KR20210095553A - 광학 적층체, 접합층 부착 광학 적층체, 및 그의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

[과제] 마르텐스 경도가 작은 위상차층을 갖는 광학 적층체에 있어서도, 광학 특성의 저하의 억제를 기대할 수 있는 광학 적층체, 접합층 부착 광학 적층체, 및 그의 제조 방법을 제공한다.
[해결 수단] 광학 적층체는, 직선 편광층의 편면(片面) 또는 양면에 보호층을 갖는 편광판, 제1 위상차층 및 제2 위상차층을 이 순서로 갖는다. 제1 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제1 액정층을 포함하고, 제2 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제2 액정층을 포함한다. 제2 위상차층의 가압 속도 1 mN/5 s, 크리프 시간 5 s에 있어서의 마르텐스 경도 H1은, 10 N/㎟ 이하이다. 광학 적층체의 제2 위상차층측의 가압 속도 1 mN/5 s, 크리프 시간 5 s에 있어서의 마르텐스 경도 H2와, 마르텐스 경도 H1의 비(H2/H1)는, 15 이상이다.

Description

광학 적층체, 접합층 부착 광학 적층체, 및 그의 제조 방법{OPTICAL LAMINATE, OPTICAL LAMINATE WITH BONDING LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 광학 적층체, 접합층 부착 광학 적층체, 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.

유기 발광 다이오드(OLED)를 이용한 유기 EL 표시 장치는, 액정 표시 장치 등에 비해 경량화나 박형화가 가능하다. 덧붙여 폭넓은 시야각, 빠른 응답 속도, 높은 콘트라스트 등의 고화질을 실현할 수 있다. 이 때문에, 스마트폰이나 텔레비전, 디지털 카메라 등, 다양한 분야에서 이용되고 있다. 유기 EL 표시 장치에서는, 외광의 반사에 의한 시인성의 저하를 억제하기 위해서, 직선 편광층과 위상차층을 적층한 원편광판 등을 이용하여 반사 방지 성능을 향상시키는 것이 알려져 있다.

예컨대 특허문헌 1에는, 액정 재료를 경화시킴으로써 위상차 특성을 갖는 액정층을 2층 형성하고, 이 2층의 액정층끼리를 적층한 적층체를 형성하는 것이 개시되어 있다. 특허문헌 1에는, 적층체를 권취하는 경우에, 적층체의 최외층이 손상되는 경우가 있고, 이 손상을 유효하게 회피하기 위해서, 적층체의 최외층을 구성하는 액정층 또는 배향막의 연필 경도를 크게 하는 것이 개시되어 있다.

[특허문헌 1] 일본 특허 공개 제2015-34851호 공보

액정 재료를 경화시켜 형성한 액정층을 포함하는 위상차층의 종류 등에 따라서는, 표면 경도를 크게 할 수 없어, 표면 경도가 작은 위상차층을 이용하여 원편광판 등의 적층체를 제조하는 경우가 있다. 표면 경도가 작은 위상차층을 이용하여 적층체를 제조하는 경우, 적층체의 반송 등의 제품 가공에 있어서, 위상차층에 상처가 발생하는 것이 발견되었다. 이러한 상처는, 위상차층을 포함하는 적층체의 광학 특성의 저하, 예컨대 상처의 부분에서 위상차층이 위상차를 발휘하지 않는 것에 기인하는 이른바 광 누설이나, 상처 부분에서 위상차층의 위상차가 변화하는 것에 기인하는 반사광의 변색의 원인이 될 수 있다.

본 발명은 마르텐스 경도가 작은 위상차층을 갖는 광학 적층체에 있어서도, 광학 특성의 저하의 억제를 기대할 수 있는 광학 적층체, 접합층 부착 광학 적층체, 및 그의 제조 방법을 제공한다.

본 발명은 이하의 광학 적층체, 접합층 부착 광학 적층체, 및 그의 제조 방법을 제공한다.

〔1〕 직선 편광층의 편면(片面) 또는 양면에 보호층을 갖는 편광판, 제1 위상차층 및 제2 위상차층을 이 순서로 갖는 광학 적층체로서,

상기 제1 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제1 액정층을 포함하고,

상기 제2 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제2 액정층을 포함하며,

상기 제2 위상차층의 가압 속도 1 mN/5 s, 크리프 시간 5 s에 있어서의 마르텐스 경도 H1은, 10 N/㎟ 이하이고,

상기 광학 적층체의 상기 제2 위상차층측의 가압 속도 1 mN/5 s, 크리프 시간 5 s에 있어서의 마르텐스 경도 H2와, 상기 마르텐스 경도 H1의 비(H2/H1)는, 15 이상인, 광학 적층체.

〔2〕 직선 편광층의 편면 또는 양면에 보호층을 갖는 편광판, 제1 위상차층 및 제2 위상차층을 이 순서로 갖는 광학 적층체로서,

상기 제1 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제1 액정층을 포함하고,

상기 제2 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제2 액정층을 포함하며,

상기 제2 위상차층의 가압 속도 1 mN/5 s, 크리프 시간 5 s에 있어서의 마르텐스 경도 H1은, 10 N/㎟ 이하이고,

상기 광학 적층체의 상기 제2 위상차층측의 찰상성 시험에 의한 상처의 개수는, 10개/20 ㎜ 이하인, 광학 적층체.

〔3〕 상기 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층은 제2 접합층을 통해 접합되어 있고,

상기 제2 접합층은, 접착제 경화층인, 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 광학 적층체.

〔4〕 상기 제2 접합층을 구성하는 접착제 경화층은, 활성 에너지선 경화성 접착제의 경화층인, 〔3〕에 기재된 광학 적층체.

〔5〕 상기 편광판과 상기 제1 위상차층은 제1 접합층을 통해 접합되어 있고,

상기 제1 접합층은, 접착제 경화층 또는 점착제층인, 〔1〕∼〔4〕 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.

〔6〕 상기 제1 접합층은 접착제 경화층이고, 이 접착제 경화층은, 활성 에너지선 경화성 접착제의 경화층인, 〔5〕에 기재된 광학 적층체.

〔7〕 상기 제1 위상차층은, 상기 제1 액정층과 제1 배향층의 적층체인, 〔1〕∼〔6〕 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.

〔8〕 상기 제2 위상차층은, 상기 제2 액정층과 제2 배향층의 적층체이고,

상기 제2 배향층은, 상기 제2 액정층의 상기 제1 위상차층측과는 반대측에 형성되는, 〔1〕∼〔7〕 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.

〔9〕 〔1〕∼〔8〕 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체와 제3 접합층을 갖는 접합층 부착 광학 적층체로서,

상기 제3 접합층은, 상기 제2 위상차층의 상기 제1 위상차층측과는 반대측에 형성되어 있는, 접합층 부착 광학 적층체.

〔10〕 상기 제3 접합층의 상기 제2 위상차층측과는 반대측에, 상기 제3 접합층에 대해 박리 가능한 박리 필름을 갖는, 〔9〕에 기재된 접합층 부착 광학 적층체.

〔11〕 〔9〕 또는 〔10〕에 기재된 접합층 부착 광학 적층체의 제조 방법으로서, 상기 광학 적층체의 상기 제2 위상차층측에 반송 롤을 접촉하면서 상기 광학 적층체를 반송하는 공정과,

상기 반송하는 공정보다 후에, 상기 광학 적층체의 상기 제2 위상차층측에, 상기 제3 접합층을 형성하는 공정을 포함하는, 접합층 부착 광학 적층체의 제조 방법.

〔12〕 또한, 상기 제3 접합층의 상기 제2 위상차층측과는 반대측에, 박리 필름을 적층하는 공정을 포함하는, 〔11〕에 기재된 접합층 부착 광학 적층체의 제조 방법.

본 발명에 의하면, 광학 특성의 저하의 억제를 기대할 수 있는 광학 적층체를 제공할 수 있다. 또한 본 발명에 의하면, 접합층 부착 광학 적층체, 및 그의 제조 방법을 제공할 수도 있다.

도 1은 본 발명의 광학 적층체의 일례를 모식적으로 도시한 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 다른 일례를 모식적으로 도시한 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 접합층 부착 광학 적층체의 일례를 모식적으로 도시한 개략 단면도이다.
도 4는 본 발명의 접합층 부착 광학 적층체의 다른 일례를 모식적으로 도시한 개략 단면도이다.
도 5는 본 발명의 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시한 개략 단면도이다.
도 6은 본 발명의 광학 적층체의 제조 공정의 다른 일례를 모식적으로 도시한 개략 단면도이다.
도 7은 본 발명의 접합층 부착 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시한 개략도이다.
도 8은 본 발명의 접합층 부착 광학 적층체의 제조 공정의 다른 일례를 모식적으로 도시한 개략도이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 광학 적층체, 접합층 부착 광학 적층체, 및 그의 제조 방법의 바람직한 실시형태에 대해 설명한다.

(광학 적층체)

도 1 및 도 2는 본 실시형태의 광학 적층체의 일례를 모식적으로 도시한 개략 단면도이다. 본 실시형태의 광학 적층체(1a, 1b)(이하, 양자를 통합하여 「광학 적층체(1)」라고 하는 경우가 있다.)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 직선 편광층의 편면 또는 양면에 보호층을 갖는 편광판(40), 제1 위상차층(10), 및 제2 위상차층(20)을 이 순서로 구비한다. 제1 위상차층(10)은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제1 액정층(12)을 구비한다. 제2 위상차층(20)은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제2 액정층(22)을 구비한다. 제2 위상차층(20)의 가압 속도 1 mN/5 s, 크리프 시간 5 s에 있어서의 마르텐스 경도 H1(이하, 「제2 위상차층(20)의 마르텐스 경도 H1」이라고 하는 경우가 있다.)은, 10 N/㎟ 이하이다.

광학 적층체(1)는, 하기 [a] 및 [b] 중 적어도 한쪽을 만족시킨다.

[a] 광학 적층체(1)의 제2 위상차층(20)측의 가압 속도 1 mN/5 s, 크리프 시간 5 s에 있어서의 마르텐스 경도 H2(이하, 「광학 적층체(1)의 마르텐스 경도 H2」라고 하는 경우가 있다.)와, 마르텐스 경도 H1의 비(H2/H1)는, 15 이상이다.

[b] 광학 적층체(1)의 제2 위상차층(20)측의 찰상성 시험에 의한 상처의 개수는, 10개/20 ㎜ 이하이다.

광학 적층체(1)에 있어서, 제1 위상차층(10)은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제1 액정층(12) 그 자체여도 좋고, 제1 액정층(12)과 제1 배향층(11)의 적층체여도 좋다. 도 1에 도시된 광학 적층체(1a)에서는, 제1 배향층(11)이 제1 액정층(12)의 편광판(40)측에 형성되는 경우를 도시하고 있으나, 도 2에 도시된 광학 적층체(1b)와 같이, 제1 배향층(11)은 제1 액정층(12)의 제2 위상차층(20)측에 형성되어 있어도 좋다.

광학 적층체(1)에 있어서, 제2 위상차층(20)은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제2 액정층(22) 그 자체여도 좋고, 제2 액정층(22)과 제2 배향층(21)의 적층체여도 좋다. 제2 배향층(21)은 통상, 제2 액정층(22)의 제1 위상차층(10)측과는 반대측에 형성된다.

제2 위상차층(20)의 마르텐스 경도 H1은, 10 N/㎟ 이하이고, 9 N/㎟ 이하여도 좋으며, 8 N/㎟ 이하여도 좋고, 7 N/㎟ 이하여도 좋으며, 6 N/㎟ 이하여도 좋고, 통상 1 N/㎟ 이상이다. 제2 위상차층(20)의 마르텐스 경도 H1은, 예컨대, 제2 액정층(22)을 구성하는 중합성 액정 화합물의 종류, 중합 개시제의 종류, 중합성 액정 화합물의 경화도(중합도), 제2 액정층(22)의 두께, 제2 배향층(21)을 포함하는 경우에는, 제2 배향층(21)을 구성하는 재료의 종류, 제2 배향층(21)의 경화도(중합도), 제2 배향층(21)의 두께 등에 의해 조정할 수 있다. 제2 위상차층(20)의 마르텐스 경도 H1은, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있는 것이고, 후술하는 실시예에 기재된 바와 같이, 유리판에 점착제층을 통해 제2 위상차층을 적층한 상태에서 측정할 수 있다.

광학 적층체(1)의 마르텐스 경도 H2는, 예컨대 10 N/㎟ 이상으로 할 수 있고, 30 N/㎟ 이상이어도 좋으며, 50 N/㎟ 이상이어도 좋고, 80 N/㎟ 이상이어도 좋으며, 100 N/㎟ 이상이어도 좋고, 120 N/㎟ 이상이어도 좋으며, 140 N/㎟ 이상이어도 좋고, 통상 300 N/㎟ 이하이다. 광학 적층체(1)의 마르텐스 경도 H2는, 예컨대, 제2 위상차층(20)의 마르텐스 경도 H1, 후술하는 제1 접합층(31) 및 제2 접합층(32)의 종류, 제1 액정층(12)을 구성하는 중합성 액정 화합물의 종류, 중합 개시제의 종류, 중합성 액정 화합물의 경화도(중합도), 제1 액정층(12)의 두께, 제1 배향층(11)을 포함하는 경우에는, 제1 배향층(11)을 구성하는 재료의 종류, 제1 배향층(11)의 경화도(중합도), 제1 배향층(11)의 두께 등에 의해 조정할 수 있다. 광학 적층체(1)의 마르텐스 경도 H2는, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다. 후술하는 실시예에 기재된 바와 같이, 유리판에 점착제층을 통해 광학 적층체를 적층한 상태에서 측정할 수 있다.

광학 적층체(1)의 마르텐스 경도 H2와 제2 위상차층(20)의 마르텐스 경도 H1의 비(H2/H1)는, 15 이상이고, 20 이상이어도 좋으며, 25 이상이어도 좋고, 30 이상이어도 좋으며, 50 이상이어도 좋고, 70 이상이어도 좋다. 비(H2/H1)가 상기한 범위임으로써, 제2 위상차층(20)의 마르텐스 경도 H1에 대해, 광학 적층체(1)의 마르텐스 경도 H2가 충분히 커지고 있다. 그 때문에, 광학 적층체(1)의 표면측에 있는 제2 위상차층(20)의 마르텐스 경도 H1이 작아, 광학 적층체(1)의 표면(제2 위상차층(20)측의 표면)이 부드러워 변형하기 쉬운 경우여도, 광학 적층체(1)로서는 단단하여 변형하기 어렵다고 생각된다. 그러므로, 광학 적층체(1)의 상기 표면이 변형하기 쉬워 문지름 등에 의한 상처가 발생하기 쉬운 재료로 형성되어 있어도, 광학 적층체(1)로서는 변형하기 어렵기 때문에, 문지름 등에 의한 상처의 발생을 억제할 수 있다고 추측된다. 이에 의해, 광학 적층체(1)에서는, 제2 위상차층(20)에 발생하는 상처에 기인하는 광학 특성의 저하, 예컨대 상처 부분에서 위상차층이 위상차를 발휘하지 않는 것에 의한 광 누설이나, 상처 부분에서 위상차층의 위상차가 변화하는 것에 의한 반사광의 변색을 억제할 수 있는 것을 기대할 수 있다.

광학 적층체(1)의 제2 위상차층(20)측의 찰상성 시험에 의한 상처의 개수는, 10개/20 ㎜ 이하이고, 8개/20 ㎜ 이하여도 좋으며, 5개/20 ㎜ 이하여도 좋고, 3개/20 ㎜여도 좋다. 상기 찰상성 시험에 의한 상처의 개수가 상기한 범위 내임으로써, 제2 위상차층(20)의 상처에 기인하는 상기한 광 누설이나 반사광의 변색과 같은 광학 특성의 저하가 억제된 광학 적층체(1)가 얻어지는 것을 기대할 수 있다. 상기 찰상성 시험에 의한 상처의 개수는, 예컨대, 상기 [a]에 기재된 비(H2/H1)를 조정하는, 후술하는 제1 접합층(31) 및 제2 접합층(32)의 종류를 선택하는 등에 의해 조정할 수 있다. 상기 찰상성 시험에 의한 상처의 개수는, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다. 상기 상처의 개수의 단위 「개/20 ㎜」는, 찰상성 시험에 의해 폭 20 ㎜의 영역에 발생한 상처의 개수를 나타낸다.

광학 적층체(1)는, 편광판(40)과 제1 위상차층(10)을 접합하기 위한 제1 접합층(31), 및 제1 위상차층(10)과 제2 위상차층(20)을 접합하기 위한 제2 접합층(32)을 갖는 것이 바람직하다. 제1 접합층(31) 및 제2 접합층(32)은 각각 독립적으로, 접착제 경화층 또는 점착제층이고, 제1 접합층(31) 및 제2 접합층(32) 중, 적어도 제2 접합층(32)은 접착제 경화층인 것이 바람직하고, 양쪽이 접착제 경화층인 것이 보다 바람직하다.

제2 접합층(32)이 접착제 경화층임으로써, 제2 접합층(32)이 점착제층인 경우와 비교하여, 제2 접합층(32)을 단단하여 변형하기 어렵게 형성할 수 있다. 제2 접합층(32)은, 제1 위상차층(10)과 제2 위상차층(20)을 접합하기 위한 접합층이고, 제2 위상차층(20)에 직접 접하여 형성할 수 있다. 이에 의해, 제2 위상차층(20)의 마르텐스 경도 H1이 작아 제2 위상차층(20)이 변형하기 쉬워도, 제2 위상차층(20)에 인접하여 형성되어 있는 제2 접합층(32)이 단단하여 변형하기 어렵기 때문에, 광학 적층체(1)의 표면(제2 위상차층측의 표면)을 문지른 경우 등의 상처의 발생을 억제할 수 있다.

제2 접합층(32) 및 제1 접합층(31)이 접착제 경화층임으로써, 제2 접합층(32)이 접착제 경화층이고 제1 접합층(31)이 점착제층인 경우와 비교하여, 광학 적층체(1)의 마르텐스 경도 H2를 크게 할 수 있다. 이에 의해, 광학 적층체(1)의 표면(제2 위상차층측의 표면)을 문지른 경우 등의 상처의 발생을 더욱 억제할 수 있기 때문에, 상기한 광 누설이나 반사광의 변색과 같은 광학 특성의 저하가 보다 한층 억제된 광학 적층체(1)가 얻어지는 것을 기대할 수 있다.

제1 접합층(31) 및 제2 접합층(32)을 구성하는 접착제 경화층은, 활성 에너지선 경화성 접착제의 경화층인 것이 바람직하고, 자외선 경화성 접착제의 경화층인 것이 보다 바람직하다. 제1 접합층(31) 및 제2 접합층(32)은, 서로 동일한 접착제 경화층이어도 좋고, 상이한 접착제 경화층이어도 좋다.

광학 적층체(1)는, 편광판(40)의 제1 위상차층(10)측과는 반대측에, 편광판(40)에 대해 박리 가능하게 설치된 프로텍트 필름을 갖고 있어도 좋다. 프로텍트 필름과 편광판(40)은, 프로텍트 필름이 갖는 점착성에 의해 접합할 수 있다. 광학 적층체(1)는, 매엽체(枚葉體)여도 좋고, 보관 시나 수송 시 등에 권취되어 롤 형상으로 되는 길이를 갖는 장척체(長尺體)여도 좋다.

광학 적층체(1)는, 원편광판으로서 이용할 수 있다. 광학 적층체(1)가 원편광판인 경우, 예컨대, 제1 위상차층(10)을 1/2 파장 위상차층으로 하고, 제2 위상차층(20)을 1/4 파장 위상차층으로 할 수 있다. 혹은, 제1 위상차층(10) 및 제2 위상차층(20) 중 한쪽을, 역파장 분산성의 1/4 파장 위상차층으로 하고, 다른 쪽을 포지티브 C 플레이트로 해도 좋다.

(접합층 부착 광학 적층체)

도 3 및 도 4는 본 실시형태의 접합층 부착 광학 적층체의 일례를 모식적으로 도시한 개략 단면도이다. 본 실시형태의 접합층 부착 광학 적층체(3a, 3b)(이하, 양자를 통합하여 「접합층 부착 광학 적층체(3)」라고 하는 경우가 있다.)는, 광학 적층체(1)와 제3 접합층(33)을 구비한다. 도 3에 도시된 접합층 부착 광학 적층체(3a)는, 광학 적층체(1a)에 제3 접합층(33)을 형성한 것이고, 도 4에 도시된 접합층 부착 광학 적층체(3b)는, 광학 적층체(1b)에 제3 접합층(33)을 형성한 것이다. 제3 접합층(33)은, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 광학 적층체(1)의 제2 위상차층(20)의 제1 위상차층(10)측과는 반대측에 형성된다.

제3 접합층(33)은, 화상 표시 소자에 광학 적층체(1)를 접합하기 위해서 이용할 수 있다. 제3 접합층(33)은, 접착제 경화층 또는 점착제층이다.

접합층 부착 광학 적층체(3)는 또한, 제3 접합층(33)의 제2 위상차층(20)측과는 반대측에, 제3 접합층(33)에 대해 박리 가능한 박리 필름(35)을 갖고 있어도 좋다. 박리 필름(35)은, 제3 접합층(33)이 점착제층인 경우에 형성되는 것이 바람직하다.

접합층 부착 광학 적층체(3)는, 매엽체여도 좋고, 보관 시나 수송 시 등에 권취되어 롤 형상으로 되는 길이를 갖는 장척체여도 좋다.

접합층 부착 광학 적층체(3)는, 광학 적층체(1)를 이용하여 얻어지는 것이기 때문에, 상기한 광 누설이나 반사광의 변색과 같은 광학 특성의 저하가 억제되어 있다고 생각된다.

(광학 적층체의 제조 방법 (1))

도 5는 본 실시형태의 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시한 개략 단면도이다. 도 1에 도시된 광학 적층체(1a)의 제조 방법은, 도 5에 도시된 바와 같이,

제1 기재층(15) 상에 제1 위상차층(10)이 형성된 기재층 부착 제1 위상차층(18)을 준비하는 공정(도 5의 (a)),

제2 기재층(25) 상에 제2 위상차층(20)이 형성된 기재층 부착 제2 위상차층(28)을 준비하는 공정(도 5의 (b)),

기재층 부착 제1 위상차층(18)의 제1 위상차층(10)측과, 기재층 부착 제2 위상차층(28)의 제2 위상차층(20)측을, 제2 접합층(32)을 통해 적층하는 공정(도 5의 (c)),

제2 접합층(32)을 통해 적층하는 공정보다 후에, 제1 기재층(15)을 박리하는 공정(도 5의 (d)),

제1 기재층(15)을 박리함으로써 노출된 면과, 편광판(40)을, 제1 접합층(31)을 통해 접합하는 공정(도 5의 (e)), 및

제1 접합층(31)을 통해 접합하는 공정보다 후에, 제2 기재층(25)을 박리하는 공정

을 포함할 수 있다.

기재층 부착 제1 위상차층(18)은, 제1 기재층(15) 상에서, 제1 배향층(11)을 통해 또는 제1 배향층(11)을 통하지 않고, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정층 형성용 조성물을 도포 건조시키고, 중합성 액정 화합물을 중합 경화하여 제1 액정층(12)을 형성함으로써 얻을 수 있다. 도 5에는, 제1 위상차층(18)이 제1 배향층(11) 및 제1 액정층(12)의 적층체인 경우를 도시하고 있으나, 제1 위상차층(18)은 제1 배향층(11)을 포함하고 있지 않아도 좋다.

기재층 부착 제2 위상차층(28)은, 제2 기재층(25) 상에서, 제2 배향층(21)을 통해 또는 제2 배향층(21)을 통하지 않고, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정층 형성용 조성물을 도포 건조시키고, 중합성 액정 화합물을 중합 경화하여 제2 액정층(22)을 형성함으로써 얻을 수 있다. 도 5에는, 제2 위상차층(28)이 제2 배향층(21) 및 제2 액정층(22)의 적층체인 경우를 도시하고 있으나, 제2 위상차층(28)은 제2 배향층(21)을 포함하고 있지 않아도 좋다.

제2 접합층(32)을 통해 적층하는 공정에서는, 예컨대 먼저, 기재층 부착 제1 위상차층(18)의 제1 위상차층(10)측, 및/또는, 기재층 부착 제2 위상차층(28)의 제2 위상차층(20)측에, 제2 접합층(32)을 형성하기 위한 제2 접합제 조성물층을 형성한다. 다음으로, 제2 접합제 조성물층을 통해 기재층 부착 제1 위상차층(18)과 기재층 부착 제2 위상차층(28)을 적층한 후, 제2 접합제 조성물층으로부터 제2 접합층(32)을 형성한다. 제2 접합제 조성물층으로부터 제2 접합층(32)을 형성하는 방법은, 제2 접합제 조성물층의 종류에 따라 선택하면 된다. 예컨대, 제2 접합제 조성물에 포함되는 접합제가 접착제인 경우에는, 활성 에너지선의 조사나 가열 처리 등을 행하여 접합제를 경화함으로써 제2 접합층(32)을 형성해도 좋고, 제2 접합제 조성물에 포함되는 접합제가 점착제인 경우에는, 제2 접합제 조성물층을 제2 접합층(32)으로 해도 좋다. 이에 의해, 제1 기재층(15), 제1 위상차층(10)(제1 배향층(11), 제1 액정층(12)), 제2 접합층(32), 제2 위상차층(20)(제2 액정층(22), 제2 배향층(21)), 및 제2 기재층(25)이 이 순서로 적층된 적층체가 얻어진다(도 5의 (c)).

제1 기재층(15)을 박리하는 공정에서는, 도 5의 (c)에 도시된 적층체로부터, 제1 기재층(15)을 박리한다. 제1 기재층(15)을 박리하는 공정에서는, 제1 기재층(15)만을 박리해도 좋고, 제1 배향층(11)이 존재하는 경우에는 제1 기재층(15)과 함께 제1 배향층(11)도 박리해도 좋다. 이에 의해, 제1 위상차층(10)(제1 배향층(11), 제1 액정층(12)), 제2 접합층(32), 제2 위상차층(20)(제2 액정층(22), 제2 배향층(21)), 및 제2 기재층(25)이 이 순서로 적층된 적층체가 얻어진다(도 5의 (d)).

제1 접합층(31)을 통해 접합하는 공정에서는, 예컨대 먼저, 도 5의 (d)에 도시된 적층체의, 제1 기재층(15)을 박리함으로써 노출된 노출면측, 및/또는, 편광판(40)에, 제1 접합층(31)을 형성하기 위한 제1 접합제 조성물층을 형성한다. 다음으로, 제1 접합제 조성물층을 통해 도 5의 (d)에 도시된 적층체와 편광판(40)을 적층한 후, 제1 접합제 조성물층으로부터 제1 접합층(31)을 형성한다. 제1 접합제 조성물층으로부터 제1 접합층(31)을 형성하는 방법은, 제1 접합제 조성물층의 종류에 따라 선택하면 되고, 예컨대 제2 접합제 조성물층으로부터 제2 접합층(32)을 형성하는 방법에서 설명한 방법으로 행하면 된다. 이에 의해, 편광판(40), 제1 접합층(31), 제1 위상차층(10)(제1 배향층(11), 제1 액정층(12)), 제2 접합층(32), 제2 위상차층(20)(제2 액정층(22), 제2 배향층(21)), 및 제2 기재층(25)이 이 순서로 적층된 적층체가 얻어진다(도 5의 (e)).

제2 기재층(25)을 박리하는 공정에서는, 도 5의 (e)에 도시된 적층체로부터, 제2 기재층(25)을 박리한다. 제2 기재층(25)을 박리하는 공정에서는, 제2 기재층(25)만을 박리해도 좋고, 제2 배향층(21)이 존재하는 경우에는 제2 기재층(25)과 함께 제2 배향층(21)도 박리해도 좋다. 이에 의해, 도 1에 도시된 광학 적층체(1a)를 얻을 수 있다.

제1 접합제 조성물층이나 제2 접합제 조성물층을 형성하기 전에, 제1 접합층(31)이나 제2 접합층(32)을 통해 접합되는 각 층의 접합면의 한쪽 또는 양쪽에 대해, 비누화 처리, 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리, 프라이머 처리, 앵커 코팅 처리와 같은 접착 용이 처리를 실시해도 좋다.

(광학 적층체의 제조 방법 (2))

도 6은 본 실시형태의 광학 적층체의 제조 공정의 다른 일례를 모식적으로 도시한 개략 단면도이다. 도 2에 도시된 광학 적층체(1b)의 제조 방법은, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이,

제1 기재층(15) 상에 제1 위상차층(10)이 형성된 기재층 부착 제1 위상차층(18)을 준비하는 공정(도 5의 (a)),

제2 기재층(25) 상에 제2 위상차층(20)이 형성된 기재층 부착 제2 위상차층(28)을 준비하는 공정(도 5의 (b)),

기재층 부착 제1 위상차층(18)의 제1 위상차층(10)측과, 편광판(40)을, 제1 접합층(31)을 통해 적층하는 공정(도 6의 (a)),

제1 접합층(31)을 통해 적층하는 공정보다 후에, 제1 기재층(15)을 박리하는 공정(도 6의 (b)),

제1 기재층(15)을 박리함으로써 노출된 면과, 기재층 부착 제2 위상차층(28)의 제2 위상차층(20)측을, 제2 접합층(32)을 통해 접합하는 공정(도 6의 (c)), 및

제2 접합층(32)을 통해 접합하는 공정보다 후에, 제2 기재층(25)을 박리하는 공정

을 포함할 수 있다.

기재층 부착 제1 위상차층(18) 및 기재층 부착 제2 위상차층(28)을 얻는 방법에 대해서는, 상기한 방법을 들 수 있다. 도 6에는, 제1 위상차층(18)이 제1 배향층(11) 및 제1 액정층(12)의 적층체인 경우를 도시하고 있으나, 제1 위상차층(18)은 제1 배향층(11)을 포함하고 있지 않아도 좋다. 마찬가지로, 도 6에는, 제2 위상차층(28)이 제2 배향층(21) 및 제2 액정층(22)의 적층체인 경우를 도시하고 있으나, 제2 위상차층(28)은 제2 배향층(21)을 포함하고 있지 않아도 좋다.

제1 접합층(31)을 통해 적층하는 공정에서는, 예컨대 먼저, 기재층 부착 제1 위상차층(18)의 제1 위상차층(10)측, 및/또는, 편광판(40)에, 제1 접합층(31)을 형성하기 위한 제1 접합제 조성물층을 형성한다. 다음으로, 제1 접합제 조성물층을 통해 기재층 부착 제1 위상차층(18)과 편광판(40)을 적층한 후, 제1 접합제 조성물층으로부터 제1 접합층(31)을 형성한다. 제1 접합제 조성물층으로부터 제1 접합층(31)을 형성하는 방법은, 상기한 방법을 들 수 있다. 이에 의해, 편광판(40), 제1 접합층(31), 제1 위상차층(10)(제1 액정층(12), 제1 배향층(11)), 및 제1 기재층(15)이 이 순서로 적층된 적층체가 얻어진다(도 6의 (a)).

제1 기재층(15)을 박리하는 공정에서는, 도 6의 (a)에 도시된 적층체로부터, 제1 기재층(15)을 박리한다. 제1 기재층(15)을 박리하는 공정에서는, 제1 기재층(15)만을 박리해도 좋고, 제1 배향층(11)이 존재하는 경우에는 제1 기재층(15)과 함께 제1 배향층(11)도 박리해도 좋다. 이에 의해, 편광판(40), 제1 접합층(31), 및 제1 위상차층(10)(제1 액정층(12), 제1 배향층(11))이 이 순서로 적층된 적층체가 얻어진다(도 6의 (b)).

제2 접합층(32)을 통해 접합하는 공정에서는, 예컨대 먼저, 도 6의 (b)에 도시된 적층체의, 제1 기재층(15)을 박리함으로써 노출된 노출면측, 및/또는, 기재층 부착 제2 위상차층(28)의 제2 위상차층(20)측에, 제2 접합층(32)을 형성하기 위한 제2 접합제 조성물층을 형성한다. 다음으로, 제2 접합제 조성물층을 통해 도 6의 (b)에 도시된 적층체와 기재층 부착 제2 위상차층(28)을 적층한 후, 제2 접합제 조성물층으로부터 제2 접합층(32)을 형성한다. 제2 접합제 조성물층으로부터 제2 접합층(32)을 형성하는 방법은, 상기한 방법을 들 수 있다. 이에 의해, 편광판(40), 제1 접합층(31), 제1 위상차층(10)(제1 액정층(12), 제1 배향층(11)), 제2 접합층(32), 제2 위상차층(20)(제2 액정층(22), 제2 배향층(21)), 및 제2 기재층(25)이 이 순서로 적층된 적층체가 얻어진다(도 6의 (c)).

제2 기재층(25)을 박리하는 공정에서는, 도 6의 (c)에 도시된 적층체로부터, 제2 기재층(25)을 박리한다. 제2 기재층(25)을 박리하는 공정에서는, 제2 기재층(25)만을 박리해도 좋고, 제2 배향층(21)이 존재하는 경우에는 제2 기재층(25)과 함께 제2 배향층(21)도 박리해도 좋다. 이에 의해, 도 2에 도시된 광학 적층체(1b)를 얻을 수 있다.

제1 접합제 조성물층이나 제2 접합제 조성물층을 형성하기 전에, 제1 접합층(31)이나 제2 접합층(32)을 통해 접합되는 각 층의 접합면의 한쪽 또는 양쪽에 대해, 비누화 처리, 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리, 프라이머 처리, 앵커 코팅 처리와 같은 접착 용이 처리를 실시해도 좋다.

(접합층 부착 광학 적층체의 제조 방법)

도 7 및 도 8은 본 실시형태의 접합층 부착 광학 적층체의 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시한 개략도이다. 도면 중, 화살표는 반송 방향을 나타낸다. 도 7 및 도 8에서는, 장척체의 접합층 부착 광학 적층체(3)를 롤·투·롤(Roll to Roll)로 제조하는 방법을 도시하고 있으나, 이것에 한정되지 않는다. 접합층 부착 광학 적층체(3)의 제조 방법은, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 광학 적층체(1)(도 1 및 도 2)의 제2 위상차층(20)측에 반송 롤(51)을 접촉하면서 광학 적층체(1)를 반송하는 공정과,

상기 반송하는 공정보다 후에, 광학 적층체(1)의 제2 위상차층(20)측에, 제3 접합층(33)을 형성하는 공정을 포함한다.

접합층 부착 광학 적층체의 제조 방법은, 또한, 제3 접합층(33)의 제2 위상차층(20)측과는 반대측에, 박리 필름(35)을 적층하는 공정을 포함하고 있어도 좋다.

광학 적층체(1)를 반송하는 공정에서는, 장척의 광학 적층체(1)를 권출하여, 광학 적층체(1)의 제2 위상차층(20)측에 반송 롤(51)을 접촉하면서 광학 적층체(1)를 반송한다. 광학 적층체(1)의 제2 위상차층측에 접촉하는 반송 롤(51)은, 하나여도 좋고, 2 이상이어도 좋다. 광학 적층체(1)의 편광판(40)측에 접촉하는 반송 롤을 1 이상 갖고 있어도 좋다. 반송 롤(51)은, 구동원을 갖는 구동 롤이어도 좋고, 구동원을 갖지 않는 가이드 롤이어도 좋다.

제3 접합층(33)을 형성하는 공정에서는, 광학 적층체(1)의, 반송 롤(51)과 접촉한 제2 위상차층(20)측에, 제3 접합층(33)을 형성한다. 제3 접합층(33)을 형성하는 방법으로서는, 도 7에 도시된 바와 같이, 제3 접합층(33)을 형성하기 위한 제3 접합제 조성물을 도포 장치(52)를 이용하여 도포하여 제3 접합제 조성물층을 형성하는 방법, 도 8에 도시된 바와 같이, 광학 적층체(1)의 제2 위상차층(20)측에, 박리 필름(35) 상에 제3 접합층(33)을 형성한 박리 필름 부착 접합층(36)의 제3 접합층(33)측을 적층하는 방법 등을 들 수 있다.

도 7에 도시된 바와 같이, 광학 적층체(1)에 제3 접합제 조성물을 도포하는 경우, 익스트루전법, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법, 와이어 바 코팅법, 닥터블레이드 코팅법, 어플리케이터법 등의 도포법, 플렉소법 등의 인쇄법 등의 공지된 도포 방법을 이용할 수 있다.

도 8에 도시된 바와 같이, 광학 적층체(1)와 박리 필름 부착 접합층(36)을 적층하는 경우, 그 적층 위치에 배치된 접합 롤(53) 등을 이용하여, 상하로부터 압박하면 된다.

상기한 바와 같이, 광학 적층체(1)의 제2 위상차층(20)측의 표면은, 문지른 경우 등에 발생하는 상처를 억제할 수 있도록 되어 있다. 그 때문에, 광학 적층체(1)의 제2 위상차층(20)측에 반송 롤(51)을 접촉하면서 광학 적층체(1)를 반송한 경우에도, 광학 적층체(1)의 제2 위상차층(20)측의 표면에 상처가 발생하는 것을 억제할 수 있다. 이에 의해, 반송 롤(51)에 접촉한 제2 위상차층(20)측에 제3 접합층(33)을 형성한 접합층 부착 광학 적층체(3)는, 상기한 상처에 의한 광 누설이나 반사광의 변색과 같은 광학 특성의 저하가 억제되어 있다고 생각된다.

광학 적층체(1)에서는, 제1 위상차층(10)의 한쪽의 표면측에는 편광판(40)이 설치되어 있고, 제1 위상차층(10)의 다른 쪽의 표면측에는 제2 위상차층(20)이 형성되어 있으며, 제1 위상차층(10)의 표면이 노출되어 있지 않다. 그 때문에, 광학 적층체(1)를 이용하여 접합층 부착 광학 적층체(3)를 제조하는 경우에, 제1 위상차층(10)이 직접, 반송 롤이나 접합 롤 등에 접촉하는 일이 없다. 그러므로, 접합층 부착 광학 적층체(3)의 제조 방법에서는, 제1 위상차층(10)에는 상처가 발생하기 어렵다.

이하, 본 실시형태의 광학 적층체, 접합층 부착 광학 적층체, 및 이들의 제조 방법에서 이용한 각 부재의 상세에 대해 설명한다.

(직선 편광층)

직선 편광층은, 무편광의 광을 입사시켰을 때, 흡수축에 직교하는 진동면을 갖는 직선 편광을 투과시키는 성질을 갖는다. 직선 편광층은, 폴리비닐알코올(이하, 「PVA」라고 약기하는 경우도 있다.)계 수지 필름을 포함하는 것이어도 좋고, 중합성 액정 화합물에 이색성 색소를 배향시켜, 중합성 액정 화합물을 중합시킨 경화막이어도 좋다.

PVA계 수지 필름을 포함하는 직선 편광층으로서는, 예컨대, 폴리비닐알코올(이하, 「PVA」라고 약기하는 경우도 있다.)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리, 및 연신 처리가 실시된 것 등을 들 수 있다. 광학 특성이 우수한 점에서, PVA계 수지 필름을 요오드로 염색하고 일축 연신하여 얻어진 직선 편광층을 이용하는 것이 바람직하다.

폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 제조할 수 있다. 폴리아세트산비닐계 수지는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체의 공중합체일 수도 있다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예컨대, 불포화 카르복실산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류, 암모늄기를 갖는 아크릴아미드류 등을 들 수 있다.

폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상 85∼100 몰% 정도이고, 바람직하게는 98 몰% 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 좋고, 예컨대, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈 등도 사용 가능하다. 폴리비닐알코올계 수지의 평균 중합도는, 통상 1,000∼10,000 정도이고, 바람직하게는 1,500∼5,000 정도이다. 폴리비닐알코올계 수지의 평균 중합도는, JIS K 6726(1994)에 준거하여 구할 수 있다. 평균 중합도가 1000 미만에서는 바람직한 편광 성능을 얻는 것이 곤란하고, 10000 초과에서는 필름 가공성이 뒤떨어지는 경우가 있다.

이러한 폴리비닐알코올계 수지를 제막(製膜)한 것이, 직선 편광층의 원반(原反) 필름으로서 이용된다. 폴리비닐알코올계 수지를 제막하는 방법은, 특별히 한정되는 것이 아니며, 공지된 방법으로 제막할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지 원반 필름의 막 두께는, 예컨대 10∼100 ㎛ 정도, 바람직하게는 10∼60 ㎛ 정도, 보다 바람직하게는 15∼30 ㎛ 정도이다.

그 외의 PVA계 수지 필름을 포함하는 직선 편광층의 제조 방법으로서는, 먼저 기재 필름을 준비하고, 기재 필름 상에 폴리비닐알코올계 수지 등의 수지의 용액을 도포하며, 용매를 제거하는 건조 등을 행하여 기재 필름 상에 수지층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 들 수 있다. 또한, 기재 필름의 수지층이 형성되는 면에는, 미리 프라이머층을 형성할 수 있다. 기재 필름으로서는, PET 등의 수지 필름을 사용할 수 있다. 프라이머층의 재료로서는, 직선 편광층에 이용되는 친수성 수지를 가교한 수지 등을 들 수 있다.

계속해서, 필요에 따라 수지층의 수분 등의 용매량을 조정하고, 그 후, 기재 필름 및 수지층을 일축 연신하며, 계속해서, 수지층을 요오드 등의 이색성 색소로 염색하여 이색성 색소를 수지층에 흡착 배향시킨다. 계속해서, 필요에 따라 이색성 색소가 흡착 배향된 수지층을 붕산 수용액으로 처리하고, 붕산 수용액을 씻어내는 세정 공정을 행한다. 이에 의해, 이색성 색소가 흡착 배향된 수지층, 즉, 직선 편광층의 필름이 제조된다. 각 공정에는 공지된 방법을 채용할 수 있다.

기재 필름 및 수지층의 일축 연신은, 염색 전에 행해도 좋고, 염색 중에 행해도 좋으며, 염색 후의 붕산 처리 중에 행해도 좋고, 이들 복수의 단계에 있어서 각각 일축 연신을 행해도 좋다. 기재 필름 및 수지층은, MD 방향(필름 반송 방향)으로 일축 연신해도 좋고, 이 경우, 주속(周速)이 상이한 롤 사이에서 일축으로 연신해도 좋고, 열 롤을 이용하여 일축으로 연신해도 좋다. 또한, 기재 필름 및 수지층은, TD 방향(필름 반송 방향에 수직인 방향)으로 일축 연신해도 좋고, 이 경우, 이른바 텐터법을 사용할 수 있다. 또한, 기재 필름 및 수지층의 연신은, 대기 중에서 연신을 행하는 건식 연신이어도 좋고, 용제로 수지층을 팽윤시킨 상태에서 연신을 행하는 습식 연신이어도 좋다. 직선 편광층의 성능을 발현하기 위해서는 연신 배율은 4배 이상이고, 5배 이상인 것이 바람직하며, 특히 5.5배 이상이 바람직하다. 연신 배율의 상한은 특별히 없으나, 파단 등을 억제하는 관점에서 8배 이하가 바람직하다.

상기 방법으로 제작한 직선 편광층은, 후술하는 보호층을 적층한 후에 기재 필름을 박리함으로써 얻을 수 있다. 이 방법에 의하면, 직선 편광층의 한층 더한 박막화가 가능해진다.

중합성 액정 화합물에 이색성 색소를 배향시켜, 중합성 액정 화합물을 중합시킨 경화막인 직선 편광층의 제조 방법으로서는, 기재 필름 상에, 중합성 액정 화합물 및 이색성 색소를 포함하는 편광층 형성용 조성물을 도포하고, 중합성 액정 화합물을 액정 상태를 유지한 채로 중합하여 경화시켜 직선 편광층을 형성하는 방법을 들 수 있다. 이와 같이 하여 얻어진 직선 편광층은, 기재 필름에 적층된 상태에 있고, 기재 필름 부착 직선 편광층을 후술하는 편광판으로서 이용해도 좋다.

이색성 색소로서는, 분자의 장축 방향에 있어서의 흡광도와 단축 방향에 있어서의 흡광도가 상이한 성질을 갖는 색소를 이용할 수 있고, 예컨대, 300∼700 ㎚의 범위에 흡수 극대 파장(λmax)을 갖는 색소가 바람직하다. 이러한 이색성 색소로서는, 예컨대, 아크리딘 색소, 옥사진 색소, 시아닌 색소, 나프탈렌 색소, 아조 색소, 안트라퀴논 색소 등을 들 수 있으나, 그 중에서도 아조 색소가 바람직하다. 아조 색소로서는, 모노아조 색소, 비스아조 색소, 트리스아조 색소, 테트라키스아조 색소, 스틸벤 아조 색소 등을 들 수 있고, 비스아조 색소, 트리스아조 색소가 보다 바람직하다.

편광층 형성용 조성물은, 용제, 광중합 개시제 등의 중합 개시제, 광증감제, 중합 금지제 등을 포함할 수 있다. 편광층 형성용 조성물에 포함되는, 중합성 액정 화합물, 이색성 색소, 용제, 중합 개시제, 광증감제, 중합 금지제 등에 대해서는, 공지된 것을 이용할 수 있고, 예컨대, 일본 특허 공개 제2017-102479호 공보, 일본 특허 공개 제2017-83843호 공보에 예시되어 있는 것을 이용할 수 있다. 또한, 중합성 액정 화합물은, 후술하는 액정층(제1 액정층, 제2 액정층)을 얻기 위해서 이용한 중합성 액정 화합물로서 예시한 화합물을 이용해도 좋다. 편광층 형성용 조성물을 이용하여 직선 편광층을 형성하는 방법에 대해서도, 상기 공보에 예시된 방법을 채용할 수 있다.

직선 편광층의 두께는, 2 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 3 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기한 직선 편광층의 두께는, 25 ㎛ 이하이고, 15 ㎛ 이하인 것이 바람직하며, 13 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 나아가 7 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 전술한 상한값 및 하한값은, 임의로 조합할 수 있다.

(편광판)

직선 편광층은 그 편면 또는 양면에, 공지된 점착제층 또는 접착층을 통해 보호층을 적층하여 편광판으로 할 수 있다. 이 편광판은 이른바 직선 편광판이다. 직선 편광층의 편면 또는 양면에 적층할 수 있는 보호층으로서는, 예컨대, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성, 연신성 등이 우수한 열가소성 수지로 형성된 필름이 이용된다. 이러한 열가소성 수지의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지; 폴리에테르술폰 수지; 폴리술폰 수지; 폴리카보네이트 수지; 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 폴리아미드 수지; 폴리이미드 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀 수지; 시클로계 및 노르보르넨 구조를 갖는 환상 폴리올레핀 수지(노르보르넨계 수지라고도 한다.); (메트)아크릴 수지; 폴리아릴레이트 수지; 폴리스티렌 수지; 폴리비닐알코올 수지, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 직선 편광층의 양면에 보호층이 적층되어 있는 경우, 2개의 보호층의 수지 조성은 동일해도 좋고, 상이해도 좋다. 또한, 본 명세서에 있어서 「(메트)아크릴」이란, 아크릴 또는 메타크릴의 어느 것이어도 좋은 것을 의미한다. (메트)아크릴레이트 등의 「(메트)」도 동일한 의미이다.

열가소성 수지로 형성된 필름은, PVA계 수지 및 이색성 물질을 포함하는 직선 편광층과의 밀착성을 향상시키기 위해서, 표면 처리(예컨대, 코로나 처리 등)가 실시되어 있어도 좋고, 프라이머층(밑칠층이라고도 한다.) 등의 박층이 형성되어 있어도 좋다.

보호층은, 온도 40℃, 습도 90% RH에서의 투습도가 1∼1500 g/㎡·24 hr인 것이 바람직하다. 보호층의 온도 40℃, 습도 90% RH에서의 투습도는, 1000 g/㎡·24 hr 이하인 것이 보다 바람직하고, 100 g/㎡·24 hr 이하인 것이 더욱 바람직하며, 10 g/㎡·24 hr 이하인 것이 보다 더 바람직하다.

투습도는, JIS Z 0208:1976에 준거하여 측정을 할 수 있다.

또한, 직선 편광층의 양면에 보호층이 적층되는 경우, 광학 적층체가 광학 표시 소자에 접합되었을 때의 시인측에 적층되는 외측 보호층의 투습도와, 제1 접합층측에 적층되는 내측 보호층의 투습도는, 서로 동일하거나, 내측 보호층보다 외측 보호층 쪽이 작아지는 것이 바람직하다.

보호층은, 예컨대 전술한 열가소성 수지를 연신한 것이어도 좋고, 연신되어 있지 않은 것이어도 좋다(이하, 「미연신 수지」라고 하는 경우가 있다.). 연신 처리로서는, 일축 연신이나 이축 연신 등을 들 수 있다.

연신 처리에 있어서의 연신 방향은, 미연신 수지의 길이 방향이어도 좋고, 길이 방향에 직교하는 방향이어도 좋으며, 길이 방향에 대해 사교(斜交)하는 방향이어도 좋다. 일축 연신의 경우에는, 이들의 방향 중 어느 하나의 방향으로 미연신 수지를 연신하면 된다. 이축 연신은, 이들의 방향 중 2개의 연신 방향으로 동시에 연신하는 동시 이축 연신이어도 좋고, 소정의 방향으로 연신한 후에 다른 방향으로 연신하는 축차 이축 연신이어도 좋다.

연신 처리는, 예컨대, 하류측의 주속을 크게 한 2쌍 이상의 닙롤을 이용하여, 길이 방향으로 연신하거나, 또는, 미연신 수지의 양측 단을 척으로 파지(把持)하여 길이 방향에 직교하는 방향으로 연신하는 등에 의해 행할 수 있다. 이때, 연신 후의 열가소성 수지의 두께를 조정하거나, 연신 배율을 조정하거나 함으로써, 원하는 위상차값 및 파장 분산을 제어하는 것이 가능하다.

보호층의 두께는, 3 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 5 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 보호층의 두께는, 50 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 30 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 전술한 상한값 및 하한값은, 임의로 조합할 수 있다.

(프로텍트 필름)

프로텍트 필름은, 편광판의 표면을 피복 보호하기 위한 필름이고, 편광판에 대해 박리 가능하게 설치된다. 프로텍트 필름은, 프로텍트 필름용 수지 필름에 점착제층이 형성된 것이어도 좋고, 자기 점착성 필름으로 형성되어 있어도 좋다. 프로텍트 필름의 두께는, 예컨대 30∼200 ㎛일 수 있고, 바람직하게는 30∼150 ㎛이며, 보다 바람직하게는 30∼120 ㎛이다.

프로텍트 필름용 수지 필름을 구성하는 수지로서는, 예컨대, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지와 같은 폴리올레핀계 수지; 환상 폴리올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트와 같은 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지; (메트)아크릴계 수지 등을 들 수 있다. 이 중, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지가 바람직하다. 프로텍트 필름용 수지 필름은, 1층 구조여도 좋으나, 2층 이상의 다층 구조를 갖고 있어도 좋다.

프로텍트 필름용 점착제층을 구성하는 점착제 조성물로서는, 후술하는 점착제층을 구성하는 점착제 조성물과 동일한 것을 이용할 수 있다. 또한, 프로텍트 필름은, 프로텍트 필름용 수지 필름면 상에, 점착제 조성물을 도포, 건조 등 함으로써 점착제층을 형성하여 얻을 수 있다. 필요에 따라, 프로텍트 필름용 수지 필름의 점착제 조성물의 도포면에는 밀착성을 향상시키기 위해서, 표면 처리(예컨대, 코로나 처리 등)가 실시되어 있어도 좋고, 프라이머층(밑칠층이라고도 한다.) 등의 박층이 형성되어 있어도 좋다. 또한, 필요에 따라, 프로텍트 필름용 점착제층의, 프로텍트 필름용 수지 필름측과는 반대측의 표면을 피복하여 보호하기 위한 박리층을 갖고 있어도 좋다. 이 박리층은, 편광판과 접합시킬 때의 적절한 타이밍에서 박리할 수 있다.

자기 점착성 필름은, 점착제층 등의 부착을 위한 수단을 형성하지 않고 그 스스로 부착되고, 또한, 그 부착 상태를 유지하는 것이 가능한 필름이다. 자기 점착성 필름은, 예컨대 폴리프로필렌계 수지 및 폴리에틸렌계 수지 등을 이용하여 형성할 수 있다.

(제1 위상차층 및 제2 위상차층)

제1 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제1 액정층이어도 좋고, 제1 액정층과 제1 배향층의 적층체여도 좋다. 마찬가지로, 제2 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제2 액정층이어도 좋고, 제2 액정층과 제2 배향층의 적층체여도 좋다. 제2 위상차층은, 상기한 마르텐스 경도 H1을 갖는다. 제1 위상차층의 마르텐스 경도는 특별히 한정되지 않고, 상기 마르텐스 경도 H1과 동일해도 좋고, 상이해도 좋다.

제1 위상차층 및 제2 위상차층(이하, 양자를 통합하여 「위상차층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 전체로서 위상차 특성을 갖고, 이 위상차 특성은, 주로, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 의해 조정할 수 있다. 위상차층으로서는, 예컨대, λ/4의 위상차를 부여하는 층이나 λ/2의 위상차를 부여하는 층 등의 포지티브 A층; 수직 배향성을 나타내는 포지티브 C층 등을 들 수 있다.

위상차층은, 이하의 식 (A)로 표시되는 중합성 기의 양 N이 0.67 이하, 나아가서는 0.64 이하인 것이 바람직하다. 중합성 기의 양 N은 통상 0.01 이상, 바람직하게는 0.03 이상이다.

[식 중,

AL은, 위상차층을 구성하는 배향층을 구성하는 수지를 구성하는 중합성 화합물에 유래하는 구성 단위의 종류수를 나타낸다. 또한, 위상차층이 액정층만으로 구성되어 있는 경우에는, AL=0이다.

Cwi는, 배향층을 구성하는 수지에 있어서의 중합성 화합물에 유래하는 전체 구성 단위를 기준으로 하여, 중합성 화합물 i에 유래하는 구성 단위의 함유량(질량%)을 나타내고,

Mi는, 배향층을 구성하는 중합성 화합물 i의 분자량을 나타내며,

Ni는, 배향층을 구성하는 중합성 화합물 i가 갖는 중합성 기의 수를 나타낸다.

LC는, 액정층이 중합성 액정 화합물의 경화물층인 경우에, 액정층을 구성하는 중합성 액정 화합물에 유래하는 구성 단위의 종류수를 나타낸다.

Cwj는, 액정층에 있어서의 중합성 액정 화합물에 유래하는 전체 구성 단위를 기준으로 하여, 중합성 액정 화합물 j에 유래하는 구성 단위의 함유량(질량%)을 나타내고,

Mj는, 액정층을 구성하는 중합성 액정 화합물 j의 분자량을 나타내며,

Nj는, 액정층을 구성하는 중합성 액정 화합물 i가 갖는 중합성 기의 수를 나타낸다.

L_AL은, 배향층의 두께[㎛]를 나타내고,

L_LC는, 액정층의 두께[㎛]를 나타낸다.

L_total은, L_AL과 L_LC의 합을 나타낸다.]

(제1 액정층 및 제2 액정층)

제1 액정층 및 제2 액정층(이하, 양자를 통합하여 「액정층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써 형성된 경화물층이다. 본 명세서에서는, 중합성 액정 화합물의 광축이 기재층 평면에 대해 수평으로 배향된 것을 수평 배향, 중합성 액정 화합물의 광축이 기재층 평면에 대해 수직으로 배향된 것을 수직 배향이라고 정의한다. 광축이란, 중합성 액정 화합물의 배향에 의해 형성되는 굴절률 타원체에 있어서, 광축에 직교하는 방향에서 잘라낸 단면이 원이 되는 방향, 즉 2방향의 굴절률이 동일해지는 방향을 의미한다. 제1 액정층과 제2 액정층은, 동일한 중합성 액정 화합물을 중합시켜 형성된 경화물층이어도 좋고, 상이한 중합성 액정 화합물을 중합시켜 형성된 경화물층이어도 좋다.

중합성 액정 화합물로서는, 봉상(棒狀)의 중합성 액정 화합물 및 원반상(圓盤狀)의 중합성 액정 화합물을 들 수 있고, 이들 중 한쪽을 이용해도 좋으며, 이들의 양쪽을 포함하는 혼합물을 이용해도 좋다. 봉상의 중합성 액정 화합물이 기재층에 대해 수평 배향 또는 수직 배향된 경우에는, 상기 중합성 액정 화합물의 광축은, 상기 중합성 액정 화합물의 장축 방향과 일치한다. 원반상의 중합성 액정 화합물이 배향된 경우에는, 상기 중합성 액정 화합물의 광축은, 상기 중합성 액정 화합물의 원반면에 대해 직교하는 방향에 존재한다. 봉상의 중합성 액정 화합물로서는, 예컨대, 일본 특허 공표 평성 제11-513019호 공보(청구항 1 등)에 기재된 것을 적합하게 이용할 수 있다. 원반상의 중합성 액정 화합물로서는, 일본 특허 공개 제2007-108732호 공보(단락 [0020]∼[0067] 등), 일본 특허 공개 제2010-244038호 공보(단락 [0013]∼[0108] 등)에 기재된 것을 적합하게 이용할 수 있다.

중합성 액정 화합물을 중합함으로써 형성되는 액정층이 면내 위상차를 발현하기 위해서는, 중합성 액정 화합물을 적합한 방향으로 배향시키면 된다. 중합성 액정 화합물이 봉상인 경우에는, 상기 중합성 액정 화합물의 광축을 기재층 평면에 대해 수평으로 배향시킴으로써 면내 위상차가 발현되고, 이 경우, 광축 방향과 지상축(遲相軸) 방향은 일치한다. 중합성 액정 화합물이 원반상인 경우에는, 상기 중합성 액정 화합물의 광축을 기재층 평면에 대해 수평으로 배향시킴으로써 면내 위상차가 발현되고, 이 경우, 광축과 지상축은 직교한다. 중합성 액정 화합물의 배향 상태는, 배향층과 중합성 액정 화합물의 조합에 의해 조정할 수 있다.

중합성 액정 화합물은, 적어도 하나의 중합성 기를 갖고, 또한, 액정성을 갖는 화합물이다. 중합성 액정 화합물을 2종류 이상을 병용하는 경우, 적어도 1종류가 분자 내에 2 이상의 중합성 기를 갖는 것이 바람직하다. 중합성 기란, 중합 반응에 관여하는 기를 의미하고, 광중합성 기인 것이 바람직하다. 여기서, 광중합성 기란, 후술하는 광중합 개시제로부터 발생한 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 중합성 기로서는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기, 스티릴기, 알릴기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 중합성 액정 화합물이 갖는 액정성은 서모트로픽성 액정이어도 리오트로픽 액정이어도 좋고, 서모트로픽 액정을 질서도로 분류하면, 네마틱 액정이어도 스멕틱 액정이어도 좋다.

액정층은, 1층 구조여도 좋고, 2층 이상의 다층 구조여도 좋다. 2층 이상의 다층 구조를 갖는 경우에는, 후술하는 기재층 부착 제1 위상차층 및 기재층 부착 제2 위상차층을 준비할 때에, 기재층 상에 2층 이상의 다층 구조의 액정층을 형성하면 된다. 액정층의 두께는, 0.5 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 1 ㎛ 이상이어도 좋으며, 통상 10 ㎛ 이하이고, 5 ㎛ 이하여도 좋다. 상기한 상한값 및 하한값은, 임의로 조합할 수 있다. 액정층의 두께가 0.5 ㎛ 이상이면 충분한 내구성이 얻어지기 쉽다. 액정층의 두께가 10 ㎛ 이하임으로써, 광학 적층체의 박형화에 기여할 수 있다.

(제1 배향층 및 제2 배향층)

제1 배향층 및 제2 배향층(이하, 양자를 통합하여 「배향층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 이들 배향층 상에 형성되는 제1 액정층 및 제2 액정층에 포함되는 액정 화합물을 원하는 방향으로 배향시키는 배향 규제력을 갖는다. 배향층은, 중합성 액정 화합물의 분자축을 기재층에 대해 수직 배향한 수직 배향층이어도 좋고, 중합성 액정 화합물의 분자축을 기재층에 대해 수평 배향한 수평 배향층이어도 좋으며, 중합성 액정 화합물의 분자축을 기재층에 대해 경사 배향시키는 경사 배향층이어도 좋다. 제1 배향층과 제2 배향층은, 동일한 배향층이어도 좋고, 상이한 배향층이어도 좋다.

배향층으로서는, 후술하는 액정층 형성용 조성물의 도공 등에 의해 용해되지 않는 용매 내성을 갖고, 용매의 제거나 중합성 액정 화합물의 배향을 위한 가열 처리에 대한 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 배향층으로서는, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층, 광배향 폴리머로 형성된 광배향성 폴리머층, 층 표면에 요철 패턴이나 복수의 그루브(홈)를 갖는 그루브 배향층을 들 수 있다.

배향성 폴리머층은, 배향성 폴리머를 용제에 용해한 조성물을 기재층(제1 기재층 또는 제2 기재층)에 도포하여 용제를 제거하고, 필요에 따라 러빙 처리를 하여 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층에서는, 배향성 폴리머의 표면 상태나 러빙 조건에 의해 임의로 조정하는 것이 가능하다.

광배향성 폴리머층은, 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 조성물을 기재층(제1 기재층 또는 제2 기재층)에 도포하고, 자외선 등의 광을 조사함으로써 형성할 수 있다. 특히 수평 방향으로 배향 규제력을 발현하는 경우 등에 있어서는, 편광을 조사함으로써 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 광배향성 폴리머층에서는, 광배향성 폴리머에 대한 편광 조사 조건 등에 의해 임의로 조정하는 것이 가능하다.

그루브 배향층은, 예컨대 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 통해 노광, 현상 등을 행하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판형의 원반(原盤)에, 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화의 층을 형성하고, 이 층을 기재층(제1 기재층 또는 제2 기재층)에 전사하여 경화하는 방법, 기재층(제1 기재층 또는 제2 기재층)에 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화의 층을 형성하고, 이 층에, 요철을 갖는 롤형의 원반을 밀어붙이는 등에 의해 요철을 형성하여 경화시키는 방법 등에 의해 형성할 수 있다.

배향층을 형성하기 위해서 이용하는 수지로서는, 중합성 화합물이 중합된 수지를 들 수 있다. 중합성 화합물은, 중합성 기를 갖는 화합물로서, 통상은, 액정 상태가 되지 않는 비액정성의 중합성 비액정성 화합물이다. 중합성 화합물의 중합성 기끼리가 반응하여 중합성 화합물이 중합됨으로써, 수지가 된다. 이러한 수지로서는, 액정층의 형성 단계에서 중합성 액정 화합물을 배향시키기 위한 배향층으로서 이용할 수 있고, 위상차층에 포함되지 않는 것이면, 공지된 배향층의 재료로서 이용되는 수지이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 공지된 단작용 또는 다작용의 (메트)아크릴레이트계 모노머를 중합 개시제하에서 경화시킨 경화물 등을 이용할 수 있다.

구체적으로는, (메트)아크릴레이트계 모노머로서는, 예컨대, 2-에틸헥실아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노 2-에틸헥실에테르아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노페닐에테르아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜모노페닐에테르아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴메타크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 메타크릴산, 우레탄아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 또한, 수지로서는, 이들의 1종류여도 좋고, 2종류 이상의 혼합물이어도 좋다. 이러한 배향층은, 액정층을 형성한 후, 편광판이나 다른 위상차층 등과 적층시키는 공정의 전후에 있어서, 기재층과 함께 박리 제거할 수 있다.

배향층은, 기재층에 대한 박리성의 향상 및 위상차층에 막 강도를 부여하는 등을 위해서, 위상차층에 포함되어 있어도 좋다. 위상차층이 배향층을 포함하는 경우, 배향층에 이용하는 수지로서는, 단작용이나 2작용의 (메트)아크릴레이트계 모노머, 이미드계 모노머, 또는 비닐에테르계 모노머를 경화시킨 경화물 등을 이용하는 것이 바람직하다.

단작용의 (메트)아크릴레이트계 모노머로서는, 탄소수 4 내지 16의 알킬(메트)아크릴레이트, 탄소수 2 내지 14의 β카르복시알킬(메트)아크릴레이트, 탄소수 2 내지 14의 알킬화페닐(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트 및 이소보닐(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

2작용의 (메트)아크릴레이트계 모노머로서는, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트; 1,3-부탄디올(메트)아크릴레이트; 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트; 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트; 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트; 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트; 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트; 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트; 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르; 에톡시화비스페놀A디(메트)아크릴레이트; 프로폭시화네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트; 에톡시화네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 및 3-메틸펜탄디올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

이미드계 모노머를 경화시킨 이미드계 수지로서는, 폴리아미드, 폴리이미드 등을 들 수 있다. 또한, 이미드계 수지로서는, 이들의 1종류여도 좋고, 2종류 이상의 혼합물이어도 좋다.

배향층을 형성하는 수지로서, 단작용이나 2작용의 (메트)아크릴레이트계 모노머, 이미드계 모노머, 및 비닐에테르계 모노머 이외의 모노머를 포함하고 있어도 좋으나, 단작용이나 2작용의 (메트)아크릴레이트계 모노머, 이미드계 모노머, 및 비닐에테르계 모노머의 함유 비율이, 총 모노머 중에서 50 중량% 이상이어도 좋고, 55 중량% 이상인 것이 바람직하며, 60 중량% 이상인 것이 보다 바람직하다.

제1 배향층과 제2 배향층은, 동일한 종류의 층이어도 좋고, 상이한 종류의 층이어도 좋다. 배향층이 위상차층에 포함되는 경우, 배향층의 두께는, 통상 10 ㎚∼10000 ㎚의 범위이다. 액정층의 배향성이 기재층에 대해 수평 배향인 경우, 배향층의 두께는 10 ㎚∼1000 ㎚인 것이 바람직하고, 액정층의 배향성이 기재층에 대해 수직 배향인 경우, 배향층의 두께는 100 ㎚∼10000 ㎚인 것이 바람직하다. 배향층의 두께가 상기한 범위 내임으로써, 기재층에 대한 박리성을 향상시키고, 위상차층에 막 강도를 부여할 수 있다.

(기재층 부착 위상차층)

기재층 부착 제1 위상차층 및 기재층 부착 제2 위상차층(이하, 양자를 통합하여 「기재층 부착 위상차층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 기재층 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정층 형성용 조성물을 도포, 건조시키고, 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써 형성된 경화물층인 액정층을 포함하는 위상차를 형성함으로써 얻을 수 있다. 액정층 형성용 조성물은, 기재층 상에 후술하는 배향층이 형성되어 있는 경우에는, 배향층 상에 도포하면 되고, 액정층이 2층 이상의 다층 구조인 경우에는, 액정층 형성용 조성물을 순차 도포하는 등에 의해, 다층 구조를 형성하면 된다.

액정층 형성용 조성물은, 중합성 액정 화합물에 더하여 통상, 용매를 포함한다. 용매로서는, 유기 용제가 바람직하고, 예컨대, 아미드(예, N,N-디메틸포름아미드), 술폭시드(예, 디메틸술폭시드), 헤테로환 화합물(예, 피리딘), 탄화수소(예, 벤젠, 헥산), 알킬할라이드(예, 클로로포름, 디클로로메탄), 에스테르(예, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸), 케톤(예, 아세톤, 메틸에틸케톤), 에테르(예, 테트라히드로푸란, 1,2-디메톡시에탄)를 들 수 있다. 그 중에서도, 알킬할라이드, 케톤이 바람직하다. 또한, 2종류 이상의 유기 용매를 병용해도 좋다.

액정층 형성용 조성물은, 또한, 중합 개시제, 반응성 첨가제, 중합 금지제 등의 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 이들 첨가제 등에 대해서는, 일본 특허 공개 제2015-163937호 공보, 일본 특허 공개 제2016-42185호 공보, 국제 공개 제2 016/158940호, 일본 특허 공개 제2016-224128호 공보에 예시되어 있는 것을 이용할 수 있다.

액정층 형성용 조성물에는, 도공막의 균일성 및 막의 강도의 점에서, 중합성 모노머, 계면 활성제 등이 포함되어 있어도 좋다. 중합성 모노머로서는, 라디칼 중합성 또는 양이온 중합성의 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 다작용성 라디칼 중합성 모노머가 바람직하다. 또한, 중합성 모노머로서는, 전술한 중합성 액정 화합물과 공중합할 수 있는 것이 바람직하다. 중합성 모노머의 사용량은, 중합성 액정 화합물의 전체 질량에 대해, 1∼50 질량%인 것이 바람직하고, 2∼30 질량%인 것이 보다 바람직하다. 계면 활성제로서는, 공지된 화합물을 들 수 있으나, 불소계 화합물이 바람직하다.

액정층 형성용 조성물에는, 편광판 계면측 수직 배향제, 공기 계면측 수직 배향제 등의 수직 배향 촉진제, 및 편광자 계면측 수평 배향제, 공기 계면측 수평 배향제 등의 수평 배향 촉진제와 같은 각종 배향제가 포함되어 있어도 좋다. 또한, 액정층 형성용 조성물에는, 상기 성분 이외에도, 밀착 개량제, 가소제, 폴리머 등이 포함되어 있어도 좋다.

액정층 형성용 조성물의 도포는, 예컨대, 스핀 코팅법, 익스트루전법, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법, 슬릿 코팅법, 바 코팅법, 어플리케이터법 등의 도포법이나, 플렉소법 등의 인쇄법 등의 공지된 방법에 의해 행할 수 있다. 액정층 형성용 조성물의 도포를 행한 후에는, 도포층 중에 포함되는 중합성 액정 화합물이 중합되지 않는 조건으로 용제를 제거하는 것이 바람직하다. 건조 방법으로서는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조, 감압 건조법 등을 들 수 있다.

도포층의 건조 후에 행하는 중합성 액정 화합물의 중합은, 중합성 작용기를 갖는 화합물을 중합시키는 공지된 방법에 의해 행할 수 있다. 중합 방법으로서는, 예컨대 열중합이나 광중합 등을 들 수 있고, 중합의 용이함의 관점에서 광중합인 것이 바람직하다. 광중합에 의해 중합성 액정 화합물을 중합시키는 경우, 액정층 형성용 조성물로서 광중합 개시제를 함유하는 것을 이용하고, 이 액정층 형성용 조성물을 도포, 건조시키며, 건조 후의 건조 피막 중에 포함되는 중합성 액정 화합물을 액정 배향시키고, 이 액정 배향 상태를 유지한 채로 광중합을 행하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제로서는, α-카르보닐 화합물, 아실로인에테르, α-탄화수소 치환 방향족 아실로인 화합물, 다핵 퀴논 화합물, 트리아릴이미다졸 다이머와 p-아미노페닐케톤의 조합 등을 들 수 있다. 중합 개시제의 사용량은, 상기 액정층 형성용 조성물 중의 전체 고형분에 대해, 0.01∼20 질량%인 것이 바람직하고, 0.5∼5 질량%인 것이 보다 바람직하다.

광중합은, 건조 피막 중의 액정 배향시킨 중합성 액정 화합물에 대해 활성 에너지선을 조사함으로써 행할 수 있다. 조사하는 활성 에너지선으로서는, 중합성 액정 화합물이 갖는 중합성 기의 종류 및 그 양, 광중합 개시제의 종류 등에 따라 적절히 선택할 수 있으나, 예컨대, 가시광선, 자외선, 레이저광, X선, α선, β선 및 γ선으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 활성 에너지선을 들 수 있다. 이 중, 중합 반응의 진행을 제어하기 쉽고, 광중합 장치로서 당분야에서 광범위하게 이용되고 있는 것을 사용할 수 있다고 하는 점에서, 자외선이 바람직하고, 자외선에 의해 광중합 가능하도록, 중합성 액정 화합물이나 광중합 개시제의 종류를 선택하는 것이 바람직하다. 광중합 시에는, 적절한 냉각 수단에 의해, 건조 피막을 냉각하면서 활성 에너지선을 조사함으로써, 중합 온도를 제어할 수도 있다.

활성 에너지선의 광원으로서는, 예컨대, 저압 수은 램프, 중압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 크세논 램프, 할로겐 램프, 카본 아크등, 텅스텐 램프, 갈륨 램프, 엑시머 레이저, 파장 범위 380∼440 ㎚를 발광하는 LED 광원, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로웨이브 여기 수은등, 메탈 할라이드 램프 등을 들 수 있다.

자외선의 조사 강도는, 통상, 자외선 B파(파장 영역 280∼310 ㎚)의 경우, 100 ㎽/㎠∼3,000 ㎽/㎠이다. 자외선 조사 강도는, 바람직하게는 양이온 중합 개시제 또는 라디칼 중합 개시제의 활성화에 유효한 파장 영역에 있어서의 강도이다. 자외선을 조사하는 시간은, 통상 0.1초∼10분이고, 바람직하게는 0.1초∼5분이며, 보다 바람직하게는 0.1초∼3분이고, 더욱 바람직하게는 0.1초∼1분이다.

자외선은, 1회 또는 복수 회로 나누어 조사할 수 있다. 사용하는 중합 개시제에 따라서도 달라지지만, 파장 365 ㎚에 있어서의 적산 광량은, 700 mJ/㎠ 이상으로 하는 것이 바람직하고, 1,100 mJ/㎠ 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 1,300 mJ/㎠ 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하다. 상기 적산 광량으로 하는 것은, 액정층을 구성하는 중합성 액정 화합물의 중합율을 높이고, 내열성을 향상시키는 데 유리하다. 파장 365 ㎚에 있어서의 적산 광량은, 2,000 mJ/㎠ 이하로 하는 것이 바람직하고, 1,800 mJ/㎠ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 상기 적산 광량으로 하는 것은, 액정층의 착색을 초래할 우려가 있다. 또한, 자외선의 조사 후에, 냉각 공정을 마련해도 좋다. 냉각 온도는, 예컨대, 20℃ 이하로 할 수 있고, 10℃ 이하로 할 수 있다. 냉각 시간은, 예컨대, 10초간 이상으로 할 수 있고, 20초간 이상으로 할 수 있다.

(기재층)

제1 기재층 및 제2 기재층(이하, 양자를 통합하여 「기재층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 이들의 기재층 상에 형성되는 후술하는 제1 배향층 및 제2 배향층, 및 제1 액정층 및 제2 액정층을 지지하는 지지층으로서의 기능을 갖는다. 기재층은, 수지 재료로 형성된 필름인 것이 바람직하다.

수지 재료로서는, 예컨대, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 연신성 등이 우수한 수지 재료가 이용된다. 구체적으로는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지; 노르보르넨계 폴리머 등의 환상 폴리올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴산, 폴리(메트)아크릴산메틸 등의 (메트)아크릴산계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르계 수지; 폴리비닐알코올, 폴리아세트산비닐 등의 비닐알코올계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아릴레이트계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리이미드계 수지; 폴리아미드이미드계 수지; 폴리에테르케톤계 수지; 폴리페닐렌술피드계 수지; 폴리페닐렌옥시드계 수지; 폴리염화비닐계 수지; 아크릴로니트릴·부타디엔·스티렌계 수지; 아크릴로니트릴·스티렌계 수지; 폴리염화비닐리덴계 수지; 폴리아세탈계 수지; 변성 폴리페닐렌에테르계 수지; 및 이들의 혼합물, 공중합물 등을 들 수 있다.

이들의 수지 중, 환상 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지 및 (메트)아크릴산계 수지 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물을 이용하는 것이 바람직하다.

기재층은, 수지 1종류 또는 2종 이상을 혼합한 단층이어도 좋고, 2층 이상의 다층 구조를 갖고 있어도 좋다. 다층 구조를 갖는 경우, 각 층을 이루는 수지는 서로 동일해도 좋고 상이해도 좋으며, 하드 코트층과 같은 도포·경화물층이어도 좋다.

수지 재료로 형성된 필름을 이루는 수지 재료에는, 임의의 첨가제가 첨가되어 있어도 좋다. 첨가제로서는, 예컨대, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 활제(滑劑), 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 블로킹 방지제, 안료, 및 착색제 등을 들 수 있다.

제1 기재층 및 제2 기재층의 두께는, 특별히 한정되지 않으나, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성의 점에서 1∼300 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 20∼200 ㎛인 것이 보다 바람직하며, 30∼120 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.

기재층 부착 제1 위상차층이 제1 배향층을 갖는 경우나, 기재층 부착 제2 위상차층이 제2 배향층을 갖는 경우, 제1 기재층과 제1 배향층의 밀착성, 및 제2 기재층과 제2 배향층의 밀착성을 향상시키기 위해서, 적어도 제1 기재층의 제1 배향층이 형성되는 측의 표면, 및 적어도 제2 기재층의 제2 배향층이 형성되는 측의 표면에, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등을 행해도 좋고, 프라이머층 등을 형성해도 좋다.

(제1 접합층, 제2 접합층, 제3 접합층)

제1 접합층, 제2 접합층, 및 제3 접합층은, 각각 접착제 경화층 또는 점착제층으로 할 수 있다. 접착제 경화층은, 접착제 조성물을 이용하여 형성할 수 있고, 점착제층은, 점착제 조성물을 이용하여 형성할 수 있다. 제2 접합층은 접착제 경화층인 것이 바람직하다. 제1 접합층은, 접착제 경화층 및 점착제층의 어느 쪽이어도 좋으나, 광학 적층체의 마르텐스 경도 H2를 크게 하기 위해서는, 접착제 경화층인 것이 바람직하다. 제3 접합층은 점착제층인 것이 바람직하다. 제1 접합층, 제2 접합층, 및 제3 접합층은, 두께가 서로 동일해도 좋고, 상이해도 좋다.

(접착제 경화층)

접착제 경화층은, 접착제 조성물 중의 경화성 성분을 경화시킴으로써 형성되는 접착제 경화층을 말한다. 접착제 경화층의 두께는, 통상 20 ㎛ 이하, 바람직하게는 10 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 3 ㎛ 이하이다. 접착제 경화층의 두께가 과도하게 크면, 접착제 조성물 중의 경화성 성분의 반응률이 저하되고, 광학 적층체의 내습열성이 악화되는 경향이 있다. 접착제 경화층의 두께는, 통상 0.01 ㎛ 이상이고, 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상이다.

접착제 경화층의 저장 탄성률은 1200 ㎫ 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1400 ㎫ 이상이며, 보다 바람직하게는 1900 ㎫ 이상이다. 접착제 경화층의 저장 탄성률이 1200 ㎫ 이하인 경우, 접착제 경화층이 부드러워 변형하기 쉽기 때문에, 광학 적층체(1)의 표면에 상처가 생기기 쉬워진다. 접착제 경화층의 저장 탄성률이 큰 경우, 접착제 경화층이 단단하여 변형하기 어려워지기 때문에, 광학 적층체(1)의 표면에 상처가 생기기 어렵게 할 수 있다. 접착제 조성물로부터 접착제 경화층을 형성하는 경우, 접착제 조성물에 폴리머를 첨가하거나 또는 작용기 사이의 분자쇄가 긴 성분을 첨가함으로써, 저장 탄성률이 작은 접착제 경화층이 얻어지기 쉬운 경향이 있고, 다작용 성분, 특히 작용기 사이의 분자쇄가 짧은 성분을 첨가하면, 경화 후의 가교점 사이 거리가 짧아져, 저장 탄성률이 큰 접착제 경화층이 얻어지기 쉬운 경향이 있다. 접착제 경화층의 상기 저장 탄성률은, 온도 23℃, 상대 습도 55%에 있어서의 값이고, 후술하는 실시예에 따라 측정할 수 있다.

접착제층을 형성하기 위한 접착제 조성물로서는, 감압형 접착제(점착제) 이외의 접착제이며, 예컨대, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제를 들 수 있다.

수계 접착제로서는, 예컨대, 폴리비닐알코올계 수지를 물에 용해, 또는 분산시킨 접착제를 들 수 있다. 수계 접착제를 이용한 경우의 건조 방법에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예컨대, 열풍 건조기나 적외선 건조기를 이용하여 건조시키는 방법을 채용할 수 있다.

활성 에너지선 경화성 접착제로서는, 예컨대, 자외선, 가시광, 전자선, X선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해 경화하는 경화성 성분을 포함하는 무용제형의 활성 에너지선 경화성 접착제를 들 수 있다. 무용제형의 활성 에너지선 경화성 접착제를 이용함으로써, 층 사이의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 이에 대해, 활성 에너지선 경화성 접착제에 용제(특히 유기 용제)가 포함되어 있으면, 접착제 조성물 중에 포함되는 경화성 성분이 동일해도, 충분한 밀착성을 얻을 수 없어, 광학 적층체를 소정의 사이즈로 재단했을 때, 그 단부에 있어서 박리되는 등의 문제를 발생시키기 쉽다.

활성 에너지선 경화성 접착제를 이용한 경우, 접착제 경화층은, 예컨대, 활성 에너지선 경화성 접착제의 도포층에, 활성 에너지선을 조사하여, 경화성 성분을 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 활성 에너지선의 광원은, 예컨대, 자외선, 전자선, X선 등을 발생하는 것이면 된다. 활성 에너지선은, 바람직하게는 자외선이다. 자외선 광원으로서는, 파장 400 ㎚ 이하에 발광 분포를 갖는 광원이 바람직하고, 예컨대, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로웨이브 여기 수은등, 메탈 할라이드 램프 등을 들 수 있다.

활성 에너지선 경화성 접착제의 도포층에의 활성 에너지선 조사 강도는, 활성 에너지선 경화성 접착제의 종류마다 결정되지만, 광중합 개시제의 활성화에 유효한 파장 영역의 광조사 강도가 0.1∼1000 ㎽/㎠가 되도록 하는 것이 바람직하다. 광조사 강도가 지나치게 작으면, 반응 시간이 지나치게 길어지고, 한편 그 광조사 강도가 지나치게 크면, 램프로부터 복사되는 열 및 경화성 성분의 중합 시의 발열에 의해, 접착제 경화층의 황변이나 광학 적층체를 구성하는 각 층의 열화 등을 발생시킬 가능성이 있다. 또한, 도포층에의 광조사 시간도, 활성 에너지선 경화성 접착제의 종류마다 제어되지만, 광조사 강도와 광조사 시간의 곱으로서 나타나는 적산 광량이 10∼5000 mJ/㎠가 되도록 설정되는 것이 바람직하다. 적산 광량이 지나치게 작으면, 광중합 개시제 유래의 활성종의 발생이 충분하지 않아, 얻어지는 접착제 경화층의 경화가 불충분해질 가능성이 있고, 한편 그 적산 광량이 지나치게 크면, 광조사 시간이 매우 길어져 생산성 향상에는 불리해지기 쉽다.

활성 에너지선 경화성 접착제로서는, 경화성 성분으로서 라디칼 중합성 화합물을 포함하는 라디칼 중합성 접착제, 경화성 성분으로서 양이온 중합성 화합물을 포함하는 양이온 중합성 접착제 등을 들 수 있다.

(라디칼 중합성 접착제)

라디칼 중합성 접착제에 포함되는 라디칼 중합성 화합물은, 활성 에너지선의 조사나 가열에 의해 라디칼 중합 반응이 진행되어, 경화하는 화합물 또는 올리고머를 말하며, 구체적으로는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물을 들 수 있다. 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물로서는, 분자 내에 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물 외에, 스티렌, 스티렌술폰산, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, N-비닐-2-피롤리돈과 같은 비닐 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 바람직한 라디칼 중합성 화합물은 (메트)아크릴계 화합물이다.

(메트)아크릴계 화합물로서는, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머, (메트)아크릴아미드 모노머, 및 작용기 함유 화합물을 2종 이상 반응시켜 얻어지며, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴 올리고머 등의 (메트)아크릴로일기 함유 화합물을 들 수 있다. (메트)아크릴 올리고머는 바람직하게는, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 올리고머이다. (메트)아크릴계 화합물은, 1종만을 단독으로 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다.

(메트)아크릴레이트 모노머로서는, 분자 내에 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 2작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 3개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머를 들 수 있다.

단작용 (메트)아크릴레이트 모노머의 예로서, 알킬(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트에 있어서, 그 알킬기는 탄소수 3 이상이면 직쇄여도 분기되어 있어도 좋다. 알킬(메트)아크릴레이트의 구체예를 들면, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 벤질(메트)아크릴레이트와 같은 아랄킬(메트)아크릴레이트; 이소보르닐(메트)아크릴레이트와 같은 테르펜알코올의 (메트)아크릴레이트; 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트와 같은 테트라히드로푸르푸릴 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트; 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실메틸메타크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노아크릴레이트와 같은 알킬기 부위에 시클로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트; N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트와 같은 아미노알킬(메트)아크릴레이트; 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트와 같은 알킬 부위에 에테르 결합을 갖는 (메트)아크릴레이트도 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서 이용할 수 있다.

또한, 알킬 부위에 수산기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트나, 알킬 부위에 카르복실기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트도 이용할 수 있다. 알킬 부위에 수산기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트의 구체예는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2- 또는 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨모노(메트)아크릴레이트를 포함한다. 알킬 부위에 카르복실기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트의 구체예는, 2-카르복시에틸(메트)아크릴레이트, ω-카르복시-폴리카프로락톤(n≒2)모노(메트)아크릴레이트, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]프탈산, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]헥사히드로프탈산, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]숙신산, 4-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]트리멜리트산, N-(메트)아크릴로일옥시-N',N'-디카르복시메틸-p-페닐렌디아민을 포함한다.

(메트)아크릴아미드 모노머는, 바람직하게는 N-위치에 치환기를 갖는 (메트)아크릴아미드이고, 그 N-위치의 치환기의 전형적인 예는 알킬기이지만, (메트)아크릴아미드의 질소 원자와 함께 고리를 형성하고 있어도 좋고, 이 고리는, 탄소 원자 및 (메트)아크릴아미드의 질소 원자에 더하여, 산소 원자를 고리 구성원으로서 가져도 좋다. 또한, 그 고리를 구성하는 탄소 원자에는, 알킬이나 옥소(=O)와 같은 치환기가 결합되어 있어도 좋다.

N-치환 (메트)아크릴아미드의 구체예로서는, N-메틸(메트)아크릴아미드, N-에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-n-부틸(메트)아크릴아미드, N-t-부틸(메트)아크릴아미드, N-헥실(메트)아크릴아미드와 같은 N-알킬(메트)아크릴아미드; N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드와 같은 N,N-디알킬(메트)아크릴아미드를 들 수 있다. 또한, N-치환기는 수산기를 갖는 알킬기여도 좋고, 그 예로서, N-히드록시메틸(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 또한, 상기한 5원환 또는 6원환을 형성하는 N-치환 (메트)아크릴아미드의 구체적인 예로서는, N-아크릴로일피롤리딘, 3-아크릴로일-2-옥사졸리디논, 4-아크릴로일모르폴린, N-아크릴로일피페리딘, N-메타크릴로일피페리딘 등을 들 수 있다.

2작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리옥시알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 할로겐 치환 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 지방족 폴리올의 디(메트)아크릴레이트, 수소 첨가 디시클로펜타디엔 또는 트리시클로데칸디알칸올의 디(메트)아크릴레이트, 디옥산글리콜 또는 디옥산디알칸올의 디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 에폭시디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

2작용 (메트)아크릴레이트 모노머의 보다 구체적인 예로서는, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨디(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 실리콘디(메트)아크릴레이트, 히드록시피발산네오펜틸글리콜에스테르의 디(메트)아크릴레이트, 2,2-비스[4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시페닐]프로판, 2,2-비스[4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시시클로헥실]프로판, 수소 첨가 디시클로펜타디에닐디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트, 1,3-디옥산-2,5-디일디(메트)아크릴레이트〔별명: 디옥산글리콜디(메트)아크릴레이트〕, 히드록시피발알데히드와 트리메틸올프로판과의 아세탈 화합물〔화학명: 2-(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산〕의 디(메트)아크릴레이트, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

3작용 이상의 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 알콕시화 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 3작용 이상의 지방족 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트가 대표적인 것이고, 그 외에, 3작용 이상의 할로겐 치환 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트, 글리세린의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트, 1,1,1-트리스[(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시]프로판, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

한편, (메트)아크릴 올리고머로서는, 우레탄(메트)아크릴 올리고머, 폴리에스테르(메트)아크릴 올리고머, 에폭시(메트)아크릴 올리고머 등을 들 수 있다.

우레탄(메트)아크릴 올리고머란, 분자 내에 우레탄 결합(-NHCOO-) 및 적어도 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일기 및 적어도 1개의 수산기를 각각 갖는 수산기 함유 (메트)아크릴 모노머와 폴리이소시아네이트와의 우레탄화 반응 생성물이나, 폴리올을 폴리이소시아네이트와 반응시켜 얻어지는 말단 이소시아네이토기 함유 우레탄 화합물과, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일기 및 적어도 1개의 수산기를 각각 갖는 (메트)아크릴 모노머와의 우레탄화 반응 생성물 등일 수 있다.

상기 우레탄화 반응에 이용되는 수산기 함유 (메트)아크릴 모노머는, 예컨대 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머일 수 있고, 그 구체예로서는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리세린디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트를 포함한다. 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머 이외의 구체예는, N-히드록시에틸(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드 등의 N-히드록시알킬(메트)아크릴아미드 모노머를 들 수 있다.

수산기 함유 (메트)아크릴 모노머와의 우레탄화 반응에 제공되는 폴리이소시아네이트로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 이들 디이소시아네이트 중 방향족의 이소시아네이트류를 수소 첨가하여 얻어지는 디이소시아네이트(예컨대, 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트 등), 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 디벤질벤젠트리이소시아네이트 등의 디- 또는 트리-이소시아네이트, 및 상기한 디이소시아네이트를 다량화시켜 얻어지는 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.

또한, 폴리이소시아네이트와의 반응에 의해 말단 이소시아네이토기 함유 우레탄 화합물로 하기 위해서 이용되는 폴리올로서는, 방향족, 지방족 또는 지환식의 폴리올 외에, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올 등을 사용할 수 있다. 지방족 및 지환식의 폴리올로서는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 글리세린, 수소 첨가 비스페놀 A 등을 들 수 있다.

폴리에스테르폴리올은, 상기한 폴리올과 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물과의 탈수 축합 반응에 의해 얻어지는 것이다. 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 예를, 무수물일 수 있는 것에 「(무수)」를 붙여 나타내면, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 헥사히드로(무수)프탈산 등을 들 수 있다.

폴리에테르폴리올로서는, 폴리알킬렌글리콜 외에, 상기한 폴리올 또는 디히드록시벤젠류와 알킬렌옥사이드와의 반응에 의해 얻어지는 폴리옥시알킬렌 변성 폴리올 등을 들 수 있다.

폴리에스테르(메트)아크릴 올리고머란, 분자 내에 에스테르 결합과 적어도 2개의 (메트)아크릴로일기(전형적으로는 (메트)아크릴로일옥시기)를 갖는 화합물이다. 구체적으로는, (메트)아크릴산, 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물, 및 폴리올을 이용한 탈수 축합 반응에 의해 얻을 수 있다. 탈수 축합 반응에 이용되는 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 예를, 무수물일 수 있는 것에 「(무수)」를 붙여 나타내면, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, 헥사히드로(무수)프탈산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등이 있다. 또한, 탈수 축합 반응에 이용되는 폴리올로서는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 글리세린, 수소 첨가 비스페놀 A 등을 들 수 있다.

에폭시(메트)아크릴 올리고머는, 예컨대, 폴리글리시딜에테르와 (메트)아크릴산과의 부가 반응에 의해 얻을 수 있고, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖고 있다. 부가 반응에 이용되는 폴리글리시딜에테르로서는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.

라디칼 중합성 접착제는, 라디칼 중합성 화합물과 함께, 후술하는 양이온 중합성 접착제에 포함되는 양이온 중합성 화합물을 더 포함하고 있어도 좋다. 라디칼 중합성 접착제에 포함되는 경화성 성분의 전량을 100 중량%로 할 때, 양이온 중합성 화합물의 함유량(2종 이상의 양이온 중합성 화합물이 포함되는 경우에는 이들의 합계 함유량)은, 중합성 성분 100 중량% 중, 바람직하게는 50 중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 40 중량% 이하이며, 더욱 바람직하게는 30 중량% 이하이다.

라디칼 중합성 접착제는, 라디칼 중합성 화합물 등의 경화성 성분에 더하여 광라디칼 중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 광라디칼 중합 개시제는, 가시광선, 자외선, X선, 또는 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해, 라디칼 경화성 화합물의 중합 반응을 개시시키는 것이다. 광라디칼 중합 개시제는, 1종만을 단독으로 사용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다.

광라디칼 중합 개시제의 구체예는, 아세토페논, 3-메틸아세토페논, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 등의 아세토페논계 개시제; 벤조페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 개시제; 벤조인프로필에테르, 벤조인에틸에테르 등의 벤조인에테르계 개시제; 4-이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤계 개시제; 그 외에, 크산톤, 플루오레논, 캄파퀴논, 벤즈알데히드, 안트라퀴논을 포함한다.

광라디칼 중합 개시제의 배합량은, 라디칼 중합성 화합물 100 중량부에 대해 통상, 0.5∼20 중량부이고, 바람직하게는 1∼6 중량부이다. 광라디칼 중합 개시제를 0.5 중량부 이상 배합함으로써, 라디칼 중합성 화합물을 충분히 경화시킬 수 있고, 얻어지는 광학 적층체에 높은 기계적 강도와 접착 강도를 부여할 수 있다. 한편, 그 양이 과도하게 많아지면, 광학 적층체의 내구성이 저하될 가능성이 있다.

라디칼 중합성 접착제는, 필요에 따라, 그 외의 첨가제를 포함할 수 있다. 첨가제의 구체예는, 이온 트랩제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 중합 촉진제(폴리올 등), 증감제, 증감 조제, 광안정제, 점착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 조정제, 가소제, 소포제, 레벨링제, 실란 커플링제, 색소, 대전 방지제, 자외선 흡수제 등을 포함한다. 이온 트랩제로서는 분말상의 비스무트계, 안티몬계, 마그네슘계, 알루미늄계, 칼슘계, 티탄계 및 이들의 혼합계 등의 무기 화합물을 들 수 있고, 산화 방지제로서는 힌더드 페놀계 산화 방지제 등을 들 수 있다.

(양이온 중합성 접착제)

양이온 중합성 접착제에 포함되는 양이온 중합성 화합물은, 자외선, 가시광, 전자선, X선 등의 활성 에너지선의 조사나 가열에 의해 양이온 중합 반응이 진행되어 경화하는 화합물 또는 올리고머를 말하고, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 비닐 화합물 등을 예시할 수 있다. 그 중에서도, 바람직한 양이온 중합성 화합물은 에폭시 화합물이다. 에폭시 화합물이란, 분자 내에 1개 이상, 바람직하게는 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이다. 에폭시 화합물은, 1종만을 단독으로 사용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 에폭시 화합물로서는, 지환식 에폭시 화합물, 방향족 에폭시 화합물, 수소화 에폭시 화합물, 지방족 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 내후성, 경화 속도 및 접착성의 관점에서, 에폭시 화합물은, 지환식 에폭시 화합물이나 지방족 에폭시 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 지환식 에폭시 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다.

지환식 에폭시 화합물은, 지환식 고리에 결합한 에폭시기를 분자 내에 1개 이상 갖는 화합물이다. 「지환식 고리에 결합한 에폭시기」란, 하기 식 (Ⅰ)로 나타나는 구조에 있어서의 가교의 산소 원자 -O-를 의미한다. 하기 식 (Ⅰ) 중, m은 2∼5의 정수이다.

상기 식 (Ⅰ)에 있어서의 (CH₂)_m 중의 1개 또는 복수 개의 수소 원자를 제거한 형태의 기가 다른 화학 구조에 결합하고 있는 화합물이, 지환식 에폭시 화합물이 될 수 있다. (CH₂)_m 중의 1개 또는 복수 개의 수소 원자는, 메틸기나 에틸기와 같은 직쇄상 알킬기로 적절히 치환되어 있어도 좋다.

그 중에서도, 에폭시시클로펜탄 구조〔상기 식 (Ⅰ)에 있어서 m=3인 것〕나, 에폭시시클로헥산 구조〔상기 식 (Ⅰ)에 있어서 m=4인 것〕를 갖는 지환식 에폭시 화합물은, 경화물의 유리 전이 온도가 높고, 각 층 사이의 접착성의 면에서도 유리하다. 이하에, 지환식 에폭시 화합물의 구체적인 예를 게재한다. 여기서는, 먼저 화합물명을 들고, 그 후, 각각에 대응하는 화학식을 나타내는 것으로 하며, 화합물명과 그것에 대응하는 화학식에는 동일한 부호를 붙인다.

A: 3,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트,

B: 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복실레이트,

C: 에틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트),

D: 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트,

E: 비스(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸)아디페이트,

F: 디에틸렌글리콜비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸에테르),

G: 에틸렌글리콜비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸에테르),

H: 2,3,14,15-디에폭시-7,11,18,21-테트라옥사트리스피로[5.2.2.5.2.2]헨이코산,

I: 3-(3,4-에폭시시클로헥실)-8,9-에폭시-1,5-디옥사스피로[5.5]운데칸,

J: 4-비닐시클로헥센디옥사이드,

K: 리모넨디옥사이드,

L: 비스(2,3-에폭시시클로펜틸)에테르,

M: 디시클로펜타디엔디옥사이드.

방향족 에폭시 화합물은, 분자 내에 방향족 고리와 에폭시기를 갖는 화합물이다. 그 구체예는, 비스페놀 A의 디글리시딜에테르, 비스페놀 F의 디글리시딜에테르, 비스페놀 S의 디글리시딜에테르 등의 비스페놀형 에폭시 화합물 또는 그 올리고머; 페놀노볼락에폭시 수지, 크레졸노볼락에폭시 수지, 히드록시벤즈알데히드페놀노볼락에폭시 수지 등의 노볼락형의 에폭시 수지; 2,2',4,4'-테트라히드록시디페닐메탄의 글리시딜에테르, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논의 글리시딜에테르 등의 다작용형의 에폭시 화합물; 에폭시화폴리비닐페놀 등의 다작용형의 에폭시 수지를 포함한다.

수소화 에폭시 화합물은, 지환식 고리를 갖는 폴리올의 글리시딜에테르이고, 방향족 폴리올을 촉매의 존재하, 가압하에서 방향환에 선택적으로 수소화 반응을 행함으로써 얻어지는 핵 수소 첨가 폴리히드록시 화합물을 글리시딜에테르화한 것일 수 있다. 방향족 폴리올의 구체예는, 예컨대, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S 등의 비스페놀형 화합물; 페놀노볼락 수지, 크레졸노볼락 수지, 히드록시벤즈알데히드페놀노볼락 수지 등의 노볼락형 수지; 테트라히드록시디페닐메탄, 테트라히드록시벤조페논, 폴리비닐페놀 등의 다작용형의 화합물을 포함한다. 방향족 폴리올의 방향환에 수소화 반응을 행하여 얻어지는 지환식 폴리올에 에피클로로히드린을 반응시킴으로써, 글리시딜에테르로 할 수 있다. 수소화 에폭시 화합물 중에서도 바람직한 것으로서, 수소화된 비스페놀 A의 디글리시딜에테르를 들 수 있다.

지방족 에폭시 화합물은, 지방족 탄소 원자에 결합하는 옥시란환(3원의 환상 에테르)을 분자 내에 적어도 1개 갖는 화합물이다. 예컨대, 부틸글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르 등의 단작용의 에폭시 화합물; 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르 등의 2작용의 에폭시 화합물; 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 펜타에리스리톨테트라글리시딜에테르 등의 3작용 이상의 에폭시 화합물; 4-비닐시클로헥센디옥사이드, 리모넨디옥사이드 등의, 지환식 고리에 직접 결합하는 에폭시기 1개와, 지방족 탄소 원자에 결합하는 옥시란환을 갖는 에폭시 화합물 등이 있다. 그 중에서도, 편광 필름과 보호 필름 사이의 접착성의 관점에서, 지방족 탄소 원자에 결합하는 옥시란환을 분자 내에 2개 갖는 2작용의 에폭시 화합물(지방족 디에폭시 화합물이라고도 한다.)이 바람직하다. 이러한 적합한 지방족 디에폭시 화합물은, 예컨대, 하기 식 (Ⅱ)로 표시할 수 있다.

상기 식 (Ⅱ) 중의 Y는, 탄소수 2∼9의 알킬렌기, 에테르 결합이 개재되어 있는 총 탄소수 4∼9의 알킬렌기, 또는 지환 구조를 갖는 탄소수 6∼18의 2가의 탄화수소기이다.

상기 식 (Ⅱ)로 표시되는 지방족 디에폭시 화합물은, 구체적으로는, 알칸디올의 디글리시딜에테르, 반복수 4 정도까지의 올리고알킬렌글리콜의 디글리시딜에테르, 또는 지환식 디올의 디글리시딜에테르이다.

상기 식 (Ⅱ)로 표시되는 지방족 디에폭시 화합물을 형성할 수 있는 디올(글리콜)의 구체예를 이하에 게재한다. 알칸디올로서는, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 네오펜틸글리콜, 3-메틸-2,4-펜탄디올, 2,4-펜탄디올, 1,5-펜탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,7-헵탄디올, 3,5-헵탄디올, 1,8-옥탄디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올 등이 있다.

올리고알킬렌글리콜로서는, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜 등이 있다. 지환식 디올로서는, 시클로헥산디올, 시클로헥산디메탄올 등이 있다.

양이온 중합성 화합물의 하나인 옥세탄 화합물은, 분자 내에 1개 이상의 옥세탄환(옥세타닐기)을 함유하는 화합물이고, 그 구체예는, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄(옥세탄알코올이라고도 불린다.), 2-에틸헥실옥세탄, 1,4-비스〔{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}메틸〕벤젠(크실릴렌비스옥세탄이라고도 불린다.), 3-에틸-3〔{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}메틸〕옥세탄, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 3-(시클로헥실옥시)메틸-3-에틸옥세탄을 포함한다. 옥세탄 화합물은, 양이온 중합성 화합물의 주성분으로서 이용해도 좋고, 에폭시 화합물과 병용해도 좋다. 옥세탄 화합물을 병용함으로써, 경화 속도나 접착성을 향상시킬 수 있는 경우가 있다.

양이온 중합성 화합물이 될 수 있는 비닐 화합물로서는, 지방족 또는 지환식의 비닐에테르 화합물을 들 수 있고, 그 구체예는, 예컨대, n-아밀비닐에테르, i-아밀비닐에테르, n-헥실비닐에테르, n-옥틸비닐에테르, 2-에틸헥실비닐에테르, n-도데실비닐에테르, 스테아릴비닐에테르, 올레일비닐에테르 등의 탄소수 5∼20의 알킬 또는 알케닐알코올의 비닐에테르; 2-히드록시에틸비닐에테르, 3-히드록시프로필비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르 등의 수산기 함유 비닐에테르; 시클로헥실비닐에테르, 2-메틸시클로헥실비닐에테르, 시클로헥실메틸비닐에테르, 벤질비닐에테르 등의 지방족 고리 또는 방향족 고리를 갖는 모노알코올의 비닐에테르; 글리세롤모노비닐에테르, 1,4-부탄디올모노비닐에테르, 1,4-부탄디올디비닐에테르, 1,6-헥산디올디비닐에테르, 네오펜틸글리콜디비닐에테르, 펜타에리스리톨디비닐에테르, 펜타에리스리톨테트라비닐에테르, 트리메틸올프로판디비닐에테르, 트리메틸올프로판트리비닐에테르, 1,4-디히드록시시클로헥산모노비닐에테르, 1,4-디히드록시시클로헥산디비닐에테르, 1,4-디히드록시메틸시클로헥산모노비닐에테르, 1,4-디히드록시메틸시클로헥산디비닐에테르 등의 다가 알코올의 모노∼폴리비닐에테르; 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸모노비닐에테르 등의 폴리알킬렌글리콜모노∼디비닐에테르; 글리시딜비닐에테르, 에틸렌글리콜비닐에테르메타크릴레이트 등의 그 외의 비닐에테르를 포함한다. 비닐 화합물은, 양이온 중합성 화합물의 주성분으로서 이용해도 좋고, 에폭시 화합물, 또는 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물과 병용해도 좋다. 비닐 화합물을 병용함으로써, 경화 속도나 접착제의 저점도화를 향상시킬 수 있는 경우가 있다.

양이온 중합성 접착제는, 양이온 중합성 화합물 및 라디칼 중합성 화합물 이외의 다른 경화성 성분을 포함할 수 있다. 다른 경화성 성분으로서는, 예컨대, 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물 등을 들 수 있다.

양이온 중합성 접착제에 포함되는 경화성 성분의 전량을 100 중량%로 할 때, 양이온 중합성 화합물의 함유량(2종 이상의 양이온 중합성 화합물이 포함되는 경우에는 이들의 합계 함유량)은, 80 중량% 이상인 것이 바람직하고, 90 중량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 100 중량%인 것이 더욱 바람직하다.

양이온 중합성 접착제는, 양이온 중합성 화합물 등의 경화성 성분에 더하여, 광양이온 중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 광양이온 중합 개시제는, 가시광선, 자외선, X선, 또는 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해, 양이온종 또는 루이스산을 발생하여, 양이온 경화성 화합물의 중합 반응을 개시시키는 것이다. 광양이온 중합 개시제는, 광으로 촉매적으로 작용하기 때문에, 광양이온 경화성 화합물에 혼합해도 보존 안정성이나 작업성이 우수하다. 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온종 또는 루이스산을 발생시키는 화합물로서, 예컨대, 방향족 요오도늄염이나 방향족 술포늄염과 같은 오늄염, 방향족 디아조늄염, 철-아렌 착체 등을 들 수 있다.

방향족 요오도늄염은, 디아릴요오도늄 양이온을 갖는 화합물이고, 상기 양이온으로서, 전형적으로는 디페닐요오도늄 양이온을 들 수 있다.

방향족 술포늄염은, 트리아릴술포늄 양이온을 갖는 화합물이고, 상기 양이온으로서, 전형적으로는 트리페닐술포늄 양이온이나 4,4'-비스(디페닐술포니오)디페닐술피드 양이온 등을 들 수 있다. 방향족 디아조늄염은, 디아조늄 양이온을 갖는 화합물이고, 상기 양이온으로서, 전형적으로는 벤젠디아조늄 양이온을 들 수 있다. 또한, 철-아렌 착체는, 전형적으로는 시클로펜타디에닐철(Ⅱ)아렌 양이온 착염이다.

위에 나타낸 양이온은, 음이온(아니온)과 쌍을 이루어 광양이온 중합 개시제를 구성한다. 광양이온 중합 개시제를 구성하는 음이온의 예를 들면, 특수 인계 음이온[(Rf)_nPF_6-n]^-, 헥사플루오로포스페이트 음이온 PF₆ ^-, 헥사플루오로안티모네이트 음이온 SbF₆ ^-, 펜타플루오로히드록시안티모네이트 음이온 SbF₅(OH)^-, 헥사플루오로아세네이트 음이온 AsF₆ ^-, 테트라플루오로보레이트 음이온 BF₄ ^-, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온 B(C₆F₅)₄ ^- 등이 있다. 그 중에서도, 양이온 중합성 화합물의 경화성 및 얻어지는 접착제층의 안전성의 관점에서, 특수 인계 음이온[(Rf)_nPF_6-n]^-, 헥사플루오로포스페이트 음이온 PF₆ ^-인 것이 바람직하다.

광양이온 중합 개시제는, 1종만을 단독으로 사용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 방향족 술포늄염은, 300 ㎚ 부근의 파장 영역에서도 자외선 흡수 특성을 갖기 때문에, 경화성이 우수하여, 양호한 기계적 강도나 접착 강도를 갖는 경화물을 제공할 수 있기 때문에 바람직하게 이용된다.

광양이온 중합 개시제의 배합량은, 양이온 중합성 화합물 100 중량부에 대해 통상, 0.5∼10 중량부이고, 바람직하게는 6 중량부 이하이다. 광양이온 중합 개시제를 0.5 중량부 이상 배합함으로써, 양이온 중합성 화합물을 충분히 경화시킬 수 있고, 얻어지는 편광판에 높은 기계적 강도와 접착 강도를 부여할 수 있다. 한편, 그 양이 과도하게 많아지면, 경화물 중의 이온성 물질이 증가함으로써 경화물의 흡습성이 높아져, 편광판의 내구성이 저하될 가능성이 있다.

양이온 중합성 접착제는, 필요에 따라, 그 외의 첨가제를 포함할 수 있다. 첨가제로서는, 라디칼 중합성 접착제에 포함할 수 있는 첨가제로서 상기에서 설명한 첨가제를 들 수 있다.

(점착제층)

점착제층은, 점착제를 포함하는 점착제 조성물을 이용하여 형성된 층을 말한다. 본 명세서에 있어서 「점착제」란, 그 자체를 편광판이나 액정층 등의 피착체에 붙임으로써 접착성을 발현하는 것이며, 이른바 감압형 접착제라고 칭해지는 것이다. 또한, 후술하는 활성 에너지선 경화형 점착제는, 에너지선을 조사함으로써, 가교도나 접착력을 조정할 수 있다.

점착제층의 두께는, 3 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 5 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 점착제층의 두께는, 40 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 30 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 전술한 상한값 및 하한값은, 임의로 조합할 수 있다.

점착제로서는, 종래 공지된 광학적인 투명성이 우수한 점착제를 특별히 제한없이 이용할 수 있고, 예컨대, 아크릴계, 우레탄계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계 등의 베이스 폴리머를 갖는 점착제를 이용할 수 있다. 또한, 활성 에너지선 경화형 점착제, 열경화형 점착제 등이어도 좋다. 이들 중에서도, 투명성, 점착력, 재박리성(이하, 리워크성이라고도 한다.), 내후성, 내열성 등이 우수한 아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 한 점착제가 적합하다. 점착제층은, (메트)아크릴계 수지, 가교제, 실란 화합물을 포함하는 점착제 조성물의 반응 생성물로 구성되는 것이 바람직하고, 그 외의 성분을 포함하고 있어도 좋다.

점착제층은, 활성 에너지선 경화형 점착제를 이용하여 형성해도 좋다. 활성 에너지선 경화형 점착제는, 점착제 조성물에, 다작용성 아크릴레이트 등의 자외선 경화성 화합물을 배합하여, 점착제층을 형성한 후에 자외선을 조사하여 경화시킴으로써, 보다 단단한 점착제층을 형성할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 점착제는, 자외선이나 전자선 등의 에너지선의 조사를 받아 경화하는 성질을 갖고 있다. 활성화 에너지선 경화형 점착제는, 에너지선 조사 전에 있어서도 점착성을 갖고 있기 때문에, 광학 필름이나 액정층 등의 피착체에 밀착되고, 에너지선의 조사에 의해 경화하여 밀착력을 조정할 수 있는 성질을 갖는 점착제이다.

활성 에너지선 경화형 점착제는, 일반적으로는 아크릴계 점착제와, 에너지선 중합성 화합물을 주성분으로서 포함한다. 통상은 또한 가교제가 배합되어 있고, 또한 필요에 따라, 광중합 개시제나 광증감제 등을 배합할 수도 있다.

실시예

이하, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것은 아니다. 실시예, 비교예 중의 「%」 및「부」는, 특별히 기재하지 않는 한, 질량% 및 질량부이다.

실시예, 비교예, 및 참고예에 기재된 광학 적층체를 얻기 위해서, 이하와 같이 각 재료를 조제하였다.

[직선 편광층의 제작]

두께 30 ㎛의 폴리비닐알코올 필름(평균 중합도 약 2400, 비누화도 99 몰% 이상)을 건식 연신에 의해 약 5배로 세로 일축 연신하고, 또한 긴장 상태를 유지한 채로, 60℃의 순수에 1분간 침지한 후, 요오드/요오드화칼륨/물의 중량비가 0.05/5/100인 28℃의 수용액에 60초간 침지하였다. 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 중량비가 8.5/8.5/100인 72℃의 수용액에 300초간 침지하였다. 계속해서 26℃의 순수로 20초간 세정한 후, 65℃에서 건조 처리를 행하여, 폴리비닐알코올 필름에 요오드가 흡착 배향되어 있는, 두께 12 ㎛의 직선 편광층을 얻었다.

[수계 접착제의 조제]

물 100부에 대해, 카르복실기 변성 폴리비닐알코올(가부시키가이샤 쿠라레 제조의 「KL-318」)을 3부 용해하여, 폴리비닐알코올 수용액을 조제하였다. 얻어진 수용액에 수용성 폴리아미드에폭시 수지(다오카 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조의 「스미레즈 레진 650(30)」, 고형분 농도 30 중량%)를, 물 100부에 대해, 1.5부의 비율로 혼합하여, 수계 접착제를 얻었다.

[양면 박리 필름 부착 점착제층(a)의 준비]

교반기, 온도계, 환류 냉각기, 적하 장치 및 질소 도입관을 구비한 반응 용기에, 아크릴산 n-부틸 95.0부, 아크릴산 4.0부, 아크릴산 2-히드록시에틸 1.0부, 아세트산에틸 200부, 및 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.08부를 투입하고, 상기 반응 용기 내의 공기를 질소 가스로 치환하였다. 질소 분위기하에서 교반하면서, 반응 용액을 60℃로 승온하여, 6시간 반응시킨 후, 실온까지 냉각하였다. 얻어진 용액의 일부의 중량 평균 분자량을 측정한 결과, 180만의 (메트)아크릴산에스테르 중합체의 생성을 확인하였다.

상기 공정에서 얻어진 (메트)아크릴산에스테르 중합체 100부(고형분 환산값; 이하 동일함)와, 이소시아네이트계 가교제로서, 트리메틸올프로판 변성 톨릴렌디이소시아네이트(도소 가부시키가이샤 제조, 상품명 「코로네이트(등록 상표) L」) 1.5부와, 실란 커플링제로서, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, 상품명 「KBM403」) 0.30부와, 자외선 경화성 화합물로서 에톡시화이소시아눌산트리아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조: 품명 「A-9300」) 7.5부와, 광중합 개시제로서 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온(BASF사 제조: 이르가큐어(등록 상표) 907) 0.5부를 혼합하여, 충분히 교반하고, 아세트산에틸로 희석함으로써, 점착제 조성물의 도공 용액을 얻었다.

박리 필름(린텍 가부시키가이샤 제조: SP-PLR382190)의 이형 처리면(박리층면)에, 어플리케이터에 의해, 건조 후의 두께가 각각 5 ㎛가 되도록, 상기에서 얻은 도공 용액을 도공한 후, 100℃에서 1분간 건조시켜, 건조 후의 도공층을 형성하였다. 건조 후의 도공층의 박리 필름이 접합된 면과는 반대면에, 다른 1장의 박리 필름(린텍 가부시키가이샤 제조: SP-PLR381031)을 접합하였다. 그 후, 벨트 컨베이어 구비 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템즈사 제조, 램프는 D 벌브를 사용)를 이용하여, 상기 건조 후의 도공층에 대해, 세퍼레이터 너머로 자외선(조사 강도 500 ㎽/㎠, 적산 광량 500 mJ/㎠)을 조사하여, 상기 건조 후의 도공층으로부터 점착제층(a)을 형성하여 양면 세퍼레이터 부착 점착제층(a)을 얻었다.

[기재층 부착 제1 위상차층의 준비]

투명 기재인 제1 기재층 및 제1 위상차층을 갖는 기재층 부착 제1 위상차층을 준비하였다. 제1 위상차층은, 제1 배향층과 네마틱 액정 화합물이 경화한 제1 액정층의 적층체이고, 1/4 파장 위상차 특성을 갖는 것이었다. 또한, 제1 위상차층의 두께는 2 ㎛였다.

[자외선 경화성 접착제(b)의 조제]

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교(주) 제조 A-DPH) 80.0부와, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교(주) 제조 A-200) 20.0부와, 광중합 개시제로서 다로큐어 1173(BASF사 제조 Darocur 1173) 3.0부를 혼합하여, 자외선 경화성 접착제(b)를 조제하였다. 하기의 순서로, 자외선 경화성 접착제(b)를 경화시켜 얻은 경화 필름에 대해, 온도 23℃, 상대 습도 55%에 있어서의 저장 탄성률을 측정한 결과, 2000 ㎫이었다.

[저장 탄성률의 측정]

폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(에스테르 필름 E7002, 도요보(주) 제조)의 편면에, 도공기(바 코터, 다이이치리카(주) 제조)를 이용하여, 자외선 경화성 접착제(b)를 도공하고, 퓨전 UV 시스템즈사 제조의 D 벌브에 의해 자외선을 적산 광량 1500 mJ/㎠로 조사하여, 자외선 경화성 접착제(b)를 경화시켰다. 이것을 1 ㎝×8 ㎝로 커트하고, PET 필름을 박리하여, 자외선 경화성 접착제(b)의 단독 경화 필름을 얻었다. 인장 시험기(AUTOGRAPH AG-1S, (주)시마즈 세이사쿠쇼 제조)의 상하 그리퍼에, 얻어진 단독 필름을 그 긴 변이 인장하는 방향이 되도록 그리퍼의 간격 5 ㎝로 파지하고, 온도 23℃, 상대 습도 55%의 환경하, 인장 속도 10 ㎜/분으로 인장하여, 응력-변형 곡선의 초기의 직선으로부터, 데이터 처리 소프트웨어((주)시마즈 세이사쿠쇼 제조, TRAPEZIUM2)에 의해 탄성률을 계산하였다.

제2 위상차층 및 광학 적층체의 각 평가는 다음의 순서로 행하였다.

[제2 위상차층의 마르텐스 경도 H1의 측정]

실시예, 비교예, 및 참고예에서 얻은 기재층 부착 제2 위상차층을 40 ㎜×40 ㎜의 크기로 잘라내고, 제2 위상차층측에, 상기에서 얻은 양면 박리 필름 부착 점착제층(a)의 한쪽의 박리 필름을 박리하여 노출된 점착제층(a)의 표면을 접합하였다. 계속해서, 점착제층(a)에 첩부(貼付)되어 있는 다른 쪽의 박리 필름을 박리하여 노출된 점착제층(a)의 표면을, 40 ㎜×40 ㎜의 크기의 유리판에 접합하였다. 그 후, 기재층 부착 제2 위상차층의 제2 기재층을 박리하여, 측정용 샘플(1)을 얻었다. 측정용 샘플(1)은, 유리, 점착제층(a), 및 제2 위상차층이 이 순서로 적층된 것이었다. 온도 23℃, 상대 습도 55%의 분위기하에 있어서, 측정용 샘플(1)의 제2 위상차층측의 표면에 대해, 초미소 경도 시험기(FISCHERSCOPE HM2000: (주)피셔 인스트루먼츠 제조)를 이용하여 가압 속도 1 mN/5초로 하중을 인가한 후, 크리프 시간(1 mN의 하중을 유지하는 시간)을 5 s로 하여 측정한 마르텐스 경도를, 제2 위상차층의 마르텐스 경도 H1로 하였다.

[광학 적층체의 마르텐스 경도 H2의 측정]

실시예, 비교예, 및 참고예에서 얻은 광학 적층체를 40 ㎜×40 ㎜의 크기로 잘라내고, 광학 적층체의 편광판측(프로텍트 필름의 표면)에, 상기에서 얻은 양면 박리 필름 부착 점착제층(a)의 한쪽의 박리 필름을 박리하여 노출된 점착제층(a)의 표면을 접합하였다. 계속해서, 점착제층(a)에 첩부되어 있는 다른 쪽의 박리 필름을 박리하여 노출된 점착제층(a)의 표면을, 40 ㎜×40 ㎜의 크기의 유리판에 접합하여, 측정용 샘플(2)을 얻었다. 측정용 샘플(2)은, 유리, 점착제층(a), 및 광학 적층체가 이 순서로 적층된 것이고, 측정용 샘플(2)의 광학 적층체측의 외표면은, 제2 위상차층측의 표면이었다. 온도 23℃, 상대 습도 55%의 분위기하에 있어서, 측정용 샘플(2)의 제2 위상차층측의 표면에 대해, 초미소 경도 시험기(FISCHERSCOPE HM2000: (주)피셔 인스트루먼츠 제조)를 이용하여, 가압 속도 1 mN/5초로 하중을 인가한 후, 크리프 시간(1 mN의 하중을 유지하는 시간)을 5 s로 하여 측정한 마르텐스 경도를, 광학 적층체의 마르텐스 경도 H2로 하였다.

[찰상성 시험]

실시예, 비교예, 및 참고예에서 얻은 광학 적층체를 100 ㎜×100 ㎜의 크기로 잘라내고, 광학 적층체의 편광판측(프로텍트 필름의 표면)에, 상기에서 얻은 양면 박리 필름 부착 점착제층(a)의 한쪽의 박리 필름을 박리하여 노출된 점착제층(a)의 표면을 접합하였다. 점착제층(a)에 첩부되어 있는 다른 쪽의 박리 필름을 박리하여 노출된 점착제층(a)의 표면을, 100 ㎜×100 ㎜의 크기의 유리판에 접합하여, 측정용 샘플(3)을 얻었다. 온도 23℃, 상대 습도 55%의 분위기하에 있어서, 측정용 샘플(3)의 제2 위상차층측의 표면에 대해 부직포인 벰코트 M-3II(아사히 가세이 가부시키가이샤 제조)에 의해, 25 ㎜×25 ㎜의 정방형 형상의 평면을 바닥면으로서 갖는 금속 블록의 바닥면을 덮었다. 이 금속 블록의 바닥면(부직포로 덮여져 있는 바닥면)을 측정용 샘플(3)의 제2 위상차층측의 표면에 대해 하중 250 g/㎠로 밀어붙이면서, 7 ㎝의 거리를 5 m/min의 속도로 직선형으로 10 왕복시킨 후, 제2 위상차층측의 표면의 상태를 육안에 의해 관찰하였다. 부직포를 왕복시킨 영역 중의 상기 금속 블록의 왕복 방향에 직교하는 폭 20 ㎜의 범위에 있어서의 상처의 개수를 육안으로 세어 상처의 개수[개/20 ㎜]로 하고, 이하의 기준으로 평가를 행하였다. 또한, 측정용 샘플(3)에 생긴 상처는 전부 부직포의 왕복 방향을 따른 직선형의 상처였다.

A: 상처가 전혀 또는 거의 관찰되지 않았다.

B: 십수개(10 초과∼20 이하[개/20 ㎜])의 상처가 관찰되었다.

C: 수십개(20 초과∼30 이하[개/20 ㎜])의 상처가 관찰되었다.

D: 다수(30 초과[개/20 ㎜])의 상처가 관찰되었다.

〔실시예 1〕

(프로텍트 필름 부착 편광판의 제작)

상기에서 얻은 직선 편광층(두께 12 ㎛)의 한쪽의 면측에, 상기에서 조제한 수계 접착제를 도포하여, 보호층(코니카 미놀타 가부시키가이샤 제조의 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(두께 20 ㎛, 파장 590 ㎚에서의 면내 위상차값: 1.2 ㎚, 파장 590 ㎚에서의 두께 방향 위상차값: 1.3 ㎚))을 접합시켰다. 직선 편광층의 다른 쪽의 면측에, 상기에서 조제한 수계 접착제를 도포하여, 표면 처리된 보호층(닛폰 제온 가부시키가이샤 제조의 시클로올레핀 수지(COP) 필름(두께 25 ㎛, 파장 590 ㎚에서의 면내 위상차값: 140 ㎚)에, 닛폰 세이시 가부시키가이샤 제조의 표면 처리제를 두께 3 ㎛로 도공한 표면 처리층 부착 COP 필름)을 접합시켰다. 이것을, 온도 80℃에서 5분간 건조시킴으로써, 직선 편광층의 양면에 보호층을 갖는 편광판을 얻었다. 얻어진 편광판의 표면 처리된 보호층(표면 처리층 부착 COP 필름)측에, 프로텍트 필름을 접합하고, 온도 40℃에서 168시간 양생하여, 프로텍트 필름 부착 편광판을 얻었다.

(점착제층 부착 편광판의 제작)

얻어진 프로텍트 필름 부착 편광판의 편광판측(TAC 필름의 보호층측)에, 상기에서 얻은 양면 박리 필름 부착 점착제층(a)의 한쪽의 박리 필름을 박리하여 노출된 점착제층(a)의 표면을 접합하고, 계속해서 다른 쪽의 박리 필름을 박리하여, 점착제층 부착 편광판을 얻었다. 점착제층 부착 편광판은, 프로텍트 필름, 편광판, 및 점착제층(a)을 이 순서로 갖는 것이었다.

(기재층 부착 제2 위상차층의 준비)

폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 10.0부와, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 10.0부와, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트 10.0부와, 광중합 개시제로서 이르가큐어 907 1.50부를, 용매인 메틸에틸케톤 70.0부 중에서 용해시켜, 배향층 형성용 조성물을 조제하였다.

광중합성 네마틱 액정 화합물 20.0부와, 광중합 개시제로서 이르가큐어 907 1.0부를, 용매 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 80.0 중량부 중에 용해시켜, 액정층 형성용 조성물을 조제하였다.

제2 기재층(두께 20 ㎛의 장척형의 환상 올레핀계 수지 필름)의 편면에 코로나 처리를 실시하고, 코로나 처리면에, 상기에서 조제한 배향층 형성용 조성물을 바 코터로 도포하여 제1 도포층을 형성하였다. 제1 도포층에 대해 온도 80℃에서 60초간의 열처리를 실시한 후, 자외선을 조사하여, 배향층 형성용 조성물을 중합, 경화시켜, 제2 기재층 상에 두께 1.8 ㎛의 제2 배향층을 형성하였다. 제2 배향층 상에, 상기에서 조제한 액정층 형성용 조성물을 도포하여 제2 도포층을 형성하였다. 제2 도포층에 대해 온도 80℃에서 60초간의 열처리를 실시한 후, 자외선을 조사하여, 액정층 형성용 조성물을 중합, 경화시켜, 제2 배향층 상에 두께 0.7 ㎛의 제2 액정층을 형성하였다. 이에 의해, 제2 기재층, 제2 배향층, 및 제2 액정층을 이 순서로 갖는 기재층 부착 제2 위상차층(1)을 얻었다. 기재층 부착 제2 위상차층(1)을 이용하여, 제2 위상차층의 마르텐스 경도 H1을 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

(광학 적층체(1)의 제작)

상기에서 준비한 기재층 부착 제1 위상차층의 제1 위상차층측, 및 기재층 부착 제2 위상차층(1)의 제2 위상차층측에, 각각 코로나 처리를 실시하였다. 한쪽의 코로나 처리면에, 상기에서 조제한 자외선 경화성 접착제(b)를 도포하여, 기재층 부착 제1 위상차층과 기재층 부착 제2 위상차층(1)을 접합시킨 후, 자외선을 조사하여 자외선 경화성 접착제(b)를 경화시켜, 제2 접합층인 접착제 경화층을 형성하였다. 이에 의해, 제1 기재층, 제1 위상차층(제1 배향층, 제1 액정층), 제2 접합층(접착제 경화층), 제2 위상차층(제2 액정층, 제2 배향층), 및 제2 기재층이 이 순서로 적층된 적층체(1)를 얻었다.

상기에서 얻은 적층체(1)의 제1 기재층을 박리함으로써 노출된 노출면과, 점착제층 부착 편광판의 점착제층(a)을 접합한 후, 제2 기재층을 박리함으로써, 광학 적층체(e1)를 얻었다. 제1 기재층을 박리했을 때의 박리 계면은, 제1 기재층과 제1 배향층 사이이고, 제2 기재층을 박리했을 때의 박리 계면은, 제2 배향층과 제2 액정층 사이였다. 광학 적층체(e1)는, 프로텍트 필름, 편광판, 제1 접합층(점착제층(a)), 제1 배향층, 제1 액정층, 제2 접합층(접착제 경화층), 및 제2 액정층을 이 순서로 갖는 것이었다. 얻어진 광학 적층체(e1)에 대해, 마르텐스 경도 H2를 측정하여, 찰상성 시험을 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔실시예 2〕

실시예 1에 기재된 순서로 프로텍트 필름 부착 편광판 및 적층체(1)를 준비하였다. 프로텍트 필름 부착 편광판의 편광판측(TAC 필름의 보호층측)과, 적층체(1)의 제1 기재층을 박리함으로써 노출된 노출면을, 상기에서 조제한 자외선 경화성 접착제(b)를 이용하여 접합하고, 자외선을 조사하여 자외선 경화성 접착제(b)를 경화시켜, 제1 접합층인 접착제 경화층을 형성한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 순서로 하여, 광학 적층체(e2)를 얻었다. 광학 적층체(e2)는, 프로텍트 필름, 편광판, 제1 접합층(접착제 경화층), 제1 배향층, 제1 액정층, 제2 접합층(접착제 경화층), 및 제2 액정층을 이 순서로 갖는 것이었다. 얻어진 광학 적층체(e2)에 대해, 마르텐스 경도 H2를 측정하여, 찰상성 시험을 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔비교예 1〕

기재층 부착 제1 위상차층과 기재층 부착 제2 위상차층(1)의 접합을, 상기에서 얻은 양면 박리 필름 부착 점착제층(a)의 점착제층(a)을 이용하여 행하여 적층체(2)를 얻은 것 이외에는 실시예 1과 동일한 순서로 하여, 광학 적층체(c1)를 얻었다. 얻어진 광학 적층체(c1)는, 프로텍트 필름, 편광판, 제1 접합층(점착제층(a)), 제1 배향층, 제1 액정층, 제2 접합층(점착제층(a)), 및 제2 액정층을 이 순서로 갖는 것이었다. 얻어진 광학 적층체(c1)에 대해, 마르텐스 경도 H2를 측정하여, 찰상성 시험을 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔실시예 3〕

제2 기재층(두께 20 ㎛의 장척형의 환상 올레핀계 수지 필름)의 편면에 코로나 처리를 실시하지 않는 것 이외에는 실시예 1에 기재된 기재층 부착 제2 위상차층(1)의 제작 순서와 동일하게 하여, 기재층 부착 제2 위상차층(2)을 얻었다. 얻어진 기재층 부착 제2 위상차층(2)과, 실시예 1에 기재된 순서로 제작한 적층체(1)를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 순서로 하여, 광학 적층체(e3)를 얻었다. 제2 기재층을 박리했을 때의 박리 계면은, 제2 기재층과 제2 배향층 사이였다. 얻어진 광학 적층체(e3)는, 프로텍트 필름, 편광판, 제1 접합층(점착제층(a)), 제1 배향층, 제1 액정층, 제2 접합층(접착제 경화층), 제2 액정층, 및 제2 배향층을 이 순서로 갖는 것이었다. 얻어진 기재층 부착 제2 위상차층(2)을 이용하여, 제2 위상차층의 마르텐스 경도 H1을 측정하고, 광학 적층체(e3)에 대해, 마르텐스 경도 H2를 측정하여, 찰상성 시험을 행하였다.

결과를 표 1에 나타낸다.

〔비교예 2〕

실시예 3에 기재된 순서로 기재층 부착 제2 위상차층(2)을 준비하고, 비교예 1에 기재된 순서로 적층체(2)를 준비하며, 이들을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 순서로 하여, 광학 적층체(c2)를 얻었다. 제2 기재층을 박리했을 때의 박리 계면은, 제2 기재층과 제2 배향층 사이였다. 얻어진 광학 적층체(c2)는, 프로텍트 필름, 편광판, 제1 접합층(점착제층(a)), 제1 배향층, 제1 액정층, 제2 접합층(점착제층(a)), 제2 액정층, 및 제2 배향층을 이 순서로 갖는 것이었다. 얻어진 광학 적층체(c2)에 대해, 마르텐스 경도 H2를 측정하여, 찰상성 시험을 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔참고예 1〕

제2 기재층 상에 형성한 제2 배향층의 두께를 2.2 ㎛로 한 것 이외에는, 실시예 3에 기재된 기재층 부착 제2 위상차층(2)의 제작 순서와 동일하게 하여, 기재층 부착 제2 위상차층(3)을 얻었다. 얻어진 기재층 부착 제2 위상차층(3)과, 비교예 1에 기재된 순서로 제작한 적층체(2)를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 순서로 하여, 광학 적층체(r1)를 얻었다. 제2 기재층을 박리했을 때의 박리 계면은, 제2 기재층과 제2 배향층 사이였다. 얻어진 광학 적층체(r1)는, 프로텍트 필름, 편광판, 제1 접합층(점착제층(a)), 제1 배향층, 제1 액정층, 제2 접합층(점착제층(a)), 제2 액정층, 및 제2 배향층을 이 순서로 갖는 것이었다. 얻어진 기재층 부착 제2 위상차층(3)을 이용하여, 제2 위상차층의 마르텐스 경도 H1을 측정하고, 얻어진 광학 적층체(r1)에 대해, 마르텐스 경도 H2를 측정하여, 찰상성 시험을 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔참고예 2〕

참고예 1에 기재된 순서로 기재층 부착 제2 위상차층(3)을 준비하고, 실시예 1에 기재된 순서로 적층체(1)를 준비하며, 이들을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 순서로 하여, 광학 적층체(r2)를 얻었다. 제2 기재층을 박리했을 때의 박리 계면은, 제2 기재층과 제2 배향층 사이였다. 얻어진 광학 적층체(r2)는, 프로텍트 필름, 편광판, 제1 접합층(점착제층(a)), 제1 배향층, 제1 액정층, 제2 접합층(접착제 경화층), 제2 액정층, 및 제2 배향층을 이 순서로 갖는 것이었다. 얻어진 광학 적층체(r2)에 대해, 마르텐스 경도 H2를 측정하여, 찰상성 시험을 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔참고예 3〕

제2 기재층 상에 형성한 제2 배향층의 두께를 5.0 ㎛로 한 것 이외에는, 실시예 3에 기재된 기재층 부착 제2 위상차층(2)의 제작 순서와 동일하게 하여, 기재층 부착 제2 위상차층(4)을 얻었다. 얻어진 기재층 부착 제2 위상차층(4)과, 비교예 1에 기재된 순서로 제작한 적층체(2)를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 순서로 하여, 광학 적층체(r3)를 얻었다. 제2 기재층을 박리했을 때의 박리 계면은, 제2 기재층과 제2 배향층 사이였다. 얻어진 광학 적층체(r3)는, 프로텍트 필름, 편광판, 제1 접합층(점착제층(a)), 제1 배향층, 제1 액정층, 제2 접합층(점착제층(a)), 제2 액정층, 및 제2 배향층을 이 순서로 갖는 것이었다. 얻어진 기재층 부착 제2 위상차층(4)을 이용하여, 제2 위상차층의 마르텐스 경도 H1을 측정하고, 얻어진 광학 적층체(r3)에 대해, 마르텐스 경도 H2를 측정하여, 찰상성 시험을 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔참고예 4〕

참고예 3에 기재된 순서로 기재층 부착 제2 위상차층(4)을 준비하고, 실시예 1에 기재된 순서로 적층체(1)를 준비하며, 이들을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 순서로 하여, 광학 적층체(r4)를 얻었다. 제2 기재층을 박리했을 때의 박리 계면은, 제2 기재층과 제2 배향층 사이였다. 얻어진 광학 적층체(r4)는, 프로텍트 필름, 편광판, 제1 접합층(점착제층(a)), 제1 배향층, 제1 액정층, 제2 접합층(접착제 경화층), 제2 액정층, 및 제2 배향층을 이 순서로 갖는 것이었다. 얻어진 광학 적층체(r4)에 대해, 마르텐스 경도 H2를 측정하여, 찰상성 시험을 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

1, 1a, 1b: 광학 적층체 3, 3a, 3b: 접합층 부착 광학 적층체
10: 제1 위상차층 11: 제1 배향층
12: 제1 액정층 15: 제1 기재층
18: 기재층 부착 제1 위상차층 20: 제2 위상차층
21: 제2 배향층 22: 제2 액정층
25: 제2 기재층 28: 기재층 부착 제2 위상차층
31: 제1 접합층 32: 제2 접합층
33: 제3 접합층 35: 박리 필름
36: 박리 필름 부착 접합층 40: 편광판
51: 반송 롤 53: 접합 롤

Claims (12)

1. 직선 편광층의 편면(片面) 또는 양면에 보호층을 갖는 편광판, 제1 위상차층 및 제2 위상차층을 이 순서로 갖는 광학 적층체로서,
   상기 제1 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제1 액정층을 포함하고,
   상기 제2 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제2 액정층을 포함하며,
   상기 제2 위상차층의 가압 속도 1 mN/5 s, 크리프 시간 5 s에 있어서의 마르텐스 경도 H1은, 10 N/㎟ 이하이고,
   상기 광학 적층체의 상기 제2 위상차층측의 가압 속도 1 mN/5 s, 크리프 시간 5 s에 있어서의 마르텐스 경도 H2와, 상기 마르텐스 경도 H1의 비(H2/H1)는, 15 이상인 광학 적층체.
2. 직선 편광층의 편면 또는 양면에 보호층을 갖는 편광판, 제1 위상차층 및 제2 위상차층을 이 순서로 갖는 광학 적층체로서,
   상기 제1 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제1 액정층을 포함하고,
   상기 제2 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 경화물층인 제2 액정층을 포함하며,
   상기 제2 위상차층의 가압 속도 1 mN/5 s, 크리프 시간 5 s에 있어서의 마르텐스 경도 H1은, 10 N/㎟ 이하이고,
   상기 광학 적층체의 상기 제2 위상차층측의 찰상성 시험에 의한 상처의 개수는, 10개/20 ㎜ 이하인 광학 적층체.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층은 제2 접합층을 통해 접합되어 있고,
   상기 제2 접합층은, 접착제 경화층인 광학 적층체.
4. 제3항에 있어서, 상기 제2 접합층을 구성하는 접착제 경화층은, 활성 에너지선 경화성 접착제의 경화층인 광학 적층체.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편광판과 상기 제1 위상차층은 제1 접합층을 통해 접합되어 있고,
   상기 제1 접합층은, 접착제 경화층 또는 점착제층인 광학 적층체.
6. 제5항에 있어서, 상기 제1 접합층은 접착제 경화층이고, 이 접착제 경화층은, 활성 에너지선 경화성 접착제의 경화층인 광학 적층체.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 위상차층은, 상기 제1 액정층과 제1 배향층의 적층체인 광학 적층체.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 위상차층은, 상기 제2 액정층과 제2 배향층의 적층체이고,
   상기 제2 배향층은, 상기 제2 액정층의 상기 제1 위상차층측과는 반대측에 형성되는 광학 적층체.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체와 제3 접합층을 갖는 접합층 부착 광학 적층체로서,
   상기 제3 접합층은, 상기 제2 위상차층의 상기 제1 위상차층측과는 반대측에 형성되어 있는 접합층 부착 광학 적층체.
10. 제9항에 있어서, 상기 제3 접합층의 상기 제2 위상차층측과는 반대측에, 상기 제3 접합층에 대해 박리 가능한 박리 필름을 갖는 접합층 부착 광학 적층체.
11. 제9항 또는 제10항에 기재된 접합층 부착 광학 적층체의 제조 방법으로서,
    상기 광학 적층체의 상기 제2 위상차층측에 반송 롤을 접촉하면서 상기 광학 적층체를 반송하는 공정과,
    상기 반송하는 공정보다 후에, 상기 광학 적층체의 상기 제2 위상차층측에, 상기 제3 접합층을 형성하는 공정을 포함하는, 접합층 부착 광학 적층체의 제조 방법.
12. 제11항에 있어서, 또한, 상기 제3 접합층의 상기 제2 위상차층측과는 반대측에, 박리 필름을 적층하는 공정을 포함하는, 접합층 부착 광학 적층체의 제조 방법.
    

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