TWI808193B - 液晶膜的製造方法及光學積層體的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種液晶膜的製造方法，具備下列步驟：準備依序包含第1基材層、第1液晶層及接著層的附接著層的第1積層部的步驟；準備包含第2基材層及第2液晶層的第2積層部的步驟；對前述附接著層的第1積層部的靠前述接著層側的表面及前述第2積層部的靠前述第2液晶層側的表面中至少一者，進行表面活性化處理的步驟；將前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中包含前述接著層的端部的第1端部的至少一者除去的步驟；以及將除去前述第1端部後的前述附接著層的第1積層部的前述接著層與前述第2積層部的前述第2液晶層貼合，得到液晶層積層體的步驟；其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面的至少一端部中，前述接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側；前述除去步驟係在前述表面活性化處理的步驟之前或之後進行； 前述除去步驟係以在除去前述第1端部後的前述附接著層的第1積層部的寬度方向的剖面中，使除去前述第1端部之側的前述接著層的端部位置與前述第1液晶層的端部位置相同的方式除去前述第1端部。

Description

液晶膜的製造方法及光學積層體的製造方法
本發明係關於液晶膜的製造方法及光學積層體的製造方法。
使用有機發光二極體(OLED)的有機EL顯示裝置，與液晶顯示裝置等比較，不僅能夠輕量化、薄型化，且可實現廣視角、快速反應速度、高對比等的高畫質，故被使用於智慧型手機、電視、數位相機等各種領域。在有機EL顯示裝置，已知有為了抑制因外部光線的反射導致之可視性的降低，而使用圓偏光板等來提高抗反射性能。
於日本公開專利JP2015-25947A1中，記載一種積層有直線偏光板與1/4波長板的圓偏光板，作為應用於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置的影像顯示面板的光學膜，且記載該1/4波長板是藉由積層1/2波長相位差層與1/4波長相位差層所構成。
本發明之目的係提供一種適合製造光學積層體的液晶膜的 製造方法及光學積層體的製造方法。
本發明提供以下表示的液晶膜的製造方法及光學積層體的製造方法。
[1]一種液晶膜的製造方法，具備：準備依序包含第1基材層、第1液晶層及接著層的附接著層的第1積層部的步驟；準備包含第2基材層及第2液晶層的第2積層部的步驟；對前述附接著層的第1積層部的靠前述接著層側的表面及前述第2積層部的靠前述第2液晶層側的表面中至少一者，進行表面活性化處理的步驟；將前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中包含前述接著層的端部的第1端部的至少一者除去的步驟；以及將除去前述第1端部後的前述附接著層的第1積層部的前述接著層與前述第2積層部的前述第2液晶層貼合，得到液晶層積層體的步驟；其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面的至少一端部中，前述接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側；前述除去步驟係在前述表面活性化處理的步驟之前或之後進行；前述除去步驟係以在除去前述第1端部後的前述附接著層的第1積層部的寬度方向的剖面中，使除去前述第1端部之側的前述接著層的端部位置與前述第1液晶層的端部位置相同的方式除去前述第1端部。
[2]如[1]記載的液晶膜的製造方法，其中，前述除去步驟係 在前述表面活性化處理的步驟之前進行。
[3]如[1]或[2]記載的液晶膜的製造方法，其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向的剖面中，前述接著層的寬度方向兩端的位置係比前述第1液晶層的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；前述第1端部為前述附接著層的第1積層部的寬度方向兩端。
[4]一種液晶膜的製造方法，具備下列步驟：準備依序包含第1基材層、第1液晶層及接著層的附接著層的第1積層部的步驟；準備包含第2基材層及第2液晶層的第2積層部的步驟；對前述附接著層的第1積層部的靠前述接著層側的表面及前述第2積層部的靠前述第2液晶層側的表面中至少一者，進行表面活性化處理的步驟；以及將前述附接著層的第1積層部的前述接著層與前述第2積層部的前述第2液晶層貼合，得到液晶層積層體的步驟；其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面的至少一端部中，前述接著層的寬度方向的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側；在前述液晶層積層體的前述寬度方向剖面的至少一端部中，前述接著層的端部位置係與前述第2液晶層的端部位置相同或比其更靠近寬度方向外側。
[5]如[4]記載的液晶膜的製造方法，其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中，前述接著層的寬度方向兩端的位置係比 前述第1液晶層的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；在前述液晶層積層體的寬度方向剖面中，前述接著層的寬度方向兩端的位置係與前述第2液晶層的寬度方向兩端的位置相同或比其更靠近寬度方向外側。
[6]如[4]或[5]記載的液晶膜的製造方法，其中，在前述液晶層積層體的前述寬度方向剖面的至少一端部，前述第2液晶層的前述端部的位置係與前述第2基材層的端部位置相同。
[7]如[4]至[5]中任一項記載的液晶膜的製造方法，其中，在前述液晶層積層體的寬度方向剖面中，前述第2液晶層的寬度方向兩端的位置係與前述第2基材層的寬度方向兩端的位置相同。
[8]如[1]至[7]中任一項記載的液晶膜的製造方法，更具備：將前述液晶層積層體中之包含前述第1基材層與前述第2基材層中的一者的第1剝離層剝離的步驟。
[9]液晶膜的製造方法，具備下列步驟：準備依序包含第1基材層、第1液晶層及接著層的附接著層的第1積層部的步驟，且在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面的至少一端部中，前述接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側；準備包含第2基材層及第2液晶層的第2積層部的步驟；對前述附接著層的第1積層部的靠前述接著層側的表面及前述第2積層部的靠前述第2液晶層側的表面中至少一者，進行表面活性化處理的步驟； 將前述附接著層的第1積層部的前述接著層與前述第2積層部的前述第2液晶層貼合，得到液晶層積層體的步驟，且以在前述液晶層積層體的寬度方向剖面的前述至少一端部中，使前述接著層的端部位置比前述第2液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側的方式得到前述液晶層積層體；以及將前述液晶層積層體中的前述一端部所在之側之包含前述接著層的端部之第2端部除去的步驟；其中，前述除去步驟係以在除去前述第2端部後的前述液晶層積層體的寬度方向剖面中，使除去前述第2端部之側的前述接著層的端部位置與前述第1液晶層及前述第2液晶層的至少一者的端部位置相同的方式除去前述第2端部。
[10]如[9]記載的液晶膜的製造方法，其中，前述除去步驟係以在除去前述第2端部後的前述液晶層積層體的寬度方向剖面中，使除去前述第2端部之側的前述接著層的端部位置與前述第1液晶層的端部位置相同，且與前述第2液晶層的端部位置相同的方式除去前述第2端部。
[11]如[9]或[10]記載的液晶膜的製造方法，其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中，前述接著層的寬度方向兩端的位置係比前述第1液晶層的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；在前述液晶層積層體的寬度方向剖面中，前述接著層的兩端位置係比前述第2液晶層的兩端位置更靠近寬度方向內側；前述第2端部為前述液晶層積層體的寬度方向兩端。
[12]如[9]至[11]中任一項記載的液晶膜的製造方法，更具備： 將除去前述第2端部後的前述液晶層積層體中之包含前述第1基材層與前述第2基材層中的一者的第1剝離層剝離的步驟。
[13]液晶膜的製造方法，具備下列步驟：準備依序包含第1基材層、第1液晶層及接著層的附接著層的第1積層部的步驟，且在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面的至少一端部中，前述接著層的端部位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側；準備包含第2基材層及第2液晶層的第2積層部的步驟；對前述附接著層的第1積層部的靠前述接著層側的表面及前述第2積層部的靠前述第2液晶層側的表面中至少一者，進行表面活性化處理的步驟；將前述附接著層的第1積層部的前述接著層與前述第2積層部的前述第2液晶層貼合，得到第1液晶層積層體的步驟，且以在前述第1液晶層積層體的寬度方向剖面的前述至少一端部中，使前述接著層的端部位置比前述第2液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側的方式得到前述第1液晶層積層體；將前述第1液晶層積層體的包含前述第1基材層與前述第2基材層中的一者的第1剝離層剝離，得到第2液晶層積層體的步驟；以及將前述第2液晶層積層體中的前述至少一端部所在之側之包含前述接著層的端部之第3端部除去的步驟；其中，前述除去步驟係以在除去前述第3端部後的前述第2液晶層積層體的寬度方向剖面中之除去前述第3端部之側，使前述接著層的端部位 置與前述第1液晶層及前述第2液晶層的至少一端部位置相同的方式除去前述第3端部。
[14]如[13]記載的液晶膜的製造方法，其中，前述除去步驟，係以在除去前述第3端部後的前述第2液晶層積層體的寬度方向剖面中之除去前述第3端部之側，使前述接著層的端部位置與前述第1液晶層的端部位置相同，且與前述第2液晶層的端部位置相同的方式除去前述第3端部。
[15]如[13]或[14]記載的液晶膜的製造方法，其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中，前述接著層的寬度方向兩端的位置係比前述第1液晶層的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；在前述第1液晶層積層體的其寬度方向剖面中，前述接著層的寬度方向兩端的位置比前述第2液晶層的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；前述第3端部為前述第2液晶層積層體的寬度方向兩端。
[16]如[1]至[15]中任一項記載的液晶膜的製造方法，其中，前述準備附接著層的第1積層部的步驟係具備下列步驟：準備包含第1基材層及第1液晶層的第1積層部的步驟；以及在前述第1液晶層的與前述第1基材層為相反側處積層接著層，得到前述附接著層的第1積層部的步驟。
[17]如[1]至[16]中任一項記載的液晶膜的製造方法，其中，前述表面活性化處理的步驟，係對前述附接著層的第1積層部的靠前述接著層側的表面及前述第2積層部的靠前述第2液晶層側的表面，進行表面 活性化處理。
[18]如[1]至[17]中任一項記載的液晶膜的製造方法，其中，前述表面活性化處理為電暈處理。
[19]如[1]至[18]中任一項記載的液晶膜的製造方法，其中前述第1液晶層為相位差層。
[20]如[1]至[19]中任一項記載的液晶膜的製造方法，其中前述第2液晶層為相位差層。
[21]如[1]至[20]中任一項記載的液晶膜的製造方法，其中，前述附接著層的第1積層部更在前述第1基材層與前述第1液晶層之間包含第1配向層。
[22]如[1]至[21]中任一項記載的液晶膜的製造方法，其中，前述第2積層部更在前述第2基材層與前述第2液晶層之間包含第2配向層。
[23]光學積層體的製造方法，具備下列步驟：準備藉由如[8]及[12]至[15]中任一項記載的液晶膜的製造方法所製造的液晶膜的步驟；準備光學膜的步驟；以及將前述光學膜隔著光學膜用接著層，積層於因剝離前述第1剝離層而露出的層的步驟。
[24]如[23]記載的光學積層體的製造方法，更具備：將包含前述第1基材層及前述第2基材層中未被前述第1剝離層包含的層之第2剝離層剝離的步驟。
[25]如[24]記載的光學積層體的製造方法，係在因剝離前述第2剝離層所露出的層上，積層光學積層體用接著層。
根據本發明，可提供適合製造光學積層體的液晶膜的製造方法及光學積層體的製造方法。
10a~10d、10p‧‧‧第1積層部
10a1‧‧‧第1積層部
11a~11d、11a1、11c1、11d2、11p‧‧‧第1基材層
12a~12d、12a1、12c1、12b1、12d2、12p、12p1‧‧‧第1相位差層(第1液晶層)
12’p‧‧‧轉移部分
13a~13d、13a1、13c1、13d2、13p‧‧‧接著層
14a‧‧‧第1端部
20a~20d、20p‧‧‧第2積層部
21a~21d、21c1、21p‧‧‧第2基材層
22a~22d、22a1、22c1、22d1、22d2、22p、22p1‧‧‧第2相位差層(第2液晶層)
30d‧‧‧第2相位差層積層體(第2液晶層積層體)
30d2‧‧‧第2相位差層積層體(第2液晶層積層體)
34d‧‧‧第3端部
40a~40c、40p‧‧‧相位差層積層體(液晶層積層體)
40d‧‧‧第1相位差層積層體(第1液晶層積層體)
40c1‧‧‧相位差層積層體(液晶層積層體)
44c‧‧‧第2端部
50a~50d、50p‧‧‧相位差膜(液晶膜)
60a~60d、60p‧‧‧光學膜
60’p‧‧‧光學膜的一部分
62a~62d、62p‧‧‧光學膜用接著層
62’p‧‧‧光學膜用接著層的一部分
70a~70d、70p‧‧‧光學積層體
W‧‧‧寬度方向
第1圖(a)至(e)係示意性表示本發明的液晶膜之相位差膜的製造步驟之一例的概略剖面圖。
第2圖(a)至(c)係示意性表示本發明的光學積層體的製造步驟之一例的概略剖面圖。
第3圖(a)至(d)係示意性表示本發明的液晶膜之相位差膜的製造步驟之另一例的概略剖面圖。
第4圖(a)至(c)係示意性表示本發明的光學積層體的製造步驟之另一例的概略剖面圖。
第5圖(a)至(e)係示意性表示本發明的液晶膜之相位差膜的製造步驟之另一例的概略剖面圖。
第6圖(a)至(e)係示意性表示本發明的液晶膜之相位差膜的製造步驟之另一例的概略剖面圖。
第7圖(a)至(d)係示意性表示本發明的前提之光學積層體的製造步驟之一例的概略剖面圖。
說明本發明的液晶膜的製造方法及光學積層體的製造方法的較佳實施態樣前，說明本發明的實施態樣的前提。第7圖(a)至(d)係示意性表示後述實施態樣的前提之光學積層體70p的製造步驟的概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。再者，以下舉第1液晶層及第2液晶層分別為第1相位差層及第2相位差層，且液晶膜為相位差膜的情況為例，加以說明。
於光學積層體的製造方法，如第7圖(a)所示，有時會使用將包含第1基材層11p及第1相位差層12p的第1積層部10p、以及包含第2基材層21p及第2相位差層22p的第2積層部20p隔著接著層13p予以積層而成的相位差層積層體40p。如第7圖(b)所示，從該相位差層積層體40p剝離第2基材層21p時，第2相位差層22p的一部分會轉移到經剝離的第2基材層21p，得到第2相位差層22p1形成在接著層13p上之相位差膜50p。此乃因為第7圖(a)所示的相位差層積層體40p在第2相位差層22p的寬度方向兩端具有未被接著層13固定之非固定區域(第7圖(a)中右上角斜線表示的部分)，且藉由第2基材層21p的剝離，第2相位差層22p分離成被固定在接著層13的區域之第2相位差層22p1及轉移至第2基材層21p的非固定區域。
接著，在第7圖(b)所示的相位差膜50p的第2相位差層22p1上，如第7圖(c)所示，隔著光學膜用接著層62p積層光學膜60p後，將相位差膜50p所包含的第1基材層11p剝離，可得到光學積層體70p(第7圖(d))。
此外，在第7圖(a)所示的相位差層積層體40p中，在寬度方向的端部，具有第1相位差層12p與第2相位差層22p不隔著接著層13p而相對向的區域。於該區域，第1相位差層12p與第2相位差層22p容易直接接觸，且會因第1相位差層12p與第2相位差層22p的接觸強度、或第1相位差層12p與第2相位差層22p的表面狀態，如第7圖(a)所示，有時第1相位差層12p的一部分12’p(以下有時稱為「轉移部分12’p」)會轉移至第2相位差層22p。第1相位差層12p的轉移部分12’p轉移至第2相位差層22p時，第1相位差層12p的一部分缺損，在第1相位差層12p形成缺損部p。有時會因第1相位差層12p與第2相位差層22p的表面狀態、或第1相位差層12p與第2相位差層22p的接觸情況，使得第1相位差層12p的缺損部p、或朝第2相位差層22p的轉移部分12’p朝長度方向連續地產生。
由於如此的缺損部p，如第7圖(b)所示，也存在於相位差膜50p，故在相位差膜50p隔著光學膜用接著層62p積層光學膜60p(第7圖(c))時，在該缺損部p的區域，會隔著光學膜用接著層62p將第1基材層11p與光學膜60p接著。在形成有如此的接著部分的狀態下剝離第1基材層11p時，如第7圖(d)所示，由於光學膜60p的一部分60’p及光學膜用接著層62p一部分62’p被固定在第1基材層11p，故在所得之光學積層體70p的其端部，會有光學膜60p及光學膜用接著層62p破裂之情形。如第7圖(d)所示的端部破裂的光學積層體70p，因外觀不良且運送光學積層體70p時有移動性不安定的傾向，因而不佳。
另外，在第7圖(a)所示的相位差層積層體40p，從相位差層 積層體40p剝離的第2基材層21p的運送時，轉移部分12’p也可能脫落。脫落的轉移部分12’p會附著在相位差膜50p、運送路徑上而成為污染製造中的製品、運送路徑的原因，有引起所得之光學積層體的外觀不良之情形。而且，在第7圖(a)所示的相位差層積層體40p，第2相位差層22p的一部分也會轉移至第1相位差層12p。該等的情況，在相位差膜的運送時，轉移至第1相位差層12p的第2相位差層22p的一部分脫落，附著在相位差膜、運送路徑，而成為污染製造中的製品、運送路徑的原因，有引起所得之光學積層體的外觀不良之情形。
所以，在以下的實施態樣，說明藉由不易產生端部的破裂、及不易污染製造中的製品、運送路徑，而抑制光學積層體的外觀不良、運送時的移動特性的不安定化，可適當地製造光學積層體之液晶膜的製造方法及光學積層體的製造方法。
以下，參考圖式，說明本發明的液晶膜的製造方法及光學積層體的製造方法的較佳實施態樣。再者，以下，舉第1液晶層及第2液晶層分別為第1相位差層及第2相位差層，且液晶膜為相位差膜的情況為例，加以說明。
[第1實施態樣]
(相位差膜的製造方法)
第1圖(a)至(e)係示意性表示本實施態樣的相位差膜50a(液晶膜)的製造方法之一例的概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。
本實施態樣的相位差膜50a的製造方法，例如具備下列步驟： 準備依序包含第1基材層11a、第1相位差層12a(第1液晶層)及接著層13a的附接著層的第1積層部10a的步驟(第1圖(a))；準備包含第2基材層21a、及第2相位差層22a(第2液晶層)的第2積層部20a的步驟(第1圖(b))；將附接著層的第1積層部10a的寬度方向兩端(第1端部14a)除去的步驟(第1圖(a)及(c))；對除去第1端部14a後的附接著層的第1積層部10a1的靠接著層13a1側的表面及第2積層部20a的靠第2相位差層22a側的表面，進行表面活性化處理的步驟；以及將表面活性化處理後的附接著層的第1積層部10a1的接著層13a1與第2積層部20a的第2相位差層22a貼合，得到相位差層積層體40a(液晶層積層體)的步驟(第1圖(d))。
在第1圖(a)所示的附接著層的第1積層部10a的寬度方向剖面中，接著層13a的寬度方向兩端的位置係比第1相位差層12a的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；除去第1圖(a)所示的第1端部14a的步驟，係在表面活性化處理的步驟之前進行，且以在除去第1端部14a後的附接著層的第1積層部10a1的寬度方向剖面中，使接著層13a1的寬度方向兩端的位置與第1相位差層12a1的寬度方向兩端的位置相同的方式(第1圖(c))除去第1端部14a。如第1圖(e)所示，相位差膜50a的製造方法，亦可更具備剝離第2基材層21a(第1剝離層)的步驟。
以下，根據圖式來具體說明。於第1圖所示的製造方法，首 先，準備如第1圖(a)所示之依序包含第1基材層11a、第1相位差層12a及接著層13a的附接著層的第1積層部10a，及如第1圖(b)所示之包含第2基材層21a及第2相位差層22a的第2積層部20a。附接著層的第1積層部10a與第2積層部20a為長條的膜狀物，且一邊連續地運送附接著層的第1積層部10a與第2積層部20a，一邊進行後述的步驟。寬度方向W為與膜狀物的長度方向垂直之方向。
然後，對於第1圖(a)所示的附接著層的第1積層部10a，將其寬度方向兩端在虛線Xa切斷，而將比虛線Xa更靠近寬度方向外側的第1端部14a除去。藉此，如第1圖(c)所示，得到具有第1基材層11a1、第1相位差層12a1及接著層13a1之除去第1端部14a後的附接著層的第1積層部10a1(以下有時稱為「附接著層的第1積層部10a1」)。接著，對附接著層的第1積層部10a1的靠接著層13a1側的表面及第2積層部20a的靠第2相位差層22a側的表面進行表面活性化處理後，將附接著層的第1積層部10a1的接著層13a1與第2積層部20a的第2相位差層22a貼合，得到第1圖(d)所示的相位差層積層體40a。然後，從相位差層積層體40a剝離第2基材層21a(第1剝離層)，藉此得到第1圖(e)所示的相位差膜50a。
附接著層的第1積層部10a的寬度方向剖面中，如第1圖(a)所示，接著層13a的寬度方向兩端的位置係比第1相位差層12a的寬度方向兩端的位置更靠近內側。接著層13a的寬度方向兩端的位置，無特別限制，可設為從第1相位差層12a的寬度方向的端部位置起往寬度方向內側離0.2cm以上的區域，可為離0.5cm以上的區域，亦可為離1.0cm以上的區域，通常為離20cm以下的區域，較理想為離15cm以下的區域。 在第1圖(a)所示的附接著層的第1積層部10a中，第1基材層11a的寬度方向兩端的位置雖然比第1相位差層12a的寬度方向兩端的位置更靠近外側，亦可為與第1相位差層12a的寬度方向兩端的位置相同。
在第2積層部20a的寬度方向剖面中，如第1圖(b)所示，第2基材層21a的寬度方向兩端的位置可比第2相位差層22a的寬度方向兩端的位置更靠近外側，亦可與第2相位差層22a的寬度方向兩端的位置相同。
以在附接著層的第1積層部10a的寬度方向兩端部中，於除去第1端部14a後的附接著層的第1積層部10a1(第1圖(c))的寬度方向剖面中，使接著層13a1的兩端的位置與第1相位差層12a1的兩端的位置相同的方式來決定第1圖(a)之虛線Xa的位置。
在第1圖(a)所示的附接著層的第1積層部10a中，通常係以使第1端部14a包含第1基材層11a及第1相位差層12a的端部的方式來決定虛線Xa的位置，較理想係以包含第1相位差層12a及接著層13a的端部的方式來決定虛線Xa的位置。從附接著層的第1積層部10a的寬度方向兩端部除去的各第1端部14a所包含之層，可以互為相同，亦可以為互相不同。
界定第1端部14a的區域之虛線Xa的位置，通常為從位於附接著層的第1積層部10a的寬度方向最外側的端部起往在寬度方向內側離0.5cm以上的區域，可為離1.0cm以上的區域，亦可為離1.5cm以上的區域，而且通常為離20cm以下的區域，較理想為離15cm以下的區域，更理想為離10cm以下的區域。從位於附接著層的第1積層部10a的寬度 方向最外側的端部至虛線Xa的位置為止的距離，在附接著層的第1積層部10a的寬度方向兩端可為相同，亦可為不同。
作為對附接著層的第1積層部10a1靠的接著層13a1側的表面及第2積層部20a的靠第2相位差層22a側的表面進行的表面活性化處理，例如為使表面親水化的處理。具體地，例如電暈處理、電漿處理、電弧放電等的放電處理；火焰處理；臭氧處理；UV臭氧處理；如紫外線處理、電子束處理等的電離輻射處理等，其中較理想為電暈處理、電漿處理，更理想為電暈處理。
表面活性化處理的程度，無特別限制，以使附接著層的第1積層部10a1的接著層13a1的表面的水接觸角及第2積層部20a的第2相位差層22a的表面的水接觸角未達100°的方式進行處理較理想，未達90°更理想，未達80°更加理想。於表面活性化處理為電暈處理的情況，處理量可為例如30至3000J/m2。
在相位差層積層體40a中，在寬度方向剖面中，接著層13a1的寬度方向兩端的位置係與第1相位差層12a1的寬度方向兩端的位置相同。相位差層積層體40a中的第2相位差層22a及第2基材層21a的寬度方向兩端的位置，無特別限制。為了有效地利用第1相位差層12a1的全部寬度，在相位差層積層體40a，於第2相位差層22a的寬度方向兩端部的位置，係以與接著層13a1的寬度方向兩端部的位置相同，或比其更靠近外側較理想。運送相位差層積層體40a時等，為了防止因附接著層的第1積層部10a1的接著層13a1露出或構成接著層13a1的接著劑(adhesive)或黏著劑(pressure sensitive adhesive)擠出等造成運送路徑污染，在相位差層 積層體40a的寬度方向的兩端，第2相位差層22a及第2基材層21a中之至少之者，以與接著層13a1的端部位置相同或比其更靠近外側較理想。
從相位差層積層體40a剝離第2基材層21a(第1剝離層)，可得到相位差膜50a。第1圖(e)所示的相位差膜50a，具備第1基材層11a1、第1相位差層12a1、接著層13a1及第2相位差層22a1。在相位差膜50a的寬度方向剖面中，第2相位差層22a1的寬度方向兩端的位置係與接著層13a1的寬度方向兩端的位置相同。
從第1圖(d)所示的相位差層積層體40a剝離第2基材層21a時，如第1圖(e)所示，第2相位差層22a的一部分容易轉移到經剝離的第2基材層21a。此乃因為在第1圖(d)所示的相位差層積層體40a的寬度方向的剖面中，第2基材層21a的寬度方向兩端的位置係比接著層13a1的寬度方向兩端的位置更靠近外側，且第2相位差層22a具有未被接著層13a1固定的非固定區域(第1圖(d)中右上角斜線表示的部分)。所以，從相位差層積層體40a剝離第2基材層21a時，第1圖(d)所示的第2相位差層22a分離成被固定在接著層13a1的區域(第1圖(e)所示的第2相位差層22a1)及轉移至第2基材層21a的非固定區域(第1圖(d)及(e)中右上角斜線表示的部分)，如第1圖(e)所示，可得到在寬度方向的剖面中，第2相位差層22a1的寬度方向兩端的位置與附接著層的第1積層部10a1的接著層13a1的寬度方向兩端的位置相同之相位差膜50a。
在相位差膜50a的製造步驟中進行表面活性化處理的情況，尤其如依據第7圖(a)至(d)說明的相位差層積層體40p一樣，使第1相位差層12p與第2相位差層22p直接接觸時，容易產生第1相位差層12p的 一部分12’p轉移至第2相位差層22p，或者第2相位差層22p的一部分轉移至第1相位差層12p的現象之傾向。
相對於地，藉由本實施態樣的製造方法所得之相位差膜50a中，第1相位差層12a1與第2相位差層22a1係隔著接著層13a1相對向，不存在第1相位差層12a1與第2相位差層22a1未隔著接著層13a1而相對向的區域。所以，在相位差膜50a，因為第1相位差層12a1與第2相位差層22a1沒有直接接觸，故可防止第1相位差層12a1的一部分轉移至第2相位差層22a1或第2相位差層22a1的一部分轉移至第1相位差層12a1之情形。藉此，使用相位差膜50a製造後述的光學積層體70a時，可抑制光學積層體70a端部的破裂，而且可抑制製造中的製品、運送路徑受到污染。
(光學積層體的製造方法)
第2圖(a)至(c)係示意性表示本實施態樣的光學積層體70a的製造方法之一例的概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。
本實施態樣的光學積層體70a的製造方法，具備下列步驟：準備相位差膜50a的步驟(第2圖(a))；準備光學膜60a的步驟(第2圖(a))；以及將光學膜60a隔著光學膜用接著層62a而積層於因剝離第2基材層21a(第1剝離層)而露出的第2相位差層22a1的步驟(第2圖(b))。
本實施態樣的光學積層體70a的製造方法，可更具備剝離第1基材層11a1(第2剝離層)的步驟(第2圖(c))，亦可在因剝離第1基材層11a1而露出的第1相位差層12a1上積層光學積層體用接著層。
以下，根據圖式來具體說明。在第2圖(c)表示的光學積層 體70a的製造方法，首先如第2圖(a)所示，準備相位差膜50a及光學膜60a。相位差膜50a及光學膜60a為長條的膜狀物，且一邊連續地運送相位差膜50a及光學膜60a，一邊進行後述的步驟。
然後，如第2圖(b)所示，將光學膜60a隔著光學膜用接著層62a積層於相位差膜50a的第2相位差層22a1。此時，可預先在光學膜60a上設置光學膜用接著層62a，再貼合該光學膜用接著層62a與相位差膜50a的第2相位差層22a1，亦可預先在相位差膜50a的第2相位差層22a1上設置光學膜用接著層62a，再貼合該光學膜用接著層62a與光學膜60a。
隔著光學膜用接著層62a積層光學膜60a與相位差膜50a後，藉由將相位差膜50a所包含的第1基材層11a1(第2剝離層)剝離，可得到第2圖(c)所示的光學積層體70a。如第2圖(c)所示，光學積層體70a係依序積層有第1相位差層12a1、接著層13a1、第2相位差層22a1、光學膜用接著層62a及光學膜60a。光學積層體70a，亦可在因剝離第1基材層11a1而露出的第1相位差層12a1上形成未圖示的光學積層體用接著層。光學積層體用接著層可在要貼合於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等的顯示面板時使用。
在光學積層體70a的寬度方向的剖面中，光學膜60a的寬度方向兩端的位置可與第2相位差層22a1、接著層13a1及第1相位差層12a1中的任一者的寬度方向兩端的位置相同，也可與該等的任一者不同。例如第2圖(c)所示，光學膜60a的寬度方向的長度可比第2相位差層22a1、接著層13a1及第1相位差層12a1中的任一者長，亦可比該等的層之任一者短。
在光學積層體70a的寬度方向的剖面中，光學膜用接著層62a的寬度方向兩端的位置係以與光學膜60a的寬度方向兩端的位置相同或比其更靠近內側較理想。而且，光學膜用接著層62a的寬度方向兩端的位置係以與第2相位差層22a1、接著層13a1及第1相位差層12a1中的任一者的寬度方向兩端的位置相同或比其更靠近內側較理想。藉此，可防止運送光學積層體70a時，光學膜用接著層62a被擠出至光學積層體70a的寬度方向外側而附著在運送路徑上並污染運送路徑的情形。
如上述，在第1圖(e)表示的相位差膜50a中，因第1相位差層12a1與第2相位差層22a1未直接接觸，故可防止第1相位差層12a1的一部分轉移至第2相位差層22a1或第2相位差層22a1的一部分轉移至第1相位差層12a1之情形。因此，不會如依據第7圖(a)至(d)說明的相位差層積層體40p一樣，在第1相位差層12p產生缺損部p，如光學積層體70p一樣，抑制端部的破裂，且抑制製造中的製品、運送路徑受到污染，而可製造第2圖(c)所示的光學積層體70a。
本實施態樣的相位差膜的製造方法及光學積層體的製造方法，可改變為如以下所示的變形例。上述的實施態樣及下述表示的變形例可任意地組合。
(第1實施態樣的變形例1)
在本實施態樣的製造方法中，可將附接著層的第1積層部10a的寬度方向的一第1端部14a除去。於該情況，在除去第1端部14a之側，可抑制光學積層體的破裂，且可抑制製造中的製品、運送路徑受到污染。
(第1實施態樣的變形例2)
在本實施態樣的製造方法中，可只對任一表面進行表面活性化處理。為了容易良好地貼合附接著層的第1積層部10a1的接著層13a1與第2積層部20a的第2相位差層22a，表面活性化處理係以對附接著層的第1積層部10a1的靠接著層13a1側的表面及第2積層部20a的靠第2相位差層22a側的表面兩者進行較理想。
於本實施態樣的製造方法中，可在除去第1端部14a前的附接著層的第1積層部10a1的靠接著層13a1側的表面進行表面活性化處理。於該情況，亦可只對除去第1端部14a前的附接著層的第1積層部10a1的靠接著層13a1側的表面及第2積層部20a的靠第2相位差層22a側的表面中的任一表面進行表面活性化處理。為了有效地發揮表面活性化處理的效果，以對除去第1端部14a後的附接著層的第1積層部10a1進行較理想。
(第1實施態樣的變形例3)
於本實施態樣的製造方法中，可只使接著層的寬度方向的一端部位置比第1相位差層的端部位置更靠近寬度方向內側。於該情況，除去第1端部的步驟中，只要將附接著層的第1積層部中之接著層的靠上述一端部側的第1端部除去即可。
(第1實施態樣的變形例4)
於本實施態樣的製造方法中，第1剝離層可為第1基材層11a1，且第2剝離層可為第2基材層21a。於該情況，可在剝離而露出的第1相位差層12a1上隔著光學膜用接著層積層光學膜，並在剝離第2基材層21a而露出的第2相位差層22a1上形成光學積層體用接著層。或者，可在剝離第1基材層11a1而露出的第1相位差層12a1上先積層光學積層體用接著層，然 後在剝離第2基材層21a而露出的第2相位差層22a1上隔著光學膜用接著層積層光學膜。
[第2實施態樣]
(相位差膜的製造方法)
第3圖(a)至(d)係示意性表示本實施態樣的相位差膜50b(液晶膜)的製造方法之一例的概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。本實施態樣的相位差膜50b的製造方法，具備下列步驟：準備依序包含第1基材層11b、第1相位差層12b(第1液晶層)及接著層13b的附接著層的第1積層部10b的步驟(第3圖(a))；準備包含第2基材層21b及第2相位差層22b(第2液晶層)的第2積層部20b的步驟(第3圖(b))；對附接著層的第1積層部10b的靠接著層13b側的表面及第2積層部20b的靠第2相位差層22b側的表面，進行表面活性化處理的步驟；以及將附接著層的第1積層部10b的接著層13b與第2積層部20b的第2相位差層22b貼合，得到相位差層積層體40b(液晶層積層體)的步驟(第3圖(c))。
在第3圖(a)所示的附接著層的第1積層部10b的寬度方向剖面中，接著層13b的寬度方向兩端的位置係比第1相位差層12b的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；在第3圖(c)所示的相位差層積層體40b的寬度方向剖面中，接著層13b的寬度方向兩端的位置係與第2相位差層22b的寬度方向兩端的位置 相同。相位差膜50b的製造方法，亦可更具備：剝離第2基材層21b(第1剝離層)的步驟(第3圖(d))。
以下，根據圖式來具體說明。於第3圖所示的製造方法中，首先準備如第3圖(a)所示之依序包含第1基材層11b、第1相位差層12b及接著層13b的附接著層的第1積層部10b、及如第3圖(b)所示之包含第2基材層21b及第2相位差層22b的第2積層部20b。附接著層的第1積層部10b與第2積層部20b為長條的膜狀物，且一邊連續地運送附接著層的第1積層部10b與第2積層部20b，一邊進行後述的步驟。寬度方向W為與膜狀物的長度方向垂直之方向。
附接著層的第1積層部10b所具有的第1基材層11b、第1相位差層12b及接著層13b，因與第1圖(a)所示之附接著層的第1積層部10a所具有的第1基材層11a、第1相位差層12a及接著層13a相同，故省略其說明。
在第3圖(b)所示之第2積層部20b的寬度方向剖面中，第2基材層21b的寬度方向兩端的位置係與第2相位差層22b的寬度方向兩端的位置相同。
然後，對附接著層的第1積層部10b的靠接著層13b側的表面及第2積層部20b的靠第2相位差層22b側的表面，進行表面活性化處理後，將附接著層的第1積層部10b的接著層13b與第2積層部20b的第2相位差層22b貼合，得到第3圖(c)所示的相位差層積層體40b。然後，從相位差層積層體40b剝離第2基材層21b(第1剝離層)，藉此得到第3圖(d)所示的相位差膜50b。
對附接著層的第1積層部10b的靠接著層13b側的表面及第2積層部20b的靠第2相位差層22b側的表面進行的表面活性化處理，可如先前實施態樣說明地進行。於本實施態樣的表面活性化處理中，係以使附接著層的第1積層部10b的第1相位差層12b的靠接著層13b側的表面、接著層13b的表面(與第1相位差層12b為相反側的表面)及第2相位差層22b側的表面(與第2基材層21b為相反側的表面)分別的水接觸角成為未達100°的方式進行處理較理想，以成為未達90°的方式進行處理更理想，以成為未達80°的方式進行處理更加理想。
在相位差層積層體40b的寬度方向剖面中，如第3圖(c)所示，接著層13b的寬度方向兩端的位置較理想為與第2積層部20b(第2基材層21b及第2相位差層22b)的寬度方向兩端的位置相同。從所得之相位差層積層體40b剝離第2基材層21b，藉此可得到第3圖(d)所示的相位差膜50b。
在相位差膜50b的製造步驟中進行表面活性化處理的情況，尤其如依據第7圖(a)至(d)說明的相位差層積層體40p一樣，使第1相位差層12p與第2相位差層22p直接接觸時，有容易產生第1相位差層12p的一部分12’p轉移至第2相位差層22p，或者第2相位差層22p的一部分轉移至第1相位差層12p的現象之傾向。
相對於此，藉由本實施態樣的製造方法所得之相位差膜50b中，第1相位差層12b與第2相位差層22b係隔著接著層13b而相對向，並不存在第1相位差層12b與第2相位差層22b未隔著接著層13b而相對向的區域。所以，在相位差膜50b，第1相位差層12b與第2相位差層22b 未直接接觸，故可防止第1相位差層12b的一部分轉移至第2相位差層22b或第2相位差層22b的一部分轉移至第1相位差層12b之情形。藉此，使用相位差膜50b製造後述的光學積層體70b時，可抑制光學積層體70b端部的破裂，而且可抑制製造中的製品、運送路徑受到污染。
(光學積層體的製造方法)
第4圖(a)至(c)係示意性表示本實施態樣的光學積層體70b的製造方法之一例的概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。第4圖(c)表示的製造方法，具備下列步驟：準備相位差膜50b的步驟(第4圖(a))；準備光學膜60b的步驟(第4圖(a))；以及將光學膜60b隔著光學膜用接著層62b積層於因剝離第2基材層21b(第1剝離層)而露出的第2相位差層22b的步驟(第4圖(b))。
本實施態樣的光學積層體70b的製造方法，可更具備剝離第1基材層11b(第2剝離層)的步驟(第4圖(c))，亦可在因剝離第1基材層11b而露出的第1相位差層12b1上積層光學積層體用接著層。
以下，根據圖式來具體說明。在第4圖表示的製造方法中，首先如第4圖(a)所示，準備相位差膜50b及光學膜60b。相位差膜50b及光學膜60b為長條的膜狀物，且一邊連續地運送相位差膜50b及光學膜60b，一邊進行後述的步驟。
然後，如第4圖(b)所示，將光學膜60b隔著光學膜用接著層62b積層於相位差膜50b的第2相位差層22b。此時，可預先在光學膜60b上設置光學膜用接著層62b，再貼合該光學膜用接著層62b與相位差 膜50b的第2相位差層22b，亦可預先在相位差膜50b的第2相位差層22b上設置光學膜用接著層62b，再貼合該光學膜用接著層62b與光學膜60b。
隔著光學膜用接著層62b積層相位差膜50b與光學膜60b後，藉由將相位差膜50b所包含的第1基材層11b(第2剝離層)剝離，可得到第4圖(c)所示的光學積層體70b。如第4圖(c)所示，光學積層體70b係依序積層有第1相位差層12b1、接著層13b、第2相位差層22b、光學膜用接著層62b及光學膜60b。在光學積層體70b的寬度方向剖面中，第1相位差層12b1的寬度方向兩端的位置係與接著層13b的寬度方向兩端的位置相同。
剝離第1基材層11b時，如第4圖(c)所示，第1相位差層12b的一部分容易轉移至剝離的第1基材層11b。此乃因為在第4圖(b)所示的積層體的寬度方向的剖面中，第1相位差層12b的寬度方向兩端的位置比接著層13b的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向外側，且第1相位差層12b具有未被接著層13固定的非固定區域(第4圖(b)中右上角斜線表示的部分)。所以，從第4圖(b)所示的積層體剝離第1基材層11b時，第4圖(b)所示的第1相位差層12b分離成被接著層13b固定的區域(第4圖(c)所示的第1相位差層12b1)及轉移至第1基材層11b的非固定區域(第4圖(b)及(c)中右上角斜線表示的部分)，如第4圖(c)所示，可得到在寬度方向的剖面中，第1相位差層12b1的寬度方向兩端的位置與接著層13的寬度方向兩端的位置相同之光學積層體70b。
光學積層體70b，亦可在因剝離第1基材層11b而露出的第1相位差層12b1上形成未圖示的光學積層體用接著層。光學積層體用接著 層可在貼合於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等的顯示面板時使用。
在光學積層體70b的寬度方向的剖面中，光學膜60b的寬度方向兩端的位置可與第2相位差層22b、接著層13b及第1相位差層12b1中的任一者的寬度方向兩端的位置相同，也可與該等的任一者不同。例如第4圖(c)所示，光學膜60b的寬度方向的長度可比第2相位差層22b、接著層13b及第1相位差層12b1中的任一者長，亦可比該等的層之任一者短。
在光學積層體70b的寬度方向的剖面中，光學膜用接著層62b的寬度方向兩端的位置可與光學膜60b的寬度方向兩端的位置相同或比其更靠近內側較理想。而且，光學膜用接著層62b的寬度方向兩端的位置係以與第2相位差層22b、接著層13b及第1相位差層12b1中的任一者的寬度方向兩端的位置相同或比其更靠近內側較理想。藉此，可防止運送光學積層體70b時，光學膜用接著層62b被擠出至光學積層體70a的外側而附著在運送路徑上並污染運送路徑之情形。
在第3圖(d)表示的相位差膜50b中，因第1相位差層12b1與第2相位差層22b未直接接觸，故可防止第1相位差層12b1的一部分轉移至第2相位差層22b或第2相位差層22b的一部分轉移至第1相位差層12b1之情形。因此，不會如依據第7圖(a)至(d)說明的相位差層積層體40p一樣，在第1相位差層12p產生缺損部p，如光學積層體70p一樣，抑制端部的破裂，且抑制製造中的製品、運送路徑受到污染，可製造第4圖(c)所示的光學積層體70b。
本實施態樣的相位差膜的製造方法及光學積層體的製造方 法，可改變為如以下所示的變形例。上述的實施態樣及下述表示的變形例可任意地組合。
(第2實施態樣的變形例1)
於本實施態樣的製造方法中，接著層13b的寬度方向兩端的位置可以比第2積層部(第2基材層及第2相位差層)的寬度方向兩端的位置更靠近外側。
(第2實施態樣的變形例2)
於本實施態樣的製造方法中，可使用具有與先前實施態樣說明的第1圖(b)表示的第2積層部20a相同的結構者。
於該情況，能以在相位差層積層體的寬度方向剖面中，使接著層的寬度方向兩端的位置與第2相位差層的寬度方向兩端的位置相同的方式得到相位差層積層體，亦能以使著層的寬度方向兩端的位置比第2相位差層的寬度方向兩端的位置更靠近外側的方式得到相位差層積層體。
使用第2基材層的寬度方向兩端的位置比第2相位差層的寬度方向兩端的位置更靠近外側的第2積層部而得之相位差層積層體中，接著層的寬度方向兩端的位置比第2相位差層的寬度方向兩端的位置更靠近外側的情況，第2基材層與接著層會接著。第2基材層與接著層接著時，不易剝離第2基材層，有不易得到相位差膜的傾向。於該情況，以在相位差層積層體的寬度方向剖面中，使接著層的寬度方向兩端的位置與第2相位差層的寬度方向兩端的位置相同的方式除去相位差層積層體的兩端，藉此可容易地剝離第2基材層。或者，亦可從第1圖(b)表示的第2積層部20b除去寬度方向的兩端部，得到第3圖(b)表示的第2積層部20b，並使 用該第2積層部20b，依照根據第3圖(c)及(d)說明的步驟來得到相位差層積層體40b及相位差膜50b。
(第2實施態樣的變形例3)
在本實施態樣的製造方法中，可只對任一表面進行表面活性化處理。為了容易良好地貼合附接著層的第1積層部10b的接著層13b與第2積層部20b的第2相位差層22b，表面活性化處理係以對附接著層的第1積層部10b的靠接著層13b側的表面及第2積層部20b的靠第2相位差層22b側的表面兩者進行較理想。
(第2實施態樣的變形例4)
於本實施態樣的製造方法中，可只使接著層的寬度方向的一端部位置比第1相位差層的端部位置更靠近寬度方向內側。
於該情況，在相位差層積層體的寬度方向的剖面中，只要使接著層的上述一端部的位置與第2相位差層的端部位置相同或比其更靠近寬度方向外側即可。
(第2實施態樣的變形例5)
於本實施態樣的製造方法中，第1剝離層可為第1基材層11b，第2剝離層可為第2基材層21b。於該情況，只要在剝離第1基材層11b而露出的第1相位差層上隔著光學膜用接著層積層光學膜即可。第3圖(c)表示的相位差層積層體40b中，第1相位差層12b的寬度方向兩端的位置比接著層13b的寬度方向兩端的位置更靠近外側，且第1相位差層12b具有未被接著層13b固定的非固定區域及被接著層13b固定的固定區域。所以，剝離第1基材層11b時，第1相位差層12b容易分離成第1相位差層12b 的非固定區域及被接著層13b固定的固定區域。所以，將第1剝離層設為第1基材層11b的情況，可在第1相位差層12b的被接著層13b固定的區域上隔著光學膜用接著層而積層光學膜。而且，於第1剝離層包含第1基材層的情況，只要在剝離第2基材層21b而露出的第2相位差層22b形成光學積層體用接著層即可。
或者，可在剝離第1基材層11b而露出的第1相位差層上積層光學積層體用接著層，然後在剝離第2基材層21b而露出的第2相位差層上隔著光學膜用接著層積層光學膜。
[第3實施態樣1
(相位差膜的製造方法)
第5圖(a)至(e)係示意性表示本實施態樣的相位差膜50c(液晶膜)的製造方法之一例的概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。本實施態樣的相位差膜50c的製造方法，例如具備下列步驟：準備依序包含第1基材層11c、第1相位差層12c(第1液晶層)及接著層13c的附接著層的第1積層部10c的步驟(第5圖(a))；準備包含第2基材層21c及第2相位差層22c(第2液晶層)的第2積層部20c的步驟(第5圖(b))；對附接著層的第1積層部10c的靠接著層13c側的表面及第2積層部20c的靠第2相位差層22c側的表面，進行表面活性化處理的步驟；將附接著層的第1積層部10c的接著層13c與第2積層部20c的第2相位差層22c貼合，得到相位差層積層體40c(液晶層積層體)的步驟(第5圖(c))；以及 將相位差層積層體40c的寬度方向兩端(第2端部44c)除去的步驟(第5圖(d))。
在第5圖(a)所示的附接著層的第1積層部10c的寬度方向剖面中，接著層13c的寬度方向兩端的位置係比第1相位差層12c的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；在第5圖(c)所示的相位差層積層體40c的寬度方向剖面中，接著層13c的寬度方向兩端的位置係比第2相位差層22c的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側。
於除去第5圖(c)所示的第2端部44c的步驟中，以在除去第2端部44c後的相位差層積層體40c1(除去第2端部後的相位差層積層體)的寬度方向剖面中，使接著層13c1的寬度方向兩端的位置與第1相位差層12c1的寬度方向兩端的位置相同且與第2相位差層22c1的寬度方向兩端的位置相同的方式除去第2端部44c(第5圖(d))。相位差膜50c的製造方法，亦可更具備：剝離第2基材層21c1(第1剝離層)的步驟(第5圖(e))。
以下，根據圖式來具體說明。於第5圖所示的製造方法中，首先準備如第5圖(a)所示之依序包含第1基材層11c、第1相位差層12c及接著層13c的附接著層的第1積層部10c、及如第5圖(b)所示之包含第2基材層21c及第2相位差層22c的第2積層部20c。附接著層的第1積層部10c與第2積層部20c為長條的膜狀物，且一邊連續地運送附接著層的第1積層部10c與第2積層部20c，一邊進行後述的步驟。寬度方向W為與膜狀物的長度方向垂直之方向。
附接著層的第1積層部10c所具有的第1基材層11c、第1 相位差層12c及接著層13c，因與第1圖(a)所示之附接著層的第1積層部10a所具有的第1基材層11a、第1相位差層12a及接著層13a相同，故省略其說明。而且，第2積層部20c所具有的第2基材層21c及第2相位差層22c，因與先前實施態樣說明的第1圖(b)所示之第2積層部20a所具有的第2基材層21a及第2相位差層22a相同，故省略其說明。
然後，對附接著層的第1積層部10c的靠接著層13c側的表面及第2積層部20c的靠第2相位差層22c側的表面進行表面活性化處理後，將附接著層的第1積層部10c的接著層13c與第2積層部20c的第2相位差層22c貼合，得到第5圖(c)所示的相位差層積層體40c。在所得之相位差層積層體40c的寬度方向剖面中，如第5圖(c)所示，接著層13c的寬度方向兩端的位置係比第2相位差層22c的寬度方向端部的位置更靠近內側。
對附接著層的第1積層部10c的靠接著層13c側的表面及第2積層部20c的靠第2相位差層22c側的表面進行的表面活性化處理，可如先前實施態樣說明地進行，表面活性化處理後的各表面的水接觸角的大小，也如先前實施態樣的說明。
然後，對於第5圖(c)所示的相位差積層體40c，將其寬度方向兩端在虛線Xc切斷，而將比虛線Xc更靠近寬度方向外側的第2端部44c除去。藉此，如第5圖(d)所示，得到依序具有第1基材層11c1、第1相位差層12c1、接著層13c1、第2相位差層22c1及第2基材層21c1之除去第2端部44c後的相位差積層體40c1(以下有時稱為「相位差積層體40c1」)。然後，從相位差層積層體40c1剝離第2基材層21c1(第1剝離層)， 藉此得到第5圖(e)所示的相位差膜50c。
在除去第2端部44c後的相位差積層體40c1的寬度方向剖面中，係以使接著層13c1的寬度方向兩端的位置與第1相位差層12c1的寬度方向兩端的位置相同，且與第2相位差層22c1的寬度方向兩端的位置相同的方式來決定第5圖(c)之虛線Xc的位置。在第5圖(c)所示的相位差積層體40c中，通常係以使第2端部44c包含第1基材層11c、第1相位差層12c、第2相位差層22c及第2基材層21c的端部的方式來決定虛線Xc的位置，較理想係以包含第1基材層11c、第1相位差層12c、接著層13c、第2相位差層22c及第2基材層21c的端部的方式來決定虛線Xc的位置。從相位差積層體40c的寬度方向兩端除去的各第2端部44c所包含之層，可以互為相同，亦可以為互相不同。
在藉由除去第2端部44c所得之相位差積層體40c1中，如第5圖(d)所示，在其寬度方向剖面中，接著層13c1的寬度方向兩端的位置係與第1基材層11c1、第1相位差層12c1、第2相位差層22c1及第2基材層21c1的寬度方向兩端的位置相同。
界定第2端部44c的區域之虛線Xc的位置，通常為從位於相位差積層體40c的寬度方向最外側的端部起往寬度方向內側離0.5cm以上的區域，可為離1.0cm以上的區域，亦可為離1.5cm以上的區域，而且通常為離20cm以下的區域，較理想為離15cm以下的區域，更理想為離10cm以下的區域。從位於相位差積層體40c的寬度方向最外側的端部起至虛線Xc的位置為止的距離，在與相位差積層體40c的寬度方向兩端可為相同或彼此不同。
從相位差積層體40c剝離第2基材層21c1，可得到相位差膜50c。如第5圖(e)所示，相位差膜50c係具備第1基材層11c1、第1相位差層12c1、接著層13c1及第2相位差層22c1。在相位差膜50c的寬度方向剖面中，接著層13c1的寬度方向兩端的位置係與第1基材層11c1、第1相位差層12c1及第2相位差層22c1的寬度方向兩端的位置相同。
在如第5圖(c)所示的相位差積層體40c的寬度方向剖面中，接著層13c的寬度方向兩端的位置係比第1相位差層12c的寬度方向兩端的位置及第2相位差層22c的寬度方向兩端的位置更靠近內側。所以，與上述第7圖(a)所示的相位差層積層體40p同樣地，第1相位差層12c與第2相位差層22c直接接觸時，有容易產生第1相位差層12c的一部分轉移至第2相位差層22c，或者第2相位差層22c的一部分轉移至第1相位差層12c的現象之傾向。
因此，於本實施態樣，將相位差積層體40c的寬度方向兩端(第2端部44c)除去(第5圖(d))，在除去第2端部44c後的相位差積層體40c1的寬度方向剖面中，將接著層13c1的寬度方向兩端的位置設為與第1相位差層12c1的寬度方向兩端的位置相同，且與第2相位差層22c1的寬度方向兩端的位置相同。所以，在第5圖(c)所示的相位差積層體40c的寬度方向兩端，即使產生第1相位差層12c的一部分轉移至第2相位差層22c，或第2相位差層22c的一部分轉移至第1相位差層12c的現象，亦可將產生如此的現象的部分作為第2端部44c而除去。藉此，可從除去第2端部44c後的相位差積層體40c1製造相位差膜50c，因此使用該相位差膜50c製造光學積層體時，可抑制光學積層體端部的破裂，而且可抑制製造中 的製品、運送路徑受到污染。
(光學積層體的製造方法)
本實施態樣的光學積層體的製造方法，具備下列步驟：準備相位差膜50c的步驟；準備光學膜的步驟；以及將光學膜隔著光學膜用接著層積層於因剝離第2基材層21c1(第1剝離層)而露出的第2相位差層22c1的步驟。
於本實施態樣的光學積層體的製造方法，可更可具備剝離第1基材層11c1(第2剝離層)的步驟，亦可在因剝離第1基材層11c1而露出的第1相位差層12c1上積層光學積層體用接著層。
本實施態樣的光學積層體的製造方法，除使用相位差膜50c外，因與根據第2圖(a)至(c)說明的製造方法相同，省略其詳細說明。
在第5圖(e)表示的相位差膜50c中，在相位差積層體40c，因第1相位差層12c與第2相位差層22c直接接觸，將有可能產生缺損部p及源自缺損部的轉移部分的部分作為第2端部44c而除去。因此，如依據第7圖(a)至(d)說明的相位差層積層體70p一樣，可抑制端部的破裂，且抑制製造中的製品、運送路徑受到污染，而適當製造光學積層體。
本實施態樣的相位差膜的製造方法及光學積層體的製造方法，可改變為如以下所示的變形例。上述的實施態樣及下述表示的變形例可任意地組合。
(第3實施態樣的變形例1)
在本實施態樣的製造方法中，可將相位差積層體40c的寬度方向的一 第2端部44c除去。於該情況，在除去第2端部44c之側，可抑制光學積層體的端部破裂，且抑制製造中的製品、運送路徑受到污染。
(第3實施態樣的變形例2)
在本實施態樣的製造方法中，能以使接著層13c1的寬度方向兩端的位置與第1相位差層12c1的寬度方向兩端的位置相同或者與第2相位差層22c1的寬度方向兩端的位置相同的方式除去第2端部44c。藉此，可抑制光學積層體端部的端部破裂，且抑制製造中的製品、運送路徑受到污染。
(第3實施態樣的變形例3)
在本實施態樣的製造方法中，可只對任一表面進行表面活性化處理。為了容易良好地貼合附接著層的第1積層部10c的接著層13c與第2積層部20c的第2相位差層22c，表面活性化處理係以對附接著層的第1積層部10c的靠接著層13c側的表面及第2積層部20c的靠第2相位差層22c側的表面兩者進行較理想。
(第3實施態樣的變形例4)
於本實施態樣的製造方法中，可只使接著層的寬度方向的一端部位置比第1相位差層的端部位置更靠近寬度方向內側。
於該情況，在相位差層積層體，只要將附接著層的第1積層部中之接著層的靠上述一端部側的第2端部除去即可。
(第3實施態樣的變形例5)
於本實施態樣的製造方法中，第1剝離層為第1基材層11c1，第2剝離層可為第2基材層21c1。於該情況，可在剝離第1基材層11c1而露出的第1相位差層12c1上隔著光學膜用接著層積層光學膜，並在剝離第2基材 層21c1而露出的第2相位差層22c1形成光學積層體用接著層。或者，可預先在剝離第1基材層11c1而露出的第1相位差層12c1積層光學積層體用接著層，然後在剝離第2基材層21c1而露出的第2相位差層22c1上隔著光學膜用接著層積層光學膜。
[第4實施態樣]
(相位差膜的製造方法)
第6圖(a)至(e)係示意性表示本實施態樣的相位差膜50d(液晶膜)的製造方法之一例的概略剖面圖。圖中，W表示寬度方向。本實施態樣的相位差膜50d(液晶膜)的製造方法，例如具備下列步驟：準備依序包含第1基材層11d、第1相位差層12d(第1液晶層)及接著層13d的附接著層的第1積層部10d的步驟(第6圖(a))；準備包含第2基材層21d及第2相位差層22d(第2液晶層)的第2積層部20d的步驟(第6圖(b))；對附接著層的第1積層部10d的靠接著層13d側的表面及第2積層部20d的靠第2相位差層22d側的表面，進行表面活性化處理的步驟；將附接著層的第1積層部10d的接著層13d與第2積層部20d的第2相位差層22d貼合，得到第1相位差層積層體40d(第1液晶層積層體)的步驟(第6圖(c))；將第1相位差層積層體40d的第2基材層21d(第1剝離層)剝離，得到第2相位差層積層體30d(第2液晶層積層體)的步驟(第6圖(d))；以及將第2相位差層積層體30d的寬度方向兩端(第3端部34d)除去的步驟。
在第6圖(a)所示的附接著層的第1積層部10d的寬度方向剖面中，接著層13d的寬度方向兩端的位置係比第1相位差層12d的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；在第6圖(c)所示的第1相位差層積層體40d的寬度方向剖面中，接著層13d的寬度方向兩端的位置係比第2相位差層22d的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；於除去第6圖(d)所示的第3端部34d的步驟，係以在除去第3端部34d後的第2相位差層積層體30d2(除去第3端部後的第2相位差層積層體)的寬度方向剖面中，使接著層13d2的寬度方向兩端的位置與第1相位差層12d2的寬度方向兩端的位置相同且與第2相位差層22d2的寬度方向兩端的位置相同的方式除去第3端部34d(第6圖(e))。
以下，根據圖式來具體說明。於第6圖所示的製造方法中，首先準備如第6圖(a)所示之依序包含第1基材層11d、第1相位差層12c及接著層13d的附接著層的第1積層部10d、及如第6圖(b)所示之包含第2基材層21d及第2相位差層22d的第2積層部20d。附接著層的第1積層部10d與第2積層部20d為長條的膜狀物，且一邊連續地運送附接著層的第1積層部10d與第2積層部20d，一邊進行後述的步驟。寬度方向W為與膜狀物的長度方向垂直之方向。
附接著層的第1積層部10d所具有的第1基材層11d、第1相位差層12d及接著層13d，因與第1圖(a)所示之附接著層的第1積層部10a所具有的第1基材層11a、第1相位差層12a及接著層13a相同，故省略其說明。
第2積層部20d所具有的第2基材層21d及第2相位差層22d，因與先前實施態樣說明的第1圖(b)所示之第2積層部20a所具有的第2基材層21a及第2相位差層22a相同，故省略其說明。
然後，對附接著層的第1積層部10d的靠接著層13d側的表面及第2積層部20d的靠第2相位差層22d側的表面，進行表面活性化處理後，將附接著層的第1積層部10d的接著層13d與第2積層部20d的第2相位差層22d貼合，得到第6圖(c)所示的第1相位差層積層體40d。在第1相位差層積層體40d的寬度方向剖面中，如第6圖(c)所示，接著層13d的寬度方向兩端的位置係比第2相位差層22c的寬度方向端部的位置更靠近內側。
對附接著層的第1積層部10d的靠接著層13d側的表面及第2積層部20d的靠第2相位差層22d側的表面進行的表面活性化處理，可如先前實施態樣說明地進行，表面活性化處理後的各表面的水接觸角的大小，也如先前實施態樣的說明，故省略其說明。
接著，從第6圖(c)所示的第1相位差層積層體40d剝離第2基材層21d(第1剝離層)，得到第2相位差層積層體30d(第6圖(d))。從第1相位差層積層體40d剝離第2基材層21d時，如第6圖(d)所示，第2相位差層22d的一部分轉移至剝離的第2基材層21d。此乃因為在第6圖(c)所示的第1相位差層積層體40d的寬度方向剖面中，第2相位差層22d的寬度方向兩端的位置比接著層13d的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向外側，且第2相位差層22d具有未被接著層13d固定的非固定區域(第6圖(c)中右上角斜線表示的部分)。所以，從第1相位差層積層體40d剝離第 2基材層21d時，第6圖(c)所示的第2相位差層22d分離成被接著層13d固定的區域(第6圖(d)所示的第2相位差層22d)及轉移至第2基材層21d的非固定區域(第6圖(c)及(d)中右上角斜線表示的部分)，如第6圖(d)所示，可得到在寬度方向的剖面中，第2相位差層22d1的寬度方向兩端的位置與接著層13d的寬度方向兩端的位置相同之第2相位差層積層體30d。
然後，對第6圖(d)表示的第2相位差層積層體30d，將其寬度方向兩端在虛線Xd切斷，而將比虛線Xd更靠近寬度方向外側的第3端部34d除去。藉此，如第6圖(e)所示，得到依序具有第1基材層11d2、第1相位差層12d2、接著層13d2及第2相位差層22d2之除去第3端部34d後的第2相位差積層體30d2(以下有時稱為「相位差積層體30d2」)，可製造相位差膜50d。
以在除去第3端部34d後的第2相位差積層體30d2的寬度方向剖面中，使接著層13d2的寬度方向兩端的位置與第1相位差層12d2的寬度方向兩端的位置相同，且與第2相位差層22d2的寬度方向兩端的位置相同的方式決定第6圖(d)之虛線Xd的位置。第6圖(d)所示的第2相位差積層體30d中，通常係以使第3端部34d包含第1基材層11d、第1相位差層12d及第2相位差層22d的端部的方式來決定虛線Xd的位置，較理想係以包含第1基材層11d、第1相位差層12d、接著層13d及第2相位差層22d的端部的方式來決定虛線Xd的位置。從第2相位差積層體30d的寬度方向兩端部除去的各第3端部34d所包含之層，可以互為相同，亦可以為互相不同。
藉由除去第3端部34d所得之第2相位差積層體30d2中， 如第6圖(e)所示，在其寬度方向剖面中，接著層13d2的寬度方向兩端的位置係與第1基材層11d2、第1相位差層12d2及第2相位差層22d2的寬度方向兩端的位置相同。
界定第3端部34d的區域之虛線Xd的位置，通常為從位於第2相位差積層體30d的寬度方向最外側的端部起往寬度方向內側離0.5cm以上的區域，可為離1.0cm以上的區域，亦可為離1.5cm以上的區域，而且通常為離20cm以下的區域，較理想為離15cm以下的區域，更理想為離10cm以下的區域。從位於第2相位差積層體30d的寬度方向最外側的端部至虛線Xd的位置為止的距離，在第2相位差積層體30d的寬度方向兩端可為相同或彼此不同。
在如第6圖(c)所示的第1相位差積層體40d的寬度方向剖面中，接著層13d的寬度方向兩端的位置係比第1相位差層12d的寬度方向兩端的位置及第2相位差層22d的寬度方向兩端的位置更靠近內側。所以，與上述第7圖(a)所示的相位差層積層體40p同樣地，第1相位差層12d與第2相位差層22d直接接觸時，有容易產生第1相位差層12d的一部分轉移至第2相位差層22d，或者第2相位差層22d的一部分轉移至第1相位差層12d的現象之傾向。
因此，於本實施態樣中，藉由從第1相位差積層體40d剝離第2相位差層22d所得之第2相位差積層體30d(第6圖(d))中，除去其寬度方向兩端(第3端部34d)。在除去第3端部34d後的第2相位差積層體30d2的寬度方向剖面中，接著層13d2的寬度方向兩端的位置係與第1相位差層12d2的寬度方向兩端的位置相同，且與第2相位差層22d2的寬度方 向兩端的位置相同。藉此，在第1相位差積層體40d的寬度方向兩端，即使產生第1相位差層12d的一部分轉移至第2相位差層22d，或第2相位差層22d的一部分轉移至第1相位差層12d的現象，亦可將產生如此的現象的部分作為第3端部34d而除去，得到第2相位差積層體30d2。使用相位差膜50d製造光學積層體時，可抑制光學積層體的端部破裂，而且抑制製造中的製品、運送路徑受到污染。
(光學積層體的製造方法)
本實施態樣的光學積層體的製造方法，具備下列步驟：準備相位差膜50d的步驟；準備光學膜的步驟；以及將光學膜隔著光學膜用接著層積層於因剝離第2基材層21d(第1剝離層)而露出的層亦即除去第3端部34d後的第2相位差層22d2的步驟。
於本實施態樣的光學積層體的製造方法，可更具備剝離第1基材層11d2(第2剝離層)的步驟，且可在因剝離第1基材層11d2而露出的第1相位差層12d2上積層光學積層體用接著層。
本實施態樣的光學積層體的製造方法，除使用相位差膜50d外，因與根據第2圖(a)至(c)說明的製造方法相同，故省略其詳細說明。
在第6圖(e)表示的相位差膜50d中，在第1相位差積層體40d，因第1相位差層12d與第2相位差層22d直接接觸，將有可能產生缺損部p及源自缺損部的轉移部分的部分作為第3端部34d而除去。因此，如依據第7圖(a)至(d)說明的相位差層積層體70p一樣，可抑制端部的破裂，且抑制製造中的製品、運送路徑受到污染，而適當製造光學積層體。
本實施態樣的相位差膜的製造方法及光學積層體的製造方法，可改變為如以下所示的變形例。上述的實施態樣及下述表示的變形例可任意地組合。
(第4實施態樣的變形例1)
在本實施態樣的製造方法中，可將第2相位差積層體30d的寬度方向的一第3端部34d除去。於該情況，在除去第3端部34d之側，可抑制光學積層體的端部破裂，且抑制製造中的製品、運送路徑受到污染。
(第4實施態樣的變形例2)
在本實施態樣的製造方法中，可以使接著層13d2的寬度方向兩端的位置與第1相位差層12d2的寬度方向兩端的位置相同或者與第2相位差層22d2的寬度方向兩端的位置相同的方式除去第3端部34d。藉此，亦可抑制光學積層體的端部破裂，且抑制製造中的製品、運送路徑受到污染。
(第4實施態樣的變形例3)
在本實施態樣的製造方法中，可只對任一表面進行表面活性化處理。為了容易良好地貼合附接著層的第1積層部10d的接著層13d與第2積層部20d的第2相位差層22d，表面活性化處理係以對附接著層的第1積層部10d的靠接著層13d側的表面及第2積層部20d的靠第2相位差層22d側的表面兩者進行較理想。
(第4實施態樣的變形例4)
於本實施態樣的製造方法中，第1剝離層為第1基材層，第2剝離層可為第2基材層。於該情況，將剝離第1基材層而得之第2相位差層積層體的寬度方向兩端(第3端部)除去，在除去第3端部後的第2相位差層積 層體的寬度方向剖面中，將接著層的寬度方向兩端的位置設為與第1相位差層的寬度方向兩端的位置相同且與第2相位差層的寬度方向兩端的位置相同。所以，只要在除去第3端部後的第2相位差層積層體的第1相位差層上隔著光學膜用接著層積層光學膜即可。
或者，可在剝離第1基材層11d而露出的第1相位差層上積層光學積層體用接著層，然後在剝離第2基材層21d而露出的第2相位差層22上隔著光學膜用接著層積層光學膜。
以上，說明本發明的實施態樣及其變形例，但本發明不限於該等實施態樣及其變形例，例如可組合上述各實施態樣及其變形例的各結構及各步驟而實施。以下，對全部的實施態樣及其變形例，詳細說明共通的各事項。
(第1基材層及第2基材層)
第1基材層及第2基材層係具有將形成於該等的基材層上的後述第1配向層及第2配向層、以及第1液晶層及第2液晶層支撐的支撐層的功能。第1基材層及第2基材層較理想為樹脂材料所形成的膜。
作為樹脂材料，係使用例如透明性、機械強度、熱安定性、延伸性等優異的樹脂材料。具體上可例如為：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素及乙酸丙酸纖維素等纖維素酯系樹脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂、聚醯 胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚伸苯硫醚系樹脂；聚伸苯醚系樹脂；以及該等的混合物、共聚物等。該等的樹脂中，以使用環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂中的任一種或該等的混合物較理想。再者，上述「(甲基)丙烯酸」，係指「丙烯酸及甲基丙烯酸的至少1種」。
第1基材層及第2基材層可為1種或混合2種以上的樹脂之單層，亦可具有2層以上的多層結構。於具有多層結構的情況，構成各層的樹脂，可互為相同，亦可為不同。
構成由樹脂材料所形成的膜之樹脂材料，亦可添加任意的添加劑。作為添加劑，例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料及著色劑等。
第1基材層及第2基材層的厚度，無特別限制，惟一般從強度、操作性等的作業性的點，較理想為1至500μm，更理想為1至300μm，更加理想為5至200μm。
在附接著層的第1積層部具有後述的第1配向層的情況、或第2積層部具有後述的第2配向層的情況下，為了提高第1基材層與第1配向層的密著性、以及第2基材層與第2配向層的密著性，可對至少第1基材層的形成第1配向層側的表面以及至少第2基材層的形成第2配向層側的表面進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，或可形成底塗層等。而且，藉由調整用以形成第1配向層及第2配向層所使用的配向層形成用組成物的成分、或用以形成第1液晶層及第2液晶層所使用的配向層形成用組成物的成分，可調整上述的密著性。
(第1配向層及第2配向層)
附接著層的第1積層部可在第1基材層與第1液晶層之間包含第1配向層。而且，第2積層部可在第2基材層與第2液晶層之間包含第2配向層。
第1配向層及第2配向層係具有使形成於該等的配向層上之第1液晶層及第2液晶層中所包含的液晶化合物往所期望的方向進行液晶配向之配向限制力。作為第1配向層及第2配向層，可例如為由配向性聚合物所形成的配向性聚合物層、由光配向聚合物形成的光配向性聚合物層、在層表面具有凹凸圖案或複數條溝槽(groove)的溝槽配向層，第1配向層及第2配向層可為相同種類的層，亦可為不同種類的層。第1配向層及第2配向層的厚度通常為10至500nm，較理想為10至200nm。
配向性聚合物層可藉由將使配向性聚合物溶解於溶劑而成的組成物塗佈於基材層(第1基材層或第2基材層)，且除去溶劑，並依需要進行摩擦處理而形成。於該情況，在由配向性聚合物所形成的配向性聚合物層中，配向限制力可藉由配向性聚合物的表面狀態、摩擦條件而任意調整。
光配向性聚合物層可藉由將具有光反應性基的聚合物或包含單體及溶劑的組成物塗佈於基材層(第1基材層或第2基材層)，並照射偏光而形成。於該情況，於光配向性聚合物層中，配向限制力可藉由對光配向性聚合物之偏光照射條件等而任意調整。
溝槽配向層例如可藉由下述方法而形成：隔著具有圖案形狀的狹縫的曝光用遮罩對感光性聚醯亞胺膜表面進行曝光、顯影等，而形成 凹凸圖案的方法；在於表面具有溝槽的板狀母盤形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化層，且將該層轉印至基材層(第1基材層或第2基材層)使其硬化的方法；及在基材層(第1基材層或第2基材層)形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化層，且藉由將具有凹凸的捲筒狀的母盤推靠於該層等而形成凹凸並使其硬化的方法等。
上述說明的第1剝離層及第2剝離層中，可包含第1配向層及第2配向層。亦即，於第1剝離層包含第2基材層的情況，第1剝離層可包含第2配向層。同樣地，於第2剝離層包含第1基材層的情況，第2剝離層可包含第1配向層。而且，於第1剝離層包含第1基材層的情況，第2剝離層包含第2基材層的情況也相同。而且，第1剝離層未包含第1配向層或第2配向層的情況，在第1剝離層剝離後，第1配向層或第2配向層只要分別殘存於第1液晶層上或第2液晶層上即可。同樣地，第2剝離層未包含第1配向層或第2配向層的情況，在第2剝離層剝離後，第1配向層或第2配向層只要分別殘存於第1液晶層上或第2液晶層上即可。再者，第1剝離層及第2剝離層所包含的層可藉由調整各層間的密著力關係而設定，例如可藉由對第1基材層及第2基材層進行之上述電暈處理、電漿處理、火焰處理、底塗層、配向層形成用的組成物的成分、液晶層形成用的組成物的成分等而調整。
在第1液晶層上殘存第1配向層的情況，光學積層體用接著層可設置於第1配向層上。而且，在第2液晶層上殘存第2配向層的情況，光學膜用接著層可設置於第2配向層上。
(第1液晶層及第2液晶層)
第1液晶層及第2液晶層可使用習知的液晶化合物形成。液晶化合物的種類，無特別限制，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物及該等的混合物。而且，液晶化合物，可為高分子液晶化合物，亦可為聚合性液晶化合物，可為該等的混合物。例如於使用聚合性液晶化合物的情況，可將包含聚合性液晶化合物的組成物塗佈於配向層(第1配向層或第2配向層)上而形成塗膜，並藉由使該塗膜硬化而形成作為液晶硬化層之第1液晶層、第2液晶層。或者，亦可在基材層(第1基材層或第2基材層)塗佈液晶化合物形成塗膜，並藉由將該塗膜與基材層一起延伸而形成液晶層(第1液晶層或第2液晶層)。
第1液晶層及第2液晶層例如可分別為第1相位差層及第2相位差層。第1相位差層及第2相位差層只要是對光賦予概定的相位差者即可，無特別限制，可例如為發揮作為1/2波長板、1/4波長板、正型C板、逆波長分散性的1/4波長板等的功能者。
於本實施態樣的光學積層體中，光學膜為偏光膜的情況，本實施態樣的光學積層體可使用作為複合偏光板。複合偏光板構成圓偏光板的情況，較理想係以使複合偏光板的層結構成為依序積層有偏光層(直線偏光層)、1/2波長板、1/4波長板的結構，或依序積層有偏光層(直線偏光層)、逆波長分散性的1/4波長板、正型C板的結構的方式來選擇構成第1液晶層及第2液晶層(第1相位差層及第2相位差層)的液晶層的種類。
(液晶膜)
液晶膜係包含第1液晶層及第2液晶層者，例如第1液晶層及第2液晶層分別為第1相位差層及第2相位差層的情況，可成為相位差膜。
(光學膜)
作為光學膜，可例如為偏光膜、反射膜、半穿透型反射膜、增亮膜、光學補償膜、附抗眩功能的膜等。而且，亦可為具有與上述相位差膜(液晶膜)相同結構者。光學膜可為1層結構，亦可為2層以上的多層結構的積層光學膜。
(接著層)
接著層可由接著劑、黏著劑及該等的組合形成，通常為1層，可為2層以上。於接著層為2層以上的層所構成的情況，各層彼此可用相同的材料形成，亦可用不同的材料形成。
作為接著劑，例如可組合水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑等中的1或2種以上形成。作為水系接著劑，例如聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺酯系乳化接著劑等。作為活性能量線硬化型接著劑，係會藉由照射紫外線等的活性能量線而硬化的接著劑，例如包含聚合性化合物及光聚合性引發劑者、包含光反應性樹脂者、包含黏結劑樹脂及光反應性交聯劑者等。作為上述聚合性化合物，例如光硬化性環氧係單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺酯系單體等光聚合性單體、或來自該等單體的寡聚物等。作為上述光聚合引發劑，例如包含照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基之活性物質的物質者。
作為黏著劑，例如將(甲基)丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂等為基質聚合物，並添加異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮雜環丙烷化合物等交聯劑而成之組成物。
接著劑係以使用活性能量線硬化型接著劑形成較理想，特別是使用包含紫外線硬化性環氧系單體及光陽離子聚合引發劑的接著劑形成較理想。
(光學膜用接著層)
光學膜用接著層可由接著劑、黏著劑及該等的組合形成。光學膜用接著層通常為1層，可為2層以上。於光學膜用接著層為2層以上的層所構成的情況，各層彼此可用相同的材料形成，亦可用不同的材料形成。
作為構成光學膜用接著層的接著劑及黏著劑，例如與上述接著層所使用的接著劑及黏著劑的例相同者。作為光學膜用接著層係以使用黏著劑較理想。
(光學積層體用接著層)
光學積層體用接著層可由接著劑、黏著劑及該等的組合形成。光學膜用接著層通常為1層，可為2層以上。於光學積層體用接著層為2層以上的層所構成的情況，各層彼此可用相同的材料形成，亦可用不同的材料形成。
作為構成光學積層體用接著層的接著劑及黏著劑，例如與上述接著層所使用的接著劑及黏著劑的例相同者。作為光學積層體用接著層，使用黏著劑較理想。
10a‧‧‧第1積層部
10a1‧‧‧第1積層部
11a、11a1‧‧‧第1基材層
12a、12a1‧‧‧第1相位差層(第1液晶層)
13a、13a1‧‧‧接著層
14a‧‧‧第1端部
20a‧‧‧第2積層部
21a‧‧‧第2基材層
22a、22a1‧‧‧第2相位差層(第2液晶層)
40a‧‧‧相位差層積層體(液晶層積層體)
50a‧‧‧相位差膜(液晶膜)
W‧‧‧寬度方向

Claims (22)

  1. 一種液晶膜的製造方法，具備下列步驟：準備依序包含第1基材層、第1液晶層及接著層的附接著層的第1積層部的步驟；準備包含第2基材層及第2液晶層的第2積層部的步驟；對前述附接著層的第1積層部的靠前述接著層側的表面及前述第2積層部的靠前述第2液晶層側的表面中至少一者，進行表面活性化處理的步驟；將前述附接著層的第1積層部中包含前述接著層的寬度方向的至少一端部所在之側的端部之第一端部除去的步驟；將除去前述第1端部後的前述附接著層的第1積層部的前述接著層與前述第2積層部的前述第2液晶層貼合，得到液晶層積層體的步驟；以及將前述液晶層積層體中之包含前述第2基材層的第1剝離層剝離的步驟；其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中，前述接著層的前述一端部的位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側；前述除去步驟係在前述表面活性化處理的步驟之前或之後進行；前述除去步驟係以在除去前述第1端部後的前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中，使除去前述第1端部之側的前述接著層的端部位置與前述第1液晶層的端部位置相同的方式，除去前述第1端部； 前述液晶層積層體的寬度方向剖面中，前述第2液晶層的兩端部的位置係比前述接著層的兩端部的位置更靠近寬度方向外側。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之液晶膜的製造方法，其中，前述除去步驟係在前述表面活性化處理的步驟之前進行。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之液晶膜的製造方法，其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中，前述接著層的寬度方向兩端的位置係比前述第1液晶層的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；前述第1端部係包含前述附接著層的第1積層部的寬度方向的兩端。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之液晶膜的製造方法，其中，前述液晶層積層體係除去前述第1端部後的前述附接著層的第1積層部與第2積層部的積層者；前述剝離步驟係從前述液晶層積層體剝離前述第1剝離層。
  5. 一種液晶膜的製造方法，具備下列步驟：準備依序包含第1基材層、第1液晶層及接著層的附接著層的第1積層部的步驟，且在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中，前述接著層的寬度方向的至少一端部的位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側；準備包含第2基材層及第2液晶層的第2積層部的步驟；對前述附接著層的第1積層部的靠前述接著層側的表面及前述第2積層部的靠前述第2液晶層側的表面中至少一者，進行表面活性化處理的步驟； 將前述附接著層的第1積層部的前述接著層與前述第2積層部的前述第2液晶層貼合，得到前述附接著層的第1積層部與第2積層部積層而成的液晶層積層體的步驟，且在前述液晶層積層體的寬度方向剖面中，以使前述接著層的前述一端部的位置比前述第2液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側的方式，得到前述液晶層積層體；以及將前述液晶層積層體中，前述液晶層積層體的包含前述接著層的前述一端部所在之側的端部之第2端部除去的步驟；其中，前述除去步驟係以在除去前述第2端部後的前述液晶層積層體的寬度方向剖面中，使除去前述第2端部之側的前述接著層的端部位置與前述第1液晶層的端部位置相同，或與前述第2液晶層的端部位置相同的方式，除去前述第2端部。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之液晶膜的製造方法，其中，前述除去步驟係以在除去前述第2端部後的前述液晶層積層體的寬度方向剖面中，使除去前述第2端部之側的前述接著層的端部位置與前述第1液晶層的端部位置相同，且與前述第2液晶層的端部位置相同的方式，除去前述第2端部。
  7. 如申請專利範圍第5或6項所述之液晶膜的製造方法，其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中，前述接著層的寬度方向兩端的位置係比前述第1液晶層的寬度方向兩端的位置更靠近寬度方向內側；在前述液晶層積層體的寬度方向剖面中，前述接著層的兩端位置係比前述第2液晶層的兩端位置更靠近寬度方向內側； 前述第2端部係包含前述液晶層積層體的寬度方向的兩端。
  8. 如申請專利範圍第5或6項所述之液晶膜的製造方法，更具備：將除去前述第2端部後的前述液晶層積層體中之包含前述第1基材層與前述第2基材層中的一者的第1剝離層剝離的步驟。
  9. 如申請專利範圍第1、2、5及6項中任一項所述之液晶膜的製造方法，其中，前述準備附接著層的第1積層部的步驟係具備下列步驟：準備包含前述第1基材層及第1液晶層的第1積層部的步驟；以及在前述第1液晶層的與前述第1基材層為相反側處積層接著層，得到前述附接著層的第1積層部的步驟。
  10. 如申請專利範圍第1、2、5及6項中任一項所述之液晶膜的製造方法，其中，前述表面活性化處理的步驟係對前述附接著層的第1積層部的靠前述接著層側的表面及前述第2積層部的靠前述第2液晶層側的表面，進行表面活性化處理。
  11. 如申請專利範圍第1、2、5及6項中任一項所述之液晶膜的製造方法，其中，前述表面活性化處理為電暈處理。
  12. 如申請專利範圍第1、2、5及6項中任一項所述之液晶膜的製造方法，其中，前述第1液晶層為相位差層。
  13. 如申請專利範圍第1、2、5及6項中任一項所述之液晶膜的製造方法，其中，前述第2液晶層為相位差層。
  14. 如申請專利範圍第1、2、5及6項中任一項所述之液晶膜的製造方法，其中，前述附接著層的第1積層部更在前述第1基材層與前述第1液晶層之間包含第1配向層。
  15. 如申請專利範圍第1、2、5及6項中任一項所述之液晶膜的製造方法，其中，前述第2積層部更在前述第2基材層與前述第2液晶層之間包含第2配向層。
  16. 一種光學積層體的製造方法，係具備準備液晶膜的步驟以及準備光學膜的步驟；前述準備液晶膜的步驟係具備下列步驟：準備依序包含第1基材層、第1液晶層及接著層的附接著層的第1積層部的步驟，且在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中，前述接著層的寬度方向的至少一端部的位置係比前述第1液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側；準備包含第2基材層及第2液晶層的第2積層部的步驟；對前述附接著層的第1積層部的靠前述接著層側的表面及前述第2積層部的靠前述第2液晶層側的表面中至少一者，進行表面活性化處理的步驟；將前述附接著層的第1積層部的前述接著層與前述第2積層部的前述第2液晶層貼合，得到第1液晶層積層體的步驟，且在前述第1液晶層積層體的寬度方向剖面中，以使前述接著層的前述一端部的位置比前述第2液晶層的端部位置更靠近寬度方向內側的方式，得到前述第1液晶層積層體；將前述第1液晶層積層體的包含前述第1基材層與前述第2基材層中的一者的第1剝離層剝離，得到第2液晶層積層體的步驟；以及 將前述第2液晶層積層體中的包含前述接著層的前述一端部所在之側的端部之第3端部除去的步驟；其中，前述除去步驟係以在除去前述第3端部後的前述第2液晶層積層體的寬度方向剖面中，使除去前述第3端部之側的前述接著層的端部位置與前述第1液晶層的端部位置相同，或與前述第2液晶層的端部位置相同的方式，除去前述第3端部；該光學積層體的製造方法更具有在前述除去步驟之後，將前述光學膜隔著光學膜用接著層積層於因剝離前述第2液晶層積層體中的前述第1剝離層而露出的層的步驟。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之光學積層體的製造方法，其中，前述除去步驟係以在除去前述第3端部後的前述第2液晶層積層體的寬度方向剖面中，使除去前述第3端部之側的前述接著層的端部位置與前述第1液晶層的端部位置相同，且與前述第2液晶層的端部位置相同的方式，除去前述第3端部。
  18. 如申請專利範圍第16或17項所述之光學積層體的製造方法，其中，在前述附接著層的第1積層部的寬度方向剖面中，前述接著層的兩端的位置係比前述第1液晶層的兩端的位置更靠近寬度方向內側；在前述第1液晶層積層體的寬度方向剖面中，前述接著層的兩端的位置係比前述第2液晶層的兩端的位置更靠近寬度方向內側；前述第3端部係包含前述第2液晶層積層體的寬度方向的兩端。
  19. 如申請專利範圍第16或17項所述之光學積層體的製造方法，其中，前述第2液晶層積層體係包含前述第1液晶層積層體的前述第1基材層及前述第2基材層之中未包含於前述第1剝離層者。
  20. 一種光學積層體的製造方法，具備下列步驟：準備藉由申請專利範圍第1至4項及第8項中任一項所述之液晶膜的製造方法所製造的液晶膜的步驟；準備光學膜的步驟；以及將前述光學膜隔著光學膜用接著層積層於因剝離前述第1剝離層而露出的層的步驟。
  21. 如申請專利範圍第16、17及20項中任一項所述之光學積層體的製造方法，更具備：將包含前述第1基材層及前述第2基材層中未被前述第1剝離層包含的層之第2剝離層剝離的步驟。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之光學積層體的製造方法，係在因剝離前述第2剝離層所露出的層上，積層光學積層體用接著層。
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