TWI816795B - 光學積層體的製造方法 - Google Patents
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Abstract
光學積層體係依序包含第1光學功能層、接著層及第2光學功能層，接著層為接著劑硬化而成的接著劑硬化層。第1光學功能層及第2光學功能層中的至少一者包含在基材層上將聚合性液晶化合物聚合而形成的液晶層。第1光學功能層及第2光學功能層係在接著層側各自具有接著面，僅接著面中的一接著面為會因基材層的剝離而露出的露出面。光學積層體的製造方法係包含：於接著面中的另一接著面，藉由塗佈接著劑而設置用以形成接著層的接著組成物層之步驟；及隔著接著組成物層而積層第1光學功能層與第2光學功能層之步驟。
Description
本發明係有關於一種光學積層體的製造方法。
在有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置中，係使用包含偏光膜或相位差膜等光學異向性膜之構件。就此種光學異向性膜而言，已知有在基材膜上形成液晶化合物層者。JP2014-222282號公報中記載，將液晶材料使用於圓偏光板等所使用之光學膜的相位差層。
本發明之目的係提供一種光學積層體的製造方法，係適合用於製造具有液晶層的光學積層體。
本發明係提供以下所示之光學積層體的製造方法：
[1]一種光學積層體的製造方法，該光學積層體係依序包含第1光學功能層、接著層及第2光學功能層，其中，前述接著層為接著劑硬化而成的接著劑硬化層， 前述第1光學功能層及前述第2光學功能層中的至少一者包含在基材層上將聚合性液晶化合物聚合而形成的液晶層，前述第1光學功能層及前述第2光學功能層係在前述接著層側各自具有接著面，僅前述接著面中的一接著面為會因前述基材層的剝離而露出的露出面，前述光學積層體的製造方法係包含：於前述接著面中的另一接著面，藉由塗佈前述接著劑而設置用以形成前述接著層的接著組成物層之步驟；及隔著前述接著組成物層而積層前述第1光學功能層與前述第2光學功能層之步驟。
[2]如[1]所述之光學積層體的製造方法，其中，前述第1光學功能層包含在第1基材層上將聚合性液晶化合物聚合而形成的第1液晶層，前述一接著面為會因前述第1基材層的剝離而露出的露出面，前述第2光學功能層包含在第2基材層上將聚合性液晶化合物聚合而形成的第2液晶層，前述另一接著面為前述第2液晶層之與前述第2基材層為相反側的面。
[3]如[2]所述之光學積層體的製造方法，其中，前述第2光學功能層為具有前述第2液晶層及前述第2基材層的附基材層之第2液晶層， 前述製造方法係在前述積層步驟之後包含剝離前述第2基材層之步驟。
[4]如[2]或[3]所述之光學積層體的製造方法，其中，前述第1光學功能層係依序包含：至少包含直線偏光層之偏光功能層、偏光功能層用接著層及前述第1液晶層。
[5]如[4]所述之光學積層體的製造方法，其係進一步包含準備附偏光功能層之液晶層之步驟，其中，該附偏光功能層之液晶層係依序具有：前述偏光功能層、前述偏光功能層用接著層、以及從前述偏光功能層用接著層側起依序具有前述第1液晶層及前述第1基材層的附基材層之第1液晶層，前述一接著面為會藉由從前述附偏光功能層之液晶層剝離前述第1基材層而露出的露出面。
[6]如[4]或[5]所述之光學積層體的製造方法，其中，前述偏光功能層用接著層為黏著劑層。
[7]如[1]所述之光學積層體的製造方法，其中，前述第1光學功能層包含在第1基材層上將聚合性液晶化合物聚合而形成的第1液晶層，前述一接著面為會因前述第1基材層的剝離而露出的露出面，前述第2光學功能層為至少包含直線偏光層的偏光功能層。
[8]如[7]所述之光學積層體的製造方法，其中，前述第1光學功能層係依序包含前述第1液晶層、液晶層用接著層及第2液晶層。
[9]如[8]所述之光學積層體的製造方法，其更包含準備附基材層之液晶層積層體之步驟，其中，該附基材層之液晶層積層體係依序具有：前述第1基材層、前述第1液晶層、前述液晶層用接著層、以及從前述液晶層用接著層側起依序具有前述第2液晶層及第2基材層的附基材層之第2液晶層，前述一接著面為會藉由從前述附基材層之液晶層積層體剝離前述第1基材層而露出的露出面。
[10]如[9]所述之光學積層體的製造方法，其在前述積層步驟之後，包含剝離前述第2基材層之步驟。
[11]如[9]或[10]所述之光學積層體的製造方法，其中，前述液晶層用接著層為黏著劑層。
[12]如[4]至[6]、[8]至[11]中任一項所述之光學積層體的製造方法，其中，前述光學積層體為圓偏光板，前述第1液晶層及前述第2液晶層係滿足下述[a]或[b]之關係：[a]前述第1液晶層為1/2波長板，前述第2液晶層為1/4波長板；[b]前述第1液晶層及前述第2液晶層中的一者為逆波長分散性的1/4波長板，另一者為正C板。
[13]如[2]至[12]中任一項所述之光學積層體的製造方法，其更包含：準備具有前述第1基材層與前述第1液晶層的附基材層之第1液晶層之步驟；及 剝離前述第1基材層之步驟。
[14]如[13]所述之光學積層體的製造方法，其中，前述光學積層體係於前述第1液晶層之前述第1基材層側包含配向層。
根據本發明，可提供一種光學積層體的製造方法，係適合用於製造具有液晶層的光學積層體。
10‧‧‧附基材層之第1液晶層
11‧‧‧第1基材層(基材層)
12‧‧‧第1液晶層(液晶層)
20‧‧‧附基材層之第2液晶層(第2光學功能層)
21‧‧‧第2基材層
22‧‧‧第2液晶層(液晶層)
25‧‧‧附組成物層之液晶層
26‧‧‧附組成物層之液晶層
30‧‧‧液晶層用接著層(接著層)
30a‧‧‧液晶層用接著組成物層(接著組成物層)
34‧‧‧液晶層用接著層
34a‧‧‧液晶層用接著組成物層
35‧‧‧光學元件用接著組成物層
36‧‧‧偏光板用接著層(接著層、偏光功能層用接著層)
36a‧‧‧偏光板用接著組成物層(接著組成物層)
41‧‧‧第1附偏光板之液晶層(附偏光功能層之液晶層、光學積層體)
42‧‧‧第2附偏光板之液晶層(第1光學功能層、光學積層體)
46‧‧‧附基材層之液晶層積層體
47‧‧‧液晶層積層體(第1光學功能層)
51‧‧‧附基材層之光學積層體(光學積層體)
52‧‧‧光學積層體
53‧‧‧附接著組成物層之光學積層體(光學積層體)
56‧‧‧附基材層之光學積層體(光學積層體)
57‧‧‧光學積層體
58‧‧‧附接著組成物層之光學積層體(光學積層體)
60‧‧‧偏光板(第1光學功能層、第2光學功能層、偏光功能層)
61‧‧‧附組成物層之偏光板(第2光學功能層)
W‧‧‧寬度方向
第1圖(a)至(d)為示意性表示本發明之光學積層體之製造步驟的一例的概略剖面圖。
第2圖(a)至(d)為示意性表示第1圖所示之光學積層體之製造步驟之後續的概略剖面圖。
第3圖(a)至(c)為示意性表示第2圖所示之光學積層體之製造步驟之後續的概略剖面圖。
第4圖(a)至(d)為示意性表示本發明之光學積層體之製造步驟的另一例的概略剖面圖。
第5圖(a)至(d)為示意性表示第4圖所示之光學積層體之製造步驟之後續的概略剖面圖。
以下參照圖式對本發明之光學積層體的製造方法之較佳實施形態加以說明。此外，以下所示之各實施形態及其變形例亦可任意組合。
又，於各實施形態及其變形例中，對於與在先於該等之實施形態或其變形例中已說明之構件相同的構件係附加相同的符號並省略其說明。
[實施形態1]
第1圖至第3圖為示意性表示本發明之光學積層體之製造步驟的一例(實施形態1)的概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。根據本發明之製造方法所得之光學積層體52係如第3圖(b)所示，依序包含：在偏光層(直線偏光層、偏光功能層)之至少一面形成有保護層的偏光板60(偏光功能層)、偏光板用接著層36(偏光功能層用接著層)、第1液晶層12、液晶層用接著層30(接著層)、第2液晶層22。光學積層體52較佳為圓偏光板，此時，第1液晶層12及第2液晶層22較佳滿足下述[a]或[b]之關係：[a]第1液晶層12為1/2波長板，第2液晶層22為1/4波長板；[b]第1液晶層12及第2液晶層22中的一者為逆波長分散性的1/4波長板，另一者為正C板。
上述[b]中，係以第1液晶層12為逆波長分散性的1/4波長板，第2液晶層22為正C板為佳。
光學積層體52的液晶層用接著層30係如同後述，為於附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側塗佈接著劑，且此塗佈之接著劑經硬化而成的接著劑硬化層。本說明書中，「接著劑」係與「黏著劑」區分而使用。本說明書中，接著劑係意指藉由以化學反應等固化而將2個構件接合且一體化之劑，且為於接合前後狀態會變化者。本說明書中，係將此接著劑經固化者稱為接著劑硬化層。本說明書中，黏著劑則意指未經固化之過程，藉由其高黏性而將2個構件接合之劑，且為於接合前後狀態不會變化者。本說明書中，係將藉由此黏著劑所形成的層稱為黏著劑層。
根據本發明之製造方法所得之光學積層體亦可為如第2圖(d)或第3圖(c)所示，在第2液晶層22之與液晶層用接著層30為相反側包含第2基材層21或光學元件用接著組成物層35者。偏光板60所包含之偏光層可為使雙色性色素在聚合性液晶化合物配向而成的硬化膜(液晶層)，惟亦可為使雙色性色素在聚乙烯醇樹脂膜吸附配向而成的偏光膜。就偏光層之細節係於後述。
第3圖(b)所示之光學積層體52的製造方法中，進行下列步驟：首先準備在偏光板60的其中一面設有用以形成偏光板用接著層36之偏光板用接著組成物層36a的附組成物層之偏光板61之步驟(第1圖(a))；及準備在第1基材層11(基材層)上形成有第1液晶層12(液晶層)的附基材層之第1液晶層10之步驟(第1圖(b))。
關於準備附組成物層之偏光板61之步驟，當光學積層體52之偏光板用接著層36為接著劑硬化層時，可具有於偏光板60的其中一面塗佈接著劑之步驟，亦可具有視需求而將塗佈之接著劑乾燥之步驟。另外，關於準備附組成物層之偏光板61之步驟，當光學積層體52之偏光板用接著層36為黏著劑層時，可具有於偏光板60的其中一面塗佈黏著劑之步驟、視需求而將塗佈之黏著劑乾燥之步驟，或者也可具有在脫模膜之脫模處理面形成黏著劑層，並將脫模膜之黏著劑層轉印於偏光板60之步驟。
此外，於本實施形態中，欲設置偏光板用接著組成物層36a之偏光板60的表面係設為不屬於「在基材層上將聚合性液晶化合物聚合後，將基材層剝離而露出的露出面」者。
關於準備附基材層之第1液晶層10之步驟，若能準備包含第1基材層11以及在第1基材層11上將聚合性液晶化合物聚合而得之第1液晶層12的附基材層之第1液晶層10即可，可具有在第1基材層11上 將聚合性液晶化合物聚合而形成第1液晶層12之步驟。在第1基材層11上將聚合性液晶化合物聚合時，可在第1基材層11上塗佈包含聚合性液晶化合物的液晶層形成用組成物並加以乾燥後，使聚合性液晶化合物聚合而形成第1液晶層12。液晶層形成用組成物，除聚合性液晶化合物之外，亦可包含溶劑、聚合起始劑、反應性添加劑、調平劑、聚合抑制劑等。
其次，準備第1附偏光板之液晶層41(附偏光功能層之液晶層)。關於第1附偏光板之液晶層41，可將附組成物層之偏光板61的偏光板用接著組成物層36a、與附基材層之第1液晶層10的第1液晶層12側貼合(第1圖(c))，並進一步由偏光板用接著組成物層36a形成偏光板用接著層36而得(第1圖(d))。就由偏光板用接著組成物層36a形成偏光板用接著層36之方法而言，若依據偏光板用接著組成物層36a所含成分來選擇即可；例如，可進行使偏光板用接著組成物層36a硬化之處理，若為不需要硬化處理之成分時，亦可未進行特殊處理，而將偏光板用接著組成物層36a作為偏光板用接著層36。第1附偏光板之液晶層41係如第1圖(d)所示，依序包含偏光板60、偏光板用接著層36、第1液晶層12及第1基材層11。
其後，藉由從第1附偏光板之液晶層41剝離第1基材層11，而得到依序包含偏光板60、偏光板用接著層36及第1液晶層12的第2附偏光板之液晶層42(第1光學功能層)(第2圖(a))。
接著，進行準備在第2基材層21(基材層)上形成有第2液晶層22(液晶層)的附基材層之第2液晶層20(第2光學功能層)之步驟(第2圖(b))。準備附基材層之第2液晶層20之步驟係與準備附基材層之第1液晶層10之步驟同樣地，可具有在第2基材層21上將聚合性液晶化合物聚合而形成第2液晶層22之步驟，亦可在第2基材層21上塗佈包含聚合性 液晶化合物的液晶層形成用組成物並加以乾燥後，使聚合性液晶化合物聚合而形成第2液晶層22。
其後，進行獲得附組成物層之液晶層25之步驟，該附組成物層之液晶層25係在附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側(另一接著面)上設置有用以形成屬於接著劑硬化層之液晶層用接著層30的液晶層用接著組成物層30a(接著組成物層)(第2圖(c))。在附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22上形成液晶層用接著組成物層30a之步驟具有於附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側塗佈接著劑之步驟，且可具有視需求而將塗佈之接著劑乾燥之步驟。附組成物層之液晶層25係如第2圖(c)所示，依序包含液晶層用接著組成物層30a、第2液晶層22及第2基材層21。
其次，進行將附組成物層之液晶層25的液晶層用接著組成物層30a、與第2圖(a)所示之第2附偏光板之液晶層42(第1光學功能層)的第1液晶層12側(其中一接著面、露出面)貼合之步驟(第2圖(d))，並由液晶層用接著組成物層30a形成液晶層用接著層30而得到附基材層之光學積層體51(光學積層體)(第3圖(a))。就由液晶層用接著組成物層30a形成屬於接著劑硬化層之液晶層用接著層30的方法而言，若依據液晶層用接著組成物層30a所含成分來選擇即可；例如，若進行使液晶層用接著組成物層30a硬化之處理即可。附基材層之光學積層體51係如第3圖(a)所示，依序包含偏光板60、偏光板用接著層36、第1液晶層12、液晶層用接著層30、第2液晶層22及第2基材層21。
用以形成屬於接著劑硬化層之液晶層用接著層30的接著劑(接著組成物)，若是為了藉由塗佈來形成液晶層用接著組成物層30a而具有流動性者則不特別限定，但較佳為具有適於塗佈之合宜黏度的液狀接著 劑。關於液晶層用接著層30，因屬於使用於光學積層體者，故較佳呈透明，可使用例如在光學領域中所使用的周知接著劑。
接著劑可組合例如水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑等當中的1種或2種以上而形成。水系接著劑可舉出例如聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺酯系乳液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑係藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，可舉出例如包含聚合性化合物及光聚合性起始劑者、包含光反應性樹脂者、包含黏著劑樹脂及光反應性交聯劑者等。上述聚合性化合物可舉出光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺酯系單體等光聚合性單體或由此等單體所衍生之寡聚物等。上述光聚合起始劑可舉出包含照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種之物質者。
屬於接著劑硬化層之液晶層用接著層30較佳係使用活性能量線硬化型接著劑而形成，尤以使用包含紫外線硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑的接著劑而形成為佳。
如附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側等欲塗佈接著劑之表面，可視需求而進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等表面處理。
接著劑之塗佈裝置不特別限定，可使用例如在光學領域中所用的周知塗佈裝置。塗佈裝置之具體例可舉出棒式塗佈機、模具塗佈機、缺角輪塗佈機(comma coater)、凹版塗佈機等。此等當中，若考量到所得接著劑硬化層之膜厚的均勻性等，則較佳使用棒式塗佈機或凹版塗佈機。
光學積層體52的製造方法可進一步包含：從附基材層之光學積層體51剝離第2基材層21之步驟(第3圖(b))；及在剝離第2基材層21而露出之第2液晶層22的第2基材層21側之露出面形成光學元件用接 著組成物層35，而得到附接著組成物層之光學積層體53(光學積層體)之步驟(第3圖(c))。附接著組成物層之光學積層體53係如第3圖(c)所示，依序包含偏光板60、偏光板用接著層36、第1液晶層12、液晶層用接著層30、第2液晶層22及光學元件用接著組成物層35。
本案發明人等發現，如上述附基材層之第1液晶層10或附基材層之第2液晶層20等在基材層上具有將聚合性液晶化合物聚合而形成之液晶層的附基材層之液晶層，從附基材層之液晶層剝離基材層而露出的露出面，相較於其相反側(在聚合性液晶化合物的聚合時暴露於大氣之側)，較容易被塗佈接著組成物之塗佈裝置或運送附基材層之液晶層的運送輥劃傷。在液晶層產生的傷痕有時會成為引起光學積層體的外觀不良、或導致光學積層體的光學性能降低等缺陷之原因。
因此，就光學積層體52的製造方法，如第2圖(a)至(c)所示，將附基材層之第2液晶層20與第2附偏光板之液晶層42隔著液晶層用接著組成物層30a而積層時，在附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側形成液晶層用接著組成物層30a。如此，隔著液晶層用接著組成物層30a而將附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側與第2附偏光板之液晶層42的第1液晶層12側貼合時，在從第1附偏光板之液晶層41剝離第1基材層11而露出的露出面、或附基材層之第2液晶層20之剝離第2基材層21而露出的露出面未形成液晶層用接著組成物層30a，而是在屬於此等露出面以外的面之第2液晶層22之與第2基材層21為相反側形成液晶層用接著組成物層30a。因此，咸認就上述之光學積層體52的製造方法，可抑制第1液晶層12或第2液晶層22被劃傷，而抑制光學積層體的外觀不良或光學性能的降低。
藉由用於形成屬於接著劑硬化層之液晶層用接著層30之接著劑的塗佈而進行之貼合，由於可藉由簡便的設備來實施，故為工業上有利者。諸如上述，從附基材層之液晶層剝離基材層而露出的露出面容易被塗佈接著劑之塗佈裝置等劃傷；然而根據本發明之製造方法，選擇不屬於「從附基材層之液晶層剝離基材層而露出的露出面」之表面作為欲塗佈接著劑之表面。因此，咸認就連為了形成液晶層用接著層30而使用接著劑時，亦容易抑制光學積層體52的外觀不良或光學性能的降低。
再者，一般而言，比起使用接著劑所形成的接著劑硬化層，使用黏著劑所形成的黏著劑層之剛性較低。因此推測，當偏光板用接著層36為黏著劑層時，若於第2圖(a)所示之第2附偏光板之液晶層42的第1液晶層12側形成液晶層用接著組成物層30a，則與偏光板用接著層36為接著劑硬化層的情況相比，第1液晶層12更容易被劃傷。就本實施形態之光學積層體52的製造方法，咸認就連在第2附偏光板之液晶層42為隔著黏著劑層而將第1液晶層12與偏光板60積層而成者時，由於在附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側形成有液晶層用接著組成物層30a，故在積層第2附偏光板之液晶層42與附基材層之第2液晶層20時，亦容易抑制第1液晶層12或第2液晶層22被劃傷，且容易抑制光學積層體的外觀不良或光學性能的降低。
此外，本實施形態中為了製造光學積層體而使用的附組成物層之偏光板61、附基材層之第1液晶層10、附基材層之第2液晶層20、附組成物層之液晶層25及使用此等所得之積層物等的膜狀物較佳係均為長條膜狀物，且較佳為連續運送此等各者的同時進行各步驟。寬度方向W為與膜狀物之長度方向正交的方向。
本實施形態之光學積層體的製造方法可變更為如以下所示之變形例。
又，亦可任意組合上述實施形態及下述所示之變形例。
(實施形態1的變形例1)
上述中，雖舉出在欲獲得第1圖(d)所示之第1附偏光板之液晶層41時，使用在偏光板60形成有偏光板用接著組成物層36a的附組成物層之偏光板61(第1圖(a))的情形為例而加以說明，但不限定於此。偏光板用接著組成物層可形成於附基材層之第1液晶層10的第1液晶層12側，亦可形成於偏光板60及附基材層之第1液晶層10的第1液晶層12側之兩者。而且，若隔著此偏光板用接著組成物層而將附基材層之第1液晶層10的第1液晶層12側與偏光板60貼合，並由偏光板用接著組成物層形成偏光板用接著層即可。
此外，在第1附偏光板之液晶層41(光學積層體)中偏光板用接著組成物層36a側之偏光板60的表面為在基材層上將聚合性液晶化合物聚合後剝離基材層而露出的露出面時，並非於偏光板60(第1光學功能層)設置偏光板用接著組成物層36a，而是在附基材層之第1液晶層10(第2光學功能層)的第1液晶層12設置偏光板用接著組成物層36a。此時，第1附偏光板之液晶層41或第2附偏光板之液晶層42可成為本發明之光學積層體，且偏光板60可成為第1光學功能層，附基材層之第1液晶層10或第1液晶層12可成為第2光學功能層。就連在本變形例的情況，在基材層上將聚合性液晶化合物聚合後，於剝離基材層而露出的露出面亦未形成偏光板用接著組成物層36a，而是在露出面以外的面形成偏光板用接著組成物層36a。因此，咸認可抑制第1液晶層12被劃傷，而抑制光學積層體的外觀不良或光學性能的降低。
(實施形態1的變形例2)
上述中，雖舉出使用在第1基材層11上形成有第1液晶層12的附基材層之第1液晶層10(第1圖(b))、及在第2基材層21上形成有第2液晶層22的附基材層之第2液晶層20(第2圖(b))的情況為例而加以說明，但不限定於此。附基材層之第1液晶層可在第1基材層與第1液晶層之間具有第1配向層；附基材層之第2液晶層可在第2基材層與第2液晶層之間具有第2配向層。
附基材層之第1液晶層10具有第1配向層時，光學積層體可具有或不具有第1配向層。光學積層體具有第1配向層時，在從第1附偏光板之液晶層41剝離第1基材層之際，以使第1配向層存留於第1液晶層12上之方式調整各層間的密接力即可；當光學積層體不具有第1配向層時，在從第1附偏光板之液晶層41剝離第1基材層之際，以可連同第1基材層而剝離第1配向層之方式調整各層間的密接力即可。當光學積層體具有第1配向層時，第1配向層係設置於第1液晶層12與液晶層用接著層30之間。
此外，本案發明人等確認到，就連在藉由從第1附偏光板之液晶層剝離第1基材層而形成之第2附偏光板之液晶層的露出面為第1配向層時，相較於第1液晶層之與第1基材層為相反側，亦較容易被塗佈接著組成物之塗佈裝置或運送輥劃傷。因此，當第2附偏光板之液晶層的露出面為第1配向層時，藉由並非在第1配向層上而是在屬於第1配向層以外的面之第2液晶層之與第2基材層為相反側形成液晶層用接著組成物層，可抑制第1液晶層或第1配向層被劃傷。
附基材層之第2液晶層20具有第2配向層時，光學積層體可具有或不具有第2配向層。當光學積層體具有第2配向層時，在從附基 材層之光學積層體剝離第2基材層之際，以使第2配向層存留於第2液晶層上之方式調整各層間的密接力即可；當光學積層體不具有第2配向層時，在從附基材層之光學積層體剝離第2基材層之際，以可連同第2基材層而剝離第2配向層之方式調整各層間的密接力即可。當光學積層體包含第2配向層時，第2配向層係設置於第2液晶層之與液晶層用接著層為相反側，於此第2配向層上形成光學元件用接著組成物層。
各層間的密接力可藉由各層所含成分、對各層的表面所進行的表面處理來調整。例如，配向層(第1配向層或第2配向層)與基材層(第1基材層或第2基材層)及液晶層(第1液晶層或第2液晶層)的密接力可藉由配向層或液晶層所含之聚合起始劑、反應性添加劑、調平劑、聚合抑制劑等添加劑的種類或量、對基材層之配向層側的表面或設於基材層上之配向層的表面所進行的電暈處理、電漿處理、火焰處理等表面處理來調整。
[實施形態2]
第4圖至第5圖為示意性表示本發明之光學積層體之製造步驟的一例(實施形態2)的概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。根據本發明之製造方法所得之光學積層體57的層構造係如第5圖(c)所示，依序包含：在偏光層(直線偏光層、偏光功能層)之至少一面形成有保護層的偏光板60(偏光功能層)、偏光板用接著層36(接著層、偏光功能層用接著層)、第1液晶層12、液晶層用接著層34及第2液晶層22。光學積層體57較佳為圓偏光板，此時，第1液晶層12及第2液晶層22較佳係滿足下述[a]或[b]之關係：[a]第1液晶層12為1/2波長板，第2液晶層22為1/4波長板；[b]第1液晶層12及第2液晶層22中的一者為逆波長分散性的1/4波長板，另一者為正C板。
上述[b]中，以第1液晶層12為逆波長分散性的1/4波長板，且第2液晶層22為正C板為佳。
光學積層體57的偏光板用接著層36係如同後述，為於偏光板60塗佈接著劑，且此塗佈之接著劑經硬化而成的接著劑硬化層。根據本發明之製造方法所得之光學積層體如第5圖(b)及(d)所示，亦可為在第2液晶層22之與液晶層用接著層34為相反側包含第2基材層21或光學元件用接著組成物層35者。
第5圖(c)所示之光學積層體的製造方法中，進行下列步驟：在先前實施形態中已說明之準備在第1基材層11(基材層)上形成有第1液晶層12(液晶層)的附基材層之第1液晶層10之步驟(第1圖(b))；準備在第2基材層21(基材層)上形成有第2液晶層22(液晶層)的附基材層之第2液晶層20之步驟(第2圖(b))；及獲得在附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側上設有用以形成液晶層用接著層34之液晶層用接著組成物層34a的附組成物層之液晶層26之步驟(第4圖(a))。準備附基材層之第1液晶層10之步驟可具有在第1基材層11上將聚合性液晶化合物聚合而形成第1液晶層12之步驟。同樣地，準備附基材層之第2液晶層20之步驟可具有在第2基材層21上將聚合性液晶化合物聚合而形成第2液晶層22之步驟。
關於獲得附組成物層之液晶層26之步驟，當光學積層體57之液晶層用接著層34為接著劑硬化層時，可具有於附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側塗佈接著劑之步驟，亦可具有視需求而將塗佈之接著劑乾燥之步驟。又，關於獲得附組成物層之液晶層26之步驟，當光學積層體57之液晶層用接著層34為黏著劑層時，可具有於附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側塗佈黏著劑之步驟、視需求而將塗佈之黏著劑 乾燥之步驟，或者也可具有在脫模膜之脫模處理面形成黏著劑層，並將脫模膜之黏著劑層轉印於附基材層之第2液晶層20之步驟。
接著，準備附基材層之液晶層積層體46。關於附基材層之液晶層積層體46，能以隔著附組成物層之液晶層26的液晶層用接著組成物層34a而使第1液晶層12與第2液晶層22相對向的方式積層附基材層之第1液晶層10與附組成物層之液晶層26(第4圖(b))，並由液晶層用接著組成物層34a形成液晶層用接著層34而得(第4圖(c))。附基材層之液晶層積層體46係如第4圖(c)所示，依序包含第1基材層11、第1液晶層12、液晶層用接著層34、第2液晶層22及第2基材層21。
其後，藉由從附基材層之液晶層積層體46剝離第1基材層11，而得到依序包含第1液晶層12、液晶層用接著層34、第2液晶層22及第2基材層21的液晶層積層體47(第1光學功能層)(第4圖(d))。
其次，進行準備附組成物層之偏光板61之步驟(第1圖(a))。準備附組成物層之偏光板61之步驟係如先前實施形態中所說明，在偏光板60(第2光學功能層)的其中一面(另一接著面)設置用以形成偏光板用接著層36的偏光板用接著組成物層36a(接著組成物層)之步驟。於本實施形態中，偏光板用接著層36為接著劑硬化層，偏光板用接著組成物層36a係藉由於偏光板60的其中一面塗佈接著劑而形成。此外，於本實施形態中，欲設置偏光板用接著組成物層36a之偏光板60的表面係設為不屬於「在基材層上將聚合性液晶化合物聚合後，將基材層剝離而露出的露出面」者。其後，進行將所準備之附組成物層之偏光板61的偏光板用接著組成物層36a與液晶層積層體47(第1光學功能層)的第1液晶層12側(其中一接著面、露出面)貼合之步驟(第5圖(a))，並由偏光板用接著組成物層36a形成偏光板用接著層36而得到附基材層之光學積層體56(光學積層體)(第5圖(b))。 附基材層之光學積層體56係如第5圖(b)所示，依序包含偏光板60、偏光板用接著層36、第1液晶層12、液晶層用接著層34、第2液晶層22及第2基材層21。
關於用以形成偏光板用接著層36之接著劑、接著劑之塗佈裝置、由偏光板用接著組成物層36a形成偏光板用接著層36之方法，可與在先前實施形態中形成屬於接著劑硬化層之液晶層用接著層30的情形同樣地進行。
光學積層體57的製造方法可進一步包含：從附基材層之光學積層體56剝離第2基材層21之步驟(第5圖(c))；及在剝離第2基材層21而露出的第2液晶層22側形成光學元件用接著組成物層35，而得到附接著組成物層之光學積層體58(光學積層體)之步驟(第5圖(d))。附接著組成物層之光學積層體58係如第5圖(d)所示，依序包含偏光板60、偏光板用接著層36、第1液晶層12、液晶層用接著層34、第2液晶層22及光學元件用接著組成物層35。
就本實施形態之光學積層體57的製造方法，如第1圖(a)、第4圖(d)及第5圖(a)所示，在將液晶層積層體47與附組成物層之偏光板61隔著偏光板用接著組成物層36a而積層時，在偏光板60形成偏光板用接著組成物層36a。如此，隔著偏光板用接著組成物層36a，將液晶層積層體47的第1液晶層12側與偏光板60積層時，在從附基材層之液晶層積層體46剝離第1基材層11而露出的露出面未形成偏光板用接著組成物層36a，而是在屬於此露出面以外的面之偏光板60的其中一面形成偏光板用接著組成物層36a。因此，咸認就上述之光學積層體57的製造方法，可抑制第1液晶層12被塗佈偏光板用接著組成物之塗佈裝置或運送液晶層積層體47之運送輥劃傷，而抑制光學積層體的外觀不良或光學性能的降低。
藉由用於形成屬於接著劑硬化層之偏光板用接著層36之接著劑的塗佈而進行之貼合，由於可藉由簡便的設備來實施，故為工業上有利者。諸如上述，從附基材層之液晶層剝離基材層而露出的露出面容易被塗佈接著劑之塗佈裝置等劃傷；然而根據本發明之製造方法，選擇不屬於「從附基材層之液晶層剝離基材層而露出的露出面」之表面作為欲塗佈接著劑之表面。因此，咸認就連為了形成偏光板用接著層36而使用接著劑時，亦容易抑制光學積層體57的外觀不良或光學性能的降低。
再者，當液晶層用接著層34為黏著劑層時，若於第4圖(d)所示之液晶層積層體47的第1液晶層12側形成液晶層用接著組成物層34a，由於與液晶層用接著層34為接著劑硬化層的情況相比，剛性較低，故推測第1液晶層12更容易被劃傷。就本實施形態之光學積層體57的製造方法，咸認就連在液晶層積層體47為隔著黏著劑層而將第1液晶層12與第2液晶層22積層而成者時，由於在偏光板60形成有偏光板用接著組成物層36a，故在積層液晶層積層體47與偏光板60時，亦容易抑制第1液晶層12被劃傷，且容易抑制光學積層體的外觀不良或光學性能的降低。
本實施形態中為了製造光學積層體而使用的附基材層之第1液晶層10、附基材層之第2液晶層20、附組成物層之液晶層26、附組成物層之偏光板61及使用此等所得之積層物等的膜狀物較佳係均為長條膜狀物，且較佳為連續運送此等各者的同時進行各步驟。
寬度方向W為與膜狀物之長度方向正交的方向。
本實施形態之光學積層體的製造方法可變更為如以下所示之變形例。
又，亦可任意組合上述實施形態及下述所示之變形例。
(實施形態2的變形例1)
上述中，雖舉出在欲獲得附基材層之液晶層積層體46時，使用在附基材層之第2液晶層20形成有液晶層用接著組成物層34a的附組成物層之液晶層26(第4圖(a))的情形為例而加以說明，但不限定於此。液晶層用接著組成物層可形成於附基材層之第1液晶層10的第1液晶層12側，亦可形成於附基材層之第1液晶層10的第1液晶層12側及附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側之兩者。而且，若隔著此液晶層用接著組成物層而將附基材層之第1液晶層10的第1液晶層12側與附基材層之第2液晶層20的第2液晶層22側貼合，並由液晶層用接著組成物層形成液晶層用接著層即可。此時，在從附基材層之第1液晶層10剝離第1基材層11而露出的露出面、或從附基材層之第2液晶層20剝離第2基材層21而露出的露出面皆未形成液晶層用接著組成物層34a，而是在此等露出面以外的面形成液晶層用接著組成物層，因此，咸認可抑制第1液晶層12及第2液晶層22被劃傷，而抑制光學積層體的外觀不良或光學性能的降低。
(實施形態2的變形例2)
與先前實施形態同樣地，於本實施形態中，附基材層之第1液晶層可在第1基材層與第1液晶層之間具有第1配向層，且附基材層之第2液晶層可在第2基材層與第2液晶層之間具有第2配向層。針對具有第1配向層或第2配向層之情形的說明，係如同先前實施形態的變形例中所說明者，故省略其說明。
以上已針對本發明之實施形態及其變形例加以說明，惟本發明不受此等實施形態及其變形例所限定，例如可組合上述之各實施形態及其變形例的各構造及各步驟來實施。以下，茲針對所有實施形態及其變形例中共通的各事項詳細加以說明。
(光學積層體)
光學積層體若為第1光學功能層、屬於接著劑硬化層之接著層及第2光學功能層積層而成者則不特別限定。例如，在第3圖(b)所示之光學積層體52及第5圖(b)所示之光學積層體57中，可藉由將偏光板60設為直線偏光板、將第1液晶層12設為1/2波長板、將第2液晶層22設為1/4波長板，而將光學積層體52、57設為圓偏光板。又，亦可藉由將偏光板60設為直線偏光板、將第1液晶層12設為逆波長分散性的1/4波長板、將第2液晶層22設為正C板，或者將第1液晶層12設為正C板、將第2液晶層22設為逆波長分散性的1/4波長板，而將光學積層體52、57設為圓偏光板。
(第1光學功能層及第2光學功能層)
關於第1光學功能層及第2光學功能層(以下有將兩者統稱為「光學功能層」之情形)，可舉出：液晶層；偏光層、在偏光層之至少單面形成有保護層的偏光板、在偏光板之至少單面積層有防護膜的附防護膜之偏光板等偏光功能層；反射膜；半穿透型反射膜；亮度提升膜；光學補償膜；附防眩功能的膜；相位差膜等，可為具有此等當中的1種者，亦可具有含2種以上的多層構造。又，當光學功能層包含液晶層時，此液晶層可為相位差層或偏光層。本說明書中所謂的「偏光層」係指具有當射入無偏光的光時會使具有與吸收軸正交之振動面的直線偏光穿透之性質的直線偏光層。
(直線偏光層(偏光層))
就偏光層(直線偏光層)而言，較佳為使碘等雙色性色素吸附配向於使聚乙烯醇樹脂膜配向所得者而成者。偏光層可為使雙色性色素吸附配向於單層的聚乙烯醇樹脂膜(聚乙烯醇樹脂膜所含之聚乙烯醇分子為經配向者)而成者，亦可為在基材膜上設有吸附配向有雙色性色素之聚乙烯醇樹脂層的二層以上之積層膜。又，偏光層亦可為使雙色性色素配向於聚合性液晶 化合物，並使聚合性液晶化合物聚合而成的硬化膜。此種偏光層可藉由本技術領域所熟知的各種方法來製造。
(偏光板)
典型上，偏光板係在雙色性色素吸附配向於聚乙烯醇樹脂膜之形式的偏光層之單面或兩面貼合保護層(保護膜)而成的偏光板。此保護層可使用例如由透明性、機械強度、熱穩定性、延伸性等優良的樹脂材料所構成者。具體而言，可舉出：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等纖維素酯系樹脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚苯硫醚系樹脂；聚苯醚系樹脂及此等之混合物、共聚物等。此等樹脂當中，較佳使用環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂中的任一種或此等之混合物。此外，上述「(甲基)丙烯酸」係指「丙烯酸及甲基丙烯酸中的至少1種」。
保護層可為混合有1種或2種以上之樹脂材料的單層，亦可具有2層以上之多層構造。具有多層構造時，構成各層之樹脂可彼此相同或相異。當保護層為以樹脂材料形成的膜時，保護層中可添加任意的添加劑。添加劑可舉出例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料及著色劑等。
雙色性色素吸附配向於聚乙烯醇樹脂膜之形式的偏光層的厚度較佳為20μm以下，更佳為10μm以下。
特佳為僅於偏光板、偏光層的單面貼合有保護層者(以下，稱為「單保護偏光板」)。諸如上述，第1液晶層及第2液晶層係由聚合性液晶化合物所形成者，且為極薄的膜。當直線偏光板為單保護偏光板時，由於其厚度薄，因此結果可使本發明之光學積層體的厚度薄。因此，例如當本發明之光學積層體為圓偏光板，且具備此圓偏光板之有機EL顯示裝置為可彎折或捲繞等的可撓性有機EL顯示裝置時，不易影響彎折或捲繞等，而極為有利。單保護偏光板中的保護層的厚度，雖可依據偏光層本身的厚度而最佳化，但為了確保本發明之光學積層體的良好可撓性，其厚度較佳為50μm以下，更佳為30μm以下。
上述之單保護偏光板可使用例如日本特開2016-122025號公報等所揭示者。
如同上述，偏光層可為使雙色性色素於聚合性液晶化合物配向，並使聚合性液晶化合物聚合而成的硬化膜。此時的偏光層，一般可藉由在基材層或設於基材層上的配向層上塗敷包含聚合性液晶化合物及雙色性色素的組成物並加以乾燥，且利用紫外線等活性能量線的照射，使塗敷膜所含之聚合性液晶化合物聚合、硬化而得。如此所得之基材與偏光層(硬化膜)的積層體可作為單保護偏光板使用。
用以形成上述硬化膜之基材層的厚度不特別限定，一般由強度或操作處理性等作業性的觀點而言，較佳為1至300μm，更佳為10至200μm，再更佳為30至120μm。
(第1基材層及第2基材層)
第1基材層及第2基材層(以下有將兩者統稱為「基材層」之情形)較佳為以樹脂材料形成的膜。此樹脂材料亦與形成上述之偏光板的保護膜的材料相同，可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、延伸性等優良的樹 脂材料。樹脂材料的典型例及較佳例可使用已就偏光板之保護層而例示的樹脂材料。
基材層可為混合有1種或2種以上之樹脂材料的單層，亦可具有2層以上之多層構造。具有多層構造時，構成各層之樹脂材料可彼此相同或相異。當基材層為以樹脂材料形成的膜時，基材層中可添加任意的添加劑。添加劑可舉出例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料及著色劑等。
用以形成液晶層之基材層的厚度不特別限定，一般由強度或操作處理性等作業性的觀點而言，較佳為1至300μm，更佳為10至200μm，再更佳為30至120μm。
(第1配向層及第2配向層)
光學積層體可包含的第1配向層及第2配向層(以下有將兩者統稱為「配向層」之情形)係具有使形成於其上之液晶層所含的聚合性液晶化合物在所期望的方向進行液晶配向的配向限制力。配向層可舉出：以配向性聚合物形成的配向性聚合物層、以光配向聚合物形成的光配向性聚合物層、在層表面具有凹凸圖案或多個溝(groove)的溝配向層。配向層的厚度通常為10至500nm，較佳為10至200nm。
關於配向性聚合物層，可將配向性聚合物已經溶解於溶劑中之組成物塗佈於基材層並去除溶劑，再視需求進行摩擦處理而形成。此時，在以配向性聚合物形成的配向性聚合物層中，配向限制力可根據配向性聚合物的表面狀態或摩擦條件而任意地調整。
光配向性聚合物層可藉由將包含具有光反應性基之聚合物或單體及溶劑的組成物塗佈於基材層，並照射偏光而形成。此時，在光配 向性聚合物層中，配向限制力可根據對光配向性聚合物的偏光照射條件等而任意地調整。
溝配向層可藉由下列方法而形成，例如：對感光性聚醯亞胺膜表面隔著具有圖案形狀之狹縫的曝光用遮罩進行曝光、顯像等而形成凹凸圖案之方法；在表面具有溝之板狀的母版形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化的層，將此層轉印於基材層並硬化之方法；在基材層形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化的層，對此層按壓具有凹凸之圓筒狀的母版等而形成凹凸並使其硬化之方法等。
(第1液晶層及第2液晶層)
第1液晶層及第2液晶層(以下有將兩者統稱為「液晶層」之情形)均是使用聚合性液晶化合物所形成者，此聚合性液晶化合物可使用周知者。聚合性液晶化合物的種類不特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物及此等之混合物。於此，用以形成逆波長分散性的1/4波長板之聚合性液晶化合物較佳為棒狀液晶化合物，例如日本特開2011-207765號公報所記載之聚合性液晶化合物。使用此種聚合性液晶化合物時，可藉由將包含聚合性液晶化合物與溶劑、視需求之各種添加劑的液晶層形成用組成物塗佈於配向層上而形成塗膜，並使此塗膜硬化，而形成屬於液晶硬化層之液晶層。或者，亦可藉由在基材層上塗佈液晶層形成用組成物而形成塗膜，並將此塗膜連同基材層一起進行延伸而形成液晶層。液晶層亦可為相位差層。
液晶層形成用組成物，除上述之聚合性液晶化合物及溶劑之外，亦可包含聚合起始劑、反應性添加劑、調平劑、聚合抑制劑等。聚合性液晶化合物、溶劑、聚合起始劑、反應性添加劑、調平劑、聚合抑制劑等可適宜使用周知者。
(偏光板用接著層)
偏光板用接著層可藉由接著劑、黏著劑及此等之組合而形成，通常為1層，但也可為2層以上。當偏光板用接著層由2層以上的層構成時，各層可彼此以相同的材料形成，亦能以不同材料形成。就用以形成偏光板用接著層之接著劑而言，可舉出與上述之液晶層用接著層所使用之接著劑相同者。
就偏光板用接著層所使用之黏著劑而言，可舉出以(甲基)丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂等作為基底聚合物(base polymer)，並添加有異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙啶(aziridine)化合物等交聯劑的組成物。
可對欲形成偏光板用接著層之層的表面，視需求而進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等表面處理。
(液晶層用接著層)
液晶層用接著層係設於第1液晶層與第2液晶層之間，且為用以貼合此2個液晶層的接著層。液晶層用接著層可直接接觸第1液晶層及第2液晶層，惟亦可直接接觸設於第1液晶層上的第1配向層或設於第2液晶層上的第2配向層。
液晶層用接著層可藉由接著劑、黏著劑及此等之組合而形成，通常為1層，但也可為2層以上。當液晶層用接著層由2層以上的層構成時，各層可彼此以相同的材料形成，亦能以不同材料形成。就形成液晶層用接著層之接著劑而言，可舉出與上述之液晶層用接著層或偏光板用接著層所使用之接著劑及黏著劑相同者。可對欲形成液晶層用接著層之層的表面，視需求而進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等表面處理。
當本發明之光學積層體為圓偏光板，且將此圓偏光板應用於可彎折或捲繞等的可撓性有機EL顯示裝置時，液晶層用接著層較佳為接著劑硬化層。這是因為，即使在屬於圓偏光板之光學積層體隨著可撓性有機EL顯示裝置的彎折或捲繞而被彎折或捲繞時，仍容易抑制在第1液晶層與第2液晶層之間產生皺褶之故。
(光學元件用接著組成物層)
光學元件用接著組成物層可由接著劑、黏著劑及此等之組合而形成，通常為1層，但也可為2層以上。當光學元件用接著組成物層由2層以上的層構成時，各層可彼此以相同的材料形成，亦能以不同材料形成。就形成光學元件用接著組成物層之接著劑及黏著劑而言，可舉出與上述之液晶層用接著層或偏光板用接著層所使用之接著劑及黏著劑相同者。光學元件用接著組成物層較佳係使用黏著劑而形成。可對欲形成光學元件用接著組成物層之層的表面，視需求而進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等表面處理。光學元件用接著組成物層較佳為使用黏著劑所形成的黏著劑層。
以下示出實施例及比較例而對本發明更具體地加以說明，惟本發明不受此等例所限定。實施例中的「%」及「份」，除非特別明述，否則為質量%及質量份。
[接著組成物的準備]
將下述所示陽離子硬化性成分a1至a3及陽離子聚合起始劑混合後，進一步混合下述所示陽離子聚合起始劑及敏化劑並進行脫泡，而調製成光硬化型接著組成物。此外，下述調配量係依據固體成分量。
‧陽離子硬化性成分a1(70份)：
3',4'-環氧基環己烷甲酸3',4'-環氧基環己基甲酯(商品名：CEL2021P，DAICEL股份有限公司製)
‧陽離子硬化性成分a2(20份)：
新戊二醇二環氧丙基醚(商品名：EX-211，Nagase ChemteX股份有限公司製)
‧陽離子硬化性成分a3(10份)：
2-乙基己基環氧丙基醚(商品名：EX-121，Nagase ChemteX股份有限公司製)
‧陽離子聚合起始劑(2.25份(固體成分量))：
商品名：CPI-100(San-Apro股份有限公司製)的50%碳酸伸丙酯溶液
‧敏化劑(2份)：
1,4-二乙氧基萘
[實施例1]
(光配向層形成用組成物的調製)
藉由混合下述成分，並將所得之混合物在溫度80℃攪拌1小時，而得到光配向層形成用組成物。
‧光配向性材料(5份)：
‧溶劑(95份)：環戊酮
(液晶層形成用組成物(A)的調製)
藉由混合下述成分，並將所得之混合物在80℃攪拌1小時，而得到液晶層形成用組成物(A)。聚合性液晶化合物A1能以日本特開2011-207765 號公報所記載之化合物(A11-1)的合成方法來合成。聚合性液晶化合物A2能以日本特開2010-31223號公報所記載之化合物(x-1)的合成方法來合成。
‧聚合性液晶化合物A1(80份)：
‧聚合性液晶化合物A2(20份)：
‧聚合起始劑(6份)：
2-二甲胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎啉基苯基)丁-1-酮(IRGACURE 369；Ciba Specialty Chemicals公司製)
‧調平劑(0.1份)：
聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)
‧溶劑(400份)：環戊酮
(附基材層之液晶層(1)的製造)
使用厚度100μm的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜作為基材層，對此PET膜，使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)，以輸出功率0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件進行處理1次。於已實施過電暈處理的表面，使用棒式塗佈機塗佈光配向層形成用組成物，以80℃乾燥1分鐘，並使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份有限 公司製)，以100mJ/cm2的累計光量實施偏光UV曝光，而得到光配向層。以雷射顯微鏡(LEXT，OLYMPUS股份有限公司製)測定所得光配向層的厚度，結果為100nm。
接著，在光配向層上使用棒式塗佈機塗佈液晶層形成用組成物(A)，以120℃乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈(Unicure VB-15201BY-A，USHIO電機股份有限公司製)照射紫外線(氮氣環境下，波長：365nm，在波長365nm的累計光量：1000mJ/cm2)，藉此形成作為相位差層之液晶層，而得到附基材層之液晶層(1)。液晶層的厚度為2μm。
針對所得之附基材層之液晶層(1)，在液晶層之與基材層為相反側使用棒式塗佈機塗佈上述之接著組成物，目視觀察塗佈面的結果，幾乎未觀察到傷痕。
[比較例1]
按照與實施例1的同樣的程序而得到附基材層之液晶層(1)。將所得之附基材層之液晶層(1)的液晶層側隔著厚度5μm的片狀黏著劑[LINTEC股份有限公司製「NCF #L2」]而貼合於玻璃基板[Corning公司製之無鹼玻璃「EAGLE XG」，厚度0.2mm]後，剝離基材層而得到附玻璃基板之液晶層。僅剝離基材層，光配向層係未剝離而存留。於附玻璃基板之液晶層中的液晶層之基材層的剝離側，使用棒式塗佈機塗佈上述之接著組成物，目視觀察塗佈面的結果，比起在實施例1中所觀察之附基材層之液晶層(1)的液晶層側塗佈有接著組成物的塗佈面看到更多的傷痕。
由實施例1及比較例1顯示，液晶層之與基材層為相反側的表面不易被塗佈裝置或運送輥劃傷。因此可知，根據具有在與第1液晶層中因基材層的剝離而露出的露出面不同之接著面設置接著組成物層之步 驟，而且具有隔著前述接著組成物層而積層第1光學功能層與第2光學功能層之步驟的本案之製造方法，則不易引起外觀不良或光學性能的降低。
[實施例2]
(配向層形成用組成物的調製)
於市售的配向性聚合物之SUNEVER SE-610(日產化學工業股份有限公司製)中添加2-丁氧基乙醇而得到配向層形成用組成物。關於所得之配向層形成用組成物，固體成分相對於該組成物之總量而言的含有比率為1%，溶劑相對於該組成物之總量而言的含有比率為99%。SUNEVER SE-610的固體成分量係由交貨規格書所記載的濃度來換算。
(液晶層形成用組成物(B)的調製)
混合下述成分，將所得之混合物在80℃攪拌1小時後，冷卻至室溫而得到液晶層形成用組成物(B)。
‧聚合性液晶化合物LC242(BASF公司製)(19.2%)：
‧聚合起始劑(0.5%)：
IRGACURE(註冊商標)907(BASF JAPAN公司製)
‧調平劑(0.1%)：
BYK361N(BYK Japan製)
‧反應添加劑(1.1%)：
Laromer(註冊商標)LR-9000(BASF JAPAN公司製)
‧溶劑(79.1%)：丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯
將厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜，使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)，以輸出功率0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件進行處理1次。於已實施過電暈處理的表面，使用棒式塗佈機塗佈配向層形成用組成物，以90℃乾燥1分鐘，而得到配向層。以雷射顯微鏡(LEXT，OLYMPUS股份有限公司製)測定所得配向層的厚度，結果為34nm。
接著，在配向層上使用棒式塗佈機塗佈液晶層形成用組成物(B)，以90℃乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈(Unicure VB-15201BY-A，USHIO電機股份有限公司製)照射紫外線(氮氣環境下，波長：365nm，在波長365nm的累計光量：1000mJ/cm2)，藉此形成作為相位差層之液晶層，而得到附基材層之液晶層(2)。液晶層的厚度為1μm。
針對所得之附基材層之液晶層(2)，在液晶層之與基材層為相反側使用棒式塗佈機塗佈上述之接著組成物，目視觀察塗佈面的結果，幾乎未觀察到傷痕。
[比較例2]
按照與實施例2的同樣的程序而得到附基材層之液晶層(2)。將所得之附基材層之液晶層(2)的液晶層側隔著厚度5μm的片狀黏著劑[LINTEC股份有限公司製「NCF #L2」]而貼合於玻璃基板[Corning公司製之無鹼玻璃「EAGLE XG」，厚度0.2mm]後，剝離基材層而得到附玻璃基板之液晶層。配向層亦連同基材層的剝離而剝離。於附玻璃基板之液晶層中的液晶層之基材層的剝離側，使用棒式塗佈機塗佈上述之接著組成物，目視觀察塗佈面的結果，比起在實施例2中所觀察之附基材層之液晶層(2)的液晶層側塗佈有接著組成物的塗佈面看到更多的傷痕。
由實施例2及比較例2的結果顯示，液晶層之與基材層為相反側的表面不易被塗佈裝置或運送輥劃傷。因此可知，根據具有在與第1液晶層中因基材層的剝離而露出的露出面不同之接著面設置接著組成物層之步驟，而且具有隔著接著組成物層而積層第1光學功能層與第2光學功能層之步驟的本案之製造方法，則不易引起外觀不良或光學性能的降低。
Claims (9)
- 一種光學積層體的製造方法，該光學積層體係依序包含第1光學功能層、接著層及第2光學功能層，其中，前述光學積層體為圓偏光板，前述接著層為接著劑硬化而成的接著劑硬化層，前述第1光學功能層包含在第1基材層上將聚合性液晶化合物聚合而形成的第1液晶層，前述第2光學功能層包含在第2基材層上將聚合性液晶化合物聚合而形成的第2液晶層，前述第1光學功能層係依序包含：至少包含直線偏光層之偏光功能層、偏光功能層用接著層及前述第1液晶層，前述第2光學功能層為附基材層之第2液晶層，該附基材層之第2液晶層具有前述第2液晶層及前述第2基材層，前述第1光學功能層及前述第2光學功能層係在前述接著層側各自具有接著面，前述接著面中的一接著面為會因前述第1基材層的剝離而露出的露出面，前述接著面中的另一接著面為前述第2液晶層之與前述第2基材層為相反側的面，前述第1液晶層及前述第2液晶層係滿足下述[a]或[b]之關係：[a]前述第1液晶層為1/2波長板，前述第2液晶層為1/4波長板；[b]前述第1液晶層及前述第2液晶層中的一者為逆波長分散性的1/4波長板，另一者為正C板；前述光學積層體的製造方法係包含： 於前述接著面中的另一接著面，藉由塗佈前述接著劑而設置用以形成前述接著層的接著組成物層之步驟；隔著前述接著組成物層而積層前述第1光學功能層與前述第2光學功能層之步驟；及在前述積層步驟之後，剝離前述第2基材層之步驟。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體的製造方法，其更包含準備附偏光功能層之液晶層之步驟，其中，該附偏光功能層之液晶層係依序具有：前述偏光功能層、前述偏光功能層用接著層、以及附基材層之第1液晶層，前述附基材層之第1液晶層係從前述偏光功能層用接著層側起依序具有前述第1液晶層及前述第1基材層，前述一接著面為會藉由從前述附偏光功能層之液晶層剝離前述第1基材層而露出的露出面。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之光學積層體的製造方法，其中，前述偏光功能層用接著層為黏著劑層。
- 一種光學積層體的製造方法，該光學積層體係依序包含第1光學功能層、接著層及第2光學功能層，其中，前述光學積層體為圓偏光板，前述接著層為接著劑硬化而成的接著劑硬化層，前述第1光學功能層包含在第1基材層上將聚合性液晶化合物聚合而形成的第1液晶層，前述第1光學功能層係依序包含前述第1液晶層、液晶層用接著層及第2液晶層， 前述第1光學功能層及前述第2光學功能層係在前述接著層側各自具有接著面，前述接著面中的一接著面為會因前述第1基材層的剝離而露出的露出面，前述第2光學功能層為至少包含直線偏光層的偏光功能層，前述第1液晶層及前述第2液晶層係滿足下述[a]或[b]之關係：[a]前述第1液晶層為1/2波長板，前述第2液晶層為1/4波長板；[b]前述第1液晶層及前述第2液晶層中的一者為逆波長分散性的1/4波長板，另一者為正C板；前述光學積層體的製造方法係包含：於前述接著面中的另一接著面，藉由塗佈前述接著劑而設置用以形成前述接著層的接著組成物層之步驟；及隔著前述接著組成物層而積層前述第1光學功能層與前述第2光學功能層之步驟。
- 如申請專利範圍第4項所述之光學積層體的製造方法，其更包含準備附基材層之液晶層積層體之步驟，其中，該附基材層之液晶層積層體係依序具有：前述第1基材層、前述第1液晶層、前述液晶層用接著層、以及附基材層之第2液晶層，前述附基材層之第2液晶層係從前述液晶層用接著層側起依序具有前述第2液晶層及第2基材層，前述一接著面為會藉由從前述附基材層之液晶層積層體剝離前述第1基材層而露出的露出面。
- 如申請專利範圍第5項所述之光學積層體的製造方法，其在前述積層步驟之後包含剝離前述第2基材層之步驟。
- 如申請專利範圍第5或6項所述之光學積層體的製造方法，其中，前述液晶層用接著層為黏著劑層。
- 如申請專利範圍第1、2、4至6項中任一項所述之光學積層體的製造方法，其更包含：準備具有前述第1基材層與前述第1液晶層的附基材層之第1液晶層之步驟；及剝離前述第1基材層之步驟。
- 如申請專利範圍第8項所述之光學積層體的製造方法，其中，前述光學積層體係於前述第1液晶層之前述第1基材層側包含配向層。
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