TWI519358B - Preparation method of adhesive type optical film - Google Patents

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TWI519358B
TWI519358B TW100147460A TW100147460A TWI519358B TW I519358 B TWI519358 B TW I519358B TW 100147460 A TW100147460 A TW 100147460A TW 100147460 A TW100147460 A TW 100147460A TW I519358 B TWI519358 B TW I519358B
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Yuusuke Toyama
Atsushi Yasui
Tomoyuki Kimura
Masayuki Satake
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Nitto Denko Corp
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Description

黏著型光學薄膜的製造方法 發明領域
本發明係有關於一種在光學薄膜之至少一面隔著固定層而層積有黏著劑層之黏著型光學薄膜的製造方法。就前述光學薄膜而言，例如有：偏光板、相位差板、光學補償薄膜、亮度提升薄膜、或抗反射薄膜等之表面處理薄膜、以及層積有該等之薄膜等。
 發明背景
液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等從其圖像形成方式而言，一般黏貼有偏光板，例如在液晶顯示裝置中，不可缺少地會在液晶胞元的兩側配置偏光元件。又，為了使顯示器之顯示品級提升，在液晶面板及有機EL面板等顯示面板除使用偏光板以外，亦逐漸有使用各種光學元件。又，有在使用前面板用以保護液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置、CRT、PDP等圖像顯示裝置、或賦與高級感使設計有所差別化。在該等液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置及前面板等圖像顯示裝置中皆有使用的構件之中，如有：使用作為抗著色的相位差板、用以改善液晶顯示器之視角的視角擴大薄膜、以及用以提高顯示器之對比的亮度提升薄膜、用以賦與表面耐擦傷性而使用的硬塗薄膜、用以防止對於圖像顯示裝置之映入的防眩處理薄膜、及抗折射薄膜或低折射薄膜等抗反射薄膜等的表面處理薄膜。該等薄膜總稱為光學薄膜。
將前述光學薄膜黏貼至液晶胞元及有機EL面板等顯示面板或前面板時，通常係使用黏著劑。又，為了減低光損失，光學薄膜與液晶胞元及有機EL面板等顯示面板或前面板、或光學薄膜間之接著通常會使用黏著劑來密接各材料。此時，從具有無須乾燥步驟即可使光學薄膜固著等優點看來，一般係使用預先在光學薄膜之單側設有作為黏著劑層的黏著型光學薄膜。
光學薄膜在加熱或加濕條件下容易收縮膨脹，而一旦光學薄膜與黏著劑之密接性降低，便容易在光學薄膜與黏著劑層之間產生隆起或剝離。尤其，在用於要求液晶面板有更高的耐久性的車載用途-如車輛導航-之中，會連加諸於光學薄膜的收縮應力都增大而更容易產生隆起或剝離。具體而言，例如即便在TV用等實施的80℃左右的可靠性試驗中毫無問題，在車輛導航等車載用實施的95℃左右的可靠性試驗中則容易產生隆起或剝離等現象。又，將黏著型光學薄膜黏貼至液晶顯示器以後，因需求而暫時將之剝離又再度進行黏貼(重工)的情況下，一旦光學薄膜與黏著劑之密接力太低，則容易產生黏著劑殘留在液晶顯示器表面而無法有效進行重工的現象問題；或，在使用步驟中之操作時-如黏著型光學薄膜之切斷或搬送時等，一旦黏著型光學薄膜的端部接觸到人員或周圍物品，便亦容易產生因缺少其部分黏著劑而引起液晶面板的顯示不良等現象問題。為了解除該等現象而實施下述方法，即：將固定層塗佈至光學薄膜後再塗佈黏著劑，以提升光學薄膜與黏著劑層之密接性。
而，針對前述黏著劑層，在一般作為環境促進試驗所進行的加熱及加濕等耐久試驗時，則要求不會有起因於黏著劑的問題發生。然而，將固定層配置於光學薄膜與黏著劑層之間時，於耐久性試驗時曾在光學薄膜之固定層形成面側產生溶劑龜裂之問題。尤其，例如即便在TV用等實施的80℃左右的可靠性試驗中沒有溶劑龜裂產生，在車輛導航等車載用實施的95℃左右的可靠性試驗中則有溶劑龜裂顯著產生的現象。
在下述專利文獻1中有記載一種在光學薄膜與黏著劑層之間配置有固定層的黏著型光學薄膜，該固定層係塗佈含有水及醇之混合溶媒與聚胺化合物的固定層塗佈液並使其乾燥而製得。然而，在該黏著型光學薄膜中，並未具體檢討用以解決耐久性試驗時溶劑龜裂產生在光學薄膜的固定層形成面側之問題的固定層塗佈液之組成‧乾燥條件。
又，在下述專利文獻2中有記載一種在光學薄膜與黏著劑層之間配置有固定層的黏著型光學薄膜，該固定層係塗佈含有水及醇之混合溶媒與含唑啉基之聚合物的固定層塗佈液並使其乾燥而製得，而作為該固定層塗佈液的乾燥條件則有具體揭示出設定在乾燥溫度40度、且乾燥時間120秒之例。此外，在下述專利文獻3中有記載一種在光學薄膜與黏著劑層之間配置有固定層的黏著型光學薄膜，該固定層係塗佈由含有聚胺甲酸酯樹脂與水溶性聚噻吩系導電性聚合物之水溶液所構成的固定層塗佈液並使其乾燥而製得，而作為該固定層塗佈液的乾燥條件則有具體揭示出設定在乾燥溫度80度、且乾燥時間120秒之例。然而，在該等乾燥條件中，從防止上述溶劑龜裂產生之觀點看來，可明瞭尚有改良的餘地。
此外，在下述專利文獻4中有記載一種在光學薄膜與黏著劑層之間配置有固定層的黏著型光學薄膜，該固定層係塗佈含有氨且含有水分散型聚合物之固定層塗佈液並使其乾燥而製得，而作為該固定層塗佈液的乾燥條件則有具體揭示出設定在乾燥溫度50度、且乾燥時間60秒之例。然而，存於固定層之氨的比例一旦增多，在高熱且高濕度環境下，例如使用偏光板作為光學薄膜時，偏光板的偏光特性會有所變化。因此，有影響光學特性而無法滿足在高熱且高濕度環境下之高耐久性的情況產生。
如上述，在習知技術中，並未著眼在光學薄膜的固定層形成面側產生溶劑龜裂之問題之例，為了改良該問題，必須有進一步的檢討。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：特開2004-078143號公報
專利文獻2：特開2007-171892公報
專利文獻3：特開2009-242786號公報
專利文獻4：特開2007-248485號公報
本發明係有鑑於前述實情而進行者，其目的在於提供一種黏著型光學薄膜之製造方法，該黏著型光學薄膜係於光學薄膜之至少一面隔著固定層而層積有黏著劑層，其密接性佳且高溫中之龜裂耐久性優異。
本發明人等為了解決前述課題而精闢檢討之結果發現：使用由特定溶媒組成所構成之混合溶媒將用以除去該混合溶媒之乾燥條件予以最適化，藉此可有效地防止在黏著型光學薄膜之固定層形成面側產生溶劑龜裂。本發明係經由前述檢討之結果，藉由如下述之構成來達成上述目的者。
即，本發明之黏著型光學薄膜之製造方法係於光學薄膜之至少一面隔著固定層而層積有黏著劑層者，其特徵在於具有形成固定層之步驟，該步驟係將含有以水及醇為主成分之混合溶媒與黏合劑樹脂的固定層塗佈液塗佈至前述光學薄膜上，使乾燥前的塗佈厚度在20μm以下，接下來以滿足下述(1)～(2)兩者之乾燥條件進行乾燥，藉以除去前述混合溶媒而形成固定層：
(1)乾燥溫度T=40～70℃，且
(2)前述乾燥溫度T(℃)與前述乾燥時間H(秒)相乘之值(T×H)為400≦(T×H)≦4000。
在前述黏著型光學薄膜之製造方法中，前述醇為異丙醇及/或乙醇為佳。
在前述黏著型光學薄膜之製造方法中，從對前述光學薄膜塗佈前述固定層塗佈液後起至開始乾燥為止之時間在30秒以下為佳。
在前述黏著型光學薄膜之製造方法中，前述光學薄膜之前述固定層形成面側為降莰烯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂為佳。
在前述黏著型光學薄膜之製造方法中，其係於形成固定層之步驟前，具有對前述光學薄膜之前述固定層形成面側施加電暈處理或電漿處理之步驟為佳。
在本發明之黏著型光學薄膜之製造方法中，固定層塗佈液含有以水及醇為主成分之混合溶媒及黏合劑樹脂。尤其，藉由使用以水及醇為主成分之混合溶媒，可提升光學薄膜與黏著劑層之密接性，且可提升固定層的塗佈外觀性。此外，藉由在滿足下述(1)～(2)兩者之乾燥條件下使含有以水及醇為主成分之混合溶媒的固定層塗佈液乾燥，可防止光學薄膜之固定層形成面側產生溶劑龜裂：
(1)乾燥溫度T=40～70℃，且
(2)前述乾燥溫度T(℃)與前述乾燥時間H(秒)相乘之值(T×H)為400≦(T×H)≦4000。
尤其，依據本發明之黏著型光學薄膜之製造方法，即便在車輛導航等車載用實施的95℃左右的可靠性試驗中，仍可製造可防止溶劑龜裂產生的黏著型光學薄膜。
 用以實施發明之形態
本發明係有關於一種於光學薄膜之至少一面隔著固定層而層積有黏著劑層之黏著型光學薄膜之製造方法。在黏著型光學薄膜中，黏著劑層可設在光學薄膜的一面，亦可設在光學薄膜的兩面。
黏著劑層之形成可使用適當的黏著劑，有關其種類並未有特別限制。就黏著劑而言，例如有：橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、及纖維素系黏著劑等。
在該等黏著劑中，又以使用光學透明性佳、顯示適當的濕潤性、凝聚性及接著性之黏著特性、且耐候性與耐熱性等亦優異者為佳。作為顯示此種特徵者，使用丙烯酸系黏著劑為佳。
丙烯酸系黏著劑係將以(甲基)丙烯酸烷酯之單體單元為主骨架的丙烯酸系聚合物作為基質聚合物。而，(甲基)丙烯酸烷酯意指丙烯酸烷酯及/或甲基丙烯酸烷酯，本發明的(甲基)皆為同樣意思。構成丙烯酸系聚合物之主骨架的(甲基)丙烯酸烷酯例如有直鏈狀或支鏈狀之烷基碳數1～20者。舉例來說，例如有：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、及(甲基)丙烯酸月桂酯等。該等可單獨或組合使用。該等烷基之平均碳數以3～9為佳。
前述丙烯酸系聚合物中，以接著性與耐熱性之改善為目的，可藉由共聚導入1種類以上之共聚單體。就上述共聚單體之具體例而言，例如有：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯或(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等含羥基之單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、及巴豆酸等含羧基之單體；馬來酸酐、及伊康酸酐等含酸酐基之單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙烷磺酸、(甲基)丙烯酸磺酸丙酯、及(甲基)丙烯醯氧基蔡磺酸等含磺酸基之單體；以及2-羥乙基丙烯醯磷酸酯等含磷酸基之單體等。
又，作為改質目的之單體例例如有：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺及N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、及(甲基)丙烯酸三級丁基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺烷酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、及(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧烷酯系單體；N-(甲基)丙烯醯基甲醛琥珀醯亞胺及N-(甲基)丙烯醯基-6-氧六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧伸辛基琥珀醯亞胺、N-丙烯醯基嗎福林等琥珀醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺及N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺及N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、及N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等。
此外，作為改質單體亦可使用：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯吡咯啶酮、甲基乙烯吡咯啶酮、乙烯吡啶、乙烯哌啶酮、乙烯嘧啶、乙烯哌、乙烯吡、乙烯吡咯、乙烯咪唑、乙烯噁唑、乙烯嗎福林、N-乙烯羧酸醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、及N-乙烯己內醯胺等乙烯系單體；丙烯腈、及甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸聚乙二醇、(甲基)丙烯酸聚丙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧乙二醇、及(甲基)丙烯酸甲氧聚丙二醇等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、氟化(甲基)丙烯酸酯、矽酮(甲基)丙烯酸酯及2-甲氧乙基丙烯酸酯等丙烯酸酯系單體等。
丙烯酸系聚合物在全構成單體的重量比率中以(甲基)丙烯酸烷酯為主成分，而丙烯酸系聚合物中之前述共聚單體的比率並未有特別限制，惟前述共聚單體之比率在全構成單體的重量比率中以0～20%左右為佳，以0.1～15%左右較佳，又以0.1～10%左右更佳。
從接著性及耐久性之觀點看來，在該等共聚單體中，宜使用含羥基之單體、及含羧基之單體。該等單體將成為與交聯劑的反應點。由於含羥基之單體、及含羧基之單體等富有與分子間交聯劑的反應性，因此適合使用在獲得黏著劑層的凝聚性及耐熱性之提升上。
作為共聚單體含有含羥基之單體及含羧基之單體時，該等共聚單體可在前述共聚單體之比率下進行使用，惟以含有含羧基之單體0.1～10重量%及含羥基之單體0.01～2重量%為佳。含羧基之單體在0.2～8重量%較佳，在0.6～6重量%更佳。而，含羥基之單體在0.03～1.5重量%較佳，在0.05～1重量%更佳。
丙烯酸系聚合物的平均分子量並未有特別限制，重量平均分子量在30萬～250萬左右為佳。前述丙烯酸系聚合物之製造可藉由各種公知手法來製造，例如，可適當選擇塊狀聚合法、溶液聚合法、及懸浮聚合法等自由基聚合法。就自由基聚合起始劑而言，可使用偶氮系、或過氧化物系等各種公知物。反應溫度通常在50～80℃左右，反應時間則設在1～8小時。又，在前述製造法之中，又以溶液聚合法為佳，作為丙烯酸系聚合物之溶媒一般係使用乙酸乙酯及甲苯等。溶液濃度通常係設在20～80重量%左右。
又，前述黏著劑以含有交聯劑之黏著劑組成物為佳。可摻混至黏著劑中的多官能化合物可如有機系交聯劑、及多官能性金屬螫合劑。作為有機系交聯劑則例如有：環氧系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、亞胺系交聯劑、及過氧化物系交聯劑等。該等交聯劑可使用1種或組合2種以上使用。就有機系交聯劑而言，以異氰酸酯系交聯劑為佳。多官能性金屬螫合劑係多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結者。作為多價金屬原子例如有：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中的原子如氧原子等，作為有機化合物則例如有：烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、及酮化合物等。
丙烯酸系聚合物等之基質聚合物與交聯劑的摻混比例並未有特別限定，通常，相對於基質聚合物(固體成分)100重量份，以交聯劑(固體成分)0.001～20重量份左右為佳，又以0.01～15重量份左右更佳。就前述交聯劑而言，以異氰酸酯系交聯劑為佳。相對於基質聚合物(固體成分)100重量份，異氰酸酯系交聯劑在0.001～2重量份左右為佳，在0.01～1.5重量份左右更佳。
此外，前述黏著劑中可視需求適當使用增黏劑、可塑劑、由玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉與其他無機粉末等所構成之充填劑、顏料、著色劑、充填劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、及矽烷耦合劑等，又可在未脫離本發明目的之範圍內適當使用各種添加劑。又，亦可作為含有微粒子且顯示光擴散性之黏著劑層等。
作為矽烷耦合劑，可無特別限制地使用自習知即知者。例如有：γ-縮水甘油氧丙基三甲氧矽烷、γ-縮水甘油氧丙基三乙氧矽烷、γ-縮水甘油氧丙基甲基二乙氧矽烷、及2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑；3-胺基丙基三甲氧矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧矽烷、及3-三乙氧矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺等含胺基之矽烷耦合劑；3-丙烯酸氧基丙基三甲氧矽烷、及3-甲基丙烯酸氧基丙基三乙氧矽烷等含(甲基)丙烯酸基之矽烷耦合劑；以及3-異氰酸酯丙基三乙氧矽烷等含異氰酸酯基之矽烷耦合劑。惟，黏著劑層中含有矽烷耦合劑時，可能有助長光學薄膜之固定層形成面側溶劑龜裂產生的現象，因此，相對於基質聚合物(固體成分)100重量份，矽烷耦合劑(固體成分)之含量以盡可能少量為佳。具體而言，以0～3重量份左右為佳，摻混0～2重量份左右較佳，又以摻混0～1重量份左右更佳。
在本發明之黏著型光學薄膜之製造方法中，係在黏著劑層與光學薄膜之間設置固定層。該固定層係將含有以水及醇為主成分之混合溶媒及黏合劑樹脂的固定層塗佈液塗佈至光學薄膜上，使乾燥前的塗佈厚度在20μm以下，接下來以滿足下述(1)～(2)兩者的乾燥條件進行乾燥，藉以除去混合溶媒而形成：
(1)乾燥溫度T=40～70℃，且
(2)乾燥溫度T(℃)與乾燥時間H(秒)相乘之值(T×H)為400≦(T×H)≦4000。
固定層塗佈液中之混合溶媒含有以水及醇為主成分之混合溶媒。從溶劑龜裂防止之觀點看來，相較於醇，水的使用較佳，但若考慮到固定層塗佈液之相溶性、對光學薄膜的濕潤性、以及與光學薄膜之密接性或固定層的塗佈外觀性，則必須混合水及醇來使用。而，當固定層塗佈液的相溶性(黏合劑樹脂與混合溶媒之相溶性)不良(凝聚物之發生、或混濁等)時，針對些許的凝聚物等發生，可藉由通過濾器的濾過塗佈來加以處置，但即便如此，仍舊容易有塗佈外觀問題。較理想為水與異丙醇及/或乙醇之混合溶媒，更理想為水與異丙醇之混合溶媒。又，水與醇之混合比率以水之比率為10～90重量%為佳，20～80重量%較佳，30～70重量%尤佳。
又，固定層塗佈液中，水及醇以外的成分-如氨-的比率一增多，在高熱且高濕度環境下，例如使用偏光板作為光學薄膜時，偏光板的偏光特性會產生變化，藉此可能會影響光學特性而無法滿足高熱且高濕度環境下之高耐久性。所以，固定層塗佈液中之混合溶媒(黏合劑樹脂之稀釋溶媒)必須以水及醇為主成分，具體上，混合溶媒中之水及醇之合計量必須在90重量%以上。較理想為混合溶媒中之水及醇之合計量在95重量%以上，更理想為混合溶媒中之水及醇之合計量在99重量%以上，最理想為混合溶媒中之水及醇實質上為100重量%。
而，固定層塗佈液中含有氨時，雖可有良好的固定層塗佈外觀性與光學可靠性，但從耐久性與溶劑龜裂防止之觀點看來，盡可能使氨含量少為佳。具體而言，相對於黏合劑樹脂(固體成分)100重量份，固定層塗佈液中之氨含量低於0.05重量份為佳，又以低於0.03重量份較佳。
就黏合劑樹脂而言，只要為可提升黏著劑的投錨力(anchorage)之層，即未有特別限制。具體而言，可使用例如：環氧系樹脂、異氰酸酯系樹脂、聚胺甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、分子中含有胺基之聚合物類、酯胺甲酸酯系樹脂、及含有唑啉基等之各種丙烯酸系樹脂等具有有機反應性基的樹脂(聚合物)。固定層塗佈液中黏合劑樹脂之含量以0.01～3.0重量%為佳，0.03～2.0重量%較佳，0.05～0.9重量%更佳。
固定層塗佈液中可視需求摻混添加劑。就添加劑而言，例如有：調平劑、消泡劑、增黏劑、及抗氧化劑等。該等添加劑中又以調平劑(如具有乙炔骨架者等)為佳。相對於黏合劑樹脂(固體成分)100重量份，該等添加劑之比例通常以0.01～500重量份左右為佳，0.1～300重量份較佳，1～100重量份更佳。
在本發明之黏著型光學薄膜之製造方法中，係將固定層塗佈液塗佈至光學薄膜上使乾燥前的塗佈厚度在20μm以下。該乾燥前的塗佈厚度若太厚(固定層塗佈液之塗佈量太多)則容易受溶劑影響而助長龜裂產生，因而成為龜裂之原因。另一方面，若太薄，則光學薄膜與黏著劑之密接性將不夠充分而成為耐久性惡化之原因。因此，以2～17μm為佳，4～13μm較佳。而，該乾燥前的塗佈厚度可從乾燥後的固定層厚與固定層塗佈液中之黏合劑樹脂量的比例來算出。而，固定層塗佈液之塗佈方法並未有特別限定，例如可使用塗膜法、浸漬法、及噴塗法等塗敷法。
在本發明之黏著型光學薄膜之製造方法中，係在滿足下述(1)～(2)兩者的乾燥條件下進行乾燥，藉以除去混合溶媒而形成固定層：
(1)乾燥溫度T=40～70℃，且
(2)乾燥溫度T(℃)與乾燥時間H(秒)相乘之值(T×H)為400≦(T×H)≦4000。
(1)的乾燥溫度T從愈早進行乾燥愈可防止光學薄膜之固定層形成面側之溶劑龜裂的觀點看來具有其效果，但乾燥溫度T過高時，會促進光學薄膜劣化。另一方面，乾燥溫度T愈低，則愈需注意因乾燥不良所引起的固定層塗佈外觀性惡化及溶劑龜裂產生。因此，乾燥溫度T=40～70℃相當重要，且以T=45～60℃為佳。
(2)的乾燥溫度T(℃)與乾燥時間H(秒)相乘之值(T×H)若過大，會促進光學薄膜劣化，故非理想；若過小，又需注意因乾燥不良所引起的固定層塗佈外觀性惡化及溶劑龜裂產生。因此，400≦(T×H)≦4000相當重要，又以500≦(T×H)≦2900為佳，以500≦(T×H)≦2000較佳，且以600≦(T×H)≦1250尤佳。
而，乾燥時間H若過長，會促進光學薄膜劣化，故非理想；若過短，則需注意因乾燥不良所引起的固定層塗佈外觀性惡化及溶劑龜裂產生。因此，乾燥時間H=5～100秒為佳，又以H=5～70秒為佳，且以10～35秒較佳。
在本發明之黏著型光學薄膜之製造方法中，若將從於光學薄膜塗佈固定層塗佈液後起至以上述的乾燥條件開始乾燥為止間之時間設定為長時間，可能會使固定層的塗佈外觀性惡化，且亦可能助長光學薄膜之固定層形成面側的溶劑龜裂產生。而，將從塗佈固定層塗佈液後起至開始乾燥為止間之時間設定為長時間的情況會助長溶劑龜裂產生的原因並不明確，推測其原因為固定層塗佈液之混合溶媒滲透.擴散至構成光學薄膜之聚合物中。所以，從塗佈固定層塗佈液後起至開始乾燥為止間之時間以短時間為佳，具體而言以30秒以下為佳，20秒以下較佳，10秒以下尤佳。有關下限並未有特別限定，但若考慮到作業性等，則可例示如1秒左右。
乾燥後的固定層厚(乾燥厚)在3～300nm為佳，5～180nm較佳，11～90nm更佳。若低於3nm，在確保光學薄膜與黏著劑層之投錨性之觀點上可能會不夠充分。另一方面，若超過300nm，則可能因固定層厚度過厚而使強度不足，進而容易在固定層內引起凝聚破壞而無法獲得充分的投錨性。
一般而言，光學薄膜之固定層形成面側為降莰烯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂-尤其是降莰烯系樹脂-時，一塗佈固定層塗佈液，在高溫(95℃以上)中之可靠性試驗中將容易產生溶劑龜裂。該原因諸如有：(1)光學薄膜之玻璃轉移溫度(Tg)變得與試驗溫度相近且光學薄膜變脆弱；(2)還有，偏光板之收縮應力變大。如此一來，在需要高溫(95℃以上)的可靠性試驗的車載用途等之中，需特別就固定層形成步驟中之固定層塗佈液的乾燥條件進行細微的條件設定。然而，若適用本發明之黏著型光學薄膜之製造方法，即便在光學薄膜之固定層形成面側有配置降莰烯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可有效地製造龜裂耐久性優異的黏著型光學薄膜。
而，在本發明之黏著型光學薄膜之製造方法中，在形成固定層的步驟之前，亦可具有對光學薄膜之固定層形成面側施加電暈處理或電漿處理之步驟。藉由施加電暈處理或電漿處理，較可提高光學薄膜與黏著劑層之密接性。
在光學薄膜上形成固定層以後，可於固定層上形成黏著劑層，藉以製造黏著型光學薄膜。黏著劑層之層積方法並未有特別限制，例如有：在前述固定層上塗佈黏著劑溶液並進行乾燥之方法、及藉由設有黏著劑層之脫模片進行轉印之方法等。塗佈法可採用如：逆向塗膜、凹板塗膜等輥塗法、旋轉塗膜法、篩網塗膜法、噴注式塗膜法、浸漬法、及噴塗法等。黏著劑層之厚度在2～150μm為佳，2～100μm較佳，5～50μm尤佳。黏著劑層之厚度若過薄，容易產生與固定層之密接性不足或與玻璃界面之剝離等問題；若過厚，則有容易產生黏著劑之發泡等問題。
脫模片之構成材料例如有：紙、聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯等合成樹脂薄膜、橡皮片、紙、布、不織布、網狀物、發泡片或金屬箔、及該等層積物等之適當薄片體等。為了提高從黏著劑層的剝離性，亦可視需求於脫模片之表面施加矽酮處理、長鏈烷基處理、及氟處理等低接著性的剝離處理。
而，亦可為藉由以紫外線吸收劑-例如水楊酸酯系化合物或苯酚系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、及鎳錯鹽系化合物等-加以處理之方式等的方式，使本發明之黏著型光學薄膜的光學薄膜或黏著劑層等各層賦有紫外線吸收能者等。
使用於本發明之黏著型光學薄膜的光學薄膜，例如偏光板。偏光板一般係使用在偏光件的一面或兩面具有透明保護薄膜者。
偏光件並未有特別限定，可使用各種種類。就偏光件而言，例如有：使聚乙烯醇系薄膜、部分甲醛化聚乙烯醇系薄膜、及乙烯‧乙酸乙烯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸著碘或二色性染料之二色性物質並加以單軸延伸者；以及聚乙烯醇之脫水處理物、或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。該等中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等之二色性物質所構成之偏光件為適當。該等偏光件之厚度並未有特別限制，一般為3～80μm左右。
例如，以碘將聚乙烯醇系薄膜染色並單軸延伸之偏光件可藉由將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液中染色並延伸為原長之3～7倍而作成。視需求，亦可浸漬於可包含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。視需求還可在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的汙垢或抗結塊劑，此外亦有使聚乙烯醇系薄膜膨潤來防止染色不均等不均勻之效果。延伸可在以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，又可在延伸後以碘進行染色。在硼酸或碘化鉀等水溶液或水浴中進行延伸亦可。
就構成透明保護薄膜之材料而言，例如可使用具有良好的透明性、機械強度、熱穩定性、防水性、及等向性等之熱可塑性樹脂。作為此種熱可塑性樹脂之具體例例如有：三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳香酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、及該等之混合物。而，偏光件之一側可藉由接著劑層黏貼透明保護薄膜，另一側則可使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、及矽酮系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂作為透明保護薄膜。透明保護薄膜中可含有1種類以上的任意適當添加劑。就添加劑而言，例如有：紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、抗著色劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料、及著色劑等。透明保護薄膜中的前述熱可塑性樹脂之含量理想在50～100重量%，較理想在50～99重量%，更理想在60～98重量%，尤為理想在70～97重量%。當透明保護薄膜中的前述熱可塑性樹脂之含量在50重量%以下時，有無法充分顯現熱可塑性樹脂原有的高透明性等之虞。
又，作為透明保護薄膜，舉例而言如特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物薄膜，含有(A)於側鏈具有取代及/或非取代醯亞胺基之熱可塑性樹脂；及(B)於側鏈具有取代及/或非取代苯基以及腈基之熱可塑性樹脂的樹脂組成物。就具體例而言，如含有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺所構成之交替共聚物及丙烯腈‧苯乙烯共聚物的樹脂組成物之薄膜。薄膜可使用由樹脂組成物之混合擠出品等所構成之薄膜。該等薄膜相位差小且光彈性係數小，因此可解決因偏光板之應變所造成的不均等問題，又因透濕度小，故有良好的加濕耐久性。
透明保護薄膜之厚度可適當決定，一般由強度與處理性等作業性、及薄層性等之觀點看來在1～500μm左右。尤以1～300μm為佳，且以5～200μm較佳。當透明保護薄膜在5～150μm時尤為理想。
而，於偏光件兩側設置透明保護薄膜時，在其表裡可使用由相同聚合物材料所構成之保護薄膜，亦可使用由相異聚合物材料等所構成之保護薄膜。
就本發明之透明保護薄膜而言，以使用選自於纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸樹脂中任一項之至少1者為佳。
纖維素樹脂為纖維素與脂肪酸之酯。作為此種纖維素酯系樹脂之具體例例如有：三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、三丙醯纖維素、及二丙醯纖維素等。該等中，又以三乙醯纖維素尤佳。三乙醯纖維素有多種市售製品，在入手容易性及成本之觀點上亦佔有優勢。作為三乙醯纖維素之市售品之例如：富士軟片公司製之商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」、及柯尼卡公司製之「KC系列」等。一般而言，該等三乙醯纖維素的面內相位差(Re)幾乎為零，厚度方向相位差(Rth)則有～60nm左右。
而，厚度方向相位差小的纖維素樹脂薄膜例如可藉由處理前述纖維素樹脂而獲得。例如有下述方法，即：將塗有環戊酮、及甲基乙基酮等溶劑的聚對苯二甲酸乙二酯、聚丙烯、及不鏽鋼等基材薄膜，黏貼至一般的纖維素系薄膜且加熱乾燥(例如以80～150℃進行3～10分鐘左右)後，將基材薄膜剝離之方法；及將環戊酮、甲基乙基酮等溶劑中溶解有降莰烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等之溶液塗敷至一般的纖維素樹脂薄膜且加熱乾燥(例如以80～150℃進行3～10分鐘左右)後，將塗敷薄膜剝離之方法等。
又，作為厚度方向相位差小的纖維素樹脂薄膜可使用已控制脂肪取代度之脂肪酸纖維素系樹脂薄膜。在一般使用的三乙醯纖維素中，乙酸取代度在2.8左右，而理想是將乙酸取代度控制在1.8～2.7，藉此可縮小Rth。藉由於前述脂肪酸取代纖維素系樹脂中添加鄰苯二甲酸二丁酯、對甲苯磺醯苯胺、及乙醯檸檬酸三乙酯等可塑劑，可控制縮小Rth。相對於脂肪酸纖維素系樹脂100重量份，可塑劑之添加量理想在40重量份以下，較理想在1～20重量份，更理想在1～15重量份。
作為環狀聚烯烴樹脂之具體例，理想為降莰烯系樹脂。環狀烯烴系樹脂為將環狀烯烴作為聚合單元加以聚合之樹脂總稱，例如有日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、及日本特開平3-122137號公報等中所記載之樹脂。作為具體例例如有：環狀烯烴之開環(共)聚合物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴及其共聚物(代表為隨機共聚物)、及、將該等以不飽和羧酸或其衍生物加以改性的接枝聚合物、以及該等之氫化物等。作為環狀烯烴之具體例則如降莰烯系單體。
作為環狀聚烯烴樹脂，有各種市售製品。就具體例而言，例如有：日本ZEON股份有限公司製之商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」、JSR股份有限公司製之商品名「ARTON」、TICONA公司製之商品名「TOPAS」、以及三井化學股份有限公司製之商品名「APEL」。
就(甲基)丙烯酸系樹脂而言，Tg(玻璃轉移溫度)理想在115℃以上，較理想在120℃以上，更理想在125℃以上，尤為理想在130℃以上。藉由Tg在115℃以上，可成為具有良好偏光板耐久性者。前述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg的上限值並未有特別限定，從成形性該觀點看來，理想在170℃以下。從(甲基)丙烯酸系樹脂則可獲得面內相位差(Re)、及厚度方向相位差(Rth)皆幾乎為零的薄膜。
就(甲基)丙烯酸系樹脂而言，在未損害本發明之效果的範圍內，可採用任意適當的(甲基)丙烯酸系樹脂。例如：甲基丙烯酸乙酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、及具有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。理想如聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。較理想如以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50～100重量%，理想在70～100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例例如：三菱麗陽股份有限公司製之ACRYPET VH及ACRYPET VRL20A、日本特開2004-70296號公報中記載之分子內具有環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂、及藉由分子內交聯或分子內環化反應而獲得的高Tg(甲基)丙烯酸樹脂系。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可使用具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂。因為，具有高耐熱性、及高透明性、且藉由雙軸延伸而具有高機械強度。
作為具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂例如有：日本特開2000-230016號公報、日本特開2001-151814號公報、日本特開2002-120326號公報、日本特開2002-254544號公報、及日本特開2005-146084號公報等記載之具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂。
具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂理想係具有以下述一般式(化1)表示之擬環構造。
[化1]
式中，R1、R2及R3係分別獨立顯示氫原子或碳原子數1～20之有機殘基。而，有機殘基亦可含有氧原子。
具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中以一般式(化1)表示之內酯環結構的含有比率理想在5～90重量%，較理想在10～70重量%，更理想在10～60重量%，尤為理想在10～50重量%。具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中以一般式(化1)表示之內酯環結構的含有比率若低於5重量%，有耐熱性、耐溶劑性、及表面硬度變得不夠充分之虞。具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中以一般式(化1)表示之內酯環結構的含有比率若高於90重量%，則有欠缺成形加工性之虞。
具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子量(有時亦稱為重量平均分子量)理想在1000～2000000，較理想在5000～1000000，更理想在10000～500000，尤為理想則在50000～500000。一旦質量平均分子量偏離前述範圍，從成型加工性之觀點而言並非理想。
具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg理想在115℃以上，較理想在120℃以上，更理想在125℃以上，尤為理想則在130℃以上。從Tg在115℃以上之觀點看來，例如其作為透明保護薄膜組裝至偏光板時，可成為耐久性優異者。前述具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg的上限值並未有特別限定，惟從成形性等觀點看來，理想在170℃以下。
具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂中，藉由射出成形而獲得之成形品的全光線透射率(以依據ASTM-D-1003之方法而測定)愈高愈好，理想在85%以上，較理想在88%以上，更理想在90%以上。全光線透射率為透明性的標準，一旦全光線透射率低於85%，會有透明性降低之虞。
前述透明保護薄膜通常係使用正面相位差低於40nm、且厚度方向相位差低於80nm者。正面相位差Re係以Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth係以Rth=(nx-nz)×d表示。又，Nz係數係以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[惟，薄膜之慢軸方向、快軸方向及厚度方向的折射率分別為nx、ny、nz，且d(nm)為薄膜的膜厚。慢軸方向為薄膜面內之折射率最大的方向。]而，透明保護薄膜盡量以無著色為宜。理想係使用厚度方向之相位差值在-90nm～+75nm的保護薄膜。藉由使用該厚度方向之相位差值(Rth)為-90nm～+75nm者，可大致減除因透明保護薄膜所造成的偏光板之著色(光學著色)。厚度方向相位差值(Rth)更理想在-80nm～+60nm，尤以-70nm～+45nm為佳。
另一方面，作為前述透明保護薄膜，可使用具有正面相位差40nm以上及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差的相位差板。正面相位差通常是控制在40～200nm之範圍，而厚度方向相位差通常是控制在80～300nm之範圍。當使用相位差板作為透明保護薄膜時，由於該相位差板亦可作為透明保護薄膜起作用，因此可圖謀薄型化。
作為相位差板例如有：將高分子素材予以單軸或雙軸延伸處理而形成之複折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、及以薄膜來支撐液晶聚合物的定向層而形成者等。相位差板之厚度亦未有特別限制，一般在20～150μm左右。
就高分子素材而言，例如有：聚乙烯醇、聚乙烯縮丁醛、聚甲基乙烯基醚、聚羥乙基丙烯酸酯、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳香酯、聚碸、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚硫化苯、聚苯醚、聚芳基碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、或該等二元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、及混合物等。該等高分子素材可藉由延伸等而成為定向物(延伸薄膜)。
作為液晶聚合物，例如有：已將賦與液晶定向性之共軛性直線狀原子團(液晶元)導入聚合物之主鏈或側鏈的主鏈型或側鏈型之各種物等。就主鏈型液晶聚合物之具體例而言，例如有以賦與可撓性的間隔部，使鍵結有液晶元基之結構，諸如向列型定向性聚酯系液晶性聚合物、圓盤型聚合物或膽固醇狀聚合物等。作為側鏈型液晶聚合物之具體例則如有：以聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯為主鏈骨架，且隔著由共軛性原子團所構成之間隔部而具有由向列型定向賦與性的對位取代環狀化合物單元所構成之液晶元部作為側鏈者等。例如，該等液晶聚合物係藉由在已將形成於玻璃板上之聚醯亞胺或聚乙烯醇等薄膜表面進行摩擦處理者、或已將氧化矽斜向蒸鍍者等之定向處理面上，展開液晶性聚合物之溶液並進行熱處理而進行。
相位差板例如可為依使用目的-如以各種波長板或液晶層之複折射的著色或視角等之補償為目的者等-而具有適當相位差者，或可為層積2種以上之相位差板來控制相位差等光學特性者等。
相位差板可依照各種用途選擇使用滿足nx=ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz=nx>ny、nz>nx>ny、或nz>nx=ny之關係者。而，ny=nz不僅包含ny與nz完全同一之情況，亦包含實質上ny與nz相同之情況。
例如，在滿足nx>ny>nz之相位差板中，以使用滿足正面相位差40～100nm、厚度方向相位差100～320nm、且Nz係數1.8～4.5者為佳。例如，在滿足nx>ny=nz之相位差板(正型A板)中，使用滿足正面相位差100～200nm者為佳。例如，在滿足nz=nx>ny之相位差板(負型A板)中，使用滿足正面相位差100～200nm者為佳。例如，在滿足nx>nz>ny之相位差板中，使用滿足正面相位差150～300nm、且Nz係數超過0且至0.7者為佳。又，如前述，可使用例如滿足nx=ny>nz、nz>nx>ny、或nz>nx=ny者。
透明保護薄膜可依照適用的液晶顯示裝置來適當選擇。例如，在VA(Vertical Alignment：垂直定向，包含MVA、PVA)的情況下，偏光板之至少一方(胞元側)的透明保護薄膜具有相位差為宜。作為具體的相位差，以在Re=0～240nm、且Rth=0～500nm的範圍內為宜。就三維折射率而言，以nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、且nx=ny>nz(正型A板、雙軸、負型C板)為宜。在VA型中，以正型A板與負型C板之組合、或1片雙軸薄膜來使用為佳。在液晶胞元之上下使用偏光板時，液晶胞元的上下皆具有相位差、或上下任一者的透明保護薄膜具有相位差亦可。
例如，在IPS(In-Plane Switching：面內轉向，包含FFS)的情況下，偏光板之一方的透明保護薄膜具有相位差、或不具有相位差，不論何者皆可使用。例如，在不具有相位差的情況下，以液晶胞元的上下(胞元側)皆不具有相位差為宜。在具有相位差的情況下，則以液晶胞元的上下皆具有相位差、或上下之任一者具有相位差為宜(例如：上側為滿足nx>nz>ny之關係的雙軸薄膜、且下側為無相位差之情況、或上側為正型A板、且下側為正型C板之情況)。具有相位差的情況下，以Re=-500～500nm、且Rth=-500～500nm之範圍為宜。就三維折射率而言，以nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、且nz>nx>ny(正型A板、雙軸、正型C板)為宜。
而，可將前述具有相位差之薄膜另外黏貼至不具有相位差之透明保護薄膜來賦予前述功能。
前述透明保護薄膜在塗敷接著劑之前，為使提升與偏光件之接著性，亦可進行表面改質處理。就具體的處理而言，例如有：電暈處理、電漿處理、火焰處理、臭氧處理、底漆處理、輝光處理、皂化處理、及耦合劑之處理等。又，可適宜地形成抗靜電層。
亦可為在前述未接著透明保護薄膜之偏光件之面施加硬塗層或以抗反射處理、抗黏、或擴散、以及防眩為目的之處理者。
硬塗處理係以防止在偏光板表面的擦傷等為目的所施加，例如可藉由將具有良好的丙烯酸系、矽酮系等適當紫外線硬化型樹脂之硬度與平滑特性等的硬化皮膜，附加到透明保護薄膜表面之方式等而形成。抗反射處理係以防止偏光板表面之外部光線反射為目的而施加，可藉由依據習知之抗反射膜等之形成而達成。又，抗黏處理係以防止與鄰接層(例如背光側之擴散板)之密接為目的而施加。
又，防眩處理係以防止外部光線在偏光板表面反射而阻礙偏光板透射光之辨識等為目的而施加，例如可藉由以噴砂方式或凸印加工方式之粗面化方式、或透明微粒子之摻混方式等適當方式，對透明保護薄膜表面賦予微細凹凸結構而形成。作為前述表面微細凹凸結構之形成中而含有之微粒子，例如可使用由平均粒徑0.5～20μm的氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、及氧化銻等所構成且具有導電性的無機系微粒子、或由交聯或未交聯之聚合物等所構成之有機系微粒子等的透明微粒子。形成表面微細凹凸結構時，相對於形成表面微細凹凸結構之透明樹脂100重量份，微粒子之使用量一般在2～70重量份左右，且以5～50重量份為佳。防眩層亦可兼作為用以擴散偏光板透射光，使視角等擴大的擴散層(視角擴大功能等)者。
而，前述抗反射層、抗黏層、擴散層或防眩層等可設置在透明保護薄膜本身，除此以外，亦可另外作為光學層而設置為不同於透明保護薄膜的其他層。
前述偏光件與透明保護薄膜之接著處理可使用接著劑。作為接著劑例如有：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、及水系聚酯等。前述接著劑通常係作為由水溶液所構成之接著劑使用，通常含有0.5～60重量%之固體成分而成。前述以外，作為偏光件與透明保護薄膜之接著劑還有紫外硬化型接著劑、及電子束固化型接著劑等。電子束固化型偏光板用接著劑對於前述各種透明保護薄膜可顯示適當的接著性。又，在本發明使用之接著劑中可含有金屬化合物填料。
又，作為光學薄膜例如有在液晶顯示裝置等形成時使用而成為光學層者，如反射板或反透射板、相位差板(包含1/2與1/4等波長板)、視覺補償薄膜、亮度提升薄膜、及表面處理薄膜等。該等可單獨作為光學薄膜使用，此外亦可在實用時於前述偏光板層積1層或2層以上使用。
表面處理薄膜亦可黏貼於前面板而設置。作為表面處理薄膜例如有：用以賦與表面之耐擦傷性而使用的硬塗薄膜、用以防止對於圖像顯示裝置之映入的防眩處理薄膜、及抗折射薄膜、低折射薄膜等抗反射薄膜等。前面板係用以保護液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置、CRT、PDP等圖像顯示裝置、賦與高級感、且藉由設計使其產生差別化而黏貼於前述圖像顯示裝置之表面來設置。又，前面板可作為3D-TV中之λ/4板之支撐體使用。例如，在液晶顯示裝置中係設置在辨識側之偏光板的上側。使用本發明之黏著劑層時，作為前面板除玻璃基材以外，以聚碳酸酯基材、及聚甲基丙烯酸甲酯基材等塑膠基材亦可發揮與玻璃基材同樣的效果。
於偏光板層積有前述光學層之光學薄膜亦可藉由在液晶顯示裝置等製造過程中依序別個層積的方式而形成，但預先層積作為光學薄膜者則具有品質穩定性及組裝作業等優異且可使液晶顯示裝置等之製造步驟提升的優點。層積可使用黏著層等適當接著機構。在前述偏光板與其他光學層之接著時，該等光學軸可依照目的之相位差特性等來設置適當的配置角度。
本發明之黏著型光學薄膜可適當使用在如液晶顯示裝置等之各種圖像顯示裝置的形成等。液晶顯示裝置之形成可依照習知進行。即，液晶顯示裝置一般係藉由將液晶胞元等之顯示面板與黏著型光學薄膜、及視需求之照明系統等構成零件適當組裝並安裝驅動電路等而形成，在本發明中，除了使用本發明之黏著型光學薄膜之一點以外，並未有特別限定，可依照習知進行。有關液晶胞元，亦可使用例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意類型。
可形成如：於液晶胞元等顯示面板之一側或兩側配置有黏著型光學薄膜之液晶顯示裝置、或於照明系統使用背光裝置或反射板者等適當的液晶顯示裝置。屆時，本發明之光學薄膜可設置在液晶胞元等顯示面板之一側或兩側。於兩側設置光學薄膜時，該等可為相同者亦可為相異者。此外，在液晶顯示裝置之形成時，可在適當位置配置1層或2層以上的適當零件，如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、及背光裝置等。
接下來，就有機電激發光裝置(有機EL顯示裝置：OLED)加以説明。一般而言，有機EL顯示裝置係於透明基板上依序層積透明電極、有機發光層、及金屬電極而形成發光體(有機電激發光發光體)。在此，有機發光層係各種有機薄膜之層積體，眾知有具有各種組合之構成如：由三苯胺衍生物等構成之電洞注入層、與由蒽等螢光性之有機固體構成之發光層的層積體；或由此種發光層與苝衍生物等構成之電子注入層的層積體；又或是該等電洞注入層、發光層、及電子注入層的層積體等。
有機EL顯示裝置係藉由對透明電極與金屬電極施加電壓，將電洞與電子注入有機發光層中，使藉由該等電洞與電子之再結合而生成的能量激發螢光物質，等到經激發的螢光物質恢復到基底狀態時放射光的原理而發光。中途的再結合機制與一般的二極體相同，由此亦可預料相對於施加電壓，電流與發光強度會顯示伴隨整流性的強烈非線形性。
在有機EL顯示裝置中，為了取出有機發光層中之發光，至少其中一方之電極必須為透明，通常是使用以氧化銦錫(ITO)等透明導電體所形成的透明電極作為陽極使用。另一方面，為了容易進行電子注入使發光效率提升，在陰極使用工作函數小的物質相當重要，通常是使用Mg-Ag、Al-Li等金屬電極。
在此種構成的有機EL顯示裝置中，有機發光層係以厚度10nm左右的極薄薄膜所形成。因此，有機發光層亦同於透明電極，可使光幾乎完全透射。其結果，非發光時從透明基板表面入射透射透明電極與有機發光層、並以金屬電極反射之光會再次往透明基板表面側射出，因此從外部辨識時，有機EL顯示裝置之顯示面看似鏡面。
有機EL顯示裝置包含有機電激發光發光體，該有機電激發光發光體係藉由在以電壓施加而發光的有機發光層之表面側具備透明電極，且於有機發光層之裡面側具備金屬電極而成，在該有機EL顯示裝置中，可於透明電極之表面側設置偏光板，且可在該等透明電極與偏光板之間設置相位差板。
由於相位差板及偏光板具有使從外部入射且以金屬電極反射而來之光產生偏光的作用，因此藉由其偏光作用，具有無法從外部辨識金屬電極之鏡面的效果。尤其，只要以1/4波長板來構成相位差板，且將偏光板與相位差板在偏光方向而成的角調整為π/4，即可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
即，入射至該有機EL顯示裝置之外部光，藉由偏光板僅使直線偏光成分透射。該直線偏光藉由相位差板一般是成為橢圓偏光，但尤其在相位差板為1/4波長板且偏光板與相位差板於偏光方向所形成之角為π/4時，該直線偏光會變成圓偏光。
該圓偏光透射透明基板、透明電極、與有機薄膜並以金屬電極反射，而再次透射有機薄膜、透明電極、與透明基板，於相位差板再度成為直線偏光。而且，由於該直線偏光與偏光板之偏光方向呈正交，所以無法透射偏光板。其結果可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
實施例
以下，將藉由實施例具體説明本發明，惟，本發明並非受限於該等實施例者。而，各例中之份及%皆為重量基準。
實施例1 (光學薄膜(偏光板)之作成)
在速度比相異之輥子間，將厚度80μm的聚乙烯醇薄膜於30℃且0.3%濃度的碘溶液中染色1分鐘且一邊延伸至3倍。然後，於包含60℃且4%濃度的硼酸及10%濃度的碘化鉀之水溶液中浸漬0.5分鐘且一邊延伸至總延伸倍率為6倍。接下來，藉由於包含30℃且1.5%濃度的碘化鉀之水溶液中浸漬10秒鐘加以洗淨後，以50℃進行4分鐘乾燥而獲得偏光件。藉由聚乙烯醇系接著劑於該偏光件的辨識側黏貼厚度40μm的三乙醯纖維素薄膜(商品名「KC4UY」、柯尼卡美能達公司製)，並於黏著劑塗佈面側黏貼由厚度33μm的降莰烯系樹脂薄膜(商品名「ZEONOR薄膜ZD12」、日本ZEON公司製)所構成之相位差板作為透明保護薄膜來作成偏光板。
(黏著劑之調整)
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，相對於單體(固體成分)100份，連同乙酸乙酯一起加入丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羥乙酯0.1份、及過氧化二苯甲醯(日本油脂股份有限公司製：NYPER BMT40(SV))0.3份，在氮氣氣流下以60℃反應7小時後，於其反應液中加入乙酸乙酯而獲得含有重量平均分子量220萬之丙烯酸系聚合物的聚合物溶液A(固體成分濃度30重量%)。於前述丙烯酸系聚合物溶液的每固體成分100份，摻混0.6份的三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(日本聚胺甲酸酯股份有限公司製：CORONATE L)、及0.075份的γ-縮水甘油氧丙基甲氧矽烷(信越化學工業股份有限公司製：KBM-403)而獲得丙烯酸系黏著劑溶液。
(固定層塗佈液之調整)
將包含胺甲酸酯系聚合物與噻吩系聚合物之溶液[Nagas echemteX公司製、商品名「DENATRON P521-AC」]以水/異丙醇(容量比65：35)混合溶液調製成固體成分濃度為0.6重量%。再使用繞線棒(Meyer Bar)#5將調製後的溶液塗佈至前述偏光板之相位差板(ZEONOR薄膜ZD12)側，並將放入乾燥烘箱為止前的時間(開始乾燥為止前的時間)設為5秒後，以50℃乾燥25秒鐘而形成厚度70nm的固定塗敷層。從乾燥厚度計算的乾燥前的塗佈厚度約12μm。作業係以23℃55%RH環境化進行。而，使用繞線棒進行塗佈時，乾燥前的塗佈厚度與繞線棒之間隙略呈一致。因此，所期望的乾燥前的塗佈厚度可藉由變更繞線棒之尺碼來進行某程度的調整。表1中顯示繞線棒之各尺碼間隙。
(黏著型光學薄膜之製作)
將前述黏著劑溶液以噴注式塗膜機均勻地塗敷至已以矽酮系剝離劑加以處理的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(基材)表面，並以155℃的空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，於基材表面形成厚度20μm的黏著劑層。接下來，在附有前述固定層之光學薄膜移接形成有黏著劑層的間隔件，以製作黏著型光學薄膜。
實施例2～21及23～27、比較例1～5及7～15
在光學薄膜(偏光板)中，使用表2及表3中顯示之相位差板來取代固定層形成面側之相位差板(ZEONOR薄膜ZD12)，除此以外，以與實施例1同樣的方式來製作黏著型光學薄膜。
實施例22及比較例7
於實施例23中使用之丙烯酸偏光板的相位差板(丙烯酸系樹脂薄膜)側形成使用前述黏著劑溶液所獲得之黏著劑層(20μm)，接下來作為相位差板進一步層積「ARTON」-由環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)所構成之光學薄膜(基材)(JSR公司製)-並於該相位差板(ARTON)側形成固定層，除此以外，以與實施例1同樣的方式來製作黏著型光學薄膜。
表2及表3中，「基材」表示固定層形成面側之相位差板；「乾燥處理」表示施加於基材之固定層形成面側的處理種類，且：「丙烯酸」表示由內酯改性丙烯酸樹脂所構成之光學薄膜；「TAC」表示由經過皂化處理之三乙醯纖維素所構成的光學薄膜(柯尼卡美能達公司製)；「IPA」表示異丙醇；「EA」表示乙醇；「MA」表示甲醇；「EPOCROS WS-700」表示唑啉基含有丙烯酸系聚合物(日本觸媒公司製)；「EPOMIN P-1000」表示含聚乙烯亞胺之溶液(日本觸媒公司製)。
就前述實施例及比較例中所得之黏著型光學薄膜進行以下評估。評估結果顯示於表2及表3。
(固定層塗佈液之相溶性)
以目測檢查實施例及比較例中所獲得的固定層塗佈液之混合溶媒與黏合劑樹脂的相溶性。評估基準如下。
◎：無混濁或凝聚物等且製造上沒有問題之非常良好的溶液狀態
○：有若干的混濁或凝聚物等但製造上沒有問題的溶液狀態
△：有混濁或凝聚物等但製造上沒有問題的溶液狀態
×：混濁或凝聚物之發生等相當嚴重且製造上有問題的溶液狀態
(龜裂耐久性)
使用貼合機將實施例及比較例中所獲得的黏著型偏光板(縱420mm×橫320mm)黏貼至厚度0.7mm的無鹼玻璃板兩面呈正交尼寇稜鏡(crossed nicol)的狀態。接下來，以50℃且5atm施加15分鐘高壓釜處理，使其完全密接。將該樣本分別在85℃、及95℃條件下進行500小時處理後，以下述基準目測觀察龜裂產生之有無。評估基準如下。
◎：無龜裂產生
○：略有微小龜裂但對辨識性沒有影響
△：有多處的微小龜裂但對辨識性沒有影響
×：產生諸多的大型龜裂或微小龜裂且實用上有問題
(固定層的塗佈外觀)
在各實施例及各比較例中，於固定層塗佈後，以目測檢查以預定乾燥條件加以處理瞬後的塗佈外觀。評估基準如下。
◎：無縮孔(cissing)及塗敷不均、凝聚物產生的良好塗敷外觀
○：雖有微小的縮孔及塗敷不均但對辨識性沒有影響的良好塗敷外觀
△：雖有縮孔及塗敷不均但對辨識性沒有影響的塗敷外觀
×：有大縮孔及塗敷不均、凝聚物產生等且實用上有問題。
(固定層的厚度測定)
在各實施例及各比較例中，將僅設有固定層的黏著型光學薄膜藉由2%釕酸水溶液染色2分鐘後，將之埋入環氧樹脂中，並藉由超微切片機(Ultracut S、Leica公司製)切削厚度約80nm，接下來以TEM(Hitachi H-7650加速電壓100kV)觀察該光學薄膜切片之剖面，藉以求算乾燥後的固定層之厚度(乾厚(nm))。
(與基材之黏著劑層的密接性評估(密接性))
使用貼合機將實施例及比較例中所獲得的黏著型偏光板(縱420mm×橫320mm)黏貼至厚度0.7mm的無鹼玻璃板，接下來以50℃且5atm施加15分鐘高壓釜處理使其完全密接(初期)。然後，以手將樣本從無鹼玻璃板剝離並以下述基準進行密接性評估(重工性評估)。
◎：沒有糊殘留且可良好剝離
○：有稍微的糊殘留但仍可良好剝離
△：有多處的糊殘留但仍可剝離
×：於玻璃面產生一半以上的糊殘留

Claims (5)

  1. 一種黏著型光學薄膜的製造方法，係隔著固定層於光學薄膜之至少一面層積有黏著劑層者，其特徵在於具有形成固定層之步驟，該步驟係將含有水及醇的合計量為90重量%以上之混合溶媒及黏合劑樹脂的固定層塗佈液塗佈至前述光學薄膜上，使乾燥前的塗佈厚度在20μm以下，接下來以滿足下述(1)~(2)兩者的乾燥條件進行乾燥，藉以除去前述混合溶媒而形成固定層：(1)乾燥溫度T=40~70℃，且(2)前述乾燥溫度T(℃)與前述乾燥時間H(秒)相乘之值(T×H)為：500≦(T×H)≦2900；並且，從將前述固定層塗佈液塗佈於前述光學薄膜起至開始乾燥為止之時間為30秒以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之黏著型光學薄膜的製造方法，其中前述醇為異丙醇及/或乙醇。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之黏著型光學薄膜的製造方法，其中前述光學薄膜之前述固定層形成面側為降莰烯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之黏著型光學薄膜的製造方法，其係於形成固定層之步驟前，具有對前述光學薄膜之前述固定層形成面側施加電暈處理或電漿處理之步驟。
  5. 如申請專利範圍第3項之黏著型光學薄膜的製造方法，其係於形成固定層之步驟前，具有對前述光學薄膜之前 述固定層形成面側施加電暈處理或電漿處理之步驟。
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