KR20220118536A - 광학 적층체 - Google Patents

Abstract

[과제] 편광자로부터의 2색성 색소의 이동은 특히 고온 고습의 환경하에서 현저해지기 때문에, 고온 고습의 환경하에서도, 편광자에 포함되는 2색성 색소가 도전층으로 이행하는 것에 의한 도전층의 열화를 방지할 수 있는 광학 적층체를 제공하는 것.
[해결수단] 편광자와, 제1 경화물층과, 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체이며, 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고, 제1 경화물층은, 활성 에너지 경화성 조성물의 경화물이고, 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 중합체인 위상차 발현층을 적어도 하나 포함하고, 점착제층은, 광학 적층체를 온도 80℃, 상대 습도 90%에서 250시간 보관한 후의 요오드량이 900 mg/kg 이하이고, 편광자와 제1 경화물층은 직접 접하고, 제1 경화물층과 위상차층은 직접 접해 있는 광학 적층체.

Description

광학 적층체

본 발명은 광학 적층체에 관한 것이다.

화상 표시 장치에 있어서, 화상 표시 패널의 시인측에 반사 방지 성능을 갖는 광학 적층체를 배치하여, 외래광의 반사에 의한 시인성의 저하를 억제하는 방법이 채용되고 있다.

반사 방지 성능을 갖는 광학 적층체로서, 편광자의 양면에 열가소성 수지 필름을 구비한 직선 편광판 및 위상차층을 점착제층을 통해 적층시킨 구성으로 이루어진 원편광판이 알려져 있다(특허문헌 1). 원편광판은 통상, 위상차층의 직선 편광판과는 반대측에 점착제층을 더 형성하고, 화상 표시 패널에 적층된다.

또한, 최근, 화상 표시 장치에 있어서, 원편광판과 터치 패널 기능을 갖는 화상 표시 패널을 조합하여 이용하는 입력 장치가 널리 보급되고 있다. 터치 패널 기능을 갖는 화상 표시 패널의 표면에는, 산화인듐주석(ITO) 박막 등의 투명 도전막이나, 알루미늄 등의 금속층으로 이루어진 도전층이 형성되어 있다.

특허문헌 1 : 일본특허공개 제2019-197235호 공보

최근, 화상 표시 장치의 박막화에 따라, 편광자의 한면에만 열가소성 수지 필름을 구비한 직선 편광판을 적용한 원편광판이 제안되어 있다. 이러한 구성의 직선 편광판을 도전층에 적층시킨 경우, 편광자에 포함되는 2색성 색소(예컨대 요오드)가 도전층까지 이동하는 경우가 있고, 감지 불량 등의 오작동을 발생시키는 경우가 있다. 편광자로부터의 2색성 색소의 이동은 특히 고온 고습의 환경하에서 현저해지기 때문에, 고온 고습의 환경하에서도, 편광자에 포함되는 2색성 색소가 도전층으로 이행하는 것에 의한 도전층의 열화를 방지할 수 있는 광학 적층체가 필요로 되고 있다.

본 발명은 이하의 [1]∼[16]을 제공한다.

[1] 편광자와, 제1 경화물층과, 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체이며,

상기 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고,

상기 제1 경화물층은, 활성 에너지 경화성 조성물의 경화물이고,

상기 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 중합체인 위상차 발현층을 적어도 하나 포함하고,

상기 점착제층은, 광학 적층체를 온도 80℃, 상대 습도 90%에서 250시간 보관한 후의 요오드량이 900 mg/kg 이하이고,

상기 편광자와 상기 제1 경화물층은 직접 접하고,

상기 제1 경화물층과 상기 위상차층은 직접 접해 있는 광학 적층체.

[2] 상기 위상차층은, 상기 제1 경화물층측으로부터, 제1 중합층과, 제2 경화물층과, 제2 중합층을 이 순으로 포함하는 층이며,

상기 제1 중합층 및 상기 제2 중합층은 서로 독립적으로, 중합성 액정 화합물의 중합체를 포함하는, [1]에 기재된 광학 적층체.

[3] 상기 제2 경화물층은 활성 에너지선 경화물층인, [2]에 기재된 광학 적층체.

[4] 두께 30 μm에서의 제1 경화물층의 온도 80℃ 상대 습도 90%의 투습도가 1500[g/(㎡·24hr)] 이하인, [1]∼[3]의 어느 하나에 기재된 광학 적층체.

[5] 편광자와, 제1 경화물층과, 제1 위상차층과, 제2 경화물층과, 제2 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체이며,

상기 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고,

제1 위상차층 및 제2 위상차층은 서로 독립적으로, 중합성 액정 화합물의 중합체를 포함하는 위상차 발현층을 포함하고,

제1 경화물층 및 제2 경화물층은 서로 독립적으로, 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화물을 포함하고,

상기 제1 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률이 300 MPa 이상이고,

상기 편광자와 상기 제1 경화물층은 직접 접하고,

상기 제1 경화물층과 상기 제1 위상차층은 직접 접해 있는 광학 적층체.

[6] 상기 제2 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률이 20 MPa 이상인, [5]에 기재된 광학 적층체.

[7] 상기 제1 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률(E₁)이, 상기 제2 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률(E₂)보다 큰, [5] 또는 [6]에 기재된 광학 적층체.

[8] 두께 30 μm에서의 제1 경화물층의 온도 80℃ 상대 습도 90%의 투습도가 1500[g/(㎡·24hr)] 이하인, [5]∼[7]의 어느 하나에 기재된 광학 적층체.

[9] 편광자와, 제1 경화물층과, 제1 위상차층과, 제2 경화물층과, 제2 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체이며,

상기 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고,

상기 제1 위상차층 및 상기 제2 위상차층은 서로 독립적으로, 중합성 액정 화합물의 중합체인 위상차 발현층을 포함하고,

상기 제1 경화물층 및 상기 제2 경화물층은 각각 독립적으로, 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화물이고,

상기 제1 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₁)가 60℃ 초과이고,

상기 편광자와 상기 제1 경화물층은 직접 접하고,

상기 제1 경화물층과 상기 제1 위상차층은 직접 접해 있는 광학 적층체.

[10] 상기 제2 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₂)가 40℃ 이상인, [9]에 기재된 광학 적층체.

[11] 상기 제1 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₁)가 상기 제2 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₂)보다 큰, [9] 또는 [10]에 기재된 광학 적층체.

[12] 두께 30 μm에서의 제1 경화물층의 온도 80℃ 상대 습도 90%의 투습도가 1500[g/(㎡·24hr)] 이하인, [9]∼[11]의 어느 하나에 기재된 광학 적층체.

[13] 편광자와, 제1 경화물층과, 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체이며,

상기 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고,

상기 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 중합체를 포함하는 위상차 발현층을 포함하고,

상기 제1 경화물층은, 활성 에너지 경화성 조성물의 경화물이고,

상기 활성 에너지선 경화성 조성물은, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)을 함유하는 조성물인 광학 적층체.

[14] 편광자와, 제1 경화물층과, 제1 위상차층과, 제2 경화물층과, 제2 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체이며,

상기 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고,

상기 제1 경화물층은 활성 에너지 경화성 조성물의 경화물이고,

상기 활성 에너지선 경화성 조성물은, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)을 함유하는 조성물인 광학 적층체.

[15] 경화성 성분(A)과 광중합 개시제(B)를 포함하는 활성 에너지선 경화성 조성물로서,

상기 경화성 성분(A)은 다작용 옥세탄 화합물(A5-1) 및 3환식의 축합환과 디글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)을 함유하고,

상기 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)의 함유량이 상기 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)의 함유량보다 많은 활성 에너지선 경화성 조성물.

[16] 상기 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)과 상기 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)의 함유비(질량비)가, 상기 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)/상기 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)=1.5/1∼5/1인 [15]에 기재된 활성 에너지선 경화성 조성물.

본 발명의 광학 적층체는, 직선 편광판과 위상차층을 구비한 적층체에 있어서, 점착제층을 통해 도전층과 적층시켰을 때에 도전층의 부식을 억제할 수 있다.

도 1은 본 발명의 적층체를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 2는 위상차층을 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 3은 적층체의 제조 방법에서의 각 제조 공정의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것이 아니다. 이하의 모든 도면에서는, 각 구성 요소를 이해하기 쉽게 하기 위해 축척을 적절하게 조정하여 나타내고 있고, 도면에 도시되는 각 구성 요소의 축척과 실제의 구성 요소의 축척은 반드시 일치하지는 않는다.

<광학 적층체>

본 발명의 광학 적층체에 관해, 도 1을 참조하면서 설명한다. 도 1에 도시하는 광학 적층체(100)는, 편광자(13), 제1 경화물층(14), 위상차층(20), 점착제층(70)을 이 순으로 포함하고, 편광자(13) 및 제1 경화물층(14)은 직접 접해 있고, 제1 경화물층(14)과 위상차층(20)은 직접 접해 있다. 편광자(13)의 제1 경화물층(14)과는 반대측에는, 접착제층(12)을 통해 열가소성 수지 필름(11)을 적층해도 좋다. 또한, 위상차층(20)과 점착제층(70)은 직접 접해 있는 것이 바람직하다. 본 발명에서는, 열가소성 수지 필름(11), 접착제층(12), 편광자(13)를 이 순으로 포함하는 구성을 직선 편광판(10)이라고 한다.

도시되어 있지 않지만, 열가소성 수지 필름(11)의 접착제층(12)과는 반대측에, 하드코트층이나 반사 방지층 등의 공지의 표면 처리층을 형성하고 있어도 좋다. 또한, 광학 적층체(100)의 두께는, 예컨대 2 μm 이상 100 μm일 수 있고, 바람직하게는 2 μm 이상 80 μm 이하이다.

광학 적층체(100)는, 장척형이어도 좋고, 매엽형이어도 좋다. 광학 적층체(100)가 매엽형인 경우, 광학 적층체(100)의 평면시에서의 형상은 실질적으로 직사각형일 수 있다. 평면시란 광학 적층체(100)의 두께 방향에서 보는 것을 말한다. 실질적으로 직사각형이라는 것은, 4개의 구석(모서리부) 중 적어도 하나의 모서리부가 둔각이 되도록 절제된 형상이나 라운딩된 형상이거나, 평면시에서의 단부면의 일부가 면내 방향으로 우묵하게 들어간 함몰부(절결)를 갖거나, 평면시에서의 형상의 일부가, 원형, 타원형, 다각형 및 이들의 조합 등의 형상으로 펀칭된 개공부를 갖거나 해도 좋은 것을 말한다.

광학 적층체(100)의 크기는 특별히 한정되지 않는다. 광학 적층체(100)가 매엽형이고 실질적으로 직사각형인 경우, 긴 변의 길이는 6 cm 이상 35 cm 이하인 것이 바람직하고, 10 cm 이상 30 cm 이하인 것이 보다 바람직하고, 짧은 변의 길이는 5 cm 이상 30 cm 이하인 것이 바람직하고, 6 cm 이상 25 cm 이하인 것이 보다 바람직하다.

(열가소성 수지 필름)

열가소성 수지 필름(11)은 적층체의 시인측에 배치될 수 있다. 열가소성 수지 필름(11)은 편광자(13)를 보호하기 위한 보호 필름의 기능을 가질 수 있다. 도시되어 있지 않지만, 열가소성 수지 필름은 편광자의 양쪽에 배치되어 있어도 좋지만, 적층체의 박막화의 관점에서, 열가소성 수지 필름은 편광자의 한쪽에 배치되는 것이 바람직하고, 적층체의 시인측에만 배치되는 것이 보다 바람직하다.

열가소성 수지 필름(11)의 재질로는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예컨대, 고리형 폴리올레핀계 수지 필름, 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스와 같은 수지로 이루어진 아세트산셀룰로오스계 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트와 같은 수지로 이루어진 폴리에스테르계 수지 필름, 폴리카보네이트계 수지 필름, (메트)아크릴계 수지 필름, 폴리프로필렌계 수지 필름 등, 해당 분야에서 공지된 필름을 들 수 있다. 열가소성 수지 필름(11)의 두께는, 박형화의 관점에서, 통상 300 μm 이하이고, 200 μm 이하인 것이 바람직하고, 50 μm 이하인 것이 보다 바람직하고, 또한, 통상 5 μm 이상이고, 20 μm 이상인 것이 바람직하다. 또한, 열가소성 수지 필름(11)은 위상차를 갖고 있어도 좋고, 위상차를 갖고 있지 않아도 좋다.

열가소성 수지 필름(11)은, 필요에 따라서, 고무 입자, 윤활제, 형광 증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 대전 방지제, 산화 방지제 등의 첨가제를 1종 또는 2종 이상 함유해도 좋다. 열가소성 수지 필름(11)은, 적층체의 내구성(내광성)의 관점에서 자외선 흡수제를 포함하는 것이 바람직하다.

열가소성 수지 필름(11)은, 내부식성의 관점에서, 투습도는 100 g/㎡·24hr 이하인 것이 바람직하고, 30 g/㎡·24hr 이하인 것이 보다 바람직하다.

(접착제층)

접착제층(12)은, 열가소성 수지 필름(11)과 편광자(13)를 접착하기 위한 접착제로 형성된 층이다. 접착제는, 양자에 대하여 접착력을 발현하는 것이면 되며, 예컨대, 접착제 성분을 물에 용해 또는 분산시킨 수계 접착제나, 활성 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 들 수 있다.

수계 접착제 조성물로는, 예컨대, 주성분으로서 폴리비닐알콜계 수지 또는우레탄 수지를 이용하고, 밀착성을 향상시키기 위해, 이소시아네이트계 화합물이나 에폭시 화합물과 같은 가교제 또는 경화성 화합물을 배합한 조성물일 수 있다.

수계 접착제 조성물의 주성분으로서 폴리비닐알콜계 수지를 이용하는 경우, 부분 비누화 폴리비닐알콜 및 완전 비누화 폴리비닐알콜 외에, 카르복실기 변성 폴리비닐알콜, 아세토아세기틸기 변성 폴리비닐알콜, 메틸올기 변성 폴리비닐알콜, 및 아미노기 변성 폴리비닐알콜과 같은 변성된 폴리비닐알콜계 수지를 이용해도 좋다. 수계 접착제 조성물은 바람직하게는 아세토아세기틸기 변성 폴리비닐알콜을 포함한다. 이러한 폴리비닐알콜계 수지의 수용액이 수계 접착제로서 이용되지만, 수계 접착제 중의 폴리비닐알콜계 수지의 농도는, 물 100 질량부에 대하여, 통상 1 질량부 이상 10 질량부 이하이고, 바람직하게는 1 질량부 이상 5 질량부 이하이다.

폴리비닐알콜계 수지의 수용액으로 이루어진 수계 접착제 조성물에는, 밀착성을 향상시키기 위해, 다가 알데히드, 수용성 에폭시 수지, 멜라민계 화합물, 지르코니아계 화합물, 및 아연 화합물과 같은 경화성 화합물을 배합할 수 있다. 수용성 에폭시 수지의 예를 들면, 디에틸렌트리아민이나 트리에틸렌테트라민과 같은 폴리알킬렌폴리아민과 아디프산과 같은 디카르복실산의 반응으로 얻어지는 폴리아미드폴리아민에, 에피클로로히드린을 반응시켜 얻어지는 수용성의 폴리아미드에폭시 수지가 있다. 이러한 폴리아미드에폭시 수지의 시판품으로서, 스미카켐텍스 주식회사에서 판매하고 있는 「스미레즈레진 650」 및 「스미레즈레진 675」, 일본 PMC 주식회사에서 판매하고 있는 「WS-525」 등이 있다. 수용성 에폭시 수지를 배합하는 경우, 그 첨가량은, 폴리비닐알콜계 수지 100 질량부에 대하여, 통상 1 질량부 이상 100 질량부 이하이고, 바람직하게는 1 질량부 이상 50 질량부 이하이다.

또한, 수계 접착제 조성물의 주성분으로서 우레탄 수지를 이용하는 경우, 폴리에스테르계 아이오노머형 우레탄 수지를 수계 접착제 조성물의 주성분으로 하는 것이 유효하다. 여기서 말하는 폴리에스테르계 아이오노머형 우레탄 수지란, 폴리에스테르 골격을 갖는 우레탄 수지이며, 그 중에 소량의 이온성 성분(친수 성분)이 도입된 것이다. 이러한 아이오노머형 우레탄 수지는, 유화제를 사용하지 않고 직접 수중에서 유화하여 에멀젼이 되기 때문에, 수계의 접착제로 할 수 있다. 폴리에스테르계 아이오노머형 우레탄 수지를 이용하는 경우는, 가교제로서 수용성의 에폭시 화합물을 배합하는 것이 유효하다. 폴리에스테르계 아이오노머형 우레탄 수지를 편광판의 접착제로 하는 것은, 예컨대, 일본특허공개 제2005-70140호 공보나 일본특허공개 제2005-208456호 공보에 기재되어 있다.

수계 접착제 조성물은, 충전제, 유동 조정제, 소포제, 레벨링제, 색소, 유기 용제 등을 포함할 수 있다.

수계 접착제 조성물은, 통상, 각 성분을 물에 녹인 형태로 사용된다. 수계 접착제 조성물에 포함되는 물에 용해되지 않은 성분은, 계 중에 분산된 상태이면 된다. 수계 접착제 조성물을 편광자의 한면에 도포하고 건조시킴으로써 투명 점착제를 형성시켜도 좋다.

수계 접착제 조성물은, 편광자 또는 열가소성 수지 필름의 한면 또는 양면에 도포하고 접합한 후, 가열함으로써 물을 증발시키면서, 열가교 반응을 진행시킴으로써 양자를 충분히 접착할 수 있다. 편광자(13)와 열가소성 수지 필름(11)이 접착제층(12)을 통해 적층된 적층체를 직선 편광판(10)이라고도 한다.

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물에 관해서는, 후술하는 제1 경화물층(14)에서의 설명이 적용된다. 접착제층(12)에 이용하는 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은 광증감제 및 광증감 조제를 모두 함유하지 않아도 좋다. 또한, 제1 경화물층(14)에 포함되는 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물과 동일 또는 상이한 종류일 수 있다.

제1 접착제층(12)의 두께는, 예컨대 20 μm 이하일 수 있고, 바람직하게는 10 μm 이하이고, 보다 바람직하게는 5 μm 이하이다. 제1 접착제층(12)의 두께는, 예컨대 0.1 μm 이상일 수 있다.

(편광자)

편광자(13)는, 그 흡수축에 평행한 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 흡수축에 직교하는(투과축과 평행한) 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 흡수형의 편광자일 수 있다. 편광자(13)로는, 일축 연신된 폴리비닐알콜계 수지 필름에 2색성 색소를 흡착 배향시킨 편광자를 적합하게 이용할 수 있다. 편광자(13)는, 예컨대 폴리비닐알콜계 수지 필름을 일축 연신하는 공정; 폴리비닐알콜계 수지 필름을 2색성 색소로 염색하는 것에 의해 2색성 색소를 흡착시키는 공정; 2색성 색소가 흡착된 폴리비닐알콜계 수지 필름을 붕산 수용액 등의 가교액으로 처리하는 공정; 및 가교액에 의한 처리후에 수세하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다.

폴리비닐알콜계 수지로는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화한 것을 이용할 수 있다. 폴리아세트산비닐계 수지로는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체 등을 들 수 있다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체의 예는, 불포화 카르복실산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류 및 암모늄기를 갖는 (메트)아크릴아미드류 등을 포함한다.

본 명세서에서 「(메트)아크릴」이란, 아크릴 및 메타크릴에서 선택되는 적어도 한쪽을 의미한다. 「(메트)아크릴로일」, 「(메트)아크릴레이트」 등에서도 동일하다.

폴리비닐알콜계 수지의 비누화도는 통상 85∼100 mol%이며, 98 mol% 이상이 바람직하다. 폴리비닐알콜계 수지는 변성되어 있어도 좋고, 예컨대, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말 또는 폴리비닐아세탈 등을 이용할 수도 있다. 폴리비닐알콜계 수지의 평균 중합도는 통상 1000∼10000이며, 1500∼5000이 바람직하다. 폴리비닐알콜계 수지의 평균 중합도는 JIS K 6726에 준거하여 구할 수 있다.

이러한 폴리비닐알콜계 수지를 제막한 것이, 편광자의 원단 필름으로서 이용된다. 폴리비닐알콜계 수지를 제막하는 방법은, 특별히 한정되는 것은 아니며, 공지의 방법이 채용된다. 폴리비닐알콜계 원단 필름의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 예컨대 5 μm 이상 85 μm 이하일 수 있다.

폴리비닐알콜계 수지 필름의 일축 연신은, 2색성 색소의 염색전, 염색과 동시, 또는 염색후에 행할 수 있다. 일축 연신을 염색후에 행하는 경우, 이 일축 연신은, 가교 처리전 또는 가교 처리중에 행해도 좋다. 또한, 이러한 복수의 단계로 일축 연신을 행해도 좋다.

일축 연신에 있어서는, 주속이 상이한 롤 사이에서 일축 연신해도 좋고, 열 롤을 이용하여 일축 연신해도 좋다. 또한 일축 연신은, 대기중에서 연신을 행하는 건식 연신이어도 좋고, 용제나 물을 이용하여 폴리비닐알콜계 수지 필름을 팽윤시킨 상태로 연신을 행하는 습식 연신이어도 좋다. 연신 배율은 통상 3∼8배이다.

폴리비닐알콜계 수지 필름을 2색성 색소로 염색하는 방법으로는, 예컨대, 상기 필름을 2색성 색소가 함유된 수용액에 침지하는 방법이 채용된다. 2색성 색소로는, 요오드나 2색성 유기 염료가 이용된다. 한편, 폴리비닐알콜계 수지 필름은, 염색 처리전에 물에 침지 처리를 해 놓은 것이 바람직하다.

2색성 색소에 의한 염색후의 가교 처리로는 통상, 염색된 폴리비닐알콜계 수지 필름을 붕산 함유 수용액에 침지하는 방법이 채용된다. 2색성 색소로서 요오드를 이용하는 경우, 이 붕산 함유 수용액은 요오드화칼륨을 함유하는 것이 바람직하다.

편광자(13)의 두께는, 통상 30 μm 이하이고, 바람직하게는 28 μm 이하이고, 보다 바람직하게는 20 μm 이하이고, 더욱 바람직하게는 15 μm 이하이고, 특히 바람직하게는 10 μm 이하이다. 편광자(13)의 두께는, 통상 2 μm 이상이고, 3 μm 이상인 것이 바람직하다.

(제1 경화물층)

제1 경화물층(14)은, 편광자(13)와 위상차층(20)을 접착하기 위해(직선 편광판과 후술하는 위상차 적층체를 접착하기 위해), 편광자(13)와 위상차층(20) 사이에 배치된다. 제1 경화물층(14)은, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 경화물이다. 제1 경화물층(14)이 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 경화물로 형성되는 것에 의해, 점착제층을 이용하는 경우에 비교하여, 편광자에 포함되는 요오드의 이행이 억제되어, 도전층과 적층시켰을 때의 도전층의 부식을 억제할 수 있다. 본 발명에서 부식성의 평가는, 후술하는 실시예의 란에서 설명하는 평가 방법에 따라서 행해진다.

제1 경화물층(14)의 두께는, 예컨대 10 μm 이하일 수 있고, 바람직하게는 5 μm 이하이고, 보다 바람직하게는 4 m 이하, 더욱 바람직하게는 3 μm 이하이다. 제1 경화물층(14)의 두께는, 예컨대 0.5 μm 이상일 수 있고, 바람직하게는 1 μm 이상이다.

(활성 에너지선 경화형 접착제 조성물)

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물로는, 활성 에너지선을 조사하여 경화하는 것이면 되며, 예컨대 양이온 중합성 접착제 조성물이어도 좋고, 라디칼 중합성 접착제 조성물이어도 좋다. 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은, 바람직하게는 양이온 중합성 접착제 조성물이다.

(양이온 중합성 접착제 조성물)

양이온 중합성 접착제 조성물은, 경화성 성분(A)과, 광양이온 중합 개시제(B)를 포함한다. 경화성 성분(A)은, 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온 중합을 일으켜 경화할 수 있는 성분이다. 경화성 성분(A)의 중합 경화에 의해 접착력이 발현한다.

(경화성 성분(A))

경화성 성분(A)은, 지환식 에폭시 화합물(A1) 및 다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)의 적어도 어느 1종을 포함할 수 있다. 경화성 성분(A)은, 단작용 에폭시 화합물(A3), 다작용 방향족 에폭시 화합물(A4) 및 옥세탄 화합물(A5)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종을 더 포함할 수 있다.

경화성 성분(A)은 지환식 에폭시 화합물(A1)을 포함하는 경우, 지환식 에폭시 화합물(A1)의 함유량은, 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여, 예컨대 5 질량부 이상 90 질량부 이하일 수 있고, 바람직하게는 10 질량부 이상 80 질량부 이하이다.

경화성 성분(A)은 다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)을 포함하는 경우, 다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)의 함유량은, 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여, 예컨대 1 질량부 이상 50 질량부 이하일 수 있고, 바람직하게는 5 질량부 이상 45 질량부 이하이다.

경화성 성분(A)은 단작용 에폭시 화합물(A3)을 포함하는 경우, 단작용 에폭시 화합물(A3)의 함유량은, 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여, 예컨대 1 질량부 이상 20 질량부 이하일 수 있고, 바람직하게는 1 질량부 이상 15 질량부 이하이다.

경화성 성분(A)은 다작용 방향족 에폭시 화합물(A4)을 포함하는 경우, 다작용 방향족 에폭시 화합물(A4)의 함유량은, 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여, 예컨대 1 질량부 이상 60 질량부 이하일 수 있고, 바람직하게는 1 질량부 이상 50 질량부 이하이다.

경화성 성분(A)은 옥세탄 화합물(A5)을 포함하는 경우, 옥세탄 화합물(A5)의 함유량은, 경화성 성분(A) 100 질량부에 대하여, 예컨대 5 질량부 이상 90 질량부 이하일 수 있고, 바람직하게는 10 질량부 이상 80 질량부 이하이다.

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은, 용제를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 이하, 각 성분에 관해 상세히 설명한다.

(지환식 에폭시 화합물(A1))

지환식 에폭시 화합물(A1)은, 지환식 에폭시기를 하나 이상 갖는 화합물이다. 지환식 에폭시 화합물(A1)은, 지환식 에폭시기를 하나 이상 갖는 화합물이라면, 지환식 에폭시기 이외의 에폭시기를 더 갖고 있어도 좋다. 본 명세서에서 지환식 에폭시기란, 지환식 고리에 결합한 에폭시기를 의미하며, 하기 식(a)로 표시되는 구조에서의 가교의 산소 원자 -O-를 의미한다.

상기 식(a) 중, m은 2∼5의 정수이다. 상기 식(a)에서의 (CH₂)_m 중의 1개 또는 복수개의 수소 원자를 제거한 형태의 기가 다른 화학 구조에 결합하고 있는 화합물이, 지환식 에폭시 화합물(A1)이 될 수 있다. (CH₂)_m 중의 1개 또는 복수개의 수소 원자는, 메틸기나 에틸기와 같은 직쇄형 알킬기로 적절하게 치환되어 있어도 좋다. 지환식 에폭시 화합물(A1)에 의해, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 경화 속도를 조정할 수 있다.

지환식 에폭시 화합물(A1)의 구체예는, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산, 1,2-에폭시-1-메틸-4-(1-메틸에폭시에틸)시클로헥산, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 메타아크릴레이트, 2,2-비스(히드록시메틸)-1-부탄올의 4-(1,2-에폭시에틸)-1,2-에폭시시클로헥산 부가물, 에틸렌 비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트), 옥시디에틸렌 비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트), 1,4-시클로헥산디메틸 비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트), 및 3-(3,4-에폭시시클로헥실메톡시카르보닐)프로필 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트 등을 들 수 있다.

지환식 에폭시 화합물(A1) 중에서도, 적절한 경화성을 가짐과 더불어, 비교적 염가로 입수할 수 있다는 점에서, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트가 바람직하게 이용된다. 지환식 에폭시 화합물(A1)로는, 1종의 지환식 에폭시 화합물을 단독으로 이용해도 좋고, 상이한 복수종을 조합하여 이용해도 좋다.

지환식 에폭시 화합물(A1)은 시판품을 이용할 수 있고, 예컨대, 각각 상품명으로, (주)다이셀에서 판매하고 있는 "셀록사이드(등록상표)" 시리즈 및 "사이클로머(등록상표)", 다우케미컬사에서 판매하고 있는 "사이라큐어 UVR" 시리즈 등을 들 수 있다.

(다작용 지방족 에폭시 화합물(A2))

다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)은, 2개 이상의 에폭시기를 가지며, 방향환을 갖지 않는 화합물이다. 다만, 본 명세서에서 말하는 다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)은, 지환식 에폭시 화합물(A1)에 포함되는, 지환식 에폭시기를 갖는 화합물을 제외한다. 다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)에 의해, 접착제 경화층의 밀착성을 조정할 수 있다.

다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)로는, 하기 식(b)로 표시되는 지방족 디에폭시 화합물이 보다 바람직하다. 하기 식(b)로 표시되는 지방족 디에폭시 화합물을 다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)로서 포함하는 것에 의해, 점도가 낮고, 도포하기 쉬운 활성 에너지선 경화형 접착제를 얻을 수 있다.

식(b) 중, Z는 탄소수 1∼9의 알킬렌기, 탄소수 3 혹은 4의 알킬리덴기, 2가의 지환식 탄화수소기, 또는 식 -C_mH_2m-Z¹-C_nH_2n-로 표시되는 2가의 기이다. 또한, 상기 식 -C_mH_2m-Z¹-C_nH_2n- 중 -Z¹-은, -O-, -CO-O-, -O-CO-, -SO₂-, -SO- 또는 CO-이며, m 및 n은 각각 독립적으로 1 이상의 정수를 나타내고, m 및 n의 합계는 9 이하이다.

2가의 지환식 탄화수소기는, 예컨대, 탄소수 4∼16의 2가의 지환식 탄화수소기일 수 있고, 예컨대 하기 식(b-1)로 표시되는 2가의 기 또는 식(b-2)로 표시되는 2가의 기 등을 들 수 있다.

식(b)로 표시되는 화합물의 구체예로는, 예컨대 알칸디올의 디글리시딜에테르, 반복수 4 정도까지의 올리고알킬렌글리콜의 디글리시딜에테르, 또는 지환식 디올의 디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.

상기 식(b)로 표시되는 화합물을 형성할 수 있는 디올(글리콜)로는, 예컨대, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 네오펜틸글리콜, 3-메틸-2,4-펜탄디올, 2,4-펜탄디올, 1,5-펜탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,7-헵탄디올, 3,5-헵탄디올, 1,8-옥탄디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올 등의 알칸디올; 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜 등의 올리고알킬렌글리콜; 시클로헥산디올, 시클로헥산디메탄올, 디시클로펜타디엔디메탄올 등의 지환식 디올을 들 수 있다.

본 발명에 있어서, 다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)로는, 점도가 낮고, 도포하기 쉬운 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물이 얻어진다는 관점에서, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 디시클로펜타디엔메탄올디글리시딜에테르가 바람직하다.

다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)로는, 1종의 지방족 에폭시 화합물을 단독으로 이용해도 좋고, 상이한 복수종을 조합하여 이용해도 좋다.

또한, 본 발명의 한 양태로서, 다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)은, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)인 것이 바람직하다.

3환식의 축합환으로는, 3개의 고리로 이루어진 축합환이라면 특별히 한정되지 않지만, 지방족 고리로 이루어진 축합환인 것이 바람직하다. 3환식의 축합환으로는, 아다만탄 고리, 트리시클로데칸 고리, 디시클로펜타디엔 고리, 트리시클로데카엔 고리 등을 들 수 있다.

3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)로는, 예컨대 하기 식(c-1)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.

[식(c-1) 중, X₁은 3환식의 축합환을 나타내고, Z² 및 Z³은, 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 탄화수소기를 나타낸다.]

X₁로 표시되는 3환식의 축합환은, 아다만탄 고리, 트리시클로데칸 고리, 디시클로펜타디엔 고리, 트리시클로데카엔 고리 등을 들 수 있고, 트리시클로데칸 고리인 것이 바람직하다.

Z² 및 Z³으로 표시되는 2가의 탄화수소기로는, 예컨대, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판디일기 등의 탄소수 1∼8의 알칸디일기; 페닐렌기 등의 탄소수 6∼10의 방향족 탄화수소기를 들 수 있다.

Z² 및 Z³은 각각 독립적으로, 2가의 탄화수소기인 것이 바람직하고, 탄소수 1∼8의 알칸디일기인 것이 보다 바람직하고, 탄소수 1∼4의 알칸디일기인 것이 더욱 바람직하고, 메틸렌기인 것이 특히 바람직하다.

다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)은 시판품을 이용할 수 있고, 예컨대, "EP-4088S"(이상, (주)ADEKA 제조), "EHPE3150"(이상, (주)다이셀 제조), "EX-211L", "EX-212L"(이상, 모두 나가세켐텍스(주) 제조) 등을 들 수 있다.

(단작용 에폭시 화합물(A3))

단작용 에폭시 화합물(A3)은 에폭시기를 하나 갖는 화합물이다. 다만, 본 명세서에서 말하는 단작용 에폭시 화합물(A3)은, 지환식 에폭시 화합물(A1)에 포함되는, 지환식 에폭시기를 분자 내에 갖는 화합물을 제외한다. 단작용 에폭시 화합물(A3)은, 방향환을 분자 내에 갖고 있어도 좋고 갖고 있지 않아도 좋다. 단작용 에폭시 화합물(A3)에 의해, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 점도를 조정할 수 있다.

방향환을 갖는 단작용 에폭시 화합물(A3)로는, 페놀, 크레졸, 부틸페놀 등의 1가 페놀 혹은 비스페놀 A, 비스페놀 F 등의 비스페놀 유도체, 또는 이들의 알킬렌옥사이드 부가물의 모노글리시딜에테르화물; 에폭시 노볼락 수지; 레졸시놀이나 하이드로퀴논, 카테콜 등의 2개 이상의 페놀성 수산기를 갖는 방향족 화합물의 모노글리시딜에테르화물; 벤젠디메탄올이나 벤젠디에탄올, 벤젠디부탄올 등의 알콜성 수산기를 2개 이상 갖는 방향족 화합물의 모노글리시딜에테르화물; 프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산 등의 2개 이상의 카르복실기를 갖는 다염기산 방향족 화합물의 모노글리시딜에스테르; 벤조산의 글리시딜에스테르나 톨루일산, 나프토에산의 모노글리시딜에스테르 등을 들 수 있다.

방향환을 갖지 않는 단작용 에폭시 화합물(A3)로는, 지방족 알콜의 글리시딜에테르화물, 알킬카르복실산의 글리시딜에스테르 등을 들 수 있고, 그 구체예는, 알릴글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, sec-부틸페닐글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 탄소수 12 및 13 혼합 알킬글리시딜에테르, 알콜의 글리시딜에테르, 지방족 고급 알콜의 모노글리시딜에테르, 고급 지방산의 글리시딜에스테르 등을 포함한다. 단작용 에폭시 화합물(A3)로는, 1종의 단작용 에폭시 화합물을 단독으로 이용해도 좋고, 상이한 복수종을 조합하여 이용해도 좋다.

단작용 에폭시 화합물(A3)은 시판품을 이용할 수 있고, 예컨대, "EX-142", "EX-146", "EX-147", "EX-121"(이상, 모두 나가세켐텍스(주) 제조) 등을 들 수 있다.

(다작용 방향족 에폭시 화합물(A4))

다작용 방향족 에폭시 화합물(A4)은, 에폭시기를 2개 이상 가지며, 방향환을 갖는 화합물이다. 다만, 본 명세서에서 말하는 다작용 방향족 에폭시 화합물(A4)은, 지환식 에폭시 화합물(A1)에 포함되는, 분자 내에 지환식 에폭시기를 갖는 화합물을 제외한다.

다작용 방향족 에폭시 화합물(A4)의 구체예는, 나프탈렌, 또는 나프탈렌 유도체의 폴리글리시딜에테르화물(「나프탈렌형 에폭시 화합물」이라고도 칭함); 비스페놀 A, 비스페놀 F 등의 비스페놀 유도체의 폴리글리시딜에테르화물(「비스페놀 A형 에폭시 화합물」, 「비스페놀 F형 에폭시 화합물」이라고도 칭함); 에폭시노볼락 수지; 레졸시놀이나 하이드로퀴논, 카테콜 등의 2개 이상의 페놀성 수산기를 갖는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르화물; 벤젠디메탄올이나 벤젠디에탄올, 벤젠디부탄올 등의 알콜성 수산기를 2개 이상 갖는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르화물; 프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산 등의 2개 이상의 카르복실기를 갖는 다염기산 방향족 화합물의 폴리글리시딜에스테르; 벤조산의 글리시딜에스테르나 톨루일산, 나프토에산의 폴리글리시딜에스테르 등; 스티렌옥사이드나 알킬화스티렌옥사이드, 비닐나프탈렌의 에폭시화물 등의 스티렌옥사이드류 또는 디비닐벤젠의 디에폭시화물 등을 들 수 있다. 다작용 방향족 에폭시 화합물(A4)로는, 1종의 화합물을 단독으로 이용해도 좋고, 상이한 복수종을 조합하여 이용해도 좋다.

다작용 방향족 에폭시 화합물(A4)은, 시판품을 이용할 수 있고, 예컨대, "데나콜 EX-201", "데나콜 EX-711" 및 "데나콜 EX-721"(이상, 모두 나가세 켐텍스(주) 제조); "오그솔 EG-280" 및 "오그솔 CG-400"(이상, 모두 오사카 가스 케미컬(주) 제조); "EXA-80CRP" 및 "HP4032D"(이상, 모두 DIC(주) 제조); "jER828" 및 "jER828EL"(이상, 모두 미쓰비시 케미컬(주) 제조); "아데카레진 EP-4100", "아데카레진 EP-4100G", "아데카레진 EP-4100E", "아데카레진 EP-4100L", "아데카레진 EP4100TX", "아데카레진 EP-4000", "아데카레진 EP-4005", "아데카레진 EP-4901", "아데카레진 EP-4901E", (이상, 모두 (주)ADEKA 제조) 등을 들 수 있다.

(옥세탄 화합물(A5))

본 명세서에서 옥세탄 화합물(A5)은, 옥세타닐기를 갖는 화합물이며, 지방족화합물, 지환식 화합물 또는 방향족 화합물이어도 좋다. 본 명세서에서 말하는 옥세탄 화합물(A5)은, 에폭시기를 갖지 않는 화합물로 한다. 옥세탄 화합물(A5)에 의해, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 경화 속도나 점도를 조정할 수 있고, 또한 반응성을 향상시킬 수 있다.

옥세탄 화합물(A5)은, 옥세타닐기를 하나 갖는 단작용 옥세탄 화합물이어도 좋고, 옥세타닐기를 2개 이상 갖는 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)이어도 좋다. 옥세탄 화합물(A5)은, 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)인 것이 바람직하고, 2작용 옥세탄 화합물인 것이 보다 바람직하다.

옥세탄 화합물(A5)은, 구체예로서, 3,7-비스(3-옥세타닐)-5-옥사-노난, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,2-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에탄, 1,3-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]프로판, 에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 4-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)부탄, 1,6-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)헥산, 3-에틸-3-(페녹시)메틸옥세탄, 3-에틸-3-(시클로헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 3-에틸-3-(클로로메틸)옥세탄, 3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄, 크실릴렌비스옥세탄 등을 포함한다. 옥세탄 화합물(A5)로는, 1종의 옥세탄 화합물을 단독으로 이용해도 좋고, 상이한 복수종을 조합하여 이용해도 좋다.

옥세탄 화합물(A5)은 시판품을 이용할 수 있고, 예컨대, 각각 상품명으로 도아고세이(주)에서 판매하고 있는 “아론옥세탄(등록상표)”시리즈, 우베흥산(주)에서 판매하고 있는 “ETERNACOLL(등록상표)” 시리즈 등을 들 수 있다.

상기 경화성 성분[지환식 에폭시 화합물(A1), 다작용 지방족 에폭시 화합물(A2), 단작용 에폭시 화합물(A3), 다작용 방향족 에폭시 화합물(A4), 옥세탄 화합물(A5)]은, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 무용제로 하기 위해, 유기 용제 등으로 희석되어 있지 않은 것을 이용하는 것이 바람직하다.

상기 경화성 성분은, 통상 실온에서 액체이며, 용제를 존재시키지 않아도 적당한 유동성을 가지며, 적절한 접착 강도를 부여하는 것을 선택하고, 그것에 적합한 광양이온 중합 개시제를 배합한 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은, 광학 적층체의 제조 설비에 있어서, 직선 편광판과 위상차층 적층체를 접착하는 공정에서 용제를 증발시키기 위한 건조 설비를 생략할 수 있다. 또한, 적절한 활성 에너지선량을 조사함으로써 경화 속도를 촉진시키고, 생산 속도를 향상시킬 수 있다.

(그 밖의 경화성 성분)

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물에 포함되는 경화성 성분(A)은, 상기 경화성 성분에 한정되지는 않고, 상기 양이온 중합성의 경화성 성분 이외의 양이온 중합성의 경화성 성분, 및 라디칼 중합성의 경화성 성분을 포함하고 있어도 좋다.

(라디칼 중합성의 경화성 성분)

라디칼 중합성 화합물은, 자외선, 가시광, 전자선, X선 등의 활성 에너지선의 조사나 가열에 의해 라디칼 중합 반응이 진행하여, 경화하는 화합물 또는 올리고머를 말하며, 구체적으로는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물을 들 수 있다. 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물로는, 분자 내에 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물 외에, 스티렌, 스티렌술폰산, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, N-비닐-2-피롤리돈과 같은 비닐 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 바람직한 라디칼 중합성 화합물은 (메트)아크릴계 화합물이다.

(메트)아크릴계 화합물로는, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머, (메트)아크릴아미드 모노머, 및, 작용기 함유 화합물을 2종 이상 반응시켜 얻어지고, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴 올리고머 등의 (메트)아크릴로일기 함유 화합물을 들 수 있다. (메트)아크릴 올리고머는 바람직하게는, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 올리고머이다. (메트)아크릴계 화합물은, 1종만을 단독으로 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다.

(메트)아크릴레이트 모노머로는, 분자 내에 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 2작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 3개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머를 들 수 있다.

단작용 (메트)아크릴레이트 모노머의 예로서, 알킬(메트)아크릴레이트가 있다. 알킬(메트)아크릴레이트에 있어서, 그 알킬기는 탄소수 3 이상이라면 직쇄이어도 좋고 분기되어 있어도 좋다. 알킬(메트)아크릴레이트의 구체예를 들면, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 벤질(메트)아크릴레이트와 같은 아랄킬(메트)아크릴레이트; 이소보르닐(메트)아크릴레이트와 같은 테르펜알콜의 (메트)아크릴레이트; 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트와 같은 테트라히드로푸르푸릴 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트; 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실메틸메타크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노아크릴레이트와 같은 알킬기 부위에 시클로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트; N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트와 같은 아미노알킬(메트)아크릴레이트; 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트와 같은 알킬 부위에 에테르 결합을 갖는 (메트)아크릴레이트도 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서 이용할 수 있다.

또한, 알킬 부위에 수산기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트나, 알킬 부위에 카르복실기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트도 이용할 수 있다. 알킬 부위에 수산기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트의 구체예는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2- 또는 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨모노(메트)아크릴레이트를 포함한다. 알킬 부위에 카르복실기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트의 구체예는, 2-카르복시에틸(메트)아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤(n≒2)모노(메트)아크릴레이트, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]프탈산, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]헥사히드로프탈산, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]숙신산, 4-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]트리멜리트산, N-(메트)아크릴로일옥시-N',N'-디카르복시메틸-p-페닐렌디아민을 포함한다.

(메트)아크릴아미드 모노머는, 바람직하게는 N-위치에 치환기를 갖는 (메트)아크릴아미드이며, 그 N-위치의 치환기의 전형적인 예는 알킬기이지만, (메트)아크릴아미드의 질소 원자와 함께 고리를 형성하고 있어도 좋고, 이 고리는, 탄소 원자 및 (메트)아크릴아미드의 질소 원자에 더하여, 산소 원자를 고리 구성원으로서 가져도 좋다. 또한, 그 고리를 구성하는 탄소 원자에는, 알킬이나 옥소(=O)와 같은 치환기가 결합하고 있어도 좋다.

N-치환 (메트)아크릴아미드의 구체예는, N-메틸(메트)아크릴아미드, N-에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-n-부틸(메트)아크릴아미드, N-t-부틸(메트)아크릴아미드, N-헥실(메트)아크릴아미드와 같은 N-알킬(메트)아크릴아미드; N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드와 같은 N,N-디알킬(메트)아크릴아미드를 포함한다. 또한, N-치환기는 수산기를 갖는 알킬기이어도 좋고, 그 예로서, N-히드록시메틸(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드 등이 있다. 또한, 상기 5원환 또는 6원환을 형성하는 N-치환 (메트)아크릴아미드의 구체적인 예로는, N-아크릴로일피롤리딘, 3-아크릴로일-2-옥사졸리디논, 4-아크릴로일모르폴린, N-아크릴로일피페리딘, N-메타크릴로일피페리딘 등이 있다.

2작용 (메트)아크릴레이트 모노머로는, 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리옥시알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 할로겐 치환 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 지방족 폴리올의 디(메트)아크릴레이트, 수첨 디시클로펜타디엔 또는 트리시클로데칸디알칸올의 디(메트)아크릴레이트, 디옥산글리콜 또는 디옥산디알칸올의 디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 에폭시디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

2작용 (메트)아크릴레이트 모노머의 보다 구체적인 예를 들면, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨디(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 실리콘디(메트)아크릴레이트, 히드록시피발산네오펜틸글리콜에스테르의 디(메트)아크릴레이트, 2,2-비스[4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시페닐]프로판, 2,2-비스[4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시시클로헥실]프로판, 수첨 디시클로펜타디에닐디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트, 1,3-디옥산-2,5-디일디(메트)아크릴레이트〔별명(별칭) : 디옥산글리콜디(메트)아크릴레이트〕, 히드록시피발알데히드와 트리메틸올프로판의 아세탈 화합물〔화학명 : 2-(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산〕의 디(메트)아크릴레이트, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트디(메트)아크릴레이트 등이다.

3작용 이상의 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머로는, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 알콕시화글리세린트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 3작용 이상의 지방족 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트가 대표적인 것이고, 그 밖에, 3작용 이상의 할로겐 치환 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트, 글리세린의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트, 1,1,1-트리스[(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시]프로판, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

한편, (메트)아크릴 올리고머에는, 우레탄(메트)아크릴 올리고머, 폴리에스테르(메트)아크릴 올리고머, 에폭시(메트)아크릴 올리고머 등이 있다.

우레탄(메트)아크릴 올리고머란, 분자 내에 우레탄 결합(-NHCOO-) 및 적어도 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일기 및 적어도 1개의 수산기를 각각 갖는 수산기 함유 (메트)아크릴 모노머와 폴리이소시아네이트의 우레탄화 반응 생성물이나, 폴리올을 폴리이소시아네이트와 반응시켜 얻어지는 말단 이소시아나토기 함유 우레탄 화합물과, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일기 및 적어도 1개의 수산기를 각각 갖는 (메트)아크릴 모노머의 우레탄화 반응 생성물 등일 수 있다.

상기 우레탄화 반응에 이용되는 수산기 함유 (메트)아크릴 모노머는, 예컨대 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머일 수 있고, 그 구체예는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리세린디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트를 포함한다. 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머 이외의 구체예는, N-히드록시에틸(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드 등의 N-히드록시알킬(메트)아크릴아미드 모노머를 포함한다.

수산기 함유 (메트)아크릴 모노머와의 우레탄화 반응에 제공되는 폴리이소시아네이트로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 이들 디이소시아네이트 중 방향족의 이소시아네이트류를 수소 첨가하여 얻어지는 디이소시아네이트(예컨대, 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트 등), 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 디벤질벤젠트리이소시아네이트 등의 디- 또는 트리- 이소시아네이트, 및, 상기 디이소시아네이트를 다량화시켜 얻어지는 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.

또한, 폴리이소시아네이트와의 반응에 의해 말단 이소시아나토기 함유 우레탄 화합물로 하기 위해 이용되는 폴리올로는, 방향족, 지방족 또는 지환식의 폴리올 외에, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올 등을 사용할 수 있다. 지방족 및 지환식의 폴리올로는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 글리세린, 수첨 비스페놀 A 등을 들 수 있다.

폴리에스테르폴리올은, 상기 폴리올과 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물과의 탈수 축합 반응에 의해 얻어지는 것이다. 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 예를, 무수물일 수 있는 것에 「(무수)」를 붙여 나타내면, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 헥사히드로(무수)프탈산 등이 있다.

폴리에테르폴리올은, 폴리알킬렌글리콜 외에, 상기 폴리올 또는 디히드록시벤젠류와 알킬렌옥사이드의 반응에 의해 얻어지는 폴리옥시알킬렌 변성 폴리올 등일 수 있다.

폴리에스테르(메트)아크릴 올리고머란, 분자 내에 에스테르 결합과 적어도 2개의 (메트)아크릴로일기(전형적으로는 (메트)아크릴로일옥시기)를 갖는 화합물이다. 구체적으로는, (메트)아크릴산, 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물, 및 폴리올을 이용한 탈수 축합 반응에 의해 얻을 수 있다. 탈수 축합 반응에 이용되는 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 예를, 무수물일 수 있는 것에 「(무수)」를 붙여 나타내면, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, 헥사히드로(무수)프탈산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등이 있다. 또한, 탈수 축합 반응에 이용되는 폴리올로는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 글리세린, 수첨 비스페놀 A 등을 들 수 있다.

에폭시(메트)아크릴 올리고머는, 예컨대, 폴리글리시딜에테르와 (메트)아크릴산의 부가 반응에 의해 얻을 수 있고, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖고 있다. 부가 반응에 이용되는 폴리글리시딜에테르로는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.

광라디칼 중합 개시제의 구체예는, 아세토페논, 3-메틸아세토페논, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 등의 아세토페논계 개시제; 벤조페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 개시제; 벤조인프로필에테르, 벤조인에틸에테르 등의 벤조인에테르계 개시제; 4-이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤계 개시제; 기타, 크산톤, 플루오레논, 캄파퀴논, 벤즈알데히드, 안트라퀴논을 포함한다.

광라디칼 중합 개시제의 배합량은, 라디칼 중합성 화합물 100 질량부에 대하여 통상 0.5 질량부 이상 20 질량부 이하이고, 바람직하게는 1 질량부 이상 6 중량부 이하이다. 광라디칼 중합 개시제를 0.5 질량부 이상 배합하는 것에 의해, 라디칼 중합성 화합물을 충분히 경화시킬 수 있고, 얻어지는 편광판에 높은 기계적 강도와 접착 강도를 부여할 수 있다. 한편, 그 양이 과도하게 많아지면, 편광판의 내구성이 저하될 가능성이 있다.

다만, 라디칼 중합은 경화 수축이 큰 경향이 있기 때문에, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은, 경화성 성분(A)으로서 양이온 중합성의 경화성 성분만을 포함하는 것이 바람직하다.

(광양이온 중합 개시제(B))

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은 광양이온 중합 개시제(B)를 함유한다. 이것에 의해, 경화성 성분(A)을 활성 에너지선의 조사에 의한 양이온 중합으로 경화시켜 접착제층을 형성할 수 있다. 광양이온 중합 개시제(B)는, 가시광선, 자외선, X선, 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온종 또는 루이스산을 발생시켜, 경화성 성분(A)의 중합 반응을 개시시키는 것이다. 광양이온 중합 개시제(B)는 광에서 촉매적으로 작용하기 때문에, 경화성 성분(A)에 혼합하더라도 보존 안정성이나 작업성이 우수하다. 광양이온 중합 개시제(B)로서 사용할 수 있는, 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온종이나 루이스산을 발생시키는 화합물로서, 예컨대, 방향족 디아조늄염; 방향족 요오도늄염이나 방향족 술포늄염과 같은 오늄염; 철-아렌 착체 등을 들 수 있다.

방향족 디아조늄염으로는, 예컨대, 벤젠디아조늄 헥사플루오로안티모네이트, 벤젠디아조늄 헥사플루오로포스페이트, 벤젠디아조늄 헥사플루오로보레이트를 들 수 있다.

방향족 요오드늄염으로는, 예컨대, 디페닐요오드늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디페닐요오드늄 헥사플루오로포스페이트, 디페닐요오드늄 헥사플루오로안티모네이트, 디(4-노닐페닐)요오드늄 헥사플루오로포스페이트를 들 수 있다.

방향족 술포늄염으로는, 예컨대, 트리페닐술포늄 헥사플루오로포스페이트, 트리페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 4,4'-비스〔디페닐술포니오〕디페닐술피드 비스헥사플루오로포스페이트, 4,4'-비스〔디(β-히드록시에톡시)페닐술포니오〕디페닐술피드 비스헥사플루오로안티모네이트, 4,4'-비스〔디(β-히드록시에톡시)페닐술포니오〕디페닐술피드 비스헥사플루오로포스페이트, 7-〔디(p-톨루일)술포니오〕-2-이소프로필티옥산톤 헥사플루오로안티모네이트, 7-〔디(p-톨루일)술포니오〕-2-이소프로필티옥산톤 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 4-페닐카르보닐-4'-디페닐술포니오-디페닐술피드 헥사플루오로포스페이트, 4-(p-tert-부틸페닐카르보닐)-4'-디페닐술포니오-디페닐술피드 헥사플루오로안티모네이트, 4-(p-tert-부틸페닐카르보닐)-4'-디(p-톨루일)술포니오-디페닐술피드 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 들 수 있다.

철-아렌 착체로는, 예컨대, 크실렌-시클로펜타디에닐철(II) 헥사플루오로안티모네이트, 쿠멘-시클로펜타디에닐철(II) 헥사플루오로포스페이트, 크실렌-시클로펜타디에닐철(II) 트리스(트리플루오로메틸술포닐)메타나이드를 들 수 있다.

광양이온 중합 개시제(B)는, 1종만을 단독으로 사용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 상기 중에서도 특히 방향족 술포늄염은, 300 nm 부근의 파장 영역에서도 자외선 흡수 특성을 갖기 때문에, 경화성이 우수하고, 양호한 기계 강도나 접착 강도를 갖는 접착제 경화층을 얻을 수 있어, 바람직하게 이용된다.

광양이온 중합 개시제(B)의 함유량은, 경화성 성분(A)의 합계량 100 질량부에 대하여 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하가 되고, 바람직하게는 1 질량부 이상 4 질량부 이하이다. 광양이온 중합 개시제(B)를 1 질량부 이상 함유시키는 것에 의해, 경화성 성분을 충분히 경화시킬 수 있고, 충분한 접착 강도와 경도를 갖는 접착제 경화층을 얻을 수 있다. 한편, 그 양이 많아지면, 경화물 중의 이온성 물질이 증가함으로써 경화물의 흡습성이 높아지고, 적층체의 내구 성능을 저하시킬 가능성이 있기 때문에, 광양이온 중합 개시제(B)의 양은, 경화성 성분(A)의 합계량 100 질량부에 대하여 10 질량부 이하로 한다.

경화성 성분으로서 라디칼 중합성의 경화성 성분을 포함하는 경우는, 중합 개시제로서, 광양이온 중합 개시제(B)에 더하여 라디칼 중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.

(광증감제(C))

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은 광증감제(C)를 함유해도 좋다. 제1 활성 에너지선 경화성 조성물에 광증감제(C)를 함유시키는 것에 의해, 그것을 함유하지 않는 경우에 비교하여 접착제의 경화성을 향상시킬 수 있다.

광증감제(C)는 하기 일반식(I) :

(식 중, R¹ 및 R²는 서로 독립적으로 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 2∼12의 알콕시알킬기를 나타내고, R³은 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다)

로 표시되는 안트라센계 화합물을 포함한다. 상기 광양이온 중합 개시제(B)는, 300 nm 부근 또는 그것보다 짧은 파장 영역에 극대 흡수를 나타내고, 그 부근의 파장의 광에 감응하여 양이온종 또는 루이스산을 발생시켜, 양이온 중합성의 경화성 성분의 양이온 중합을 개시시키지만, 그것보다 긴 파장의 광에도 감응하도록, 광증감제(C)는, 380 nm보다 긴 파장 영역에 극대 흡수를 나타내는 것이 바람직하다. 이러한 광증감제(C)로서, 안트라센계 화합물이 적합하게 이용된다.

안트라센계 화합물의 구체예로는, 예컨대,

9,10-디메톡시안트라센,

9,10-디에톡시안트라센,

9,10-디프로폭시안트라센,

9,10-디이소프로폭시안트라센,

9,10-디부톡시안트라센,

9,10-디펜틸옥시안트라센,

9,10-디헥실옥시안트라센,

9,10-비스(2-메톡시에톡시)안트라센,

9,10-비스(2-에톡시에톡시)안트라센,

9,10-비스(2-부톡시에톡시)안트라센,

9,10-비스(3-부톡시프로폭시)안트라센,

2-메틸 또는 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센,

2-메틸 또는 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센,

2-메틸 또는 2-에틸-9,10-디프로폭시안트라센,

2-메틸 또는 2-에틸-9,10-디이소프로폭시안트라센,

2-메틸 또는 2-에틸-9,10-디부톡시안트라센,

2-메틸 또는 2-에틸-9,10-디펜틸옥시안트라센,

2-메틸 또는 2-에틸-9,10-디헥실옥시안트라센

을 들 수 있다.

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물에 광증감제(C)를 함유시키는 것에 의해, 그것을 함유하지 않는 경우에 비교하여 접착제의 경화성을 향상시킬 수 있다. 경화성 성분(A)의 합계량 100 질량부에 대한 광증감제의 함유량을 0.1 질량부 이상으로 하는 것에 의해, 이러한 효과를 발현시킬 수 있다. 한편, 광증감제(C)의 함유량이 많아지면, 저온 보관시에 석출되는 등의 문제가 생기기 때문에, 그 함유량은, 경화성 성분(A)의 합계량 100 질량부에 대하여 2 질량부 이하로 하는 것이 바람직하다.

(광증감 조제(D))

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은 광증감 조제(D)를 함유해도 좋다. 광증감 조제(D)는, 바람직하게는 나프탈렌계 광증감 조제이다.

나프탈렌계 광증감 조제의 구체예로는, 예컨대,

4-메톡시-1-나프톨,

4-에톡시-1-나프톨,

4-프로폭시-1-나프톨,

4-부톡시-1-나프톨, 4-헥실옥시-1-나프톨,

1,4-디메톡시나프탈렌,

1-에톡시-4-메톡시나프탈렌,

1,4-디에톡시나프탈렌,

1,4-디프로폭시나프탈렌,

1,4-디부톡시나프탈렌

을 들 수 있다.

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물에 나프탈렌계 광증감 조제를 함유시키는 것에 의해, 그것을 함유하지 않는 경우에 비교하여 접착제의 경화성을 향상시킬 수 있다. 경화성 성분(A)의 합계량 100 질량부에 대한 나프탈렌계 광증감 조제의 함유량을 0.1 질량부 이상으로 하는 것에 의해, 이러한 효과를 발현시킬 수 있다. 한편, 나프탈렌계 광증감 조제의 함유량이 많아지면, 저온 보관시에 석출되는 등의 문제가 생기기 때문에, 그 함유량은, 경화성 성분(A)의 합계량 100 질량부에 대하여 5 질량부 이하로 하는 것이 바람직하다. 나프탈렌계 광증감 조제의 함유량은, 바람직하게는, 경화성 성분(A)의 합계량 100 질량부에 대하여 3 질량부 이하이다.

(첨가제 성분(E))

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물에는, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 한, 임의 성분인 다른 성분으로서, 첨가제 성분(E)을 함유시킬 수 있다. 첨가제 성분(E)으로는, 이온 트랩제, 산화 방지제, 광안정제, 연쇄 이동제, 점착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 조정제, 가소제, 소포제, 레벨링제, 색소, 유기 용제 등을 들 수 있다.

첨가제 성분(E)을 함유시키는 경우, 그 함유량은, 경화성 성분(A)의 합계량 100 질량부에 대하여 10 질량부 이하인 것이 바람직하다.

상기 광양이온 중합 개시제(B), 광증감제(C), 광증감 조제(D) 및 첨가제 성분(E)은, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 조제시에, 용제를 포함하지 않는 상태로 첨가해도 좋고, 용제에 희석하고 나서 직접 첨가해도 좋다. 상기 함유량의 수치 범위는, 모두 고형분 기준에서의 수치 범위이다.

본 발명의 한 양태로서, 제1 경화물층을 형성하는 활성 에너지선 경화성 조성물은, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)을 함유하는 조성물인 것이 바람직하다.

활성 에너지선 경화성 조성물이, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)을 함유하는 경우, 옥세탄 화합물(A5)을 더 포함하는 것이 바람직하고, 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)을 포함하는 것이 보다 바람직하고, 2작용 옥세탄 화합물을 포함하는 것이 더욱 바람직하다.

활성 에너지선 경화성 조성물이, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)과 옥세탄 화합물(A5)을 포함하는 경우, 지환식 에폭시 화합물(A1) 및 다작용 지방족 에폭시 화합물(A2)(3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)을 제외함)에서 선택되는 적어도 어느 1종을 더 포함하는 것이 바람직하다.

활성 에너지선 경화성 조성물이, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)과 옥세탄 화합물(A5)을 포함하는 경우, 옥세탄 화합물(A5)의 함유량은 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)의 함유량보다 많다. 활성 에너지선 경화성 조성물이, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)과 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)을 포함하는 경우, 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)의 함유량은 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)의 함유량보다 많은 것이 바람직하다. 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)과 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)의 함유비(질량비)가, 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)/3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)=1.1/1∼5/1인 것이 바람직하고, 1.5/1∼5/1인 것이 보다 바람직하고, 2/1∼5/1인 것이 더욱 바람직하다. 상기 범위이면, 고가교 밀도의 경화막이 얻어지기 쉬워지므로, 요오드 이행량을 억제할 수 있다.

활성 에너지선 경화성 조성물이, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)과 옥세탄 화합물(A5)을 포함하는 경우, 옥세탄 화합물(A5)의 함유량은, 경화성 성분(A)의 총질량을 기준으로 35 질량% 이상인 것이 바람직하고, 80 질량% 이하인 것이 바람직하고, 75 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 70 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.

활성 에너지선 경화성 조성물이, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)과 옥세탄 화합물(A5)을 포함하는 경우, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)의 함유량은, 경화성 성분(A)의 총질량을 기준으로 1 질량% 이상인 것이 바람직하고, 5 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 35 질량% 미만인 것이 바람직하고, 30 질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.

(점도)

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 점도로는, 여러가지 방법으로 도공할 수 있는 점도를 갖는 것이면 되지만, 그 온도 25℃에서의 점도는, 예컨대 200 mPa·s 이하일 수 있고, 바람직하게는 0.1 mPa·s 이상 180 mPa·s 이하이다. 그 점도가 너무 작으면, 원하는 두께로 층을 형성하기 어려워지는 경향이 있다. 한편, 그 점도가 너무 크면, 유동하기 어려워져, 얼룩이 없는 균질한 도막을 얻기 어려워지는 경향이 있다. 여기서 말하는 점도는, E형 점도계를 이용하여 그 접착제를 25℃로 온도 조절한 후, 10 rpm으로 측정되는 값이다.

(경화 방법)

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은, 전자선 경화형, 자외선 경화형의 양태로 이용할 수 있다. 본 명세서에서 활성 에너지선이란, 활성종을 발생시키는 화합물을 분해하여 활성종을 발생시킬 수 있는 에너지선으로 정의된다. 이러한 활성 에너지선으로는, 가시광, 자외선, 적외선, X선, α선, β선, γ선 및 전자선 등을 들 수 있다.

전자선 경화형에 있어서, 전자선의 조사 조건은, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 경화할 수 있는 조건이라면, 임의의 적절한 조건을 채용할 수 있다. 예컨대, 전자선 조사는, 가속 전압이 바람직하게는 5 kV 이상 300 kV 이하이고, 더욱 바람직하게는 10 kV 이상 250 kV 이하이다. 가속 전압이 5 kV 미만인 경우, 전자선이 접착제까지 닿지 않고 경화가 부족해질 우려가 있고, 가속 전압이 300 kV를 넘으면, 시료를 통과하는 침투력이 지나치게 강하여 전자선이 반동하여, 투명 보호 필름이나 편광자에 손상을 줄 우려가 있다. 조사선량으로는, 5 kGy 이상 100 kGy 이하, 더욱 바람직하게는 10 kGy 이상 75 kGy 이하이다. 조사선량이 5 kGy 미만인 경우는, 접착제가 경화가 부족해지고, 100 kGy를 넘으면, 광학층에 손상을 주어, 기계적 강도의 저하나 황변이 생겨, 원하는 광학 특성을 얻을 수 없다.

전자선 조사는, 통상, 불활성 가스 중에서 조사를 행하지만, 필요하다면 대기중이나 산소를 조금 도입한 조건으로 행해도 좋다. 산소를 적절하게 도입함으로써, 처음에 전자선이 닿는 광학층에 일부러 산소 저해를 생기게 하여, 다른 광학층에 대한 손상을 방지할 수 있고, 접착제에만 효율적으로 전자선을 조사시킬 수 있다.

자외선 경화형에 있어서, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 광조사 강도는, 접착제의 조성마다 결정되는 것이며 특별히 한정되지 않지만, 10 mW/㎠ 이상 1,000 mW/㎠ 이하인 것이 바람직하다. 수지 조성물에 대한 광조사 강도가 10 mW/㎠ 미만이면 반응 시간이 지나치게 길어지고, 1,000 mW/㎠을 넘으면, 광원으로부터 복사되는 열 및 조성물의 중합시의 발열에 의해, 접착제의 구성 재료의 황변이 생길 가능성이 있다. 한편, 조사 강도는, 바람직하게는 광양이온 중합 개시제(B)의 활성화에 유효한 파장 영역에서의 강도이며, 보다 바람직하게는 파장 400 nm 이하의 파장 영역에서의 강도이며, 더욱 바람직하게는 파장 280 nm 이상 320 nm 이하의 파장 영역에서의 강도이다. 이러한 광조사 강도로 1회 혹은 복수회 조사하여, 그 적산광량을, 바람직하게는 10 mJ/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 100 mJ/㎠ 이상 1,000 mJ/㎠ 이하가 되도록 설정한다. 상기 접착제에 대한 적산광량이 10 mJ/㎠ 미만이면, 중합 개시제 유래의 활성종의 발생이 충분하지 않아, 접착제의 경화가 불충분해진다. 한편 그 적산광량이 1,000 mJ/㎠을 넘으면, 조사 시간이 길어져, 생산성 향상에는 불리한 것이 된다. 이 때, 제1 위상차층(30) 및 제2 위상차층(40)의 종류나 접착제종의 조합 등에 의해, 파장 영역(UVA(320 nm 이상 390 nm 이하)이나 UVB(280 nm 이상 320 nm 이하) 등) 및 그 적산광량을 적절하게 설정할 수 있다.

본 발명에서의 활성 에너지선의 조사에 의해 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 중합 경화를 행하기 위해 이용하는 광원은, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 할로겐 램프, 카본 아크등, 텅스텐 램프, 갈륨 램프, 엑시머 레이저, 파장 범위 380 nm 이상 440 nm 이하를 발광하는 LED 광원, 케미컬 램프, 블랙라이트 램프, 마이크로웨이브 여기 수은등, 메탈할라이드 램프를 들 수 있다. 에너지의 안정성이나 장치의 간편성이라고 하는 관점에서, 파장 400 nm 이하에 발광 분포를 갖는 자외 광원인 것이 바람직하다.

(제1 경화물층의 저장 탄성률)

제1 경화물층의, 온도 80℃에서의 저장 탄성률(E₁)은, 도전층의 부식 억제의 관점에서, 300 MPa 이상인 것이 바람직하고, 500 MPa 이상인 것이 보다 바람직하고, 1000 MPa 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 5000 MPa 이하인 것이 바람직하고, 4000 MPa 이하인 것이 보다 바람직하고, 3500 MPa 이하인 것이 더욱 바람직하다. 한편, 제1 경화물층의 저장 탄성률(E₁)은, 후술하는 실시예의 항에 기재된 방법에 의해 측정된다.

제1 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률(E₁)과 후술하는 제2 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률(E₂)은, 부식을 억제 및 내구성 시험시의 크랙 발생 억제의 관점에서, E₁>E₂의 관계를 만족시키는 것이 바람직하고, E₁-E₂=ΔE로 하면, ΔE가 2000 MPa 이하인 것이 보다 바람직하고, 1500 MPa 이하인 것이 더욱 바람직하다.

제1 경화물층의 온도 30℃에서의 저장 탄성률과, 온도 80℃에서의 저장 탄성률의 차가 지나치게 크지 않은 것이 바람직하다. 온도 30℃에서의 저장 탄성률과 온도 80℃에서의 저장 탄성률의 차가 지나치게 크면, 금속 부식이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다. 온도 30℃에서의 저장 탄성률과 온도 80℃에서의 저장 탄성률의 차는, 1500 MPa 이하인 것이 바람직하다.

(제1 경화물층의 유리 전이 온도)

제1 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₁)는, 도전층의 부식 억제의 관점에서, 65℃ 이상인 것이 바람직하고, 70℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 75℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 200℃ 이하인 것이 바람직하고, 150℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 120℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 제1 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₁)는, 후술하는 실시예의 항에 기재된 방법에 의해 측정된다.

(제1 경화물층의 투습도)

제1 경화물층의 온도 80℃에서의 투습도는, 금속 부식을 억제하는 관점에서는 낮은 것이 바람직하다. 두께 30 μm의 제1 경화층은, JIS Z 0208에 규정되는 컵법에 의해, 온도 80℃, 상대 습도 90%의 조건하에 측정되는 투습도가, 바람직하게는 1500 g/(㎡·24hr) 이하, 보다 바람직하게는 1000 g/(㎡·24hr) 이하, 더욱 바람직하게는 950 g/(㎡·24hr) 이하이다. 상기 투습도는 통상 100 g/(㎡·24hr) 이상이다.

제1 경화막의 투습도 J는, 구체적으로는, 투습도가 이미 알려진 기재 필름 등에 제1 경화물층을 형성한 적층체(예컨대 20 μm의 트리아세틸셀룰로오스 필름/5 μm의 점착제층/두께 30 μm의 제1 경화물층의 적층체)를 제작하여 상기 적층체의 투습도를 상기 방법으로 측정하고, 측정 결과를 이용하여 하기 식에 기초하여 구할 수 있다.

1/Jt=(1/J)+(1/Jsub)

상기 식 중, Jt는 상기 적층체의 투습도이며, Jsub는 적층체로부터 제1 경화물층을 제거한 층구성에서의 투습도이다. JIS Z 0208에 따라서 적층체의 투습도를 측정할 때, 적층체는 상기 경화막을 외측을 향해 컵에 부착된다.

예컨대, 20 μm의 트리아세틸셀룰로오스 필름/5 μm의 점착제층/두께 30 μm의 제1 경화물층의 층구성을 갖는 적층체는, JIS Z 0208에 규정되는 컵법에 의해, 온도 80℃, 상대 습도 90%의 조건하에 측정되는 투습도가, 바람직하게는 1000 g/(㎡·24hr) 이하이고, 보다 바람직하게는 950 g/(㎡·24hr) 이하이다. 상기 투습도는 통상 100 g/(㎡·24hr) 이상이다.

(위상차층)

본 발명의 광학 적층체는, 중합성 액정 화합물의 중합체인 위상차 발현층을 적어도 하나 갖는 위상차층(20)을 포함한다. 위상차층(20)은, 광에 소정의 위상차를 부여하는 위상차 발현층을 적어도 하나 포함하는 위상차층이라면 특별히 한정되지 않고, 예컨대 1/2 파장층, 1/4 파장층, 포지티브 C 플레이트 등의 광학 보상층이어도 좋다. 위상차층은, 정분산성의 위상차층이라 하더라도, 역파장 분산성의 위상차층이어도 좋다. 위상차층(20)은, 위상차 발현층을 적어도 하나 포함하는 것이라면, 위상차 발현층만으로 이루어진 것이어도 좋고, 위상차 발현층과 함께 다른 층을 포함하는 것이어도 좋다. 다른 층으로는, 예컨대, 기재층, 배향막층, 보호층 등을 들 수 있다. 한편, 다른 층은 위상차의 값에는 영향을 미치지 않는다. 또한, 위상차층(20)은, 제1 위상차층(30)과 제2 위상차층(40)의 2층으로 구성되어 있어도 좋다. 이하, 제1 위상차층(30) 및 제2 위상차층(40)이 후술하는 제2 경화물층(50)을 통해 접착된 적층체를 위상차층 적층체(60)라고도 한다.

위상차 발현층으로는, 중합성 액정 화합물의 중합체를 포함하는 층(이하, 액정층이라고도 함) 또는 연신 필름을 들 수 있다. 제1 위상차층(30) 및 제2 위상차층(40)의 적어도 한쪽은 액정층인 것이 바람직하다. 제1 위상차층(30)이 액정층인 경우, 제1 위상차층(30)은 제2 경화물층(50)측의 표면이 위상차 발현층인 액정층인 것이 바람직하다. 제2 위상차층(40)이 액정층인 경우, 제2 위상차층(40)은 제2 경화물층(50)측의 표면이 위상차 발현층인 액정층인 것이 바람직하다. 액정층인 위상차 발현층이 연신 필름인 위상차 발현층보다, 일반적으로 박막화가 용이하다.

제1 위상차층(30) 및 제2 위상차층(40)의 적어도 한쪽은, 파장 320 nm에서의 광선 투과율이, 밀착성의 관점에서 바람직하게는 5% 이상이고, 보다 바람직하게는 10% 이상이고, 더욱 바람직하게는 30% 이상이다. 광선 투과율은 후술하는 실시예의 란에서 설명하는 측정 방법에 따라서 측정할 수 있다.

제1 위상차층(30) 및 제2 위상차층(40)의 적어도 한쪽은, 바람직하게는, 파장 380 nm에서의 광선 투과율이 0% 이상 10% 이하이고, 또한, 파장 400 nm에서의 광선 투과율이 30% 이상이고, 보다 바람직하게는, 파장 380 nm에서의 광선 투과율이 0% 이상 5% 이하이고, 또한, 파장 400 nm에서의 광선 투과율이 35% 이상이고, 더욱 바람직하게는, 파장 380 nm에서의 광선 투과율이 0% 이상 1% 이하이고, 또한, 파장 400 nm에서의 광선 투과율이 40% 이상이다.

제1 위상차층(30) 및 제2 위상차층(40)이 각각 위상차 발현층만으로 이루어진 경우는, 각각의 두께가 0.5 μm 이상 10 μm 이하인 것이 바람직하고, 0.5 μm 이상 5 μm 이하인 것이 보다 바람직하다.

제1 위상차층(30) 및 제2 위상차층(40)이 각각 위상차 발현층 이외의 다른 층(기재층, 배향막층, 보호층 등)을 포함하는 경우, 전체 두께가 0.5 μm 이상 300 μm 이하인 것이 바람직하고, 0.5 μm 이상 150 μm 이하인 것이 보다 바람직하다.

제1 위상차층(30)과 제2 위상차층(40)의 조합으로는, 예컨대,

i) 1/2 파장층과 1/4 파장층의 조합,

ii) 1/2 파장층과 광학 보상층의 조합,

iii) 1/4 파장층과 광학 보상층의 조합,

등을 들 수 있다.

i)의 경우, 제1 위상차층(30)이 1/2 파장층이며, 제2 위상차층(40)이 1/4 파장층인 것이 바람직하다.

ii)의 경우, 제1 위상차층(30)이 1/2 파장층이며, 제2 위상차층(40)이 광학 보상층인 것이 바람직하고, 제1 위상차층(30)이 1/2 파장층이며, 제2 위상차층(40)이 포지티브 C 플레이트인 것이 보다 바람직하다.

iii)의 경우, 제1 위상차층(30)이 1/4 파장층이며, 제2 위상차층(40)이 광학 보상층인 것이 바람직하고, 제1 위상차층(30)이 1/4 파장층이며, 제2 위상차층(40)이 포지티브 C 플레이트인 것이 보다 바람직하다.

1/2 파장층은, 입사광의 전계 진동 방향(편광면)에 π(=λ/2)의 위상차를 부여하는 것이며, 직선 편광의 방향(편광 방위)을 바꾸는 기능을 갖고 있다. 또한, 원편광의 광을 입사시키면, 원편광의 회전 방향을 반대 방향으로 할 수 있다.

1/2 파장층은, 특정한 파장 λ nm에서의 면내 리타데이션값인 Re(λ)가 Re(λ)=λ/2를 만족시키는 층이다. 가시광 영역의 어느 파장에서 Re(λ)=λ/2가 달성되어 있으면 되지만, 그 중에서도 파장 550 nm에서 달성되는 것이 바람직하다. 파장 550 nm에서의 면내 리타데이션값인 Re(550)는, 210 nm≤Re(550)≤300 nm을 만족시키는 것이 바람직하다. 또한, 220 nm≤Re(550)≤290 nm을 만족시키는 것이 보다 바람직하다.

1/4 파장층은, 입사광의 전계 진동 방향(편광면)에 π/2(=λ/4)의 위상차를 부여하는 것이며, 어떤 특정한 파장의 직선 편광을 원편광으로(또는 원편광을 직선 편광으로) 변환하는 기능을 갖고 있다.

1/4 파장층은, 특정한 파장 λ nm에서의 면내 리타데이션값인 Re(λ)가 Re(λ)=λ/4를 만족시키는 층이며, 가시광 영역의 어느 파장에서 달성되어 있으면 되지만, 그 중에서도 파장 550 nm에서 달성되는 것이 바람직하다. 파장 550 nm에서의 면내 리타데이션값인 Re(550)가, 100 nm≤Re(550)≤160 nm을 만족시키는 것이 바람직하다. 또한, 110 nm≤Re(550)≤150 nm을 만족시키는 것이 보다 바람직하다.

광학 보상층으로는, 예컨대, 포지티브 A 플레이트, 포지티브 C 플레이트 등을 들 수 있다. 포지티브 A 플레이트는, 그 면내에서의 지상축 방향의 굴절률을 Nx, 그 면내에서의 진상축 방향의 굴절률을 Ny, 그 두께 방향에서의 굴절률을 Nz로 했을 때에, Nx>Ny의 관계를 만족시키는 것이다. 포지티브 A 플레이트는 Nx>Ny≥Nz의 관계를 만족시키는 것이 바람직하다. 또한, 포지티브 A 플레이트는 1/4 파장층으로서도 기능할 수 있다. 포지티브 C 플레이트는 Nz>Nx≥Ny의 관계를 만족시키는 것이다.

역파장 분산성이란, 단파장에서의 면내 리타데이션값이 장파장에서의 면내 리타데이션값보다 작아지는 광학 특성이며, 바람직하게는, 하기 식 (2) :

Re(450)≤Re(550)≤Re(650) (2)

를 만족시키는 것이다. 또, Re(λ)는 파장 λ nm의 광에 대한 면내 리타데이션값을 나타낸다.

위상차층의 광학 특성은, 위상차 발현층을 구성하는 액정 화합물의 배향 상태, 또는 위상차 발현층을 구성하는 연신 필름의 연신 방법에 의해 조절할 수 있다. 위상차층의 광학 특성을 적절하게 조절하는 것에 의해, 위상차층 적층체와 직선 편광판을 적층하여, 반사 방지 성능을 갖는 편광판 복합체를 얻을 수 있다.

(액정층으로 형성되는 위상차 발현층)

위상차 발현층이 액정층인 경우에 관해 설명한다. 도 2는, 액정층인 위상차 발현층과 다른 층을 포함하는 위상차층의 일례를 모식적으로 나타내는 개략 단면도이다. 도 2에 나타내는 제1 위상차층(30)은, 기재층(31), 배향층(32), 액정층인 위상차 발현층(33)이 이 순으로 적층되어 이루어진다. 위상차층은, 액정층인 위상차 발현층(33)을 포함하는 구성이라면 도 2에 나타내는 제1 위상차층(30)에 한정되지는 않고, 제1 위상차층(30)으로부터 기재층(31)이 박리되어 배향층(32)과 위상차 발현층(33)만으로 이루어진 구성이어도 좋고, 제1 위상차층(30)으로부터 기재층(31)과 배향층(32)이 박리되어 액정층의 위상차 발현층(33)만으로 이루어진 구성이어도 좋다. 박막화의 관점에서, 위상차층은, 기재층(31)이 박리되어 있는 구성인 것이 바람직하고, 액정층의 위상차 발현층(33)만으로 이루어진 구성이 더욱 바람직하다. 기재층(31)은, 기재층(31) 상에 형성되는 배향층(32), 및 액정층의 위상차 발현층(33)을 지지하는 지지층으로서 기능을 갖는다. 기재층(31)은, 수지 재료로 형성된 필름인 것이 바람직하다.

수지 재료로는, 예컨대, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 연신성 등이 우수한 수지 재료가 이용된다. 구체적으로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지; 노르보넨계 폴리머 등의 고리형 폴리올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴산, 폴리(메트)아크릴산메틸 등의 (메트)아크릴산계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르계 수지; 폴리비닐알콜 및 폴리아세트산비닐 등의 비닐알콜계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아릴레이트계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리이미드계 수지; 폴리에테르케톤계 수지; 폴리페닐렌술피드계 수지; 폴리페닐렌옥사이드계 수지 및 이들의 혼합물, 공중합물 등을 들 수 있다. 이들 수지 중, 고리형 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지 및 (메트)아크릴산계 수지의 어느 것 또는 이들의 혼합물을 이용하는 것이 바람직하다. 여기서 상기 「(메트)아크릴산」이란, 「아크릴산 및 메타크릴산의 적어도 1종」을 의미한다.

기재층(31)은, 상기 수지 1종류 또는 2종 이상을 혼합한 단층이어도 좋고, 2층 이상의 다층 구조를 갖고 있어도 좋다. 다층 구조를 갖는 경우, 각 층을 이루는 수지는 동일해도 좋고 상이해도 좋다.

수지 필름을 이루는 수지 재료에는 임의의 첨가제가 첨가되어 있어도 좋다. 첨가제로는, 예컨대, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료 및 착색제 등을 들 수 있다.

기재층(31)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는 강도나 취급 성 등의 작업성의 점에서 5 μm 이상 200 μm 이하인 것이 바람직하고, 10 μm 이상 200 μm 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 μm 이상 150 μm 이하인 것이 더욱 바람직하다.

기재층(31)과 배향층(32)의 밀착성을 향상시키기 위해, 적어도 기재층(31)의 배향층(32)이 형성되는 측의 표면에 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등을 행해도 좋고, 프라이머층 등을 형성해도 좋다. 또한, 기재층(31), 또는 기재층(31) 및 배향층(32)을 박리하여 위상차층으로 하는 경우에는, 박리 계면에서의 밀착력을 조정함으로써 박리를 용이하게 할 수 있다.

배향층(32)은, 이들 배향층(32) 상에 형성되는 액정층인 위상차 발현층(33)에 포함되는 액정 화합물을 원하는 방향으로 액정 배향시키는 배향 규제력을 갖는다. 배향층(32)으로는, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층, 광배향 폴리머로 형성된 광배향 폴리머층, 층 표면에 요철 패턴이나 복수의 그루브(홈)를 갖는 그루브 배향층을 들 수 있다. 배향층(32)의 두께는 통상 0.01 μm 이상 10 μm 이하이고, 0.01 μm 이상 5 μm 이하인 것이 바람직하다.

배향성 폴리머층은, 배향성 폴리머를 용제에 용해한 조성물을 기재층(31)에 도포하여 용제를 제거하고, 필요에 따라서 러빙 처리를 하여 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층에서는, 배향성 폴리머의 표면 상태나 러빙 조건에 따라 임의로 조정하는 것이 가능하다.

광배향 폴리머층은, 광반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 조성물을 기재층(31)에 도포하고, 편광을 조사함으로써 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 광배향 폴리머층에서는, 광배향 폴리머에 대한 편광 조사 조건 등에 따라 임의로 조정하는 것이 가능하다.

그루브 배향층은, 예컨대 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 통해 노광, 현상 등을 행하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판형의 원반에, 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화층을 형성하고, 이 층을 기재층(31)에 전사하여 경화하는 방법, 기재층(31)에 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화층을 형성하고, 이 층에, 요철을 갖는 롤형의 원반을 대고 누르는 등에 의해 요철을 형성하여 경화시키는 방법 등에 의해 형성할 수 있다.

액정층인 위상차 발현층(33)은, 광에 소정의 위상차를 부여하는 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 예컨대, 1/2 파장층용의 위상차 발현층, 1/4 파장층용의 위상차 발현층, 포지티브 C 플레이트 등의 광학 보상층용의 위상차 발현층, 역파장 분산성 1/4 파장층용의 위상차 발현층으로서 기능하는 것을 들 수 있다.

액정층인 위상차 발현층(33)은 공지된 액정 화합물을 이용하여 형성할 수 있다. 액정 화합물의 종류는 특별히 한정되지 않고, 막대형 액정 화합물, 원반형 액정 화합물 및 이들의 혼합물을 이용할 수 있다. 또한, 액정 화합물은 고분자 액정 화합물이어도 좋고, 중합성 액정 화합물이어도 좋고, 이들의 혼합물이어도 좋다. 액정 화합물로는 예컨대 일본 특허 공표 평11-513019호 공보, 일본 특허 공개 2005-289980호 공보, 일본 특허 공개 2007-108732호 공보, 일본 특허 공개 2010-244038호 공보, 일본 특허 공개 2010-31223호 공보, 일본 특허 공개 2010-270108호 공보, 일본 특허 공개 2011-6360호 공보, 일본 특허 공개 2011-207765호 공보, 일본 특허 공개 2016-81035호 공보, 국제 공개 제2017/043438호 및 일본 특허 공표 2011-207765호 공보에 기재된 액정 화합물을 들 수 있다.

예컨대, 중합성 액정 화합물을 이용하는 경우에는, 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을, 배향층(32) 상에 도포하여 도막을 형성하고, 이 도막을 경화시킴으로써 위상차 발현층(33)을 형성할 수 있다. 위상차 발현층(33)의 두께는 0.5 μm 이상 10 μm 이하인 것이 바람직하고, 0.5 μm 이상 5 μm 이하인 것이 더욱 바람직하다.

중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물은, 액정 화합물 이외에, 중합 개시제, 중합성 모노머, 계면 활성제, 용제, 밀착 개량제, 가소제, 배향제 등이 포함되어 있어도 좋다. 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물의 도포 방법으로는 다이코팅법 등의 공지된 방법을 들 수 있다. 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물의 경화 방법으로는, 활성 에너지선(예컨대 자외선)을 조사하는 등의 공지된 방법을 들 수 있다.

(연신 필름을 위상차 발현층으로서 구비하는 위상차층)

위상차 발현층이 연신 필름인 경우에 관해 설명한다. 연신 필름은 통상 기재를 연신함으로써 얻어진다. 기재를 연신하는 방법으로는, 예컨대, 기재가 롤에 권취되어 있는 롤(권취체)을 준비하고, 이러한 권취체로부터 기재를 연속적으로 풀어내고, 풀어낸 기재를 가열로로 반송한다. 가열로의 설정 온도는, 기재의 유리 전이 온도 근방(℃)∼[유리 전이 온도+100](℃)의 범위, 바람직하게는 유리 전이 온도 근방(℃)∼[유리 전이 온도+50](℃)의 범위로 한다. 상기 가열로에서는, 기재의 진행 방향으로 또는 진행 방향과 직교하는 방향으로 연신할 때에, 반송 방향이나 장력을 조정하여 임의의 각도로 경사를 붙여 일축 또는 이축의 열연신 처리를 행한다. 연신의 배율은 통상 1.1∼6배이고, 바람직하게는 1.1∼3.5배이다.

또한, 경사 방향으로 연신하는 방법으로는, 연속적으로 배향축을 원하는 각도로 경사시킬 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 공지된 연신 방법을 채용할 수 있다. 이러한 연신 방법은 예컨대 일본 특허 공개 소50-83482호 공보나 일본 특허 공개 평2-113920호 공보에 기재된 방법을 들 수 있다. 연신함으로써 필름에 위상차성을 부여하는 경우, 연신 후의 두께는 연신전의 두께나 연신 배율에 의해 결정된다.

상기 기재는 통상 투명 기재이다. 투명 기재란, 광, 특히 가시광을 투과할 수 있는 투명성을 갖는 기재를 의미하며, 투명성이란, 파장 380 nm 이상 780 nm 이하에 걸친 광선에 대한 투과율이 80% 이상이 되는 특성을 말한다. 구체적인 투명 기재로는 투광성 수지 기재를 들 수 있다. 투광성 수지 기재를 구성하는 수지로는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀; 노르보넨계 폴리머 등의 고리형 올레핀계 수지; 폴리비닐알콜; 폴리에틸렌테레프탈레이트; 폴리메타크릴산에스테르; 폴리아크릴산에스테르; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르; 폴리에틸렌나프탈레이트; 폴리카보네이트; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리에테르케톤; 폴리페닐렌술피드 및 폴리페닐렌옥사이드를 들 수 있다. 입수 용이성이나 투명성의 관점에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리메타크릴산에스테르, 셀룰로오스에스테르, 고리형 올레핀계 수지 또는 폴리카보네이트가 바람직하다.

셀룰로오스에스테르는 셀룰로오스에 포함되는 수산기의 일부 또는 전부가 에스테르화된 것이며, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 또한, 셀룰로오스에스테르 기재도 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 시판하는 셀룰로오스에스테르 기재로는 예컨대 "후지태크(등록상표) 필름"(후지 필름(주)); "KC8UX2M", "KC8UY" 및 "KC4UY"(코니카 미놀타옵트(주)) 등을 들 수 있다.

폴리메타크릴산에스테르 및 폴리아크릴산에스테르(이하, 폴리메타크릴산에스테르 및 폴리아크릴산에스테르를 합하여 (메트)아크릴계 수지라고 하는 경우가 있다.

(메트)아크릴계 수지로는, 예컨대, 메타크릴산알킬에스테르 또는 아크릴산알킬에스테르의 단독 중합체나, 메타크릴산알킬에스테르와 아크릴산알킬에스테르의 공중합체 등을 들 수 있다. 메타크릴산알킬에스테르로서 구체적으로는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 프로필메타크릴레이트 등을, 또한 아크릴산알킬에스테르로서 구체적으로는 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 프로필아크릴레이트 등을 각각 들 수 있다. 이러한 (메트)아크릴계 수지에는, 범용의 (메트)아크릴계 수지로서 시판되고 있는 것을 사용할 수 있다. (메트)아크릴계 수지로서, 내충격 (메트)아크릴 수지라고 불리는 것을 사용해도 좋다.

한층 더 기계적 강도를 향상시키기 위해 (메트)아크릴계 수지에 고무 입자를 함유시키는 것도 바람직하다. 고무 입자는 아크릴계인 것이 바람직하다. 여기서, 아크릴계 고무 입자란, 부틸아크릴레이트나 2-에틸헥실아크릴레이트와 같은 아크릴산알킬에스테르를 주성분으로 하는 아크릴계 모노머를, 다작용 모노머의 존재하에 중합시켜 얻어지는 고무 탄성을 갖는 입자이다. 아크릴계 고무 입자는, 이러한 고무 탄성을 갖는 입자가 단층으로 형성된 것이어도 좋고, 고무 탄성층을 적어도 1층 갖는 다층 구조체이어도 좋다. 다층 구조의 아크릴계 고무 입자로는, 상기와 같은 고무 탄성을 갖는 입자를 핵으로 하고, 그 주위를 경질의 메타크릴산알킬에스테르계 중합체로 덮은 것, 경질의 메타크릴산알킬에스테르계 중합체를 핵으로 하고, 그 주위를 상기와 같은 고무 탄성을 갖는 아크릴계 중합체로 덮은 것, 또한 경질의 핵의 주위를 고무 탄성의 아크릴계 중합체로 덮고, 그 주위를 경질의 메타크릴산알킬에스테르계 중합체로 더 덮은 것 등을 들 수 있다. 탄성층으로 형성되는 고무 입자는, 그 평균 직경이 통상 50 nm 이상 400 nm 이하의 범위에 있다.

(메트)아크릴계 수지에서의 고무 입자의 함유량은, (메트)아크릴계 수지 100 질량부당 통상 5 질량부 이상 50 질량부 이하이다. (메트)아크릴계 수지 및 아크릴계 고무 입자는, 이들을 혼합한 상태에서 시판되고 있기 때문에, 그 시판품을 이용할 수 있다. 아크릴계 고무 입자가 배합된 (메트)아크릴계 수지의 시판품의 예로서, 스미또모 화학(주)에서 판매하고 있는 "HT55X"나 "테크놀로이 S001" 등을 들 수 있다. "테크놀로이 S001"은 필름의 형태로 판매되고 있다.

고리형 올레핀계 수지는 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 시판하는 고리형 올레핀계 수지로는 "Topas"(등록상표)[Ticona사(독일)], "아톤"(등록상표)[JSR(주)], "제오노어(ZEONOR)"(등록상표)[닛폰제온(주)], "제오넥스(ZEONEX)"(등록상표)[닛폰제온(주)] 및 "아펠"(등록상표)[미쓰이 화학(주)]을 들 수 있다. 이러한 고리형 올레핀계 수지를 예컨대 용제 캐스트법, 용융 압출법 등의 공지된 수단에 의해 제막하여 기재로 할 수 있다. 또한, 시판되고 있는 고리형 올레핀계 수지 기재를 이용할 수도 있다. 시판하는 고리형 올레핀계 수지 기재로는 "에스시나"(등록상표)[세키스이 화학 공업(주)], "SCA40"(등록상표)[세키스이 화학 공업(주)], "제오노어 필름"(등록상표)[옵테스(주)] 및 "아톤 필름"(등록상표)[JSR(주)]을 들 수 있다.

고리형 올레핀계 수지가, 고리형 올레핀과, 쇄형 올레핀이나 비닐기를 갖는 방향족 화합물과의 공중합체인 경우, 고리형 올레핀에 유래하는 구조 단위의 함유 비율은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여, 통상 50 몰% 이하, 바람직하게는 15 몰% 이상 50 몰% 이하의 범위이다. 쇄형 올레핀으로는 에틸렌 및 프로필렌을 들 수 있고, 비닐기를 갖는 방향족 화합물로는 스티렌, α-메틸스티렌 및 알킬 치환 스티렌을 들 수 있다. 고리형 올레핀계 수지가, 고리형 올레핀과, 쇄형 올레핀과, 비닐기를 갖는 방향족 화합물의 삼원 공중합체인 경우, 쇄형 올레핀에 유래하는 구조 단위의 함유 비율은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여 통상 5 몰% 이상 80 몰% 이하이고, 비닐기를 갖는 방향족 화합물에 유래하는 구조 단위의 함유 비율은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여 통상 5 몰% 이상 80 몰% 이하이다. 이러한 삼원 공중합체는, 그 제조에 있어서, 고가의 고리형 올레핀의 사용량을 비교적 적게 할 수 있다고 하는 이점이 있다.

(제2 경화물층)

위상차층이 제1 위상차층(30)과 제2 위상차층(40)의 위상차 적층체(60)로 이루어진 경우, 제2 경화물층(50)은 제1 위상차층(30) 및 제2 위상차층(40)을 접착하기 위해 배치될 수 있다. 제2 경화물층(50)의 두께는, 예컨대 20 μm 이하일 수 있고, 바람직하게는 10 μm 이하이고, 보다 바람직하게는 5 μm 이하이다. 제2 경화물층(50)의 두께는, 예컨대 0.5 μm 이상일 수 있다.

제2 경화물층(50)은, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 경화물을 포함한다. 제2 경화물층(50)에 이용하는 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물에 관해서는, 상기 제1 경화물층(14)에서의 설명이 적용된다. 제2 경화물층(50)에 이용하는 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은 광증감제 및 광증감 조제를 모두 함유하지 않아도 좋다.

제2 경화물층(50)에 포함되는 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은, 제1 경화물층(14)에 포함되는 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물과 동일 또는 상이한 종류일 수 있다. 제2 경화물층(50)은, 양이온 중합성 접착제 조성물의 경화물층인 것이 바람직하다.

(제2 경화물층의 저장 탄성률)

제2 경화물층의 온도 30℃에서의 저장 탄성률은, 가공시의 위상차 크랙 억제의 관점에서, 300 MPa 이상인 것이 바람직하고, 500 MPa 이상인 것이 보다 바람직하고, 1000 MPa 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 5000 MPa 이하인 것이 바람직하고, 4000 MPa 이하인 것이 보다 바람직하고, 3500 MPa 이하인 것이 더욱 바람직하다. 한편, 제2 경화물층의 저장 탄성률은, 후술하는 실시예의 항에 기재된 방법에 의해 측정된다.

제2 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률(E₂)은, 도전층의 부식 억제의 관점에서, 20 MPa 이상인 것이 바람직하고, 30 MPa 이상인 것이 보다 바람직하고, 40 MPa 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 100 MPa 이하인 것이 바람직하고, 90 MPa 이하인 것이 보다 바람직하고, 80 MPa 이하인 것이 더욱 바람직하다. 한편, 제2 경화물층의 저장 탄성률(E₂)은, 후술하는 실시예의 항에 기재된 방법에 의해 측정된다.

(제2 경화물층의 유리 전이 온도)

제2 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₂)는, 가공시의 위상차 크랙 억제의 관점에서, 200℃ 이하인 것이 바람직하고, 150℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 120℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 40℃ 이상인 것이 바람직하고, 50℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 60℃ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 70℃ 이상인 것이 특히 바람직하다. 제2 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₂)는, 후술하는 실시예의 항에 기재된 방법에 의해 측정된다.

(점착제층)

적층체(100)는, 위상차층(20)의 제1 경화물층(14)과는 반대측에 점착제층(70)을 갖는다. 점착제층은, (메트)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물로 구성할 수 있다. 그 중에서도, 투명성, 내후성, 내열성 등이 우수한 (메트)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 적합하다. 점착제 조성물은, 활성 에너지선 경화형, 열경화형이어도 좋다. 점착제층의 두께는, 통상 3 μm 이상 30 μm 이하이고, 바람직하게는 3 μm 이상 25 μm 이하이다.

점착제 조성물에 이용되는 (메트)아크릴계 수지(베이스 폴리머)로는, 예컨대, (메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실과 같은 (메트)아크릴산에스테르의 1종 또는 2종 이상을 모노머로 하는 중합체 또는 공중합체가 적합하게 이용된다. 베이스 폴리머에는, 극성 모노머를 공중합시키는 것이 바람직하다. 극성 모노머로는, 예컨대, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산 2-히드록시프로필, (메트)아크릴산히드록시에틸, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트와 같은 카르복실기, 수산기, 아미드기, 아미노기, 에폭시기 등을 갖는 모노머를 들 수 있다.

점착제 조성물은, 상기 베이스 폴리머만을 포함하는 것이어도 좋지만, 통상은 가교제를 더 함유한다. 가교제로는, 2가 이상의 금속 이온이며, 카르복실기와의 사이에서 카르복실산금속염을 형성하는 것; 폴리아민 화합물이며, 카르복실기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것; 폴리에폭시 화합물이나 폴리올이며, 카르복실기와의 사이에서 에스테르 결합을 형성하는 것; 폴리이소시아네이트 화합물이며, 카르복실기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것이 예시된다. 그 중에서도, 폴리이소시아네이트 화합물이 바람직하다.

본 발명의 일양태로는, 광학 적층체를 온도 80℃, 상대 습도 90%에 250시간 보관했을 때의, 점착제층 중의 요오드량이 900 mg/kg 이하이다. 점착제층에 포함되는 요오드량은 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다. 요오드량은, 점착제층 중의 요오드 원소의 함유량을 말한다.

점착제층에 포함되는 요오드량이 900 mg/kg 이하이면, 도전층의 부식을 억제할 수 있다. 점착제층에 포함되는 요오드량은, 바람직하게는 800 mg/kg 이하, 보다 바람직하게는 700 mg/kg 이하이다.

(적층체의 제조 방법)

본 발명의 적층체의 제조 방법의 일례에 관해, 도 3을 참조하면서 설명한다. 도 3의 (A)에 도시하는 바와 같이 편광자(13)와 열가소성 수지 필름(11)을 접착제층(12)을 통해 적층된 직선 편광판(10)을 제작한다. 도 3의 (B)에 도시하는 바와 같이 제1 위상차 발현층(31), 제1 배향층(32) 및 제1 기재층(33)을 포함하는 제1 위상차층(30)과, 제2 위상차 발현층(43), 제2 배향층(42) 및 제2 기재층(41)을 포함하는 제2 위상차층(40)을 제2 경화물층(50)을 통해 적층시키고, 도 3의 (C)에 도시하는 바와 같이, 제1 기재층(33), 제1 배향층(32), 제1 위상차 발현층(31), 제2 경화물층(50), 제2 위상차 발현층(43), 제2 배향층(42), 제2 기재층(41)을 이 순으로 적층된 위상차층 적층체(60)를 제작한다. 도 3의 (D)에 도시하는 바와 같이, 직선 편광판(10)의 편광자(13)측과 위상차층 적층체(60)의 제1 위상차층(30)측을 제1 경화물층(14)을 통해 적층시켜 적층체(80)를 얻는다.

편광자(13)와 열가소성 수지 필름(11)을 접착시키는 방법으로는, 편광자(13) 또는 열가소성 수지 필름(11)의 접합면의 어느 한쪽 또는 그 양쪽에 접착제 조성물을 도공하고, 여기에 다른 한쪽의 접합면을 적층하여, 접착제층(12)을 구성하는 접착제 조성물을 경화하는 방법을 들 수 있다.

제1 위상차층(30)과 제2 위상차층(40)을 접착시키는 방법으로는, 제1 위상차층(30)의 접합면 또는 제2 위상차층(40)의 접합면의 어느 한쪽 또는 그 양쪽에 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 도공하고, 여기에 다른 한쪽의 접합면을 적층하여, 제2 경화물층(50)을 구성하는 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화시키는 방법을 들 수 있다. 제2 경화물층(50)을 구성하는 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화하기 위한 활성 에너지선은, 제1 위상차층(30) 및 제2 위상차층(40)의 어느 한쪽 또는 양쪽으로부터 조사할 수 있다.

직선 편광판(10)과 위상차층 적층체(60)를 접착시키는 방법으로는, 직선 편광판(10)의 접합면 또는 위상차층 적층체(60)의 접합면의 어느 한쪽 또는 그 양쪽에 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 도공하고, 여기에 다른 한쪽의 접합면을 적층하여, 제1 경화물층(14)을 구성하는 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화시키는 방법을 들 수 있다. 밀착성의 관점에서 바람직하게는 위상차층 적층체(60)의 접합면에만 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 도공한다. 제1 경화물층(14)을 구성하는 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화하기 위한 활성 에너지선은, 직선 편광판(10) 및 위상차층 적층체(60)의 어느 한쪽 또는 양쪽으로부터 조사할 수 있다.

접합면의 어느 한쪽 또는 그 양쪽에, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등을 행해도 좋고, 프라이머층을 형성해도 좋다. 수계 접착제 조성물 및 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 도공에는, 예컨대, 닥터블레이드, 와이어바, 다이코터, 콤마코터, 그라비아코터 등 여러가지 도공 방식을 이용할 수 있다.

본 발명의 적층체는, 도 3의 (D)에 도시하는 적층체(80)와 점착제층을 포함하는 적층체(제2 위상차층(40)측에 점착제층이 적층되어 있음)이어도 좋다. 또한, 도 3의 (D)에 도시하는 적층체(80)로부터 제1 기재층(33) 및 제2 기재층(41)의 적어도 한쪽의 층을 박리한 적층체와, 점착제층을 포함하는 적층체이어도 좋다. 또한, 도 3의 (D)에 도시하는 적층체(80)로부터 제1 기재층(33) 및 제1 배향층(32)이 박리된 적층체와, 점착제층을 포함하는 적층체이어도 좋고, 도 3의 (D)에 도시하는 적층체(80)로부터 제2 기재층(41) 및 제2 배향층(42)이 박리된 적층체와 점착제층을 포함하는 적층체이어도 좋다.

(도전층)

본 발명의 광학 적층체는, 점착제층(70)측에서, 기판 상에 형성된 도전층에 적층할 수 있다. 도전층으로는, 예컨대 도전성의 투명 금속 산화물층이어도 좋고, 금속층 배선층이어도 좋다.

도전성의 투명 금속 산화물층으로는, 예컨대 ITO(주석 도핑 산화인듐), AZO(알루미늄 도핑 산화아연) 등을 들 수 있다.

금속 배선층을 구성하는 금속은, 예컨대, 알루미늄, 구리, 은, 철, 주석, 아연, 백금, 니켈, 몰리브덴, 크롬, 텅스텐, 납, 티탄, 팔라듐, 인듐 및 이들의 2종 이상의 금속을 함유하는 합금에서 선택되는 적어도 1종의 금속 원소를 포함하는 층이어도 좋다. 이들 중, 도전성의 관점에서, 바람직하게는 알루미늄, 구리, 은 및 금에서 선택되는 적어도 1종의 금속 원소를 포함하는 층이며, 도전성 및 비용의 관점에서, 보다 바람직하게는 알루미늄 원소를 포함하는 층이다. 한편, 구리를 포함하는 층인 경우, 광의 반사를 방지하는 관점에서, 흑화 처리해도 좋다. 흑화 처리란, 도전층의 표면을 산화시켜 Cu₂O 또는 CuO를 석출시키는 것이다.

또한, 도전층은, 예컨대 그라펜, 산화아연 등을 포함하는 층이어도 좋다.

도전층은 예컨대 기판 상에 형성된다. 기판 상에 도전층을 형성하는 방법으로는, 예컨대 스퍼터링법 등을 들 수 있다. 기판은, 터치 입력 소자에 포함되는 액정 셀을 구성하는 투명 기판이어도 좋고, 유리 기판이어도 좋다. 투명 기판은, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르술폰, 고리형 올레핀 코폴리머, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리비닐알콜, 폴리이미드, 폴리스티렌, 이축 연신 폴리스티렌 등으로 형성되어 있어도 좋다. 유리 기판은, 예컨대 소다라임 유리, 저알칼리 유리, 무알칼리 유리 등으로 형성되어 있어도 좋다. 도전층은, 기판의 전면에 형성되어 있어도 좋고, 그 일부에 형성되어 있어도 좋다.

금속 배선층으로는, 예컨대, 세선의 금속 배선층인 메탈 메쉬, 금속 나노 입자, 금속 나노 와이어를 바인더 중에 첨가한 층 등을 들 수 있다. 한편, 메탈 메쉬란, 금속 배선으로 형성된 이차원의 메쉬형 구조를 나타낸다. 메탈 메쉬의 개구부(배선 사이의 개구부 또는 그물코)의 형상은 특별히 한정되지 않고, 예컨대, 다각형(삼각형, 사각형, 오각형, 육각형 등), 원형, 타원형, 부정형이어도 좋고, 각각의 개구부는 동일 또는 상이해도 좋다. 바람직한 양태에서는, 메탈 메쉬의 개구부의 형상은 각각 동일한 형상이며 정방형 또는 직사각형이다.

도전층이 금속 배선층(특히 메탈 메쉬)인 경우, 예컨대 기판 상의 평면의 종횡 방향으로 소정의 간격을 두고 금속 배선을 배치해도 좋다. 이 때, 상기 개구부는 수지(접착제 등)로 충전해도 좋고, 수지(접착제 등) 내에 금속 배선층을 매립해도 좋다. 한편, 수지 등을 이용하는 경우, 도전층은 금속 배선과 수지(접착제)의 양쪽으로 구성되어 있다.

금속 배선(특히 메탈 메쉬)의 선폭은 통상 10 μm 이하, 바람직하게는 5 μm 이하, 더욱 바람직하게는 3 μm 이하이고, 통상 0.1 μm 이상, 바람직하게는 0.5 μm 이상, 보다 바람직하게는 1 μm 이상이다. 금속 배선층의 선폭은 이들의 상한치와 하한치의 조합이어도 좋고, 바람직하게는 0.5∼5 μm, 보다 바람직하게는 1∼3 μm이다.

도전층(도전성의 투명 금속 산화물층 또는 금속 배선층)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 통상 10 μm 이하, 바람직하게는 3 μm 이하, 보다 바람직하게는 1 μm 이하, 특히 바람직하게는 0.5 μm 이하이고, 통상 0.01 μm 이상, 바람직하게는 0.05 μm 이상, 보다 바람직하게는 0.1 μm 이상이다. 도전층의 두께는 이들의 상한치와 하한치의 조합이어도 좋고, 바람직하게는 0.01∼3 μm, 보다 바람직하게는 0.05∼1 μm이다. 한편, 도전층이 금속 배선층이며, 금속 배선층이 수지(접착제 등)와 금속 배선의 양쪽으로 구성되어 있는 경우, 도전층의 두께는 수지를 포함하는 두께이다.

도전층의 조제 방법은 특별히 한정되지 않고, 금속박의 라미네이션이어도 좋고, 진공 증착법, 스퍼터링법, 습식 코팅, 이온 플레이팅법, 잉크젯 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 전해 도금, 무전해 도금에 의해 형성된 것이어도 좋지만, 바람직하게는 스퍼터링법, 잉크젯 인쇄법, 그라비아 인쇄법에 의해 형성된 도전층이며, 보다 바람직하게는 스퍼터링에 의해 형성된 도전층이다.

도전층(예컨대 메탈 메쉬)은, 예컨대 터치 패널에 있어서, 투명 기판을 터치했을 때에 신호를 발생시켜, 집적 회로 등에 터치 좌표를 전달하는 기능을 갖고 있어도 좋다.

도전층(예컨대 도전성의 투명 금속 산화물층, 금속 배선층 등)을 구비하는 광학 적층체는, 터치 패널 기능을 갖는 터치 입력식 액정 표시 장치 등에 이용할 수 있기 때문에 유용하지만, 편광자에 포함되는 2색성 색소(요오드)가 도전층으로 이동하여 도전층이 부식되기 쉽다. 특히 메탈 메쉬 등의 금속 배선층을 사용한 경우, 선폭이 좁기 때문에 도전층이 보다 부식되기 쉬워진다. 그러나, 본 발명의 광학 적층체는, 2색성 색소의 도전층으로의 이동을 유효하게 억제하여, 도전층의 부식을 효과적으로 방지할 수 있다.

(용도)

적층체는 화상 표시 장치에 이용할 수 있다. 화상 표시 장치란, 화상 표시 패널을 갖는 장치이며, 발광원으로서 발광 소자 또는 발광 장치를 포함한다. 화상 표시 장치로는, 액정 표시 장치, 유기 일렉트로루미네선스(EL) 표시 장치, 무기 일렉트로루미네선스(EL) 표시 장치, 터치 패널 표시 장치, 전자 방출 표시 장치(예컨대 전장 방출 표시 장치(FED), 표면 전계 방출 표시 장치(SED)), 전자 페이퍼(전자 잉크나 전기 영동 소자를 이용한 표시 장치, 플라즈마 표시 장치, 투사형 표시 장치(예컨대 그레이팅 라이트 밸브(GLV) 표시 장치, 디지털 마이크로미러 디바이스(DMD)를 갖는 표시 장치) 및 압전 세라믹 디스플레이 등을 들 수 있다. 액정 표시 장치는, 투과형 액정 표시 장치, 반투과형 액정 표시 장치, 반사형 액정 표시 장치, 직시형 액정 표시 장치 및 투사형 액정 표시 장치 등을 모두 포함한다. 이들 화상 표시 장치는, 2차원 화상을 표시하는 화상 표시 장치이어도 좋고, 3차원 화상을 표시하는 입체 화상 표시 장치이어도 좋다. 특히 원편광판인 편광판 복합체는, 굴곡부를 갖는 화상 표시 패널을 구비할 수 있는 유기 일렉트로루미네선스(EL) 표시 장치에 유효하게 이용할 수 있다.

광학 적층체는 원편광판, 반사 방지 필름으로서의 기능을 가질 수 있다. 광학 적층체는, 화상 표시층 패널의 시인측에, 편광 필름이 시인측에 위치하는 방향으로 배치될 수 있다. 적층체는, 차재용 화상 표시 장치에 이용하는 원편광판이나 반사 방지 필름으로서 적합하다.

실시예

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한 질량% 및 질량부이다.

(내금속 부식성 평가)

실시예 및 비교예에서 얻어진 적층체를 25 mm×50 mm의 크기의 시험편으로 재단하고, 금속층 부착 유리 기판의 금속층측에 점착제층을 통해 접착했다. 금속층 부착 유리 기판에는, 무알칼리 유리 표면에 스퍼터링에 의해 두께 약 500 nm의 금속 알루미늄층을 적층시킨 유리 기판(지오마테크사 제조)을 사용했다. 얻어진 광학 적층체를, 온도 85℃, 상대 습도 85%의 오븐 내에서 250시간 보관한 후, 광학 적층체가 접착된 부분의 금속층의 상태를 유리 기판의 배면으로부터 빛을 비춰 편광판 표면으로부터 확대경을 통해 관찰하여, 공식(孔食)(직경 0.1 mm 이상이고, 광을 투과하는 것이 가능한 구멍의 발생)의 발생에 관해 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 표 2 및 표 4에 나타낸다.

◎ : 금속층 표면에 발생한 공식의 수가 4개 이하이다,

○ : 금속층 표면에 발생한 공식의 수가 10개 이하이다,

× : 금속층 표면의 전면(前面)에 다수의 공식이 발생했다.

(점착제층 중의 요오드량 평가)

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체를 25 mm×50 mm의 크기의 시험편으로 재단하고, 무알칼리 유리(코닝사 제조 EAGLE XG)에 점착제층을 통해 접착했다. 유리에 접착한 광학 적층체를, 온도 80℃, 상대 습도 90%의 오븐 내에서 250시간 보관했다. 그 후, 광학 적층체를 유리로부터 박리하고, 점착제만을 긁어냈다. 얻어진 점착제로부터, 하기 장치 및 조건으로 산화 연소 이온 크로마토그래프법을 이용하여, 점착제 중에 포함되는 요오드량(mg/kg)을 정량했다. 결과를 표 2 및 표 4에 나타낸다.

(1) 시료 연소

·장치 : 주식회사 미쓰비시 화학 어낼리테크 제조 AQF-2100H

·연소 조건

연소 온도 : 1100℃

가스 유량 : 아르곤 유량=200 mL/분,

산소 유량=400 mL/분,

가습 Air 유량=100 mL/분

(2) 이온 크로마토그래프

·장치 : 서모피셔 사이언티픽사 제조 Integrion

·컬럼 : 서모피셔 사이언티픽사 제조 IonPac AS19

·측정 조건

용리액 : KOH 그래디언트

유속 : 1.0 mL/분

주입량 : 100 μL

측정 모드 : 서프레서식

검출기 : 전기 전도도

(밀착성 측정)

실시예 및 비교예에서 제작한 적층체를 길이 200 mm×폭 25 mm의 크기로 재단하고, 그 점착제층면을 소다 유리 기판에 접합했다.

이어서, 편광자와 λ/2 위상차층의 사이에 커터날을 넣어, 길이 방향으로 단부로부터 30 mm 박리하고, 그 박리 부분을 만능 인장 시험기〔(주)시마즈제작소 제조“AG-1”〕의 손잡이부로 쥐었다. 이 상태의 시험편을, 온도 23℃ 상대 습도 55%의 분위기 중에서, JIS K 6854-2 : 1999 「접착제-박리 접착 강도 시험 방법-제2부 : 180도 박리」에 준하여, 손잡이 이동 속도 300 mm/분으로 180도 박리 시험을 행하고, 손잡이부 30 mm를 제외한 170 mm의 길이에 걸친 평균 박리력을 구하여, 이하의 기준에 기초하여 평가했다. 결과를 표 2 및 표 4에 나타낸다.

0 : 180° 박리력이 1.0 N 이상

△ : 180° 박리력이 0.5 N 이상 1.0 N 미만

(접착제층의 80℃에서의 저장 탄성률 및 유리 전이 온도의 측정)

두께 50 μm의 고리형 폴리올레핀계 수지 필름의 한면에, 도공기〔바코터, 다이이치리카(주) 제조〕를 이용하여, 후술하는 접착제 1∼5의 어느 하나를 도공하고, 그 도공면에 두께 50 μm의 고리형 폴리올레핀계 수지 필름을 더 적층시켰다. 다음으로, 퓨젼 UV 시스템사 제조의 「D 벌브」에 의해, 적산 광량이 1500 mJ/㎠(UVB)이 되도록 자외선을 조사하여 접착제층을 경화시켰다. 이것을 5 mm×30 mm의 크기로 재단하고, 고리형 폴리올레핀계 수지 필름을 박리하여 접착제의 경화 필름을 얻었다. 이 경화 필름을 그 긴 변이 인장 방향이 되도록, 아이티 계측 제어(주) 제조의 동적 점탄성 측정 장치 「DVA-220」를 이용하여 손잡이 기구의 간격 2 cm로 파지하고, 인장과 수축의 주파수를 10 Hz, 승온 속도를 10℃/분으로 설정하고, 온도 25℃로부터 온도 200℃의 범위의 측정을 행하여, 온도 80℃에서의 저장 탄성률을 구했다. 또한, 상기 측정에서 얻어진 결과에 있어서, 저장 탄성률(E_A)과 손실 탄성률(E_B)의 비(E_B/E_A)의 값이 최대치가 될 때의 온도를 유리 전이 온도로 했다. 결과를 표 1 및 표 3에 나타낸다.

(투습도의 평가)

두께 20 μm의 트리아세틸셀룰로오스 필름의 표면에 두께 5 μm의 아크릴계 점착제층 1이 형성된 점착제층 부착 필름을 준비했다. 상기 점착제층 부착 필름의 온도 80℃ 상대 습도 90%에서의 투습도는 5200[g/(㎡·24hr)]였다.

아크릴계 점착제층 1의 표면에 접착제 1을 도포한 후에 자외선을 조사하여 도포층을 경화하여 30 μm의 접착제층 1을 형성하고, 30 μm의 접착제층 1/5 μm의 아크릴계 점착제층 1/20 μm의 트리아세틸셀룰로오스 필름의 적층 구조를 갖는 적층체를 얻었다.

얻어진 적층체를, JIS Z 0208에 규정되는 컵법에 의해, 온도 40℃, 상대 습도 90%에서의 투습도〔g/(㎡·24hr)〕를 측정했다. 접착제 1을 접착제 2∼5로 변경하고, 각 접착제의 투습도를 측정했다. 결과를 표 1 및 표 3에 나타낸다.

(활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 조제)

표 1에 나타내는 각 성분을, 표 1에 나타내는 배합 비율(단위는 질량부)로 혼합한 후 탈포하여, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물(접착제 1∼2)을 조제했다. 한편, 양이온 중합 개시제(B-1)는, 50% 프로필렌카보네이트 용액으로서 배합하고, 표 1은 그 고형분량으로 나타냈다.

(양이온 중합성 화합물(A))

A-1 : 3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(상품명 : CEL2021P, (주)다이셀 제조)

A-2 : 2,2-비스(히드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물(상품명 : EHPE3150, (주)다이셀 제조)

A-3 : 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르(상품명 : EX-211L, 나가세켐텍스(주) 제조)

A-4 : 3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄(상품명 : OXT-221, 도아고세이(주) 제조)

A-5 : 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명 : EP-4100E, (주)ADEKA, 점도 13 Pa·s(온도 25℃))

A-6 : 방향족 함유 옥세탄 화합물(상품명 : TCM-104, TRONLY 제조)

(광양이온 중합 개시제(B))

B-1 : CPI-100P, 산아프로(주) 제조, 50 질량% 용액

(광증감 조제(C))

C-1 : 1,4-디에톡시나프탈렌

(직선 편광판 1의 제조)

두께 20 μm, 중합도 2,400, 비누화도 99.9% 이상의 폴리비닐알콜 필름을, 125℃로 가열한 롤 상에서 연신 배율 4.5배로 일축 연신하고, 긴장 상태를 유지한 채로 28℃의 물에 30초간 침지한 후, 물 100 질량부당 요오드 0.05 질량부 및 요오드화칼륨 5 질량부를 함유하는 28℃의 염색욕에 30초간 침지했다.

이어서, 물 100 질량부당 붕산 5.5 질량부 및 요오드화칼륨 15 질량부를 함유하는 64℃의 붕산 수용액 1에 110초간 침지했다.

이어서, 물 100 질량부당 붕산 2.35 질량부 및 요오드화칼륨 15 질량부를 함유하는 67℃의 붕산 수용액 2에 30초간 침지했다.

그 후, 10℃의 순수를 이용하여 수세하고, 80℃에서 건조시켜, 편광 필름을 얻었다.

얻어진 편광 필름의 두께는 7 μm였다.

또한, 얻어진 편광 필름의 한면에, 수계 접착제를 통해 두께 25 μm의 하드코트층 부착 시클로올레핀 필름(COP 필름)을 접합하고, 90℃에서 건조시켜, COP 필름/수계 접착제(접착제층)/편광자의 적층 구조를 갖는 직선 편광판 1을 얻었다.

(직선 편광판 2의 제조)

붕산 수용액 2에서의 붕산 함유량을 5.5 질량부로 변경한 것 외에는, 직선 편광판 1의 제조와 동일한 방법으로, COP 필름/수계 접착제(접착제층)/편광자의 적층 구조를 갖는 직선 편광판 2를 얻었다.

(λ/2 위상차층의 제조)

투명 수지 기재에 배향막 도포액을 도포하고 건조시키는 것에 의해, λ/2 배향 처리를 했다. 이어서, 배향면에 디스코틱 액정성 화합물을 포함하는 도포액을 도포하고, 가열 및 UV 조사를 하여 액정 화합물의 배향을 고정화하는 것에 의해, 투명 수지 기재 상에 두께 2 μm의 위상차 발현층을 제작했다.

(λ/4 위상차층의 제조)

배향막을 러빙 처리한 λ/4 배향용 투명 수지 기재에, 막대형이며 중합성의 네마틱 액정 모노머를 포함하는 도포액을 도포하고, 굴절율 이방성을 유지한 상태로 고화하는 것에 의해, 투명 수지 기재 상에 두께 1 μm의 위상차 발현층을 얻었다.

(위상차층 적층체의 제조)

상기 λ/2 위상차층 및 λ/4 위상차층의 액정층측에 코로나 처리를 했다. λ/2 위상차층의 지상축과, λ/4 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 60°가 되도록 배치하고, 접착제 1을 이용하여, 접착제 두께가 3 μm이 되도록 액정층끼리 라미네이터로 접합하여 적층체를 얻었다.

얻어진 적층체의 λ/4 위상차층측으로부터, 자외선 조사 장치〔퓨전 UV 시스템(주) 제조〕를 이용하여, 적산 광량 400 mJ/㎠(UV-B)으로 자외선을 조사하고, 전술한 접착제 1을 경화시켜 제2 경화물층으로 하여, 「λ/2 위상차층」(제1 위상차층)/접착제층(제2 경화물층)/「λ/4 위상차층」(제2 위상차층)의 적층 구조를 갖는 위상차층 적층체를 얻었다.

<실시예 1>

얻어진 위상차층 적층체의 λ/2 위상차층측의 배향막 및 투명 수지 기재를 박리하고, 상기 직선 편광판 1의 열가소성 수지 필름과는 반대측의 면과 λ/2 위상차층의 액정층을 접착제 2를 이용하여 접합했다. 한편, 접착제 2로 이루어진 제1 경화물층의 막두께는 3 μm이며, 편광자의 투과축과 λ/2 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 15°였다.

이어서, λ/4 위상차층측의 배향막 및 투명 수지 기재를 박리하여, 열가소성 수지 필름/수계 접착제(접착제층)/편광자/제1 경화물층/「λ/2 위상차층」(제1 위상차층)/제2 경화물층/「λ/4 위상차층」(제2 위상차층)의 적층 구조를 갖는 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체의 제2 위상차층의 표면에 두께 15 μm의 아크릴계 점착제층 1을 적층하여, 실시예 1의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체에 관해 내금속 부식성, 점착제층 중의 요오드량 및 밀착성을 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

<비교예 1>

얻어진 위상차층 적층체의 λ/2 위상차층측의 배향막 및 투명 수지 기재를 박리하고, 상기 직선 편광판 1의 열가소성 수지 필름과는 반대측의 면과 λ/2 위상차층의 액정층을 두께 5 μm의 아크릴계 점착제층 2(온도 80℃에서의 저장 탄성률0.5 MPa, 유리 전이 온도 -45℃)를 이용하여 접합했다. 한편, 편광자의 투과축과 λ/2 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 15°였다.

이어서, λ/4 위상차층측의 배향막 및 투명 수지 기재를 박리하여, 열가소성 수지 필름/수계 접착제(접착제층)/편광자/점착제층/「λ/2 위상차층」(제1 위상차층)/제2 경화물층/「λ/4 위상차층」(제2 위상차층)의 적층 구조를 갖는 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체의 제2 위상차층의 표면에 두께 15 μm의 아크릴계 점착제층 1을 적층하여, 비교예 1의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체에 관해 내금속 부식성, 점착제층 중의 요오드량 및 밀착성을 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

(활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 조제)

표 3에 나타내는 각 성분을, 표 3에 나타내는 배합 비율(단위는 질량부)로 혼합한 후 탈포하여, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물(접착제 3∼5)을 조제했다. 한편, 양이온 중합 개시제(B-2)는, 50% 프로필렌카보네이트 용액으로서 배합하고, 표 3은 그 고형분량으로 나타냈다.

(양이온 중합성 화합물(A))

A-7 : 3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(상품명 : CEL2021P, (주)다이셀 제조)

A-8 : 2,2-비스(히드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물(상품명 : EHPE3150, (주)다이셀 제조)

A-9 : 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르(상품명 : ED-523T, (주)ADEKA 제조)

A-10 : 3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄(상품명 : OXT-221, 도아고세이(주) 제조)

A-11 : 하기 식으로 표시되는 화합물

(광양이온 중합 개시제(B))

B-2 : CPI-100P, 산아프로(주) 제조, 50 질량% 용액

(광증감 조제(C))

C-2 : 1,4-디에톡시나프탈렌

<실시예 2∼4>

접착제 2를 접착제 3∼5로 바꾼 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체에 관해 내금속 부식성, 점착제층 중의 요오드량 및 밀착성을 평가했다. 결과를 표 4에 나타낸다.

한편, 실시예 2의 적층체는, 열가소성 수지 필름/수계 접착제(접착제층)/편광자/제1 경화물층(접착제 3 경화물층)/「λ/2 위상차층」(제1 위상차층)/제2 경화물층(접착제 1 경화물층)/「λ/4 위상차층」(제2 위상차층)/15 μm의 점착제층의 적층 구조를 갖는다.

실시예 3의 적층체는, 열가소성 수지 필름/수계 접착제(접착제층)/편광자/제1 경화물층(접착제 4의 경화물층)/「λ/2 위상차층」(제1 위상차층)/제2 경화물층(접착제 1 경화물층)/「λ/4 위상차층」(제2 위상차층)/15 μm의 점착제층의 적층 구조를 갖는다.

실시예 4의 적층체는, 열가소성 수지 필름/수계 접착제(접착제층)/편광자/제1 경화물층(접착제 5의 경화물층)/「λ/2 위상차층」(제1 위상차층)/제2 경화물층(접착제 1 경화물층)/「λ/4 위상차층」(제2 위상차층)/15 μm의 점착제층의 적층 구조를 갖는다.

<비교예 2>

접착제 2를 접착제 1로 바꾼 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체에 관해 내금속 부식성, 점착제층 중의 요오드량 및 밀착성을 평가했다. 결과를 표 4에 나타낸다.

한편, 비교예 2의 적층체는, 열가소성 수지 필름/수계 접착제(접착제층)/편광자/제1 경화물층(접착제 1 경화물층)/「λ/2 위상차층」(제1 위상차층)/제2 경화물층(접착제 1 경화물층)/「λ/4 위상차층」(제2 위상차층)/15 μm의 점착제층의 적층 구조를 갖는다.

10 : 직선 편광판, 11 : 열가소성 수지 필름, 12 : 접착제층, 13 : 편광자, 14 : 제1 경화물층, 20 : 위상차층, 30 : 제1 위상차층, 31 : 위상차 발현층, 32 : 배향층, 33 : 기재층, 40 : 제2 위상차층, 41 : 기재층, 42 : 배향층, 43 : 위상차 발현층, 50 : 제2 경화물층, 60 : 위상차 적층체, 70 : 점착제층, 80 : 광학 적층체, 100 : 광학 적층체

Claims (16)

1. 편광자와, 제1 경화물층과, 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체로서,
   상기 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고,
   상기 제1 경화물층은, 활성 에너지 경화성 조성물의 경화물이고,
   상기 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 중합체인 위상차 발현층을 적어도 하나 포함하고,
   상기 점착제층은, 광학 적층체를 온도 80℃, 상대 습도 90%에서 250시간 보관한 후의 요오드량이 900 mg/kg 이하이고,
   상기 편광자와 상기 제1 경화물층은 직접 접하고,
   상기 제1 경화물층과 상기 위상차층은 직접 접해 있는 광학 적층체.
2. 제1항에 있어서, 상기 위상차층은, 상기 제1 경화물층측으로부터, 제1 중합층과, 제2 경화물층과, 제2 중합층을 이 순으로 포함하는 층이며,
   상기 제1 중합층 및 상기 제2 중합층은 서로 독립적으로, 중합성 액정 화합물의 중합체를 포함하는 광학 적층체.
3. 제2항에 있어서, 상기 제2 경화물층은 활성 에너지선 경화물층인 광학 적층체.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 두께 30 μm에서의 제1 경화물층의 온도 80℃ 상대 습도 90%의 투습도가 1500[g/(㎡·24hr)] 이하인 광학 적층체.
5. 편광자와, 제1 경화물층과, 제1 위상차층과, 제2 경화물층과, 제2 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체로서,
   상기 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고,
   제1 위상차층 및 제2 위상차층은 서로 독립적으로, 중합성 액정 화합물의 중합체를 포함하는 위상차 발현층을 포함하고,
   제1 경화물층 및 제2 경화물층은 서로 독립적으로, 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화물을 포함하고,
   상기 제1 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률이 300 MPa 이상이고,
   상기 편광자와 상기 제1 경화물층은 직접 접하고,
   상기 제1 경화물층과 상기 제1 위상차층은 직접 접해 있는 광학 적층체.
6. 제5항에 있어서, 상기 제2 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률이 20 MPa 이상인 광학 적층체.
7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 제1 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률(E₁)이, 상기 제2 경화물층의 온도 80℃에서의 저장 탄성률(E₂)보다 큰 광학 적층체.
8. 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 두께 30 μm에서의 제1 경화물층의 온도 80℃ 상대 습도 90%의 투습도가 1500[g/(㎡·24hr)] 이하인 광학 적층체.
9. 편광자와, 제1 경화물층과, 제1 위상차층과, 제2 경화물층과, 제2 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체로서,
   상기 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고,
   상기 제1 위상차층 및 상기 제2 위상차층은 서로 독립적으로, 중합성 액정 화합물의 중합체인 위상차 발현층을 포함하고,
   상기 제1 경화물층 및 상기 제2 경화물층은 각각 독립적으로, 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화물이고,
   상기 제1 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₁)가 60℃ 초과이고,
   상기 편광자와 상기 제1 경화물층은 직접 접하고,
   상기 제1 경화물층과 상기 제1 위상차층은 직접 접해 있는 광학 적층체.
10. 제9항에 있어서, 상기 제2 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₂)가 40℃ 이상인 광학 적층체.
11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 제1 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₁)가 상기 제2 경화물층의 유리 전이 온도(Tg₂)보다 큰 광학 적층체.
12. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 두께 30 μm에서의 제1 경화물층의 온도 80℃ 상대 습도 90%의 투습도가 1500[g/(㎡·24hr)] 이하인 광학 적층체.
13. 편광자와, 제1 경화물층과, 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체로서,
    상기 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고,
    상기 위상차층은, 중합성 액정 화합물의 중합체를 포함하는 위상차 발현층을 포함하고,
    상기 제1 경화물층은, 활성 에너지 경화성 조성물의 경화물이고,
    상기 활성 에너지선 경화성 조성물은, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)을 함유하는 조성물인 광학 적층체.
14. 편광자와, 제1 경화물층과, 제1 위상차층과, 제2 경화물층과, 제2 위상차층과, 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체로서,
    상기 편광자는, 요오드를 포함하는 폴리비닐알콜 수지로 이루어지고,
    상기 1 경화물층은 활성 에너지 경화성 조성물의 경화물이고,
    상기 활성 에너지선 경화성 조성물은, 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)을 함유하는 조성물인 광학 적층체.
15. 경화성 성분(A)과 광중합 개시제(B)를 포함하는 활성 에너지선 경화성 조성물로서,
    상기 경화성 성분(A)은 다작용 옥세탄 화합물(A5-1) 및 3환식의 축합환과 디글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)을 함유하고,
    상기 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)의 함유량이 상기 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)의 함유량보다 많은 활성 에너지선 경화성 조성물.
16. 제15항에 있어서, 상기 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)과 상기 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)의 함유비(질량비)가, 상기 다작용 옥세탄 화합물(A5-1)/상기 3환식의 축합환과 2개의 글리시딜에테르기를 분자 내에 포함하는 에폭시 화합물(A2-1)=1.5/1∼5/1인 활성 에너지선 경화성 조성물.

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