KR20190134508A

KR20190134508A - 광학 적층체의 제조 방법

Info

Publication number: KR20190134508A
Application number: KR1020190060200A
Authority: KR
Inventors: 도시유키 나카; 도시타카 구라모토
Original assignee: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date: 2018-05-25
Filing date: 2019-05-22
Publication date: 2019-12-04
Also published as: TW202003248A; TWI816795B; JP2019215584A; JP7399655B2; JP2019207391A

Abstract

광학 적층체는 제1 광학 기능층, 접착층 및 제2 광학 기능층을 이 순서로 포함하고, 접착층은 접착제가 경화된 접착제 경화층이다. 제1 광학 기능층 및 제2 광학 기능층 중 적어도 한쪽은 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성된 액정층을 포함한다. 제1 광학 기능층 및 제2 광학 기능층은 접착층 측에 각각 접착면을 가지고, 접착면 중 한쪽의 접착면만이 기재층의 박리에 의해서 노출된 노출면이다. 광학 적층체의 제조 방법은, 접착면 중 다른 쪽의 접착면에, 접착층을 형성하기 위한 접착 조성물층을, 접착제를 도포함으로써 형성하는 공정과, 접착 조성물층을 통해 제1 광학 기능층과 제2 광학 기능층을 적층하는 공정을 포함한다.

Description

광학 적층체의 제조 방법{METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL LAMINATE}

본 발명은 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.

유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치에서는, 편광 필름이나 위상차 필름 등의 광학 이방성 필름을 포함하는 부재가 이용되고 있다. 이러한 광학 이방성 필름으로서, 기재 필름 상에 액정 화합물의 층을 형성한 것이 알려져 있다. JP2014-222282호 공보에는, 원편광판 등에 이용되는 광학 필름의 위상차층에 액정 재료를 이용하는 것이 기재되어 있다.

본 발명은, 액정층을 갖는 광학 적층체를 제조하기에 적합한 광학 적층체의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 이하에 나타내는 광학 적층체의 제조 방법을 제공한다.

[1] 제1 광학 기능층, 접착층 및 제2 광학 기능층을 이 순서로 포함하는 광학 적층체의 제조 방법으로서,

상기 접착층은 접착제가 경화된 접착제 경화층이고,

상기 제1 광학 기능층 및 상기 제2 광학 기능층 중 적어도 한쪽은 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성된 액정층을 포함하고,

상기 제1 광학 기능층 및 상기 제2 광학 기능층은 상기 접착층 측에 각각 접착면을 가지고,

상기 접착면 중 한쪽의 접착면만이 상기 기재층의 박리에 의해서 노출된 노출면이고,

상기 접착면 중 다른 쪽의 접착면에, 상기 접착층을 형성하기 위한 접착 조성물층을, 상기 접착제를 도포함으로써 형성하는 공정과,

상기 접착 조성물층을 통해 상기 제1 광학 기능층과 상기 제2 광학 기능층을 적층하는 공정을 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.

[2] 상기 제1 광학 기능층은 제1 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성된 제1 액정층을 포함하고,

상기 한쪽의 접착면은 상기 제1 기재층의 박리에 의해서 노출된 노출면이고,

상기 제2 광학 기능층은 제2 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성된 제2 액정층을 포함하고,

상기 다른 쪽의 접착면은 상기 제2 액정층의 상기 제2 기재층과는 반대측의 면인 [1]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[3] 상기 제2 광학 기능층은 상기 제2 액정층 및 상기 제2 기재층을 갖는 기재층 구비 제2 액정층이고,

상기 적층하는 공정 후에, 상기 제2 기재층을 박리하는 공정을 포함하는 [2]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[4] 상기 제1 광학 기능층은 직선편광층을 적어도 포함하는 편광 기능층, 편광 기능층용 접착층 및 상기 제1 액정층을 이 순서로 포함하는 [2] 또는 [3]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[5] 상기 편광 기능층과, 상기 편광 기능층용 접착층과, 상기 편광 기능층용 접착층 측에서부터 순차로 상기 제1 액정층 및 상기 제1 기재층을 갖는 기재층 구비 제1 액정층을, 이 순서로 갖는 편광 기능층 구비 액정층을 준비하는 공정을 추가로 포함하고,

상기 한쪽의 접착면은 상기 편광 기능층 구비 액정층으로부터 상기 제1 기재층을 박리함으로써 노출된 노출면인 [4]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[6] 상기 편광 기능층용 접착층은 점착제층인 [4] 또는 [5]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[7] 상기 제1 광학 기능층은 제1 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성된 제1 액정층을 포함하고,

상기 제2 광학 기능층은 직선편광층을 적어도 포함하는 편광 기능층인 [1]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[8] 상기 제1 광학 기능층은 상기 제1 액정층, 액정층용 접착층 및 제2 액정층을 이 순서로 포함하는 [7]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[9] 상기 제1 기재층과, 상기 제1 액정층과, 상기 액정층용 접착층과, 상기 액정층용 접착층 측에서부터 순차로 상기 제2 액정층 및 제2 기재층을 갖는 기재층 구비 제2 액정층을, 이 순서로 갖는 기재층 구비 액정층 적층체를 준비하는 공정을 추가로 포함하고,

상기 한쪽의 접착면은 상기 기재층 구비 액정층 적층체로부터 상기 제1 기재층을 박리함으로써 노출된 노출면인 [8]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[10] 상기 적층하는 공정 후에, 상기 제2 기재층을 박리하는 공정을 포함하는 [9]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[11] 상기 액정층용 접착층은 점착제층인 [9] 또는 [10]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[12] 상기 광학 적층체는 원편광판이고,

상기 제1 액정층 및 상기 제2 액정층은 하기 [a] 또는 [b]:

[a] 상기 제1 액정층이 1/2 파장판이며, 상기 제2 액정층이 1/4 파장판이고,

[b] 상기 제1 액정층 및 상기 제2 액정층 중 한쪽이 역파장 분산성의 1/4 파장판이고, 다른 쪽이 포지티브 C 플레이트인

관계를 만족하는 [4]∼[6], [8]∼[11]의 어느 것에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[13] 상기 제1 기재층과 상기 제1 액정층을 갖는 기재층 구비 제1 액정층을 준비하는 공정과,

상기 제1 기재층을 박리하는 공정을 추가로 포함하는 [2]∼[12]의 어느 것에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

[14] 상기 광학 적층체는 상기 제1 액정층의 상기 제1 기재층 측에 배향층을 포함하는 [13]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.

본 발명에 의하면, 액정층을 갖는 광학 적층체를 제조하기에 적합한 광학 적층체의 제조 방법을 제공할 수 있다.

도 1의 (a)∼(d)는 본 발명의 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 2의 (a)∼(d)는 도 1에 도시하는 광학 적층체의 제조 공정의 연속을 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 3의 (a)∼(c)는 도 2에 도시하는 광학 적층체의 제조 공정의 연속을 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 4의 (a)∼(d)는 본 발명의 광학 적층체의 제조 공정의 다른 예를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 5의 (a)∼(d)는 도 4에 도시하는 광학 적층체의 제조 공정의 연속을 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법의 바람직한 실시형태에 관해서 설명한다. 또한, 이하에 나타내는 각 실시형태 및 그의 변형예는 임의로 조합하여도 좋다. 또한, 각 실시형태 및 그의 변형예에 있어서, 이들보다도 앞의 실시형태 또는 그의 변형예에서 설명한 부재와 동일한 부재에 관해서는 동일한 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.

[실시형태 1]

도 1∼도 3은 본 발명의 광학 적층체의 제조 공정의 일례(실시형태 1)를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다. 도면에서, W는 폭 방향을 나타낸다. 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 적층체(52)는, 도 3(b)에 도시하는 것과 같이, 편광층(직선편광층, 편광 기능층)의 적어도 한쪽의 면에 보호층이 형성된 편광판(60)(편광 기능층), 편광판용 접착층(36)(편광 기능층용 접착층), 제1 액정층(12), 액정층용 접착층(30)(접착층), 제2 액정층(22)을 이 순서로 포함한다. 광학 적층체(52)는 원편광판인 것이 바람직하고, 이 경우, 제1 액정층(12) 및 제2 액정층(22)은 하기 [a] 또는 [b]:

[a] 제1 액정층(12)이 1/2 파장판이며, 제2 액정층(22)이 1/4 파장판이고,

[b] 제1 액정층(12) 및 제2 액정층(22) 중 한쪽이 역파장 분산성의 1/4 파장판이고, 다른 쪽이 포지티브 C 플레이트인

관계를 만족하는 것이 바람직하다. 상기 [b]에 있어서, 제1 액정층(12)이 역파장 분산성의 1/4 파장판이고, 제2 액정층(22)이 포지티브 C 플레이트인 것이 바람직하다.

광학 적층체(52)의 액정층용 접착층(30)은, 후술하는 것과 같이, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측에 접착제를 도포하여, 이 도포한 접착제가 경화된 접착제 경화층이다. 본 명세서에 있어서 「접착제」는 「점착제」와 구별하여 이용된다. 본 명세서에 있어서 접착제는, 화학 반응 등에 의해서 고화됨으로써 2개의 부재를 접합하여 일체화하는 제제를 의미하며, 접합 전후에 상태가 변화되는 것이다. 본 명세서에서는, 이 접착제가 고화된 것을 접착제 경화층이라고 한다. 본 명세서에 있어서 점착제는, 고화 과정을 거치는 일 없이 그 높은 점성에 의해 2개의 부재를 접합하는 제제를 의미하며, 접합 전후에 상태가 변화하지 않는 것이다. 본 명세서에서는 이 점착제에 의해서 형성된 층을 점착제층이라고 한다.

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 적층체는, 도 2(d)나 도 3(c)에 도시하는 것과 같이, 제2 액정층(22)의 액정층용 접착층(30)과는 반대측에 제2 기재층(21)이나 광학 소자용 접착 조성물층(35)을 포함하는 것이라도 좋다. 편광판(60)에 포함되는 편광층은, 중합성 액정 화합물에 2색성 색소를 배향시킨 경화막(액정층)이라도 좋지만, 폴리비닐알코올 수지 필름에 2색성 색소가 흡착 배향된 편광 필름이라도 좋다. 편광층의 상세한 내용에 관해서는 후술한다.

도 3(b)에 도시하는 광학 적층체(52)의 제조 방법에서는, 우선 편광판(60)의 한쪽의 면에 편광판용 접착층(36)을 형성하기 위한 편광판용 접착 조성물층(36a)이 마련된 조성물층 구비 편광판(61)을 준비하는 공정(도 1(a)) 및 제1 기재층(11)(기재층) 상에 제1 액정층(12)(액정층)이 형성된 기재층 구비 제1 액정층(10)을 준비하는 공정(도 1(b))을 행한다.

조성물층 구비 편광판(61)을 준비하는 공정은, 광학 적층체(52)의 편광판용 접착층(36)이 접착제 경화층인 경우에는, 편광판(60)의 한쪽의 면에 접착제를 도포하는 공정을 갖추더라도 좋고, 필요에 따라서 도포된 접착제를 건조하는 공정을 갖추고 있어도 좋다. 또한, 조성물층 구비 편광판(61)을 준비하는 공정은, 광학 적층체(52)의 편광판용 접착층(36)이 점착제층인 경우에는, 편광판(60)의 한쪽의 면에 점착제를 도포하는 공정이나, 필요에 따라서 도포된 점착제를 건조하는 공정을 갖추고 있어도 좋고, 혹은 이형 필름의 이형 처리면에 점착제층을 형성하여, 이형 필름의 점착제층을 편광판(60)에 전사하는 공정을 갖추고 있어도 좋다. 또한 본 실시형태에 있어서, 편광판용 접착 조성물층(36a)이 마련되는 편광판(60)의 표면은, 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합한 후, 기재층을 박리하여 노출된 노출면이 아닌 것으로 한다.

기재층 구비 제1 액정층(10)을 준비하는 공정은, 제1 기재층(11)과, 제1 기재층(11) 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 얻어진 제1 액정층(12)을 포함하는 기재층 구비 제1 액정층(10)을 준비할 수 있으면 좋고, 제1 기재층(11) 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 제1 액정층(12)을 형성하는 공정을 갖추고 있어도 좋다. 제1 기재층(11) 상에서 중합성 액정 화합물을 중합할 때는, 제1 기재층(11) 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정층 형성용 조성물을 도포하여 건조한 후, 중합성 액정 화합물을 중합하여 제1 액정층(12)을 형성하여도 좋다. 액정층 형성용 조성물은, 중합성 액정 화합물 외에, 용제, 중합개시제, 반응성 첨가제, 레벨링제, 중합금지제 등을 포함하고 있어도 좋다.

이어서, 제1 편광판 구비 액정층(41)(편광 기능층 구비 액정층)을 준비한다. 제1 편광판 구비 액정층(41)은, 조성물층 구비 편광판(61)의 편광판용 접착 조성물층(36a)과 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12)을 접합하고(도 1(c)), 또한 편광판용 접착 조성물층(36a)으로 편광판용 접착층(36)을 형성하여 얻을 수 있다(도 1(d)). 편광판용 접착 조성물층(36a)으로 편광판용 접착층(36)을 형성하는 방법으로서는, 편광판용 접착 조성물층(36a)에 포함되는 성분에 따라서 선택하면 되며, 예컨대 편광판용 접착 조성물층(36a)을 경화시키는 처리를 행하여도 좋고, 경화 처리가 필요하지 않은 성분인 경우에는 특별한 처리를 하지 않고서 편광판용 접착 조성물층(36a)을 편광판용 접착층(36)으로 하여도 좋다. 제1 편광판 구비 액정층(41)은, 도 1(d)에 도시하는 것과 같이, 편광판(60), 편광판용 접착층(36), 제1 액정층(12) 및 제1 기재층(11)을 이 순서로 포함한다.

그 후, 제1 편광판 구비 액정층(41)으로부터 제1 기재층(11)을 박리함으로써, 편광판(60), 편광판용 접착층(36) 및 제1 액정층(12)을 이 순서로 포함하는 제2 편광판 구비 액정층(42)(제1 광학 기능층)을 얻는다(도 2(a)).

이어서, 제2 기재층(21)(기재층) 상에 제2 액정층(22)(액정층)이 형성된 기재층 구비 제2 액정층(20)(제2 광학 기능층)을 준비하는 공정을 행한다(도 2(b)). 기재층 구비 제2 액정층(20)을 준비하는 공정은, 기재층 구비 제1 액정층(10)을 준비하는 공정과 마찬가지로, 제2 기재층(21) 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 제2 액정층(22)을 형성하는 공정을 갖추고 있어도 좋고, 제2 기재층(21) 상에 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정층 형성용 조성물을 도포하여 건조한 후, 중합성 액정 화합물을 중합하여 제2 액정층(22)을 형성하여도 좋다.

그 후, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측(다른 쪽의 접착면) 상에, 접착제 경화층인 액정층용 접착층(30)을 형성하기 위한 액정층용 접착 조성물층(30a)(접착 조성물층)이 마련된 조성물층 구비 액정층(25)을 얻는 공정을 행하한다(도 2(c)). 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 상에 액정층용 접착 조성물층(30a)을 형성하는 공정은, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측에 접착제를 도포하는 공정을 갖추고, 필요에 따라서 도포된 접착제를 건조하는 공정을 갖추고 있어도 좋다. 조성물층 구비 액정층(25)은, 도 2(c)에 도시하는 것과 같이, 액정층용 접착 조성물층(30a), 제2 액정층(22) 및 제2 기재층(21)을 이 순서로 포함한다.

이어서, 조성물층 구비 액정층(25)의 액정층용 접착 조성물층(30a)과 도 2(a)에 도시하는 제2 편광판 구비 액정층(42)(제1 광학 기능층)의 제1 액정층(12)측(한쪽의 접착면, 노출면)을 접합하는 공정을 행하고(도 2(d)), 액정층용 접착 조성물층(30a)으로 액정층용 접착층(30)을 형성하여 기재층 구비 광학 적층체(51)(광학 적층체)를 얻는다(도 3(a)). 액정층용 접착 조성물층(30a)으로 접착제 경화층인 액정층용 접착층(30)을 형성하는 방법으로서는, 액정층용 접착 조성물층(30a)에 포함되는 성분에 따라서 선택하면 되며, 예컨대 액정층용 접착 조성물층(30a)을 경화시키는 처리를 행하면 된다. 기재층 구비 광학 적층체(51)는, 도 3(a)에 도시하는 것과 같이, 편광판(60), 편광판용 접착층(36), 제1 액정층(12), 액정층용 접착층(30), 제2 액정층(22) 및 제2 기재층(21)을 이 순서로 포함한다.

접착제 경화층인 액정층용 접착층(30)을 형성하기 위한 접착제(접착 조성물)는, 도포에 의해 액정층용 접착 조성물층(30a)을 형성하기 위해서 유동성을 갖는 것이라면 특별히 한정되지 않지만, 도포에 알맞은 적절한 점도를 갖는 액상 접착제인 것이 바람직하다. 액정층용 접착층(30)은, 광학 적층체에 이용되는 것이기 때문에 투명한 것이 바람직하며, 예컨대 광학 분야에서 이용되고 있는 공지된 접착제를 이용할 수 있다.

접착제는, 예컨대 수계 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 점착제 등 중 1 또는 2종 이상을 조합하여 형성할 수 있다. 수계 접착제로서는, 예컨대 폴리비닐알코올계 수지 수용액, 수계 2액형 우레탄계 에멀젼 접착제 등을 들 수 있다. 활성 에너지선 경화형 접착제로서는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화하는 접착제이며, 예컨대 중합성 화합물 및 광중합성 개시제를 포함하는 것, 광반응성 수지를 포함하는 것, 바인더 수지 및 광반응성 가교제를 포함하는 것 등을 들 수 있다. 상기 중합성 화합물로서는, 광경화성 에폭시계 모노머, 광경화성 아크릴계 모노머, 광경화성 우레탄계 모노머 등의 광중합성 모노머나, 이들 모노머에 유래하는 올리고머 등을 들 수 있다. 상기 광중합개시제로서는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하여 중성 라디칼, 음이온 라디칼, 양이온 라디칼과 같은 활성종을 발생하는 물질을 포함하는 것을 들 수 있다.

접착제 경화층인 액정층용 접착층(30)은, 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하여 형성되는 것이 바람직하고, 특히 자외선 경화성의 에폭시계 모노머 및 광양이온 중합개시제를 포함하는 접착제를 이용하여 형성되는 것이 바람직하다.

기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측과 같이, 접착제가 도포되는 표면에는, 필요에 따라서 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등의 표면 처리를 행하여도 좋다.

접착제의 도포 장치는 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 광학 분야에서 이용되고 있는 공지된 도포 장치를 이용할 수 있다. 도포 장치의 구체예로서는, 바 코터, 다이 코터, 콤마 코터, 그라비아 코터 등을 들 수 있다. 이들 중, 얻어지는 접착제 경화층의 막 두께의 균일성 등을 고려하면, 바 코터나 그라비아 코터를 이용하는 것이 바람직하다.

광학 적층체(52)의 제조 방법은, 추가로, 기재층 구비 광학 적층체(51)로부터 제2 기재층(21)을 박리하는 공정(도 3(b)) 및 제2 기재층(21)을 박리하여 노출된 제2 액정층(22)의 제2 기재층(21) 측의 노출면에 광학 소자용 접착 조성물층(35)을 형성하여, 접착 조성물층 구비 광학 적층체(53)(광학 적층체)를 얻는 공정(도 3(c))을 포함하고 있어도 좋다. 접착 조성물층 구비 광학 적층체(53)는, 도 3(c)에 도시하는 것과 같이, 편광판(60), 편광판용 접착층(36), 제1 액정층(12), 액정층용 접착층(30), 제2 액정층(22) 및 광학 소자용 접착 조성물층(35)을 이 순서로 포함한다.

본 발명자들은, 상기한 기재층 구비 제1 액정층(10)이나 기재층 구비 제2 액정층(20)과 같이, 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성된 액정층을 갖는 기재층 구비 액정층에서는, 기재층 구비 액정층으로부터 기재층을 박리하여 노출된 노출면이, 그 반대측(중합성 액정 화합물의 중합 시에 대기에 노출되어 있는 측)과 비교하면, 접착 조성물을 도포하는 도포 장치나 기재층 구비 액정층을 반송하는 반송 롤에 의해서 상처가 나기 쉽다는 것을 알아냈다. 액정층에 생기는 상처는, 광학 적층체의 외관 불량을 야기하거나 광학 적층체의 광학 성능을 저하시키거나 하는 등의 문제점의 원인이 되는 경우가 있다.

그래서, 광학 적층체(52)의 제조 방법에서는, 도 2의 (a)∼(c)에 도시하는 것과 같이, 기재층 구비 제2 액정층(20)과 제2 편광판 구비 액정층(42)을 액정층용 접착 조성물층(30a)을 통해 적층하는 경우에, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측에 액정층용 접착 조성물층(30a)을 형성하고 있다. 이와 같이, 액정층용 접착 조성물층(30a)을 통해, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측과 제2 편광판 구비 액정층(42)의 제1 액정층(12)을 접합할 때는, 제1 편광판 구비 액정층(41)으로부터 제1 기재층(11)을 박리하여 노출된 노출면이나, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 기재층(21)을 박리하여 노출된 노출면에는 액정층용 접착 조성물층(30a)을 형성하지 않고, 이들 노출면 이외의 면인 제2 액정층(22)의 제2 기재층(21)과는 반대측에 액정층용 접착 조성물층(30a)을 형성하고 있다. 그 때문에, 상기한 광학 적층체(52)의 제조 방법에서는, 제1 액정층(12)이나 제2 액정층(22)에 상처가 나는 것을 억제하여, 광학 적층체의 외관 불량이나 광학 성능의 저하를 억제할 수 있다고 생각된다.

접착제 경화층인 액정층용 접착층(30)을 형성하기 위해서 이용되는 접착제의 도포에 의한 접합은, 간편한 설비에 의해서 실시할 수 있기 때문에 공업적으로 유리하다. 상기한 것과 같이, 기재층 구비 액정층으로부터 기재층을 박리하여 노출된 노출면은, 접착제를 도포하는 도포 장치 등에 의해서 상처가 나기 쉽지만, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 접착제를 도포하는 표면으로서, 기재층 구비 액정층으로부터 기재층을 박리하여 노출된 노출면이 아닌 표면을 선택하고 있다. 그 때문에, 액정층용 접착층(30)을 형성하기 위해서 접착제를 이용한 경우에도, 광학 적층체(52)의 외관 불량이나 광학 성능의 저하를 억제하기 쉽다고 생각된다.

또한, 일반적으로 점착제를 이용하여 형성된 점착제층은, 접착제를 이용하여 형성된 접착제 경화층과 비교하여 강성이 낮다. 그 때문에, 편광판용 접착층(36)이 점착제층인 경우, 도 2(a)에 도시하는 제2 편광판 구비 액정층(42)의 제1 액정층(12) 측에 액정층용 접착 조성물층(30a)을 형성하면, 편광판용 접착층(36)이 접착제 경화층인 경우와 비교하여, 제1 액정층(12)에 의해 상처가 나기 쉽다고 추측된다. 본 실시형태의 광학 적층체(52)의 제조 방법에서는, 제2 편광판 구비 액정층(42)이 점착제층을 통해 제1 액정층(12)과 편광판(60)이 적층되어 있는 것인 경우에도, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측에 액정층용 접착 조성물층(30a)을 형성하고 있기 때문에, 제2 편광판 구비 액정층(42)과 기재층 구비 제2 액정층(20)을 적층할 때에, 제1 액정층(12)이나 제2 액정층(22)에 상처가 나는 것을 억제하기 쉬워, 광학 적층체의 외관 불량이나 광학 성능의 저하가 억제되기 쉽다고 생각된다.

또한, 본 실시형태에 있어서 광학 적층체를 제조하기 위해서 이용되는, 조성물층 구비 편광판(61), 기재층 구비 제1 액정층(10), 기재층 구비 제2 액정층(20), 조성물층 구비 액정층(25) 및 이들을 이용하여 얻어지는 적층물 등의 필름 형상물은, 모두 장척의 필름 형상물인 것이 바람직하고, 이들을 연속적으로 반송하면서 각 공정을 행하는 것이 바람직하다. 폭 방향(W)은 필름 형상물의 길이 방향에 직교하는 방향이다.

본 실시형태의 광학 적층체의 제조 방법은, 이하에 나타내는 변형예와 같이 변경되어도 좋다. 또한, 상기한 실시형태 및 하기에 나타내는 변형예를 임의로 조합하여도 좋다.

(실시형태 1의 변형예 1)

상기에서는, 도 1(d)에 도시하는 제1 편광판 구비 액정층(41)을 얻을 때에, 편광판(60)에 편광판용 접착 조성물층(36a)이 형성된 조성물층 구비 편광판(61)(도 1(a))을 이용하는 경우를 예로 들어 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 편광판용 접착 조성물층은, 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12) 측에 형성하여도 좋고, 편광판(60) 및 기재층 구비 제1 액정층(12)의 제1 액정층(12) 측의 양쪽에 형성하여도 좋다. 그리고, 이 편광판용 접착 조성물층을 통해, 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12) 측과 편광판(60)을 접합하여, 편광판용 접착 조성물층으로 편광판용 접착층을 형성하면 된다.

또한, 제1 편광판 구비 액정층(41)(광학 적층체)에 있어서 편광판용 접착 조성물층(36a) 측의 편광판(60)의 표면이, 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합한 후, 기재층을 박리하여 노출된 노출면인 경우는, 편광판(60)(제1 광학 기능층)에 편광판용 접착 조성물층(36a)을 형성하는 것이 아니라, 기재층 구비 제1 액정층(10)(제2 광학 기능층)의 제1 액정층(12)에 편광판용 접착 조성물층(36a)을 형성한다. 이 경우, 제1 편광판 구비 액정층(41) 또는 제2 편광판 구비 액정층(42)이 본 발명의 광학 적층체로 될 수 있고, 편광판(60)이 제1 광학 기능층, 기재층 구비 제1 액정층(10) 또는 제1 액정층(12)이 제2 광학 기능층으로 될 수 있다. 본 변형예의 경우에도, 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합한 후, 기재층을 박리하여 노출된 노출면에는 편광판용 접착 조성물층(36a)을 형성하지 않고, 노출면 이외의 면에 편광판용 접착 조성물층(36a)을 형성하고 있다. 그 때문에, 제1 액정층(12)에 상처가 나는 것을 억제하여, 광학 적층체의 외관 불량이나 광학 성능의 저하를 억제할 수 있다고 생각된다.

(실시형태 1의 변형예 2)

상기에서는, 제1 기재층(11) 상에 제1 액정층(12)이 형성된 기재층 구비 제1 액정층(10)(도 1(b)) 및 제2 기재층(21) 상에 제2 액정층(22)이 형성된 기재층 구비 제2 액정층(20)(도 2(b))을 이용하는 경우를 예로 들어 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 기재층 구비 제1 액정층은 제1 기재층과 제1 액정층의 사이에 제1 배향층을 갖고 있어도 좋고, 기재층 구비 제2 액정층은 제2 기재층과 제2 액정층의 사이에 제2 배향층을 갖고 있어도 좋다.

기재층 구비 제1 액정층(10)이 제1 배향층을 갖고 있는 경우, 광학 적층체는, 제1 배향층을 갖고 있어도 좋고, 갖고 있지 않아도 좋다. 광학 적층체가 제1 배향층을 갖는 경우, 제1 편광판 구비 액정층(41)으로부터 제1 기재층을 박리할 때에, 제1 액정층(12) 상에 제1 배향층이 남도록 각 층 사이의 밀착력을 조정하면 되고, 광학 적층체가 제1 배향층을 갖지 않는 경우, 제1 편광판 구비 액정층(41)으로부터 제1 기재층을 박리할 때에, 제1 기재층과 함께 제1 배향층을 박리할 수 있도록 각 층 사이의 밀착력을 조정하면 된다. 광학 적층체가 제1 배향층을 갖는 경우, 제1 배향층은 제1 액정층(12)과 액정층용 접착층(30)의 사이에 마련된다. 또한 본 발명자들은, 제1 편광판 구비 액정층으로부터 제1 기재층을 박리함으로써 형성되는 제2 편광판 구비 액정층의 노출면이 제1 배향층인 경우에도, 제1 액정층의 제1 기재층과는 반대측과 비교하여, 접착 조성물을 도포하는 도포 장치나 반송 롤에 의해서 상처가 나기 쉽다는 것을 확인하고 있다. 그 때문에, 제2 편광판 구비 액정층의 노출면이 제1 배향층인 경우에도, 제1 배향층 상이 아니라, 제1 배향층 이외의 면인 제2 액정층의 제2 기재층과는 반대측에 액정층용 접착 조성물층을 형성함으로써, 제1 액정층이나 제1 배향층에 상처가 나는 것을 억제할 수 있다.

기재층 구비 제2 액정층(20)이 제2 배향층을 갖고 있는 경우, 광학 적층체는, 제2 배향층을 갖고 있어도 좋고, 갖고 있지 않아도 좋다. 광학 적층체가 제2 배향층을 갖는 경우, 기재층 구비 광학 적층체로부터 제2 기재층을 박리할 때에, 제2 액정층 상에 제2 배향층이 남도록 각 층 사이의 밀착력을 조정하면 되고, 광학 적층체가 제2 배향층을 갖지 않는 경우, 기재층 구비 광학 적층체로부터 제2 기재층을 박리할 때에, 제2 기재층과 함께 제2 배향층을 박리할 수 있도록 각 층 사이의 밀착력을 조정하면 된다. 광학 적층체가 제2 배향층을 포함하는 경우, 제2 배향층은 제2 액정층의 액정층용 접착층과는 반대측에 마련되고, 이 제2 배향층 상에 광학 소자용 접착 조성물층이 형성된다.

각 층 사이의 밀착력은, 각 층에 포함되는 성분이나 각 층의 표면에 대하여 행해지는 표면 처리에 의해서 조정할 수 있다. 예컨대, 배향층(제1 배향층 또는 제2 배향층)과, 기재층(제1 기재층 또는 제2 기재층) 및 액정층(제1 액정층 또는 제2 액정층)의 밀착력은, 배향층이나 액정층에 포함되는 중합개시제, 반응성 첨가제, 레벨링제, 중합금지제 등의 첨가제의 종류나 양, 기재층의 배향층 측의 표면이나 기재층 상에 마련된 배향층의 표면에 대하여 행하는 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등의 표면 처리에 의해서 조정할 수 있다.

[실시형태 2]

도 4∼도 5는 본 발명의 광학 적층체의 제조 공정의 일례(실시형태 2)를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다. 도면에서, W는 폭 방향을 나타낸다. 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 적층체(57)의 층 구조는, 도 5(c)에 도시하는 것과 같이, 편광층(직선편광층, 편광 기능층)의 적어도 한쪽의 면에 보호층이 형성된 편광판(60)(편광 기능층), 편광판용 접착층(36)(접착층, 편광 기능층용 접착층), 제1 액정층(12), 액정층용 접착층(34) 및 제2 액정층(22)을 이 순서로 포함한다. 광학 적층체(57)는 원편광판인 것이 바람직하고, 이 경우, 제1 액정층(12) 및 제2 액정층(22)은 하기 [a] 또는 [b]:

광학 적층체(57)의 편광판용 접착층(36)은, 후술하는 것과 같이, 편광판(60)에 접착제를 도포하고, 이 도포한 접착제가 경화된 접착제 경화층이다. 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 광학 적층체는, 도 5(b) 및 도 5(d)에 도시하는 것과 같이, 제2 액정층(22)의 액정층용 접착층(34)과는 반대측에 제2 기재층(21)이나 광학 소자용 접착 조성물층(35)을 포함하는 것이라도 좋다.

도 5(c)에 도시하는 광학 적층체의 제조 방법에서는, 앞의 실시형태에서도 설명한 제1 기재층(11)(기재층) 상에 제1 액정층(12)(액정층)이 형성된 기재층 구비 제1 액정층(10)을 준비하는 공정(도 1(b)), 제2 기재층(21)(기재층) 상에 제2 액정층(22)(액정층)이 형성된 기재층 구비 제2 액정층(20)을 준비하는 공정(도 2(b)), 및 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측 상에, 액정층용 접착층(34)을 형성하기 위한 액정층용 접착 조성물층(34a)이 마련된 조성물층 구비 액정층(26)을 얻는 공정(도 4(a))을 행한다. 기재층 구비 제1 액정층(10)을 준비하는 공정은, 제1 기재층(11) 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 제1 액정층(12)을 형성하는 공정을 갖추고 있어도 좋다. 마찬가지로, 기재층 구비 제2 액정층(20)을 준비하는 공정은, 제2 기재층(21) 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 제2 액정층(22)을 형성하는 공정을 갖추고 있어도 좋다.

조성물층 구비 액정층(26)을 얻는 공정은, 광학 적층체(57)의 액정층용 접착층(34)이 접착제 경화층인 경우에는, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측에 접착제를 도포하는 공정을 갖추더라도 좋고, 필요에 따라서 도포된 접착제를 건조하는 공정을 갖추고 있어도 좋다. 또한, 조성물층 구비 액정층(26)을 얻는 공정은, 광학 적층체(57)의 액정층용 접착층(34)이 점착제층인 경우에는, 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측에 점착제를 도포하는 공정이나, 필요에 따라서 도포된 점착제를 건조하는 공정을 갖추고 있어도 좋고, 혹은 이형 필름의 이형 처리면에 점착제층을 형성하여, 이형 필름의 점착제층을 기재층 구비 제2 액정층(20)에 전사하는 공정을 갖추고 있어도 좋다.

이어서, 기재층 구비 액정층 적층체(46)를 준비한다. 기재층 구비 액정층 적층체(46)는, 조성물층 구비 액정층(26)의 액정층용 접착 조성물층(34a)을 통해 제1 액정층(12)과 제2 액정층(22)이 대향하도록, 기재층 구비 제1 액정층(10)과 조성물층 구비 액정층(26)을 적층하고(도 4(b)), 액정층용 접착 조성물층(34a)으로 액정층용 접착층(34)을 형성하여 얻을 수 있다(도 4(c)). 기재층 구비 액정층 적층체(46)는, 도 4(c)에 도시하는 것과 같이, 제1 기재층(11), 제1 액정층(12), 액정층용 접착층(34), 제2 액정층(22) 및 제2 기재층(21)을 이 순서로 포함한다.

그 후, 기재층 구비 액정층 적층체(46)로부터 제1 기재층(11)을 박리함으로써, 제1 액정층(12), 액정층용 접착층(34), 제2 액정층(22) 및 제2 기재층(21)을 이 순서로 포함하는 액정층 적층체(47)(제1 광학 기능층)을 얻는다(도 4(d)).

이어서, 조성물층 구비 편광판(61)을 준비하는 공정(도 1(a))을 행한다. 조성물층 구비 편광판(61)을 준비하는 공정은, 앞의 실시형태에서도 설명한 것과 같이, 편광판(60)(제2 광학 기능층)의 한쪽의 면(다른 쪽의 접착면)에 편광판용 접착층(36)을 형성하기 위한 편광판용 접착 조성물층(36a)(접착 조성물층)을 마련하는 공정이다. 본 실시형태에 있어서, 편광판용 접착층(36)은 접착제 경화층이고, 편광판용 접착 조성물층(36a)은, 편광판(60)의 한쪽의 면에 접착제를 도포함으로써 형성된다. 또한 본 실시형태에 있어서, 편광판용 접착 조성물층(36a)이 마련되는 편광판(60)의 표면은, 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합한 후, 기재층을 박리하여 노출된 노출면이 아닌 것으로 한다. 그 후, 준비한 조성물층 구비 편광판(61)의 편광판용 접착 조성물층(36a)과, 액정층 적층체(47)(제1 광학 기능층)의 제1 액정층(12) 측(한쪽의 접착면, 노출면)을 접합하는 공정을 행하고(도 5(a)), 편광판용 접착 조성물층(36a)으로 편광판용 접착층(36)을 형성하여 기재층 구비 광학 적층체(56)(광학 적층체)를 얻는다(도 5(b)). 기재층 구비 광학 적층체(56)는, 도 5(b)에 도시하는 것과 같이, 편광판(60), 편광판용 접착층(36), 제1 액정층(12), 액정층용 접착층(34), 제2 액정층(22) 및 제2 기재층(21)을 이 순서로 포함한다.

편광판용 접착층(36)을 형성하기 위한 접착제, 접착제의 도포 장치, 편광판용 접착 조성물층(36a)으로 편광판용 접착층(36)을 형성하는 방법에 관해서는, 앞의 실시형태에 있어서, 접착제 경화층인 액정층용 접착층(30)을 형성하는 경우와 같은 식으로 행할 수 있다.

광학 적층체(57)의 제조 방법은, 추가로, 기재층 구비 광학 적층체(56)로부터 제2 기재층(21)을 박리하는 공정(도 5(c)) 및 제2 기재층(21)을 박리하여 노출된 제2 액정층(22) 측에 광학 소자용 접착 조성물층(35)을 형성하여 접착 조성물층 구비 광학 적층체(58)(광학 적층체)를 얻는 공정(도 5(d))을 포함하고 있어도 좋다. 접착 조성물층 구비 광학 적층체(58)는, 도 5(d)에 도시하는 것과 같이, 편광판(60), 편광판용 접착층(36), 제1 액정층(12), 액정층용 접착층(34), 제2 액정층(22) 및 광학 소자용 접착 조성물층(35)을 이 순서로 포함한다.

본 실시형태의 광학 적층체(57)의 제조 방법에서는, 도 1(a), 도 4(d) 및 도 5(a)에 도시하는 것과 같이, 액정층 적층체(47)와 조성물층 구비 편광판(61)을 편광판용 접착 조성물층(36a)을 통해 적층하는 경우에, 편광판(60)에 편광판용 접착 조성물층(36a)을 형성하고 있다. 이와 같이, 편광판용 접착 조성물층(36a)을 통해, 액정층 적층체(47)의 제1 액정층(12) 측과 편광판(60)을 적층할 때는, 기재층 구비 액정층 적층체(46)로부터 제1 기재층(11)을 박리하여 노출된 노출면에는 편광판용 접착 조성물층(36a)을 형성하지 않고, 이 노출면 이외의 면인 편광판(60)의 한쪽의 면에 편광판용 접착 조성물층(36a)을 형성하고 있다. 그 때문에, 상기한 광학 적층체(57)의 제조 방법에서는, 편광판용 접착 조성물을 도포하는 도포 장치나 액정 층 적층체(47)를 반송하는 반송 롤에 의해서 제1 액정층(12)에 상처가 나는 것을 억제하여, 광학 적층체의 외관 불량이나 광학 성능의 저하를 억제할 수 있다고 생각된다.

접착제 경화층인 편광판용 접착층(36)을 형성하기 위해서 이용되는 접착제의 도포에 의한 접합은, 간편한 설비에 의해서 실시할 수 있기 때문에 공업적으로 유리하다. 상기한 것과 같이, 기재층 구비 액정층으로부터 기재층을 박리하여 노출된 노출면은, 접착제를 도포하는 도포 장치 등에 의해서 상처가 나기 쉽지만, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 접착제를 도포하는 표면으로서, 기재층 구비 액정층으로부터 기재층을 박리하여 노출된 노출면이 아닌 표면을 선택하고 있다. 그 때문에, 편광판용 접착층(36)을 형성하기 위해서 접착제를 이용한 경우에도, 광학 적층체(57)의 외관 불량이나 광학 성능의 저하를 억제하기 쉽다고 생각된다.

또한, 액정층용 접착층(34)이 점착제층인 경우, 도 4(d)에 도시하는 액정층 적층체(47)의 제1 액정층(12) 측에 액정층용 접착 조성물층(34a)을 형성하면, 액정층용 접착층(34)이 접착제 경화층인 경우와 비교하여 강성이 낮기 때문에, 제1 액정층(12)이 보다 상처 나기 쉽다고 추측된다. 본 실시형태의 광학 적층체(57)의 제조 방법에서는, 액정층 적층체(47)가 점착제층을 통해 제1 액정층(12)과 제2 액정층(22)이 적층되어 있는 것인 경우에도, 편광판(60)에 편광판용 접착 조성물층(36a)을 형성하고 있기 때문에, 액정층 적층체(47)와 편광판(60)을 적층할 때에, 제1 액정층(12)에 상처가 나는 것을 억제하기 쉬워, 광학 적층체의 외관 불량이나 광학 성능의 저하가 억제되기 쉽다고 생각된다.

본 실시형태에 있어서 광학 적층체를 제조하기 위해서 이용되는, 기재층 구비 제1 액정층(10), 기재층 구비 제2 액정층(20), 조성물층 구비 액정층(26), 조성물층 구비 편광판(61) 및 이들을 이용하여 얻어지는 적층물 등의 필름 형상물은, 모두 장척의 필름 형상물인 것이 바람직하고, 이들을 연속적으로 반송하면서 각 공정을 행하는 것이 바람직하다. 폭 방향(W)은 필름 형상물의 길이 방향에 직교하는 방향이다.

(실시형태 2의 변형예 1)

상기에서는, 기재층 구비 액정층 적층체(46)를 얻을 때에, 기재층 구비 제2 액정층(20)에 액정층용 접착 조성물층(34a)이 형성된 조성물층 구비 액정층(26)(도 4(a))을 이용하는 경우를 예로 들어 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 액정층용 접착 조성물층은, 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12) 측에 형성하여도 좋고, 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12) 측 및 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22) 측의 양쪽에 형성하여도 좋다. 그리고, 이 액정층용 접착 조성물층을 통해, 기재층 구비 제1 액정층(10)의 제1 액정층(12) 측과 기재층 구비 제2 액정층(20)의 제2 액정층(22)을 접합하여, 액정층용 접착 조성물층으로 액정층용 접착층을 형성하면 된다. 이 경우도, 기재층 구비 제1 액정층(10)으로부터 제1 기재층(11)을 박리하여 노출된 노출면이나, 기재층 구비 제2 액정층(20)으로부터 제2 기재층(21)을 박리하여 노출된 노출면에는, 액정층용 접착 조성물층(34a)을 형성하지 않고, 이들 노출면 이외의 면에 액정층용 접착 조성물층을 형성하고 있기 때문에, 제1 액정층(12) 및 제2 액정층(22)에 상처가 나는 것을 억제하여, 광학 적층체의 외관 불량이나 광학 성능의 저하를 억제할 수 있다고 생각된다.

(실시형태 2의 변형예 2)

앞의 실시형태와 마찬가지로, 본 실시형태에서도, 기재층 구비 제1 액정층은, 제1 기재층과 제1 액정층의 사이에 제1 배향층을 갖고 있어도 좋고, 기재층 구비 제2 액정층은, 제2 기재층과 제2 액정층의 사이에 제2 배향층을 갖고 있어도 좋다. 제1 배향층이나 제2 배향층을 갖는 경우의 설명에 관해서는, 앞의 실시형태의 변형예에 있어서 설명한 것과 같기 때문에 그 설명을 생략한다.

이상, 본 발명의 실시형태 및 그의 변형예에 관해서 설명했지만, 본 발명은 이들 실시형태 및 그의 변형예에 한정되지 않으며, 예컨대 상기한 각 실시형태 및 그의 변형예의 각 구조 및 각 공정을 조합하여 실시할 수도 있다. 이하, 모든 실시형태 및 그의 변형예에 있어서 공통되는 각 사항에 관해서 상세히 설명한다.

(광학 적층체)

광학 적층체는, 제1 광학 기능층, 접착제 경화층인 접착층 및 제2 광학 기능층이 적층된 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 도 3(b)에 도시하는 광학 적층체(52) 및 도 5(b)에 도시하는 광학 적층체(57)에 있어서, 편광판(60)을 직선편광판으로 하고, 제1 액정층(12)을 1/2 파장판으로 하고, 제2 액정층(22)을 1/4 파장판으로 함으로써, 광학 적층체(52, 57)를 원편광판으로 할 수 있다. 또한, 편광판(60)을 직선편광판으로 하고, 제1 액정층(12)을 역파장 분산성의 1/4 파장판으로 하고, 제2 액정층(22)을 포지티브 C 플레이트로 하거나, 또는 제1 액정층(12)을 포지티브 C 플레이트로 하고, 제2 액정층(22)을 역파장 분산성의 1/4 파장판으로 하는 것에 의해서도 광학 적층체(52, 57)를 원편광판으로 할 수 있다.

(제1 광학 기능층 및 제2 광학 기능층)

제1 광학 기능층 및 제2 광학 기능층(이하, 양자를 통합하여 「광학 기능층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 액정층; 편광층, 편광층의 적어도 편면에 보호층이 형성된 편광판, 편광판의 적어도 편면에 프로텍트 필름이 적층된 프로텍트 필름 구비 편광판 등의 편광 기능층; 반사 필름; 반투과형 반사 필름; 휘도 향상 필름; 광학 보상 필름; 방현 기능 구비 필름; 위상차 필름 등을 들 수 있고, 이들 중 하나를 갖는 것이라도 좋고, 2개 이상을 갖는 다층 구조를 갖고 있어도 좋다. 또한, 광학 기능층이 액정층을 포함하는 경우, 이 액정층은 위상차층이라도 좋고, 편광층이라도 좋다. 본 명세서에 있어서 「편광층」이란, 무편광의 광을 입사시켰을 때, 흡수축에 직교하는 진동면을 갖는 직선편광을 투과시키는 성질을 갖는 직선편광층을 말한다.

(직선편광층(편광층))

편광층(직선편광층)으로서는, 폴리비닐알코올 수지 필름을 배향시킨 것에 요오드 등의 2색성 색소를 흡착 배향시킨 것이 바람직하다. 편광층은, 단층의 폴리비닐알코올 수지 필름(폴리비닐알코올 수지 필름에 포함되는 폴리비닐알코올 분자가 배향된 것)에 2색성 색소가 흡착 배향된 것이라도 좋고, 기재 필름 상에 2색성 색소가 흡착 배향된 폴리비닐알코올 수지층을 마련한 2층 이상의 적층 필름이라도 좋다. 또한 편광층은, 중합성 액정 화합물에 2색성 색소를 배향시켜, 중합성 액정 화합물을 중합시킨 경화막이라도 좋다. 이러한 편광층은 본 기술 분야에서 공지된 다양한 방법에 의해서 제조할 수 있다.

(편광판)

편광판은, 전형적으로는 폴리비닐알코올 수지 필름에 2색성 색소가 흡착 배향된 형식의 편광층의 편면 또는 양면에 보호층(보호 필름)을 접합하여 이루어지는 편광판이다. 이 보호층으로서는, 예컨대 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 연신성 등이 우수한 수지 재료로 이루어지는 것이 이용된다. 구체적으로는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지; 노르보르넨계 폴리머 등의 환상 폴리올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴산, 폴리(메트)아크릴산메틸 등의 (메트)아크릴산계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트 프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르계 수지; 폴리비닐알코올 및 폴리아세트산비닐 등의 비닐알코올계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아릴레이트계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리이미드계 수지; 폴리에테르케톤계 수지; 폴리페닐렌술피드계 수지; 폴리페닐렌옥시드계 수지 및 이들의 혼합물, 공중합물 등을 들 수 있다. 이들 수지 중, 환상 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지 및 (메트)아크릴산계 수지의 어느 하나 또는 이들의 혼합물을 이용하는 것이 바람직하다. 여기서 상기 「(메트)아크릴산」이란, 「아크릴산 및 메타크릴산의 적어도 1종」을 의미한다.

보호층은, 수지 재료를 1 종류 또는 2종 이상을 혼합한 단층이라도 좋고, 2층 이상의 다층 구조를 갖고 있어도 좋다. 다층 구조를 갖는 경우, 각 층을 이루는 수지는 상호 동일하여도 좋고 다르더라도 좋다. 보호층이 수지 재료로 형성된 필름인 경우, 보호층에는 임의의 첨가제가 첨가되어 있어도 좋다. 첨가제로서는, 예컨대 자외선흡수제, 산화방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색방지제, 난연제, 핵제, 대전방지제, 안료 및 착색제 등을 들 수 있다.

폴리비닐알코올 수지 필름에 2색성 색소가 흡착 배향된 형태의 편광층의 두께는, 20 ㎛ 이하가 바람직하고, 10 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.

편광판, 편광층의 편면에만 보호층을 접합한 것(이하, 「편보호 편광판」이라고 한다)이 특히 바람직하다. 상술한 것과 같이, 제1 액정층 및 제2 액정층은 중합성 액정 화합물로 형성되는 것이며, 극히 박막인 것이다. 직선편광판이 편보호 편광판이면, 그 두께는 얇은 것이기 때문에, 결과적으로 본 발명의 광학 적층체의 두께를 얇게 할 수 있다. 그 때문에, 예컨대 본 발명의 광학 적층체가 원편광판이고, 이 원편광판을 갖춘 유기 EL 표시 장치가 접기나 감기 등이 가능한 플렉시블 유기 EL 표시 장치인 경우에, 접기나 감기 등에 영향을 미치기 어려워 극히 유리하다. 편보호 편광판에 있어서의 보호층의 두께는, 편광층 자체의 두께에 따라서 최적화할 수 있지만, 본 발명의 광학 적층체의 양호한 플렉시블성을 확보하기 위해서는, 그 두께는 50 ㎛ 이하가 바람직하고, 30 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.

상기한 편보호 편광판은, 예컨대 일본 특허공개 2016-122025호 공보 등에 개시되어 있는 것을 이용할 수 있다.

상기한 것과 같이, 편광층은, 중합성 액정 화합물에 2색성 색소를 배향시켜, 중합성 액정 화합물을 중합시킨 경화막이라도 좋다. 이 경우의 편광층은, 통상 기재층, 또는 이 위에 마련된 배향층 상에, 중합성 액정 화합물 및 2색성 색소를 포함하는 조성물을 도공하여 건조하고, 자외선 등의 활성 에너지선 조사에 의해, 도공막에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합시켜 경화시킴으로써 얻을 수 있다. 이와 같이 하여 얻어진 기재와 편광층(경화막)의 적층체는, 편보호 편광판으로서 이용할 수 있다.

상기한 경화막을 형성하기 위한 기재층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성의 점에서 1∼300 ㎛인 것이 바람직하고, 10∼200 ㎛인 것이 보다 바람직하고, 30∼120 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.

(제1 기재층 및 제2 기재층)

제1 기재층 및 제2 기재층(이하, 양자를 통합하여 「기재층」이라고 하는 경우가 있다.)은 수지 재료로 형성된 필름인 것이 바람직하다. 이 수지 재료도, 상기한 편광판의 보호 필름을 형성하는 재료와 마찬가지로, 예컨대 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 연신성 등이 우수한 수지 재료가 이용된다. 수지 재료의 전형적인 예 및 적합한 예는, 편광판의 보호층으로서 예시한 수지 재료를 이용할 수 있다.

기재층은, 수지 재료를 1 종류 또는 2종 이상을 혼합한 단층이라도 좋고, 2층 이상의 다층 구조를 갖고 있어도 좋다. 다층 구조를 갖는 경우, 각 층을 이루는 수지 재료는 상호 동일하여도 좋고 다르더라도 좋다. 기재층이 수지 재료로 형성된 필름인 경우, 기재층에는 임의의 첨가제가 첨가되어 있어도 좋다. 첨가제로서는, 예컨대 자외선흡수제, 산화방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색방지제, 난연제, 핵제, 대전방지제, 안료 및 착색제 등을 들 수 있다.

액정층을 형성하기 위한 기재층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성의 점에서 1∼300 ㎛인 것이 바람직하고, 10∼200 ㎛인 것이 보다 바람직하고, 30∼120 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.

(제1 배향층 및 제2 배향층)

광학 적층체가 포함하고 있어도 좋은 제1 배향층 및 제2 배향층(이하, 양자를 통합하여 「배향층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 그 위에 형성되는 액정층에 포함되는 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 액정 배향시키는 배향 규제력을 갖는다. 배향층으로서는, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층, 광배향 폴리머로 형성된 광배향성 폴리머층, 층 표면에 요철 패턴이나 복수의 그루브(홈)를 갖는 그루브 배향층을 들 수 있다. 배향층의 두께는 통상 10∼500 nm이고, 10∼200 nm인 것이 바람직하다.

배향성 폴리머층은, 배향성 폴리머를 용제에 용해한 조성물을 기재층에 도포하여 용제를 제거하고, 필요에 따라서 러빙 처리를 하여 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층에서는, 배향성 폴리머의 표면 상태나 러빙 조건에 의해서 임의로 조정하는 것이 가능하다.

광배향성 폴리머층은, 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 조성물을 기재층에 도포하고, 편광을 조사함으로써 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 광배향성 폴리머층에서는, 광배향성 폴리머에 대한 편광 조사 조건 등에 의해서 임의로 조정하는 것이 가능하다.

그루브 배향층은, 예컨대 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 통해 노광, 현상 등을 행하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판 형상의 원반에, 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화층을 형성하고, 이 층을 기재층에 전사하여 경화하는 방법, 기재층에 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화층을 형성하고, 이 층에, 요철을 갖는 롤 형상의 원반을 바싹 대거나 함으로써 요철을 형성하여 경화시키는 방법 등에 의해서 형성할 수 있다.

(제1 액정층 및 제2 액정층)

제1 액정층 및 제2 액정층(이하, 양자를 통합하여 「액정층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 모두 중합성 액정 화합물을 이용하여 형성한 것이며, 이 중합성 액정 화합물은 공지된 것을 사용할 수 있다. 중합성 액정 화합물의 종류는 특별히 한정되지 않고, 막대형 액정 화합물, 원반형 액정 화합물 및 이들의 혼합물을 이용할 수 있다. 여기서, 역파장 분산성의 1/4 파장판을 형성하기 위한 중합성 액정 화합물은 막대형 액정 화합물, 예컨대 일본 특허공개 2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물이 바람직하다. 이러한 중합성 액정 화합물을 이용하는 경우에는, 중합성 액정 화합물과 용제, 필요에 따라서 각종 첨가제를 포함하는 액정층 형성용 조성물을 배향층 상에 도포하여 도막을 형성하고, 이 도막을 경화시킴으로써 액정 경화층인 액정층을 형성할 수 있다. 혹은, 기재층 상에 액정층 형성용 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, 이 도막을 기재층과 함께 연신함으로써 액정층을 형성하여도 좋다. 액정층은 위상차층이라도 좋다.

액정층 형성용 조성물은, 상기한 중합성 액정 화합물 및 용제 외에, 중합개시제, 반응성 첨가제, 레벨링제, 중합금지제 등을 포함하고 있어도 좋다. 중합성 액정 화합물, 용제, 중합개시제, 반응성 첨가제, 레벨링제, 중합금지제 등은 공지된 것을 적절하게 이용할 수 있다.

(편광판용 접착층)

편광판용 접착층은, 접착제, 점착제 및 이들의 조합에 의해서 형성할 수 있고, 통상 1층이지만, 2층 이상이라도 좋다. 편광판용 접착층이 2층 이상의 층으로 이루어지는 경우, 각 층은 상호 동일한 재료로 형성되어 있어도 좋고, 다른 재료로 형성되어 있어도 좋다. 편광판용 접착층을 형성하기 위한 접착제로서는, 상기한 액정층용 접착층에 이용되는 접착제와 같은 것을 들 수 있다.

편광판용 접착층에 이용하는 점착제로서는, (메트)아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 실리콘계 수지 등을 베이스 폴리머로 하고, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물 등의 가교제를 가한 조성물을 들 수 있다.

편광판용 접착층이 형성되는 층의 표면에 대하여, 필요에 따라서 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등의 표면 처리를 행하여도 좋다.

(액정층용 접착층)

액정층용 접착층은, 제1 액정층과 제2 액정층의 사이에 마련되며, 이들 2개의 액정층을 접합하기 위해서 이용되는 접착층이다. 액정층용 접착층은, 제1 액정층 및 제2 액정층에 직접 접해 있어도 좋지만, 제1 액정층 상에 마련된 제1 배향층이나 제2 액정층 상에 마련된 제2 배향층에 직접 접해 있어도 좋다.

액정층용 접착층은, 접착제, 점착제 및 이들의 조합에 의해서 형성할 수 있고, 통상 1층이지만, 2층 이상이라도 좋다. 액정층용 접착층이 2층 이상의 층으로 이루어지는 경우, 각 층은 상호 동일한 재료로 형성되어 있어도 좋고, 다른 재료로 형성되어 있어도 좋다. 액정층용 접착층을 이루는 접착제로서는, 상기한 액정층용 접착층이나 편광판용 접착층에 이용되는 접착제 및 점착제와 같은 것을 들 수 있다. 액정층용 접착층이 형성되는 층의 표면에 대하여, 필요에 따라서 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등의 표면 처리를 행하여도 좋다.

본 발명의 광학 적층체가 원편광판이고, 이 원편광판을, 접기나 감기 등이 가능한 플렉시블 유기 EL 표시 장치에 적용하는 경우에는, 액정층용 접착층이 접착제 경화층인 것이 바람직하다. 이것은, 플렉시블 유기 EL 표시 장치의 접기나 감기에 따라, 원편광판인 광학 적층체가 접히거나 감기거나 했을 때에도, 제1 액정층과 제2 액정층의 사이에 주름이 생기는 것을 억제하기 쉽기 때문이다.

(광학 소자용 접착 조성물층)

광학 소자용 접착 조성물층은, 접착제, 점착제 및 이들의 조합에 의해서 형성할 수 있고, 통상 1층이지만, 2층 이상이라도 좋다. 광학 소자용 접착 조성물층이 2층 이상의 층으로 이루어지는 경우, 각 층은 상호 동일한 재료로 형성되어 있어도 좋고, 다른 재료로 형성되어 있어도 좋다. 광학 소자용 접착 조성물층을 이루는 접착제 및 점착제로서는, 상기한 액정층용 접착층이나 편광판용 접착층에 이용되는 접착제 및 점착제와 같은 것을 들 수 있다. 광학 소자용 접착 조성물층은 점착제를 이용하여 형성하는 것이 바람직하다. 광학 소자용 접착 조성물층이 형성되는 층의 표면에 대하여, 필요에 따라서 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등의 표면 처리를 행하여도 좋다. 광학 소자용 접착 조성물층은 점착제를 이용하여 형성한 점착제층인 것이 바람직하다.

[실시예]

이하, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것이 아니다. 실시예 중의 「%」 및 「부」는 특별히 기재하지 않는 한, 질량% 및 질량부이다.

[접착 조성물의 준비]

하기에 나타내는 양이온 경화성 성분 a1∼a3 및 양이온 중합개시제를 혼합한 후, 하기에 나타내는 양이온 중합개시제 및 증감제를 추가로 혼합하고, 탈포하여, 광경화형의 접착 조성물을 조제했다. 또한, 하기의 배합량은 고형분량에 기초한다.

·양이온 경화성 성분 a1(70 부):

3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트(상품명: CEL2021P, 가부시키가이샤 다이셀 제조)

·양이온 경화성 성분 a2(20 부):

네오펜틸글리콜디글리시딜에테르(상품명: EX-211, 나가세켐텍스 가부시키가이샤 제조)

·양이온 경화성 성분 a3(10 부):

2-에틸헥실글리시딜에테르(상품명: EX-121, 나가세켐텍스 가부시키가이샤 제조)

·양이온 중합개시제(2.25 부(고형분량)):

상품명: CPI-100(산아프로 가부시키가이샤 제조)의 50% 프로필렌카보네이트 용액

·증감제(2 부):

1,4-디에톡시나프탈렌

〔실시예 1〕

(광배향층 형성용 조성물의 조제)

하기의 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 온도 80℃에서 1시간 교반함으로써 광배향층 형성용 조성물을 얻었다.

·광배향성 재료(5 부):

·용제(95 부): 시클로펜타논

(액정층 형성용 조성물(A)의 조제)

하기의 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80℃에서 1시간 교반함으로써 액정층 형성용 조성물(A)을 얻었다. 중합성 액정 화합물 A1은, 일본 특허공개 2011-207765호 공보에 기재된 화합물(A11-1)의 합성 방법으로 합성할 수 있다. 중합성 액정 화합물 A2는, 일본 특허공개 2010-31223호 공보에 기재된 화합물(x-1)의 합성 방법으로 합성할 수 있다.

·중합성 액정 화합물 A1(80 부):

·중합성 액정 화합물 A2(20 부):

·중합개시제(6 부):

2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(이르가큐어 369; 치바스페살티케미칼즈사 제조)

·레벨링제(0.1 부):

폴리아크릴레이트 화합물(BYK-361N; BYK-Chemie사 제조)

·용제(400 부): 시클로펜타논

(기재층 구비 액정층(1)의 제조)

두께 100 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 기재층으로서 이용하고, 이 PET 필름에 코로나 처리 장치(AGF-B10, 가스가덴키 가부시키가이샤 제조)를 이용하여 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1회 처리했다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 광배향층 형성용 조성물을 바 코터를 이용하여 도포하여, 80℃에서 1분간 건조하고, 편광 UV 조사 장치(SPOT CURE SP-7; 우시오덴키 가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 100 mJ/㎠의 적산 광량으로 편광 UV 노광을 실시하여, 광배향층을 얻었다. 얻어진 광배향층의 두께를 레이저 현미경(LEXT, 올림푸스 가부시키가이샤 제조)으로 측정한 바, 100 nm였다.

이어서, 광배향층 상에 액정층 형성용 조성물(A)을 바 코터를 이용하여 도포하고, 120℃에서 1분간 건조한 후, 고압수은 램프(유니큐아 VB-15201BY-A, 우시오덴키 가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 자외선을 조사(질소 분위기 하, 파장: 365 nm, 파장 365 nm에서의 적산 광량: 1000 mJ/㎠)함으로써, 위상차층으로서의 액정층을 형성하여, 기재층 구비 액정층(1)을 얻었다. 액정층의 두께는 2 ㎛였다.

얻어진 기재층 구비 액정층(1)에 관해서, 액정층의 기재층과는 반대측에 상기한 접착 조성물을 바 코터를 이용하여 도포하고, 도포면을 눈으로 확인하여 관찰한 바, 상처는 그다지 관찰되지 않았다.

〔비교예 1〕

실시예 1과 같은 수순으로 기재층 구비 액정층(1)을 얻었다. 얻어진 기재층 구비 액정층(1)의 액정층 측을, 두께 5 ㎛의 시트형 점착제〔린테크 가부시키가이샤 제조 「NCF #L2」〕를 통해 유리 기판〔코닝사 제조의 무알칼리 유리 「이글 XG」, 두께 0.2 mm〕에 접합한 후, 기재층을 박리하여 유리 기판 구비 액정층을 얻었다. 기재층만이 박리되고, 광배향층은 박리되지 않고서 남았다. 유리 기판 구비 액정층에 있어서의 액정층의 기재층의 박리 측에, 상기한 접착 조성물을 바 코터를 이용하여 도포하고, 도포면을 눈으로 확인하여 관찰한 바, 실시예 1에서 관찰한 기재층 구비 액정층(1)의 액정층 측에 접착 조성물을 도포한 도포면보다도 많은 상처가 보였다.

실시예 1 및 비교예 1로부터, 액정층의 기재층과는 반대측의 표면은, 도포 장치나 반송 롤에 의해서 상처 나기 어려운 것으로 드러났다. 고로, 제1 액정층에 있어서 기재층의 박리에 의해서 노출된 노출면과는 다른 접착면에 접착 조성물층을 형성하는 공정을 가지고, 또한 상기 접착 조성물층을 통해 제1 광학 기능층과 제2 광학 기능층을 적층하는 공정을 갖는 본원의 제조 방법에 의하면, 외관 불량이나 광학 성능의 저하를 야기하기 어렵다는 것을 알 수 있었다.

〔실시예 2〕

(배향층 형성용 조성물의 조제)

시판되는 배향성 폴리머인 산에바 SE-610(닛산카가쿠고교 가부시키가이샤 제조)에 2-부톡시에탄올을 가하여 배향층 형성용 조성물을 얻었다. 얻어진 배향층 형성용 조성물은, 이 조성물 전량에 대한 고형분의 함유 비율이 1%이고, 상기 조성물 전량에 대한 용제의 함유 비율이 99%였다. 산에바 SE-610의 고형분량은 납품사양서에 기재된 농도로부터 환산했다.

(액정층 형성용 조성물(B)의 조제)

하기의 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80℃에서 1시간 교반한 후, 실온까지 냉각하여 액정층 형성용 조성물(B)을 얻었다.

·중합성 액정 화합물 LC242(BASF사 제조)(19.2%):

·중합개시제(0.5%):

이르가큐어(등록상표) 907(BASF재팬사 제조)

·레벨링제(0.1%):

BYK361N(비크케미재팬 제조)

·반응첨가제(1.1%):

Laromer(등록상표) LR-9000(BASF재팬사 제조)

·용제(79.1%): 프로필렌글리콜1-모노메틸에테르2-아세테이트

두께 38 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을, 코로나 처리 장치(AGF-B10, 가스가덴키 가부시키가이샤 제조)를 이용하여 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1회 처리했다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 배향층 형성용 조성물을 바 코터를 이용하여 도포하고, 90℃에서 1분간 건조하여 배향층을 얻었다. 얻어진 배향층의 두께를 레이저 현미경(LEXT, 올림푸스 가부시키가이샤 제조)으로 측정한 바, 34 nm였다.

이어서, 배향층 상에 액정층 형성용 조성물(B)을 바 코터를 이용하여 도포하여, 90℃에서 1분간 건조한 후, 고압수은 램프(유니큐아 VB-15201BY-A, 우시오덴키 가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 자외선을 조사(질소 분위기 하, 파장: 365 nm, 파장 365 nm에서의 적산 광량: 1000 mJ/㎠)함으로써, 위상차층으로서의 액정층을 형성하여, 기재층 구비 액정층(2)을 얻었다. 액정층의 두께는 1 ㎛였다.

얻어진 기재층 구비 액정층(2)에 관해서, 액정층의 기재층과는 반대측에 상기한 접착 조성물을 바 코터를 이용하여 도포하고, 도포면을 눈으로 확인하여 관찰한 바, 상처는 그다지 관찰되지 않았다.

〔비교예 2〕

실시예 2와 같은 수순으로 기재층 구비 액정층(2)을 얻었다. 얻어진 기재층 구비 액정층(1)의 액정층 측을, 두께 5 ㎛의 시트형 점착제〔린테크 가부시키가이샤 제조 「NCF #L2」〕를 통해 유리 기판〔코닝사 제조의 무알칼리 유리 「이글 XG」, 두께 0.2 mm〕에 접합한 후, 기재층을 박리하여 유리 기판 구비 액정층을 얻었다. 기재층의 박리와 함께 배향층도 박리되었다. 유리 기판 구비 액정층에 있어서의 액정층의 기재층의 박리 측에, 상기한 접착 조성물을 바 코터를 이용하여 도포하고, 도포면을 눈으로 확인하여 관찰한 바, 실시예 2에서 관찰한 기재층 구비 액정층(2)의 액정층 측에 접착 조성물을 도포한 도포면보다도 많은 상처가 보였다.

실시예 2 및 비교예 2의 결과로부터, 액정층의 기재층과는 반대측의 표면은, 도포 장치나 반송 롤에 의해서 상처 나기 어려운 것으로 드러났다. 고로, 제1 액정층에 있어서 기재층의 박리에 의해서 노출된 노출면과는 다른 접착면에 접착 조성물층을 형성하는 공정을 가지고, 또한 접착 조성물층을 통해 제1 광학 기능층과 제2 광학 기능층을 적층하는 공정을 갖는 본원의 제조 방법에 의하면, 외관 불량이나 광학 성능의 저하를 야기하기 어렵다는 것을 알 수 있었다.

10: 기재층 구비 제1 액정층
11: 제1 기재층(기재층)
12: 제1 액정층(액정층)
20: 기재층 구비 제2 액정층(제2 광학 기능층)
21: 제2 기재층
22: 제2 액정층(액정층)
25: 조성물층 구비 액정층
26: 조성물층 구비 액정층
30: 액정층용 접착층(접착층)
30a: 액정층용 접착 조성물층(접착 조성물층)
34: 액정층용 접착층
34a: 액정층용 접착 조성물층
35: 광학 소자용 접착 조성물층
36: 편광판용 접착층(접착층, 편광 기능층용 접착층)
36a: 편광판용 접착 조성물층(접착 조성물층)
41: 제1 편광판 구비 액정층(편광 기능층 구비 액정층, 광학 적층체)
42: 제2 편광판 구비 액정층(제1 광학 기능층, 광학 적층체)
46: 기재층 구비 액정층 적층체
47: 액정층 적층체(제1 광학 기능층)
51: 기재층 구비 광학 적층체(광학 적층체)
52: 광학 적층체
53: 접착 조성물층 구비 광학 적층체(광학 적층체)
56: 기재층 구비 광학 적층체(광학 적층체)
57: 광학 적층체
58: 접착 조성물층 구비 광학 적층체(광학 적층체)
60: 편광판(제1 광학 기능층, 제2 광학 기능층, 편광 기능층)
61: 조성물층 구비 편광판(제2 광학 기능층)
W: 폭 방향.

Claims

제1 광학 기능층, 접착층 및 제2 광학 기능층을 이 순서로 포함하는 광학 적층체의 제조 방법으로서,
상기 접착층은 접착제가 경화된 접착제 경화층이고,
상기 제1 광학 기능층 및 상기 제2 광학 기능층 중 적어도 한쪽은 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성된 액정층을 포함하고,
상기 제1 광학 기능층 및 상기 제2 광학 기능층은 상기 접착층 측에 각각 접착면을 가지고,
상기 접착면 중 한쪽의 접착면만이 상기 기재층의 박리에 의해서 노출된 노출면이고,
상기 접착면 중 다른 쪽의 접착면에, 상기 접착층을 형성하기 위한 접착 조성물층을, 상기 접착제를 도포함으로써 형성하는 공정과,
상기 접착 조성물층을 통해 상기 제1 광학 기능층과 상기 제2 광학 기능층을 적층하는 공정을 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 제1 광학 기능층은 제1 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성된 제1 액정층을 포함하고,
상기 한쪽의 접착면은 상기 제1 기재층의 박리에 의해서 노출된 노출면이고,
상기 제2 광학 기능층은 제2 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성된 제2 액정층을 포함하고,
상기 다른 쪽의 접착면은 상기 제2 액정층의 상기 제2 기재층과는 반대측의 면인 광학 적층체의 제조 방법.
제2항에 있어서, 상기 제2 광학 기능층은 상기 제2 액정층 및 상기 제2 기재층을 갖는 기재층 구비 제2 액정층이고,
상기 적층하는 공정 후에, 상기 제2 기재층을 박리하는 공정을 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.
제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 제1 광학 기능층은 직선편광층을 적어도 포함하는 편광 기능층, 편광 기능층용 접착층 및 상기 제1 액정층을 이 순서로 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.
제4항에 있어서, 상기 편광 기능층과, 상기 편광 기능층용 접착층과, 상기 편광 기능층용 접착층 측에서부터 순차로 상기 제1 액정층 및 상기 제1 기재층을 갖는 기재층 구비 제1 액정층을, 이 순서로 갖는 편광 기능층 구비 액정층을 준비하는 공정을 추가로 포함하고,
상기 한쪽의 접착면은 상기 편광 기능층 구비 액정층으로부터 상기 제1 기재층을 박리함으로써 노출된 노출면인 광학 적층체의 제조 방법.
제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 편광 기능층용 접착층은 점착제층인 광학 적층체의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 제1 광학 기능층은 제1 기재층 상에서 중합성 액정 화합물을 중합하여 형성된 제1 액정층을 포함하고,
상기 한쪽의 접착면은 상기 제1 기재층의 박리에 의해서 노출된 노출면이고,
상기 제2 광학 기능층은 직선편광층을 적어도 포함하는 편광 기능층인 광학 적층체의 제조 방법.
제7항에 있어서, 상기 제1 광학 기능층은 상기 제1 액정층, 액정층용 접착층 및 제2 액정층을 이 순서로 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.
제8항에 있어서, 상기 제1 기재층과, 상기 제1 액정층과, 상기 액정층용 접착층과, 상기 액정층용 접착층 측에서부터 순차로 상기 제2 액정층 및 제2 기재층을 갖는 기재층 구비 제2 액정층을, 이 순서로 갖는 기재층 구비 액정층 적층체를 준비하는 공정을 추가로 포함하고,
상기 한쪽의 접착면은 상기 기재층 구비 액정층 적층체로부터 상기 제1 기재층을 박리함으로써 노출된 노출면인 광학 적층체의 제조 방법.
제9항에 있어서, 상기 적층하는 공정 후에, 상기 제2 기재층을 박리하는 공정을 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.
제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 액정층용 접착층은 점착제층인 광학 적층체의 제조 방법.
제4항 내지 제6항, 제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광학 적층체는 원편광판이고,
상기 제1 액정층 및 상기 제2 액정층은 하기 [a] 또는 [b]:
[a] 상기 제1 액정층이 1/2 파장판이며, 상기 제2 액정층이 1/4 파장판이고,
[b] 상기 제1 액정층 및 상기 제2 액정층 중 한쪽이 역파장 분산성의 1/4 파장판이고, 다른 쪽이 포지티브 C 플레이트인
관계를 만족하는 광학 적층체의 제조 방법.
제2항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 기재층과 상기 제1 액정층을 갖는 기재층 구비 제1 액정층을 준비하는 공정과,
상기 제1 기재층을 박리하는 공정을 추가로 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.
제13항에 있어서, 상기 광학 적층체는 상기 제1 액정층의 상기 제1 기재층 측에 배향층을 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.