CN110609348B - 带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、光学层叠体的制造方法 - Google Patents

带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、光学层叠体的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、以及光学层叠体的制造方法。一种带有粘接层的层叠体，其依次包含第1基材层、第1液晶层以及粘接层。在带有粘接层的层叠体的宽度方向剖面中，在第1液晶层的宽度方向的至少一个端部侧，具有第1端区域，所述第1端区域是相对于粘接层的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域，第1端区域中的粘接层侧的表面的水接触角为75°以上。

Description

带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造 方法、光学层叠体的制造方法
技术领域
本发明涉及带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、以及光学层叠体的制造方法。
背景技术
使用了有机发光二极管(OLED)的有机EL显示装置与液晶显示装置等相比不仅能够实现轻量化、薄型化，而且可以实现大范围的视角、快速的响应速度、高对比度等高画质，因此在智能手机或电视机、数码相机等各种领域中得到使用。已知在有机EL显示装置中，为了抑制由外来光的反射造成的可视性的降低，使用圆偏振板等来提高防反射性能。
在JP2015－25947A1中，作为应用于有机EL显示装置、液晶显示装置的图像显示面板中的光学膜，记载有将直线偏振板与1/4波长板层叠而得的圆偏振板，记载了利用1/2波长相位差层与1/4波长相位差层的层叠构成该1/4波长板的内容。
发明内容
发明所要解决的问题
本发明的目的在于，提供适合于制造光学层叠体的带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、以及光学层叠体的制造方法。
用于解决问题的方法
本发明提供以下所示的带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、以及光学层叠体的制造方法。
〔1〕一种带有粘接层的层叠体，是依次包含第1基材层、第1液晶层以及粘接层的带有粘接层的层叠体，
在所述带有粘接层的层叠体的宽度方向剖面中，在所述第1液晶层的宽度方向的至少一个端部侧，具有第1端区域，所述第1端区域是相对于所述粘接层的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域，
所述第1端区域中的所述粘接层侧的表面的水接触角为75°以上。
〔2〕根据〔1〕中记载的带有粘接层的层叠体，其中，第1液晶层的水接触角比粘接层的与第1液晶层相反一侧的表面的水接触角大5°以上。
〔3〕根据〔1〕或〔2〕中记载的带有粘接层的层叠体，其中，所述第1液晶层为相位差层。
〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项记载的带有粘接层的层叠体，其中，还在所述第1基材层与所述第1液晶层之间包含第1取向层。
〔5〕一种层叠体，是包含第2基材层及第2液晶层的层叠体，
在所述层叠体的宽度方向剖面中，在所述第2液晶层的宽度方向的至少一个端部侧具有第2端区域，
所述第2端区域中的与所述第2基材层相反一侧的表面的水接触角为75°以上。
〔6〕根据〔5〕中记载的层叠体，其中，在所述第2液晶层的与所述第2基材层相反一侧的表面中，所述第2端区域的水接触角比所述第2端区域以外的表面的水接触角大5°以上。
〔7〕根据〔5〕或〔6〕中记载的层叠体，其中，所述第2液晶层为相位差层。
〔8〕根据〔5〕～〔7〕中任一项记载的层叠体，其中，还在所述第2基材层与所述第2液晶层之间包含第2取向层。
〔9〕一种液晶层层叠体，是将〔1〕～〔4〕中任一项记载的带有粘接层的层叠体的所述粘接层与〔5〕～〔8〕中任一项记载的层叠体的所述第2液晶层贴合而成的液晶层层叠体，
在所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中，所述第2端区域相对于所述粘接层的端部的位置位于宽度方向外侧。
〔10〕一种液晶层层叠体，是将层叠体与〔5〕～〔8〕中任一项记载的层叠体的所述第2液晶层贴合而成的液晶层层叠体，所述层叠体是依次包含基材层、液晶层及粘接层的带有粘接层的层叠体，并且在宽度方向剖面中，在所述液晶层的宽度方向的至少一个端部侧具有相对于粘接层的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域，
在所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中，所述第2端区域相对于所述粘接层的端部的位置位于宽度方向外侧。
〔11〕一种液晶层层叠体，是将所述〔1〕～〔4〕中任一项记载的带有粘接层的层叠体的所述粘接层、与依次包含基材层及液晶层的层叠体贴合了的液晶层层叠体，
在所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中，所述第1端区域相对于所述粘接层的端部的位置位于宽度方向外侧。
〔12〕一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1液晶层以及粘接层的带有粘接层的层叠体的工序；
准备包含第2基材层及第2液晶层的层叠体的工序；
对所述带有粘接层的层叠体的所述粘接层侧的表面、以及所述层叠体的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方以使水接触角为75°以上的方式进行表面活化处理的工序；以及
将所述带有粘接层的层叠体的所述粘接层与所述层叠体的所述第2液晶层贴合而得到液晶层层叠体的工序，
在所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中的包含宽度方向的至少一个端部的第3端区域中，所述第1液晶层及所述第2液晶层在相对于所述粘接层的端部的位置更靠宽度方向外侧的区域具有端区域。
〔13〕根据〔12〕中记载的液晶膜的制造方法，其中，
在所述进行表面活化处理的工序中，
[a2]在对所述带有粘接层的层叠体的所述粘接层侧的表面进行表面活化处理的情况下，以使对所述第1液晶层的所述端区域中的所述粘接层侧的表面的表面活化处理的处理量小于对所述第1液晶层的所述端区域的表面以外的其他表面的表面活化处理的处理量的方式，进行表面活化处理，
[b2]在对所述层叠体的所述第2液晶层侧的表面进行表面活化处理的情况下，以使对所述第2液晶层的所述端区域的表面的表面活化处理的处理量小于对所述第2液晶层的所述端区域的表面以外的其他表面的表面活化处理的处理量的方式，进行表面活化处理。
〔14〕根据〔12〕或〔13〕中记载的液晶膜的制造方法，其中，对所述带有粘接层的层叠体的所述粘接层侧的表面、以及所述层叠体的所述第2液晶层侧的表面进行表面活化处理。
〔15〕根据〔12〕～〔14〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述表面活化处理为电晕处理。
〔16〕根据〔12〕～〔15〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述第1液晶层为相位差层。
〔17〕根据〔12〕～〔16〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述第2液晶层为相位差层。
〔18〕根据〔12〕～〔17〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述带有粘接层的层叠体还在所述第1基材层与所述第1液晶层之间包含第1取向层。
〔19〕根据〔12〕～〔18〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，所述层叠体还在所述第2基材层与所述第2液晶层之间包含第2取向层。
〔20〕根据〔12〕～〔19〕中任一项记载的液晶膜的制造方法，其中，还包括将所述液晶层层叠体的所述第1基材层及所述第2基材层中的一方剥离的工序。
〔21〕一种光学层叠体的制造方法，该制造方法具有：
从所述〔9〕中记载的液晶层层叠体剥离第1基材层及第2基材层中的一方的工序、
准备光学膜的工序、以及
将所述光学膜夹隔着光学膜用粘接层层叠于因上述剥离而露出的层的工序。
〔22〕根据〔21〕中记载的光学层叠体的制造方法，其中，还具有将所述第1基材层及所述第2基材层中的没有层叠光学膜用粘接层的层剥离的工序。
〔23〕根据〔22〕中记载的光学层叠体的制造方法，其中，还在因剥离所述第1基材层及所述第2基材层中的没有层叠光学膜用粘接层的层而露出的层上层叠光学层叠体用粘接层。
发明效果
根据本发明，可以提供适合于制造光学层叠体的带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、以及光学层叠体的制造方法。
附图说明
图1是示意性地表示本发明的带有粘接层的层叠体的一例的示意剖视图。
图2是示意性地表示本发明的层叠体的一例的示意剖视图。
图3是示意性地表示作为本发明的液晶层层叠体的相位差层层叠体的一例的示意剖视图。
图4是示意性地表示作为本发明的液晶膜的相位差膜的制造工序的一例的示意剖视图。
图5(a)～(c)是示意性地表示本发明的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。
图6(a)～(d)是示意性地表示成为本发明的前提的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。
符号的说明
10a、10p带有粘接层的层叠体，11a、11p第1基材层，12a、12a1、12p、12p1第1相位差层(第1液晶层)，12’p转移部分，13a、13p粘接层，20a、20p层叠体，21a、21p第2基材层，22a、22a1、22p、22p1第2相位差层(第2液晶层)，40a、40p相位差层层叠体(液晶层层叠体、液晶膜)，50a、50p相位差膜(液晶膜)，60a、60p光学膜，62a、62p光学膜用粘接层，70a、70p光学层叠体，71a带有基材层的光学层叠体(光学层叠体)，W宽度方向。
具体实施方式
在说明本发明的带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、以及光学层叠体的制造方法的优选实施方式之前，对本发明的实施方式的前提进行说明。图6(a)～(d)是示意性地表示成为后述的实施方式的前提的光学层叠体70p的制造工序的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。需要说明的是，以下以第1液晶层及第2液晶层分别为第1相位差层及第2相位差层、液晶膜为相位差膜的情况为例举出而进行说明。
光学层叠体的制造方法中，有时如图6(a)所示，使用将包含第1基材层11p及第1相位差层12p的层叠体10p、与包含第2基材层21p及第2相位差层22p的层叠体20p夹隔着粘接层13p层叠而得的相位差层层叠体40p。当从该相位差层层叠体40p如图6(b)所示剥离第2基材层21p时，则第2相位差层22p的一部分转移到剥离了的第2基材层21p，得到在粘接层13p上形成有第2相位差层22p1的相位差膜50p。这是因为，图6(a)所示的相位差层层叠体40p在第2相位差层22p的宽度方向的两端，具有没有固定于粘接层13p的非固定区域(图6(a)中以左低右高斜线表示的部分)，因第2基材层21p的剥离，而将第2相位差层22p分离为作为固定于粘接层13p的区域的第2相位差层22p1和转移到第2基材层21p的非固定区域。
接下来，在图6(b)所示的相位差膜50p的第2相位差层22p1上，如图6(c)所示，夹隔着光学膜用粘接层62p层叠光学膜60p后，剥离相位差膜50p中所含的第1基材层11p，可以得到光学层叠体70p(图6(d))。
然而，如图6(a)所示的相位差层层叠体40p中，在宽度方向的端部，有第1相位差层12p与第2相位差层22p没有夹隔着粘接层13p相面对的区域。此种区域中，第1相位差层12p与第2相位差层22p易于直接接触，根据第1相位差层12p与第2相位差层22p的接触的强度、第1相位差层12p及第2相位差层22p的表面的状态，如图6(a)所示，有第1相位差层12p的一部12’p(以下有时称作“转移部分12’p”。)向第2相位差层22p转移的情况。当第1相位差层12p的转移部分12’p向第2相位差层22p转移时，则第1相位差层12p的一部分脱落，在第1相位差层12p形成脱落部p。根据第1相位差层12p及第2相位差层22p的表面的状态、第1相位差层12p与第2相位差层22p的接触状况，还有在长度方向上连续地产生第1相位差层12p的脱落部p、向第2相位差层22p的转移部分12’p的情况。
由于此种脱落部p如图6(b)所示也存在于相位差膜50p，因此当将光学膜60p夹隔着光学膜用粘接层62p层叠于相位差膜50p时(图6(c))，则有在该脱落部p的区域中夹隔着光学膜用粘接层62p将第1基材层11p与光学膜60p粘接的情况。当在形成有此种粘接部分的状态下剥离第1基材层11p时，则如图6(d)所示，由于光学膜60p的一部分60’p、以及光学膜用粘接层62p的一部分62’p被固定于第1基材层11p，因此有所得的光学层叠体70p在其端部成为光学膜60p及光学膜用粘接层62p发生断裂的层叠体的情况。如图6(d)所示的端部断裂了的光学层叠体70p的外观不良，另外，在运送光学层叠体70p时有行进性不稳定化的趋势，因此不优选。
上述说明中，对在图6(a)所示的相位差层层叠体40p中第1相位差层12p的转移部分12’p向第2相位差层22p转移、成为端部断裂了的光学层叠体70p的情况进行了说明，然而也有转移部分12’p在从相位差层层叠体40p剥离了的第2基材层21p的运送时脱落的情况。脱落了的转移部分12’p附着于相位差膜50p、运送路径而成为污染制造中的制品、运送路径的原因，有引起所得的光学层叠体的外观不良的情况。另外，上述说明中，对在图6(a)所示的相位差层层叠体40p中转移部分12’p向第2相位差层22p转移的情况进行了说明，然而也有第2相位差层22p的一部分向第1相位差层12p转移的情况。
该情况下，在相位差膜的运送时，有转移到第1相位差层12p的第2相位差层22p的一部分脱落而附着于相位差膜、运送路径，成为污染制造中的制品、运送路径的原因，引起所得的光学层叠体的外观不良的情况。
因而，在以下的实施方式中，对如下的带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、以及光学层叠体的制造方法进行说明，它们通过使端部的断裂、制造中的制品或运送路径的污染等难以产生，来抑制光学层叠体的外观不良、运送时的行进性的不稳定化，从而可以合适地制造光学层叠体。
以下，参照附图对本发明的带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、以及光学层叠体的制造方法的优选实施方式进行说明。需要说明的是，以下说明中，以第1液晶层及第2液晶层分别为第1相位差层及第2相位差层、液晶膜为相位差膜的情况为例举出而进行说明。
[第1实施方式(带有粘接层的层叠体)]
图1是示意性地表示本实施方式的带有粘接层的层叠体的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。本实施方式的带有粘接层的层叠体10a是依次包含第1基材层11a、第1相位差层12a(第1液晶层)、以及粘接层13a的带有粘接层的层叠体10a，
在带有粘接层的层叠体10a的宽度方向剖面中，在第1相位差层12a的宽度方向的两端具有第1端区域，所述第1端区域是相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧的区域，
第1端区域的粘接层13a侧的表面12as(以下有时称作“第1相位差层表面12as”。)的水接触角为75°以上。
图1所示的带有粘接层的层叠体10a优选为用于制造将粘接层13a、与后述的包含第2基材层21a及第2相位差层22a(第2液晶层)的层叠体20a(图2)的第2相位差层22a贴合而成的相位差层层叠体40a(液晶层层叠体)(图3)的层叠体。在图3所示的相位差层层叠体40a的宽度方向剖面中，第2相位差层22a在相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置更靠宽度方向外侧具有两端区域。
以下，基于附图进行具体说明。图1所示的带有粘接层的层叠体10a依次包含第1基材层11a、第1相位差层12a、以及粘接层13a。带有粘接层的层叠体10a在其宽度方向剖面中，如图1所示，第1相位差层12a的宽度方向两端的位置相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置位于外侧。粘接层13a的宽度方向两端的位置没有特别限定，然而可以设于相对于第1相位差层12a的宽度方向的端部的位置在宽度方向内侧位于0.2cm以上的范围的区域，也可以设于位于0.5cm以上的范围的区域，也可以设于位于1.0cm以上的范围的区域，另外，通常设于位于20cm以下的范围的区域，优选设于位于15cm以下的范围的区域。带有粘接层的层叠体10a的宽度方向的两端的、从第1相位差层12a的端部的位置到粘接层13的端部的位置为止的距离既可以彼此相同，也可以彼此不同。
图1所示的带有粘接层的层叠体10a中，第1基材层11a的宽度方向两端的位置相对于第1相位差层12a的宽度方向两端的位置位于外侧，然而也可以与第1相位差层12a的宽度方向两端的位置相同。
第1相位差层12a在作为相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置更靠宽度方向外侧的区域的第1端区域中，具有作为粘接层13a侧的表面的第1相位差层表面12as。第1相位差层表面12as可以是第1相位差层12a的相对于粘接层13a的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域的全部，也可以是其一部分。第1相位差层表面12as优选占第1相位差层12a的相对于粘接层13a的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域中的90％以上，更优选占95％以上，进一步优选占98％以上。
第1相位差层表面12as的水接触角为75°以上，优选为80°以上，更优选为85°以上，进一步优选为90°以上，通常为120°以下。
若像基于图6(a)～(d)说明的相位差层层叠体40p那样，第1相位差层12p与第2相位差层22p直接接触，则有易于产生第1相位差层12p的一部分12’p向第2相位差层22p转移、或者第2相位差层22p的一部分向第1相位差层12p转移的现象的趋势。该现象特别易于在对第1相位差层12p及第2相位差层22p的粘接层13p侧的表面出于提高贴合面的粘接性等目的进行表面活化处理的情况下产生。
图1所示的带有粘接层的层叠体10a中，即使在将带有粘接层的层叠体10a与后述的层叠体20a(图2)贴合而制造后述的相位差层层叠体40a(图3)时，在出于提高贴合面的粘接性等目的对带有粘接层的层叠体10a进行了表面活化处理的情况下，第1相位差层表面12as的水接触角也达到75°以上。因此，在制造相位差层层叠体40a时，即使有带有粘接层的层叠体10a的第1相位差层表面12as与后述的层叠体20a的第2相位差层22a直接接触的情况，也可以抑制第1相位差层12a的一部分向第2相位差层22a转移、第2相位差层22a的一部分向第1相位差层12a转移。由此，在使用带有粘接层的层叠体10a制造后述的光学层叠体时，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
带有粘接层的层叠体10a中，可以使粘接层13a侧的整个表面具有与第1相位差层表面12as的水接触角相同的水接触角，也可以使第1相位差层表面12as的水接触角与第1相位差层表面12as以外的表面(第1基材层11a的粘接层13a侧的表面、第1相位差层12a的粘接层13a侧的第1相位差层表面12as以外的表面、以及粘接层13a的与第1相位差层12a相反一侧的表面)的水接触角彼此不同。
在带有粘接层的层叠体10a中，在粘接层13侧的表面的水接触角在每个区域不同的情况下，优选第1相位差层表面12as的水接触角大于粘接层13a的与第1相位差层12a相反一侧的表面的水接触角，其差值优选为5°以上，更优选为8°以上，通常为50°以下，也可以为40°以下。另外，在带有粘接层的层叠体10a的第1端区域中的第1相位差层12a的粘接层13a侧的表面包含第1相位差层表面12as和第1相位差层表面12as以外的表面的情况下，优选第1相位差层表面12as的水接触角大于第1相位差层表面12as以外的表面的水接触角，其差值优选为5°以上，更优选为8°以上，通常为50°以下，也可以为40°以下。由此，在制造后述的相位差层层叠体40a(图3)时，可以进一步抑制第1相位差层12a的一部分向第2相位差层22a转移、第2相位差层22a的一部分向第1相位差层12a转移。
第1相位差层表面12as的水接触角例如可以利用形成第1相位差层12a的材料的种类、对带有粘接层的层叠体10a的粘接层侧的表面进行的表面活化处理、对设置粘接层13a前的第1相位差层12a表面进行的表面活化处理来调整。作为表面活化处理，可以举出用于使表面亲水化的处理。具体而言，可以举出电晕处理、等离子体处理、辉光放电等放电处理；火焰处理；臭氧处理；UV臭氧处理；紫外线处理、电子束处理之类的电离活性射线处理等，其中，优选电晕处理、等离子体处理，更优选电晕处理。
作为调整带有粘接层的层叠体10a的粘接层13a侧的表面的水接触角的方法，例如可以举出选择形成第1相位差层12a的材料的方法、调整表面活化处理的强度、处理量等的方法等。另外，作为在带有粘接层的层叠体10a的粘接层13a侧的表面中使水接触角不同的方法，例如可以举出调整表面活化处理的处理量的方法。例如，作为减少表面活化处理的处理量而形成水接触角相对大的表面的方法，可以举出减小对该表面施加的表面活化处理的强度、减小对该表面施加的表面活化处理的累积强度、调整该表面与电极之间的距离等方法、以不对该表面进行表面活化处理的方式掩蔽该表面、调整用于进行放电处理(表面活化处理)的电极宽度等方法。
需要说明的是，上述说明中，对第1端区域是包含第1相位差层12a的宽度方向的两端区域、且相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧的区域的情况进行了说明，然而第1端区域也可以是第1相位差层12a的宽度方向的一个端区域，且为相对于粘接层13a的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域。该情况下，只要将第1相位差层12a的上述一个端区域中的粘接层13a侧的表面的水接触角设为75°以上即可。由此，在使用带有粘接层的层叠体制造后述的光学层叠体时，可以抑制在一个端区域中光学层叠体的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
[第2实施方式(层叠体)]
图2是示意性地表示本实施方式的层叠体的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。本实施方式的层叠体20a是包含第2基材层21a及第2相位差层22a(第2液晶层)的层叠体20a，
在层叠体20a的宽度方向剖面中，第2相位差层22a的宽度方向的两端的与第2基材层21a相反一侧的表面(以下有时称作“第2相位差层表面22as”。)的水接触角为75°以上。
图2所示的层叠体20a优选为用于制造将第2相位差层22a、与图1所示的依次包含第1基材层11a、第1相位差层12a(第1液晶层)、以及粘接层13a的带有粘接层的层叠体10a的粘接层13a贴合而成的相位差层层叠体40a(液晶层层叠体)(图3)的层叠体。
图3所示的相位差层层叠体40a的宽度方向剖面中的第2相位差层22a的第2端区域相对于粘接层13a的两端的位置位于宽度方向外侧。在相位差层层叠体40a的宽度方向剖面中，第1相位差层12a具有相对于粘接层13a的两端的位置位于宽度方向外侧的两端区域。
以下，基于附图进行具体说明。图2所示的层叠体20a包含第2基材层21a及第2相位差层22a。图2所示的层叠体20a中，在其宽度方向剖面中，第2基材层21a的宽度方向两端的位置相对于第2相位差层22a的宽度方向两端的位置位于外侧，然而也可以与第2相位差层22a的宽度方向两端的位置相同。
第2相位差层22a在宽度方向的两端区域中具有作为与第2基材层21相反一侧的表面的第2相位差层表面22as。
第2相位差层表面22as例如可以设为相对于第2相位差层的宽度方向的端部的位置在宽度方向内侧位于0.2cm以上的范围的区域，也可以设为位于0.5cm以上的范围的区域，也可以设为位于1.0cm以上的范围的区域，另外，通常可以为位于20cm以下的范围的区域，也可以为位于15cm以下的范围的区域。
层叠体20a可以用于制造后述的相位差层层叠体40a(图3)，该情况下，第2相位差层表面22as优选在相位差层层叠体40a的宽度方向剖面中，相对于粘接层13a的两端的位置位于宽度方向外侧。
第2相位差层表面22as的水接触角为75°以上，优选为80°以上，更优选为85°以上，进一步优选为90°以上，通常为120°以下。
若像基于图6(a)～(d)说明的相位差层层叠体40p那样，第1相位差层12p与第2相位差层22p直接接触，则有易于产生第1相位差层12p的一部分12’p向第2相位差层22p转移、或者第2相位差层22p的一部分向第1相位差层12p转移的现象的趋势。该现象特别是在对第1相位差层12p及第2相位差层22p的粘接层13p侧的表面出于提高贴合面的粘接性等目的进行了表面活化处理的情况下易于产生。
图2所示的层叠体20a中，即使在将层叠体20a与图1所示的带有粘接层的层叠体10a贴合而制造后述的相位差层层叠体40a(图3)时，在出于提高贴合面的粘接性等目的对层叠体20a进行了表面活化处理的情况下，第2相位差层表面22as的水接触角也会达到75°以上。因此，在制造相位差层层叠体40a时，即使有层叠体20a的第2相位差层22a与图1所示的带有粘接层的层叠体10a的第1相位差层12a直接接触的情况，也可以抑制第1相位差层12a的一部分向第2相位差层22a转移、第2相位差层22a的一部分向第1相位差层12a转移。由此，在使用层叠体20a制造后述的光学层叠体时，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
层叠体20a中，可以使第2相位差层22a侧的整个表面具有与第2相位差层表面22as的水接触角相同的水接触角，也可以使第2相位差层表面22as的水接触角与第2相位差层表面22as以外的表面(第2基材层21a的第2相位差层22a侧的表面、以及第2相位差层22a的与第2基材层21a相反一侧的表面中的第2相位差层表面22as以外的表面)的水接触角不同。
在层叠体20a中，在第2相位差层22a侧的表面的水接触角在每个区域不同的情况下，层叠体20a优选第2相位差层表面22as的水接触角大于第2相位差层表面22as的以外的表面的水接触角，其差值优选为5°以上，更优选为8°以上，通常为50°以下，也可以为40°以下。由此，在制造后述的相位差层层叠体40a(图3)时，可以抑制第1相位差层12a的一部分向第2相位差层22a转移、第2相位差层22a的一部分向第1相位差层12a转移。
第2相位差层表面22as的水接触角例如可以利用形成第2相位差层22a的材料的种类、对层叠体20a的第2相位差层22a侧的表面进行的表面活化处理来调整。作为表面活化处理，可以举出与先前的实施方式中说明的处理相同的处理，对于调整水接触角的大小的方法、使表面的水接触角不同的方法，也可以使用与先前的实施方式中说明的方法相同的方法。
需要说明的是，第2端区域也可以是第2相位差层22a的宽度方向的一个端区域。该情况下，只要将第2相位差层22a的上述一个端区域中的与第2基材层21a相反一侧的表面的水接触角设为75°以上即可。由此，在使用层叠体制造后述的光学层叠体时，可以抑制在一个端区域中光学层叠体的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
[第3实施方式(相位差层层叠体)]
图3是示意性地表示本实施方式的相位差层层叠体(液晶层层叠体)的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。本实施方式的相位差层层叠体40a是将图1所示的带有粘接层的层叠体10a的粘接层13a与图2所示的层叠体20a的第2相位差层22a(第2液晶层)贴合而成的相位差层层叠体40a，
在相位差层层叠体40a的宽度方向剖面中，第2相位差层22a在相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置更靠宽度方向外侧具有第2端区域。
以下，基于附图进行具体说明，然而对于带有粘接层的层叠体10a及层叠体20a，由于与先前的实施方式中的说明相同，因此省略其说明。
图3所示的相位差层层叠体40a依次包含第1基材层11a、第1相位差层12a、粘接层13a、第2相位差层22a、以及第2基材层21a。相位差层层叠体40a在其宽度方向剖面中，如图3所示，第1相位差层12a的宽度方向两端的位置相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置位于外侧，第2相位差层22a的宽度方向两端的位置相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧。
粘接层13a的宽度方向两端的位置没有特别限定，然而可以设于相对于第1相位差层12a及第2相位差层22a的宽度方向的端部的位置在宽度方向内侧位于0.2cm以上的范围的区域，也可以是位于0.5cm以上的范围的区域，也可以是位于1.0cm以上的范围的区域，另外，通常为位于20cm以下的范围的区域，优选为位于15cm以下的范围的区域。在相位差层层叠体40a的宽度方向的两端，从第1相位差层12a的端部的位置到粘接层13a的端部的位置为止的距离既可以彼此相同，也可以彼此不同，从第2相位差层22a的端部的位置到粘接层13a的端部的位置为止的距离也是既可以彼此相同，也可以彼此不同。另外，从第1相位差层12a的宽度方向的端部的位置到粘接层13a的宽度方向两端的位置为止的距离、与从第2相位差层22a的宽度方向的端部的位置到粘接层13a的宽度方向两端的位置为止的距离既可以彼此相同，也可以彼此不同。
图3所示的相位差层层叠体40a中，相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧的第1相位差层表面12as及第2相位差层表面22as如先前的实施方式中说明所示，水接触角为75°以上。因此，图3所示的相位差层层叠体40a中，即使有带有粘接层的层叠体10a的第1相位差层12a与后述的层叠体20a的第2相位差层22a直接接触的情况，也可以抑制第1相位差层12a的一部分向第2相位差层22a转移、第2相位差层22a的一部分向第1相位差层12a转移。由此，在使用带有粘接层的层叠体10a制造后述的光学层叠体时，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
只要第1相位差层表面12as的水接触角、以及第2相位差层表面22as的水接触角均为75°以上，则既可以彼此相同，也可以彼此不同。
在本实施方式的层叠体中，第1端区域可以是第1相位差层12a的宽度方向的一个端区域、并且是相对于粘接层13a的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域，第2端区域可以是第2相位差层22a的宽度方向的两端区域中、在相位差层层叠体40a的宽度方向上位于与第1相位差层12a的上述一个端区域相同一侧的区域。由此，在使用相位差层层叠体制造光学层叠体时，可以抑制在一个端区域中光学层叠体的端部发生断裂，因此可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
[第3－1实施方式(相位差层层叠体(2)]
本实施方式的相位差层层叠体(以下将本相位差层叠体称作“相位差层层叠体(2)”。)，是将依次包含基材层、液晶层及粘接层、并且在宽度方向剖面中在所述液晶层的宽度方向的至少一个端部侧具有相对于粘接层的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域的带有粘接层的层叠体、与第2实施方式的层叠体贴合了的层叠体，在相位差层层叠体的宽度方向剖面中，第2相位差层22a在相对于粘接层的宽度方向两端的位置更靠宽度方向外侧具有第2端区域。
作为相位差层层叠体(2)的具体例，可以举出将除了第1相位差层表面12as的水接触角小于75°以外具有与图1所示的带有粘接层的层叠体20a相同结构的层叠体、与图2所示的层叠体20a贴合了的相位差层层叠体。
图2所示的层叠体20a中，即使在将层叠体20a与图1所示的带有粘接层的层叠体10a贴合而制造相位差层层叠体时，在出于提高贴合面的粘接性等目的对层叠体20a进行了表面活化处理的情况下，第2相位差层表面22as的水接触角也达到75°以上。因此，在制造相位差层层叠体时，即使有层叠体20a的第2相位差层22a与带有粘接层的层叠体的相位差层直接接触的情况，也可以抑制带有粘接层的层叠体的相位差层的一部分向第2相位差层22a转移、第2相位差层22a的一部分向带有粘接层的层叠体的相位差层12a转移。由此，在使用层叠体20a制造后述的光学层叠体时，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
[第3－2实施方式(相位差层层叠体(3)]
本实施方式的相位差层层叠体(以下将本相位差层叠体称作“相位差层层叠体(3)”。)是将第1实施方式的带有粘接层的层叠体、与依次包含基材层及相位差层的层叠体贴合了的相位差层叠体，在相位差层层叠体的宽度方向剖面中，第1相位差层12a在相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置更靠宽度方向外侧具有第1端区域。
作为相位差层层叠体(3)的具体例，可以举出将除了第2相位差层表面22as的水接触角小于75°以外具有与图2所示的层叠体20a相同结构的层叠体、与图1所示的带有粘接层的层叠体10a贴合了的相位差层层叠体。
图1所示的带有粘接层的层叠体10a中，即使在将带有粘接层的层叠体10a与上述层叠体贴合而制造后述的相位差层层叠体时，在出于提高贴合面的粘接性等目的对带有粘接层的层叠体10a进行了表面活化处理的情况下，第1相位差层表面12as的水接触角也达到75°以上。因此，在制造相位差层层叠体时，即使有带有粘接层的层叠体10a的第1相位差层表面12as与上述层叠体的相位差层直接接触的情况，也可以抑制第1相位差层12a的一部分向上述层叠体的相位差层转移、上述层叠体的相位差层的一部分向第1相位差层12a转移。由此，在使用带有粘接层的层叠体10a制造光学层叠体时，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂，因此可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
[第4实施方式(相位差膜的制造方法)]
(相位差膜的制造方法)
图4是示意性地表示本实施方式的相位差膜(液晶膜)的制造工序的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。本实施方式的相位差膜的制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1相位差层(第1液晶层)、以及粘接层的带有粘接层的层叠体的工序；
准备包含第2基材层及第2相位差层(第2液晶层)的层叠体的工序；
对带有粘接层的层叠体的粘接层侧的表面、以及层叠体的第2相位差层侧的表面进行表面活化处理的工序；以及
将进行表面活化处理的工序后的带有粘接层的层叠体10a的粘接层13a、与进行表面活化处理的工序后的层叠体20a的第2相位差层22a贴合而得到相位差层层叠体40a(液晶层层叠体、液晶膜)的工序(图1～3)，
在相位差层层叠体40a的宽度方向剖面中，第1相位差层12a及第2相位差层22a在相对于粘接层13a的两端的位置更靠宽度方向外侧的区域具有两端区域，
在进行表面活化处理的工序中，
[a1]以使第1相位差层12a的两端区域中的粘接层13a侧的表面的水接触角为75°以上的方式进行表面活化处理，并且
[b1]以使第2相位差层22a的两端区域中的粘接层13a侧的表面的水接触角为75°以上的方式进行表面活化处理。
以下，有时将相位差层层叠体40a的宽度方向剖面中的宽度方向上的端区域称作第3端区域。
优选在上述进行表面活化处理的工序中，
[a2]以使对第1相位差层12a的两端区域中的粘接层13a侧的表面的表面活化处理的处理量小于对第1相位差层12a的两端区域的表面以外的其他表面的表面活化处理的处理量的方式，进行表面活化处理，并且
[b2]以使对第2相位差层22a的两端区域的表面的表面活化处理的处理量小于对第2相位差层22a的两端区域的表面以外的其他表面的表面活化处理的处理量的方式，进行表面活化处理。
相位差膜的制造方法可以还包括将相位差层层叠体40a的第1基材层11a及第2基材层21a中的一方剥离的工序。例如，若剥离第2基材层21a，则可以得到图4所示的相位差膜50a。
以下，基于附图进行具体说明。相位差膜50a的制造方法中，首先，准备依次包含第1基材层、第1相位差层、以及粘接层的带有粘接层的层叠体、以及包含第2基材层及第2相位差层的层叠体。带有粘接层的层叠体及层叠体为长条状的膜状物，一边连续地运送带有粘接层的层叠体及层叠体，一边进行后述的工序。宽度方向W为与膜状物的长度方向正交的方向。
上述说明中准备的带有粘接层的层叠体也可以是图1所示的带有粘接层的层叠体10a，然而优选为除了第1相位差层表面12as的水接触角小于75°以外具有与图1所示的带有粘接层的层叠体10a相同结构的带有粘接层的层叠体。另外，上述说明中准备的层叠体也可以是图2所示的层叠体20a，然而优选为除了第2相位差层表面22as的水接触角小于75°以外具有与图2所示的层叠体20a相同结构的层叠体。对于带有粘接层的层叠体10a及层叠体20a，由于与先前的实施方式中说明的内容相同，因此省略其说明。
接下来，对所准备的带有粘接层的层叠体的粘接层侧的表面、以及层叠体的第2相位差层侧的表面，出于提高贴合面的粘接性等目的，进行表面活化处理。其后，将带有粘接层的层叠体10a的粘接层13a与层叠体20a的第2相位差层22a贴合，得到图3所示的相位差层层叠体40a(相位差膜)。
在相位差层层叠体40a的宽度方向剖面中，第1相位差层12a及第2相位差层22a具有相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧的两端区域。
进行表面活化处理的工序中，以使相位差层层叠体40a中的第1相位差层表面12as、以及第2相位差层表面22as的水接触角为75°以上的方式，对带有粘接层的层叠体10a及层叠体20a进行表面活化处理。
在相位差层层叠体40a中，上述第1相位差层表面12as是第1相位差层12a的两端区域中的粘接层13a侧的表面，第2相位差层表面22as是第2相位差层22a的两端区域中的粘接层13a侧的表面。
第1相位差层表面12as的水接触角、以及第2相位差层表面22as的水接触角优选为80°以上，更优选为85°以上，进一步优选为90°以上，通常为120°以下。只要第1相位差层表面12as的水接触角、以及第2相位差层表面22as的水接触角为75°以上，则既可以彼此相同，也可以彼此不同。
作为表面活化处理，可以举出用于使表面亲水化的处理。具体而言，可以举出电晕处理、等离子体处理、辉光放电等放电处理；火焰处理；臭氧处理；UV臭氧处理；紫外线处理、电子束处理之类的电离活性射线处理等，其中，优选电晕处理、等离子体处理，更优选电晕处理。
表面活化处理可以以使第1相位差层表面12as的水接触角、以及第2相位差层表面22as的水接触角为75°以上的方式，对带有粘接层的层叠体10a的粘接层13a侧的整个表面、以及层叠体20a的第2相位差层22a侧的整个表面进行，然而也可以在第1相位差层表面12as及第2相位差层表面22as、和它们以外的表面中以使表面活化处理的处理量不同的方式进行。在使表面活化处理的处理量不同的情况下，优选以使对第1相位差层表面12as及第2相位差层表面22as的表面活化处理的处理量小于对它们以外的表面的表面活化处理的处理量的方式进行表面活化处理。例如，作为减少对第1相位差层表面12as及第2相位差层表面22as的表面活化处理的处理量而相对增大水接触角的方法，可以举出使对第1相位差层表面12as及第2相位差层表面22as的表面活化处理的强度或累积强度小于其他表面的方法；以不对第1相位差层表面12as及第2相位差层表面22as进行表面活化处理的方式掩蔽这些表面、或在这些表面上不配置放电处理(表面活化处理)用的电极等方法等。
本实施方式的相位差膜的制造方法中，从利用上述操作得到的相位差层层叠体40a(图3)剥离第2基材层21a，可以得到图4所示的相位差膜50a。当从图3所示的相位差层层叠体40a剥离第2基材层21a时，如图4所示，第2相位差层22a的一部分转移到剥离了的第2基材层21a。这是因为，图3所示的相位差层层叠体中，在其宽度方向剖面中，第2相位差层22a的宽度方向两端的位置相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧，具有没有将第2相位差层22a固定于粘接层13a的非固定区域(图3中以左低右高斜线表示的部分)。因而，当从相位差层层叠体40a剥离第2基材层21a时，则将图3所示的第2相位差层22a分离为固定于粘接层13a的区域(图4所示的第2相位差层22a1)、和向第2基材层21a转移的非固定区域(图3及图4中以左低右高斜线表示的部分)，如图4所示，可以得到在宽度方向剖面中第2相位差层22a1的宽度方向两端的位置与粘接层13a的宽度方向两端的位置相同的相位差膜50a。
本实施方式的相位差膜的制造方法中，在获得相位差层层叠体40a时，出于提高带有粘接层的层叠体及层叠体的贴合面的粘接性等目的，进行了表面活化处理。进行该表面活化处理后的第1相位差层表面12as的水接触角、以及第2相位差层表面22as的水接触角如上所述为75°以上。因此，在图3所示的相位差层层叠体40a中，即使有带有粘接层的层叠体10a的第1相位差层12a与层叠体20a的第2相位差层22a直接接触的情况，也可以抑制第1相位差层12a的一部分向第2相位差层22a转移、第2相位差层22a的一部分向第1相位差层12a转移。由此，在制造后述的光学层叠体时，可以抑制光学层叠体的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
本实施方式的光学层叠体的制造方法可以变更为以下所示的变形例。
另外，可以将上述的实施方式及下述所示的变形例任意组合。
(第4实施方式的变形例1)
上述第3端区域也可以是相位差层层叠体40a的宽度方向的一个端区域。由此，在制造后述的光学层叠体时，可以抑制在一个端区域中光学层叠体的端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
(第4实施方式的变形例2)
上述进行表面活化处理的工序例如也可以对带有粘接层的层叠体10a的粘接层13a侧的表面、以及层叠体20a的第2相位差层22a侧的表面中的一方的表面进行表面活化处理。该情况下，只要以使实施了表面活化处理的表面中的存在于相位差层层叠体40a的第3端区域的两端区域(第1相位差层表面12as、或第2相位差层表面22as)的水接触角为75°以上的方式进行表面活化处理即可。
(第4实施方式的变形例3)
本实施方式中，可以取代第2基材层21a而剥离第1基材层11a。
[第5实施方式(光学层叠体的制造方法)]
图5(a)～(c)是示意性地表示本实施方式的光学层叠体的制造工序的一例的示意剖视图。图中，W表示宽度方向。
本实施方式的光学层叠体的制造方法具有：
准备相位差膜50a(液晶膜)的工序(图5(a))、
准备光学膜60a的工序(图5(a))、以及
将光学膜60a夹隔着光学膜用粘接层62a层叠于剥离第2基材层21a(第1剥离层)后露出的层的工序(图5(b))。
本实施方式的光学层叠体的制造方法可以还具有剥离第1基材层11a(第2剥离层)的工序(图5(c))，也可以具有在因剥离第1基材层11a而露出的层上层叠光学层叠体用粘接层的工序。
以下，基于附图进行具体说明。光学层叠体的制造方法中，首先，如图5(a)所示，准备相位差膜50a及光学膜60a。相位差膜50a及光学膜60a为长条状的膜状物，一边连续地运送相位差膜50a及光学膜60a，一边进行后述的工序。宽度方向W是与膜状物的长度方向正交的方向。由于图5(a)所示的相位差膜50a是图4所示的相位差膜50a，因此省略其说明。
然后，如图5(b)所示，将光学膜60a夹隔着光学膜用粘接层62a层叠于相位差膜50a的第2相位差层22a1(第2液晶层)，由此可以得到带有基材层的光学层叠体71a(光学层叠体)。此时，可以先在光学膜60a上设置光学膜用粘接层62a，再将该光学膜用粘接层62a与相位差膜50a的第2相位差层22a1贴合，也可以先在相位差膜50a的第2相位差层22a1上设置光学膜用粘接层62a，再将该光学膜用粘接层62a与光学膜60a贴合。
光学膜60a的宽度方向两端的位置可以在光学层叠体71a的宽度方向剖面中与第2相位差层22a1、粘接层13a、第1相位差层12a(第1液晶层)及第1基材层11a中的任意一个的宽度方向两端的位置相同，也可以与它们的任意一个都不同。如图5(b)所示，光学膜60a的宽度方向两端的位置优选相对于第2相位差层22a1及粘接层13a的宽度方向两端的位置更靠宽度方向外侧。另外，光学膜60a的宽度方向两端的位置优选与第1相位差层12a及第1基材层11a的宽度方向两端的位置相同、或相对于该位置更靠宽度方向内侧。
光学膜用粘接层62a的宽度方向两端的位置优选与光学膜60a的宽度方向两端的位置相同、或者相对于该位置更靠宽度方向内侧，并且在相位差膜50a的宽度方向剖面中与位于宽度方向最外侧的层的位置相同、或者相对于该位置更靠宽度方向内侧。由此，在运送带有基材层的光学层叠体71a时，可以防止光学膜用粘接层62a向宽度方向外侧冒出而附着于运送路径上、污染运送路径。若光学膜用粘接层62a的宽度方向两端与第1基材层11a粘接，则难以剥离第1基材层11a，因此光学膜用粘接层62a的宽度方向两端的位置优选与第1相位差层12a的宽度方向两端的位置相同，或相对于该位置位于宽度方向内侧。
带有基材层的光学层叠体71a中，优选在其宽度方向剖面中，如图5(b)所示，光学膜用粘接层62a的宽度方向两端的位置相对于粘接层13a的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧，并且相对于第2相位差层22a1的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧，此外，相对于第1相位差层12a的宽度方向两端的位置位于宽度方向内侧。由此，在带有基材层的光学层叠体71a的宽度方向两端，可以将光学膜用粘接层62a与第1相位差层12a贴合，可以夹隔着光学膜用粘接层62a将光学膜60与第1相位差层12a1层叠。
从利用上述操作得到的带有基材层的光学层叠体71a剥离第1基材层11a(第2剥离层)，由此可以得到光学层叠体70a(图5(c))。带有基材层的光学层叠体71a中，如图5(b)所示，光学膜用粘接层62a的宽度方向两端的位置相对于第1相位差层12a的宽度方向两端的位置位于宽度方向内侧。因此，光学膜用粘接层62a没有贴合于第1基材层11a，因而可以容易地剥离第1基材层11a。如此所述地得到的光学层叠体70a如图5(c)所示，依次层叠有第1相位差层12a1、粘接层13a、第2相位差层22a1、光学膜用粘接层62a、以及光学膜60a。
当从图5(b)所示的带有基材层的光学层叠体71a剥离第1基材层11a时，易于如图5(c)所示，第1相位差层12a的一部分转移到剥离了的第1基材层11a。这是因为，图5(b)所示的带有基材层的光学层叠体71a中，在其宽度方向剖面中，第1相位差层12a的宽度方向两端的位置相对于光学膜用粘接层62a的宽度方向两端的位置位于外侧，具有没有将第1相位差层12a固定于光学膜用粘接层62a的非固定区域(图5(b)中以左低右高斜线表示的部分)。需要说明的是，图5(b)所示的带有基材层的光学层叠体71a中，显示出第1相位差层12a的宽度方向两端与光学膜用粘接层62a的宽度方向两端分离了的状态，然而由于形成带有基材层的光学层叠体71a的各层非常薄，因此实际上第1相位差层12a的宽度方向两端与光学膜用粘接层62a的宽度方向两端处于粘接了的状态。
因而，当从带有基材层的光学层叠体71a剥离第1基材层11a(第2剥离层)时，将图5(b)所示的第1相位差层12a分离为固定于光学膜用粘接层62a的区域(图5(c)所示的第1相位差层12a1)、和向第1基材层11a转移的非固定区域(图5(b)及(c)中以左低右高斜线表示的部分)，如图5(c)所示，可以得到在宽度方向剖面中第1相位差层12a1的宽度方向两端的位置与光学膜用粘接层62a的宽度方向两端的位置相同的光学层叠体70a。
光学层叠体70a的制造方法也可以具有在因剥离第1基材层11a而露出的第1相位差层12a1上形成未图示的光学层叠体用粘接层的工序。光学层叠体用粘接层可以在贴合于有机EL显示装置、液晶显示装置等的显示面板时使用。
如先前的实施方式中说明所示，相位差层层叠体40a中，抑制了第1相位差层12a的一部分向第2相位差层22a转移、第2相位差层22a的一部分向第1相位差层12a转移。因此，当使用从该相位差层层叠体40a剥离第1剥离层而得的相位差膜50a制造光学层叠体时，则可以抑制端部发生断裂，另外，可以抑制制造中的制品、运送路径的污染。
上述说明中，可以将第1剥离层变更为第2基材层21a，将第2剥离层变更为第1基材层11a。该情况下，只要在剥离第1基材层后露出的第1相位差层上夹隔着光学膜用粘接层层叠光学膜、在剥离第2基材层后露出的第2相位差层上形成光学层叠体用粘接层即可。或者，也可以在剥离第1基材层11a后露出的第1相位差层上先层叠光学层叠体用粘接层，其后，在剥离第2基材层21a后露出的第2相位差层上夹隔着光学膜用粘接层层叠光学膜。
以上，对本发明的实施方式及其变形例进行了说明，然而本发明并不限定于这些实施方式及其变形例，例如，也可以将上述的各实施方式及其变形例的各结构及各工序组合实施。以下，对所有的实施方式及其变形例中共同的各事项进行详细说明。
(第1基材层及第2基材层)
第1基材层及第2基材层具有作为支撑形成于这些基材层上的后述的第1取向层及第2取向层、以及第1液晶层及第2液晶层的支撑层的功能。第1基材层及第2基材层优选为由树脂材料形成的膜。
作为树脂材料，例如使用透明性、机械强度、热稳定性、拉伸性等优异的树脂材料。具体而言，可以举出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系树脂；降冰片烯系聚合物等环状聚烯烃系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系树脂；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素及乙酸丙酸纤维素等纤维素酯系树脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系树脂；聚碳酸酯系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚芳酯系树脂；聚砜系树脂；聚醚砜系树脂；聚酰胺系树脂；聚酰亚胺系树脂；聚醚酮系树脂；聚苯硫醚系树脂；聚苯醚系树脂、以及它们的混合物、共聚物等。这些树脂当中，优选使用环状聚烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素酯系树脂及(甲基)丙烯酸系树脂的任意一种或它们的混合物。需要说明的是，上述所谓“(甲基)丙烯酸”，是指“丙烯酸及甲基丙烯酸的至少1种”。
第1基材层及第2基材层可以是1种树脂或将2种以上的树脂混合而得的单层，也可以具有2层以上的多层结构。在具有多层结构的情况下，形成各层的树脂彼此可以相同也可以不同。
可以向形成由树脂材料形成的膜的树脂材料中添加任意的添加剂。作为添加剂，例如可以举出紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、防静电剂、颜料、以及着色剂等。
第1基材层及第2基材层的厚度没有特别限定，然而一般从强度、处置性等操作性的方面考虑，优选为1～500μm，更优选为1～300μm，进一步优选为5～200μm。
在带有粘接层的层叠体具有后述的第1取向层的情况下，或层叠体具有后述的第2取向层的情况下，为了提高第1基材层与第1取向层的密合性、以及第2基材层与第2取向层的密合性，可以至少在第1基材层的形成第1取向层的一侧的表面、以及至少在第2基材层的形成第2取向层的一侧的表面，进行电晕处理、等离子体处理、火焰处理等，也可以形成底漆层等。另外，可以通过调整为了形成第1取向层及第2取向层而使用的取向层形成用的组合物的成分、为了形成第1液晶层及第2液晶层而使用的液晶层形成用的组合物的成分，来调整上述的密合性。
(第1取向层及第2取向层)
带有粘接层的层叠体可以在第1基材层与第1液晶层之间包含第1取向层。另外，层叠体也可以在第2基材层与第2液晶层之间包含第2取向层。
第1取向层及第2取向层具有使形成于这些取向层上的第1液晶层及第2液晶层中所含的液晶化合物沿所期望的方向进行液晶取向的取向限制力。作为第1取向层及第2取向层，可以举出由取向性聚合物形成的取向性聚合物层、由光取向聚合物形成的光取向性聚合物层、在层表面具有凹凸图案或多个沟槽(groove)的沟槽取向层，第1取向层与第2取向层既可以是相同种类的层，也可以是不同种类的层。第1取向层及第2取向层的厚度通常为10～500nm，优选为10～200nm。
取向性聚合物层可以通过将在溶剂中溶解有取向性聚合物的组合物涂布于基材层(第1基材层或第2基材层)后除去溶剂、并根据需要进行摩擦处理而形成。该情况下，就由取向性聚合物形成的取向性聚合物层而言，可以利用取向性聚合物的表面状态、摩擦条件来任意地调整取向限制力。
光取向性聚合物层可以通过将包含具有光反应性基团的聚合物或单体和溶剂的组合物涂布于基材层(第1基材层或第2基材层)、并照射偏振光而形成。该情况下，就光取向性聚合物层而言，可以利用对光取向性聚合物的偏振光照射条件等来任意地调整取向限制力。
沟槽取向层例如可以利用如下的方法等来形成，即，对感光性聚酰亚胺膜表面经由具有图案形状的狭缝的曝光用掩模进行曝光、显影等而形成凹凸图案的方法；在表面具有沟槽的板状的原盘上，形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，将该层向基材层(第1基材层或第2基材层)转印后进行固化的方法；在基材层(第1基材层或第2基材层)上形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，通过将具有凹凸的辊状的原盘压接于该层等而形成凹凸并使之固化的方法。
在上述说明过的第1剥离层及第2剥离层中，也可以包含第1取向层及第2取向层。即，在第1剥离层包含第2基材层的情况下，第1剥离层也可以包含第2取向层。同样地，在第2剥离层包含第1基材层的情况下，第2剥离层也可以包含第1取向层。对于第1剥离层包含第1基材层的情况、第2剥离层包含第2基材层的情况也相同。另外，在第1剥离层不包含第1取向层或第2取向层的情况下，只要在剥离第1剥离层后，第1取向层或第2取向层分别残留于第1液晶层上或第2液晶层上即可。同样地，在第2剥离层不包含第1取向层或第2取向层的情况下，只要在剥离第2剥离层后，第1取向层或第2取向层分别残留于第1液晶层上或第2液晶层上即可。需要说明的是，第1剥离层及第2剥离层中所含的层可以通过调整各层间的密合力的关系来设定，例如可以利用对第1基材层及第2基材层进行的上述的电晕处理、等离子体处理、火焰处理、底漆层、取向层形成用的组合物的成分、液晶层形成用的组合物等来调整。
在第1液晶层上残留有第1取向层的情况下，可以将光学层叠体用粘接层设于第1取向层上。另外，在第2液晶层上残留有第2取向层的情况下，可以将光学膜用粘接层设于第2取向层上。
(第1液晶层及第2液晶层)
第1液晶层及第2液晶层可以使用公知的液晶化合物来形成。液晶化合物的种类没有特别限定，可以使用棒状液晶化合物、圆盘状液晶化合物、以及它们的混合物。另外，液晶化合物可以是高分子液晶化合物，也可以是聚合性液晶化合物，也可以是它们的混合物。例如，在使用聚合性液晶化合物的情况下，将包含聚合性液晶化合物的组合物涂布于取向层(第1取向层或第2取向层)上而形成涂膜，使该涂膜固化，由此可以形成作为液晶固化层的第1液晶层、第2液晶层。或者也可以在基材层(第1基材层或第2基材层)上涂布液晶化合物而形成涂膜，将该涂膜与基材层一起拉伸，由此形成液晶层(第1液晶层或第2液晶层)。
第1液晶层及第2液晶层例如可以分别为第1相位差层及第2相位差层。第1相位差层及第2相位差层只要是对光赋予给定的相位差的相位差层，就没有特别限定，例如可以举出作为1/2波长板、1/4波长板、正C板、逆波长分散性的1/4波长板等发挥作用的层。
在本实施方式的光学层叠体中光学膜为偏振膜的情况下，本实施方式的光学层叠体可以作为复合偏振板使用。在复合偏振板构成圆偏振板的情况下，优选以使复合偏振板的层结构为依次层叠有偏振层(直线偏振层)、1/2波长板、1/4波长板的结构、或者为依次层叠有偏振层(直线偏振层)、逆波长分散性的1/4波长板、正C板的结构的方式，来选择形成第1液晶层及第2液晶层(第1相位差层及第2相位差层)的液晶层的种类。
(液晶膜)
液晶膜包含第1液晶层及第2液晶层，例如，在第1液晶层及第2液晶层分别为第1相位差层及第2相位差层的情况下，可以为相位差膜。
(光学膜)
作为光学膜，可以举出偏振膜、反射膜、半透射型反射膜、增亮膜、光学补偿膜、带有防眩功能的膜等。另外，也可以是具有与上述的相位差膜(液晶膜)相同的结构的膜。光学膜可以是1层结构，也可以是2层以上的多层结构的层叠光学膜。
(粘接层)
粘接层可以利用粘接剂、粘合剂及它们的组合形成，通常为1层，也可以是2层以上。在粘接层包含2层以上的层的情况下，各层既可以由彼此相同的材料形成，也可以由不同的材料形成。
作为粘接剂，例如可以将水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂、粘合剂等中的1或2种以上组合形成。作为水系粘接剂，例如可以举出聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二剂型(二液型)氨基甲酸酯系乳液粘接剂等。作为活性能量射线固化型粘接剂，是通过照射紫外线等活性能量射线而固化的粘接剂，例如可以举出包含聚合性化合物及光聚合性引发剂的粘接剂、包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘结剂树脂及光反应性交联剂的粘接剂等。作为上述聚合性化合物，可以举出光固化性环氧系单体、光固化性丙烯酸系单体、光固化性氨基甲酸酯系单体等光聚合性单体、来自于这些单体的低聚物等。作为上述光聚合引发剂，可以举出包含通过照射紫外线等活性能量射线而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基之类的活性种的物质的光聚合引发剂。
作为粘合剂，可以举出以(甲基)丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、硅酮系树脂等作为基础聚合物、并加入了异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物等交联剂的组合物。
粘接层优选使用活性能量射线固化型粘接剂形成，特别优选使用包含紫外线固化性的环氧系单体及光阳离子聚合引发剂的粘接剂形成。
(光学膜用粘接层)
光学膜用粘接层可以利用粘接剂、粘合剂及它们的组合形成。光学膜用粘接层通常为1层，然而也可以由2层以上的层形成。在光学膜用粘接层包含2层以上的层的情况下，各层既可以由彼此相同的材料形成，也可以由不同的材料形成。
作为形成光学膜用粘接层的粘接剂及粘合剂，可以举出与上述粘接层中所用的粘接剂及粘合剂的例子相同的物质。作为光学膜用粘接层，优选使用粘合剂。
(光学层叠体用粘接层)
光学层叠体用粘接层可以利用粘接剂、粘合剂及它们的组合形成。光学层叠体用粘接层通常为1层，然而也可以由2层以上的层形成。在光学层叠体用粘接层包含2层以上的层的情况下，各层既可以由彼此相同的材料形成，也可以由不同的材料形成。
作为形成光学层叠体用粘接层的粘接剂及粘合剂，可以举出与上述粘接层中所用的粘接剂及粘合剂的例子相同的物质。作为光学膜用粘接层，优选使用粘合剂。
[实施例]
以下，给出实施例及比较例而对本发明进一步具体说明，然而本发明并不受这些例子限定。
[水接触角的测定]
得到将实施例及比较例中所用的带有粘接层的层叠体中所含的第1基材层与第1相位差层(第1液晶层)层叠了的测定用层叠体(宽度方向的长度：约1350mm)。对该测定用层叠体的第1相位差层侧的表面，遍及测定用层叠体的全部宽度，在实施例及比较例各自的条件下进行电晕处理。以使电晕处理后的测定用层叠体的第1相位差层为上表面的方式，水平地安放于接触角测量仪(协和界面科学株式会社制、图像处理式接触角测量仪“FACE CA－X型”)，向测定位置滴加1μL的纯水，利用θ/2法测定出对水的接触角。测定位置设为相对于测定用层叠体的宽度方向的一个端部侧约200mm的位置(位置A)、约670mm的位置(位置B)、约1140mm的位置(位置C)。
在各条件下对3个测定用层叠体进行电晕处理，对电晕处理后的3个测定用层叠体分别在3个测定位置进行水接触角的测定，将在位置A～C分别得到的值平均，设为位置A～C各自的水接触角。其结果是，在实施例的条件下进行电晕处理时，位置A～C处的水接触角处于90.4°～91.0°的范围，在比较例的条件下进行电晕处理时，位置A～C处的水接触角处于72.1°～74.4°的范围。
〔实施例1〕
准备了具有图1所示的结构的带有粘接层的层叠体、和具有图2所示的结构的层叠体。此处，带有粘接层的层叠体在利用日本特开2015－187717号公报的实施例1中记载的步骤制作出的相位差板(F2)的第2光学各向异性层(第1液晶层)上设有粘接层，在第2光学各向异性层上形成有没有层叠粘接层的区域。另外，层叠体使用了利用上述公报的实施例3中记载的步骤制作出的相位差板(F4)。接下来，对带有粘接层的层叠体的粘接层侧的整个表面、以及层叠体的第2相位差层(第1光学各向异性层)侧的整个表面，将电晕功率设定为600W，将电晕电极与第1相位差层及第2相位差层之间的距离设定为1.5mm，以15m/min的生产线速度进行了电晕处理。根据上述〔水接触角的测定〕的测定结果确认，在带有粘接层的层叠体的宽度方向剖面中，第1相位差层的相对于粘接层的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧的区域中的粘接层侧的表面的水接触角为90.4°～91.0°的范围。
其后，将带有粘接层的层叠体的粘接层与层叠体的第2相位差层贴合，得到具有图3所示的结构的相位差层层叠体，从所得的相位差层层叠体剥离第2基材层，得到具有图4所示的结构的相位差膜。对所得的相位差膜，利用目视观察相对于粘接层的宽度方向的端部位于宽度方向外侧的第1相位差层的表面，确认了有无第1相位差层的脱落，其结果是，基本上没有发生第1相位差层的脱落。
〔比较例1〕
除了将电晕处理的条件设定为电晕功率为1100W、电晕电极与相位差层之间的距离为1mm而进行了电晕处理以外，与实施例1相同地得到相位差膜。根据上述〔水接触角的测定〕的测定结果确认，在带有粘接层的层叠体的宽度方向剖面中，第1相位差层的相对于粘接层的宽度方向两端的位置位于宽度方向外侧的区域中的粘接层侧的表面的水接触角为72.1°～74.4°的范围。对所得的相位差膜，与实施例1相同地确认了有无第1相位差层的脱落，其结果是，观察到第1相位差层的脱落的发生。

Claims (23)

1.一种带有粘接层的层叠体，
是依次包含第1基材层、第1液晶层以及粘接层的带有粘接层的层叠体，
在所述带有粘接层的层叠体的宽度方向剖面中，在所述第1液晶层的宽度方向的至少一个端部侧具有第1端区域，所述第1端区域是相对于所述粘接层的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域，
所述第1端区域中的所述粘接层侧的表面的水接触角为75°以上，
所述第1端区域中的所述粘接层侧的表面的水接触角大于所述第1液晶层中的除所述第1端区域中的所述粘接层侧的表面以外的表面的水接触角。
2.根据权利要求1所述的带有粘接层的层叠体，其中，
第1液晶层的水接触角比粘接层的与第1液晶层相反一侧的表面的水接触角大5°以上。
3.根据权利要求1或2所述的带有粘接层的层叠体，其中，
所述第1液晶层为相位差层。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的带有粘接层的层叠体，其中，
还在所述第1基材层与所述第1液晶层之间包含第1取向层。
5.一种层叠体，
是包含第2基材层及第2液晶层的层叠体，
在所述层叠体的宽度方向剖面中，在所述第2液晶层的宽度方向的至少一个端部侧具有第2端区域，
所述第2端区域中的与所述第2基材层相反一侧的表面的水接触角为75°以上，
所述第2端区域中的与所述第2基材层相反一侧的表面的水接触角大于所述第2液晶层中的除所述第2端区域中的与所述第2基材层相反一侧的表面以外的表面的水接触角。
6.根据权利要求5所述的层叠体，其中，
在所述第2液晶层的与所述第2基材层相反一侧的表面中，所述第2端区域的水接触角比所述第2端区域以外的表面的水接触角大5°以上。
7.根据权利要求5或6所述的层叠体，其中，
所述第2液晶层为相位差层。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的层叠体，其中，
还在所述第2基材层与所述第2液晶层之间包含第2取向层。
9.一种液晶层层叠体，
是将权利要求1～4中任一项所述的带有粘接层的层叠体的所述粘接层、与权利要求5～8中任一项所述的层叠体的所述第2液晶层贴合而成的液晶层层叠体，
在所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中，所述第2端区域相对于所述粘接层的端部的位置位于宽度方向外侧。
10.一种液晶层层叠体，
是将带有粘接层的层叠体与权利要求5～8中任一项所述的层叠体的所述第2液晶层贴合而成的液晶层层叠体，所述带有粘接层的层叠体是依次包含基材层、液晶层及粘接层的带有粘接层的层叠体，并且在宽度方向剖面中，在所述液晶层的宽度方向的至少一个端部侧具有相对于粘接层的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域，
在所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中，所述第2端区域相对于所述粘接层的端部的位置位于宽度方向外侧。
11.一种液晶层层叠体，
是将权利要求1～4中任一项所述的带有粘接层的层叠体的所述粘接层、与依次包含基材层及液晶层的层叠体贴合了的液晶层层叠体，
在所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中，所述第1端区域相对于所述粘接层的端部的位置位于宽度方向外侧。
12.一种液晶膜的制造方法，该制造方法具有：
准备依次包含第1基材层、第1液晶层、以及粘接层的带有粘接层的层叠体的工序；
准备包含第2基材层及第2液晶层的层叠体的工序；
对所述带有粘接层的层叠体的所述粘接层侧的表面、以及所述层叠体的所述第2液晶层侧的表面中的至少一方，以使水接触角为75°以上的方式进行表面活化处理的工序；以及
将所述带有粘接层的层叠体的所述粘接层与所述层叠体的所述第2液晶层贴合而得到液晶层层叠体的工序，
在所述液晶层层叠体的宽度方向剖面中的包含宽度方向的至少一个端部的第3端区域中，所述第1液晶层及所述第2液晶层在相对于所述粘接层的端部的位置更靠宽度方向外侧的区域具有端区域，
并且，满足以下条件中的任一者：
所述带有粘接层的层叠体中，在所述带有粘接层的层叠体的宽度方向剖面中，在所述第1液晶层的宽度方向的至少一个端部侧具有所述第3端区域，所述第3端区域是相对于所述粘接层的宽度方向的端部的位置位于宽度方向外侧的区域，并且，所述第3端区域中的所述粘接层侧的表面的水接触角大于所述第1液晶层中的除所述第3端区域中的所述粘接层侧的表面以外的表面的水接触角；或者
所述层叠体中，在所述层叠体的宽度方向剖面中，在所述第2液晶层的宽度方向的至少一个端部侧具有所述第3端区域，并且，所述第3端区域中的与所述第2基材层相反一侧的表面的水接触角大于所述第2液晶层中的除所述第3端区域中的与所述第2基材层相反一侧的表面以外的表面的水接触角。
13.根据权利要求12所述的液晶膜的制造方法，其中，
在所述进行表面活化处理的工序中，
[a2]在对所述带有粘接层的层叠体的所述粘接层侧的表面进行表面活化处理的情况下，以使对所述第1液晶层的所述端区域中的所述粘接层侧的表面的表面活化处理的处理量小于对所述第1液晶层的所述端区域的表面以外的其他表面的表面活化处理的处理量的方式，进行表面活化处理，
[b2]在对所述层叠体的所述第2液晶层侧的表面进行表面活化处理的情况下，以使对所述第2液晶层的所述端区域的表面的表面活化处理的处理量小于对所述第2液晶层的所述端区域的表面以外的其他表面的表面活化处理的处理量的方式，进行表面活化处理。
14.根据权利要求12或13所述的液晶膜的制造方法，其中，
对所述带有粘接层的层叠体的所述粘接层侧的表面、以及所述层叠体的所述第2液晶层侧的表面进行表面活化处理。
15.根据权利要求12～14中任一项所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述表面活化处理为电晕处理。
16.根据权利要求12～15中任一项所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述第1液晶层为相位差层。
17.根据权利要求12～16中任一项所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述第2液晶层为相位差层。
18.根据权利要求12～17中任一项所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述带有粘接层的层叠体还在所述第1基材层与所述第1液晶层之间包含第1取向层。
19.根据权利要求12～18中任一项所述的液晶膜的制造方法，其中，
所述层叠体还在所述第2基材层与所述第2液晶层之间包含第2取向层。
20.根据权利要求12～19中任一项所述的液晶膜的制造方法，其中，
还包括将所述液晶层层叠体的所述第1基材层及所述第2基材层中的一方剥离的工序。
21.一种光学层叠体的制造方法，该制造方法具有：
从权利要求9所述的液晶层层叠体剥离第1基材层及第2基材层中的一方的工序、
准备光学膜的工序、以及
将所述光学膜夹隔着光学膜用粘接层层叠于因上述剥离而露出的层的工序。
22.根据权利要求21所述的光学层叠体的制造方法，其中，
还具有将所述第1基材层及所述第2基材层中的没有层叠光学膜用粘接层的层剥离的工序。
23.根据权利要求22所述的光学层叠体的制造方法，其中，
还在因剥离所述第1基材层及所述第2基材层中的没有层叠光学膜用粘接层的层而露出的层上层叠光学层叠体用粘接层。
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