CN110609349B - 液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法 - Google Patents

液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法。一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：准备依次包含第1基材层、第1液晶层、以及粘接层的带有粘接层的第1层叠部的工序；准备包含第2基材层及第2液晶层的第2层叠部的工序；对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方进行表面活化处理的工序；将所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向剖面中的包含所述粘接层的端部的第1端部的至少一方除去的工序；以及将除去所述第1端部后的所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层、与所述第2层叠部的所述第2液晶层贴合而得到液晶层层叠体的工序。

Description

液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法
技术领域
本发明涉及液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法。
背景技术
使用了有机发光二极管(OLED)的有机EL显示装置与液晶显示装置等相比不仅能够实现轻量化、薄型化，而且可以实现大范围的视角、快速的响应速度、高对比度等高画质，因此在智能手机或电视机、数码相机等各种领域中得到使用。已知在有机EL显示装置中，为了抑制由外来光的反射造成的可视性的降低，使用圆偏振板等来提高防反射性能。
在JP2015－25947A1中，作为应用于有机EL显示装置、液晶显示装置的图像显示面板中的光学膜，记载有将直线偏振板与1/4波长板层叠而得的圆偏振板，记载了利用1/2波长相位差层与1/4波长相位差层的层叠构成该1/4波长板的内容。
发明内容
发明所要解决的问题
本发明的目的在于，提供适合于制造光学层叠体的液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法。
用于解决问题的方法
本发明提供以下所示的液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法。
〔1〕一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1液晶层、以及粘接层的带有粘接层的第1层叠部的工序；
准备包含第2基材层及第2液晶层的第2层叠部的工序；
对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方进行表面活化处理的工序；
将所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向剖面中的包含所述粘接层的端部的第1端部的至少一方除去的工序；以及
将除去所述第1端部后的所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层、与所述第2层叠部的所述第2液晶层贴合而得到液晶层层叠体的工序，
所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面的至少一个端部，所述粘接层的端部的位置相对于所述第1液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧，
进行所述除去的工序在进行所述表面活化处理的工序之前或之后进行，
以如下方式除去所述第1端部，即，在除去所述第1端部后的所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向剖面中，使除去了所述第1端部的一侧的所述粘接层的端部的位置与所述第1液晶层的端部的位置相同的方式。
〔2〕根据〔1〕中记载的液晶膜的制造方法，其中，进行所述除去的工序在进行所述表面活化处理的工序之前进行。
〔3〕根据〔1〕或〔2〕中记载的液晶膜的制造方法，其中，所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的宽度方向两端的位置相对于所述第1液晶层的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述第1端部为所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向两端。
〔4〕一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1液晶层、以及粘接层的带有粘接层的第1层叠部的工序；
准备包含第2基材层及第2液晶层的第2层叠部的工序；
对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方进行表面活化处理的工序；以及
将所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层、与所述第2层叠部的所述第2液晶层贴合而得到液晶层层叠体的工序，
所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面的至少一个端部，所述粘接层的宽度方向的端部的位置相对于所述第1液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧，
所述液晶层层叠体中，在所述宽度方向剖面的至少一个端部，所述粘接层的端部的位置与所述第2液晶层的端部的位置相同、或相对于该位置位于宽度方向外侧。
〔5〕根据〔4〕中记载的液晶膜的制造方法，其中，所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的宽度方向两端的位置相对于所述第1液晶层的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述液晶层层叠体中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的宽度方向两端的位置，与所述第2液晶层的宽度方向两端的位置相同、或相对于该位置位于宽度方向外侧。
〔6〕根据〔4〕或〔5〕中记载的液晶膜的制造方法，其中，所述液晶层层叠体中，在所述宽度方向剖面的至少一个端部，所述第2液晶层的所述端部的位置与所述第2基材层的端部的位置相同。
〔7〕根据〔4〕～〔6〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述液晶层层叠体中，在其宽度方向剖面中，所述第2液晶层的宽度方向两端的位置与所述第2基材层的宽度方向两端的位置相同。
〔8〕根据〔1〕～〔7〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其还具有将所述液晶层层叠体的包含所述第1基材层及所述第2基材层中的一方的第1剥离层剥离的工序。
〔9〕一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1液晶层、以及粘接层的带有粘接层的第1层叠部的工序，并且在所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向剖面的至少一个端部，所述粘接层的端部的位置相对于所述第1液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧；
准备包含第2基材层及第2液晶层的第2层叠部的工序；
对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方进行表面活化处理的工序；
将所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层、与所述第2层叠部的所述第2液晶层贴合而得到液晶层层叠体的工序，并且是以在所述液晶层层叠体的宽度方向剖面的所述至少一个端部，使所述粘接层的端部的位置相对于所述第2液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧的方式，得到所述液晶层层叠体的工序；以及
将所述液晶层层叠体中的所述一个端部所处的一侧的包含所述粘接层的端部的第2端部除去的工序，
进行所述除去的工序以在除去所述第2端部后的所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中，使除去了所述第2端部的一侧的所述粘接层的端部的位置与所述第1液晶层及所述第2液晶层的至少1个端部的位置相同的方式，除去所述第2端部。
〔10〕根据〔9〕中记载的液晶膜的制造方法，其中，进行所述除去的工序以在除去所述第2端部后的所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中，使除去了所述第2端部的一侧的所述粘接层的端部的位置与所述第1液晶层的端部的位置相同，并且与所述第2液晶层的端部的位置相同的方式，除去所述第2端部。
〔11〕根据〔9〕或〔10〕中记载的液晶膜的制造方法，其中，所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的宽度方向两端的位置相对于所述第1液晶层的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述液晶层层叠体中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的两端的位置相对于所述第2液晶层的两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述第2端部为所述液晶层层叠体的宽度方向两端。
〔12〕根据〔9〕～〔11〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其还具有将除去所述第2端部后的所述液晶层层叠体中的包含所述第1基材层及所述第2基材层中的一方的第1剥离层剥离的工序。
〔13〕一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1液晶层、以及粘接层的带有粘接层的第1层叠部的工序，并且是准备如下的所述带有粘接层的第1层叠部的工序，即，在所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向剖面的至少一个端部，所述粘接层的端部的位置相对于所述第1液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧；
准备包含第2基材层及第2液晶层的第2层叠部的工序；
对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方进行表面活化处理的工序；
将所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层、与所述第2层叠部的所述第2液晶层贴合而得到第1液晶层层叠体的工序，并且以在所述第1液晶层层叠体的宽度方向剖面的所述至少一个端部，使所述粘接层的端部的位置相对于所述第2液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧的方式，得到第1液晶层层叠体；
将所述第1液晶层层叠体的包含所述第1基材层及所述第2基材层中的一方的第1剥离层剥离而得到第2液晶层层叠体的工序；以及
将所述第2液晶层层叠体中的所述至少一个端部所处的一侧的包含所述粘接层的端部的第3端部除去的工序，
进行所述除去的工序以在除去所述第3端部后的所述第2液晶层层叠体的宽度方向剖面中的除去了所述第3端部的一侧中，使所述粘接层的端部的位置与所述第1液晶层及所述第2液晶层的至少一个端部的位置相同的方式，除去所述第3端部。
〔14〕根据〔13〕中记载的液晶膜的制造方法，其中，进行所述除去的工序以在除去所述第3端部后的所述第2液晶层层叠体的宽度方向剖面中的除去了所述第3端部的一侧中，使所述粘接层的端部的位置与所述第1液晶层的端部的位置相同，并且与所述第2液晶层的端部的位置相同的方式，除去所述第3端部。
〔15〕根据〔13〕或〔14〕中记载的液晶膜制造方法，其中，所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的宽度方向两端的位置相对于所述第1液晶层的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述第1液晶层层叠体中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的宽度方向两端的位置相对于所述第2液晶层的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述第3端部为所述第2液晶层层叠体的宽度方向两端。
〔16〕根据〔1〕～〔15〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述准备带有粘接层的第1层叠部的工序具有：
准备所述包含第1基材层及第1液晶层的第1层叠部的工序；以及
在所述第1液晶层的与所述第1基材层相反一侧层叠粘接层而得到所述带有粘接层的第1层叠部的工序。
〔17〕根据〔1〕～〔16〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，进行所述表面活化处理的工序对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面进行表面活化处理。
〔18〕根据〔1〕～〔17〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述表面活化处理为电晕处理。
〔19〕根据〔1〕～〔18〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述第1液晶层为相位差层。
〔20〕根据〔1〕～〔19〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述第2液晶层为相位差层。
〔21〕根据〔1〕～〔20〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述带有粘接层的第1层叠部在所述第1基材层与所述第1液晶层之间包含第1取向层。
〔22〕根据〔1〕～〔21〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述第2层叠部在所述第2基材层与所述第2液晶层之间包含第2取向层。
〔23〕一种光学层叠体的制造方法，该制造方法具有：
准备利用〔8〕及〔12〕～〔15〕中任一项记载的液晶膜的制造方法制造的液晶膜的工序、
准备光学膜的工序、以及
将所述光学膜夹隔着光学膜用粘接层层叠于因剥离所述第1剥离层而露出的层的工序。
〔24〕根据〔23〕中记载的光学层叠体的制造方法，其还具有将包含所述第1基材层及所述第2基材层中的不包含于所述第1剥离层中的层的第2剥离层剥离的工序。
〔25〕根据〔24〕中记载的光学层叠体的制造方法，其中，在因剥离所述第2剥离层而露出的层上层叠光学层叠体用粘接层。
发明效果
根据本发明，可以提供适合于制造光学层叠体的液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法。
附图说明
图1(a)～(e)是示意性地表示作为本发明的液晶膜的相位差膜的制造工序的一例的示意剖视图。
图2(a)～(c)是示意性地表示本发明的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。
图3(a)～(d)是示意性地表示作为本发明的液晶膜的相位差膜的制造工序的另一例的示意剖视图。
图4(a)～(c)是示意性地表示本发明的光学层叠体的制造工序的另一例的示意剖视图。
图5(a)～(e)是示意性地表示作为本发明的液晶膜的相位差膜的制造工序的另一例的示意剖视图。
图6(a)～(e)是示意性地表示作为本发明的液晶膜的相位差膜的制造工序的另一例的示意剖视图。
图7(a)～(d)是示意性地表示成为本发明的前提的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。
符号的说明
10a～10d、10p 带有粘接层的第1层叠部，10a1 除去第1端部后的带有粘接层的第1层叠部，11a～11d、11a1、11c1、11d2、11p 第1基材层，12a～12d、12a1、12c1、12b1、12d2、12p、12p1 第1相位差层(第1液晶层)，12’p 转移部分，13a～13d、13a1、13c1、13d2、13p 粘接层，14a 第1端部，20a～20d、20p 第2层叠部，21a～21d、21c1、21p 第2基材层，22a～22d、22a1、22c1、22d1、22d2、22p 第2相位差层(第2液晶层)，30d 第2相位差层层叠体(第2液晶层层叠体)，30d2 除去第3端部后的第2相位差层层叠体(除去第3端部后的第2液晶层层叠体)，34d第3端部，40a～40c、40p 相位差层层叠体(液晶层层叠体)，40d 第1相位差层层叠体(第1液晶层层叠体)，40c1 除去第2端部后的相位差层层叠体(除去第2端部后的液晶层层叠体)，44c 第2端部，50a～50d、50p 相位差膜(液晶膜)，60a～60d、60p 光学膜，60’p 光学膜的一部分，62a～62d、62p 光学膜用粘接层，62’p 光学膜用粘接层的一部分，70a～70d、70p 光学层叠体，W 宽度方向。
具体实施方式
在说明本发明的液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法的优选实施方式之前，对本发明的实施方式的前提进行说明。图7(a)～(d)是示意性地表示成为后述的实施方式的前提的光学层叠体70p的制造工序的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。需要说明的是，以下以第1液晶层及第2液晶层分别为第1相位差层及第2相位差层、液晶膜为相位差膜的情况为例举出而进行说明。
光学层叠体的制造方法中，有时如图7(a)所示使用将包含第1基材层11p及第1相位差层12p的第1层叠部10p、与包含第2基材层21p及第2相位差层22p的第2层叠部20p夹隔着粘接层13p层叠的相位差层层叠体40p。若从该相位差层层叠体40p如图7(b)所示剥离第2基材层21p，则第2相位差层22p的一部分转移到剥离了的第2基材层21p，得到在粘接层13p上形成有第2相位差层22p1的相位差膜50p。这是因为，图7(a)所示的相位差层层叠体40p在第2相位差层22p的宽度方向的两端，具有未固定于粘接层13p的非固定区域(图7(a)中以左低右高斜线表示的部分)，因第2基材层21p的剥离，而将第2相位差层22p分离为作为固定于粘接层13p的区域的第2相位差层22p1和转移到第2基材层21p的非固定区域。
接下来，在图7(b)所示的相位差膜50p的第2相位差层22p1上，如图7(c)所示，夹隔着光学膜用粘接层62p层叠光学膜60p后，剥离相位差膜50p中所含的第1基材层11p，可以得到光学层叠体70p(图7(d))。
然而，如图7(a)所示的相位差层层叠体40p中，在宽度方向的端部，有第1相位差层12p与第2相位差层22p没有夹隔着粘接层13p相面对的区域。此种区域中，第1相位差层12p与第2相位差层22p易于直接接触，根据第1相位差层12p与第2相位差层22p的接触的强度、第1相位差层12p及第2相位差层22p的表面的状态，如图7(a)所示，有第1相位差层12p的一部分12’p(以下有时称作“转移部分12’p”。)向第2相位差层22p转移的情况。当第1相位差层12p的转移部分12’p向第2相位差层22p转移时，第1相位差层12p的一部分脱落，在第1相位差层12p形成脱落部p。根据第1相位差层12p及第2相位差层22p的表面的状态、第1相位差层12p与第2相位差层22p的接触状况，还有在长度方向上连续地产生第1相位差层12p的脱落部p、向第2相位差层22p的转移部分12’p的情况。
由于此种脱落部p如图7(b)所示也存在于相位差膜50p，因此当将光学膜60p夹隔着光学膜用粘接层62p层叠于相位差膜50p时(图7(c))，则有在该脱落部p的区域中夹隔着光学膜用粘接层62p将第1基材层11p与光学膜60p粘接的情况。当在形成有此种粘接部分的状态下剥离第1基材层11p时，则如图7(d)所示，由于光学膜60p的一部分60’p、以及光学膜用粘接层62p的一部分62’p被固定于第1基材层11p，因此有所得的光学层叠体70p成为在其端部光学膜60p及光学膜用粘接层62p发生断裂的层叠体的情况。如图7(d)所示的端部断裂了的光学层叠体70p的外观不良，另外，在运送光学层叠体70p时存在行进性不稳定化的趋势，因此不优选。
除此以外，在图7(a)所示的相位差层层叠体40p中，在从相位差层层叠体40p剥离了的第2基材层21p的运送时也有转移部分12’p脱落的情况。脱落了的转移部分12’p附着于相位差膜50p、运送路径而成为污染制造中的制品、运送路径的原因，有引起所得的光学层叠体的外观不良的情况。另外，在图7(a)所示的相位差层层叠体40p中，也有第2相位差层22p的一部分向第1相位差层12p转移的情况。在这些情况下，在相位差膜的运送时，转移到第1相位差层12p的第2相位差层22p的一部分脱落而附着于相位差膜、运送路径，成为污染制造中的制品、运送路径的原因，有引起所得的光学层叠体的外观不良的情况。
因而，在以下的实施方式中，对如下的液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法进行说明，它们通过使端部的断裂、制造中的制品或运送路径的污染等难以产生，来抑制光学层叠体的外观不良、运送时的行进性的不稳定化，从而可以合适地制造光学层叠体。
以下，参照附图对本发明的液晶膜的制造方法及光学层叠体的制造方法的优选实施方式进行说明。需要说明的是，以下说明中，以第1液晶层及第2液晶层分别为第1相位差层及第2相位差层、液晶膜为相位差膜的情况为例举出而进行说明。
[第1实施方式]
(相位差膜的制造方法)
图1(a)～(e)是示意性地表示本实施方式的相位差膜50a(液晶膜)的制造方法的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。
本实施方式的相位差膜50a的制造方法例如具有：
准备依次包含第1基材层11a、第1相位差层12a(第1液晶层)、以及粘接层13a的带有粘接层的第1层叠部10a的工序(图1(a))；
准备包含第2基材层21a及第2相位差层22a(第2液晶层)的第2层叠部20a的工序(图1(b))；
除去带有粘接层的第1层叠部10a的宽度方向两端(第1端部14a)的工序(图1(a)及(c))；
对第1端部14a除去后的带有粘接层的第1层叠部10a1的粘接层13a1侧的表面、以及第2层叠部20a的第2相位差层22a侧的表面进行表面活化处理的工序；以及
将表面活化处理后的带有粘接层的第1层叠部10a1的粘接层13a1与第2层叠部20a的第2相位差层22a贴合而得到相位差层层叠体40a(液晶层层叠体)的工序(图1(d))。
图1(a)所示的带有粘接层的第1层叠部10a在其宽度方向剖面中，粘接层13a的宽度方向两端的位置相对于第1相位差层12a的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
图1(a)所示的除去第1端部14a的工序在进行表面活化处理的工序之前进行，以如下方式除去第1端部14a，即，在除去第1端部14a后的带有粘接层的第1层叠部10a1的宽度方向剖面中，使粘接层13a1的宽度方向两端的位置与第1相位差层12a1的宽度方向两端的位置相同的方式(图1(c))。相位差膜50a的制造方法也可以还具有如图1(e)所示地剥离第2基材层21a(第1剥离层)的工序。
以下，基于附图进行具体说明。图1所示的制造方法中，首先，准备如图1(a)所示依次包含第1基材层11a、第1相位差层12a、以及粘接层13a的带有粘接层的第1层叠部10a、和如图1(b)所示包含第2基材层21a及第2相位差层22a的第2层叠部20a。带有粘接层的第1层叠部10a及第2层叠部20a为长条状的膜状物，一边连续地运送带有粘接层的第1层叠部10a及第2层叠部20a，一边进行后述的工序。宽度方向W是与膜状物的长度方向正交的方向。
然后，对于图1(a)所示的带有粘接层的第1层叠部10a，用虚线Xa将其宽度方向两端切断，除去相对于虚线Xa更靠宽度方向外侧的第1端部14a。由此，如图1(c)所示，得到具有第1基材层11a1、第1相位差层12a1、以及粘接层13a1的、除去第1端部14a后的带有粘接层的第1层叠部10a1(以下有时称作“带有粘接层的第1层叠部10a1”。)。接下来，对带有粘接层的第1层叠部10a1的粘接层13a1侧的表面、以及第2层叠部20a的第2相位差层22a侧的表面进行表面活化处理后，将带有粘接层的第1层叠部10a1的粘接层13a1与第2层叠部20a的第2相位差层22a贴合，得到图1(d)所示的相位差层层叠体40a。其后，从相位差层层叠体40a剥离第2基材层21a(第1剥离层)，由此得到图1(e)所示的相位差膜50a。
带有粘接层的第1层叠部10a在其宽度方向剖面中，如图1(a)所示，粘接层13a的宽度方向两端的位置相对于第1相位差层12a的宽度方向两端的位置位于内侧。粘接层13a的宽度方向两端的位置没有特别限定，然而可以设为相对于第1相位差层12a的宽度方向的端部的位置在宽度方向内侧0.2cm以上的区域，也可以设为0.5cm以上的区域，也可以是1.0cm以上的区域，另外，通常为20cm以下的区域，优选为15cm以下的区域。图1(a)所示的带有粘接层的第1层叠部10a中，第1基材层11a的宽度方向两端的位置相对于第1相位差层12a的宽度方向两端的位置位于外侧，然而也可以与第1相位差层12a的宽度方向两端的位置相同。
第2层叠部20a在其宽度方向剖面中，可以如图1(b)所示，第2基材层21a的宽度方向两端的位置相对于第2相位差层22a的宽度方向两端的位置位于外侧，也可以与第2相位差层22a的宽度方向两端的位置相同。
图1(a)中的虚线Xa的位置以如下方式确定，即，在带有粘接层的第1层叠部10a的宽度方向两端部，使除去第1端部14a后的带有粘接层的第1层叠部10a1(图1(c))的宽度方向剖面中的粘接层13a1的两端的位置与第1相位差层12a1的两端的位置相同的方式。
图1(a)所示的带有粘接层的第1层叠部10a中，虚线Xa的位置通常以使第1端部14a包含第1基材层11a及第1相位差层12a的端部的方式确定，优选以包含第1基材层11a、第1相位差层12a及粘接层13a的端部的方式确定。从带有粘接层的第1层叠部10a的宽度方向两端部除去的第1端部14a中各自所含的层既可以彼此相同，也可以彼此不同。
规定第1端部14a的区域的虚线Xa的位置是相对于带有粘接层的第1层叠部10a的位于宽度方向最外侧的端部在宽度方向内侧通常0.5cm以上的区域，也可以是1.0cm以上的区域，也可以是1.5cm以上的区域，另外，通常为20cm以下的区域，优选为15cm以下的区域，更优选为10cm以下的区域。从带有粘接层的第1层叠部10a的位于宽度方向最外侧的端部到虚线Xa的位置为止的距离在带有粘接层的第1层叠部10a的宽度方向两端可以相同，也可以彼此不同。
作为对带有粘接层的第1层叠部10a1的粘接层13a1侧的表面、以及第2层叠部20a的第2相位差层22a侧的表面进行的表面活化处理，可以举出用于使表面亲水化的处理。具体而言，可以举出电晕处理、等离子体处理、辉光放电等放电处理；火焰处理；臭氧处理；UV臭氧处理；紫外线处理、电子束处理之类的电离活性射线处理等，其中，优选电晕处理、等离子体处理，更优选电晕处理。
表面活化处理的程度没有特别限定，然而优选以使带有粘接层的第1层叠部10a1的粘接层13a1的表面的水接触角、以及第2层叠部20a的第2相位差层22a的表面的水接触角小于100°的方式进行处理，更优选以小于90°的方式进行处理，进一步优选以小于80°的方式进行处理。在表面活化处理为电晕处理的情况下，处理量例如可以设为30～3000J/m2。
相位差层层叠体40a中，在其宽度方向剖面中，粘接层13a1的宽度方向两端的位置与第1相位差层12a1的宽度方向两端的位置相同。相位差层层叠体40a中的第2相位差层22a及第2基材层21a的宽度方向两端的位置没有特别限定。为了有效地利用第1相位差层12a1的全宽，优选在相位差层层叠体40a中，第2相位差层22a的宽度方向两端部的位置与粘接层13a1的宽度方向两端部的位置相同，或相对于该位置位于外侧。为了防止在相位差层层叠体40a的运送等时因带有粘接层的第1层叠部10a1的粘接层13a1露出、或形成粘接层13a1的粘接剂或粘合剂冒出等而造成的运送路径的污染，优选在相位差层层叠体40a的宽度方向的两端，第2相位差层22a及第2基材层21a中的至少一方与粘接层13a1的端部的位置相同、或相对于该位置位于外侧。
相位差膜50a可以通过从相位差层层叠体40a剥离第2基材层21a(第1剥离层)而得到。图1(e)所示的相位差膜50a具有第1基材层11a1、第1相位差层12a1、粘接层13a1及第2相位差层22a1。相位差膜50a中，在其宽度方向剖面中，第2相位差层22a1的宽度方向两端的位置与粘接层13a1的宽度方向两端的位置相同。
当从图1(d)所示的相位差层层叠体40a剥离第2基材层21a时，则如图1(e)所示，第2相位差层22a的一部分易于向剥离了的第2基材层21a转移。这是因为，图1(d)所示的相位差层层叠体40a中，在其宽度方向剖面中，第2相位差层22a的宽度方向两端的位置相对于粘接层13a1的宽度方向两端的位置位于外侧，第2相位差层22a具有未固定于粘接层13a1的非固定区域(图1(d)中以左低右高的斜线表示的部分)。因而，当从相位差层层叠体40a剥离第2基材层21a时，将图1(d)所示的第2相位差层22a分离为固定于粘接层13a1的区域(图1(e)所示的第2相位差层22a1)和向第2基材层21a转移的非固定区域(图1(d)及(e)中以左低右高的斜线表示的部分)，如图1(e)所示，可以得到在宽度方向剖面中第2相位差层22a1的宽度方向两端的位置与带有粘接层的第1层叠部10a1的粘接层13a1的宽度方向两端的位置相同的相位差膜50a。
在相位差膜50a的制造工序中进行表面活化处理时，特别是当像基于图7(a)～(d)说明的相位差层层叠体40p那样，第1相位差层12p与第2相位差层22p直接接触时，有易于产生第1相位差层12p的一部分12’p向第2相位差层22p转移、或者第2相位差层22p的一部分向第1相位差层12p转移的现象的趋势。
与之不同，利用本实施方式的制造方法得到的相位差膜50a中，第1相位差层12a1与第2相位差层22a1夹隔着粘接层13a1相面对，不存在第1相位差层12a1与第2相位差层22a1不夹隔着粘接层13a1相面对的区域。因此，在相位差膜50a中，没有第1相位差层12a1与第2相位差层22a1直接接触的情况，因而第1相位差层12a1的一部分向第2相位差层22a1转移、或第2相位差层22a1的一部分向第1相位差层12a1转移可以得到防止。由此，在使用相位差膜50a制造后述的光学层叠体70a时，可以抑制光学层叠体70a的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
(光学层叠体的制造方法)
图2(a)～(c)是示意性地表示本实施方式的光学层叠体70a的制造方法的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。
本实施方式的光学层叠体70a的制造方法具有：
准备相位差膜50a的工序(图2(a))、
准备光学膜60a的工序(图2(a))、以及
将光学膜60a夹隔着光学膜用粘接层62a层叠于因剥离第2基材层21a(第1剥离层)而露出的第2相位差层22a1的工序(图2(b))。
本实施方式的光学层叠体70a的制造方法也可以还具有剥离第1基材层11a1(第2剥离层)的工序(图2(c))，也可以在因剥离第1基材层11a1而露出的第1相位差层12a1上层叠光学层叠体用粘接层。
以下，基于附图进行具体说明。图2(c)所示的光学层叠体70a的制造方法中，首先，如图2(a)所示，准备相位差膜50a和光学膜60a。相位差膜50a及光学膜60a为长条状的膜状物，一边连续地运送相位差膜50a及光学膜60a，一边进行后述的工序。
然后，如图2(b)所示，将光学膜60a夹隔着光学膜用粘接层62a层叠于相位差膜50a的第2相位差层22a1。此时，可以先在光学膜60a上设置光学膜用粘接层62a，再将该光学膜用粘接层62a与相位差膜50a的第2相位差层22a1贴合，也可以先在相位差膜50a的第2相位差层22a1上设置光学膜用粘接层62a，再将该光学膜用粘接层62a与光学膜60a贴合。
在夹隔着光学膜用粘接层62a将光学膜60a与相位差膜50a层叠后，剥离相位差膜50a中所含的第1基材层11a1(第2剥离层)，由此得到图2(c)所示的光学层叠体70a。光学层叠体70a如图2(c)所示，依次层叠有第1相位差层12a1、粘接层13a1、第2相位差层22a1、光学膜用粘接层62a、以及光学膜60a。光学层叠体70a也可以在因剥离第1基材层11a1而露出的第1相位差层12a1上，形成未图示的光学层叠体用粘接层。光学层叠体用粘接层可以在贴合于有机EL显示装置、液晶显示装置等的显示面板时使用。
光学膜60a的宽度方向两端的位置在光学层叠体70a的宽度方向剖面中，可以与第2相位差层22a1、粘接层13a1及第1相位差层12a1中的任意个的宽度方向两端的位置相同，也可以与它们的任意一个都不相同。例如，光学膜60a的宽度方向的长度可以如图2(c)所示，比第2相位差层22a1、粘接层13a1及第1相位差层12a1的任意一个都长，也可以比这些层的任意一个都短。
光学膜用粘接层62a的宽度方向两端的位置优选在光学层叠体70a的宽度方向剖面中，与光学膜60a的宽度方向两端的位置相同、或与该位置相比更靠内侧。另外，光学膜用粘接层62a的宽度方向两端的位置优选与第2相位差层22a1、粘接层13a1及第1相位差层12a1中的任意个的宽度方向两端的位置相同、或与该位置相比更靠宽度方向内侧。由此，在运送光学层叠体70a时，可以防止光学膜用粘接层62a向光学层叠体70a的宽度方向外侧冒出而附着于运送路径上、污染运送路径。
如上所述，图1(e)所示的相位差膜50a中，由于没有第1相位差层12a1与第2相位差层22a1直接接触的情况，因此第1相位差层12a1的一部分向第2相位差层22a1转移、或第2相位差层22a1的一部分向第1相位差层12a1转移可以得到防止。因此，不会像基于图7(a)～(d)说明的相位差层层叠体40p那样在第1相位差层12p产生脱落部p，可以抑制像光学层叠体70p那样端部发生断裂、抑制制造中的制品、运送路径受到污染，制造图2(c)所示的光学层叠体70a。
本实施方式的相位差膜的制造方法及光学层叠体的制造方法也可以变更为以下所示的变形例。可以将上述的实施方式及下述所示的变形例任意地组合。
(第1实施方式的变形例1)
本实施方式的制造方法中，可以除去带有粘接层的第1层叠部10a的宽度方向的一个第1端部14a。该情况下，在除去了第1端部14a的一侧，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂，抑制制造中的制品、运送路径受到污染。
(第1实施方式的变形例2)
本实施方式的制造方法中，可以仅对任意一方的表面进行表面活化处理。为了带有粘接层的第1层叠部10a1的粘接层13a1与第2层叠部20a的第2相位差层22a易于良好地贴合，优选对带有粘接层的第1层叠部10a1的粘接层13a1侧的表面、以及第2层叠部20a的第2相位差层22a侧的表面双方进行表面活化处理。
本实施方式的制造方法中，可以对除去第1端部14a前的带有粘接层的第1层叠部10a的粘接层13a侧的表面进行表面活化处理。该情况下，也可以仅对除去第1端部14a前的带有粘接层的第1层叠部10a的粘接层13a侧的表面、以及第2层叠部20a的第2相位差层22a侧的表面中的任意一方的表面进行表面活化处理。为了有效地发挥其效果，优选对除去第1端部14a后的带有粘接层的第1层叠部10a1进行表面活化处理。
(第1实施方式的变形例3)
本实施方式的制造方法中，可以是粘接层的宽度方向上的仅一个端部的位置相对于第1相位差层的端部的位置更靠宽度方向内侧。该情况下，只要在除去第1端部的工序中，除去带有粘接层的第1层叠部的粘接层的上述一个端部侧的第1端部即可。
(第1实施方式的变形例4)
本实施方式的制造方法中，可以第1剥离层为第1基材层11a1、第2剥离层为第2基材层21a。该情况下，可以在剥离第1基材层11a1而露出的第1相位差层12a1上夹隔着光学膜用粘接层层叠光学膜，在剥离第2基材层21a而露出的第2相位差层22a1上形成光学层叠体用粘接层。或者，可以在剥离第1基材层11a1而露出的第1相位差层12a1上先层叠光学层叠体用粘接层，其后，在剥离第2基材层21a而露出的第2相位差层22a1上夹隔着光学膜用粘接层层叠光学膜。
[第2实施方式]
(相位差膜的制造方法)
图3(a)～(d)是示意性地表示本实施方式的相位差膜50b(液晶膜)的制造方法的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。本实施方式的相位差膜50b的制造方法具有：
准备依次包含第1基材层11b、第1相位差层12b(第1液晶层)、以及粘接层13b的带有粘接层的第1层叠部10b的工序(图3(a))；
准备包含第2基材层21b及第2相位差层22b(第2液晶层)的第2层叠部20b的工序(图3(b))；
对带有粘接层的第1层叠部10b的粘接层13b侧的表面、以及第2层叠部20b的第2相位差层22b侧的表面进行表面活化处理的工序；以及
将带有粘接层的第1层叠部10b的粘接层13b与第2层叠部20b的第2相位差层22b贴合而得到相位差层层叠体40b(液晶层层叠体)的工序(图3(c))。
图3(a)所示的带有粘接层的第1层叠部10b在其宽度方向剖面中，粘接层13b的宽度方向两端的位置相对于第1相位差层12b的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
图3(c)所示的相位差层层叠体40b在其宽度方向剖面中，粘接层13b的宽度方向两端的位置与第2相位差层22b的宽度方向两端的位置相同。相位差膜50b的制造方法也可以还具有剥离第2基材层21b(第1剥离层)的工序(图3(d))。
以下，基于附图进行具体说明。图3所示的制造方法中，首先，准备如图3(a)所示依次包含第1基材层11b、第1相位差层12b、以及粘接层13b的带有粘接层的第1层叠部10b、和如图3(b)所示包含第2基材层21b及第2相位差层22b的第2层叠部20b。带有粘接层的第1层叠部10b及第2层叠部20b为长条状的膜状物，一边连续地运送带有粘接层的第1层叠部10b及第2层叠部20b，一边进行后述的工序。宽度方向W是与膜状物的长度方向正交的方向。
对于带有粘接层的第1层叠部10b所具有的第1基材层11b、第1相位差层12b及粘接层13b，由于与图1(a)所示的带有粘接层的第1层叠部10a所具有的第1基材层11a、第1相位差层12a、以及粘接层13a相同，因此省略其说明。
图3(b)所示的第2层叠部20b在其宽度方向剖面中，第2基材层21b的宽度方向两端的位置与第2相位差层22b的宽度方向两端的位置相同。
然后，在对带有粘接层的第1层叠部10b的粘接层13b侧的表面、以及第2层叠部20b的第2相位差层22b侧的表面进行表面活化处理后，将带有粘接层的第1层叠部10b的粘接层13b与第2层叠部20b的第2相位差层22b贴合，得到图3(c)所示的相位差层层叠体40b。其后，从相位差层层叠体40b剥离第2基材层21b(第1剥离层)，由此得到图3(d)所示的相位差膜50b。
对带有粘接层的第1层叠部10b的粘接层13b侧的表面、以及第2层叠部20b的第2相位差层22b侧的表面进行的表面活化处理可以如先前的实施方式中说明所示地进行。本实施方式的表面活化处理中，优选以使带有粘接层的第1层叠部10b的第1相位差层12b的粘接层13b侧的表面、粘接层13b的表面(与第1相位差层12b相反一侧的表面)、以及第2相位差层22b的表面(与第2基材层21b相反一侧的表面)各自的水接触角小于100°的方式进行处理，更优选以小于90°的方式进行处理，进一步优选以小于80°的方式进行处理。
相位差层层叠体40b在其宽度方向剖面中，优选如图3(c)所示，粘接层13b的宽度方向两端的位置与第2层叠部20b(第2基材层21b及第2相位差层22b)的宽度方向两端的位置相同。从所得的相位差层层叠体40b剥离第2基材层21b，由此可以得到图3(d)所示的相位差膜50b。
在相位差膜50a的制造工序中进行表面活化处理时，特别是当像基于图7(a)～(d)说明的相位差层层叠体40p那样第1相位差层12p与第2相位差层22p直接接触时，则有易于产生第1相位差层12p的一部分12’p向第2相位差层22p转移、或者第2相位差层22p的一部分向第1相位差层12p转移的现象的趋势。
与之不同，利用本实施方式的制造方法得到的相位差膜50b中，第1相位差层12b与第2相位差层22b夹隔着粘接层13b相面对，不存在第1相位差层12b与第2相位差层22b不夹隔着粘接层13b相面对的区域。因此，在相位差膜50b中，没有第1相位差层12b与第2相位差层22b直接接触的情况，因而第1相位差层12b的一部分向第2相位差层22b转移、或第2相位差层22b的一部分向第1相位差层12b转移可以得到防止。由此，在使用相位差膜50b制造后述的光学层叠体70b时，可以抑制光学层叠体70b的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
(光学层叠体的制造方法)
图4(a)～(c)是示意性地表示本实施方式的光学层叠体70b的制造方法的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。图4(c)所示的制造方法具有：
准备相位差膜50b的工序(图4(a))、
准备光学膜60b的工序(图4(a))、以及
将光学膜60b夹隔着光学膜用粘接层62b层叠于因剥离第2基材层21b(第1剥离层)而露出的第2相位差层22b的工序(图4(b))。
本实施方式的光学层叠体70b的制造方法也可以还具有剥离第1基材层11b(第2剥离层)的工序(图4(c))，也可以在因剥离第1基材层11b而露出的第1相位差层12b1上层叠光学层叠体用粘接层。
以下，基于附图进行具体说明。图4所示的制造方法中，首先，如图4(a)所示，准备相位差膜50b和光学膜60b。相位差膜50b及光学膜60b为长条状的膜状物，一边连续地运送相位差膜50b及光学膜60b，一边进行后述的工序。
然后，如图4(b)所示，将光学膜60b夹隔着光学膜用粘接层62b层叠于相位差膜50b的第2相位差层22b。此时，可以先在光学膜60b上设置光学膜用粘接层62b，再将该光学膜用粘接层62b与相位差膜50b的第2相位差层22b贴合，也可以先在相位差膜50b的第2相位差层22b上设置光学膜用粘接层62b，再将该光学膜用粘接层62b与光学膜60b贴合。
在夹隔着光学膜用粘接层62b将光学膜60b与相位差膜50b层叠后，剥离相位差膜50b中所含的第1基材层11b(第2剥离层)，由此可以得到图4(c)所示的光学层叠体70b。光学层叠体70b如图4(c)所示，依次层叠有第1相位差层12b1、粘接层13b、第2相位差层22b、光学膜用粘接层62b、以及光学膜60b。光学层叠体70b中，在其宽度方向剖面中，第1相位差层12b1的宽度方向两端的位置与粘接层13b的宽度方向两端的位置相同。
当将第1基材层11b剥离时，则如图4(c)所示第1相位差层12b的一部分易于向剥离了的第1基材层11b转移。这是因为，图4(b)所示的层叠体中，在其宽度方向剖面中，第1相位差层12b的宽度方向两端的位置相对于粘接层13b的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧，第1相位差层12b具有未固定于粘接层13的非固定区域(图4(b)中以左低右高的斜线表示的部分)。因而，当从图4(b)所示的层叠体剥离第1基材层11b时，将图4(b)所示的第1相位差层12b分离为固定于粘接层13b的区域(图4(c)所示的第1相位差层12b1)、和向第1基材层11b转移的非固定区域(图4(b)及(c)中以左低右高的斜线表示的部分)，如图4(c)所示，可以得到在宽度方向剖面中第1相位差层12b1的宽度方向两端的位置与粘接层13的宽度方向两端的位置相同的光学层叠体70b。
光学层叠体70b也可以在因剥离第1基材层11b而露出的第1相位差层12b1上形成未图示的光学层叠体用粘接层。光学层叠体用粘接层可以在贴合于有机EL显示装置、液晶显示装置等的显示面板时使用。
光学膜60b宽度方向的两端的位置在光学层叠体70b的宽度方向剖面中，可以与第2相位差层22b、粘接层13b及第1相位差层12b1中的任意个的宽度方向的两端的位置相同，也可以与它们的任意一个都不相同。例如，光学膜60b的宽度方向的长度可以如图4(c)所示，比第2相位差层22b、粘接层13b及第1相位差层12b1的任意一个都长，也可以比这些层的任意一个都短。
光学膜用粘接层62b的宽度方向的两端的位置优选在光学层叠体70b的宽度方向剖面中，与光学膜60b的宽度方向两端的位置相同、或相对于该位置更靠宽度方向内侧。另外，光学膜用粘接层62b的宽度方向两端的位置优选与第2相位差层22b、粘接层13b及第1相位差层12b1中的任意个的宽度方向两端的位置相同、或相对于该位置更靠宽度方向内侧。由此，在运送光学层叠体70b时，可以防止光学膜用粘接层62b向光学层叠体70b的宽度方向外侧冒出而附着于运送路径上、污染运送路径。
图3(d)所示的相位差膜50b中，由于没有第1相位差层12b1与第2相位差层22b直接接触的情况，因此第1相位差层12b1的一部分向第2相位差层22b转移、或第2相位差层22b的一部分向第1相位差层12b1转移可以得到防止。因此，不会像基于图7(a)～(d)说明的相位差层层叠体40p那样在第1相位差层12p中产生脱落部p，可以抑制像光学层叠体70p那样端部发生断裂、抑制制造中的制品、运送路径受到污染，制造图4(c)所示的光学层叠体70b。
本实施方式的相位差膜的制造方法及光学层叠体的制造方法也可以变更为以下所示的变形例。另外，也可以将上述的实施方式及下述所示的变形例任意地组合。
(第2实施方式的变形例1)
本实施方式的制造方法中，粘接层13b的宽度方向两端的位置可以相对于第2层叠部(第2基材层及第2相位差层)的宽度方向两端的位置位于外侧。
(第2实施方式的变形例2)
本实施方式的制造方法中，可以使用具有与先前的实施方式中说明的图1(b)所示的第2层叠部20a相同的结构的物体。
该情况下，可以以在相位差层层叠体的宽度方向剖面中使粘接层的宽度方向两端的位置与第2相位差层的宽度方向两端的位置相同的方式得到相位差层层叠体，也可以以使粘接层的宽度方向两端的位置相对于第2相位差层的宽度方向两端的位置位于外侧的方式得到相位差层层叠体。
在使用第2基材层的宽度方向两端的位置相对于第2相位差层的宽度方向两端的位置位于外侧的第2层叠部得到的相位差层层叠体中，在粘接层的宽度方向两端的位置相对于第2相位差层的宽度方向两端的位置位于外侧的情况下，有第2基材层与粘接层发生粘接的情况。当第2基材层与粘接层粘接时，则有难以剥离第2基材层、或难以获得相位差膜的趋势。该情况下，通过以如下方式除去相位差层层叠体的两端可以容易地剥离第2基材层，即，在相位差层层叠体的宽度方向剖面中，使粘接层的宽度方向两端的位置与第2基材层的宽度方向两端的位置相同的方式。或者，也可以从图1(b)所示的第2层叠部20b预先除去宽度方向两端部，得到图3(b)所示的第2层叠部20b，使用该第2层叠部20b，利用基于图3(c)及(d)说明的工序得到相位差层层叠体40b及相位差膜50b。
(第2实施方式的变形例3)
本实施方式的制造方法中，可以仅对任意一方的表面进行表面活化处理。为了易于将带有粘接层的第1层叠部10b的粘接层13b与第2层叠部20b的第2相位差层22b良好地贴合，优选对带有粘接层的第1层叠部10b的粘接层13b侧的表面、以及第2层叠部20b的第2相位差层22b侧的表面双方进行表面活化处理。
(第2实施方式的变形例4)
本实施方式的制造方法中，可以是粘接层的宽度方向上的仅一个端部的位置相对于第1相位差层的端部的位置更靠宽度方向内侧。
该情况下，相位差层层叠体只要在其宽度方向剖面中，使粘接层的上述的一个端部的位置与第2相位差层的端部的位置相同、或相对于该位置位于宽度方向外侧即可。
(第2实施方式的变形例5)
本实施方式的制造方法中，可以第1剥离层为第1基材层11b、第2剥离层为第2基材层21b。该情况下，只要在剥离第1基材层11b而露出的第1相位差层上夹隔着光学膜用粘接层层叠光学膜即可。图3(c)所示的相位差层层叠体40b中，第1相位差层12b的宽度方向两端的位置相对于粘接层13b的宽度方向两端的位置位于外侧，第1相位差层12b具有未固定于粘接层13b的非固定区域、和固定于粘接层13b的区域。因此，当剥离第1基材层11b时，易于将第1相位差层12b分离为第1相位差层12b的非固定区域和固定于粘接层13b的区域。因而，在将第1剥离层设为第1基材层11b的情况下，可以将光学膜夹隔着光学膜用粘接层层叠于第1相位差层12b的固定于粘接层13b的区域上。另外，在第1剥离层包含第1基材层的情况下，在剥离第2基材层21b而露出的第2相位差层22b上形成光学层叠体用粘接层即可。
或者，也可以在剥离第1基材层11b而露出的第1相位差层上层叠光学层叠体用粘接层，其后，在剥离第2基材层21b而露出的第2相位差层上夹隔着光学膜用粘接层层叠光学膜。
[第3实施方式]
(相位差膜的制造方法)
图5(a)～(e)是示意性地表示本实施方式的相位差膜50c(液晶膜)的制造方法的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。本实施方式的相位差膜50c的制造方法例如具有：
准备依次包含第1基材层11c、第1相位差层12c(第1液晶层)、以及粘接层13c的带有粘接层的第1层叠部10c的工序(图5(a))；
准备包含第2基材层21c及第2相位差层22c(第2液晶层)的第2层叠部20c的工序(图5(b))；
对带有粘接层的第1层叠部10c的粘接层13c侧的表面、以及第2层叠部20c的第2相位差层22c侧的表面进行表面活化处理的工序；
将带有粘接层的第1层叠部10c的粘接层13c与第2层叠部20c的第2相位差层22c贴合而得到相位差层层叠体40c(液晶层层叠体)的工序(图5(c))；以及
除去相位差层层叠体40c的宽度方向两端(第2端部44c)的工序(图5(d))。
图5(a)所示的带有粘接层的第1层叠部10c中，在其宽度方向剖面中，粘接层13c的宽度方向两端的位置相对于第1相位差层12c的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
图5(c)所示的相位差层层叠体40c中，在其宽度方向剖面中，粘接层13c的宽度方向两端的位置相对于第2相位差层22c的宽度方向端部的位置更靠宽度方向内侧，
图5(c)所示的除去第2端部44c的工序中，以如下方式除去第2端部44c，即，在除去第2端部44c后的相位差层层叠体40c1(除去第2端部后的液晶层层叠体)的宽度方向剖面中，使粘接层13c1的宽度方向两端的位置与第1相位差层12c1的宽度方向两端的位置相同，并且与第2相位差层22c1的宽度方向两端的位置相同(图5(d))的方式。相位差膜50c的制造方法也可以还具有剥离第2基材层21c1(第1剥离层)的工序(图5(e))。
以下，基于附图进行具体说明。图5所示的制造方法中，首先，准备如图5(a)所示依次包含第1基材层11c、第1相位差层12c、以及粘接层13c的带有粘接层的第1层叠部10c、和如图5(b)所示包含第2基材层21c及第2相位差层22c的第2层叠部20c。带有粘接层的第1层叠部10c及第2层叠部20c为长条状的膜状物，一边连续地运送带有粘接层的第1层叠部10c及第2层叠部20c，一边进行后述的工序。宽度方向W是与膜状物的长度方向正交的方向。
对于带有粘接层的第1层叠部10c所具有的第1基材层11c、第1相位差层12c及粘接层13c，由于与先前的实施方式中说明的图1(a)所示的带有粘接层的第1层叠部10a所具有的第1基材层11a、第1相位差层12a、以及粘接层13a相同，因此省略其说明。另外，对于第2层叠部20c所具有的第2基材层21c及第2相位差层22c，由于与先前的实施方式中说明的图1(b)所示的第2层叠部20a所具有的第2基材层21a及第2相位差层22a相同，因此省略其说明。
然后，对带有粘接层的第1层叠部10c的粘接层13c侧的表面、以及第2层叠部20c的第2相位差层22c侧的表面进行表面活化处理后，将带有粘接层的第1层叠部10c的粘接层13c与第2层叠部20c的第2相位差层22c贴合，得到图5(c)所示的相位差层层叠体40c。所得的相位差层层叠体40c在其宽度方向剖面中，如图5(c)所示，粘接层13c的宽度方向两端的位置相对于第2相位差层22c的宽度方向端部的位置更靠内侧。
对带有粘接层的第1层叠部10c的粘接层13c侧的表面、以及第2层叠部20c的第2相位差层22c侧的表面进行的表面活化处理可以如先前的实施方式中说明所示地进行，表面活化处理后的各表面的水接触角的大小也如先前的实施方式中说明所示。
接下来，对于图5(c)所示的相位差层层叠体40c，用虚线Xc切断其宽度方向两端，除去相对于虚线Xc更靠宽度方向外侧的第2端部44c。由此，如图5(d)所示，得到依次具有第1基材层11c1、第1相位差层12c1、粘接层13c1、第2相位差层22c1、以及第2基材层21c1的、除去第2端部44c后的相位差层层叠体40c1(以下有时称作“相位差层层叠体40c1”。)。其后，从相位差层层叠体40c1剥离第2基材层21c1(第1剥离层)，由此得到图5(e)所示的相位差膜50c。
图5(c)中的虚线Xc的位置以如下方式确定，即，在除去第2端部44c后的相位差层层叠体40c1的宽度方向剖面中，使粘接层13c1的宽度方向两端的位置与第1相位差层12c1的宽度方向两端的位置相同，并且与第2相位差层22c1的宽度方向两端的位置相同的方式。图5(c)所示的相位差层层叠体40c中，虚线Xc的位置通常以使第2端部44c包含第1基材层11c、第1相位差层12c、第2相位差层22c及第2基材层21c的端部的方式确定，优选以包含第1基材层11c、第1相位差层12c、粘接层13c、第2相位差层22c及第2基材层21c的端部的方式确定。从相位差层层叠体40c的宽度方向两端除去的第2端部44c中各自所含的层既可以彼此相同，也可以彼此不同。
在通过除去第2端部44c而得的相位差层层叠体40c1中，如图5(d)所示，在其宽度方向剖面中，粘接层13c1的宽度方向两端的位置与第1基材层11c1、第1相位差层12c1、第2相位差层22c1及第2基材层21c1的宽度方向两端的位置相同。
规定第2端部44c的区域的虚线Xc的位置是相对于相位差层层叠体40c的位于宽度方向最外侧的端部在宽度方向内侧通常0.5cm以上的区域，也可以是1.0cm以上的区域，也可以是1.5cm以上的区域，另外，通常为20cm以下的区域，优选为15cm以下的区域，更优选为10cm以下的区域。从相位差层层叠体40c的位于宽度方向最外侧的端部到虚线Xc的位置为止的距离在相位差层层叠体40c的宽度方向两端可以相同，也可以彼此不同。
相位差膜50c可以通过从相位差层层叠体40c1剥离第2基材层21c1(第1剥离层)而得到。相位差膜50c如图5(e)所示，具有第1基材层11c1、第1相位差层12c1、粘接层13c1及第2相位差层22c1。相位差膜50c中，在其宽度方向剖面中，粘接层13c1的宽度方向两端的位置与第1基材层11c1、第1相位差层12c1及第2相位差层22c1的宽度方向两端的位置相同。
图5(c)所示的相位差层层叠体40c中，在其宽度方向剖面中，粘接层13c的宽度方向两端的位置相对于第1相位差层12c的宽度方向两端的位置及第2相位差层22c的宽度方向端部的位置更靠内侧。因此，与上述的图7(a)所示的相位差层层叠体40p相同，当第1相位差层12c与第2相位差层22c直接接触时，有易于产生第1相位差层12c的一部分向第2相位差层22c转移、或者第2相位差层22c的一部分向第1相位差层12c转移的现象的趋势。
因而，本实施方式中，除去相位差层层叠体40c的宽度方向两端(第2端部44c)(图5(d))，在除去第2端部44c后的相位差层层叠体40c1的宽度方向剖面中，使粘接层13c1的宽度方向两端的位置与第1相位差层12c1的宽度方向两端的位置相同，并且与第2相位差层22c1的宽度方向两端的位置相同。因此，即使在图5(c)所示的相位差层层叠体40c的宽度方向两端，产生第1相位差层12c的一部分向第2相位差层22c转移、或者第2相位差层22c的一部分向第1相位差层12c转移的现象，也可以将产生此种现象的部分作为第2端部44c除去。由此，可以由除去第2端部44c后的相位差层层叠体40c1制造相位差膜50c，因此在使用该相位差膜50c制造光学层叠体时，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
(光学层叠体的制造方法)
本实施方式的光学层叠体的制造方法具有：
准备相位差膜50c的工序、
准备光学膜的工序、以及
将光学膜夹隔着光学膜用粘接层层叠于因剥离第2基材层21c1(第1剥离层)而露出的第2相位差层22c1的工序。
本实施方式的光学层叠体的制造方法也可以还具有剥离第1基材层11c1(第2剥离层)的工序，也可以在因剥离第1基材层11c1而露出的第1相位差层12c1上层叠光学层叠体用粘接层。
本实施方式的光学层叠体的制造方法除了使用相位差膜50c以外，与基于图2(a)～(c)说明的制造方法相同，因此省略详细的说明。
关于图5(e)所示的相位差膜50c，在相位差层层叠体40c中，将第1相位差层12c与第2相位差层22c直接接触、有可能产生脱落部p或来自于脱落部的转移部分的部分作为第2端部44c除去。因此，可以抑制像基于图7(a)～(d)说明的光学层叠体70p那样端部发生断裂、抑制制造中的制品、运送路径受到污染，恰当地制造光学层叠体。
本实施方式的相位差膜的制造方法及光学层叠体的制造方法也可以变更为以下所示的变形例。另外，也可以将上述的实施方式及下述所示的变形例任意地组合。
(第3实施方式的变形例1)
本实施方式的制造方法中，可以除去相位差层层叠体40c的宽度方向的一个第2端部44c。该情况下，在除去了第2端部44c的一侧，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂、抑制制造中的制品、运送路径受到污染。
(第3实施方式的变形例2)
本实施方式的制造方法中，可以以如下方式除去第2端部44c，即，使粘接层13c1的宽度方向两端的位置与第1相位差层12c1的宽度方向两端的位置相同的方式、或者与第2相位差层22c1的宽度方向两端的位置相同的方式。利用该操作，也可以抑制光学层叠体的端部发生断裂、抑制制造中的制品、运送路径受到污染。
(第3实施方式的变形例3)
本实施方式的制造方法中，可以仅对任意一方的表面进行表面活化处理。为了易于将带有粘接层的第1层叠部10c的粘接层13c与第2层叠部20c的第2相位差层22c良好地贴合，优选对带有粘接层的第1层叠部10c的粘接层13c侧的表面、以及第2层叠部20c的第2相位差层22c侧的表面双方进行表面活化处理。
(第3实施方式的变形例4)
本实施方式的制造方法中，可以是粘接层的宽度方向上的仅一个端部的位置相对于第1相位差层的端部的位置更靠宽度方向内侧。
该情况下，在相位差层层叠体中，除去带有粘接层的第1层叠部的粘接层的上述一个端部侧的第2端部即可。
(第3实施方式的变形例5)
本实施方式的制造方法中，可以第1剥离层为第1基材层11c1、第2剥离层为第2基材层21c1。该情况下，可以在剥离第1基材层11c1而露出的第1相位差层12c1上夹隔着光学膜用粘接层层叠光学膜，在剥离第2基材层21c1而露出的第2相位差层22c1上形成光学层叠体用粘接层。或者也可以在剥离第1基材层11c1而露出的第1相位差层12c1上先层叠光学层叠体用粘接层，其后，在剥离第2基材层21c而露出的第2相位差层22c1上夹隔着光学膜用粘接层层叠光学膜。
[第4实施方式]
(相位差膜的制造方法)
图6(a)～(e)是示意性地表示本实施方式的相位差膜50d的制造方法的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。本实施方式的相位差膜50d(液晶膜)的制造方法例如具有：
准备依次包含第1基材层11d、第1相位差层12d(第1液晶层)、以及粘接层13d的带有粘接层的第1层叠部10d的工序(图6(a))；
准备包含第2基材层21d及第2相位差层22d(第2液晶层)的第2层叠部20d的工序(图6(b))；
对带有粘接层的第1层叠部10d的粘接层13d侧的表面、以及第2层叠部20d的第2相位差层22d侧的表面进行表面活化处理的工序；
将带有粘接层的第1层叠部10d的粘接层13d与第2层叠部20d的第2相位差层22d贴合而得到第1相位差层层叠体40d(第1液晶层层叠体)的工序(图6(c))；
剥离第1相位差层层叠体40d的第2基材层21d(第1剥离层)而得到第2相位差层层叠体30d(第2液晶层层叠体)的工序(图6(d))；以及
除去第2相位差层层叠体30d的宽度方向两端(第3端部34d)的工序。
图6(a)所示的带有粘接层的第1层叠部10d中，在其宽度方向剖面中，粘接层13d的宽度方向两端的位置相对于第1相位差层12d的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
图6(c)所示的第1相位差层层叠体40d中，在其宽度方向剖面中，粘接层13d的宽度方向两端的位置相对于第2相位差层22d的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
图6(d)所示的除去第3端部34d的工序以如下方式除去第3端部34d，即，在除去第3端部34d后的第2相位差层层叠体30d2(除去第3端部后的第2液晶层层叠体)的宽度方向剖面中，使粘接层13d2的宽度方向两端的位置与第1相位差层12d2的宽度方向两端的位置相同，并且与第2相位差层22d2的宽度方向两端的位置相同的方式(图6(e))。
以下，基于附图进行具体说明。图6所示的制造方法中，首先，准备如图6(a)所示依次包含第1基材层11d、第1相位差层12d、以及粘接层13d的带有粘接层的第1层叠部10d、和如图6(b)所示包含第2基材层21d及第2相位差层22d的第2层叠部20d。带有粘接层的第1层叠部10d及第2层叠部20d为长条状的膜状物，一边连续地运送带有粘接层的第1层叠部10d及第2层叠部20d，一边进行后述的工序。宽度方向W是与膜状物的长度方向正交的方向。
对于带有粘接层的第1层叠部10d所具有的第1基材层11d、第1相位差层12d及粘接层13d，由于与图1(a)所示的带有粘接层的第1层叠部10a所具有的第1基材层11a、第1相位差层12a、以及粘接层13a相同，因此省略其说明。
对于第2层叠部20d所具有的第2基材层21d及第2相位差层22d，由于与图1(b)所示的第2层叠部20a所具有的第2基材层21a及第2相位差层22a相同，因此省略其说明。
然后，对带有粘接层的第1层叠部10d的粘接层13d侧的表面、以及第2层叠部20d的第2相位差层22d侧的表面进行表面活化处理后，将带有粘接层的第1层叠部10d的粘接层13d与第2层叠部20d的第2相位差层22d贴合，得到图6(c)所示的第1相位差层层叠体40d。第1相位差层层叠体40d中，在其宽度方向剖面中，如图6(c)所示，粘接层13c的宽度方向两端的位置相对于第2相位差层22c的宽度方向端部的位置更靠内侧。
对带有粘接层的第1层叠部10d的粘接层13d侧的表面、以及第2层叠部20d的第2相位差层22d侧的表面进行的表面活化处理可以如先前的实施方式中说明所示地进行，由于表面活化处理后的各表面的水接触角的大小也如先前的实施方式中说明所示，因此省略其说明。
接下来，从图6(c)所示的第1相位差层层叠体40d剥离第2基材层21d(第1剥离层)，得到第2相位差层层叠体30d(图6(d))。当从第1相位差层层叠体40d剥离第2基材层21d时，则如图6(d)所示，第2相位差层22d的一部分向剥离了的第2基材层21d转移。这是因为，图6(c)所示的第1相位差层层叠体40d中，在其宽度方向剖面中，第2相位差层22d的宽度方向两端的位置相对于粘接层13d的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧，第2相位差层22d具有未固定于粘接层13d的非固定区域(图6(c)中以左低右高的斜线表示的部分)。因而，当从第1相位差层层叠体40d剥离第2基材层21d时，将图6(c)所示的第2相位差层22d分离为固定于粘接层13d的区域(图6(d)所示的第2相位差层22d1)、和向第2基材层21d转移的非固定区域(图6(c)及(d)中以左低右高的斜线表示的部分)，如图6(d)所示，可以得到在宽度方向剖面中第2相位差层22d1的宽度方向两端的位置与粘接层13d的宽度方向两端的位置相同的第2相位差层层叠体30d。
然后，对于图6(d)所示的第2相位差层层叠体30d，用虚线Xd切断其宽度方向两端，除去相对于虚线Xd更靠宽度方向外侧的第3端部34d。由此，如图6(e)所示，得到依次具有第1基材层11d2、第1相位差层12d2、粘接层13d2、以及第2相位差层22d2的、除去第3端部34d后的第2相位差层层叠体30d2(以下有时称作“相位差层层叠体30d2”。)，可以制造相位差膜50d。
图6(d)中的虚线Xd的位置以如下方式确定，即，在除去第3端部34d后的第2相位差层层叠体30d2的宽度方向剖面中，使粘接层13d2的宽度方向两端的位置与第1相位差层12d2的宽度方向两端的位置相同，并且与第2相位差层22d2的宽度方向两端的位置相同的方式。图6(d)所示的第2相位差层层叠体30d中，虚线Xd的位置通常以使第3端部34d包含第1基材层11d、第1相位差层12d及第2相位差层22d的端部的方式确定，优选以包含第1基材层11d、第1相位差层12d、粘接层13d及第2相位差层22d的端部的方式确定。从第2相位差层层叠体30d的宽度方向两端除去的第3端部34d中各自所含的层既可以彼此相同，也可以彼此不同。
通过除去第3端部34d而得的第2相位差层层叠体30d2中，如图6(e)所示，在其宽度方向剖面中，粘接层13d2的宽度方向两端的位置与第1基材层11d2、第1相位差层12d2及第2相位差层22d2的宽度方向两端的位置相同。
规定第3端部34d的区域的虚线Xd的位置是相对于第2相位差层层叠体30d的位于宽度方向最外侧的端部在宽度方向内侧通常0.5cm以上的区域，也可以是1.0cm以上的区域，也可以是1.5cm以上的区域，另外，通常为20cm以下的区域，优选为15cm以下的区域，更优选为10cm以下的区域。从第2相位差层层叠体30d的位于宽度方向最外侧的端部到虚线Xd的位置为止的距离在第2相位差层层叠体30d的宽度方向两端可以相同，也可以彼此不同。
图6(c)所示的第1相位差层层叠体40d中，在其宽度方向剖面中，粘接层13d的宽度方向两端的位置相对于第1相位差层12d的宽度方向两端的位置及第2相位差层22d的宽度方向端部的位置更靠内侧。因此，与上述的图7(a)所示的相位差层层叠体40p相同，当第1相位差层12d与第2相位差层22d直接接触时，有易于产生第1相位差层12d的一部分向第2相位差层22d转移、或者第2相位差层22d的一部分向第1相位差层12d转移的现象的趋势。
因而，本实施方式中，在通过从第1相位差层层叠体40d剥离第2基材层21d而得到的第2相位差层层叠体30d(图6(d))中，除去其宽度方向两端(第3端部34d)。除去第3端部34d后的第2相位差层层叠体30d2中，在其宽度方向剖面中，粘接层13d2的宽度方向两端的位置与第1相位差层12d2的宽度方向两端的位置相同，并且与第2相位差层22d2的宽度方向两端的位置相同。由此，即使在第1相位差层层叠体40d的宽度方向两端，产生第1相位差层12d的一部分向第2相位差层22d转移、或者第2相位差层22d的一部分向第1相位差层12d转移的现象，也可以将产生此种现象的部分作为第3端部34d除去而得到第2相位差层层叠体30d2。在使用相位差膜50d制造光学层叠体时，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
(光学层叠体的制造方法)
本实施方式的光学层叠体的制造方法具有：
准备相位差膜50d的工序、
准备光学膜的工序、以及
将光学膜夹隔着光学膜用粘接层层叠于因剥离第2基材层21d(第1剥离层)而露出、且除去第3端部34d后的第2相位差层22d2的工序。
本实施方式的光学层叠体的制造方法也可以还具有剥离第1基材层11d2(第2剥离层)的工序，也可以在因剥离第1基材层11d2而露出的第1相位差层12d2上层叠光学层叠体用粘接层。
本实施方式的光学层叠体的制造方法除了使用相位差膜50d以外，与基于图2(a)～(c)说明的制造方法相同，因此省略详细的说明。
图6(e)所示的相位差膜50d中，在第1相位差层层叠体40d中，将第1相位差层12d与第2相位差层22d直接接触、有可能产生脱落部p或来自于脱落部的转移部分的部分作为第3端部34d除去。因此，可以抑制像基于图7(a)～(d)说明的光学层叠体70p那样端部发生断裂、抑制制造中的制品、运送路径受到污染，恰当地制造光学层叠体。
本实施方式的相位差膜的制造方法及光学层叠体的制造方法也可以变更为以下所示的变形例。另外，也可以将上述的实施方式及下述所示的变形例任意地组合。
(第4实施方式的变形例1)
本实施方式的制造方法中，可以除去第2相位差层层叠体30d的宽度方向的一个第3端部34d。该情况下，在除去第3端部34d的一侧，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂、抑制制造中的制品、运送路径受到污染。
(第4实施方式的变形例2)
本实施方式的制造方法中，可以以如下方式除去第3端部34d，即，使粘接层13d2的宽度方向两端的位置与第1相位差层12d2的宽度方向两端的位置相同，或者与第2相位差层22d2的宽度方向两端的位置相同的方式。利用该操作，也可以抑制光学层叠体的端部发生断裂、抑制制造中的制品、运送路径受到污染。
(第4实施方式的变形例3)
本实施方式的制造方法中，可以仅对任意一方的表面进行表面活化处理。为了易于将带有粘接层的第1层叠部10d的粘接层13d与第2层叠部20d的第2相位差层22d良好地贴合，优选对带有粘接层的第1层叠部10d的粘接层13d侧的表面、以及第2层叠部20d的第2相位差层22d侧的表面双方进行表面活化处理。
(第4实施方式的变形例4)
本实施方式的制造方法中，可以第1剥离层为第1基材层、第2剥离层为第2基材层。该情况下，也是除去剥离第1基材层而得的第2相位差层层叠体的宽度方向两端(第3端部)，在除去第3端部后的第2相位差层层叠体的宽度方向剖面中，使粘接层的宽度方向两端的位置与第1相位差层的宽度方向两端的位置相同，并且与第2相位差层的宽度方向两端的位置相同。此后，在除去第3端部后的第2相位差层层叠体的第1相位差层上夹隔着光学膜用粘接层层叠光学膜即可。
或者，也可以在剥离第1基材层11d而露出的第1相位差层上层叠光学层叠体用粘接层，其后，在剥离第2基材层21d而露出的第2相位差层上夹隔着光学膜用粘接层层叠光学膜。
以上，对本发明的实施方式及其变形例进行了说明，然而本发明并不限定于这些实施方式及其变形例，例如，也可以将上述的各实施方式及其变形例的各结构及各工序组合实施。以下，对所有的实施方式及其变形例中共同的各事项进行详细说明。
(第1基材层及第2基材层)
第1基材层及第2基材层具有作为支撑形成于这些基材层上的后述的第1取向层及第2取向层、以及第1液晶层及第2液晶层的支撑层的功能。
第1基材层及第2基材层优选为由树脂材料形成的膜。
作为树脂材料，例如使用透明性、机械强度、热稳定性、拉伸性等优异的树脂材料。具体而言，可以举出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系树脂；降冰片烯系聚合物等环状聚烯烃系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系树脂；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素及乙酸丙酸纤维素等纤维素酯系树脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系树脂；聚碳酸酯系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚芳酯系树脂；聚砜系树脂；聚醚砜系树脂；聚酰胺系树脂；聚酰亚胺系树脂；聚醚酮系树脂；聚苯硫醚系树脂；聚苯醚系树脂、以及它们的混合物、共聚物等。这些树脂当中，优选使用环状聚烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素酯系树脂及(甲基)丙烯酸系树脂中的任意种或它们的混合物。需要说明的是，上述所谓“(甲基)丙烯酸”，是指“丙烯酸及甲基丙烯酸中的至少1种”。
第1基材层及第2基材层可以是1种树脂或将2种以上的树脂混合而得的单层，也可以具有2层以上的多层结构。在具有多层结构的情况下，形成各层的树脂彼此可以相同也可以不同。
可以向形成由树脂材料形成的膜的树脂材料中添加任意的添加剂。作为添加剂，例如可以举出紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、防静电干扰剂、颜料、以及着色剂等。
第1基材层及第2基材层的厚度没有特别限定，然而一般从强度、处置性等操作性的方面考虑，优选为1～500μm，更优选为1～300μm，进一步优选为5～200μm。
在带有粘接层的第1层叠部具有后述的第1取向层的情况下、或第2层叠部具有后述的第2取向层的情况下，为了提高第1基材层与第1取向层的密合性、以及第2基材层与第2取向层的密合性，可以至少在第1基材层的形成第1取向层的一侧的表面、以及至少在第2基材层的形成第2取向层的一侧的表面，进行电晕处理、等离子体处理、火焰处理等，也可以形成底漆层等。另外，可以通过调整为了形成第1取向层及第2取向层而使用的取向层形成用的组合物的成分、为了形成第1液晶层及第2液晶层而使用的液晶层形成用的组合物的成分，来调整上述的密合性。
(第1取向层及第2取向层)
带有粘接层的第1层叠部可以在第1基材层与第1液晶层之间包含第1取向层。另外，第2层叠部可以在第2基材层与第2液晶层之间包含第2取向层。
第1取向层及第2取向层具有使形成于这些取向层上的第1液晶层及第2液晶层中所含的液晶化合物沿所期望的方向进行液晶取向的取向限制力。作为第1取向层及第2取向层，可以举出由取向性聚合物形成的取向性聚合物层、由光取向聚合物形成的光取向性聚合物层、在层表面具有凹凸图案或多个沟槽(groove)的沟槽取向层，第1取向层与第2取向层既可以是相同种类的层，也可以是不同种类的层。第1取向层及第2取向层的厚度通常为10～500nm，优选为10～200nm。
取向性聚合物层可以通过将在溶剂中溶解有取向性聚合物的组合物涂布于基材层(第1基材层或第2基材层)后除去溶剂、并根据需要进行摩擦处理而形成。该情况下，对于由取向性聚合物形成的取向性聚合物层而言，可以利用取向性聚合物的表面状态、摩擦条件来任意地调整取向限制力。
光取向性聚合物层可以通过将包含具有光反应性基团的聚合物或单体和溶剂的组合物涂布于基材层(第1基材层或第2基材层)、并照射偏振光而形成。该情况下，对于光取向性聚合物层而言，可以利用对光取向性聚合物的偏振光照射条件等来任意地调整取向限制力。
沟槽取向层例如可以利用如下的方法等来形成，即，对感光性聚酰亚胺膜表面夹隔着具有图案形状的狭缝的曝光用掩模进行曝光、显影等而形成凹凸图案的方法；在表面具有沟槽的板状的原盘上，形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，将该层向基材层(第1基材层或第2基材层)转印后进行固化的方法；在基材层(第1基材层或第2基材层)上形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，通过将具有凹凸的辊状的原盘压接于该层等而形成凹凸并使之固化的方法。
在上述说明过的第1剥离层及第2剥离层中，也可以包含第1取向层及第2取向层。即，在第1剥离层包含第2基材层的情况下，第1剥离层也可以包含第2取向层。同样地，在第2剥离层包含第1基材层的情况下，第2剥离层也可以包含第1取向层。对于第1剥离层包含第1基材层的情况、第2剥离层包含第2基材层的情况也相同。另外，在第1剥离层不包含第1取向层或第2取向层的情况下，在剥离第1剥离层后，第1取向层或第2取向层分别残留于第1液晶层上或第2液晶层上即可。同样地，在第2剥离层不包含第1取向层或第2取向层的情况下，在剥离第2剥离层后，第1取向层或第2取向层分别残留于第1液晶层上或第2液晶层上即可。需要说明的是，第1剥离层及第2剥离层中所含的层可以通过调整各层间的密合力的关系来设定，例如可以利用对第1基材层及第2基材层进行的上述的电晕处理、等离子体处理、火焰处理、底漆层、取向层形成用的组合物的成分、液晶层形成用的组合物等来调整。
在第1液晶层上残留有第1取向层的情况下，可以将光学层叠体用粘接层设于第1取向层上。另外，在第2液晶层上残留有第2取向层的情况下，可以将光学膜用粘接层设于第2取向层上。
(第1液晶层及第2液晶层)
第1液晶层及第2液晶层可以使用公知的液晶化合物来形成。液晶化合物的种类没有特别限定，可以使用棒状液晶化合物、圆盘状液晶化合物、以及它们的混合物。另外，液晶化合物可以是高分子液晶化合物，也可以是聚合性液晶化合物，也可以是它们的混合物。例如，在使用聚合性液晶化合物的情况下，将包含聚合性液晶化合物的组合物涂布于取向层(第1取向层或第2取向层)上而形成涂膜，使该涂膜固化，由此可以形成作为液晶固化层的第1液晶层、第2液晶层。或者也可以在基材层(第1基材层或第2基材层)上涂布液晶化合物而形成涂膜，将该涂膜与基材层一起拉伸，由此形成液晶层(第1液晶层或第2液晶层)。
第1液晶层及第2液晶层例如可以分别为第1相位差层及第2相位差层。第1相位差层及第2相位差层只要是对光赋予给定的相位差的层，就没有特别限定，例如可以举出作为1/2波长板、1/4波长板、正C板、逆波长分散性的1/4波长板等发挥作用的层。
在本实施方式的光学层叠体中光学膜为偏振膜的情况下，本实施方式的光学层叠体可以作为复合偏振板使用。在复合偏振板构成圆偏振板的情况下，优选以使复合偏振板的层结构为依次层叠有偏振层(直线偏振层)、1/2波长板、1/4波长板的结构、或者为依次层叠有偏振层(直线偏振层)、逆波长分散性的1/4波长板、正C板的结构的方式，来选择形成第1液晶层及第2液晶层(第1相位差层及第2相位差层)的液晶层的种类。
(液晶膜)
液晶膜包含第1液晶层及第2液晶层，例如，在第1液晶层及第2液晶层分别为第1相位差层及第2相位差层的情况下，可以为相位差膜。
(光学膜)
作为光学膜，可以举出偏振膜、反射膜、半透射型反射膜、增亮膜、光学补偿膜、带有防眩功能的膜等。另外，也可以是具有与上述的相位差膜(液晶膜)相同的结构的膜。光学膜可以是1层结构，也可以是2层以上的多层结构的层叠光学膜。
(粘接层)
粘接层可以利用粘接剂、粘合剂及它们的组合形成，通常为1层，也可以是2层以上。在粘接层包含2层以上的层的情况下，各层既可以由彼此相同的材料形成，也可以由不同的材料形成。
作为粘接剂，例如可以将水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂、粘合剂等中的1或2种以上组合形成。作为水系粘接剂，例如可以举出聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二剂型氨基甲酸酯系乳液粘接剂等。作为活性能量射线固化型粘接剂，是通过照射紫外线等活性能量射线而固化的粘接剂，例如可以举出包含聚合性化合物及光聚合性引发剂的粘接剂、包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘结剂树脂及光反应性交联剂的粘接剂等。作为上述聚合性化合物，可以举出光固化性环氧系单体、光固化性丙烯酸系单体、光固化性氨基甲酸酯系单体等光聚合性单体、来自于这些单体的低聚物等。作为上述光聚合引发剂，可以举出包含通过照射紫外线等活性能量射线而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基之类的活性种的物质的光聚合引发剂。
作为粘合剂，可以举出以(甲基)丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、硅酮系树脂等作为基础聚合物、并加入了异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物等交联剂的组合物。
粘接层优选使用活性能量射线固化型粘接剂形成，特别优选使用包含紫外线固化性的环氧系单体及光阳离子聚合引发剂的粘接剂形成。
(光学膜用粘接层)
光学膜用粘接层可以利用粘接剂、粘合剂及它们的组合形成。光学膜用粘接层通常为1层，然而也可以由2层以上的层形成。在光学膜用粘接层包含2层以上的层的情况下，各层既可以由彼此相同的材料形成，也可以由不同的材料形成。
作为形成光学膜用粘接层的粘接剂及粘合剂，可以举出与上述粘接层中所用的粘接剂及粘合剂的例子相同的物质。作为光学膜用粘接层，优选使用粘合剂。
(光学层叠体用粘接层)
光学层叠体用粘接层可以利用粘接剂、粘合剂及它们的组合形成。光学层叠体用粘接层通常为1层，然而也可以由2层以上的层形成。在光学层叠体用粘接层包含2层以上的层的情况下，各层既可以由彼此相同的材料形成，也可以由不同的材料形成。
作为形成光学层叠体用粘接层的粘接剂及粘合剂，可以举出与上述粘接层中所用的粘接剂及粘合剂的例子相同的物质。作为光学膜用粘接层，优选使用粘合剂。

Claims (23)

1.一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1液晶层以及粘接层的带有粘接层的第1层叠部的工序；
准备包含第2基材层及第2液晶层的第2层叠部的工序；
对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方进行表面活化处理的工序；
将所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向剖面中的包含所述粘接层的端部的第1端部的至少一方除去的工序；以及
将除去所述第1端部后的所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层、与所述第2层叠部的所述第2液晶层贴合而得到液晶层层叠体的工序，
所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面的至少一个端部，所述粘接层的端部的位置相对于所述第1液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧，
进行所述除去的工序在进行所述表面活化处理的工序之前或之后进行，
以在除去所述第1端部后的所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向剖面中，使除去了所述第1端部的一侧的所述粘接层的端部的位置与所述第1液晶层的端部的位置相同的方式，除去所述第1端部，
所述第1液晶层为相位差层，所述第2液晶层为相位差层。
2.根据权利要求1所述的液晶膜的制造方法，其中，
进行所述除去的工序在进行所述表面活化处理的工序之前进行。
3.根据权利要求1或2所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的宽度方向两端的位置相对于所述第1液晶层的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述第1端部为所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向两端。
4.一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1液晶层以及粘接层的带有粘接层的第1层叠部的工序；
准备包含第2基材层及第2液晶层的第2层叠部的工序；
对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方进行表面活化处理的工序；以及
将所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层、与所述第2层叠部的所述第2液晶层贴合而得到液晶层层叠体的工序，
所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面的至少一个端部，所述粘接层的宽度方向的端部的位置相对于所述第1液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧，
所述液晶层层叠体中，在所述宽度方向剖面的至少一个端部，所述粘接层的端部的位置与所述第2液晶层的端部的位置相同、或相对于所述第2液晶层的端部的位置位于宽度方向外侧，
所述第1液晶层为相位差层，所述第2液晶层为相位差层。
5.根据权利要求4所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的宽度方向两端的位置相对于所述第1液晶层的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述液晶层层叠体中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的宽度方向两端的位置与所述第2液晶层的宽度方向两端的位置相同、或相对于所述第2液晶层的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧。
6.根据权利要求4或5所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述液晶层层叠体中，在所述宽度方向剖面的至少一个端部，所述第2液晶层的所述端部的位置与所述第2基材层的端部的位置相同。
7.根据权利要求4或5所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述液晶层层叠体中，在其宽度方向剖面中，所述第2液晶层的宽度方向两端的位置与所述第2基材层的宽度方向两端的位置相同。
8.根据权利要求1或4所述的液晶膜的制造方法，其还具有将所述液晶层层叠体的包含所述第1基材层及所述第2基材层中的一方的第1剥离层剥离的工序。
9.一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1液晶层以及粘接层的带有粘接层的第1层叠部的工序，并且在所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向剖面的至少一个端部，所述粘接层的端部的位置相对于所述第1液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧；
准备包含第2基材层及第2液晶层的第2层叠部的工序；
对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方进行表面活化处理的工序；
将所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层、与所述第2层叠部的所述第2液晶层贴合而得到液晶层层叠体的工序，并且是以在所述液晶层层叠体的宽度方向剖面的所述至少一个端部，使所述粘接层的端部的位置相对于所述第2液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧的方式，得到液晶层层叠体；以及
将所述液晶层层叠体中的所述一个端部所处的一侧的包含所述粘接层的端部的第2端部除去的工序，
进行所述除去的工序，以在除去所述第2端部后的所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中，使除去了所述第2端部的一侧的所述粘接层的端部的位置与所述第1液晶层及所述第2液晶层的至少1个端部的位置相同的方式，除去所述第2端部，
所述第1液晶层为相位差层，所述第2液晶层为相位差层。
10.根据权利要求9所述的液晶膜的制造方法，其中，
进行所述除去的工序以在除去所述第2端部后的所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中，使除去了所述第2端部的一侧的所述粘接层的端部的位置与所述第1液晶层的端部的位置相同，并且与所述第2液晶层的端部的位置相同的方式，除去所述第2端部。
11.根据权利要求9或10所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的宽度方向两端的位置相对于所述第1液晶层的宽度方向两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述液晶层层叠体中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的两端的位置相对于所述第2液晶层的两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述第2端部为所述液晶层层叠体的宽度方向两端。
12.根据权利要求9或10所述的液晶膜的制造方法，其还具有将除去所述第2端部后的所述液晶层层叠体中的包含所述第1基材层及所述第2基材层中的一方的第1剥离层剥离的工序。
13.一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1液晶层以及粘接层的带有粘接层的第1层叠部的工序，并且在所述带有粘接层的第1层叠部的宽度方向剖面的至少一个端部，所述粘接层的端部的位置相对于所述第1液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧；
准备包含第2基材层及第2液晶层的第2层叠部的工序；
对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方进行表面活化处理的工序；
将所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层与所述第2层叠部的所述第2液晶层贴合而得到第1液晶层层叠体的工序，并且是以在所述第1液晶层层叠体的宽度方向剖面的所述至少一个端部，使所述粘接层的端部的位置相对于所述第2液晶层的端部的位置更靠宽度方向内侧的方式，得到所述第1液晶层层叠体的工序；
将所述第1液晶层层叠体的包含所述第1基材层及所述第2基材层中的一方的第1剥离层剥离而得到第2液晶层层叠体的工序；以及
将所述第2液晶层层叠体中的所述至少一个端部所处的一侧的包含所述粘接层的端部的第3端部除去的工序，
进行所述除去的工序以在除去所述第3端部后的所述第2液晶层层叠体的宽度方向剖面中的除去了所述第3端部的一侧中，使所述粘接层的端部的位置与所述第1液晶层及所述第2液晶层的至少一个端部的位置相同的方式，除去所述第3端部，
所述第1液晶层为相位差层，所述第2液晶层为相位差层。
14.根据权利要求13所述的液晶膜的制造方法，其中，
进行所述除去的工序以在除去所述第3端部后的所述第2液晶层层叠体的宽度方向剖面中的除去了所述第3端部的一侧中，使所述粘接层的端部的位置与所述第1液晶层的端部的位置相同，并且与所述第2液晶层的端部的位置相同的方式，除去所述第3端部。
15.根据权利要求13或14所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述带有粘接层的第1层叠部中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的两端的位置相对于所述第1液晶层的两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述第1液晶层层叠体中，在其宽度方向剖面中，所述粘接层的两端的位置相对于所述第2液晶层的两端的位置更靠宽度方向内侧，
所述第3端部为所述第2液晶层层叠体的宽度方向两端。
16.根据权利要求1、4、9或13所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述准备带有粘接层的第1层叠部的工序具有：
准备所述包含第1基材层及第1液晶层的第1层叠部的工序、以及
在所述第1液晶层的与所述第1基材层相反一侧层叠粘接层而得到所述带有粘接层的第1层叠部的工序。
17.根据权利要求1、4、9或13所述的液晶膜的制造方法，其中，
进行所述表面活化处理的工序对所述带有粘接层的第1层叠部的所述粘接层侧的表面、以及所述第2层叠部的所述第2液晶层侧的表面进行表面活化处理。
18.根据权利要求1、4、9或13所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述表面活化处理为电晕处理。
19.根据权利要求1、4、9或13所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述带有粘接层的第1层叠部在所述第1基材层与所述第1液晶层之间包含第1取向层。
20.根据权利要求1、4、9或13所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述第2层叠部在所述第2基材层与所述第2液晶层之间包含第2取向层。
21.一种光学层叠体的制造方法，该制造方法具有：
准备利用权利要求8及12～15中任一项所述的液晶膜的制造方法制造的液晶膜的工序、
准备光学膜的工序、
将所述光学膜夹隔着光学膜用粘接层层叠于因剥离所述第1剥离层而露出的层的工序。
22.根据权利要求21所述的光学层叠体的制造方法，其还具有将包含所述第1基材层及所述第2基材层中的不包含于所述第1剥离层中的层的第2剥离层剥离的工序。
23.根据权利要求22所述的光学层叠体的制造方法，其中，
在因剥离所述第2剥离层而露出的层上层叠光学层叠体用粘接层。
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