TWI793125B - 光學薄膜之製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種光學薄膜之製造方法，該光學薄膜係包含至少貼合有第一薄膜及第二薄膜的層疊結構者，該光學薄膜之製造方法具有塗布步驟，係採用使用了凹版輥的凹版輥塗布方式，在第一薄膜及第二薄膜這兩者的貼合面上塗布塗布液；並且，在塗布步驟中，將形成在第一薄膜及第二薄膜與凹版輥之間的塗布液積液的薄膜行進方向寬度即液珠寬度均設定為4～20mm。

Description

光學薄膜之製造方法
發明領域 本發明涉及一種光學薄膜之製造方法，該光學薄膜包含層疊結構，該層疊結構係透過由接著劑組成物或黏著劑組成物之固化物層構成的接著劑層或黏著劑層而至少貼合有第一薄膜及第二薄膜者。
發明背景 液晶顯示裝置在鐘錶、行動電話、PDA、筆記型電腦、個人電腦用監視器、DVD播放機、TV等中急劇擴展市場。液晶顯示裝置是使液晶轉換所致之偏光狀態視覺化的裝置，根據其顯示原理而使用偏光件。尤其在TV等用途中，越來越要求高亮度、高對比度、廣視角，在偏光薄膜中也越來越要求高透射率、高偏光度、高色彩再現性等。
作為偏光件，從具有高透射率、高偏光度的方面出發，通常最廣泛使用的是例如使碘吸附於聚乙烯醇(以下也簡稱為”PVA”)並進行拉伸之結構的碘系偏光件。一般而言，偏光薄膜以往使用的是通過使聚乙烯醇系材料溶解於水之所謂水系接著劑而在偏光件兩面貼合透明保護薄膜而成的偏光薄膜。然而，近年來，從具有能夠省略乾燥步驟、尺寸變化小等優點的方面出發，使用不含水、有機溶劑的活性能量射線固化型樹脂組成物正逐漸成為主流。
在使用活性能量射線固化型樹脂組成物貼合多個薄膜來製造光學薄膜的情況下，一般採用的是例如：僅在透明保護薄膜的貼合面塗布接著劑組成物，從該貼合面側貼合偏光件等而製造包含層疊結構的光學薄膜。然而，以往的製造方法中，在塗布接著劑組成物等之前的偏光件・透明保護薄膜等的表面附著有污垢及塵埃等異物、或者在接著劑組成物包含微小異物的情況下，會在接著劑層殘留異物，其結果是，有時產生外觀缺陷。
在下述專利文獻1中記載了一種光學薄膜之製造方法，其包括一在透明支承體上或形成於該透明支承體上之底塗層上薄層塗布濕式塗布量為10mL/m2 以下之光學功能層的步驟，其中，在塗布光學功能層之前，具備一從透明支承體上或底塗層上除去高度為10μm以上之異物的步驟。 現有技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2008－180905號公報
發明概要 發明欲解決之課題 然而，本發明人進行了研究的結果為：在上述專利文獻1記載的技術中，嘗試在已經在透明支承體上等存在異物的狀態下，利用壓延處理等壓碎異物而將其除去，因此異物的除去精度不高，在除去步驟後仍殘留微小的異物。因此實際情況是上述專利文獻1記載的技術難以應用在尤其是厚度薄、即便是存在微小異物之情況也會成為外觀缺陷問題的薄型光學薄膜之製造方法中。
本發明是考慮上述實際情況的結果而完成的發明，其目的在於提供一種即使光學薄膜為薄型仍會防止由異物引起之外觀缺陷發生的光學薄膜之製造方法。
用以解決課題之手段 本發明人為了解決上述課題而反復進行了深入研究，結果發現：在製造包含至少貼合有2片薄膜之層疊結構的光學薄膜時，採用特定的塗布方式，在所要貼合的2片薄膜這兩者的貼合面上塗布塗布液，由此能夠一次性地實施異物的除去和接著劑組成物或黏著劑組成物的塗布。本發明是致力於該深入研究的結果得到的發明，具備下述構成。
即，本發明涉及一種光學薄膜之製造方法，該光學薄膜係包含至少貼合有第一薄膜及第二薄膜的層疊結構者，前述光學薄膜之製造方法的特徵在於：該製造方法具有塗布步驟，係採用使用了凹版輥的凹版輥塗布方式，在上述第一薄膜及上述第二薄膜兩者的貼合面上塗布塗布液；並且，在上述塗布步驟中，將形成在上述第一薄膜及上述第二薄膜與上述凹版輥之間的塗布液積液的薄膜行進方向寬度即液珠寬度均設定為4～20mm。
在上述製造方法中，優選的是：上述塗布液為選自於由接著劑組成物、黏著劑組成物及黏度為0.5～10000cP的液狀物所構成群組中之至少1種塗布液，且上述光學薄膜包含層疊結構，該層疊結構為透過由上述接著劑組成物或上述黏著劑組成物之固化物層構成的接著劑層或黏著劑層而至少貼合有第一薄膜及第二薄膜者。
在上述製造方法中，優選的是上述塗布步驟具備下述步驟：第一塗布步驟，將上述接著劑組成物或上述黏著劑組成物塗布於上述第一薄膜的貼合面；及第二塗布步驟，將上述接著劑組成物或上述黏著劑組成物、或者黏度為0.5～10000cP的液狀物塗布於上述第二薄膜的貼合面。
在上述製造方法中，優選的是：上述凹版輥的旋轉方向與上述第一薄膜及上述第二薄膜的行進方向為相反方向。
在上述製造方法中，優選的是：上述凹版輥的直徑為80φ～140φ。
在上述製造方法中，優選的是：在上述凹版輥表面形成的圖案為蜂窩網圖案。
在上述製造方法中，優選的是：上述凹版輥的旋轉速度相對於上述第一薄膜及上述第二薄膜的行進速度之比為100～300%。
在上述製造方法中，優選的是：上述凹版輥塗布方式為使上述塗布液循環進行塗布的方式，且具備將因塗布而從上述第一薄膜及/或上述第二薄膜混入到上述塗布液之異物從上述塗布液中去除的異物除去功能。
在上述製造方法中，可以使上述第一薄膜為透明保護薄膜、且上述第二薄膜為偏光件，也可以使上述第二薄膜為透明保護薄膜、且上述第一薄膜為偏光件。
在上述製造方法中，優選的是：上述偏光件的厚度為10μm以下。
發明效果 在製造將2片薄膜貼合而具有層疊結構之光學薄膜的情況下，一般是在2片薄膜中的一片薄膜上塗布接著劑組成物或黏著劑組成物、並在其上貼合另一片薄膜來製造(以下也稱為”單面塗布方法”)。然而，在本發明中，是在第一薄膜的貼合面及第二薄膜的貼合面這兩者上塗布塗布液，並採用使用了凹版輥的凹版輥塗布方式，邊除去異物邊實施該塗布。具體而言，係採用凹版輥塗布方式，邊刮取在所要貼合的2片薄膜這兩者的貼合面上存在的污垢、塵埃等異物，並且還從2片薄膜這兩者的貼合面刮取來自接著劑組成物或黏著劑組成物的凝膠狀物或凝聚物，邊在2片薄膜這兩者的貼合面上塗布上述塗布液。其結果為：在本發明的光學薄膜之製造方法中，在2片薄膜這兩者的貼合面上存在異物的可能性變得極低。其結果為：在本發明的光學薄膜之製造方法中，能夠製造防止了因異物引起之外觀缺陷發生的光學薄膜。
另一方面，在單面塗布方法中，不能除去在未塗布接著劑組成物或黏著劑組成物之薄膜的貼合面上存在的異物，因此，在層疊後所形成的接著劑層(或黏著劑層)中殘留異物的可能性變高。
再者，在本發明中，”凹版輥塗布方式”是指：凹版輥從加入了塗布液的容器帶起塗布液，在凹版輥與塗布對象的薄膜之間形成塗布液的積液，並且以規定厚度塗布塗布液的方式。將塗布液之該積液部分在薄膜行進方向上的寬度稱作液珠寬度，於液珠寬度的內側部分，在薄膜與該積液部分之間產生摩擦力，因此產生上述之薄膜貼合面處之異物的除去效果。在本發明中，尤其是通過將液珠寬度設定為4～20mm，從而能夠進一步提高薄膜貼合面處之異物的除去效果，並且能夠實施穩定的生產。
在本發明的光學薄膜之製造方法中，能夠效率良好地除去在所要貼合之2片薄膜這兩者的貼合面上存在的異物、及在接著劑組成物中或黏著劑組成物中存在的異物，因此，能夠製造防止了因異物引起之外觀缺陷發生的光學薄膜。因此，本發明的光學薄膜之製造方法作為由異物引起之外觀缺陷尤其構成問題的接著劑層厚度薄的光學薄膜、以及總厚度薄的光學薄膜、尤其是薄型偏光薄膜之製造方法特別有效。
用以實施發明之形態 以下，參照附圖對本發明的光學薄膜之製造方法進行說明。
本發明的光學薄膜之製造方法具有塗布步驟，所述塗布步驟採用凹版輥塗布方式，而在第一薄膜及第二薄膜這兩者的貼合面塗布選自於由接著劑組成物、黏著劑組成物及黏度為0.5～10000cP的液狀物所構成群組中之至少1種塗布液。
作為塗布液的液狀物使用黏度為0.5～10000cP的液狀物。尤其是作為液狀物，優選使用含有水作為主成分、具體而言至少含有50重量%以上的水的液狀物，更優選使用含有60重量%以上的水的液狀物，進一步優選使用含有70重量%以上的水的液狀物。此外，為了提高在膜上的液狀物本身的潤濕性(調平性)及液狀物的蒸發速度，優選在液狀物中還含有醇，液狀物更優選含有50～100重量%的水和0～50重量%的醇，特別優選含有50～70重量%的水和30～50重量%的醇。另外，後文將對作為塗布液的接著劑組成物及黏著劑組成物進行敘述。
圖1示出本發明的光學薄膜之製造方法的示意圖一例，在本實施方式中示出如下的例子：採用使用了凹版輥的凹版輥塗布方式，且作為塗布於第一薄膜及第二薄膜這兩者的貼合面的塗布液，均使用了接著劑組成物。圖1中，在採用凹版輥塗布方式10而塗布接著劑組成物3的時刻，在圖1中朝向右方向運送第一薄膜1，另一方面，凹版輥塗布方式10所具備的凹版輥順時針地旋轉。即，凹版輥的旋轉方向與第一薄膜的行進方向為相反方向。同樣，在第二薄膜2與凹版輥的關係中，凹版輥的旋轉方向與第二薄膜2的行進方向也為相反方向。此時，刮取在第一薄膜1的貼合面及第二薄膜2的貼合面上存在的污垢、塵埃等異物、以及來自接著劑組成物的凝膠狀物或凝聚物之效果有效地提高，能夠更有效地防止最終所得的光學薄膜的外觀缺陷。
在本實施方式中，示出如下的例子：塗布步驟具備將接著劑組成物塗布於第一薄膜的貼合面的第一塗布步驟、及同樣將接著劑組成物塗布於第二薄膜的貼合面的第二塗布步驟，但是本發明並不限定於本實施方式，作為塗布於第一薄膜及第二薄膜這兩者的貼合面的塗布液，能夠從選自於由接著劑組成物、黏著劑組成物及黏度為0.5～10000cP的液狀物所構成群組中之至少1種塗布液進行任意選擇。例如能夠例示以下的形態。
有一形態是塗布步驟具備將接著劑組成物塗布於第一薄膜的貼合面的第一塗布步驟、及將黏度為0.5～10000cP的液狀物塗布於第二薄膜的貼合面的第二塗布步驟。另外，在該形態中，可以根據需要在第二塗布步驟後進一步具備在第二薄膜的貼合面塗布接著劑組成物的第三塗布步驟。
有一形態是塗布步驟具備將黏度為0.5～10000cP的液狀物塗布於第一薄膜的貼合面的第一塗布步驟、及同樣地將黏度為0.5～10000cP的液狀物塗布於第二薄膜的貼合面的第二塗布步驟。另外，在該圖案中，在第一塗布步驟及/或第二塗布步驟之後，還具備在第一薄膜及/或第二薄膜的貼合面塗布接著劑組成物的第三塗布步驟及/或第四塗布步驟。
為了更有效地防止最終所得的光學薄膜的外觀缺陷，相對於第一薄膜1及第二薄膜2的行進速度，凹版輥的旋轉速度優選為100～300%，更優選為150～250%。
圖2示出本發明中使用之凹版輥塗布方式的示意圖一例，特別顯示出採用凹版塗布方式10而在第一薄膜1上塗布接著劑組成物3的情況。如圖2所示，若對第一薄膜1邊押抵凹版輥4邊除去異物，則能夠更有效地除去在第一薄膜1的貼合面上存在的污垢、塵埃等異物以及來自接著劑組成物的凝膠狀物或凝聚物。
如圖2所示，凹版輥塗布方式10至少具備凹版輥4。在凹版輥的表面形成有蜂窩網圖案、梯形圖案、格子圖案、稜錐圖案或斜線圖案等凹凸圖案。為了提高塗布接著劑組成物或黏著劑組成物後的塗布面的面精度，優選形成蜂窩網圖案，網眼(cell)容積優選為1～5cm3 /m2 ，更優選為2～3cm3 /m2 。同樣地，為了提高塗布接著劑組成物或黏著劑組成物後的塗布面的面精度，每1英寸輥上的網眼線數優選為200～2000線/英寸。凹版輥4的凹凸圖案具有邊帶起接著劑組成物(塗布液)3邊在第一薄膜的貼合面塗布接著劑組成物3的功能。
在本發明的塗布步驟中，將形成在第一薄膜與凹版輥之間的塗布液積液的薄膜行進方向寬度即液珠寬度、以及形成在第二薄膜與凹版輥之間的塗布液積液的薄膜行進方向寬度即液珠寬度均設定為4～20mm。由此，能夠進一步提高薄膜貼合面處之異物的除去效果，並且能夠實施穩定的生產。圖3中示出形成在第一薄膜1與凹版輥4之間的塗布液(接著劑組成物)3的積液的示意圖。圖3中，d表示形成在第一薄膜1與凹版輥4之間的塗布液積液的薄膜行進方向寬度即液珠寬度。在本發明中，在將塗布步驟中的液珠寬度設為5mm以上的情況下，進一步提高了薄膜貼合面處之異物的除去效果，故優選。另外，即使該液珠寬度擴大而超過20mm，薄膜貼合面處之異物的除去效果也幾乎不發生變化，另一方面，隨著液珠寬度擴大，塗布液的塗敷性顯著降低，無法均勻地塗布塗布液，由此引起薄膜的塗布表面變粗糙，產生外觀不良。在本發明中，作為該液珠寬度的調整方法，可通過調整凹版輥相對於薄膜的位置而適當地進行。具體而言，例如在使凹版輥向壓入薄膜的方向移動的情況下，能夠使液珠寬度擴大，相反，在使薄膜和凹版輥遠離的情況下，能夠使液珠寬度變窄。
在塗布步驟中，為了將形成在第一薄膜及第二薄膜與凹版輥之間的塗布液積液的薄膜行進方向寬度即液珠寬度設定為4～20mm，優選將凹版輥的直徑設為80φ～140φ。
在本發明中，為了防止在接著劑組成物3中混入異物，而優選為不將接著劑塗布液曝露於外界氣體的密閉體系。在圖2所示的例子中，在塗布時，有時在第一薄膜1的貼合面上存在的異物、以及來自接著劑組成物3的凝膠狀物或凝聚物被凹版輥4刮取，它們會轉移到放入了接著劑組成物3的容器5內，並再次利用凹版輥4塗布於第一薄膜的貼合面。因此，尤其是在凹版輥塗布方式為使接著劑組成物或黏著劑組成物循環塗布的方式的情況下，令人擔心的是：隨著接著劑組成物3的塗布步驟的時間變長，被凹版輥4所刮取的異物等的蓄積量增大。然而，在凹版塗布方式10具備將因塗布而由第一薄膜及/或第二薄膜混入接著劑組成物或黏著劑組成物的異物從接著劑組成物或黏著劑組成物中去除的異物除去功能的情況下，在所塗布的接著劑組成物3中存在的異物等的量長期被保持為極微量甚至是零。因此，最終能夠使第一薄膜1的貼合面上之異物等的產生量極度降低。在本發明中，作為異物除去功能，可列舉過濾器、蒸餾裝置、離心分離等。在使用過濾器作為異物除去功能的情況下，如圖2所示，例如可將過濾器7配置在泵功能8的下游側。另外，也能夠在泵功能8的上游側配置過濾器7，其數量並無限制。過濾器7的網尺寸能夠根據第一薄膜1及第二薄膜的材質、接著劑組成物3的摻混設計等進行適當變更，但是優選為10μm以下，更優選為5μm以下。接著劑組成物3可以如圖2所示那樣使用罐6等而進行循環，也可以將利用凹版輥4塗布後的接著劑組成物3廢棄。
利用圖1所示的凹版輥塗布方式，在第一薄膜1的貼合面及第二薄膜2的貼合面這兩者上塗布接著劑組成物3後，使用例如夾持輥9而透過接著劑組成物(接著劑層)將第一薄膜1和第二薄膜2貼合。
在以連續生產線製造光學薄膜的情況下，第一薄膜及/或第二薄膜的生產線速度取決於接著劑組成物(或黏著劑組成物)的固化時間，但優選為1～500m/min，更優選為5～300m/min，進一步優選為10～100m/min。在生產線速度過小的情況下，生產率欠缺，或者對第一薄膜及/或第二薄膜的損害過大，無法製作能夠耐受耐久性試驗等的光學薄膜。在生產線速度過大的情況下，接著劑組成物的固化變得不充分，有時無法得到目標接著性。
接著，對利用本發明製造方法製造的光學薄膜進行如下說明。該光學薄膜包含透過由接著劑組成物或黏著劑組成物之固化物層構成的接著劑層或黏著劑層而至少貼合有第一薄膜及第二薄膜的層疊結構。
＜接著劑層或黏著劑層＞ 上述接著劑層或黏著劑層只要在光學上呈透明，則並無特別限制，使用水系、溶劑系、熱熔系、自由基固化型的各種形態的接著劑層或黏著劑層。在製造透明導電性層疊體或偏光薄膜作為光學薄膜的情況下，能夠適合使用透明固化型接著劑層。
＜透明固化型接著劑層＞ 在形成透明固化型接著劑層時，適合使用例如自由基固化型接著劑作為接著劑組成物。作為自由基固化型接著劑，可例示電子射線固化型、紫外線固化型等活性能量射線固化型的接著劑。尤其是，優選能夠在短時間內固化的活性能量射線固化型，進一步優選能夠以低能量進行固化的紫外線固化型接著劑。
作為紫外線固化型接著劑，大致分為自由基聚合固化型接著劑和陽離子聚合型接著劑。此外，自由基聚合固化型接著劑可以作為熱固化型接著劑使用。
作為自由基聚合固化型接著劑的固化性成分，可列舉：具有(甲基)丙烯醯基的化合物、具有乙烯基的化合物。這些固化性成分可以使用單官能或二官能以上的任意成分。另外，這些固化性成分可以單獨使用1種或組合使用2種以上。作為這些固化性成分，適合為例如具有(甲基)丙烯醯基的化合物。
作為具有(甲基)丙烯醯基的化合物，具體而言，可列舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2－甲基－2－硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸三級戊酯、(甲基)丙烯酸3－戊酯、(甲基)丙烯酸2,2－二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2－乙基己酯、(甲基)丙烯酸4－甲基－2－丙基戊酯、(甲基)丙烯酸正十八烷酯等(甲基)丙烯酸(碳數1－20)烷基酯類。
另外，作為具有(甲基)丙烯醯基的化合物，可列舉例如(甲基)丙烯酸環烷酯(例如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷酯(例如(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸2－異莰酯、(甲基)丙烯酸2－降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸5－降莰烯－2－基－甲酯、(甲基)丙烯酸酯3－甲基－2－降莰基甲酯等)、含羥基的(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2－羥基丙酯、(甲基)甲基丙烯酸2,3－二羥基丙基甲基丁酯等)、含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸2－甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2－乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2－甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3－甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等)、含環氧基的(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸環氧丙酯等)、含鹵素的(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸2,2,2－三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2－三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷酯(例如(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯等)等。
另外，作為除上述以外的具有(甲基)丙烯醯基的化合物，可列舉羥乙基丙烯醯胺、N－羥甲基丙烯醯胺、N－甲氧基甲基丙烯醯胺、N－乙氧基甲基丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯胺等含醯胺基的單體等。另外，還可列舉丙烯醯基嗎啉等含氮的單體等。
另外，作為上述自由基聚合固化型接著劑的固化性成分，可例示具有多個(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性雙鍵的化合物，該化合物也可以作為交聯成分而混合到接著劑成分中。作為成為該交聯成分的固化性成分，可列舉例如三丙二醇二丙烯酸酯、1,9－壬二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、環狀三羥甲基丙烷縮甲醛丙烯酸酯、二
Figure 107116436-A0304-12-0015-1
烷二醇二丙烯酸酯、EO改質二甘油四丙烯酸酯、ARONIX M－220(東亞合成公司製)、LIGHT ACRYLATE 1,9ND－A(共榮社化學公司製)、LIGHT ACRYLATE DGE－4A(共榮社化學公司製)、LIGHT ACRYLATE DCP－A(共榮社化學公司製)、SR－531(Sartomer公司製)、CD－536(Sartomer公司製)等。另外，可根據需要列舉各種的環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、各種的(甲基)丙烯酸酯系單體等。
自由基聚合固化型接著劑包含上述固化性成分，但是，除上述成分之外，還會根據固化類型而添加自由基聚合引發劑。當以電子射線固化型使用上述接著劑的情況下，無需特別地使上述接著劑中含有自由基聚合引發劑，但是，當以紫外線固化型、熱固化型使用上述接著劑的情況下，會使用自由基聚合引發劑。相對於固化性成分每100重量份，自由基聚合引發劑的使用量通常為0.1～10重量份左右，優選為0.5～3重量份。另外，也可以在自由基聚合固化型接著劑中，根據需要添加以羰基化合物等為代表之提高電子射線所致固化速度和靈敏度的光敏劑。相對於固化性成分每100重量份，光敏劑的使用量通常為0.001～10重量份左右，優選為0.01～3重量份。
作為陽離子聚合固化型接著劑的固化性成分，可列舉具有環氧基、氧雜環丁烷基的化合物。具有環氧基的化合物只要是在分子內具有至少2個環氧基的化合物，則並無特別限定，可以使用一般已知的各種固化性環氧化合物。作為優選的環氧化合物，可列舉在分子內具有至少2個環氧基和至少1個芳香環的化合物、在分子內具有至少2個環氧基且其中至少1個環氧基形成在構成脂環式環的相鄰2個碳原子之間的化合物等作為例子。
另外，在形成透明固化型接著劑層時，作為水系固化型接著劑，可例示例如乙烯基聚合物系、明膠系、乙烯基系乳膠系、聚胺甲酸酯系、異氰酸酯系、聚酯系、環氧系等。由此種水系接著劑構成的接著劑層可以以水溶液的塗布乾燥層等的形式形成，在其水溶液的製備時，也可以根據需要摻混交聯劑、其他添加劑、酸等催化劑。
作為上述水系接著劑，優選使用含有乙烯基聚合物的接著劑等，作為乙烯基聚合物，優選聚乙烯醇系樹脂。另外，作為聚乙烯醇系樹脂，從提高耐久性的方面出發，更優選包含具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂的接著劑。另外，作為能夠摻混於聚乙烯醇系樹脂的交聯劑，可優選使用具有至少2個與聚乙烯醇系樹脂具有反應性之官能團的化合物。可列舉例如：硼酸、硼砂、羧酸化合物、烷基二胺類；異氰酸酯類；環氧類；單醛類；二醛類；胺基－甲醛樹脂；以及二價金屬或三價金屬的鹽及其氧化物。
如果需要的話，形成上述固化型接著劑層的接著劑也可以為適當包含添加劑的接著劑。作為添加劑的例子，可列舉：矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑；以環氧乙烷為代表的接著促進劑；提高與透明薄膜之潤濕性的添加劑；以丙烯醯氧基化合物或烴系(天然、合成樹脂)等為代表且提高機械強度、加工性等的添加劑；紫外線吸收劑；抗老化劑；染料；加工助劑；離子捕獲劑；抗氧化劑；賦黏劑；填充劑(除金屬化合物填料以外)；塑化劑；調平劑；發泡抑制劑；抗靜電劑；耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等。
另外，上述透明固化型接著劑層的厚度優選為0.01～10μm。更優選為0.1～5μm，進一步優選為0.3～4μm。再者，來自異物之外觀缺陷的各膜層間的高度一般為(2～5μm左右的)數μm，因此若接著劑層的厚度為2μm以下，則外觀缺陷的問題變大。然而，就本發明的光學薄膜之製造方法而言，由於能夠防止外觀缺陷的發生，因此作為接著劑層厚度為2μm以下的光學薄膜之製造方法特別有用。
上述黏著劑層由黏著劑形成。作為黏著劑，可以使用各種黏著劑，可列舉例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。根據上述黏著劑的種類來選擇黏著性的基底聚合物。在上述黏著劑中，從使光學透明性優異、顯示適宜的潤濕性、凝聚性和接著性的黏著特性而使耐候性、耐熱性等優異的方面出發，優選使用丙烯酸系黏著劑。
自由基聚合固化型接著劑能夠以電子射線固化型、紫外線固化型的形態使用。
在電子射線固化型中，電子射線的照射條件只要是可以將上述自由基聚合固化型接著劑組成物固化的條件，則可以採用任意適當的條件。例如，電子射線照射的加速電壓優選為5kV～300kV，進一步優選為10kV～250kV。在加速電壓不足5kV的情況下，存在電子射線未到達至接著劑而使固化不足的風險，若加速電壓超過300kV，則存在穿過試樣的滲透力過強而對透明保護薄膜、偏光件造成損害的風險。作為照射射線量，為5～100kGy，進一步優選為10～75kGy。在照射射線量不足5kGy的情況下，接著劑固化不足，若照射射線量超過100kGy，則對透明保護薄膜、偏光件造成損害，發生機械強度的降低、黃變，無法得到規定的光學特性。
電子射線照射通常在惰性氣體中進行照射，如果需要的話，也可以在大氣中或少量引入氧氣的條件下進行。雖然取決於透明保護薄膜的材料，但是，通過適當引入氧氣，從而使最初電子射線所到達的透明保護薄膜面反而產生氧阻礙，可以防止對透明保護薄膜的損害，可以僅對接著劑有效地照射電子射線。
另一方面，在紫外線固化型中，在使用賦予了紫外線吸收能力的透明保護薄膜的情況下，由於吸收比大約380nm短波長的光，因此比380nm短波長的光未到達活性能量射線固化型接著劑組成物，因此不參與該聚合反應。此外，被透明保護薄膜吸收的比380nm短波長的光轉換為熱，透明保護薄膜本身發熱，成為偏光薄膜的捲曲・褶皺等不良的原因。因此，當在本發明中採用紫外線固化型的情況下，作為紫外線發生裝置，優選使用不發出比380nm短波長的光的裝置，更具體而言，波長範圍380～440nm的累積照度與波長範圍250～370nm的累積照度之比優選為100：0～100：50，更優選為100：0～100：40。作為滿足此種累積照度的關係的紫外線，優選封入鎵的金屬鹵化物燈、發出波長範圍380～440nm的光的LED光源。或者，也可以以低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、白熾燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵化物燈、螢光燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射器或太陽光為光源，使用帶通濾波器阻隔比380nm短波長的光來使用。
第一薄膜及/或第二薄膜只要是透明的光學用薄膜，則能夠無特別限制地使用。如上述所示，接著劑層(或黏著劑層)的厚度越厚、進而光學薄膜的總厚度越厚，則越難視覺辨認異物，存在難以使外觀缺陷問題化的傾向。另一方面，接著劑層(或黏著劑層)的厚度越薄、進而光學薄膜的總厚度越薄，越容易視覺辨認異物，其結果是，外觀缺陷構成問題的情況較多。然而，就本發明的光學薄膜之製造方法而言，由於能夠製造接著劑層(或黏著劑層)中之異物發生率極低的光學薄膜，因此，即使在光學薄膜中，薄型化要求特別大的偏光薄膜之製造方法，具體而言在上述第一薄膜為透明保護薄膜且上述第二薄膜為偏光件的情況下、或者在上述第二薄膜為透明保護薄膜且上述第一薄膜為偏光件的情況下，本發明的製造方法特別有用。就本發明的製造方法而言，如上述偏光件的厚度為10μm以下的情況那樣，特別是即使在製造薄型偏光薄膜的情況下，也能製造防止接著劑層(或黏著劑層)中發生由異物引起之外觀缺陷的薄型偏光薄膜，故優選。
第一薄膜及/或第二薄膜可以在塗布上述活性能量射線固化型接著劑組成物之前進行表面改質處理。作為具體的處理，可列舉電暈處理、電漿處理、利用皂化處理進行的處理等。
另外，在本發明的光學薄膜之製造方法中，適合透過利用上述自由基聚合固化型接著劑組成物之固化物層所形成的接著劑層將第一薄膜和第二薄膜貼合，可以在第一薄膜與第二薄膜之間設置易接著層。易接著層例如可以利用具有聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等的各種樹脂來形成。這些聚合物樹脂可以單獨使用1種或組合使用2種以上。另外，也可以在形成易接著層時添加其他的添加劑。具體而言，可以進一步使用賦黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等的穩定劑等。
易接著層的形成通過在膜上利用公知的技術塗布易接著層的形成材料並使之乾燥來進行。通常考慮乾燥後的厚度、塗布的圓滑性等而將易接著層的形成材料調整為稀釋成適當濃度的溶液。易接著層的乾燥後的厚度優選為0.01～5μm，更優選為0.02～2μm，進一步優選為0.05～1μm。另外，易接著層可以設置多層，但是，在該情況下，也優選使易接著層的總厚度為上述範圍。
以下，作為光學薄膜，列舉偏光薄膜為例進行說明。包含至少貼合有第一薄膜及第二薄膜的層疊結構的偏光薄膜例如可以通過如下方式來製造：圖1中，將屬透明保護薄膜的第一薄膜1、和在透明保護薄膜或PET基材等上根據需要隔著接著劑層而層疊有偏光件的層疊第二薄膜2，透過由接著劑組成物之固化物層構成的接著劑層進行貼合。在本實施方式中，示出以層疊第二薄膜2的偏光件面作為貼合面、並且在該貼合面塗布接著劑組成物的例子。
在本發明的製造方法中，能夠製造有效地防止了接著劑層中之異物產生的光學薄膜，因此，適於製造由異物引起之外觀缺陷會成為大問題的、尤其是厚度薄的光學薄膜。因此，第一薄膜及第二薄膜(在本實施方式中，第一薄膜為保護薄膜，第二薄膜為PET基材+偏光件的層疊薄膜)的厚度優選為60μm以下，更優選為40μm以下。另外，若偏光薄膜的總厚度為100μm以下，則由於厚度薄，因此由接著劑層之異物等引起的外觀缺陷成為問題的情況較多。然而，在本發明的製造方法中，由於能夠製造有效地防止了接著劑層中之異物產生的光學薄膜，因此，適於製造總厚度為100μm以下的薄型偏光薄膜的情況、尤其是製造總厚度為50μm以下的薄型偏光薄膜的情況。在本發明中，即使在製造薄型偏光薄膜的情況、尤其是製造包含厚度為10μm以下之薄型偏光件的薄型偏光薄膜的情況下，也能有效地防止外觀缺陷的發生。
偏光件並無特別限制，可以使用各種偏光件。作為偏光件，可列舉例如：使碘或二色性染料等二色性材料吸附於聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜並進行單軸拉伸而成的偏光件；聚乙烯醇的脫水處理物、聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。其中，又以由聚乙烯醇系薄膜和碘等二色性物質構成的偏光件較為適合。這些偏光件的厚度並無特別限制，但一般為80μm左右以下。
將聚乙烯醇系薄膜用碘染色並進行單軸拉伸而成的偏光件例如可以通過將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液而進行染色、並拉伸至原長的3～7倍來製作。也可以根據需要將其浸漬於硼酸、碘化鉀等的水溶液中。可以進一步根據需要在染色之前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。除能夠通過對聚乙烯醇系薄膜進行水洗而清洗聚乙烯醇系薄膜表面的汙物或防黏結劑外，還具有通過使聚乙烯醇系薄膜溶脹而防止染色不均等不均勻的效果。拉伸可以在利用碘染色後進行，也可以邊染色邊拉伸，另外，還可以在拉伸後用碘進行染色。即使在硼酸或碘化鉀等的水溶液中或水浴中也能進行拉伸。
另外，作為偏光件，可以使用厚度為10μm以下的薄型的偏光件。從薄型化的觀點來說，該厚度優選為1～7μm。在厚度不均少、視覺辨認性優異、並且因尺寸變化小而耐久性優異、以及作為偏光薄膜的厚度也實現薄型化的方面，優選此種薄型的偏光件。
作為薄型的偏光件，代表性地可列舉：日本特開昭51－069644號公報、日本特開2000－338329號公報、WO2010/100917號小冊子、PCT/JP2010/001460的說明書、或特願2010－269002號說明書、特願2010－263692號說明書中記載的薄型偏光件。這些薄型偏光件可以利用包含下述步驟之製法來得到：將聚乙烯醇系樹脂(以下也稱作PVA系樹脂)層和拉伸用樹脂基材以層疊體狀態進行拉伸之步驟、和進行染色之步驟。若為該製法，則即使PVA系樹脂層薄，也能通過被拉伸用樹脂基材支承而進行拉伸，而無拉伸所致的斷裂等不良情況。
作為上述薄型偏光件，就即便在包含以層疊體狀態進行拉伸之步驟和進行染色之步驟的製法中，也能夠以高倍率進行拉伸、使偏光性能提高的方面而言，優選的是利用WO2010/100917號小冊子、PCT/JP2010/001460的說明書或日本特願2010－269002號說明書、日本特願2010－263692號說明書所記載那樣的包含在硼酸水溶液中進行拉伸之步驟的製法而得到的偏光件，特別優選的是利用日本特願2010－269002號說明書或日本特願2010－263692號說明書中所記載的包含在硼酸水溶液中進行拉伸之前輔助性地進行空中拉伸之步驟的製法而得到的偏光件。
上述的PCT/JP2010/001460的說明書中記載的薄型高功能偏光件是與樹脂基材一體地製膜的、由已使二色性物質定向之PVA系樹脂構成的厚度為7μm以下的薄型高功能偏光件，其具有單體透射率為42.0%以上及偏光度為99.95%以上的光學特性。
上述薄型高功能偏光件可以通過以下方式來製造：在具有至少20μm的厚度的樹脂基材上通過PVA系樹脂的塗布及乾燥而生成PVA系樹脂層，使所生成的PVA系樹脂層浸漬於二色性物質的染色液中，使二色性物質吸附於PVA系樹脂層，將吸附有二色性物質的PVA系樹脂層在硼酸水溶液中以總拉伸倍率達到原長的5倍以上的方式與樹脂基材一體地拉伸。
另外，通過如下方法從而能夠製造上述薄型高功能偏光件，該方法是製造包含使二色性物質定向後之薄型高功能偏光件的層疊體薄膜的方法，其包含下述步驟：生成層疊體薄膜的步驟，該層疊體薄膜包含具有至少20μm的厚度的樹脂基材、和在樹脂基材單面塗布含PVA系樹脂之水溶液並使其乾燥而形成的PVA系樹脂層；吸附步驟，通過將包含樹脂基材和形成在樹脂基材單面之PVA系樹脂層的上述層疊體薄膜浸漬在含二色性物質的染色液中，從而使二色性物質吸附於層疊體薄膜所含的PVA系樹脂層步驟；延伸步驟，將包含吸附有二色性物質之PVA系樹脂層的上述層疊體薄膜，在硼酸水溶液中以使總拉伸倍率達到原長的5倍以上的方式進行拉伸；及製造積層體薄膜的步驟，通過將吸附有二色性物質之PVA系樹脂層與樹脂基材一體地拉伸，從而製造在樹脂基材單面製膜有由使二色性物質定向後之PVA系樹脂層構成的、厚度為7μm以下、具有單體透射率為42.0%以上且偏光度為99.95%以上之光學特性的薄型高功能偏光件的層疊體薄膜。
上述的日本特願2010－269002號說明書、日本特願2010－263692號說明書的薄型偏光件為由使二色性物質定向後之PVA系樹脂構成的連續薄片型偏光件，將包含在非晶性酯系熱塑性樹脂基材上製膜得到之PVA系樹脂層的層疊體利用由空中輔助拉伸和硼酸水中拉伸構成的2段拉伸步驟進行拉伸，從而使其為10μm以下的厚度。該薄型偏光件優選為在將單體透射率設為T、偏光度設為P時具有滿足P＞－(100.929T －42.4 －1 )×100(其中，T＜42.3)及P≥99.9(其中，T≥42.3)之條件的光學特性的薄型偏光件。
具體而言，上述薄型偏光件可以利用包含以下步驟的薄型偏光件之製造方法來製造：利用對在連續薄片狀非晶性酯系熱塑性樹脂基材上所製膜之PVA系樹脂層的空中高溫拉伸，而生成由定向後之PVA系樹脂層構成的拉伸中間生成物的步驟；利用二色性物質對拉伸中間生成物的吸附，而生成由使二色性物質(優選碘、或碘與有機染料的混合物)定向後之PVA系樹脂層構成的著色中間生成物的步驟；利用對著色中間生成物的硼酸水中拉伸，而生成由使二色性物質定向後之PVA系樹脂層構成且厚度為10μm以下的偏光件的步驟。
在該製造方法中，期望使得利用空中高溫拉伸和硼酸水中拉伸之非晶性酯系熱塑性樹脂基材上所製膜的PVA系樹脂層的總拉伸倍率達到5倍以上。用於硼酸水中拉伸的硼酸水溶液的液溫可以為60℃以上。期望在硼酸水溶液中拉伸著色中間生成物之前，對著色中間生成物實施不溶化處理，這種情況下，期望通過在液溫不超過40℃的硼酸水溶液中浸漬上述著色中間生成物來進行。上述非晶性酯系熱塑性樹脂基材可以為使間苯二甲酸共聚的共聚聚對苯二甲酸乙二醇酯、使環己烷二甲醇共聚的共聚聚對苯二甲酸乙二醇酯、或包含其他共聚聚對苯二甲酸乙二醇酯的非晶性聚對苯二甲酸乙二醇酯，優選為由透明樹脂構成的基材，其厚度可以為所製膜的PVA系樹脂層的厚度的7倍以上。另外，空中高溫拉伸的拉伸倍率優選為3.5倍以下，空中高溫拉伸的拉伸溫度優選為PVA系樹脂的玻璃化轉變溫度以上、具體為95℃～150℃的範圍。在以自由端單軸拉伸進行空中高溫拉伸的情況下，在非晶性酯系熱塑性樹脂基材上所製膜的PVA系樹脂層的總拉伸倍率優選為5倍以上且7.5倍以下。另外，在以固定端單軸拉伸進行空中高溫拉伸的情況下，在非晶性酯系熱塑性樹脂基材上所製膜的PVA系樹脂層的總拉伸倍率優選為5倍以上且8.5倍以下。更具體而言，可以利用以下所示的方法來製造薄型偏光件。
製作已使間苯二甲酸6mol%共聚之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二醇酯(非晶性PET)的連續薄片狀基材。非晶性PET的玻璃化轉變溫度為75℃。按照以下方式製作由連續薄片狀非晶性PET基材和聚乙烯醇(PVA)層構成的層疊體。順帶而言，PVA的玻璃化轉變溫度為80℃。
準備200μm厚度的非晶性PET基材、和將聚合度1000以上且皂化度99%以上之PVA粉末溶解於水的4～5%濃度的PVA水溶液。接著，在200μm厚度的非晶性PET基材上塗布PVA水溶液，在50～60℃的溫度下乾燥，得到在非晶性PET基材上製膜7μm厚度之PVA層的層疊體。
將包含7μm厚度之PVA層的層疊體經過包含空中輔助拉伸及硼酸水中拉伸的2段拉伸步驟的以下步驟，而製造3μm厚度的薄型高功能偏光件。利用第一段的空中輔助拉伸步驟，將包含7μm厚度之PVA層的層疊體與非晶性PET基材一體地拉伸，生成包含5μm厚度之PVA層的拉伸層疊體。具體而言，該拉伸層疊體為，將包含7μm厚度之PVA層的層疊體設在配置於設定為130℃拉伸溫度環境之烘箱中的拉伸裝置中，以使拉伸倍率達到1.8倍的方式對自由端單軸拉伸得到的拉伸層疊體。利用該拉伸處理，使拉伸層疊體所含的PVA層變化為PVA分子被定向的5μm厚度的PVA層。
接著，利用染色步驟生成使碘吸附於PVA分子被定向後之5μm厚度的PVA層的著色層疊體。具體而言，該著色層疊體如下獲得：將拉伸層疊體在液溫30℃的包含碘及碘化鉀的染色液中浸漬任意時間，使得構成最終所生成之高功能偏光件之PVA層的單體透射率達到40～44%，由此使碘吸附於拉伸層疊體所含的PVA層。在本步驟中，染色液以水作為溶劑，將碘濃度設為0.12～0.30重量%的範圍內，並且將碘化鉀濃度設為0.7～2.1重量%的範圍內。碘與碘化鉀的濃度之比為1比7。順帶一提，為使碘溶解於水而需要碘化鉀。更詳細而言，將拉伸層疊體在碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%的染色液中浸漬60秒，由此生成使碘吸附於PVA分子被定向後之5μm厚度的PVA層的著色層疊體。
進一步地，利用第二段的硼酸水中拉伸步驟，將著色層疊體與非晶性PET基材一體地進一步拉伸，生成包含3μm厚度之構成高功能偏光件之PVA層的光學薄膜層疊體。具體而言，該光學薄膜層疊體如下得到：將著色層疊體設在配置於設定為包含硼酸和碘化鉀且液溫範圍60～85℃之硼酸水溶液的處理裝置中的拉伸裝置中，以使拉伸倍率達到3.3倍的方式在自由端單軸拉伸。更詳細而言，硼酸水溶液的液溫為65℃。另外，使硼酸含量相對於水100重量份為4重量份，使碘化鉀含量相對於水100重量份為5重量份。在本步驟中，首先，將調整了碘吸附量的著色層疊體在硼酸水溶液中浸漬5～10秒。然後，使該著色層疊體直接通過配置於處理裝置中的拉伸裝置、即圓周速度不同的多組輥間，用30～90秒以使拉伸倍率達到3.3倍的方式在自由端單軸拉伸。利用該拉伸處理，使著色層疊體中所含的PVA層變化為所吸附的碘以多碘離子錯合物形式在一個方向高度定向之3μm厚度的PVA層。該PVA層構成光學薄膜層疊體的高功能偏光件。
雖然在光學薄膜層疊體的製造中並非為必須的步驟，但是，優選的是：利用清洗步驟，從硼酸水溶液中取出光學薄膜層疊體，並將在非晶性PET基材上製膜的3μm厚度之PVA層表面所附著的硼酸利用碘化鉀水溶液進行清洗。然後，利用60℃溫風下的乾燥步驟對經清洗後的光學薄膜層疊體進行乾燥。此處要說明，清洗步驟為用於消除硼酸析出等外觀缺陷的步驟。
同樣在光學薄膜層疊體的製造中並非必須的步驟，但是也可以利用貼合及/或轉印步驟，邊在非晶性PET基材上製膜之3μm厚度的PVA層表面塗布接著劑，邊貼合80μm厚度的三乙醯纖維素薄膜，之後，剝離非晶性PET基材，將3μm厚度的PVA層轉印於80μm厚的三乙醯纖維素薄膜。
［其他步驟］ 上述的薄型偏光件之製造方法除上述步驟以外可以還包含其他步驟。作為其他步驟，可列舉例如不溶化步驟、交聯步驟、乾燥(水分率的調節)步驟等。其他步驟可以在任意的適當時機進行。上述不溶化步驟代表性地通過使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液來進行。通過實施不溶化處理，從而可以對PVA系樹脂層賦予耐水性。該硼酸水溶液的濃度相對於水100重量份優選為1重量份～4重量份。不溶化浴(硼酸水溶液)的液溫優選為20℃～50℃。不溶化步驟優選在層疊體製作後且在染色步驟或水中拉伸步驟之前進行。上述交聯步驟代表性地通過使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液來進行。通過實施交聯處理，從而可以對PVA系樹脂層賦予耐水性。該硼酸水溶液的濃度相對於水100重量份優選為1重量份～4重量份。另外，當在上述染色步驟後進行交聯步驟的情況下，優選進一步摻混碘化物。通過摻混碘化物，從而可以抑制吸附於PVA系樹脂層的碘溶出。碘化物的摻混量相對於水100重量份優選為1重量份～5重量份。碘化物的具體例如上所述。交聯浴(硼酸水溶液)的液溫優選為20℃～50℃。交聯步驟優選在上述第2硼酸水中拉伸步驟之前進行。在優選的實施方式中，依序進行染色步驟、交聯步驟及第2硼酸水中拉伸步驟。
作為形成設置於上述偏光件單面或雙面之透明保護薄膜的材料，優選透明性、機械強度、熱穩定性、水分隔絕性、各向同性等優異的材料。可列舉例如：聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物、二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯、丙烯腈－苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。另外，還可列舉：聚乙烯、聚丙烯、具有環系或降莰烯結構的聚烯烴、乙烯－丙烯共聚物之類的聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、二氯亞乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物的摻混物等作為形成上述透明保護薄膜的聚合物的例子。在透明保護薄膜中可以包含1種以上任意的適當的添加劑。作為添加劑，可列舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中的上述熱塑性樹脂的含量優選為50～100重量%，更優選為50～99重量%，進一步優選為60～98重量%，特別優選為70～97重量%。在透明保護薄膜中的上述熱塑性樹脂的含量為50重量%以下的情況下，存在無法充分體現熱塑性樹脂本來具有的高透明性等的風險。
另外，作為透明保護薄膜，可列舉：日本特開2001－343529號公報(WO01/37007)中記載的聚合物薄膜、例如含有(A)在側鏈具有取代及/或非取代醯亞胺基之熱塑性樹脂和(B)在側鏈具有取代及/或非取代苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組成物。作為具體例，可列舉含有由異丁烯與N－甲基馬來醯亞胺形成之交替共聚物、和丙烯腈－苯乙烯共聚物的樹脂組成物的薄膜。薄膜可以使用由樹脂組成物的混合擠出品等構成的薄膜。這些薄膜由於相位差小、光彈性係數小，因此可以消除由偏光薄膜的變形所致的不均等不良情況，並且由於透濕度小，因此加濕耐久性優異。
透明保護薄膜的厚度可以適當決定，但是，一般而言，從強度、操作性等作業性、薄層性等方面出發，為1～500μm左右。特別優選20～80μm，更優選30～60μm。
另外，在偏光件的雙面設置透明保護薄膜的情況下，可以在其表面和背面使用由相同聚合物材料構成的透明保護薄膜，也可以使用由不同聚合物材料等構成的透明保護薄膜。
在上述透明保護薄膜的未接著偏光件的面上可以設置硬塗層、抗反射層、防黏連層、擴散層或防眩層等功能層。再者，上述硬塗層、抗反射層、防黏連層、擴散層、防眩層等功能層除可以設置成透明保護薄膜本身以外，也可以另行設置成與透明保護薄膜分體的功能層。
本發明的偏光薄膜在實用時可以作為與其他的光學層層疊的光學薄膜來使用。對該光學層並無特別限定，例如可以使用1層或2層以上的反射板、半透射板、相位差板(包含1/2或1/4等波長板)、視角補償薄膜等之用於形成液晶顯示裝置等的光學層。尤其，優選在本發明的偏光薄膜上進一步層疊反射板或半透射反射板而成的反射型偏光薄膜或半透射型偏光薄膜、在偏光薄膜上進一步層疊相位差板而成的橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、在偏光薄膜上進一步層疊視角補償薄膜而成的廣視角偏光薄膜、或在偏光薄膜上進一步層疊增亮薄膜而成的偏光薄膜。
在偏光薄膜上層疊了上述光學層的光學薄膜可以通過在液晶顯示裝置等的製造過程中依次單獨層疊的方式來形成，但是預先層疊製成的光學薄膜在品質的穩定性、組裝作業等方面優異，而具有提高液晶顯示裝置等的製造步驟的優點。在層疊中可以使用黏著劑層等的適宜的接著手段。在上述的偏光薄膜或其他光學薄膜的接著時，它們的光學軸可以根據目標相位差特性等而設為適宜的配置角度。
在上述的偏光薄膜、或至少層疊有1層偏光薄膜的光學薄膜上可以設置用於與液晶單元等其他構件接著的黏著劑層。形成黏著劑層的黏著劑並無特別限制，例如可以適當選擇使用以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系、橡膠系等的聚合物作為基底聚合物的黏著劑。尤其是，可以優選使用像丙烯酸系黏著劑那樣的光學透明性優異並顯示適度的潤濕性、凝聚性和接著性的黏著特性且耐候性、耐熱性等優異的黏著劑。
黏著劑層也可以以不同組成或種類等的黏著劑層的重疊層的形式設置於偏光薄膜或光學薄膜的單面或雙面。另外，在設置於雙面的情況下，在偏光薄膜或光學薄膜的表面和背面可以形成不同的組成、種類、厚度等的黏著劑層。黏著劑層的厚度可以根據使用目的或接著力等來適當決定，一般為1～500μm，優選為1～200μm，特別優選為1～100μm。
對黏著劑層的露出面，在供於實用為止前的期間，出於防止其污染等目的而臨時覆蓋分離件。由此，可以防止在通常的操作狀態下與黏著劑層接觸。作為分離件，除上述厚度條件外，例如可以使用將塑膠薄膜、橡膠片、紙、布、不織布、網狀物、發泡片、金屬箔、它們的層壓體等適宜的薄片體根據需要用聚矽氧系、長鏈烷基系、氟系、硫化鉬等適宜的剝離劑進行塗布處理後的材料等、基於以往方法的適宜的分離件。
本發明的偏光薄膜或光學薄膜可以優選用於液晶顯示裝置等各種裝置的形成等。液晶顯示裝置的形成可以基於以往方法來進行。即液晶顯示裝置一般通過將液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜、及根據需要的照明系統等構成零件適宜組裝並裝入驅動電路等來形成，在本發明中，除使用本發明的偏光薄膜或光學薄膜這一點外，並無特別限定，可以基於以往方法。關於液晶單元，可以使用例如TN型、STN型、π型等任意類型的液晶單元。
可以形成在液晶單元的單側或兩側配置了偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置、在照明系統中使用了背光源或反射板的液晶顯示裝置等適宜的液晶顯示裝置。此時，本發明的偏光薄膜或光學薄膜可以設置在液晶單元的單側或兩側。在兩側設置偏光薄膜或光學薄膜的情況下，它們可以相同，也可以不同。此外，在液晶顯示裝置的形成時，例如可以在適宜的位置配置1層或2層以上的擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光源等適宜的零件。
實施例 以下，記載了本發明的實施例，但是，本發明的實施方式並不受這些實施例的限定。另外，組成物中的”重量份”是指將組成物的總量設為100重量份時的份數。
(1)接著劑組成物的調製 ＜活性能量射線固化型接著劑組成物的調製＞ 將HEAA(羥基乙基丙烯醯胺)［興人公司製］38.5重量份、ARONIX M－220(三丙二醇二丙烯酸酯)［東亞合成公司製］20.0重量份、ACMO(丙烯醯基嗎啉)［興人公司製］38.5重量份、KAYACURE DETX－S(二乙基噻噸酮)［日本化藥公司製］1.5重量份、IRGACURE 907(2－甲基－1－(4－甲硫基苯基)－2－嗎啉基丙－1－酮)［BASF公司製］1.5重量份混合，在50℃下攪拌1小時，得到活性能量射線固化型接著劑組成物(在表1中僅記載為”接著劑組成物”)。
(2)薄型偏光件的製作 為了製作薄型偏光件，首先，將在非晶性PET基材上製膜有24μm厚之PVA層的層疊體通過拉伸溫度130℃的空中輔助拉伸而生成拉伸層疊體，接著，將拉伸層疊體通過染色而生成著色層疊體，進一步地將著色層疊體通過拉伸溫度65度的硼酸水中拉伸而生成按照使總拉伸倍率達到5.94倍之方式與非晶性PET基材一體地拉伸而得的10μm厚之包含PVA層的光學薄膜層疊體。利用此種二段拉伸，可以生成包含構成薄型偏光件之厚度5μm之PVA層的光學薄膜層疊體(第二薄膜(總厚度40μm))，所述偏光件中，在非晶性PET基材上製膜之PVA層的PVA分子高度地定向，通過染色而吸附的碘以多碘離子錯合物的形式在一個方向上高度地定向。
作為第一薄膜，使用了由具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂構成的透明保護薄膜(厚度為40μm)。
實施例1 在圖1、2所示的生產線中，使用具備凹版輥4的凹版輥塗布方式10(MCD塗布機(富士機械公司製)(網眼形狀：蜂窩網圖案、凹版輥的網眼線數：1000根/英寸、旋轉速度比為140%)，在第一薄膜1的貼合面及第二薄膜2的貼合面這兩者上塗布接著劑組成物3，將液珠寬度調整為表1的寬度，邊除去異物，邊製造偏光薄膜。表1中，將第一薄膜與凹版輥的液珠寬度設為L1(mm)，將第二薄膜與凹版輥的液珠寬度設為L2(mm)。接著，對由PET基材及薄型偏光件構成的第二薄膜2，以使薄型偏光件面成為貼合面的方式塗布接著劑組成物3。另外，接著劑組成物3以使乾燥後之接著劑層厚度達到1μm的方式塗布於第一薄膜及第二薄膜。作為凹版輥塗布方式10，使用了具備圖2所示之異物除去功能(使用了過濾器的異物除去方法)的凹版輥塗布方式。
＜活性能量射線＞ 在通過圖1所示的生產線後，作為活性能量射線，使用紫外線(封入鎵的金屬鹵化物燈)照射裝置：Fusion UV Systems，Inc公司製Light　HAMMER10燈泡：V燈泡 峰照度：1600mW/cm2 、累積照射量1000/mJ/cm2 (波長380～440nm)，使接著劑組成物3固化，製造光學薄膜。另外，紫外線的照度使用Solatell公司製Sola－Check系統來測定。
實施例2～12、比較例1～18 除了將貼合第一薄膜及第二薄膜的塗布液的種類及液珠寬度變更為表1記載的塗布液的種類及液珠寬度以外，利用與實施例1同樣的方法製造了光學薄膜。表1中，就作為液狀物使用的水而言，係使用水100重量%、黏度1cP的水。
＜接著劑層中之異物數的計數方法＞ 利用目視檢查和使用自動檢查裝置的反射檢查，對偏光薄膜之接著劑層中的外觀缺陷數(來自異物的外觀缺陷數(個/m2 ))進行計數。結果如表1所示。
＜塗布液之塗布面處的外觀評價＞ 在以目視進行確認時，將發生塗布了塗布液後之塗布面變粗糙的外觀不良的情況設為”有”，將未發生外觀不良的情況設為”無”。結果如表1所示。
[表1]
Figure 02_image001
1‧‧‧第一薄膜2‧‧‧第二薄膜3‧‧‧塗布液(接著劑組成物)4‧‧‧凹版輥5‧‧‧容器6‧‧‧罐7‧‧‧過濾器8‧‧‧泵功能9‧‧‧夾持輥10‧‧‧凹版輥塗布方式d‧‧‧形成在第一薄膜1與凹版輥4之間的塗布液積液的薄膜行進方向寬度即液珠寬度
圖1為本發明的光學薄膜之製造方法的示意圖一例。 圖2為本發明中使用之屬後計量塗布方式的凹版輥塗布方式的示意圖一例。 圖3為形成在第一薄膜與凹版輥之間的塗布液積液的示意圖一例。
1‧‧‧第一薄膜
2‧‧‧第二薄膜
3‧‧‧塗布液(接著劑組成物)
9‧‧‧夾持輥
10‧‧‧凹版輥塗布方式

Claims (7)

  1. 一種光學薄膜之製造方法，該光學薄膜係包含至少貼合有第一薄膜及第二薄膜的層疊結構者，前述光學薄膜之製造方法的特徵在於：前述光學薄膜包含層疊結構，該層疊結構為透過由接著劑組成物之固化物層構成的接著劑層而至少貼合有前述第一薄膜及前述第二薄膜者；該製造方法具有塗布步驟，係採用使用了凹版輥的凹版輥塗布方式，在前述第一薄膜及前述第二薄膜兩者的貼合面上塗布塗布液；前述第一薄膜為透明保護薄膜，前述第二薄膜為偏光件，並且，前述塗布步驟具備：將前述接著劑組成物塗布於前述第一薄膜之貼合面的第一塗布步驟、及將水塗布於前述第二薄膜之貼合面的第二塗布步驟；在前述塗布步驟中，將形成在前述第一薄膜及前述第二薄膜與前述凹版輥之間的塗布液積液的膜行進方向寬度即液珠寬度均設定為4mm~20mm。
  2. 如請求項1之光學薄膜之製造方法，其中前述凹版輥的旋轉方向與前述第一薄膜及前述第二薄膜的行進方向為相反方向。
  3. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中前述凹版輥的直徑為80mm~140mm。
  4. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中在前述凹版輥表面形成的圖案為蜂窩網圖案。
  5. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中前述凹版輥的旋轉速度相對於前述第一薄膜及前述第二薄膜的行進速度之比為100%~300%。
  6. 如請求項1或2光學之薄膜之製造方法，其中前述凹版輥塗布方式為使前述塗布液循環進行塗布的方式，且具備將因塗布而從前述第一薄膜及/或前述第二薄膜混入到前述塗布液之異物從前述塗布液中去除的異物除去功能。
  7. 如請求項1或2之光學薄膜之製造方法，其中前述偏光件的厚度為10μm以下。
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