JP2002071947A - 光学素子の連続的製造法 - Google Patents

光学素子の連続的製造法

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JP2002071947A
JP2002071947A JP2000262680A JP2000262680A JP2002071947A JP 2002071947 A JP2002071947 A JP 2002071947A JP 2000262680 A JP2000262680 A JP 2000262680A JP 2000262680 A JP2000262680 A JP 2000262680A JP 2002071947 A JP2002071947 A JP 2002071947A
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Kenji Hosaki
憲二 穂崎
Haruyoshi Sato
晴義 佐藤
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Nippon Mitsubishi Oil Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学的欠陥を持たない液晶高分子層を備えた
長尺光学素子を連続的に製造する方法を提供する。 【解決手段】 長尺の配向基板フイルム上に形成された
液晶高分子層に、粘接着剤層を介して長尺の再剥離性基
板フィルムを接合させた後、配向基板フィルムを剥離し
て再剥離性基板フィルム/粘接着剤層/液晶高分子層の
積層体を調製し、この3層積層体の液晶高分子層に、粘
接着剤層を介して第二の基板フィルムに接合させ、得ら
れた5層構造の長尺積層体の幅方向縁部を、2つの粘接
着剤層と液晶高分子層が重なる部分で、長さ方向に切断
し、しかる後、再剥離性基板フィルムを剥離する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子用色
補償板、液晶表示素子用視野角補償板、光学位相差板、
1/2波長板、1/4波長板、旋光性光学素子、コレス
テリック偏光板などに、裁断して使用される長尺の光学
素子を連続的に製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶高分子を利用した光学素子、とりわ
け、ねじれネマチック配向構造、コレステリック配向構
造、ハイブリッド配向構造などで例示される液晶配向構
造を固定化してなる液晶高分子を利用した光学素子は、
液晶表示素子用色補償板や液晶表示素子用視野角改良板
として画期的な性能を示し、液晶表示装置の高性能化、
軽量化、薄型化に大いに貢献している。こうした光学素
子の製造法としては、配向基板上に形成された液晶高分
子層を、透光性基板上に転写する方法等が提案されてい
る(例えば、特開平4−57017号公報、同4−17
7216号公報参照)。この方法によれば、配向基板と
透光性基板との役割を分離させて、配向基板には液晶高
分子を所望の構造に配向させる役割を担わせ、一方、透
光性基板には配向した液晶高分子層を支持する役割を担
わせることができるので、種々の製品形態をとる光学素
子の製造が可能となり、フィルムタイプの光学素子でさ
えも容易に製造することができる。また、液晶高分子層
の支持体の役割を果たす支持基板フィルムを取り除いた
液晶高分子層のみからなる光学素子の製造法も、既に提
案されている(例えば、特開平8−278491号公報
参照)。
【0003】如何なる製品形態をとる光学素子を製造す
る場合でも、その製造過程で光学素子に欠陥を生じさせ
ないことが肝要である。ちなみに、光学素子の製造過程
で液晶高分子層に僅か100μm程度の欠損部分乃至は
クラックが発生した場合とか、あるいは同程度の微細な
異物が液晶高分子層に混入した場合には、これが光学素
子の致命的欠陥となる。しかしながら、長尺の光学素子
を連続的に製造するに際して、上記した欠損部乃至はク
ラックの発生や異物の混入を防止するのは容易でない。
特に再剥離性基板フィルムを光学素子の製造過程で暫定
的に使用する場合には、粘接着剤による再剥離性基板フ
ィルムの接合工程と、当該基板フィルムの剥離工程を必
然的に伴うため、最終的に得られる光学素子に光学的欠
陥が生じ易い。この点をさらに詳述すると、配向基板フ
ィルム上に形成された液晶高分子層を、第二の基板フィ
ルムに転写させて液晶高分子層/粘接着剤層/第二の基
板フィルムからなる3層構造の光学素子を、長尺物とし
て連続的に製造する場合、液晶高分子層から配向基板フ
ィルムを剥離するに際して、注意を怠らなければ,両者
の剥離は比較的容易に行うことができるので、剥離に際
して液晶高分子層に歪みが入ることは、皆無ではないま
でも稀であるので、この種の光学素子には光学的欠陥が
発生することは殆どない。ところが、再剥離性基板フィ
ルムを暫定的に使用して、例えば、粘接着剤層/液晶高
分子層/粘接着剤層/第二の基板フィルムからなる4層
構造の長尺の光学素子を製造するに際しては、リールか
ら連続的に繰り出される長尺の配向基板フィルムを任意
の一方向に移行させながら、これに液晶高分子層を形成
させる工程と、その液晶高分子層の上に粘接着剤層を付
与しながら、別のリールから連続的に繰り出される長尺
の再剥離性基板フィルムを接合する工程と、前記液晶高
分子層から配向基板フィルムを剥離して露呈した液晶高
分子層に粘接着剤層を付与しながら、さらに別のリール
から連続的に繰り出される長尺の第二の基板フィルムを
接合して5層構造の長尺積層体を調製する工程と、最後
にこの長尺積層体から再剥離性基板フィルムを剥離する
工程を記載順に連続させる手法が採用される。
【0004】上記した光学素子の製造工程において、別
途用意可能な長尺の配向基板フイルム、長尺の再剥離性
基板フィルム及び長尺の第二の基板フィルムについて
は、それぞれの幅寸法を予め統一させておくことが容易
である。しかしながら、光学素子の製造過程で、連続的
に形成させる液晶高分子層の幅と二つの粘接着剤層の幅
を、それぞれ配向基板フィルム、再剥離性基板フィルム
並びに第二の基板フィルムの各幅とに完全に一致させこ
とは、事実上不可能である。このため、実操業では、液
晶高分子層および二つの粘接着剤層の幅が、各基板フィ
ルムの幅より若干狭くなるように、液晶高分子及び粘接
着剤の塗工幅を調整する方法が採用されている。然る
に、このような塗工幅の調整は、必然的に長尺の積層体
の幅方向両端部に、液晶高分子層及び/又は粘接着剤層
が欠落した部分が発生させ、これが最終的に得られる光
学素子に光学的欠陥を発生させる原因となっている。す
なわち、上に例示した4層構造の光学素子を製造する際
の最終工程は、再剥離性基板フィルム/粘接着剤層/液
晶高分子層/粘接着剤層/第二の基板フィルムからなる
5層構造の長尺の積層体から、長尺の再剥離性基板フィ
ルムを剥離する工程であるが、長尺の積層体の幅方向端
部に液晶高分子層及び/又は粘接着剤層の欠落部が存在
すると、配向基板フィルムを液晶高分子層から剥離する
場合に比較して再剥離性基板フィルムを剥離する場合
は、液晶高分子層及び/又は粘接着剤層に歪みが入り易
く、このために、液晶高分子層及び/又は粘接着剤層に
クラック乃至は欠けが発生し易くなる。そして欠けによ
って破片が生じた場合には、その破片が光学素子の光学
的欠陥の新たな原因ともなる。また、配向基板フィルム
上の液晶高分子層に付与した粘接着剤層の幅が、液晶高
分子層の幅より狭い場合には、配向基板フィルム上の液
晶高分子層全てを、再剥離性基板フィルム上に転写でき
ないため、これもまた最終的に得られる光学素子に光学
的欠陥を発生させる。再剥離性基板フィルムを暫定的に
使用して長尺の光学素子を連続的に製造する場合には、
上に例示した4層構造の光学素子に限らず、液晶高分子
層並びに粘接着剤層の幅寸法を、各基板フィルムの幅寸
法と一致させることが難しいため、上に指摘したと同じ
理由で長尺の光学素子に光学的欠陥が生まれ易い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、液晶高
分子層を含む長尺の光学素子を連続的に製造するに際し
て、特に再剥離性基板フィルムを暫定的に使用して長尺
の光学素子を連続的に製造するに際して、最終的に得ら
れる光学素子に光学的欠陥が生じ易いのは、光学素子の
前駆物である長尺積層体の幅方向端部に、液晶高分子層
及び粘接着剤層の欠落部分を残した状態で、再剥離性基
板フィルムの剥離操作を実施していたことに原因するこ
とに着目し、光学的欠陥を実質的にもたらすことがない
長尺光学素子の連続的製造法をここに確立した。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明に係る
長尺光学素子の連続的製造法の一つは、長尺の配向基板
フィルム上に形成された長尺の液晶高分子層を、粘接着
剤を介して長尺の第二の基板フィルム上に転写すること
により長尺の光学素子を連続的に製造する方法におい
て、長尺の配向基板フィルム上に形成された該液晶高分
子層と、長尺の第二の基板フィルムとを粘接着剤層を介
して連続的に貼り合わせて配向基板フィルム/液晶高分
子層/粘接着剤層/第二の基板フィルムからなる4層構
造の積層体を調製する工程と、この積層体の幅方向両縁
部を、液晶高分子層と粘接着剤層とが重なり合う部分に
おいて長手方向に連続的に切断したする工程と、両縁部
を切断した積層体から配向基板フィルムのみを連続的に
剥離する工程を連続させたことを特徴とする。本発明に
係る長尺光学素子の連続的製造法の他の一つは、長尺の
配向基板フィルム上に形成された長尺の液晶高分子層
に、粘接着剤(A)を介して長尺の再剥離性基板フィル
ムを貼り合わせた後、配向基板フィルムを剥離すること
によって再剥離性基板フィルム/粘接着剤(A)層/液
晶高分子層からなる3層構造の長尺積層体を調製する工
程と、得られた3層構造の長尺積層体の液晶高分子層
に、粘接着剤(B)を介して長尺の第二の基板フィルム
を貼り合わせて再剥離性基板フィルム/粘接着剤(A)
層/液晶高分子層/粘接着剤(B)層/第二の基板フィ
ルムからなる5層構造の長尺積層体を調製する工程と、
得られた5層構造の長尺積層体の幅方向両縁部を、2つ
の粘接着剤層及び液晶高分子層が重なり合う部分におい
て長手方向に切断する工程と、両縁部が切断された長尺
積層体から再剥離性基板フィルムのみを剥離する工程を
連続させたことを特徴とする。そして、本発明に係る長
尺光学素子の連続的製造法の別の一つは、長尺の配向基
板フィルム上にて配向形成された長尺の液晶高分子層
に、粘接着剤(A)を介して長尺の再剥離性基板フィル
ムを貼り合わせた後、配向基板フィルムを剥離し、露呈
した液晶高分子層上にオーバーコート層を設けて、再剥
離性基板フィルム/粘接着剤(A)層/液晶高分子層/
オーバーコート層からなる4層構造の長尺積層体を調製
する工程と、得られた4層構造の長尺積層体のオーバー
コート層に、粘接着剤(B)を介して長尺の第二の基板
フィルムと貼り合わせて再剥離性基板フィルム/粘接着
剤(A)層/液晶高分子層/オーバーコート層/粘接着
剤(B)層/第二の基板フィルムからなる6層構造の長
尺積層体を調製する工程と、得られた6層構造の長尺積
層体の幅方向両縁部を、2つの粘接着剤及び液晶高分子
層が重なり合う部分において長手方向に切断する工程
と、両縁部を切断した長尺積層体から再剥離性基板フィ
ルムのみを剥離する工程とを連続させたことを特徴とす
る。本発明において、配向基板フィルム、再剥離性フィ
ルム及び第二の基板フィルムに関していう「長尺」と
は、各フィルムが任意の一定幅を保持し、長さ方向に連
続していることを意味し、その長さは10,000mに
達することもある。これらの長尺フィルムは、通常、ロ
ール巻から順次繰り出して光学素子製造工程に供給され
るが、ロール巻であることが必須ではなく、適宜な寸法
に長尺フィルムを折り畳み、これを順次光学素子製造工
程に繰り出すこともできる。なお、特別な断りがない限
り、本明細書でいう配向基板フィルム、再剥離性フィル
ム及び第二の基板フィルムは、長尺の各フィルムを指
す。
【0007】
【発明の実施の形態】まず、配向基板フィルム上に形成
される液晶高分子層について説明する。液晶高分子層
は、好ましくは均一でモノドメインなネマチック液晶
相、ねじれネマチック液晶相、又はコレステリック液晶
相を与えるサーモトロピック液晶ポリマーを使用して、
長尺の配向基板フィルム上に形成される。ここで、サー
モトロピック液晶ポリマーとは、液晶状態においてネマ
チック配向(ホモジニアス配向、ホメオトロピック配
向、均一チルト配向、ハイブリッド配向等)、ねじれネ
マチック配向又はコレステリック配向し、液晶転移温度
以下の温度領域ではガラス状態となる液晶高分子を指
す。ネマチック液晶相を与える液晶高分子としては、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエス
テルイミドなどの主鎖型液晶高分子、ポリアクリレー
ト、ポリメタクリレート、ポリマロネート、ポリシロキ
サンなどの側鎖型液晶高分子を挙げることができる。ま
た、これらの液晶高分子の主鎖又は側鎖に、光学活性単
位を共重合させて得られる光学活性液晶高分子、低分子
又は高分子の光学活性化合物を液晶高分子にブレンドし
て得られる混合系も、本発明の液晶高分子として使用す
ることができる。使用可能な各種の液晶高分子のなかで
も、合成の容易さ、配向性およびガラス転移点などか
ら、芳香族ポリエステルが好ましい。
【0008】本発明で用いる芳香族ポリエステルは、オ
ルト置換芳香族構造単位を含有し、しかも下記の(a)及
び/又は(b)で示される構造単位を含有していることが
最も好ましいが、オルト置換芳香族構造単位は、嵩高い
置換基を有する芳香族構造単位やフッ素又は含フッ素置
換基を有する芳香族構造単位に置き換えることができ
る。 (a)ジオール類から誘導される構造単位(以下、「ジオ
ール成分」という)及びジカルボン酸類から誘導される
構造単位(以下、「ジカルボン酸成分」という)、(b)
カルボキシル基並びに水酸基を併有するオキシカルボン
酸類から誘導される構造単位(以下、オキシカルボン酸
成分」という)、上記したオルト置換芳香族構造単位と
は、次の化1で示す如く、ポリエステルの主鎖がオルト
位に結合した芳香族構造単位(一般的には、ベンゼン環
構造単位)を意味する。
【化1】 (Xは水素原子、Cl、Br等のハロゲン原子もしくは
炭素数1〜4のアルキル基、はアルコキシル基またはフ
ェニル基を示す。kは0〜2である。) オルト置換芳香族構造単位なかでも特に好ましい例は、
化2〜化3で示すことができる。
【化2】
【化3】 (Meはメチル基、Etはエチル基、Buはブチル基で
ある。以下同じ。)
【0009】上記したジオール成分は、芳香族、脂肪族
又は脂環族ジオールから誘導される構造単位であって、
その例は次の化4で示される。
【化4】 (上式中、Yは水素原子、Cl、Br等のハロゲン原子
もしくは炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシル基ま
たはフェニル基を示し、mは0〜2を、nは2〜12の
整数を示す。) 上に例示したジオール成分のなかでも、好ましいジオー
ル成分は化5で示される。
【化5】
【0010】上記したジカルボン酸成分は、芳香族ジカ
ルボン酸から誘導される構造単位であって、その典型例
は次の化6〜化7で示される。
【化6】 (Zは水素原子、Cl、Br等のハロゲン原子、炭素数
1〜4のアルキル基、アルコキシル基またはフェニル基
を示す。mは0〜2である。)
【化7】 上に例示したジカルボン酸成分のなかでも、好ましいジ
カルボン酸成分は化8で示される。
【化8】
【0011】上記したオキシカルボン酸成分は、水酸基
とカルボキシル基を併有するオキシカルボン酸から誘導
される構造単位であって、その典型例は次の化9で示さ
れる。
【化9】
【0012】本発明で使用して好ましい液晶性芳香族ポ
リエステルにおけるジカルボン酸成分とジオール成分の
モル比は、一般のポリエステルと同様、大略1:1であ
り、オキシカルボン酸成分を使用する場合は、カルボキ
シル基と水酸基との割合も略1:1である。また、液晶
性芳香族ポリエステルに占めるオルト置換芳香族構造単
位の割合は、通常5〜40モル%の範囲にあり、好まし
くは10〜30モル%の範囲にある。5モル%より少な
い場合は、ネマチック相の下に結晶相が現れる傾向があ
り、40モル%より多い場合は、ポリマーが液晶性を示
さなくなる傾向があるので好ましくない。本発明で使用
できる代表的な液晶性芳香族ポリエステルを例示する
と、次の通りである。
【化10】 の構造単位から構成されるポリエステル。
【化11】 の構造単位から構成されるポリエステル。
【化12】 の構造単位から構成されるポリエステル。
【化13】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化14】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化15】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化16】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化17】 の構造単位から構成されるポリマー。
【0013】本発明ではまた、上記した各芳香族ポリエ
ステルにおいて、そのオルト置換芳香族構造単位を、嵩
高い置換基を有する芳香族構造単位又はフッ素又は含フ
ッ素置換基を有する芳香族構造単位に置き換えた芳香族
ポリエステルが、ネマチック液晶相を与える液晶高分子
として使用可能である。オルト置換芳香族構造単位に代
わって液晶性ポリエステルの構成単位となり得る嵩高い
置換基を有する芳香族構造単位と、フッ素又は含フッ素
置換基を有する芳香族構造単位は、次の化18及び化1
9で示される。式中、Prはプロピル基を示す。
【化18】
【化19】
【0014】上に説明したそれぞれの芳香族ポリエステ
ルは、当業界で公知の任意の方法で合成することがで
き、例えば、溶融重合法あるいは対応するジカルボン酸
の酸クロライドを用いる酸クロライド法で合成すること
ができる。溶融重合法で合成する場合は、例えば、ジカ
ルボン酸とこれに対応するジオールのアセチル化物を、
高温、高真空下で重合させる方法が採用でき、分子量は
重合時間の制御あるいは仕込み組成の制御によって容易
に行うことができる。重合反応を促進させるためには、
従来から公知の酢酸ナトリウムなどの金属塩を使用する
こともできる。また溶液重合法を用いる場合は、所定量
のジカルボン酸ジクロライドとジオールとを溶媒に溶解
し、ビリジンなどの酸受容体の存在下に加熱する方法が
採用できる。合成法の如何を問わず本発明で使用する芳
香族ポリエステルの分子量は、フェノール/テトラクロ
ロエタン(重量比=60/40)の混合溶媒を使用した
濃度0.5g/dlの溶液ついて、30℃で測定した対数粘度
が0.05〜3.0の範囲に、好ましくは0.07〜
2.0の範囲にあることが望ましい。対数粘度が0.0
5より小さい場合は、得られた液晶高分子層の強度が弱
くなり、3.0より大きい場合は、液晶相の粘性が高す
ぎて、配向性が低下し、配向に長時間を要する。
【0015】上に説明した液晶性芳香族ポリエステル
に、光学活性化合物を配合することによって、液晶性芳
香族ポリエステルが形成するネマチック液晶相にねじれ
を与える付与することができる。光学活性化合物として
は、光学活性を有するものであれば低分子化合物及び高
分子化合物がいずれも使用できるが、本発明ではベース
ポリマーである液晶性芳香族ポリエステルとの相溶性の
観点から、光学活性を有する液晶性低分子化合物又は液
晶性高分子化合物を使用することが好ましい。光学活性
を有する液晶性低分子化合物の代表例は、次の化20及
び化21に示す化合物並びにコレステロール誘導体を例
示することができる。なお、各化学式中の符号*は、光
学活性炭素であることを示す(以下同じ)。
【化20】
【化21】
【0016】光学活性を有する液晶性低分子化合物とし
ては、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリマ
ロネート、ポリシロキサン、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリエステルアミド、ポリカーボネート、あるいは
ポリペプチド、セルロースなどが使用可能である。なか
でもベースポリマーである液晶性芳香族ポリエステルと
の相溶性に優れている点で、芳香族主体の光学活性ポリ
エステルが最も好ましく、その具体的には次の化22〜
化32に示す構造単位で構成される液晶性光学活性高分
子化合物が例示できる。
【化22】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化23】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化24】 (n=2〜12)の構造単位から構成されるポリマー。
【化25】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化26】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化27】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化28】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化29】 の構造単位から構成されるポリマー。
【化30】
【化31】 (n=2〜6)の構造単位から構成されるポリマー。
【化32】 の構造単位から構成されるポリマー。
【0017】上に例示した液晶性光学活性高分子化合物
において、光学活性な基の割合は、通常0.5〜80モ
ル%の範囲にあり、好ましくは5〜60モル%の範囲に
ある。また、これら液晶性光学活性高分子化合物の分子
量は、フェノール/テトラクロロエタン(重量比=60
/40)の混合溶媒を使用した濃度0.5g/dlの溶
液ついて、30℃で測定した対数粘度が0.05〜5.
0の範囲にあることが好ましい。対数粘度が5.0より
大きい場合は、粘性が高すぎることに原因して配向性が
低下し、0.05より小さい場合は、組成調整が難しく
なるからである。
【0018】本発明では、光学活性な低分子化合物又は
高分子化合物を格別配合しなくても、ねじれネマチック
液晶相を与えるところの、光学活性な液晶高分子にて本
発明に係る光学素子の液晶高分子層を形成することもで
きる。この種の液晶高分子は、光学活性基を有している
ことが必須である。使用可能な液晶高分子の具体例とし
ては、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリエステルイミドなどの光学活性な主鎖型液晶高分
子、あるいはポリアクリレート、ポリメタクリレート、
ポリシロキサンなどの光学活性な側鎖型液晶高分子が例
示できる。これらのなかでも、合成の容易さ、配向性、
ガラス転移点などの点から光学活性な液晶性芳香族ポリ
エステルが好ましい。この光学活性な液晶性芳香族ポリ
エステルは、先に説明したネマチック液晶相を与える液
晶性芳香族ポリエステルと同様、その構成単位としてオ
ルト置換芳香族構造単位を含んでいることが最も好まし
いが、オルト置換芳香族構造単位の代わりに、嵩高い置
換基を有する芳香族単位もしくはフッ素又は含フッ素置
換基を有する芳香族単位を含む光学活性な液晶性芳香族
ポリエステルも、本発明で使用することができる。これ
らの光学活性な液晶性芳香族ポリエステルは、ジオール
成分とジカルボン酸成分及び/又はオキシカルボン酸成
分を構造単位として含有する点で、先に説明したネマチ
ック液晶相を与える液晶性芳香族ポリエステルと異なる
ことがないが、次の化33で示されるに示すような、光
学活性なジオール、ジカルボン酸又はオキシカルボン酸
から誘導される光学活性基を、構造単位として必須に含
有している点で、先の液晶性芳香族ポリエステルと相違
する。
【化33】
【0019】光学活性な液晶性芳香族ポリエステルは、
当業界で公知の溶融重合法あるいは酸クロライド法で合
成することができる。また、光学活性な液晶性芳香族ポ
リエステルの分子量は、フェノール/テトラクロロエタ
ン(重量比=60/40)の混合溶媒を使用した濃度
0.5g/dlの溶液ついて、30℃で測定した対数粘
度が0.05〜3.0の範囲に、好ましくは0.07〜
2.0の範囲にあることが望ましい。対数粘度が0.0
5より小さい場合は、得られた液晶高分子層の強度が弱
くなり、3.0より大きい場合は、液晶相の粘性が高す
ぎて、配向性が低下し、配向に長時間を要する。
【0020】本発明で使用できる光学活性な液晶性ポリ
エステルの代表例を摘記すると、次の通りである。
【化34】 で示されるポリマー(但し、m/n=99.9/0.1
〜80/20、好ましくは99.5/0.5〜90/1
0、さらに好ましくは99/1〜95/5)。
【化35】 で示されるポリマー(但し、m/n=99.9/0.1
〜80/20、好ましくは99.5/0.5〜90/1
0、さらに好ましくは99/1〜95/5)。
【化36】 で示されるポリマー(m/n:通常99.9/0.1〜
70/30、好ましくは99.5/0.5〜90/1
0、さらに好ましくは99/1〜95/5、p、q=2
〜20の整数)。
【化37】 で示されるポリマー(但し、m/n=99.9/0.1
〜70/30、好ましくは99.5/0.5〜90/1
0、さらに好ましくは99/1〜95/5、p、q=2
〜20の整数)。
【化38】 で示されるポリマー(但し、m/n=99.9/0.1
〜80/20、好ましくは99.5/0.5〜90/1
0、さらに好ましくは99/1〜95/5)。
【化39】 で示されるポリマー(但し、m/n=0.5/99.5
〜10/90、好ましくは1/99〜5/95)。
【化40】 で示されるポリマー(但し、k=l+m+n、k/n=
99.5/0.5〜90/10、好ましくは99/1〜
95/5、l/m=5/95〜95/55)。
【化41】 で示されるポリマー(但し、k=l+m+n、k/n=
99.5/0.5〜90/10、好ましくは99/1〜
95/5、l/m=5/95〜95/55)。
【化42】 で示されるポリマー〔但し、(A)/(B)=99.9
/0.1〜80/20(重量比)、好ましくは99.5
/0.5〜85/5、さらに好ましくは99/1〜95
/5、k=l+m、l/m=75/25〜25/75、
p=q+r、p/q=80/20〜20/80〕。
【化43】 で示されるポリマー〔但し、(A)/(B)=99.9
/0.1〜70/30(重量比)、好ましくは99.5
/0.5〜80/20、好ましくは99/1〜90/1
0、m=k+l、k/l=80/20〜20/80〕。
【化44】 で示されるポリマー〔但し、(A)/(B)=99.9
/0.1〜70/30(重量比)、好ましくは99.5
/0.5〜80/20、好ましくは99/1〜90/1
0、k=l+m、l/m=25/75〜75/25、p
=q+r、q/r=20/80〜80/20〕。
【0021】光学素子に不可欠な液晶高分子層は、好ま
しくは上記した液晶性ポリエステルを使用して、配向基
板フィルム上に形成される。ここで配向基板フィルムと
は、その表面に塗工された液晶高分子をネマチック配
向、ねじれネマチック配向又はコレステリック配向させ
ることができる基板フィルムを意味する。配向基板フィ
ルムには、長尺の延伸プラスチックフィルムが使用でき
るほか、未延伸プラスチックフィルムの一方の表面にラ
ビング処理を施し、これを配向基板フィルムとして使用
することもできる。ラビング処理の方向は、通常、フィ
ルムの長手方向に対して平行又は任意の角度の斜め方向
が選ばれる。配向基板フィルムの材質は、ポリイミド樹
脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹
脂;ナイロンなどのポリアミド;ポリエーテルイミド;
ポリエーテルケトン;ポリエーテルエーテルケトン;ポ
リケトン;ポリエーテルスルホン;ポリフェニレンサル
ファイド;ポリフェニレンオキサイド;ポリエチレンテ
レフタレート;ポリブチレンテレフタレートなどのポリ
エステル;ポリアセタール;ポリカーボネート;ポリア
クリレート;ポリメタクリレート;トリアセテートセル
ロースなどのセルロース系樹脂;ポリビニルアルコール
などの熱可塑性樹脂などのいずれであっても差し支えな
い。ラビング処理に代えて、配向性を持つプラスチック
薄膜を、他のプラスチックフィルム又は銅、ステンレス
鋼、鋼などの金属箔に積層させ、この積層体を配向基板
フィルムとして使用することもできる。また、銅、ステ
ンレス鋼、鋼などの金属箔自体に配向性を保持させてこ
れを配向基板フィルムとして使用することもできる。本
発明の方法に使用して特に好ましい配向基板フィルム
は、長尺の自立性のあるプラスチックフィルムにラビン
グ処理を施したフィルムであって、その場合のプラスチ
ックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエ
ーテルケトン、ポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹
脂フィルム及びポリイミドなどの熱硬化性樹脂フィルム
が好適に用いられる。
【0022】配向基板フィルム上への液晶高分子層の形
成は、例えば、ロールから繰り出され、水平に保持され
て一定方向に走行する配向基板フィルムに、液晶高分子
の溶液を連続的に塗布するか、あるいは液晶高分子を連
続的に溶融押し出しする方法などで行われる。塗工膜厚
の調整などが容易であることから、溶液塗布が好まし
い。塗工方法は特に限定されず、ロールコート法、カー
テンコート法やスロットコート法などのダイコート法な
どを採用することができる。配向基板フィルム上に液晶
高分子を塗工するに際しては、長尺の配向基板フィルム
の両縁部に、幅1〜200mm、好ましくは1〜100
mmの未塗工部分が残る以外は、配向基板フィルムの長
手方向に延びる塗工膜が連続して設けられるように塗工
する。塗工後は溶媒を乾燥除去した後、塗工層を所定の
温度で所定時間加熱することにより、液晶高分子を配向
させ、次にTg以下の温度に冷却することによって液晶
構造を固定化することで液晶高分子層を形成させる。固
定化後の液晶高分子層の膜厚には特別な制限はないが、
0.1μm未満では精度よく膜厚を調整することが困難
となることから、膜厚の下限は0.1μmである。ま
た、膜厚があまり厚くなると光学素子としての規制力が
弱まり好ましくなく、この観点から膜厚の上限は1,0
00μm以下、好ましくは500μm以下である。な
お、液晶高分子層の厚さは、光学素子の用途に応じて調
節することが好ましく、例えば、ディスプレー用の光学
素子では液晶高分子層の厚さは、0.1μm以上、好ま
しくは0.2μm以上、より好ましくは0.3μm以上
である。
【0023】本発明の方法によって液晶高分子層/粘接
着剤層/第二の基板フィルムからなる3層構造の長尺光
学素子を連続的に製造する場合、上記した液晶高分子層
形成工程の下流側で、配向基板フィルム上に形成された
液晶高分子層に、第二の基板フィルムが接合される。第
二の基板フィルムは、配向基板フィルムと同様、典型的
にはロールから連続的に繰り出される。液晶高分子層と
第二の基板フィルムとの接合には、光学的に等方性な粘
接着剤層を与えるアクリル系、ゴム系、シリコーン系又
はポリ酢酸ビニル系の各粘接着剤がいずれも使用可能で
ある。しかし、液晶高分子層の連続転写に必須な短時間
硬化が可能であること、液晶高分子のTg以下の温度で
硬化が可能であることなどを考慮すると、光硬化型又は
電子線硬化型の粘接着剤を使用するのが望ましい。とり
わけ、アクリルオリゴマーを主成分とする光硬化型又は
電子線硬化型粘接着剤は、液晶高分子層の転写ミスを少
なくし、巻取りなどの操作の際にトラブルが生じること
がなく、製品となった光学素子の信頼性も高いという点
から好適である。このアクリル系オリゴマーにはN−ビ
ニルピロリドンのような極性ビニルモノマーを配合する
ことも可能である。粘接着剤の塗布方法としては、長尺
フィルムの連続塗工に一般に採用されているロールコー
ト法、スロットコート法などのダイコート法、スプレー
コート法などを用いることができ、特に限定されない。
粘接着剤の塗膜の厚みは、0.5〜200μm、好まし
くは1〜100μmの範囲で調整する。200μm以上
に厚いと塗膜の硬化に長時間を要する不都合がある。粘
接着剤の塗膜の幅は、液晶高分子層の幅に略等しくする
ことが好ましい。塗膜の幅が液晶高分子層の幅より狭い
場合は、配向基板フィルム上の液晶高分子層を第二の基
板フィルムに滞りなく転写することができないため、塗
膜幅を液晶高分子層の幅より僅かに広めにするのが特に
好ましい。一方で、むやみに塗膜幅を広げすぎることは
粘接着剤の徒費を招いて経済的でないので好ましくな
い。しかし、厳密に粘接着剤の塗膜幅と液晶高分子層の
幅とを一致させる必要はない。
【0024】第二の基板フィルムとしては、透明性で光
学的に等方性であるプラスチックフィルムが使用でき
る。そうしたプラスチックフィルムとしては、例えば、
ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アモ
ルファスポリオレフィン、トリアセチルセルロースある
いはエポキシ樹脂などの各フィルムが挙げられる。偏光
板、光学位相差板などや後述する再剥離性基板フィルム
も第二の基板フィルムとして使用可能である。粘接着剤
の塗膜を介して配向基板フィルム上の液晶高分子層と、
第二の基板フィルムとの貼り合せは、通常のラミネート
手段で行うことができるが、その際、気泡の混入を防止
することが好ましい。貼り合せ後の粘接着剤層の硬化
は、使用して粘接着剤の種類に応じて適宜の手段で実施
され、光硬化型又は電子線硬化型の粘接着剤を使用した
場合は、紫外線または電子線を長尺の積層体に幅方向に
均一に照射することで行うことができる。粘接着剤の硬
化完了後は、得られた長尺の積層体の幅方向両縁部を、
長さ方向にシェアースリッター、レーザースリッター、
スコアスリッター、カミソリ刃スリッターなどの任意の
手段で切断する。両縁部の切断個所は、液晶高分子層と
粘接着剤層とが重なり合う部分が選ばれるが、重なり合
う部分の端部より0.1〜30mm程度、好ましくは1
〜20mm程度内側で切断することが好ましい。長尺積
層体の両縁部を切断した後は、その積層体から配向基板
フィルムのみを連続的に剥離することによって、液晶高
分子層/粘接着剤層/第二の基板フィルムからなる3層
構造の、光学的欠陥を持たない長尺光学素子を連続的に
製造することができる。積層体から剥離された配向基板
フィルムは、巻き取りロールなどに巻き取られる。
【0025】再剥離性基板フィルムを暫定的に使用し
て、粘接着剤(A)層/液晶高分子層/粘接着剤(B)
層/第二の基板フィルムからなる4層構造の長尺光学素
子を、本発明の方法で製造する場合には、先ず、配向基
板フィルム上の液晶高分子層に、粘接着剤(A)層を介
して再剥離性基板フィルムを接合させる。再剥離性基板
フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、4
−メチルペンテン−1樹脂等のオレフィン系樹脂、ポリ
アミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテル
イミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリエーテルスルホン、ポリケトンサルファイ
ド、ポリスルホン、ポリスチレン、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアリ
レート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアルコール、セルロース系プラスチック等のフィルム
が使用できる。これらのプラスチックフィルムには、適
度な再剥離性を持たせるために、予めその表面にシリコ
ーンをコートしておくことができ、あるいは有機薄膜又
は無機薄膜を形成しておくことができる。また、同様な
目的で、プラスチックフィルムの表面に化学処理を施す
か、あるいはコロナ処理のような物理的処理を施してお
くこともできる。本発明で使用する再剥離性基板フィル
ムとしては、ポリプロピレン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート
の各プラスチックフィルムが好ましいほか、これらのフ
ィルム表面にシリコーン処理を施すか、有機薄膜又は無
機薄膜を形成するか、コロナ処理を施したものが好まし
い。粘接着剤(A)層は、先に説明した粘接着剤を使用
し、先に説明した塗工方法、塗膜厚及び塗膜幅で、典型
的には走行中の液晶高分子層表面又は連続的に繰り出さ
れる再剥離性基板フィルム表面の一方に連続的に設けら
れる。次いで、液晶高分子層と再剥離性基板フィルムと
を接合させて粘接着剤(A)層を先に説明したところに
従って硬化させ、しかる後、配向基板フィルムを液晶高
分子層から連続的に剥離し、再剥離性基板フィルム/粘
接着剤(A)層/液晶高分子層からなる3層構造の長尺
積層体を調製する。
【0026】次に、上で得た3層構造の長尺積層体の液
晶高分子層と、第二の基板フィルムとを粘接着剤(B)
層を介して接合させる。粘接着剤(B)層は、先に説明
した粘接着剤を使用し、先に説明した塗工方法、塗膜厚
及び塗膜幅で、典型的には走行中の液晶高分子層表面又
は連続的に繰り出される第二の基板フィルム表面の何れ
か一方に連続的に設けられる。次いで、液晶高分子層と
第二の基板フィルムとを接合させ、粘接着剤(B)層を
先に説明したところに従って硬化させることにより、再
剥離性基板フィルム/粘接着剤(A)層/液晶高分子層
/接着剤(B)層/第二の基板フィルムからなる5層構
造の長尺積層体を連続的に調製することができる。しか
る後、上記5層構造の長尺積層体の幅方向両縁部を、長
さ方向にシェアースリッター、レーザースリッター、ス
コアスリッター、カミソリ刃スリッターなどの任意の手
段で切断する。両縁部の切断個所は、液晶高分子層と2
つの粘接着剤層とが重なり合う部分が選ばれるが、重な
り合う部分の端部より0.1〜30mm程度、好ましく
は1〜20mm程度内側であることが好ましい。長尺積
層体の両縁部を切断した後は、その積層体から再剥離性
基板フィルムのみを連続的に剥離することによって、粘
接着剤(A)層/液晶高分子層/接着剤(B)層/第二
の基板フィルムからなる4層構造の、光学的欠陥を持た
ない長尺光学素子を連続的に製造することができる。積
層体から剥離された配向基板フィルムは、巻き取りロー
ルなどに巻き取られる。
【0027】上記した4層構造の長尺光学素子を製造す
る過程で、粘接着剤(A)層を介して配向基板フィルム
上の液晶高分子層と再剥離性基板フィルムとを接合させ
た長尺積層体から、配向基板フィルムを剥離させた後
に、露呈した液晶高分子層に第二の基板フィルムを接合
するのに先立ってオーバーコート層を設け、しかる後、
このオーバーコート層に接着剤(B)層を介して第二の
基板フィルムを接合させることもできる。オーバーコー
ト層の設置は液晶高分子層の表面保護に寄与し、このオ
ーバーコート層は、液晶高分子層の表面にアクリル系樹
脂又はエポキシ系樹脂を塗布して硬化させるか、あるい
は適当な表面保護フィルムを液晶高分子層表面に貼付す
ることによって得ることができる。オーバーコート層に
接着剤(B)層を介して第二の基板フィルムを接合させ
る工程は、先に説明した液晶高分子層に接着剤(B)層
を介して第二の基板フィルムを接合させる工程と同様な
手順及び方法で行うことができ、これによって再剥離性
基板フィルム/粘接着剤(A)層/液晶高分子層/オー
バーコート層/粘接着剤(B)層/第二の基板フィルム
からなる6層構造の長尺積層体を得る。次いでこの長尺
積層体の幅方向両縁部を、先に説明したように、長さ方
向に切断し、しかる後、再剥離性基盤フィルムのみを長
尺積層体から連続的に剥離することにより、粘接着剤
(A)層/液晶高分子層/オーバーコート層/粘接着剤
(B)層/第二の基板フィルムからなる5層構造で、光
学的欠陥を実質的に持たない長尺の光学素子を連続的に
得ることができる。
【0028】本発明の方法では、第二の基板フィルムと
して再剥離性基板フィルムを使用することができる。第
二の基板フィルムに再剥離性基板フィルムを使用すれ
ば、本発明の方法で積層フィルムの形で得られた光学素
子から、第二の基板フィルムを剥離するだけで、光学的
異方性を問題にすることなく、その積層フィルムを光学
素子として実用に供することができる。例えば、第二の
基板フィルムとして、シリコーン処理を施したポリエチ
レンテレフタレートを用いた場合には、本発明の方法に
よって、再剥離性基板フィルム/粘接着剤(A)層/液
晶高分子層/粘接着剤(B)層/再剥離性基板フィルム
の積層フィルムを得ることができる。この積層フィルム
から上下2枚の再剥離性基板フィルムを剥離すれば、2
つの粘接着剤層に挟持された液晶高分子層が得られるの
で、液晶表示素子などに直接貼り付けることが可能で、
しかも支持基板を全く持たない薄型の光学素子を製造す
ることができる。しかしながら、こうした支持基板を持
たない液晶高分子層は、破損しやすくハンドリングが困
難になる恐れがあるため、一方の再剥離性基板フィルム
を剥離して露呈する粘接着剤層に、偏光板や光学位相差
板などの光学フィルムと貼り合わせて一体化し、その後
に他方の再剥離性フィルムを剥離する手法が、ハンドリ
ング性を損なわない点で推奨される。
【0029】
【発明の効果】本発明の方法によれば、液晶高分子層/
粘接着剤層/第二の基板フィルムからなる長尺の光学素
子とか、粘接着剤(A)層/液晶高分子層/粘接着剤
(B)層/第二の基板フィルムからなる長尺の光学素子
とか、あるいは粘接着剤(A)層/液晶高分子層/オー
バーコート層/粘接着剤(B)層/第二の基板フィルム
からなる長尺の光学素子を、毎分0.5〜100mの速
度で連続的に製造することができ、しかもいずれもの長
尺光学素子にあっても、液晶高分子層にクラックや欠損
部分をもたらすことがないので、本発明の方法は極めて
工業的な価値の高いものである。
【0030】
【実施例】実施例で用いた液晶高分子は、次式化45で
表される液晶高分子(97.2重量%)と、化46で表
される光学活性物質(2.8重量%)との混合物であっ
て、この混合物は液晶状態でねじれネマチック配向し、
液晶転移温度以下でガラス状態となる。従って、液晶時
の配向を固定することができ、この配向固定化フィルム
はSTN型液晶表示素子の色補償板として好適なもので
ある。
【化45】
【化46】 化45及び化46において、各化学式の各括弧の右下の
数値は、ポリマーの各構成単位のモル%を示す。 (製造例1)配向基板フィルムである幅500mmのラ
ビングしたポリエーテルエーテルケトンの長尺フィルム
上に、上記した液晶高分子の溶液をロールコーターを用
いて幅400mmに塗布して乾燥した後、200℃×3
0分間加熱処理して液晶高分子の配向が固定化された長
尺の液晶高分子層を得た。このポリエーテルエーテルケ
トン上に形成された長尺の液晶高分子層の上に、別のロ
ールコーターを用いて搬送速度8m/minで市販の紫
外線硬化型のアクリルオリゴマーからなる接着剤を、液
晶高分子層の幅とほぼ同一の400mm幅でほぼ重ね合
わせて塗布した。さらに、この接着剤の上に長尺の再剥
離性基板フィルムである幅500mmのポリエチレンテ
レフタレートを貼り合わせ、接着剤を硬化させた。得ら
れたポリエーテルエーテルケトン/液晶高分子層/硬化
接着剤層/ポリエチレンテレフタレートからなる積層フ
ィルムから、ロールを用いてポリエーテルエーテルケト
ンフィルムだけを連続的に剥離し、液晶高分子層/硬化
接着剤層/ポリエチレンテレフタレートからなる長さ3
00mの積層フィルムを得た。 (製造例2)製造例1で得られた液晶高分子層/硬化接
着剤層/ポリエチレンテレフタレートからなる長さ30
0mの積層フィルムの液晶高分子層の上に、さらにオー
バーコートを施すため、ロールコーターを用いて搬送速
度8m/minで市販の紫外線硬化型のアクリルオリゴ
マーからなるオーバーコート剤を、液晶高分子層の幅と
ほぼ同一の400mm幅でほぼ重ね合わせて塗布した。
さらに、接着剤の上に長尺のシリコーン処理ポリプロピ
レンフィルムを貼り合わせ、接着剤を硬化させた。得ら
れたポリプロピレン/オーバーコート層/液晶高分子層
/硬化接着剤層/ポリエチレンテレフタレートからなる
積層フィルムから、ロールを用いてポリプロピレンフィ
ルムを連続的に剥離し、オーバーコート層/液晶高分子
層/硬化接着剤層/ポリエチレンテレフタレートからな
る長さ250mの積層フィルムを得た。 (実施例1)製造例1で得た積層フィルムの液晶高分子
層上に、ロールコーターを用いて搬送速度8m/min
で市販の紫外線硬化型のアクリルオリゴマーからなる接
着剤を、液晶高分子層の幅とほぼ同一の400mm幅で
ほぼ重ね合わせて塗布した。さらに、この接着剤の上に
長尺の光学位相差フィルムである幅500mmのポリカ
ーボネートフィルムを貼り合わせ、接着剤を硬化させ
た。続いてシェアーカット方式の裁断機を用いて、積層
フィルムの幅方向縁部を、接着剤層の両端部より内側に
それぞれ10mm狭い380mm幅で連続的に切断るこ
とにより、ポリエチレンテレフタレート/硬化接着剤層
/液晶高分子層/硬化接着剤層/ポリカーボネートから
なる長さ300mの積層フィルムを得た。得られた積層
フィルムから再剥離性基板フィルムを剥離し、剥離後の
再剥離性基板フィルムの状態及び液晶高分子層の状態を
目視観察した。結果を表1に示す。 (実施例2)製造例1で得た積層フィルムの液晶高分子
層上に、ラミネータを用いて搬送速度10m/minで
幅400mmの粘着剤付きの偏光板を貼り合わせた。続
いてカミソリ刃方式の裁断機を用いて、硬化接着剤層の
両端部より内側にそれぞれ15mm狭い370mm幅で
連続的に裁断することにより、ポリエチレンテレフタレ
ート/硬化接着剤層/液晶高分子層/粘着剤層/偏光板
からなる長さ300mの積層フィルムを得た。得られた
積層フィルムから再剥離性基板フィルムを剥離し、剥離
後の再剥離性基板フィルムの状態及び液晶高分子層の状
態を目視観察した。結果を表1に示す。 (実施例3)製造例2で得た積層フィルムのオーバーコ
ート層上に、ラミネータを用いて搬送速度10m/mi
nで幅400mmの粘着剤付きのシリコーン処理ポリエ
チレンテレフタレートフィルムを貼り合わせた。続いて
カミソリ刃方式の裁断機を用いて、硬化接着剤層の両端
部より内側にそれぞれ15mm狭い370mm幅で連続
的に裁断することにより、ポリエチレンテレフタレート
/硬化接着剤層/液晶高分子層/オーバーコート層/粘
着剤層/シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートか
らなる長さ250mの積層フィルムを得た。得られた積
層フィルムから再剥離性基板フィルムを剥離し、剥離後
の再剥離性基板フィルムの状態及び液晶高分子層の状態
を目視観察した。結果を表1に示す。 (実施例4)製造例2で得た積層フィルムのオーバーコ
ート層上に、ロールコーターを用いて搬送速度8m/m
inで市販の紫外線硬化型のアクリルオリゴマーからな
る接着剤を、液晶高分子層の幅とほぼ同一の400mm
幅でほぼ重ね合わせて塗布した。さらに、接着剤の上に
長尺の透光性基板である幅500mmのポリメチルメタ
クリレートフィルムを貼り合わせ、接着剤を硬化した。
続いてシェアーカット方式の裁断機を用いて、接着剤の
両端部より内側にそれぞれ10mm狭い380mm幅で
連続的に裁断することにより、ポリエチレンテレフタレ
ート/硬化接着剤層/液晶高分子層/オーバーコート層
/硬化接着剤層/ポリメチルメタクリレートからなる長
さ250mの積層フィルムを得た。得られた積層フィル
ムから再剥離性基板フィルムを剥離し、剥離後の再剥離
性基板フィルムの状態及び液晶高分子層の状態を目視観
察した。結果を表1に示す。 (比較例1〜4)両端縁の裁断を行っていない積層フィ
ルムを使用した以外は、それぞれ実施例1〜4と同様の
操作を行った。結果を表1に示す。
【0031】
【表1】
フロントページの続き Fターム(参考) 2H049 BA06 BA08 BA47 BB03 BB43 BB49 BB51 BB62 BC01 BC13 BC14 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA12X FA12Z FB02 FC12 FC16 GA01 GA06 GA17 LA12 LA30

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 長尺の配向基板フィルム上に形成された
    長尺の液晶高分子層を、粘接着剤を介して長尺の第二の
    基板フィルム上に転写することにより長尺の光学素子を
    連続的に製造する方法において、長尺の配向基板フィル
    ム上に形成された該液晶高分子層と、長尺の第二の基板
    フィルムとを粘接着剤層を介して連続的に貼り合わせて
    配向基板フィルム/液晶高分子層/粘接着剤層/第二の
    基板フィルムからなる4層構造の積層体を調製する工程
    と、この積層体の幅方向両縁部を、液晶高分子層と粘接
    着剤層とが重なり合う部分において長手方向に連続的に
    切断したする工程と、両縁部を切断した積層体から配向
    基板フィルムのみを連続的に剥離する工程を連続させた
    ことを特徴とする長尺光学素子の連続製造法。
  2. 【請求項2】 長尺の配向基板フィルム上に形成された
    長尺の液晶高分子層に、粘接着剤(A)を介して長尺の
    再剥離性基板フィルムを貼り合わせた後、配向基板フィ
    ルムを剥離することによって再剥離性基板フィルム/粘
    接着剤(A)層/液晶高分子層からなる3層構造の長尺
    積層体を調製する工程と、得られた3層構造の長尺積層
    体の液晶高分子層に、粘接着剤(B)を介して長尺の第
    二の基板フィルムを貼り合わせて再剥離性基板フィルム
    /粘接着剤(A)層/液晶高分子層/粘接着剤(B)層
    /第二の基板フィルムからなる5層構造の長尺積層体を
    調製する工程と、得られた5層構造の長尺積層体の幅方
    向両縁部を、2つの粘接着剤層及び液晶高分子層が重な
    り合う部分において長手方向に切断する工程と、両縁部
    が切断された長尺積層体から再剥離性基板フィルムのみ
    を剥離する工程を連続させた長尺光学素子の連続製造
    法。
  3. 【請求項3】 長尺の配向基板フィルム上にて配向形成
    された長尺の液晶高分子層に、粘接着剤(A)を介して
    長尺の再剥離性基板フィルムを貼り合わせた後、配向基
    板フィルムを剥離し、露呈した液晶高分子層上にオーバ
    ーコート層を設けて、再剥離性基板フィルム/粘接着剤
    (A)層/液晶高分子層/オーバーコート層からなる4
    層構造の長尺積層体を調製する工程と、得られた4層構
    造の長尺積層体のオーバーコート層に、粘接着剤(B)
    を介して長尺の第二の基板フィルムと貼り合わせて再剥
    離性基板フィルム/粘接着剤(A)層/液晶高分子層/
    オーバーコート層/粘接着剤(B)層/第二の基板フィ
    ルムからなる6層構造の長尺積層体を調製する工程と、
    得られた6層構造の長尺積層体の幅方向両縁部を、2つ
    の粘接着剤及び液晶高分子層が重なり合う部分において
    長手方向に切断する工程と、両縁部を切断した長尺積層
    体から再剥離性基板フィルムのみを剥離する工程とを連
    続させた長尺光学素子の連続製造法。
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