TWI765395B - 附黏著劑層之光學薄膜及液晶面板 - Google Patents

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Abstract

所提供之附黏著劑層之光學薄膜具備光學薄膜與黏著劑層，且更具備含有導電性聚合物之抗靜電層。上述附黏著劑層之光學薄膜中因測定區域所致之透光率差異，以該透光率之最大值與最小值之差來表示為2%以下。上述附黏著劑層之光學薄膜中，即使具備含有導電性聚合物之抗靜電層，仍難以在液晶面板顯示面視辨出不均。

Description

附黏著劑層之光學薄膜及液晶面板
本發明涉及一種附黏著劑層之光學薄膜及液晶面板。
液晶顯示裝置具備例如：液晶面板，其具有偏光板等光學薄膜配置在比液晶單元更靠視辨側處之結構；及照明系統，其對液晶面板照光。液晶顯示裝置係藉由對液晶單元施加電壓並調節液晶單元所含之液晶分子的定向來顯示影像。
就液晶顯示裝置而言，於其製造時(例如通過黏著劑層將光學薄膜貼合於液晶單元時)、或在使用時(例如使用者接觸液晶顯示裝置時)，會產生靜電。由於該靜電，液晶顯示裝置有時會帶電。若液晶顯示裝置帶電，則液晶單元中所含之液晶分子的定向會紊亂，而可能發生顯示不良。為防止液晶顯示裝置因帶電所造成之顯示不良，已知會例如將ITO(氧化銦錫)層配置於光學薄膜側之液晶單元表面。
專利文獻1揭示了一種具備偏光板與含有導電性聚合物之導電層的積層結構。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2016-39132號公報
發明欲解決之課題 專利文獻1中，嘗試利用上述導電層取代ITO層。然而，根據本發明人等研討發現，取代後會有在液晶面板顯示面上視辨出斑狀不均的傾向；以及在使用ITO層時通常不會視辨出上述斑狀不均。
本發明目的在於提供一種附黏著劑層之光學薄膜，其即使具備含有導電性聚合物之抗靜電層，仍難以在液晶面板顯示面上視辨出不均。
用以解決課題之手段 本發明係提供一種附黏著劑層之光學薄膜，其具備光學薄膜與黏著劑層；前述附黏著劑層之光學薄膜更具備含有導電性聚合物之抗靜電層，且前述附黏著劑層之光學薄膜中因測定區域所致之透光率差異，由前述透光率之最大值與最小值之差來表示為2%以下。
從另一面向來看，本發明提供一種液晶面板，其具備上述本發明之附黏著劑層之光學薄膜與液晶單元，該液晶單元具備一對透明基板及配置於前述一對透明基板之間的液晶層；且前述附黏著劑層之光學薄膜與前述液晶單元之間未設置導電層。
發明效果 根據本發明，可提供一種附黏著劑層之光學薄膜，其即使具備含有導電性聚合物之抗靜電層，仍難以在液晶面板顯示面視辨出不均。
用以實施發明之形態 以下，說明本發明詳細內容。以下說明之用意並不在於將本發明限制於特定實施形態。
(附黏著劑層之光學薄膜) 如圖1所示，本實施形態的附黏著劑層之光學薄膜10具備光學薄膜1、抗靜電層2及黏著劑層3。圖1之光學薄膜1、抗靜電層2及黏著劑層3係依此順序積層。圖1之抗靜電層2係分別與光學薄膜1及黏著劑層3相接。抗靜電層2位於光學薄膜1與黏著劑層3之間時，有抗靜電層2之劣化受抑制的傾向。惟，光學薄膜1、抗靜電層2及黏著劑層3之配置順序不受圖1之例限定。例如，光學薄膜1亦可位於抗靜電層2與黏著劑層3之間。黏著劑層3之表面通常露出於附黏著劑層之光學薄膜10的外部。
附黏著劑層之光學薄膜10中，因測定區域所致之透光率差異，由前述透光率之最大值Tmax 與最小值Tmin 之差ΔT(=Tmax -Tmin )來表示為2%以下。差ΔT可為1.8%以下、1.6%以下、1.5%以下、1.2%以下、1%以下、0.8%以下、0.5%以下、0.2%以下，更可為0.1%以下。差ΔT之下限例如為0.01%。差ΔT可如以下方式評估。
對附黏著劑層之光學薄膜10的表面設定至少30處測定區域。各測定區域例如係設為以垂直於上述表面來看為直徑10~30µm的圓。測定區域間的間隔係確保為至少5mm。在上述表面設定測定區域之範圍的面積，係設為例如50cm2 以上。相距最遠之測定區域間的距離宜為10cm以上。測定區域可設置於隨機位置，亦可規則地設置於假想網格交點處的位置，且該假想網格係設定在上述表面上。接著，測定各測定區域之全光線透射率。全光線透射率意指波長380~700nm之範圍內的光的透射率。全光線透射率的測定，可使用例如可依據日本工業規格(以下記載為「JIS」)L7361-1：1997之規定對上述測定區域進行測定的測定裝置。全光線透射率之測定係使用D65光源。全光線透射率係將光從選自黏著劑層3及光學薄膜1中之光學薄膜1側入射而測定。可將各測定區域所測定之全光線透射率的最大值特定為Tmax 、最小值為Tmin ，並將其差特定為ΔT。
測定全光線透射率時，不影響差ΔT之層(例如硬塗層)亦可配置於附黏著劑層之光學薄膜10之表面。
若將位於液晶單元與光學薄膜之間的ITO層取代成含有高分子聚合物的抗靜電層，則液晶面板之外界光的反射率便會降低。液晶面板的低反射率化能夠使在液晶顯示裝置視辨色調良好的高解析度影像成為可能。然而，根據本發明人等研討發現到：因取代ITO層造成反射光減少，使得在具備ITO層之狀態下未曾被視辨到的顯示面之不均(典型上為斑狀)變得能夠清楚視辨；以及因抗靜電層之透光率不均而發生上述顯示面之不均。因此，藉由將差ΔT設為預定範圍，即使具備含有導電性聚合物之抗靜電層，於液晶面板顯示面仍難以視辨出不均。
[光學薄膜] 光學薄膜1之構成只要可用於液晶面板即無限定。光學薄膜1可為單層薄膜，亦可為積層有2層以上薄膜之光學積層體。
光學薄膜1例如包含偏光板。於圖2顯示附黏著劑層之光學薄膜10之例，其具備含有偏光板之光學薄膜1。圖2之光學薄膜1係由偏光板4構成。
偏光板包含偏光件及透明保護薄膜。透明保護薄膜例如係配置成與偏光件之主面(具有最大面積之表面)相接。偏光件亦可配置在2個透明保護薄膜之間。偏光件並無特別限定，可舉例如聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性物質並加以單軸延伸者；及聚乙烯醇之脫水處理物、聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。偏光件宜由聚乙烯醇系薄膜及碘等二色性物質所構成。
偏光件之厚度並無特別限定，例如為80µm以下。偏光件的厚度亦可為10µm以下，亦宜為1~7µm。如此之薄型偏光件的厚度不均較少，且視辨性佳。薄型偏光件之尺寸變化受到抑制，耐久性佳。可藉由薄型偏光件將偏光板薄型化。
透明保護薄膜的材料可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。作為該種熱塑性樹脂之具體例，可舉如三乙酸纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及其等之混合物。透明保護薄膜的材料亦可為(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。偏光板具有2個透明保護薄膜時，2個透明保護薄膜之材料可彼此相同亦可互異。例如，亦可通過接著劑對偏光件之一主面貼合有以熱塑性樹脂構成之透明保護薄膜，並對偏光件之另一主面貼合有以熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂構成之透明保護薄膜。透明保護薄膜亦可含有1種以上任意添加劑。
透明保護薄膜亦可具有防眩特性、抗反射特性等光學特性。此時，可達成液晶面板進一步的低反射率化。雖因進一步的低反射率化而更能清楚視辨顯示面之不均，但藉由將抗靜電層2之差ΔT設為預定範圍，便可抑制顯示面之不均。
透明保護薄膜亦可為作為相位差膜發揮功能之薄膜。本說明書中，相位差膜意指於面內方向或厚度方向具有雙折射之膜。作為相位差膜發揮機能之薄膜，可舉例如將高分子薄膜延伸而成者、使液晶材料定向並使其固定化而成者等。
用以貼合偏光件與透明保護薄膜之接著劑只要在光學上是透明的，則無特別限定，可舉例如水系、溶劑系、熱熔膠系、自由基硬化型、陽離子硬化型等接著劑，宜為水系接著劑及自由基硬化型接著劑。
偏光板之厚度例如為10µm~500µm。偏光板之全光線透射率並無特別限定，例如為30%~50%。
光學薄膜1亦可包含抗反射層。於圖3顯示附黏著劑層之光學薄膜10之例，其具備含有抗反射層之光學薄膜1。圖3之光學薄膜1係由偏光板4與抗反射層5構成。在圖3之例中，抗反射層5位於最外層。抗反射層5在與液晶單元組合成液晶面板時，可位於最靠近視辨側，亦可位於最外層。
光學薄膜1包含抗反射層5時，可達成液晶面板之進一步的低反射率化。雖因進一步的低反射率化而更能清楚視辨顯示面之不均，但藉由將抗靜電層2之差ΔT設為預定範圍，便可抑制顯示面之不均。換言之，光學薄膜1包含抗反射層5時，本發明之效果更為顯著。
抗反射層5例如係根據預定之光學設計而積層有2層以上薄膜的光學積層體。典型的抗反射層5係組合高折射率層與低折射率層。抗反射層5例如依序具有第1高折射率層、第1低折射率層、第2高折射率層及第2低折射率層。第1高折射率層例如係與偏光板4相接。第2低折射率層例如位於該等層當中最靠近視辨側處。
高折射率層之折射率例如在1.6~3.2之範圍。低折射率層之折射率較高折射率層之折射率更低，例如為1.35~1.55，宜為1.40~1.50。本說明書中「折射率」在未特別言及之前提下，意指於溫度25℃下使用波長λ=550nm之光，依循JIS K7105之規定進行測定而得之值。
高折射率層之材料可舉例如金屬氧化物、金屬氮化物。金屬氧化物之具體例可舉如氧化鈦(TiO2 )、銦/錫氧化物(ITO)、氧化鈮(Nb2 O5 )、氧化釔(Y2 O3 )、氧化銦(In2 O3 )、氧化錫(SnO2 )、氧化鋯(ZrO2 )、氧化鉿(HfO2 )、氧化銻(Sb2 O3 )、氧化鉭(Ta2 O5 )、氧化鋅(ZnO)、氧化鎢(WO3 )。金屬氮化物之具體例可舉如氮化矽(Si3 N4 )。高折射率層宜含有氧化鈮(Nb2 O5 )或氧化鈦(TiO2 )。由金屬氧化物或金屬氮化物所構成之高折射率層的折射率例如為2.00~2.60，且宜為2.10~2.45。
低折射率層之材料可舉例如金屬氧化物、金屬氟化物。金屬氧化物之具體例可舉如氧化矽(SiO2 )。金屬氟化物之具體例可舉如氟化鎂、氟矽酸。低折射率層之材料從折射率的觀點來看，宜為氟化鎂及氟矽酸；若從製造容易性、機械強度、耐濕性等觀點來看，宜為氧化矽；若綜合考慮各種特性，宜為氧化矽。
低折射率層的材料亦可為硬化性含氟系樹脂的硬化物。硬化性含氟系樹脂例如具有源自含氟單體之構成單元及源自交聯性單體之構成單元。含氟單體之具體例可舉例如氟烯烴類(氟乙烯、二氟亞乙烯、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-二㗁呃等)、具部分或完全氟化之烷基的(甲基)丙烯酸酯衍生物類(Viscoat 6FM(大阪有機化學公司製)、M-2020(大金公司製)等)、完全或部分氟化之乙烯醚類等。交聯性單體可舉例如甲基丙烯酸環氧丙酯等分子內具有交聯性官能基之(甲基)丙烯酸酯單體；具有羧基、羥基、胺基、磺酸基等官能基之(甲基)丙烯酸酯單體((甲基)丙烯酸、羥甲基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸羥烷基酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯)等。含氟系樹脂亦可具有源自上述化合物以外之其他單體(例如烯烴系單體、(甲基)丙烯酸酯系單體、苯乙烯系單體)的構成單元。
抗反射層5亦可使用公知的抗反射層。
光學薄膜1亦可包含上述以外之其他層。光學薄膜1亦可包含1或2層以上其他層。其他層可為單層亦可為光學積層體。其他層可位於較偏光板4更靠視辨側處，亦可位於偏光板4與抗反射層5之間。其他層可舉例如偏光板、反射板、反透射板、相位差薄膜、視角補償薄膜、增亮薄膜、表面處理層、表面保護薄膜、透明基板、黏著劑層。相位差薄膜包含1/2波長板及1/4波長板。表面處理層可舉例如硬塗層、防眩處理層、抗黏層。惟，其他層不受上述例限定。
於圖4顯示附黏著劑層之光學薄膜10之例，其具備包含其他層之光學薄膜1。圖4之光學薄膜1係包含透明基板6及黏著劑層7以作為其他層。圖4之光學薄膜1除了於偏光板4及抗反射層5之間具備透明基板6及黏著劑層7以外，具有與圖3之光學薄膜1相同構成。透明基板6及黏著劑層7分別與抗反射層5及偏光板4相接。且，透明基板6及黏著劑層7彼此相接。
透明基板6之材料可舉例如玻璃及聚合物。透明基板6宜以玻璃構成。由玻璃構成之透明基板6亦稱「蓋玻璃」。構成透明基板6之聚合物可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚環烯烴、聚碳酸酯。由玻璃構成之透明基板6的厚度例如為0.1mm~1mm。由聚合物構成之透明基板6的厚度例如為10µm~200µm。
黏著劑層7可使用與後述黏著劑層3相同之物。黏著劑層7宜包含市售之光學透明黏著劑(OCA：Optical Clear Adhesive)。黏著劑層7例如亦可使用LUCIACS(註冊商標)CS9621T等黏著膠帶來形成。
硬塗層的材料可使用例如熱塑性樹脂、藉由熱或放射線硬化之材料等。藉由熱或放射線硬化之材料，可舉例如：熱硬化型樹脂；紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂等放射線硬化型樹脂。若採用紫外線硬化型樹脂，便能藉由利用紫外線照射進行硬化處理，而以簡單的加工操作有效率地形成硬化樹脂層。硬化型樹脂可舉例如聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、胺甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、聚矽氧系樹脂、環氧系樹脂、三聚氰胺系樹脂等。硬化型樹脂包含例如聚酯系、丙烯酸系、胺甲酸酯系、醯胺系、聚矽氧系、環氧系、三聚氰胺系等之單體、寡聚物、聚合物等。從加工速度快、對基材之熱損較低來看，硬塗層的材料宜為放射線硬化型樹脂，且尤宜為紫外線硬化型樹脂。紫外線硬化型樹脂宜包含例如具有紫外線聚合性官能基之化合物、尤其是具有2個以上(宜為3~6個)該官能基之丙烯酸系單體或寡聚物。紫外線硬化型樹脂中例如摻混有光聚合引發劑。
防眩處理層之材料無特別限定，例如可使用放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱塑性樹脂等。
表面處理層亦可藉由含有導電材料而具有導電性。導電材料可舉如抗靜電層2可含有之導電性聚合物。
表面保護薄膜可配置在表面處理層上，亦可配置在偏光板4或抗反射層5上。表面保護薄膜具有例如支持薄膜與至少配置在支持薄膜之至少單面的黏著劑層。表面保護薄膜之黏著劑層亦可包含輕剝離劑、導電材料等。表面保護薄膜之黏著劑層包含有導電材料時，可將表面保護薄膜貼合於表面處理層，然後剝離表面保護薄膜，藉此使表面處理層含有導電材料並賦予其表面導電機能。導電材料可舉如抗靜電層2可含有之導電性聚合物。為了利用表面保護薄膜之剝離來對表面處理層之表面賦予導電機能，表面保護薄膜之黏著劑層宜含有導電材料並同時含有輕剝離劑。輕剝離劑可舉例如聚有機矽氧烷等聚矽氧樹脂。賦予在表面處理層表面的導電機能可藉由導電材料及輕剝離劑的使用量來適當調整。
其他層亦可包含用以提升構件間密著性的易接著層。其他層為易接著層時，該易接著層亦可配置於偏光板4及抗靜電層2之間。另，亦可對偏光板4之抗靜電層2側的表面施行電暈處理、電漿處理等易接著處理，以取代易接著層。
光學薄膜1對外界光之反射率愈低，本發明之效果愈顯著。光學薄膜1之視感反射率Y例如為5.0%以下，亦可為4.0%以下、3.0%以下、2.0%以下、1.5%以下、1.1%以下、1.0%以下、0.9%以下、0.8%以下、0.7%以下、0.6%以下，更可為0.5%以下。視感反射率Y之下限例如為0.01%以上。1.5%以下之視感反射率Y例如可藉由抗反射層5來達成。視感反射率Y在1.5%以下(宜為1.1%以下)之附黏著劑層之光學薄膜10及具備其之液晶面板，適合用於要求良好視辨性之用途，例如車載用顯示器。
視感反射率Y可藉由以下方法來特定。首先，利用黏著劑層3將附黏著劑層之光學薄膜10貼附於無鹼玻璃上。無鹼玻璃為實質上不含鹼成分(鹼金屬氧化物)的玻璃。詳細而言，無鹼玻璃之鹼成分的重量比率例如為1000ppm以下，甚至為500ppm以下。無鹼玻璃例如為板狀，且具有0.5mm以上之厚度。接著，於無鹼玻璃之已貼合附黏著劑層之光學薄膜10之表面相反側的表面貼附黑色薄膜。接著，使來自CIE標準光源D65之光以5°之入射角入射附黏著劑層之光學薄膜10的表面。就此時產生的單向反射光，特定出在波長360nm~740nm之範圍內的分光反射率，再從該分光反射率特定出XYZ表色系(CIE1931)中之三刺激值(X、Y及Z)。三刺激值詳細規定於JIS Z8701：1999。可特定三刺激值之Y值為視感反射率Y。
[抗靜電層] 抗靜電層2包含作為導電材料之導電性聚合物。導電性聚合物亦可為與摻雜劑之複合物。抗靜電層2更可含有離子性界面活性劑、導電性微粒子、離子性化合物等。含有導電性聚合物的抗靜電層2可具有高透明性及全光線透射率、低霧度、良好的外觀、優異的抗靜電效果、以及於高溫或多濕環境下穩定之抗靜電效果。含有導電性聚合物之抗靜電層2即使在配置於液晶單元與偏光件之間時，仍不易發生消偏光，且不易使液晶顯示裝置顯示之影像的對比降低。含有導電性聚合物之抗靜電層2例如比起僅含導電性微粒子作為導電材料之層，更可降低折射率。因此，含有導電性聚合物的抗靜電層2適於使液晶面板之反射率降低。
抗靜電層2之導電性聚合物的含有率例如為0.01wt%~99.9wt%，亦可為1.0wt%~95.0wt%。此外，本說明書中的「wt%」意指重量%。
導電性聚合物可舉例如聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯、聚喹㗁啉、聚乙炔、聚(伸苯伸乙烯)、聚萘及該等衍生物。抗靜電層2可含有1種或2種以上之該等導電性聚合物。導電性聚合物宜為聚噻吩、聚苯胺及該等之衍生物，且尤宜為聚噻吩衍生物。聚噻吩、聚苯胺及該等衍生物例如可作為具有水溶性或水分散性之導電性聚合物發揮功能。導電性聚合物具有水溶性或水分散性時，可使用導電性聚合物之水溶液或水分散液來製作抗靜電層2。此時，由於在製作抗靜電層2時毋須使用非水系有機溶劑，因此可抑制因有機溶劑造成之偏光板4等光學薄膜1的變質。
導電性聚合物亦可具有親水性官能基。親水性官能基可舉例如磺酸基、胺基、醯胺基、亞胺基、羥基、巰基、肼基、羧基、硫酸酯基、磷酸酯基及該等之鹽(例如四級銨鹽基)。導電性聚合物具有親水性官能基時，會有導電性聚合物易溶於水或微粒子狀導電性聚合物易分散於水的傾向。
從導電性及化學穩定性的觀點來看，導電性聚合物宜為聚(3,4-二取代噻吩)。聚(3,4-二取代噻吩)可舉例如聚(3,4-伸烷基二氧噻吩)及聚(3,4-二烷氧噻吩)，宜為聚(3,4-伸烷基二氧噻吩)。聚(3,4-伸烷基二氧噻吩)例如具有下式(I)所示之結構單元。
[化學式1]
Figure 02_image001
式(I)中，R1 例如為碳數1~4之伸烷基。伸烷基可為直鏈狀亦可為支鏈狀。伸烷基可舉例如亞甲基、1,2-伸乙基、1,3-伸丙基、1,4-伸丁基、1-甲基-1,2-伸乙基、1-乙基-1,2-伸乙基、1-甲基-1,3-伸丙基及2-甲基-1,3-伸丙基，宜為亞甲基、1,2-伸乙基、1,3-伸丙基，且更宜為1,2-伸乙基。導電性聚合物宜為聚(3,4-乙二氧基噻吩)(PEDOT)。
摻雜劑可舉例如多價陰離子。導電性聚合物為聚噻吩(或其衍生物)時，多價陰離子可與聚噻吩(或其衍生物)形成離子對，而使聚噻吩(或其衍生物)穩定分散於水中。多價陰離子並無特別限定，可舉例如：聚丙烯酸、聚馬來酸、聚甲基丙烯酸等羧酸聚合物類；聚苯乙烯磺酸、聚乙烯磺酸、聚異戊二烯磺酸等磺酸聚合物類等。多價陰離子亦可為乙烯基羧酸類或乙烯基磺酸類與其他單體類之共聚物。其他單體類可舉例如：(甲基)丙烯酸酯化合物；苯乙烯、乙烯基萘等芳香族乙烯基化合物。多價陰離子尤宜為聚苯乙烯磺酸(PSS)。導電性聚合物與摻雜劑之複合物，可舉例如聚(3,4-乙二氧基噻吩)與聚苯乙烯磺酸之複合物(PEDOT/PSS)。
離子性界面活性劑可舉例如四級銨鹽型、鏻鹽型、鋶鹽型等陽離子系界面活性劑；羧酸型、磺酸鹽型、硫酸鹽型、磷酸鹽型、亞磷酸鹽型等陰離子系界面活性劑；磺基甜菜鹼型、烷基甜菜鹼型、烷基咪唑鎓甜菜鹼型等兩性離子系界面活性劑；多元醇衍生物、β-環糊精包合物、去水山梨糖醇脂肪酸單酯、去水山梨糖醇脂肪酸二酯、聚環氧烷衍生物、氧化胺等非離子系界面活性劑。
導電性微粒子可舉例如氧化錫系、氧化銻系、氧化銦系、氧化鋅系等金屬氧化物微粒子，且宜為氧化錫系微粒子。氧化錫系微粒子之材料可舉例如氧化錫、銻摻雜氧化錫、銦摻雜氧化錫、鋁摻雜氧化錫、鎢摻雜氧化錫、氧化鈦-氧化鈰-氧化錫之複合物、氧化鈦-氧化錫之複合物等。導電性微粒子之平均粒徑例如為1~100nm，且宜為2~50nm。導電性微粒子之平均粒徑意指例如：在利用雷射繞射式粒度計等來測定之粒度分布中，相當於體積累積50%之粒徑(d50)。
離子性化合物可舉例如鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。鹼金屬鹽可舉例如鹼金屬之有機鹽及無機鹽。本說明書中，有機陽離子-陰離子鹽意指包含有機陽離子之有機鹽。有機陽離子-陰離子鹽所含之陰離子可為有機陰離子，亦可為無機陰離子。有機陽離子-陰離子鹽有時稱為離子性液體或離子性固體。
鹼金屬鹽中所含之鹼金屬離子可舉例如鋰離子、鈉離子及鉀離子，且宜為鋰離子。
鹼金屬之有機鹽所含之陰離子可舉例如CH3 COO- 、CF3 COO- 、CH3 SO3 - 、CF3 SO3 - 、(CF3 SO2 )3 C- 、C4 F9 SO3 - 、C3 F7 COO- 、(CF3 SO2 )(CF3 CO)N- 、- O3 S(CF2 )3 SO3 - 、(CN)2 N- 及下述通式(1)~(4)所示陰離子。 (1)(Cn F2n+1 SO2 )2 N- (惟，n為1~10之整數) (2)CF2 (Cm F2m SO2 )2 N- (惟，m為1~10之整數) (3)- O3 S(CF2 )l SO3 - (惟，l為1~10之整數) (4)(Cp F2p+1 SO2 )N- (Cq F2q+1 SO2 ) (惟，p及q彼此獨立為1~10之整數)
鹼金屬之有機鹽所含之陰離子宜含有氟原子。透過含有氟原子之陰離子，鹼金屬之有機鹽作為離子解離性優異的離子化合物發揮功能。
鹼金屬無機鹽所含之陰離子可舉例如Cl- 、Br- 、I- 、AlCl4 - 、Al2 Cl7 - 、BF4 - 、PF6 - 、ClO4 - 、NO3 - 、AsF6 - 、SbF6 - 、NbF6 - 、TaF6 - 、(FSO2 )2 N- 、CO3 2 - 等。
鹼金屬鹽所含之陰離子宜為(CF3 SO2 )2 N- 、(C2 F5 SO2 )2 N- 等上述通式(1)所示(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，尤宜為(CF3 SO2 )2 N- 所示(三氟甲磺醯基)醯亞胺。
鹼金屬之有機鹽可舉例如乙酸鈉、褐藻酸鈉、木質磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF3 SO3 、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、Li(C4 F9 SO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )3 C、KO3 S(CF2 )3 SO3 K、LiO3 S(CF2 )3 SO3 K等，且宜為LiCF3 SO3 、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、Li(C4 F9 SO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )3 C，更宜為Li(CF3 SO2 )2 N、Li(C2 F5 SO2 )2 N、Li(C4 F9 SO2 )2 N。鹼金屬之有機鹽宜為含氟鋰醯亞胺鹽，且尤宜為(全氟烷基磺醯基)醯亞胺鋰鹽。
鹼金屬之無機鹽可舉例如過氯酸鋰及碘化鋰。
有機陽離子-陰離子鹽所含之機陽離子可舉例如吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、具二氫吡咯骨架的陽離子、具吡咯骨架的陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
有機陽離子-陰離子鹽所含之陰離子可舉例如Cl- 、Br- 、I- 、AlCl4 - 、Al2 Cl7 - 、BF4 - 、PF6 - 、ClO4 - 、NO3 - 、CH3 COO- 、CF3 COO- 、CH3 SO3 - 、CF3 SO3 - 、(CF3 SO2 )3 C- 、AsF6 - 、SbF6 - 、NbF6 - 、TaF6 - 、(CN)2 N- 、C4 F9 SO3 - 、C3 F7 COO- 、(CF3 SO2 )(CF3 CO)N- 、(FSO2 )2 N- 、- O3 S(CF2 )3 SO3 - 及上述通式(1)~(4)所示陰離子。有機陽離子-陰離子鹽所含之陰離子宜含有氟原子。藉由含有氟原子之陰離子，有機陽離子-陰離子鹽係作為離子解離性優異的離子化合物發揮功能。
離子性化合物不限於上述鹼金屬鹽及有機陽離子-陰離子鹽，亦可舉例如氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等無機鹽。導電材料亦可含有1種或2種以上上述離子性化合物。
抗靜電層2可含有之導電材料不限於上述材料。導電材料可舉例如乙炔黑、科琴碳黑、天然石墨、人造石墨等碳材料；鈦黑；具有四級銨鹽等陽離子型導電性基、甜菜鹼化合物等兩性離子型導電性基、磺酸鹽等陰離子型導電性基或甘油等非離子型導電性基之單體的均聚物、或該單體與其他單體之共聚物(例如具有源自具四級銨鹽基之丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯之結構單元的聚合物等具有離子導電性之聚合物)；使乙烯及甲基丙烯酸酯之共聚物等親水性聚合物與丙烯酸系樹脂合金化而成者(永久抗靜電劑)。
抗靜電層2亦可含有導電材料以外的其他材料。其他材料可舉例如黏結劑、調平劑、抗氧化劑。抗靜電層2宜含有調平劑。調平劑可含於製作抗靜電層2時之塗佈液中。塗佈液除了調平劑外，更宜含有導電助劑。塗佈液含有調平劑及導電助劑時，便可抑制抗靜電層2厚度之不均，藉此可抑制差ΔT。且，塗佈液所含之黏結劑亦具有提升抗靜電層2之被膜形成性而抑制厚度不均的作用。由該觀點來看，塗佈液除了調平劑及導電助劑外，宜含有黏結劑。
抗靜電層2可為由含有調平劑及導電助劑之塗佈液形成之層，亦可為由含有調平劑、導電助劑及黏結劑之塗佈液形成之層。
黏結劑可舉例如含㗁唑啉基聚合物、聚胺甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醚系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、環氧樹脂、聚乙烯吡咯啶酮、聚苯乙烯系樹脂、聚乙二醇、新戊四醇等，且宜為含㗁唑啉基之聚合物、聚胺甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂，尤宜為聚胺甲酸酯系樹脂。抗靜電層2可含有1種或2種以上該等黏結劑。相對於導電性聚合物100重量份，抗靜電層2中之黏結劑的含有率例如為1.0~1000重量份，宜為10~900重量份。
調平劑可舉例如對製作抗靜電層2之塗佈液賦予低表面張力的化合物。利用調平劑可提升藉由塗佈塗佈液所形成之塗佈膜表面的平坦性。具體的調平劑可舉例如二甲基聚矽氧烷、聚醚改質矽氧烷等聚矽氧烷、聚環氧烷、氟化物等。抗靜電層2可含有1種或2種以上該等調平劑。相對於導電性聚合物100重量份，抗靜電層2中之調平劑的含有率例如為0.1~60重量份，宜為1.0重量份以上。
導電助劑可舉例如具有極性基之有機化合物。極性基之例為：醯胺基、羥基及亞磺醯基。有機化合物亦可具有2個以上極性基。藉由提升塗佈液中的導電性聚合物分散性，有機化合物作為提升抗靜電層2導電性之導電助劑發揮優異的作用，同時由於滲透至導電性聚合物間之間隙可更確實地抑制抗靜電層2之厚度不均，因此有機化合物宜為分子量500以下之低分子化合物。為了穩定形成抗靜電層2，有機化合物宜具有100℃以上之沸點，且180℃為佳。
具體的導電助劑可舉例如二甲亞碸、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、乙醯胺、N-乙基乙醯胺、N-苯基-N-正丙基乙醯胺、苯甲醯胺、N-甲基吡咯啶酮、β-內醯胺、γ-內醯胺、δ-內醯胺、ε-己內醯胺、月桂內醯胺、乙二醇、二乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇、β-硫二甘醇、三乙二醇、三丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,3-丁二醇、1,6-己二醇、新戊二醇、兒茶酚、環己二醇、環己烷二甲醇、甘油、赤蘚醇、異麥芽酮糖醇、乳糖醇、麥芽糖醇、甘露醇、山梨糖醇、木糖醇、蔗糖。塗佈液亦可含有1種或2種以上該等導電助劑。相對於導電助劑及溶劑之合計，塗佈液之導電助劑的含有率，例如為0.1~30重量%，且宜為0.5~10重量%。
抗靜電層2之厚度例如為5nm~180nm，宜為150nm以下，較宜為120nm以下，更宜為100nm以下，尤宜為80nm以下，特別宜為50nm以下。抗靜電層2之厚度可為10nm以上，亦可為20nm以上。
抗靜電層2對光學薄膜1的投錨力，例如為10.0N/25mm以上，宜為12.0N/25mm以上，較宜為14.0N/25mm以上，更宜為18.0N/25mm以上。此外，黏結劑有提升抗靜電層2對光學薄膜1的密著性及接著性(投錨力)的傾向。
上述投錨力，可藉以下方法測定。首先，將作為評估對象的附黏著劑層之光學薄膜10裁切成寬25mm×長150mm，製成試驗片。接著，透過雙面膠帶將試驗片所具備之光學薄膜1的表面整體疊合於不鏽鋼製試驗板，並使2kg的滾筒進行1次往返，來將其等壓接。接著，將試驗片所具備之黏著劑層3疊合至評估用片材，並使2kg之滾筒進行1次往返，來將其等壓接。評估用片材只要是具有寬30mm×長150mm之尺寸且在試驗中不會從黏著劑層3剝離者，即無特別限定。評估用片材例如可使用ITO薄膜(125 TETOLIGHT　OES(尾池工業公司製)等)。接著，使用市售之拉伸試驗機，在固持評估用片材的狀態下，以剝離角度180°、拉伸速度300mm/分鐘將黏著劑層3及抗靜電層2從光學薄膜1剝離，將此時的剝離力之平均值特定為投錨力。另，上述試驗係在23℃之氣體環境下進行。
抗靜電層2之表面電阻率例如為1.0×102 Ω/□~1.0×1012 Ω/□。表面電阻率之上限亦可為1.0×1011 Ω/□以下、1.0×108 Ω/□以下、1.0×107 Ω/□以下、1.0×106 Ω/□以下、1.0×105 Ω/□以下，更可為1.0×104 Ω/□以下。表面電阻率愈低，抗靜電層2之抗靜電性能就愈高。另一方面，液晶面板具有觸控感測機能時，為了良好維持液晶面板之觸控感度，同時抑制液晶面板之靜電，表面電阻率之下限可為大於1.0×105 Ω/□，亦可為1.0×106 Ω/□以上，甚至1.0×107 Ω/□以上。表面電阻率例如可藉由抗靜電層2之組成及/或厚度來控制。通常，相同組成中厚度愈大，抗靜電層2之表面電阻率會變得愈小。
抗靜電層2之表面電阻率可利用以下方法特定。首先，準備抗靜電層2之表面露出在外部的積層體。所述積層體可舉例如由光學薄膜1及抗靜電層2所構成之積層體L。接著，針對所準備的積層體L之抗靜電層2表面，測定表面電阻率。抗靜電層2之表面電阻率可依循JIS K6911：1995中規定之方法來測定。測定中可使用依循JIS K6911：1995所規定之方法的測定裝置，例如Mitsubishi Chemical Analytech公司製之Hiresta-UP MCP-HT450(表面電阻率在1.0×105 Ω/□以上時)或Loresta-GP MCP-T600(表面電阻率小於1.0×105 Ω/□時)。
抗靜電層2所造成之全光線透射率的損失A例如為0.9%以下，宜為0.8%以下，較宜為0.6%以下，更宜為0.5%以下，尤宜為0.4%以下，特別宜小於0.2%。損失A的下限值並無特別限定，例如為0.01%。損失A可利用以下方法特定。首先，測定光學薄膜1之全光線透射率T1、與由光學薄膜1及抗靜電層2所構成之積層體L的全光線透射率T2。積層體L之全光線透射率T2係使光從光學薄膜1側入射時之值。可將全光線透射率T1與全光線透射率T2之差(T1-T2)特定為損失A。
抗靜電層2例如可藉由以下方法來製作。首先，調製含有導電材料之塗佈液。通常，塗佈液為溶液或分散液。塗佈液之溶劑例如為水，亦可進一步含有水溶性有機溶劑。在塗佈液含有有機化合物之導電助劑時，溶劑宜進一步含有水溶性有機溶劑。藉由水溶性有機溶劑，導電助劑之分散性會提升，藉此可更確實地抑制抗靜電層2之厚度不均。在進一步含有水溶性有機溶劑時，溶劑中該有機溶劑之含有率例如為1.0wt%~99.9wt%，宜為5.0wt%以上。水溶性有機溶劑可舉例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、二級丁醇、三級丁醇、正戊醇、異戊醇、二級戊醇、三級戊醇、1-乙基-1-丙醇、2-甲基-1-丁醇、正己醇、環己醇等醇類。
塗佈液宜含有調平劑及導電助劑，更宜含有調平劑、導電助劑及黏結劑。
塗佈液中之固體成分濃度例如為0.1wt%~5.0wt%，宜為0.3wt%以上。固體成分濃度在該等範圍內時，可進一步抑制抗靜電層2之厚度不均。
接著，於光學薄膜1之表面塗佈上述塗佈液。使所得之塗佈膜乾燥，藉此於光學薄膜1上製作出抗靜電層2。
[黏著劑層] 黏著劑層3係含有黏著劑之層。黏著劑層3所含之黏著劑可舉例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。從光學透明性優異、具有適當的濡溼性、凝集性、接著性等黏著特性且耐候性、耐熱性等優異的觀點來看，黏著劑層3所含之黏著劑宜為丙烯酸系黏著劑。
丙烯酸系黏著劑含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物例如含有源自(甲基)丙烯酸酯之結構單元作為主成分。在本說明書中，「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。「主成分」意指以重量基準計聚合物所含最多之結構單元。
用以形成(甲基)丙烯酸系聚合物之主骨架的(甲基)丙烯酸酯中所含之酯部分((甲基)丙烯酸基以外之部分)的碳數並無特別限定，例如為1~18。(甲基)丙烯酸酯的酯部分可含有苯基、苯氧基等芳香族環，亦可含有烷基。該烷基可為直鏈狀亦可為支鏈狀。(甲基)丙烯酸系聚合物亦可含有1種或2種以上源自(甲基)丙烯酸酯之結構單元。(甲基)丙烯酸系聚合物中，源自(甲基)丙烯酸酯之結構單元所含酯部分的碳數平均值宜為3~9。從黏著特性、耐久性、相位差之調整、折射率之調整等觀點來看，(甲基)丙烯酸系聚合物宜具有源自含芳香族環之(甲基)丙烯酸酯的結構單元。藉由利用含芳香族環之(甲基)丙烯酸酯來調整黏著劑層3的相位差，可抑制因光學薄膜1熱收縮而黏著劑層3延伸所致之液晶顯示裝置的漏光。此外，該(甲基)丙烯酸酯適於調整黏著劑層3之折射率，並且降低黏著劑層3與被黏著體(例如液晶單元)之折射率的差。只要折射率的差降低，便可抑制在黏著劑層3與被黏著體之界面的光反射，從而提升液晶顯示裝置的視辨性。
含芳香族環之(甲基)丙烯酸酯可舉例如(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸鄰苯基苯酚酯、(甲基)丙烯酸苯氧酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧丙酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質壬苯酚(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質甲酚(甲基)丙烯酸酯、苯酚環氧乙烷改質(甲基)丙烯酸酯、2-羥-3-苯氧丙基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基苄基(甲基)丙烯酸酯、氯苄基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甲苯酚酯、(甲基)丙烯酸苯乙烯酯等含苯環之(甲基)丙烯酸酯；羥乙基化β-萘酚丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-萘酚乙酯、丙烯酸2-萘氧乙酯、2-(4-甲氧基-1-萘氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯等含萘環之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸聯苯酯等含聯苯環之(甲基)丙烯酸酯等。該等之中，從提升黏著劑層3之黏著特性或耐久性的觀點來看，宜為(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯。
利用含芳香族環之(甲基)丙烯酸酯調整黏著劑層3之折射率時，(甲基)丙烯酸系聚合物之總構成單元中源自含芳香族環之(甲基)丙烯酸酯的結構單元之含有率宜為3wt%~25wt%。該含有率較宜為22wt%以下，更宜為20wt%以下。該含有率較宜為8wt%以上，更宜為12wt%以上。若源自含芳香族環之(甲基)丙烯酸酯之結構單元的含有率在25wt%以下，便會傾向於可抑制因光學薄膜1收縮所造成之液晶顯示裝置的漏光，同時可提升黏著劑層3之重工性。若該含有率若為3wt%以上，便會有可充分抑制液晶顯示裝置之漏光的傾向。
從提升接著性及耐熱性之觀點來看，除了源自上述含芳香族環之(甲基)丙烯酸酯之結構單元以外，(甲基)丙烯酸系聚合物亦可具有一種以上源自於共聚單體之結構單元，其中該共聚單體具有含(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基。該共聚單體可舉例如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯、(4-羥甲基環己基)甲基丙烯酸酯等含羥基單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸等含羧基單體；馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。
上述共聚單體可舉例如：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧乙酯等之(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體；N-丙烯醯基嗎福林等嗎福林系單體；N-環己基馬來醯亞胺、N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等。
上述共聚單體可舉例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯吡咯啶酮、甲基乙烯吡咯啶酮、乙烯吡啶、乙烯哌啶酮、乙烯嘧啶、乙烯哌嗪、乙烯吡嗪、乙烯吡咯、乙烯咪唑、乙烯㗁唑、乙烯嗎福林、N-乙烯基羧醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯己內醯胺等乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯、2-甲氧基乙基丙烯酸酯等丙烯酸酯系單體等。此外，共聚單體還可舉例如異戊二烯、丁二烯、異丁烯等烯烴單體；亦可舉含乙烯基醚等醚基之乙烯基單體。
上述共聚單體亦可舉例如3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷及10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷等矽烷系單體。
作為上述共聚單體，舉例而言亦可使用以下諸等：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物(具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵的多官能性單體)；2個以上具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之化合物加成於聚酯、環氧、胺甲酸酯等骨架上而成的化合物(例如聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯及胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯)。
(甲基)丙烯酸系聚合物中源自上述共聚單體之結構單元的含有率並無特別限定，例如為0wt%~20wt%，宜為0.1wt%~15wt%，更宜為0.1wt%~10wt%。
從接著性及耐久性的觀點來看，共聚單體宜為含羥基單體及含羧基單體。共聚單體亦可併用含羥基單體及含羧基單體。共聚單體例如在用以形成黏著劑層3之黏著劑組成物含有交聯劑時，會作為與交聯劑的反應點發揮功能。含羥基單體、含羧基單體等與分子間交聯劑之反應性優異，因此適於提升所得黏著劑層3之凝集性及耐熱性。尤其含羥基單體適於提升黏著劑層3之重工性。含羧基單體適於使黏著劑層3兼具耐久性與重工性。
使用含羥基單體作為共聚單體時，(甲基)丙烯酸系聚合物中源自含羥基單體之結構單元的含有率宜為0.01wt%~15wt%，較宜為0.03wt%~10wt%，更宜為0.05wt%~7wt%。使用含羧基單體作為共聚單體時，(甲基)丙烯酸系聚合物中源自含羧基之單體的結構單元的含有率宜為0.05wt%~10wt%，較宜為0.1wt%~8wt%，更宜為0.2wt%~6wt%。
(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量例如為50萬~300萬，而從耐久性、尤其是耐熱性之觀點來看，宜為70萬~270萬，更宜為80萬~250萬。(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為50萬以上時，黏著劑層3在實用上有具有充分耐熱性的傾向。(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為300萬以下時，有可輕易調節用以製作黏著劑層3之塗敷液黏度的傾向。若可輕易調節塗敷液之黏度，則毋須於塗敷液添加大量稀釋溶劑，因此可抑制黏著劑層3之製造成本。本說明書中，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析法；Gel Permeation Chromatography)測定結果經聚苯乙烯換算之值。
(甲基)丙烯酸系聚合物可藉由溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知的聚合反應來製作。(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物，可為嵌段共聚物，亦可為接枝共聚物。
黏著劑層3所含之黏著劑亦可具有基底聚合物經交聯劑交聯之結構。例如，使用(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物時，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物作為交聯劑。有機系交聯劑可舉例如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物意指多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結之物。構成多價金屬之原子可舉例如:Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。多官能性金屬螯合物所含之有機化合物包含例如氧原子等。該有機化合物可舉例如烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
黏著劑中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，交聯劑之使用量宜為3重量份以下，較宜為0.01~3重量份，更宜為0.02~2重量份，尤宜為0.03~1重量份。
黏著劑層3亦可進一步含有黏著劑以外之其他材料。其他材料可舉例如導電材料、矽烷耦合劑及其他添加劑。導電材料適於使黏著劑層3之表面電阻率降低並防止液晶顯示裝置靜電造成之顯示不良。導電材料可列舉先前於抗靜電層2之說明中所述之物。從與基底聚合物之相溶性及黏著劑層3之透明性的觀點來看，黏著劑層3所含之導電材料宜為離子性化合物。尤其，黏著劑層3含有丙烯酸系黏著劑且該丙烯酸系黏著劑含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物時，宜使用離子性化合物作為導電材料。離子性化合物從抗靜電性能之觀點來看宜為離子性液體。
相對於黏著劑之基底聚合物(例如(甲基)丙烯酸系聚合物)100重量份，黏著劑層3宜含有0.05~20重量份之導電材料(例如離子性化合物)。因黏著劑層3含有0.05重量份以上之導電材料，故可充分降低黏著劑層3之表面電阻率，而有黏著劑層3之抗靜電性能充分提升的傾向。相對於黏著劑之基底聚合物100重量份，黏著劑層3宜含有0.1重量份以上的導電材料，更宜含有0.5重量份以上。從賦予黏著劑層3在實用上充分耐久性的觀點來看，黏著劑層3相對於黏著劑之基底聚合物100重量份，宜含有20重量份以下之導電材料，更宜含有10重量份以下。
其他添加劑可因應使用用途適當使用例如:聚伸烷基二醇(例如聚丙二醇)等聚醚化合物、著色劑、顏料、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機充填劑、有機充填劑、金屬粉等。添加劑可為粉體，可為粒狀亦可為箔狀。亦可在可控制添加劑的範圍內使用還原劑來構成氧化還原系以作為添加劑。相對於黏著劑之基底聚合物(例如(甲基)丙烯酸系聚合物)100重量份，黏著劑層3宜含有5重量份以下之其他添加劑，且較宜含有3重量份以下，更宜含有1重量份以下。
黏著劑層3之厚度並無特別限定，例如為5~100µm，宜為10~50µm。
黏著劑層3之表面電阻率並無特別限定，可低於1.0×1014 Ω/□，宜為1.0×1012 Ω/□以下。黏著劑層3之表面電阻率的下限值並無特別限定，惟從耐久性之觀點來看，例如為1.0×108 Ω/□。黏著劑層3之表面電阻率可利用與抗靜電層2之表面電阻率相同的方法來測定。
[附黏著劑層之光學薄膜的製造方法] 附黏著劑層之光學薄膜10例如可藉由以下方法製作。惟，附黏著劑層之光學薄膜10之製法不受以下例限定。
依上述的方法可製得光學薄膜1及抗靜電層2之積層體。接著，調製含有黏著劑之溶液。藉由將該溶液塗佈於分離件表面可製得塗佈膜。分離件並未特別限定，例如可使用經聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。接著，使塗佈膜乾燥，藉此於分離件上形成黏著劑層3。將所得之黏著劑層3轉印至上述積層體上(例如抗靜電層2上)，即可製作附黏著劑層之光學薄膜10。
(液晶面板) 於圖5顯示本實施形態之液晶面板100。圖5之液晶面板100具備附黏著劑層之光學薄膜10及液晶單元20。液晶單元20具備液晶層21、第1透明基板22及第2透明基板23。液晶層21係配置於第1透明基板22及第2透明基板23之間，且分別與第1透明基板22及第2透明基板23相接。附黏著劑層之光學薄膜10與液晶單元20之間並未設置以ITO層為首之導電層(更進一步之導電層)。附黏著劑層之光學薄膜10係透過黏著劑層3而直接與液晶單元20之視辨側的透明基板(第1透明基板22)相接。換言之，附黏著劑層之光學薄膜10與液晶單元20係在不相隔ITO層下相接。惟，本發明之液晶面板具備附黏著劑層之光學薄膜10與液晶單元20，且該液晶單元20具備一對透明基板及配置於一對透明基板間之液晶層；只要於附黏著劑層之光學薄膜10與液晶單元20之間未設有導電層即可，不受限於圖5之例。例如，液晶單元20中之液晶層21與第1透明基板22及/或第2透明基板23可不直接相接。
液晶層21含有例如在電場不存在之狀態下呈平行定向之液晶分子。含有所述液晶分子之液晶層21適於IPS(In-Plane-Switching，面內切換)方式。惟，液晶層21亦可用於TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、π型、VA(Vertical Alignment)型等。液晶層21之厚度例如為1.5µm~4µm。
第1透明基板22及第2透明基板23之材料可舉例如玻璃及聚合物。在本說明書中，有時會將由聚合物構成之透明基板稱為聚合物薄膜。構成透明基板之聚合物可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚環烯烴、聚碳酸酯等。由玻璃構成之透明基板的厚度例如為0.1mm~1mm。由聚合物構成之透明基板的厚度例如為10µm~200µm。
液晶單元20更可包含有液晶層21、第1透明基板22及第2透明基板23以外之其他層。其他層可舉例如彩色濾光片、易接著層及硬塗層。彩色濾光片例如係配置於較液晶層21更靠視辨側處，且宜位於第1透明基板22與附黏著劑層之光學薄膜10的黏著劑層3之間。易接著層及硬塗層例如係配置於第1透明基板22或第2透明基板23之表面上。
液晶面板100亦可更具備與抗靜電層2之側面電性連接的導通結構(未圖示)。若將導通結構接地，即可更加抑制附黏著劑層之光學薄膜10因靜電而帶電的狀況。導通結構可覆蓋抗靜電層2之側面整體，亦可部分覆蓋抗靜電層2之側面。經導通結構覆蓋之抗靜電層2之側面面積相對於抗靜電層2之側面全體面積的面積比率例如為1%以上，宜為3%以上。導通結構不僅可與抗靜電層2之側面，亦可與光學薄膜1及黏著劑層3之側面電性連接。
導通結構之材料可舉例如以銀、金等金屬所構成之導電性糊料；導電性接著劑；其他導電材料。導通結構亦可為由抗靜電層2之側面延伸的配線。
液晶面板100更可具備有光學薄膜1以外之其他光學薄膜。其他光學薄膜之例與光學薄膜1之例相同。
當其他光學薄膜為偏光板時，該偏光板例如係透過黏著劑層與液晶單元20之第2透明基板23貼合。該偏光板例如可具有針對偏光板4之如前所述的構成。作為其他光學薄膜之偏光板中，偏光件之透射軸(或吸收軸)例如係與偏光板4之偏光件的透射軸(或吸收軸)正交。用以貼合偏光板與第2透明基板23之黏著劑層的材料，可使用針對黏著劑層3於上所述之物。該黏著劑層之厚度並無特別限定，例如為1~100µm，宜為2~50µm，較宜為2~40µm，更宜為5~35µm。
液晶面板100適合用於不需觸控感測器之用途，例如車輛用儀表板或鏡面顯示器。儀表板為顯示車輛之行進速度或引擎轉數等之面板。
液晶面板100對外界光之反射率愈低，本發明效果愈明顯。液晶面板100之視感反射率Y例如為8.0%以下，亦可為7.0%以下、6.0%以下、5.0%以下、4.0%以下、3.0%以下、2.0%以下、1.5%以下、1.3%以下，更可為1.1%以下。視感反射率Y之下限例如為0.01%以上。視感反射率Y在1.5%以下(宜為1.3%以下)之液晶面板100適合用於要求良好視辨性之用途，例如車載用顯示器。液晶面板100之視感反射率Y可依與附黏著劑層之光學薄膜10之視感反射率Y同樣的方式進行測定。
本發明之液晶面板亦可具備上述以外更進一步之層及/或構件。
(液晶面板之變形例) 圖5之液晶面板100更可具備有觸控感測器或觸控面板。圖6係顯示具備觸控面板30之液晶面板110。除了觸控面板30外，液晶面板110之結構與液晶面板100之結構相同。因此，液晶面板100與液晶面板110共通之要素會附上相同的參照符號，並有時會省略其等之說明。
液晶面板110中，觸控面板30例如係配置於較光學薄膜1更靠視辨側處。觸控面板30未與附黏著劑層之光學薄膜10相接，而於觸控面板30與附黏著劑層之光學薄膜10之間形成有空隙(空氣層)。液晶面板110係所謂外掛型液晶面板。觸控面板30可採用光學式、超音波式、靜電容式、電阻式等。觸控面板30為電阻膜式時，觸控面板30例如具有下述結構：具透明導電性薄膜之2個電極板係透過間隔件呈相對向配置。觸控面板30為靜電容式時，觸控面板30例如係以具備具預定圖案形狀之透明導電性薄膜的透明導電性薄膜所構成。
(液晶顯示裝置之實施形態) 本實施形態之液晶顯示裝置例如具備液晶面板100及照明系統。液晶顯示裝置中，亦可使用參照圖6所說明之液晶面板110取代液晶面板100。液晶顯示裝置中，液晶面板100例如係配置於較照明系統更靠視辨側處。照明系統例如具有背光件或反射板，並對液晶面板100照射光。
[實施例] 以下藉實施例更詳細說明本發明。本發明不受以下所示之實施例限定。此外，以下無特別說明時，「%」表示「wt%」，而「份」表示「重量份」。未特別說明時，室內的溫度及濕度為23℃、65%RH。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量＞ 黏著劑層所使用之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)是利用GPC(凝膠滲透層析法，Gel Permeation Chromatography)來測定。(甲基)丙烯酸系聚合物之Mw/Mn亦以同樣的方式進行測定。 ・分析裝置：Tosoh(東曹)公司製，HLC-8120GPC ・管柱：Tosoh(東曹)公司製，G7000HXL +GMHXL +GMHXL ・管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm 計90cm ・管柱溫度：40℃ ・流量：0.8mL/min ・注入量：100µL ・溶析液：四氫呋喃 ・檢測器：示差折射計(RI) ・標準試料：聚苯乙烯
＜黏著劑層A＞ 將丙烯酸丁酯76.9份、丙烯酸苄酯18份、丙烯酸5份、丙烯酸4-羥丁酯0.1份饋入具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管及冷卻器的四口燒瓶中，藉此製得單體混合物。此外，相對於單體混合物(固體成分)100份，將作為聚合引發劑之2,2'-偶氮雙異丁腈0.1份與乙酸乙酯100份一起饋入。將混合物一邊緩慢地攪拌，一邊於燒瓶內導入氮氣進行氮置換。藉由將燒瓶內之液溫維持在55℃附近進行8小時聚合反應，而調製出重量平均分子量(Mw)200萬、Mw/Mn=4.1之丙烯酸系聚合物溶液。
接著，相對於丙烯酸系聚合物之溶液的固體成分100份，進一步摻混0.45份之異氰酸酯交聯劑(Tosoh公司製之Coronate L，三羥甲丙烷二異氰酸甲苯酯)、0.1份之過氧化物交聯劑(日本油脂公司製之NYPER BMT)及0.2份之矽烷耦合劑(信越化學工業公司製的KBM-403，γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷)，從而調製出丙烯酸系黏著劑組成物之溶液。
接著，將所得之溶液塗佈於分離件(三菱化學聚酯薄膜公司製之MRF38)之單面。分離件係以聚矽氧系剝離劑處理過之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。將所得塗佈膜在155℃下乾燥1分鐘，藉此於分離件表面形成黏著劑層A。黏著劑層A之厚度為20µm。
＜黏著劑層B＞ 除了將丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份及丙烯酸4-羥丁酯0.1份饋入四口燒瓶以外，以與黏著劑層A同樣的方式調製出重量平均分子量(Mw)210萬、Mw/Mn=4.0之丙烯酸系聚合物之溶液。
接著，除了使用所調製出之上述丙烯酸系聚合物的溶液外，以與黏著劑層A相同的方式，調製出丙烯酸系黏著劑組成物之溶液，並進一步塗佈於分離件之單面，使其乾燥而形成黏著劑層B。黏著劑層B之厚度為12µm。
＜抗反射層AR1＞ 準備表面形成有防眩層之三乙酸纖維素(TAC)薄膜。於捲對捲式濺鍍成膜裝置導入該TAC薄膜，並使薄膜行進而對防眩層表面進行轟擊處理(利用Ar氣體進行之電漿處理)。接著，於防眩層表面上形成物理膜厚為5nm的SiOx 層(x＜2)作為密著層。接著，於密著層上依序形成物理膜厚為13nm之Nb2 O5 層(第1高折射率層)、物理膜厚為30nm之SiO2 層(第1低折射率層)、物理膜厚為100nm之Nb2 O5 層(第2高折射率層)及物理膜厚為85nm之SiO2 層(第2低折射率層)，而製作出積層體a。要形成該等氧化物薄膜時，係調整氬氣的導入量及排氣量，維持裝置內一定的壓力並同時藉由電漿光譜分析儀(PEM)控制，來調整所導入的氧量。
接下來，於積層體a之第2低折射率層(SiO2 層)之表面形成由氟系樹脂所構成之層(物理膜厚：9nm)作為防污層。並且，將黏著劑層B轉印至積層體a之TAC薄膜表面，藉此製作出附黏著劑層之抗反射層AR1。
＜偏光板P1＞ 首先，藉由以下方法製作丙烯酸薄膜。於具備攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管、氮導入管之容量30L的釜型反應器中，饋入8,000g之甲基丙烯酸甲酯(MMA)、2,000g之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、10,000g之4-甲基-2-戊酮(甲基異丁基酮，MIBK)、5g之正十二硫醇。將氮氣導入反應器內並同時使反應器內之混合物升溫至105℃並使其回流。接著，添加5.0g之三級丁基過氧基異丙基碳酸酯(Kayakarubon BIC-7，KAYAKU AKZO CO., LTD.製)作為聚合引發劑，同時耗時4小時滴下由10.0g之三級丁基過氧基異丙基碳酸酯與230g之MIBK所構成之溶液，進行溶液聚合。溶液聚合係在回流下於約105~120℃下進行。滴下溶液後再耗時4小時進行熟成。
接著，於所製得之聚合物溶液中加入30g之磷酸十八酯/磷酸二(十八基)酯混合物(Phoslex A-18，堺化學工業製)，並於回流下在約90~120℃下進行5小時環化縮合反應。接著，將所製得之溶液以用樹脂量換算為2.0kg/h之處理速度導入套筒溫度260℃、旋轉數100rpm、減壓度13.3~400hPa(10~300mmHg)、後通氣孔數1個、前通氣孔數4個的通氣孔式雙螺桿擠製機(φ=29.75mm、L/D=30)中。在擠製機內，進一步進行環化縮合反應同時進行去揮發。藉此，製得含內酯環聚合物的透明丸粒。
針對所得之含內酯環聚合物進行動態TG之測定後，檢測出0.17質量%之質量減損。又，該含內酯環聚合物的重量平均分子量(Mw)為133,000，熔流速率為6.5g/10分鐘，且玻璃轉移溫度為131℃。
使用單軸擠壓機(螺桿30mmφ)將所得丸粒與丙烯腈-苯乙烯(AS)樹脂(TOYO AS AS20，TOYO STYRENE公司製)以質量比90/10進行捏合擠製，藉此製得透明丸粒。所得丸粒之玻璃轉移溫度為127℃。
使用50mmφ之單軸擠壓機將該丸粒從寬400mm的衣架式T型模進行熔融擠製，藉此製作出厚度120µm之薄膜。使用雙軸延伸裝置將薄膜在150℃之溫度條件下縱向延伸成2.0倍及橫向2.0倍，藉此製得厚度30µm之延伸薄膜(丙烯酸薄膜)。測定該延伸薄膜之光學特性後，測得全光線透射率為93%，面內相位差Δnd為0.8nm，厚度方向相位差Rth為1.5nm。
接下來，利用以下方法製作出偏光板P1。首先，在速度比相異之多個輥件之間，一邊將厚度45µm之聚乙烯醇薄膜在濃度0.3%之碘溶液(溫度30℃)中染色1分鐘，一邊延伸使延伸倍率達3倍。接著，一邊將所得延伸薄膜浸漬於硼酸濃度為4%，且碘化鉀濃度為10%之水溶液(溫度60℃)中0.5分鐘，一邊延伸使總延伸倍率達6倍。接著，藉由將延伸薄膜浸漬於含濃度1.5%之碘化鉀的水溶液(溫度30℃)中10秒來洗淨。接著，在50℃下將延伸薄膜乾燥4分鐘，藉此製得厚度18µm之偏光件。於所製得之偏光件的一主面透過聚乙烯醇系接著劑貼合厚度40µm之TAC薄膜(Konica Minolta製，商品名「KC4UY」)。於偏光件之另一主面透過聚乙烯醇系接著劑貼合上述厚度30µm的丙烯酸薄膜。藉此製得偏光板P1。
＜抗靜電層AE1＞ 將含有PEDOT(聚(3,4-乙二氧基噻吩))與PSS(聚苯乙烯磺酸)之水分散液(Heraeus公司製，商品名「Clevious P」)以28%氨水(東京化成工業公司製)中和成固體成分率為1%之物質(以下記載為「PEDOT-PSS-NH4 」)，混合6.9份之PEDOT-PSS-NH4 與下述物質，藉此調製出固體成分濃度為0.30%的塗佈液：相對於100份之PEDOT-PSS-NH4 分別為233份及83份之作為黏結劑之聚胺甲酸酯樹脂(第一工業製藥公司製的SUPERFLEX 210，固體成分濃度35%)及含㗁唑啉基之聚合物(日本觸媒公司製EPOCROS WS700，固體成分濃度25%)、相對於100份之PEDOT-PSS-NH4 為17份之作為調平劑之聚醚改質矽氧烷(信越化學公司製的KF-6017)、及作為導電助劑之N-甲基吡咯啶酮2.8份、以及由水18.5份及異丙醇(IPA)71.1份所構成之混合溶劑。接著，將塗佈液塗佈於偏光板P1之單面。將製得之塗佈膜在80℃下乾燥1分鐘，藉此形成抗靜電層AE1。藉此製得由偏光板P1及抗靜電層AE1所構成之積層體。抗靜電層AE1之厚度為20nm。
＜抗靜電層AE2＞ 將PEDOT-PSS-NH4 、N-甲基吡咯啶酮、水及IPA之混合量分別變更成14.6份、2.5份、16.5份及63.5份，同時將含㗁唑啉基之聚合物的混合量變更成相對於PEDOT-PSS-NH4 為333份，調製出固體成分濃度1.00%的塗佈液，除此之外依與抗靜電層AE1相同方式形成抗靜電層AE2。藉此製得由偏光板P1及抗靜電層AE2所構成之積層體。抗靜電層AE2之厚度為70nm。
＜抗靜電層AE3＞ 將PEDOT-PSS-NH4 、N-甲基吡咯啶酮、水及IPA之混合量分別變更成35.1份、1.9份、12.5份及48.1份，同時將含㗁唑啉基之聚合物及聚醚改質矽氧烷的混合量分別變更成相對於PEDOT-PSS-NH4 為0份及8.3份，而調製出固體成分濃度1.20%的塗佈液，除此之外依與抗靜電層AE1相同方式形成抗靜電層AE3。藉此製得由偏光板P1及抗靜電層AE3所構成之積層體。抗靜電層AE3之厚度為80nm。
＜抗靜電層AE4＞ 將PEDOT-PSS-NH4 、N-甲基吡咯啶酮、水及IPA之混合量分別變更成23.4份、2.3份、57.8份及15.0份，同時將含㗁唑啉基之聚合物及聚醚改質矽氧烷的混合量分別變更成相對於PEDOT-PSS-NH4 為0份及8.3份，而調製出固體成分濃度0.80%的塗佈液，除此之外依與抗靜電層AE1相同方式形成抗靜電層AE4。藉此製得由偏光板P1及抗靜電層AE4所構成之積層體。抗靜電層AE4之厚度為50nm。
＜抗靜電層AE5＞ 使用Heraeus公司製，商品名「Clevious　PH1000」作為含PEDOT與PSS之水分散液，同時將由該水分散液製得之PEDOT-PSS-NH4 、以及N-甲基吡咯啶酮、水及IPA之混合量分別變更成43.9份、1.6份、40.9份及10.6份，同時將含㗁唑啉基之聚合物及聚醚改質矽氧烷之混合量分別變更成相對於PEDOT-PSS-NH4 為0份及8.3份，而調製出固體成分濃度1.50%的塗佈液，除此之外依與抗靜電層AE1相同方式形成AE5。藉此製得由偏光板P1及抗靜電層AE5所構成之積層體。抗靜電層AE5之厚度為100nm。
＜抗靜電層AE6＞ 不使用作為調平劑之聚醚改質矽氧烷，且將PEDOT-PSS-NH4 、N-甲基吡咯啶酮、水及IPA之混合量分別變更成24.0份、2.2份、14.9份及57.3份，同時將含㗁唑啉基之聚合物的混合量變更成相對於PEDOT-PSS-NH4 為0份，而調製出固體成分濃度0.80%的塗佈液，除此之外依與抗靜電層AE1相同方式形成抗靜電層AE6。藉此製得由偏光板P1及抗靜電層AE6所構成之積層體。抗靜電層AE6之厚度為50nm。
＜抗靜電層AE7＞ 不使用作為調平劑之聚醚改質矽氧烷及作為導電助劑之N-甲基吡咯啶酮，且將PEDOT-PSS-NH4 、水及IPA之混合量分別變更成6.0份、84.2份及9.4份，同時將含㗁唑啉基之聚合物的混合量變更成相對於PEDOT-PSS-NH4 為0份，而調製出固體成分濃度0.20%的塗佈液，除此之外依與抗靜電層AE1相同方式來形成抗靜電層AE7。藉此製得由偏光板P1及抗靜電層AE7所構成之積層體。抗靜電層AE7之厚度為10nm。
＜抗靜電層AE8＞ 不使用作為導電助劑的N-甲基吡咯啶酮，且將PEDOT-PSS-NH4 、水及IPA之混合量分別變更成23.4份、60.0份及15.0份，同時將含㗁唑啉基之聚合物的混合量變更成相對於PEDOT-PSS-NH4 為0份，而調製出固體成分濃度0.80%的塗佈液，除此之外依與抗靜電層AE1相同方式而形成抗靜電層AE8。藉此製得由偏光板P1及抗靜電層AE8所構成之積層體。抗靜電層AE8之厚度為50nm。
於以下之表1彙整使用於抗靜電層AE1~AE8之形成的塗佈液之構成。
[表1]
Figure 02_image003
(實施例1) 將附黏著劑層之抗反射層AR1接合至由偏光板P1及抗靜電層AE1所構成之積層體的偏光板P1側。接合係透過抗反射層AR1所具有之黏著劑層而進行。接著，將黏著劑層A轉印至抗靜電層AE1上，而製得實施例1的附黏著劑層之光學薄膜。
(實施例2) 除了使用由偏光板P1及抗靜電層AE2所構成之積層體外，以與實施例1相同方式製得實施例2的附黏著劑層之光學薄膜。
(實施例3) 除了使用由偏光板P1及抗靜電層AE3所構成之積層體外，以與實施例1相同方式製得實施例3的附黏著劑層之光學薄膜。
(實施例4) 除了使用由偏光板P1及抗靜電層AE4所構成之積層體外，以與實施例1相同方式製得實施例4的附黏著劑層之光學薄膜。
(實施例5) 在不使用附黏著劑層之抗反射層AR1下，將黏著劑層A轉印至由偏光板P1及抗靜電層AE4所構成之積層體的抗靜電層AE4上，而製得實施例5的附黏著劑層之光學薄膜。
(實施例6) 除了使用由偏光板P1及抗靜電層AE5所構成之積層體外，以與實施例1相同方式製得實施例6的附黏著劑層之光學薄膜。
(比較例1) 除了使用由偏光板P1及抗靜電層AE6所構成之積層體外，以與實施例1相同方式製得比較例1的附黏著劑層之光學薄膜。
(比較例2) 除了使用由偏光板P1及抗靜電層AE7所構成之積層體外，以與實施例1相同方式製得比較例2的附黏著劑層之光學薄膜。
(比較例3) 除了使用由偏光板P1及抗靜電層AE8所構成之積層體外，以與實施例1相同方式製得比較例3之附黏著劑層的光學薄膜。
(比較例4) 在不使用附黏著劑層之抗反射層AR1下，將黏著劑層A轉印至由偏光板P1及抗靜電層AE6所構成之積層體的抗靜電層AE6上，而製得比較例4的附黏著劑層之光學薄膜。
針對實施例及比較例進行以下評估。
＜抗靜電層之表面電阻率＞ 使用由偏光板及抗靜電層所構成之積層體，來測定抗靜電層之表面電阻率。測定係使用電阻率計(Mitsubishi Chemical Analytech 公司製之Hiresta-UP　MCP-HT450或Loresta-GP　MCP-T600)，並依循JIS K6911：1995中規定的方法進行。
＜差ΔT＞ 附黏著劑層之光學薄膜的差ΔT係利用上述方法評估。惟，各測定區域係設為以垂直於偏光板P1之表面來看為直徑16µm的圓。另，測定區域係設為在上述表面之面積100cm2 之範圍(垂直於該表面來看為10cm×10cm之長方形)中合計30處的隨機位置。相距最遠之測定區域間的距離為10cm。測定裝置係使用Lambda Vision公司製之LVmicroZ2。
＜視感反射率Y＞ 附黏著劑層之光學薄膜的視感反射率Y係以上述方法評估。惟，三刺激值之測定裝置是使用Konica Minolta公司製之分光測色計CM2600d。
＜液晶面板之視感反射率Y＞ 將附黏著劑層之光學薄膜貼合於液晶單元之視辨側的透明基板，而製作出液晶面板。所使用之液晶單元具有與圖5之液晶單元20相同的結構。又，作為參考例1、2，製作出於液晶單元的ITO層上分別貼合有比較例1、4的附黏著劑層之光學薄膜的液晶面板，其中該ITO層為形成在視辨側之透明基板上之非晶性ITO層(厚度20nm)。參考例1、2中，附黏著劑層之光學薄膜的黏著劑層與ITO層直接相接。製作ITO層時利用濺鍍。ITO層中所含ITO之Sn比率為3%。針對所製得之各液晶面板，以上述方法評估其視感反射率Y。惟，三刺激值之測定裝置是使用Konica Minolta公司製之分光測色計CM2600d。另外，測定係以下述狀態實施：在由偏光板P1及抗靜電層AE4所構成之積層體(不具有抗反射層)的抗靜電層AE4上轉印有黏著劑層A而製出之偏光板，係貼合於與液晶單元之視辨側相異側的透明基板上，且其係相對於已貼合在視辨側之偏光板的吸收軸呈正交偏光之關係。
＜液晶面板之顯示面的不均＞ 以肉眼觀察上述製作而成之各液晶面板的顯示面，並將未視辨到不均的情況評為A；雖僅視辨到些微不均，但實際使用上不構成問題時評為B；而在實際使用上造成問題時評為C。
將評價結果顯示於以下之表2。
[表2]
Figure 02_image005
如表2所示，透光率之最大值Tmax 與最小值Tmin 之差ΔT為2%以下之實施例，與差ΔT大於2%之比較例相較，其顯示面的不均受到抑制。又，其效果在因具備抗反射層而附黏著劑層偏光板之視感反射率Y較低時較為顯著。此外，如參考例1、2所示，液晶面板具有ITO層，藉此當液晶面板之視感反射率Y高時，未觀察到顯示面之不均。
產業上之可利用性 本發明的附黏著劑層之光學薄膜可適用於在容易發生靜電之環境、尤其是如車輛內部般有其他電子機器存在於周圍之環境中所使用之液晶面板及液晶顯示裝置。
1:光學薄膜 2:抗靜電層 3:黏著劑層 4:偏光板 5:抗反射層 6:透明基板 7:黏著劑層 10:附黏著劑層之光學薄膜 20:液晶單元 21:液晶層 22:第1透明基板 23:第2透明基板 30:觸控面板 100,110:液晶面板
圖1係示意性顯示本發明之附黏著劑層之光學薄膜一例的截面圖。 圖2係示意性顯示本發明之附黏著劑層之光學薄膜之另一例的截面圖。 圖3係示意性顯示本發明之附黏著劑層之光學薄膜之又一例的截面圖。 圖4係示意性顯示本發明之附黏著劑層之光學薄膜之又另一例的截面圖。 圖5係示意性顯示本發明之液晶面板一例的截面圖。 圖6係示意性顯示本發明之液晶面板之另一例的截面圖。
1:光學薄膜
2:抗靜電層
3:黏著劑層
10:附黏著劑層之光學薄膜

Claims (9)

  1. 一種附黏著劑層之光學薄膜，具備光學薄膜與黏著劑層；前述附黏著劑層之光學薄膜更具備抗靜電層，該抗靜電層含有導電性聚合物、調平劑及導電助劑，該導電助劑係分子量500以下之低分子化合物且係具有極性基之有機化合物；且前述附黏著劑層之光學薄膜中因測定區域所致之透光率差異，以前述透光率之最大值與最小值之差來表示為2%以下；並且前述測定區域係對前述附黏著劑層之光學薄膜的表面設定至少30處，各前述測定區域係設為：以垂直於前述附黏著劑層之光學薄膜的前述表面來看為直徑10~30μm的圓，並且，各前述測定區域間的間隔係確保為至少5mm。
  2. 如請求項1之附黏著劑層之光學薄膜，其係依序積層有前述光學薄膜、前述抗靜電層及前述黏著劑層。
  3. 如請求項1之附黏著劑層之光學薄膜，其中前述光學薄膜包含偏光板。
  4. 如請求項1之附黏著劑層之光學薄膜，其中前述光學薄膜包含抗反射層。
  5. 如請求項1之附黏著劑層之光學薄膜，其中前述光學薄膜之視感反射率Y為5.0%以下。
  6. 如請求項1之附黏著劑層之光學薄膜，其中前述抗靜電層之表面電阻率為1.0×102Ω/□~1.0×1012Ω/□。
  7. 如請求項1之附黏著劑層之光學薄膜，其中前述抗靜電層中前述調平劑的含有率相對於前述導電性聚合物100重量份為1.0~300重量份。
  8. 一種液晶面板，具備如請求項1至7中任一項之附黏著劑層之光學薄膜與液晶單元， 該液晶單元具備一對透明基板及配置在前述一對透明基板之間的液晶層；且於前述附黏著劑層之光學薄膜與前述液晶單元之間未設置導電層。
  9. 如請求項8之液晶面板，其中前述液晶面板之視感反射率Y為8.0%以下。
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