂，有各種產品在市場上銷售。作為具體例子，可列舉出ZEON CORPORATION製造的商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」，JSR CORPORATION製的商品名「ARTON」、TICONA公司製的商品名「Topas」、三井化學股份有限公司製的商品名「APEL」。
作為(甲基)丙烯酸類樹脂，Tg(玻璃化轉變溫度)宜為115℃以上、更宜120℃以上、進一步宜為125℃以上、特別宜為130℃以上。藉由使Tg為115℃以上，偏光薄膜的耐久性能夠變得優異。對前述(甲基)丙烯酸類樹脂的Tg的上限值沒有特別限制，但從成形性等的觀點出發，宜為170℃以下。由(甲基)丙烯酸類樹脂可以獲得面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)幾乎為零的薄膜。
作為(甲基)丙烯酸類樹脂，在不損害本發明的效果的範圍內，可以採用任意合適的(甲基)丙烯酸類樹脂。例如，可列舉出：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸 酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基的聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降酯共聚物等)。宜列舉出聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1~6烷基酯。更宜列舉出以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50~100重量%、宜為70~100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
作為(甲基)丙烯酸類樹脂的具體例子，例如，可列舉出Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.製的Acrypet VH、Acrypet VRL20A，日本特開2004-70296號公報中所記載之分子內具有環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂、藉由分子內交聯及分子內環化反應獲得的高Tg(甲基)丙烯酸類樹脂系。
作為(甲基)丙烯酸類樹脂，還可以使用具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂。這是因為其具有高耐熱性、高透明性、及由雙軸拉伸帶來的高機械強度。
作為具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂，可列舉出日本特開2000-230016號公報、日本特開2001-151814號公報、日本特開2002-120326號公報、日本特開2002-254544號公報、日本特開2005-146084號公報等中記載之具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂。
具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂宜具有下述通式(化學式1)所示的環結構。
式中，R1、R2及R3分別獨立地表示氫原子或碳原子數1~20的有機殘基。其中，有機殘基可以包含氧原子。
具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂的結構中以通式(化學式1)所示的內酯環結構的含有比率宜為5~90重量%、更宜為10~70重量%、進一步宜為10~60重量%、特別宜為10~50重量%。具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂的結構中以通式(化學式1)所示的內酯環結構的含有比率少於5重量%時，有耐熱性、耐溶劑性、表面硬度會變得不充分之虞。而具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂的結構中以通式(化學式1)所示的內酯環結構的含有比率多於90重量%時，有成形加工性變得不足之虞。
具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂的質量平均分子量(有時也稱為重量平均分子量)宜為1000~2000000、更宜為5000~1000000、進一步宜為10000~500000、特別宜為50000~500000。當質量平均分子量偏離前述範圍時，從成型加工性的方面出發是不適宜的。
作為具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂，Tg宜為115℃以上、更宜為120℃以上、進一步宜為125℃以上、特別宜為130℃以上。由於Tg為115℃以上，例如， 作為透明保護薄膜組裝到偏光薄膜中時，會形成耐久性優異者。對前述具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂的Tg的上限值並沒有特別限制，從成形性等觀點出發，宜為170℃以下。
關於具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸類樹脂，藉由注射成形得到的成形品其利用根據ASTM-D-1003的方法所測定的總透光率越高越適宜，而宜為85%以上、更宜為88%以上、進一步宜為90%以上。總透光率是透明性的指標，若總透光率不足85%時，則有透明性降低之虞。
前述透明保護薄膜通常係使用正面相位差小於40nm且厚度方向相位差小於80nm的薄膜。正面相位差Re係用Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth係用Rth=(nx-nz)×d表示。另外，Nz係數係用Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[其中，將薄膜的慢軸方向、快軸方向及厚度方向的折射率分別設定為nx、ny、nz，並將d(nm)設為薄膜的厚度。慢軸方向則設為薄膜面內的折射率最大的方向]。此外，透明保護薄膜宜盡可能不帶顏色。宜使用厚度方向的相位差值為-90nm~+75nm的保護薄膜。藉由使用上述厚度方向的相位差值(Rth)為-90nm~+75nm的保護薄膜，可以幾乎消除由透明保護薄膜引起的偏光薄膜的著色(光學著色)。厚度方向相位差值(Rth)進一步宜為-80nm~+60nm、特別宜為-70nm~+45nm。
另一方面，作為前述透明保護薄膜，可以使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為 80nm以上的相位差的相位差板。正面相位差通常係控制在40~200nm的範圍，而厚度方向相位差通常係控制在80~300nm的範圍。在使用相位差板作為透明保護薄膜時，由於該相位差板還作為透明保護薄膜發揮作用，因此可以圖謀薄型化。
作為相位差板，可列舉出：將高分子素材進行單軸或雙軸拉伸處理而成的雙折射薄膜、液晶聚合物定向薄膜、用薄膜支撐液晶聚合物的定向層者等。對該等相位差板的厚度沒有特別的限制，通常為20~150μm左右。
作為高分子素材，例如可列舉出聚乙烯醇、聚乙烯基丁縮醛、聚甲基乙烯基醚、聚丙烯酸羥乙酯、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚碸、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚碸、聚苯硫醚、聚苯醚、聚芳碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、以及該等的二元類、三元系的各種共聚物、接枝共聚物、共混物等。該等高分子素材藉由拉伸等會形成定向物(拉伸薄膜)。
作為液晶聚合物，例如可列舉出將賦予液晶定向性的共軛性直鏈狀原子團(介晶(mesogen))導入聚合物的主鏈、側鏈中而得到的主鏈型、側鏈型的各種者等。作為主鏈型的液晶聚合物的具體例子，可列舉出利用賦予撓性的間隔部將介晶基結合而成的結構之例如向列定向性的聚酯系液晶性聚合物、盤狀聚合物、膽固醇型聚合物等。 作為側鏈型的液晶聚合物的具體例子，可列舉出以聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯為主鏈骨架、且側鏈為具有隔著由共軛性的原子團所構成的間隔部而由向列定向賦予性的對位取代環狀化合物單元所構成的介晶部者等。關於該等液晶聚合物，例如，係在對形成於玻璃板上的聚醯亞胺、聚乙烯醇等薄膜的表面進行摩擦處理而得者、經斜方蒸鍍氧化矽者等的定向處理面上使液晶性聚合物的溶液鋪展並進行熱處理，從而進行。
相位差板例如可以是以各種波長板或液晶層的雙折射引起的著色、視角等的補償為目的等、根據使用目的而具有適當的相位差者，也可以是將兩種以上相位差板積層而控制了相位差等光學特性者。
關於相位差板，可以根據各種用途選擇使用滿足nx=ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz=nx>ny、nz>nx>ny、nz>nx=ny的關係者。其中，ny=nz不僅包括ny與nz完全相同的情況，而且包括實質上ny與nz等同的情況。
例如，在滿足nx>ny>nz的相位差板中，宜使用正面相位差為40~100nm、厚度方向相位差為100~320nm、且Nz係數為1.8~4.5者。例如，在滿足nx>ny=nz的相位差板(正A板)中，宜使用正面相位差滿足100~200nm者。例如，在滿足nz=nx>ny的相位差板(負A板)中，宜使用正面相位差滿足100~200nm的相位差板。例如，在滿足nx>nz>ny的相位差板中，宜使用正面相位差為 150~300nm、且Nz係數為大於0且至0.7者。另外，如前所述，例如可以使用滿足nx=ny>nz、nz>nx>ny、或nz>nx=ny者。
透明保護薄膜可以根據適用的液晶顯示裝置適當選擇。例如，在VA(VerticalAlignment，包含MVA、PVA)的情況下，理想的是偏光薄膜的至少單側(單元側)的透明保護薄膜具有相位差。作為具體的相位差，Re=0~240nm、Rth=0~500nm的範圍是理想的。以三維折射率而言，nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、nx=ny>nz(正A板、雙軸、負C板)的情況是理想的。VA型宜使用正A板與負C板的組合、或一張雙軸薄膜。在液晶單元的上下使用偏光薄膜時，可以液晶單元的上下都具有相位差，另外，也可以上下任一側的透明保護薄膜具有相位差。
例如，在IPS(In-Plane Switching，包括FFS)的情況下，偏光薄膜的單側的透明保護薄膜具有相位差的情形、不具有相位差的情形均可使用。例如，不具有相位差時，液晶單元的上下(單元側)都不具有相位差是理想的。而具有相位差時，液晶單元的上下都具有相位差的情況、上下任一側具有相位差的情況是理想的(例如，上側具有滿足nx>nz>ny的關係的雙軸薄膜、下側無相位差的情況；或上側具有正A板、下側具有正C板的情況)。具有相位差時，Re=-500~500nm、Rth=-500~500nm的範圍是理想的。以三維折射率而言，理想的是nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、nz>nx>ny(正A板、雙軸、正C板)。
其中，前述具有相位差的薄膜可以另行貼合到不具有相位差的透明保護薄膜上來賦予前述功能。
前述透明保護薄膜在塗覆接著劑前，為了提高與偏光件的接著性，可以進行表面改質處理。作為具體的處理，可列舉出電暈處理、電漿處理、火焰處理、臭氧處理、底漆處理、輝光處理、皂化處理、利用偶合劑的處理等。另外，可以適當形成抗靜電層。
前述透明保護薄膜之不與偏光件接著的面可以實施硬塗層處理或防反射處理、以防黏著、擴散或防眩為目的的處理。
硬塗處理是以防止偏光薄膜表面的劃傷等為目的而實施的，例如，可以藉由將由丙烯酸類、矽氧系等適當的紫外線固化型樹脂得到的硬度、滑動特性等優異的固化皮膜附加到透明保護薄膜的表面的方式等來形成。防反射處理是以防止偏光薄膜表面之外部光的反射為目的而實施的，可以藉由根據現有技術的防反射膜等的形成來達成。另外，防黏著處理是以防止與鄰接層(例如背光源側的擴散板)的密合為目的而實施的。
另外，防眩處理是以防止外部光在偏光薄膜的表面反射而妨礙偏光薄膜透射光的辨識等為目的而實施的，例如，可以如下形成：藉由利用噴砂方式或浮雕加工方式所行的表面粗糙化方式或透明微粒子的摻混方式等適當的方式對透明保護薄膜的表面賦予微細凹凸結構，從而形成。作為前述表面微細凹凸結構的形成所含有的微粒 子，例如可以使用平均粒徑為0.5~20μm之由二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等構成並且也可以為導電性的無機系微粒子、由交聯或未交聯的聚合物等構成的有機系微粒子等透明微粒子。形成表面微細凹凸結構時，微粒子的用量相對於形成表面微細凹凸結構的透明樹脂100重量份，通常為2~70重量份左右、且宜為5~50重量份。防眩層也可以兼作用於使偏光薄膜透射光擴散而擴大視角等的擴散層(視角擴大功能等)。
此外，前述防反射層、防黏著層、擴散層、防眩層等不僅可以設置於透明保護薄膜自身，還可以作為與透明保護薄膜分開的別的光學層而設置。
前述偏光件與透明保護薄膜的接著處理可以使用接著劑。作為接著劑，可以例示出異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系膠乳系、水系聚酯等。前述接著劑通常係以由水溶液構成的接著劑的形式使用，且通常係含有0.5~60重量%的固體成分而成。此外，作為偏光件與透明保護薄膜的接著劑，可列舉出紫外固化型接著劑、電子束固化型接著劑等。電子束固化型偏光薄膜用接著劑對前述各種透明保護薄膜會表現出適宜的接著性。另外，本發明使用的接著劑中可以含有金屬化合物填料。
另外，作為光學薄膜，例如可列舉出反射板或半透過板、相位差板(包括1/2及1/4等波長板)、視覺補償薄膜、增亮薄膜、表面處理薄膜等用於液晶顯示裝置等的 形成之作為光學層者。該等可以單獨作為光學薄膜使用，此外亦可以在實際使用時在前述偏光薄膜上積層一層或兩層以上來使用。
表面處理薄膜可以貼合設置於前面板。作為表面處理薄膜，可列舉出用於賦予表面耐擦傷性而使用的硬塗薄膜、用於防止對影像顯示裝置的反射的防眩處理薄膜、抗反射薄膜、低反射薄膜等防反射薄膜等。前面板是為了保護液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示裝置、或者賦予高級感，或者為了使設計與眾不同而貼合在前述影像顯示裝置的表面上來設置的。另外前面板係用作3D-TV中的λ/4板的支撐體。例如，在液晶顯示裝置中，係設置在辨識側的偏光薄膜的上側。使用本發明的黏著劑層時，作為前面板，除了玻璃基材以外，對於聚碳酸酯基材、聚甲基丙烯酸甲酯基材等塑膠基材也發揮與玻璃基材相同的效果。
在偏光薄膜上積層有前述光學層的光學薄膜也可以在液晶顯示裝置等的製造過程中藉由依次分別積層的方式來形成，而預先積層而製成光學薄膜則具有品質的穩定性及組裝作業等優異、而可改善液晶顯示裝置等的製造步驟的優點。積層時可使用黏著層等合適的接著手段。在將前述偏光薄膜與其他光學層接著時，該等的光軸可以根據目標相位差特性等設置成適當的配置角度。
本發明的附黏著劑層之光學薄膜可以適宜用於液晶顯示裝置等各種影像顯示裝置的形成等。液晶顯示 裝置的形成可依照現有技術進行。即，液晶顯示裝置通常係藉由適當組裝液晶單元等顯示面板與附黏著劑層之光學薄膜、以及根據需要的照明系統等構成部件並安裝驅動電路而形成，而在本發明中，除了使用本發明的附黏著劑層之光學薄膜這一點之外沒有特別限定，可以依照現有技術。關於液晶單元，也可使用例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意類型者。
可以形成在液晶單元等顯示面板的一側或兩側上配置有附黏著劑層之光學薄膜的液晶顯示裝置、在照明系統中使用了背光源或反射板者等適宜的液晶顯示裝置。在該情況下，本發明的光學薄膜可以設置在液晶單元等顯示面板的單側或雙側。在雙側設置光學薄膜的情況下，該等可以是相同的，也可以是不同的。進而，在形成液晶顯示裝置時，例如可以在合適的位置配置一層或兩層以上擴散板、防眩層、防反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光源等合適的部件。
接著對有機電場發光裝置(有機EL顯示裝置：OLED)進行說明。通常，有機EL顯示裝置在透明基板上係依次積層透明電極、有機發光層與金屬電極而形成有發光體(有機電場發光發光體)。此處，有機發光層為各種有機薄膜的積層體，例如，已知有：由三苯基胺衍生物等構成的電洞注入層與由蒽等螢光性的有機固體構成的發光層的積層體、或者這種發光層與苝衍生物等構成的電子注入層的積層體、或者該等電洞注入層、發光層、及電子注入 層的積層體等具有各種組合的結構。
有機EL顯示裝置係藉由如下的原理發光：藉由對透明電極及金屬電極施加電壓將電洞及電子注入到有機發光層，並藉由該等電洞與電子的再結合而產生的能量將螢光物質激發，而被激發的螢光物質回到基態時會發出光。中途的再結合之機理係與通常的二極體相同，由此也可以預測，電流與發光強度對施加電壓會顯示出伴隨著整流性之強的非線形性。
在有機EL顯示裝置中，為了截取有機發光層中發出的光，則至少一個電極必須是透明的，而通常係使用以氧化銦錫(ITO)等透明導電體形成的透明電極作為陽極。另一方面，為了使電子注入容易而提高發光效率，在陰極使用功函數小的物質是重要的，而通常係使用Mg-Ag、Al-Li等金屬電極。
在這種結構的有機EL顯示裝置中，有機發光層是用厚度10nm左右的極薄的膜形成的。因此，有機發光層也與透明電極同樣，對光幾乎完全透射。其結果，非發光時從透明基板的表面入射、並透過透明電極與有機發光層而被金屬電極反射的光會再次從透明基板的表面側射出，因此從外部辨識時，有機EL顯示裝置的顯示面看起來會像鏡面一樣。
在包含在藉由電壓的施加而發光的有機發光層的表面側具備透明電極，且在有機發光層的背面側具備金屬電極而成的有機電場發光發光體的有機EL顯示裝置 中，係可以在透明電極的表面側設置偏光薄膜，並且可在該等透明電極與偏光薄膜之間設置相位差板。
相位差板及偏光薄膜由於具有對從外部入射而被金屬電極反射的光進行偏光的作用，因此有因該偏光作用而使金屬電極的鏡面無法從外部辨識的效果。特別是若用1/4波長板構成相位差板、且將偏光薄膜與相位差板的偏光方向的隔角調整為π/4，則可完全遮蔽金屬電極的鏡面。
即，入射於該有機EL顯示裝置的外部光由於偏光薄膜而僅有直線偏光成分會透過。該直線偏光由於相位差板而通常會成為橢圓偏光，特別在相位差板為1/4波長板且偏光薄膜與相位差板的偏光方向的隔角為π/4時會成為圓偏光。
該圓偏光會透過透明基板、透明電極、有機薄膜，而被金屬電極反射，並再次透過有機薄膜、透明電極、透明基板，而在相位差板處再次成為直線偏光。而且，該直線偏光由於會與偏光薄膜的偏光方向垂直，因此無法透過偏光薄膜。其結果，可完全遮蔽金屬電極的鏡面。
實施例
以下藉由實施例來具體說明本發明，但本發明不受該等實施例的限制。此外，各例中的份及%均為重量基準。
實施例1
(光學薄膜(偏光薄膜)的製作)
<偏光件>
將平均聚合度2400、皂化度99.9mol%的厚度75μm的聚乙烯醇薄膜浸漬於30℃的溫水中60秒，使其溶脹。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)之濃度0.3%的水溶液中，邊拉伸至3.5倍邊將薄膜染色。然後，在65℃的硼酸酯水溶液中以總拉伸倍率變為6倍的方式進行拉伸。拉伸後，在40℃的烘箱中進行乾燥3分鐘，而得到PVA系偏光件(厚度23μm)。
<透明保護薄膜>
作為透明保護薄膜，係使用厚度80μm的三醋酸纖維素薄膜(TAC)而不進行皂化．電暈處理等(以下，也將未進行皂化．電暈處理等的TAC稱為「未皂化TAC」)。
<活性能量射線>
作為活性能量射線，係使用紫外線(充入鎵的金屬鹵化物燈)照射裝置：Fusion UV Systems,Inc製的Light HAMMER10燈泡：V燈泡 峰值照度：1600mW/cm2、累積照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)。此外，紫外線的照度係使用Solatell公司製的Sola-Check系統來測定。
(活性能量射線固化型接著劑組合物的調整)
將下述成分混合，並在50℃下攪拌1小時，而得到活性能量射線固化型接著劑組合物。使用的各成分如下。
(1)HEAA(羥乙基丙烯醯胺)，均聚物的Tg為123℃，KOHJIN Holdings Co,Ltd.製
(2)ARONIX M-220(三丙二醇二丙烯酸酯)，均聚物的 Tg為69℃，東亞合成公司製
(3)ACMO(丙烯醯啉)，SP值22.9，均聚物的Tg為150℃，KOHJIN Holdings Co,Ltd.製
(4)光聚合起始劑
KAYACURE DETX-S(二乙基噻噸酮)、日本化藥公司製
IRGACURE907(2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-啉代丙烷-1-酮)，BASF公司製
接著，在兩張上述未皂化TAC薄膜上使用MCD Coater(富士機械公司製)(單元形狀：蜂巢，凹版輥線數：1000根/英尺，轉速140%/一對線速)、將含有38.3重量份HEAA、19.1重量份ARONIX M-220、38.3重量份ACMO、1.4重量份KAYACURE DETX-S、1.4重量份IRGACURE907的活性能量射線固化型接著劑組合物塗覆成厚度0.5μm，並用輥機分別貼合到上述偏光件的兩面。然後，從貼合後的未皂化TAC薄膜面側(兩側)使用IR加熱器加溫至50℃，對兩面照射上述紫外線，使活性能量射線固化型接著劑組合物定化後，在70℃下熱風乾燥3分鐘，而得到在偏光件的兩側具有未皂化TAC薄膜的偏光薄膜。且其係在貼合的線速為25m/min下進行。
對上述偏光薄膜的錨定層形成面側(積層有黏著劑層之側的未皂化TAC薄膜面側)實施電暈處理(0.1kw、3m/min、300mm寬)作為易接著處理。
(黏著劑溶液A的調整)
將99份丙烯酸丁酯、1.0份丙烯酸4-羥丁酯、 及相對於單體(固體成分)100份為0.3份的2,2-偶氮二異丁腈與醋酸乙酯一起加到具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置的反應容器中，在氮氣氣流下、在60℃下進行反應4小時後，在該反應液中加入醋酸乙酯，而得到含有重量平均分子量165萬的丙烯酸類聚合物的聚合物溶液A(固體成分濃度30重量%)。前述丙烯酸類聚合物溶液A的固體成分每100份摻混0.3份的過氧化二苯甲醯(日本油脂製(股)：NYPER BMT)、0.1份的三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯(三井武田化學(股)：TAKENATE D110N)、與0.2份的矽烷偶合劑(綜研化學股份有限公司製：A-100，含乙醯乙醯基的矽烷偶合劑)，而得到丙烯酸類黏著劑溶液A。
(黏著劑溶液B的調整)
將94.9份丙烯酸丁酯、5份丙烯酸、0.1份丙烯酸2-羥乙酯、及相對於單體(固體成分)100份為0.3份的過氧化二苯甲醯(日本油脂公司製：NYPER BMT40(SV))與醋酸乙酯一起加入到具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置的反應容器中，在氮氣氣流下、在60℃下進行反應7小時後，在該反應液中加入醋酸乙酯，而得到含有重量平均分子量220萬的丙烯酸類聚合物的聚合物溶液B(固體成分濃度30重量%)。前述丙烯酸類聚合物溶液B的固體成分每100份摻混0.6份的三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(日本聚胺甲酸酯公司製：CORONATE L)、與0.075份的γ-環氧丙氧基三甲基矽烷(信越化學工業公司製：KBM-403)，而得到丙烯酸類黏著劑溶液B。
(錨定層塗布液的製備)
將以固體成分計包含30~90重量%的胺基甲酸酯系聚合物及10~50重量%的聚噻吩系聚合物的溶液[Nagase ChemteX Corporation製商品名「Denatron P-580W」]與以固體成分計包含10~70重量%的含噁唑啉基丙烯酸類聚合物及10~70重量%的含聚氧亞乙基甲基丙烯酸酯的溶液[日本觸媒公司製商品名「EPOCROS WS-700」]添加到水100重量%的(混合)溶液中，而調製成固體成分濃度(基礎濃度)為0.4重量%。使用邁耶棒(Meyer bar)# 5將調製後的溶液塗布到前述偏光薄膜的未皂化TAC薄膜側，並將直到放入乾燥烘箱為止的時間(直至開始乾燥為止的時間)設為5秒後，在50℃下乾燥25秒，而形成厚度48nm的錨定塗層。由乾燥厚度計算的乾燥前的塗布厚度約為12μm。作業係在23℃55%RH氣氛下進行。此外，使用邁耶棒塗布時，乾燥前的塗布厚度與邁耶棒的間隙係大致一致。因此，所需的乾燥前的塗布厚可以藉由改變邁耶棒的型號來進行一定程度的調整。表1示出邁耶棒的各型號的間隙。
(附黏著劑層之光學薄膜的製作)
利用噴注式塗布機將前述黏著劑溶液A均勻地塗覆到用有機矽系剝離劑處理後的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜(基材)的表面，並在155℃的空氣循環式恆溫烘箱中乾燥2分鐘，而在基材的表面上形成厚度20μm的黏著劑層。接著，將形成有黏著劑層的隔離膜轉移到前述附錨定層之光學薄膜上，而製作附黏著劑層之光學薄膜。
實施例2~16及比較例1~5
在光學薄膜(偏光薄膜)中，將錨定層形成面側(積層有黏著劑層的一側)的透明保護薄膜種類(其中，與積層有黏著劑層的一側相反的一側均積層有未皂化TAC薄膜)、基礎濃度、混合溶劑組成、黏著劑溶液種類、及/或黏結劑組成變為表2所示的內容，除此之外，藉由與實施例1同樣的方法製作附黏著劑層之光學薄膜。
表2中，「基材」表示錨定層形成面側的透明保護薄膜、「乾式處理」表示對基材的錨定層形成面側實施的處理的種類，並且，「未皂化TAC」表示由未皂化的三醋酸纖維素構成的光學薄膜(柯尼卡美能達公司製)，「皂化TAC」表示由皂化三醋酸纖維素構成的光學薄膜(柯尼卡美能達公司製)、「丙烯酸類樹脂」表示由內酯改質丙烯酸類樹脂構成的光學薄膜，「ZEONOR」表示由降烯系樹脂薄膜構成的光學薄 膜(日本ZEON公司製)，「ARTON」表示由降烯系樹脂薄膜構成的光學薄膜(JSR公司製)，「IPA」表示異丙醇，「溶質1[%]」及「溶質2[%]」表示錨定層塗布液中的黏結劑含量(重量%)，「乾膜厚度(nm)」表示乾燥厚度(nm)，「濕膜厚度」(μm)」表示乾燥前的塗布厚度(nm)，「黏著劑」表示黏著劑溶液種類。
對前述實施例及比較例中得到的附黏著劑層之光學薄膜進行以下的評價。將評價結果示於表2。
(錨定層的塗布外觀)
在各實施例及各比較例中，錨定層塗布後，藉由目視檢查剛剛在預定的乾燥條件下進行處理後的塗布外觀。評價基準如下所述。
◎：不存在反撥、塗覆不均、異物的產生之良好的塗覆外觀
○：發現微小的反撥、塗覆不均，但對可視性不造成影響之良好的塗覆外觀
△：發現反撥、塗覆不均，但對可視性不造成影響的塗覆外觀
×：發現大的反撥、塗覆不均、異物的產生等，在實際使用上存在問題。
(大長度下的異物)
對前述偏光薄膜的錨定層形成面側(未皂化TAC薄膜面側)線上上實施易接著處理(電暈或電漿：2kw、15m/min、1.33m寬)，接著，使用凹版塗布機線上對偏光薄膜塗布錨定層塗布液3000M以上，以使成表2中記載之預定的乾燥前的塗布厚度，然後，在預定的乾燥條件下處理，將積層有錨定層的偏光薄膜以長條的形式捲取(輥對輥)。此時，歷時地目視確認錨定層塗布後的塗覆外觀。評價基準如下所述。
◎：即使塗布3000M以上也不存在異物的產生之良好的塗覆外觀
○：在3000M以內產生若干異物，但對可視性不造成影響的塗覆外觀
△：在3000M以內產生異物，但對可視性不造成影響的塗覆外觀
×：在3000M以內大量產生異物，在實際使用上存在問題
(基材與黏著劑層的密合性評價(密合性))
使用層壓機將實施例、比較例中得到的附黏著劑層偏光薄膜(長420mm×寬320mm)貼附到厚度0.7mm的無鹼玻璃板上，接著，在50℃、5atm下高壓釜處理15分鐘，使其完全密合(初始)。然後，用人手從無鹼玻璃板剝離樣品，並以下述基準進行密合性評價(再使用性評價)。
◎：可無殘膠地良好剝離
○：稍有殘膠，但可良好剝離
△：某些部位產生殘膠，但可剝離
×：玻璃面上產生一半以上的殘膠
(裂紋耐久性)
使用層壓機將實施例、比較例中得到的附黏著劑層偏光薄膜(長420mm×寬320mm)以正交尼科耳稜鏡(crossed Nichol prism)的狀態黏貼到厚度0.7mm的無鹼玻璃板的兩面。接著，在50℃、5atm下實施高壓釜處理15分鐘，使其完全密合。將該樣品在95℃條件下分別處理500小時後，按照以下的基準目視觀察裂紋產生的有無。評價基準如下所述。
◎：未產生裂紋
○：有少許微小裂紋，但對可視性不造成影響
△：某些部位有微小裂紋，但對可視性不造成影響
×：大量產生大的裂紋、微小裂紋，在實際使用上存在問題
(錨定層的厚度測定)
在各實施例及各比較例中，將僅設有錨定層的附黏著劑層之光學薄膜利用2%釕酸水溶液染色2分鐘後，將其嵌入到環氧樹脂中，並利用超薄切片機(Ultracut S，Leica公司製)切削成厚度約80nm，接著，用TEM(Hitachi H-7650加速電壓100kV)觀察該光學薄膜切片的截面，從而求出乾燥後的錨定層的厚度(乾膜厚度(nm))。
(表面電阻值)
使用表面電阻測定器(三菱化學(股)製，Hiresta MCP-HT450)測定抗靜電層的表面電阻值。
(影像顯示性)
使用表面側的玻璃基板進行過ITO處理、且背面側的玻璃基板未進行ITO處理的IPS方式的液晶單元。對於該液晶單元的背面側，從光學薄膜剝離脫模片A並貼合黏著劑層。使該液晶面板的貼合面在上，並放置於背光源上。接著，將光學薄膜表面的表面保護薄膜在180°方向上、以5m/分鐘的固定速度剝離，並確認液晶層的紊亂。評價則係測定直至液晶層的紊亂恢復到原本的狀態為止的時間。
○：1秒以內
△：5秒以內
×：1分鐘以內
××：30分鐘以上
(單體透過率)
從得到的偏光板的寬度方向中央部以50mm×25mm的尺寸、以偏光板的吸收軸相對於長邊為45°的方式切出樣品，並使用積分球式透過率測定儀((股)村上色彩研究所製：DOT-3C)，測定單體透過率(%)Ts。

Claims (13)

  1. 一種錨定層形成用塗布液，該錨定層係配設於光學薄膜與黏著劑層之間者；該塗布液之特徵在於含有：聚噻吩系聚合物，含聚氧亞烷基的聚合物，及混合溶劑，係包含65~100重量%的水、與0~35重量%的醇。
  2. 根據請求項1所述的錨定層形成用塗布液，其還含有聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑。
  3. 根據請求項2所述的錨定層形成用塗布液，其含有0.005~5重量%的所述聚噻吩系聚合物、0.005~5重量%的所述含聚氧亞烷基的聚合物、0.005~5重量%的所述聚胺甲酸酯樹脂系黏結劑。
  4. 一種附黏著劑層之光學薄膜，係在光學薄膜的至少一面上隔著錨定層積層有黏著劑層者，其特徵在於：所述錨定層是藉由將如請求項1或2所述的錨定層形成用塗布液塗布於所述光學薄膜並乾燥而製得者，且其單體透過率的降低為1%以下。
  5. 根據請求項4所述的附黏著劑層之光學薄膜，其中所述光學薄膜係已在其錨定層形成面側實施過易接著處理者。
  6. 根據請求項4所述的附黏著劑層之光學薄膜，其中所述光學薄膜的所述錨定層形成面側為未皂化三醋酸纖維 素。
  7. 根據請求項4所述的附黏著劑層之光學薄膜，其中所述附黏著劑層之光學薄膜係附黏著劑層之偏光薄膜。
  8. 一種附黏著劑層之光學薄膜之製造方法，係製造在光學薄膜的至少一個面上隔著錨定層積層有黏著劑層之附黏著劑層之光學薄膜者，該方法之特徵在於至少包括以下步驟：易接著處理步驟，係在形成所述錨定層的步驟前，對所述光學薄膜的所述錨定層形成面側實施易接著處理；及塗布步驟，將如請求項1或2所述的錨定層形成用塗布液塗布到所述光學薄膜的易接著處理面；且所述錨定層的單體透過率的降低為1%以下。
  9. 根據請求項8所述的附黏著劑層之光學薄膜之製造方法，其中所述光學薄膜的所述錨定層形成面側為未皂化三醋酸纖維素。
  10. 根據請求項8所述的附黏著劑層之光學薄膜之製造方法，其在所述塗布步驟後還包括錨定層形成步驟，該步驟係藉由在滿足下述(1)~(2)兩者的乾燥條件下進行乾燥以去除所述混合溶劑，而形成錨定層：(1)乾燥溫度T=40~70℃，(2)所述乾燥溫度T(℃)與所述乾燥時間H(秒)相乘而得到的值(T×H)為400≦(T×H)≦4000。
  11. 根據請求項10所述的附黏著劑層之光學薄膜的製造方 法，其從在所述光學薄膜上塗布所述錨定層形成用塗布液後到開始乾燥為止的時間為30秒以下。
  12. 根據請求項8所述的附黏著劑層之光學薄膜的製造方法，其中所述附黏著劑層之光學薄膜為附黏著劑層之偏光薄膜。
  13. 一種影像顯示裝置，其特徵在於係使用如請求項4所述的附黏著劑層之光學薄膜者。
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