JP2019215472A - 接着層付き積層体、積層体、液晶層積層体、液晶フィルムの製造方法、及び、光学積層体の製造方法 - Google Patents
接着層付き積層体、積層体、液晶層積層体、液晶フィルムの製造方法、及び、光学積層体の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
前記接着層付き積層体の幅方向断面において、前記第1液晶層の幅方向の少なくとも一方の端部側に、前記接着層の幅方向の端部の位置よりも幅方向外側にある領域である第1端領域を有し、
前記第1端領域における前記接着層側の表面の水接触角は、75°以上である、接着層付き積層体。
前記液晶層積層体の幅方向断面における前記第1端領域側において、前記第2液晶層は、前記接着層の前記端部の位置よりも幅方向外側に端領域を有する、〔1〕に記載の接着層付き積層体。
前記積層体の幅方向断面において、前記第2液晶層の幅方向の少なくとも一方の端部側に第2端領域を有し、
前記第2端領域における前記第2基材層とは反対側の表面の接触角は、75°以上である、積層体。
前記液晶層積層体の幅方向断面における前記第2端領域側において、
前記第2端領域は、前記接着層の端部の位置よりも幅方向外側にあり、
前記第1液晶層は、前記接着層の端部の位置よりも幅方向外側の領域に端領域を有する、〔5〕に記載の積層体。
〔8〕 前記第2基材層と前記第2液晶層との間に第2配向層を含む、〔5〕〜〔7〕のいずれかに記載の積層体。
前記液晶層積層体の幅方向断面における前記第1端領域側において、前記第2端領域は、前記接着層の端部の位置よりも幅方向外側にある、液晶層積層体。
第2基材層及び第2液晶層を含む積層体を準備する工程と、
前記接着層付き積層体の前記接着層側の表面、及び、前記積層体の前記第2液晶層側の表面のうちの少なくとも一方を表面活性化処理する工程と、
前記接着層付き積層体の前記接着層と、前記積層体の前記第2液晶層とを貼合して液晶層積層体を得る工程と、を有し、
前記液晶層積層体の幅方向断面における幅方向の少なくとも一方の端部を含む第3端領域において、前記第1液晶層及び前記第2液晶層は、前記接着層の端部の位置よりも幅方向外側の領域に端領域を有し、
前記表面活性化処理する工程において、
[a1]前記接着層付き積層体の前記接着層側の表面が表面活性化処理されている場合、前記第1液晶層の前記端領域における前記接着層側の表面の水接触角は、75°以上であり、
[b1]前記積層体の前記第2液晶層側の表面が表面活性化処理されている場合、前記第2液晶層の前記端領域における前記接着層側の表面の水接触角は、75°以上である、液晶フィルムの製造方法。
[a2]前記接着層付き積層体の前記接着層側の表面を表面活性化処理する場合、前記第1液晶層の前記端領域における前記接着層側の表面に対する表面活性化処理の処理量が、前記第1液晶層の前記端領域の表面以外の他の表面に対する表面活性化処理の処理量よりも小さくなるように表面活性化処理を行い、
[b2]前記積層体の前記第2液晶層側の表面を表面活性化処理する場合、前記第2液晶層の前記端領域の表面に対する表面活性化処理の処理量が、前記第2液晶層の前記端領域の表面以外の他の表面に対する表面活性化処理の処理量よりも小さくなるように表面活性化処理を行う、〔10〕に記載の液晶フィルムの製造方法。
光学フィルムを準備する工程と、
前記光学フィルムを、光学フィルム用接着層を介して、前記第1剥離層を剥離して露出した層に積層する工程と、を有する、光学積層体の製造方法。
図1は、本実施形態の接着層付き積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Wは幅方向を表す。本実施形態の接着層付き積層体10aは、
第1基材層11a、第1位相差層12a(第1液晶層)、及び接着層13aをこの順に含む接着層付き積層体10aであって、
接着層付き積層体10aの幅方向断面において、第1位相差層12aの幅方向の両端に、接着層13aの幅方向両端の位置よりも幅方向外側にある領域である第1端領域を有し、
第1端領域における接着層13a側の表面12as(以下、「第1位相差層表面12as」ということがある。)の水接触角は、75°以上である。
図2は、本実施形態の積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Wは幅方向を表す。本実施形態の積層体20aは、
第2基材層21a及び第2位相差層22a(第2液晶層)を含む積層体20aであって、
積層体20aの幅方向断面において、第2位相差層22aの幅方向の両端に第2端領域を有し、
第2端領域における第2基材層21aとは反対側の表面(以下、「第2位相差層表面22as」ということがある。)の接触角は、75°以上である。
図3は、本実施形態の位相差層積層体(液晶層積層体)の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Wは幅方向を表す。本実施形態の位相差層積層体40aは、
図1に示す接着層付き積層体10aの接着層13aと、図2に示す積層体20aの第2位相差層22a(第2液晶層)とを貼合してなる位相差層積層体40aであって、
位相差層積層体40aの幅方向断面における第1位相差層12a(第1液晶層)の第1端領域において、第2位相差層22aは、接着層13aの幅方向両端の位置よりも幅方向外側に第2端領域を有するものである。
(位相差フィルムの製造方法)
図4は、本実施形態の位相差フィルム(液晶フィルム)の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Wは幅方向を表す。本実施形態の位相差フィルムの製造方法は、
第1基材層、第1位相差層(第1液晶層)、及び接着層をこの順に含む接着層付き積層体を準備する工程と、
第2基材層及び第2位相差層(第2液晶層)を含む積層体を準備する工程と、
接着層付き積層体の接着層側の表面、及び、積層体の第2位相差層側の表面を表面活性化処理する工程と、
表面活性化処理する工程後の接着層付き積層体10aの接着層13aと、表面活性化処理する工程後の積層体20aの第2位相差層22aとを貼合して位相差層積層体40a(液晶層積層体、液晶フィルム)を得る工程と、を有し(図1〜3)、
位相差層積層体40aの幅方向断面における幅方向両端を含む第3端領域において、第1位相差層12a及び第2位相差層22aは、接着層13aの両端の位置よりも幅方向外側の領域に両端領域を有し、
表面活性化処理する工程において、
[a1]第1位相差層12aの両端領域における接着層13a側の表面の水接触角が、75°以上となるように表面活性化処理を行い、かつ、
[b1]第2位相差層22aの両端領域における接着層13a側の表面の水接触角、75°以上となるように表面活性化処理を行う。
[a2]第1位相差層12aの両端領域における接着層13a側の表面に対する表面活性化処理の処理量が、第1位相差層12aの両端領域の表面以外の他の表面に対する表面活性化処理の処理量よりも小さくなるように表面活性化処理を行い、かつ、
[b2]第2位相差層22aの両端領域の表面に対する表面活性化処理の処理量が、第2位相差層22aの両端領域の表面以外の他の表面に対する表面活性化処理の処理量よりも小さくなるように表面活性化処理を行うことが好ましい。
上記では、第3端領域が、位相差層積層体40aの幅方向の両端領域を含む場合について説明したが、第3端領域は、位相差層積層体40aの幅方向の一方の端領域であってもよい。これにより、後述する光学積層体を製造する際に、一方の端領域において、光学積層体の端部が破断することを抑制することができ、また、製造中の製品や搬送路の汚染を抑制することができる。
上記では、表面活性化処理する工程において、接着層付き積層体10aの接着層13側の表面、及び、積層体20aの第2位相差層22a側の表面に対して表面活性化処理を行う場合について説明したが、これに限定されない。例えば、表面活性化処理する工程は、接着層付き積層体10aの接着層13a側の表面、及び、積層体20aの第2位相差層22a側の表面のうちの一方の表面を表面活性化処理してもよい。この場合、表面活性化処理が施された表面における、位相差層積層体40aの第3端領域に存在する両端領域(第1位相差層表面12asの水接触角、又は、第2位相差層表面22as)の水接触角が75°以上となるように、表面活性化処理を行えばよい。
上記では、第1剥離層を剥離する工程において、第2基材層21aを剥離する場合を例に挙げて説明したが、第1剥離層として、第1基材層11aを剥離してもよい。
図5(a)〜(c)は、本実施形態の光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Wは幅方向を表す。本実施形態の光学積層体の製造方法は、
位相差フィルム50a(液晶フィルム)を準備する工程と(図5(a))、
光学フィルム60aを準備する工程と(図5(a))、
光学フィルム60aを、光学フィルム用接着層62aを介して、第2基材層21a(第1剥離層)を剥離して露出した層に積層する工程と、を有する(図5(b))。
第1基材層及び第2基材層は、これらの基材層上に形成される後述する第1配向層及び第2配向層、並びに、第1液晶層及び第2液晶層を支持する支持層としての機能を有する。第1基材層及び第2基材層は、樹脂材料で形成されたフィルムであることが好ましい。
接着層付き積層体は、第1基材層と第1液晶層との間に第1配向層を含んでいてもよい。また、積層体は、第2基材層と第2液晶層との間に第2配向層を含んでいてもよい。
第1液晶層及び第2液晶層は、公知の液晶化合物を用いて形成することができる。液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。また、液晶化合物は、高分子液晶化合物であってもよく、重合性液晶化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。例えば、重合性液晶化合物を用いる場合には、重合性液晶化合物を含む組成物を、配向層(第1配向層又は第2配向層)上に塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることによって、液晶硬化層である第1液晶層や第2液晶層を形成することができる。あるいは、基材層(第1基材層又は第2基材層)上に液晶化合物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材層とともに延伸することによって、液晶層(第1液晶層又は第2液晶層)を形成してもよい。
液晶フィルムは、第1液晶層及び第2液晶層を含むものであり、例えば、第1液晶層及び第2液晶層が、それぞれ第1位相差層及び第2位相差層である場合には、位相差フィルムとなり得る。
光学フィルムとしては、偏光フィルム、反射フィルム、半透過型反射フィルム、輝度向上フィルム、光学補償フィルム、防眩機能付きフィルム等を挙げることができる。また、上記した位相差フィルム(液晶フィルム)と同様の構造を有するものであってもよい。光学フィルムは1層構造であってもよく、2層以上の多層構造の積層光学フィルムであってもよい。
接着層は、接着剤、粘着剤及びこれらの組み合わせによって形成することができ、通常1層であるが、2層以上であってもよい。接着層が2層以上の層からなる場合、各層は互いに同じ材料で形成されていてもよく、異なる材料で形成されていてもよい。
光学フィルム用接着層は、接着剤、粘着剤及びこれらの組み合わせによって形成することができる。光学フィルム用接着層は、通常1層であるが、2層以上の層で形成されていてもよい。光学フィルム用接着層が2層以上の層からなる場合、各層は互いに同じ材料で形成されていてもよく、異なる材料で形成されていてもよい。
光学積層体用接着層は、接着剤、粘着剤及びこれらの組み合わせによって形成することができる。光学積層体用接着層は、通常1層であるが、2層以上の層で形成されていてもよい。光学積層体用接着層が2層以上の層からなる場合、各層は互いに同じ材料で形成されていてもよく、異なる材料で形成されていてもよい。
実施例及び比較例で用いた接着層付き積層体に含まれる第1基材層と第1位相差層(第1液晶層)とを積層した測定用積層体(幅方向の長さ:約1350mm)を得た。この測定用積層体の第1位相差層側の表面に対して、測定用積層体の全幅にわたって、実施例及び比較例それぞれの条件でコロナ処理を行った。コロナ処理後の測定用積層体の第1位相差層が上面となるように、接触角計(協和界面科学株式会社製、画像処理式接触角計「FACE CA−X型」)に水平にセットし、測定位置に1μLの純水を滴下し、θ/2法により対水接触角を測定した。測定位置は、測定用積層体の幅方向の一方の端部側から、約200mmの位置(位置A)、約670mmの位置(位置B)、約1140mmの位置(位置C)とした。
図1に示す構造を有する接着層付き積層体と、図2に示す構造を有する積層体とを準備した。ここで、接着層付き積層体は、特開2015−187717号公報の実施例1に記載された手順で作製された位相差板(F2)の第2光学異方性層(第1液晶層)上に接着層を設けたものであり、第2光学異方性層には接着層が積層されていない領域が形成されている。また、積層体は、上記公報の実施例3に記載された手順で作製された位相差板(F4)を用いた。続いて、接着層付き積層体の接着層側の表面全体、及び、積層体の第2位相差層(第1光学異方性層)側の表面全体に対して、コロナ出力600W、コロナ電極と第1位相差層及び第2位相差層との間の距離を1.5mmに設定して、ライン速度15m/minでコロナ処理を行った。上記〔水接触角の測定〕の測定結果から、接着層付き積層体の幅方向断面において、第1位相差層の、接着層の幅方向両端の位置よりも幅方向外側にある領域における接着層側の表面の水接触角は、90.4°〜91.0°の範囲にあると考えられる。
コロナ処理の条件を、コロナ出力1100W、コロナ電極と位相差層との間の距離を1mmに設定してコロナ処理を行ったこと以外は、実施例1と同様にして位相差フィルムを得た。上記〔水接触角の測定〕の測定結果から、接着層付き積層体の幅方向断面において、第1位相差層の、接着層の幅方向両端の位置よりも幅方向外側にある領域における接着層側の表面の水接触角は、72.1°〜74.4°の範囲にあると考えられる。得られた位相差フィルムについて、実施例1と同様に、第1位相差層の欠落の有無を確認したところ、第1位相差層の欠落の発生が見られた。
Claims (21)
- 第1基材層、第1液晶層、及び接着層をこの順に含む接着層付き積層体であって、
前記接着層付き積層体の幅方向断面において、前記第1液晶層の幅方向の少なくとも一方の端部側に、前記接着層の幅方向の端部の位置よりも幅方向外側にある領域である第1端領域を有し、
前記第1端領域における前記接着層側の表面の水接触角は、75°以上である、接着層付き積層体。 - 前記接着層付き積層体は、前記接着層と、第2基材層及び第2液晶層を含む積層体の前記第2液晶層とを貼合してなる液晶層積層体を製造するためのものであり、
前記液晶層積層体の幅方向断面における前記第1端領域側において、前記第2液晶層は、前記接着層の前記端部の位置よりも幅方向外側に端領域を有する、請求項1に記載の接着層付き積層体。 - 前記第1液晶層は、位相差層である、請求項1又は2に記載の接着層付き積層体。
- 前記第1基材層と前記第1液晶層との間に第1配向層を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の接着層付き積層体。
- 第2基材層及び第2液晶層を含む積層体であって、
前記積層体の幅方向断面において、前記第2液晶層の幅方向の少なくとも一方の端部側に第2端領域を有し、
前記第2端領域における前記第2基材層とは反対側の表面の接触角は、75°以上である、積層体。 - 前記積層体は、前記第2液晶層と、第1基材層、第1液晶層、及び接着層をこの順に含む接着層付き積層体の前記接着層とを貼合してなる液晶層積層体を製造するためのものであり、
前記液晶層積層体の幅方向断面における前記第2端領域側において、
前記第2端領域は、前記接着層の端部の位置よりも幅方向外側にあり、
前記第1液晶層は、前記接着層の端部の位置よりも幅方向外側の領域に端領域を有する、請求項5に記載の積層体。 - 前記第2液晶層は、位相差層である、請求項5又は6に記載の積層体。
- 前記第2基材層と前記第2液晶層との間に第2配向層を含む、請求項5〜7のいずれか1項に記載の積層体。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の接着層付き積層体の前記接着層と、請求項5〜8のいずれか1項に記載の積層体の前記第2液晶層とを貼合してなる液晶層積層体であって、
前記液晶層積層体の幅方向断面における前記第1端領域側において、前記第2端領域は、前記接着層の端部の位置よりも幅方向外側にある、液晶層積層体。 - 第1基材層、第1液晶層、及び接着層をこの順に含む接着層付き積層体を準備する工程と、
第2基材層及び第2液晶層を含む積層体を準備する工程と、
前記接着層付き積層体の前記接着層側の表面、及び、前記積層体の前記第2液晶層側の表面のうちの少なくとも一方を表面活性化処理する工程と、
前記接着層付き積層体の前記接着層と、前記積層体の前記第2液晶層とを貼合して液晶層積層体を得る工程と、を有し、
前記液晶層積層体の幅方向断面における幅方向の少なくとも一方の端部を含む第3端領域において、前記第1液晶層及び前記第2液晶層は、前記接着層の端部の位置よりも幅方向外側の領域に端領域を有し、
前記表面活性化処理する工程において、
[a1]前記接着層付き積層体の前記接着層側の表面が表面活性化処理されている場合、前記第1液晶層の前記端領域における前記接着層側の表面の水接触角は、75°以上であり、
[b1]前記積層体の前記第2液晶層側の表面が表面活性化処理されている場合、前記第2液晶層の前記端領域における前記接着層側の表面の水接触角は、75°以上である、液晶フィルムの製造方法。 - 前記表面活性化処理する工程において、
[a2]前記接着層付き積層体の前記接着層側の表面を表面活性化処理する場合、前記第1液晶層の前記端領域における前記接着層側の表面に対する表面活性化処理の処理量が、前記第1液晶層の前記端領域の表面以外の他の表面に対する表面活性化処理の処理量よりも小さくなるように表面活性化処理を行い、
[b2]前記積層体の前記第2液晶層側の表面を表面活性化処理する場合、前記第2液晶層の前記端領域の表面に対する表面活性化処理の処理量が、前記第2液晶層の前記端領域の表面以外の他の表面に対する表面活性化処理の処理量よりも小さくなるように表面活性化処理を行う、請求項10に記載の液晶フィルムの製造方法。 - 前記表面活性化処理する工程は、前記接着層付き積層体の前記接着層側の表面、及び、前記積層体の前記第2液晶層側の表面を表面活性化処理する、請求項10又は11に記載の液晶フィルムの製造方法。
- 前記表面活性化処理は、コロナ処理である、請求項10〜12のいずれか1項に記載の液晶フィルムの製造方法。
- 前記第1液晶層は、位相差層である、請求項10〜13のいずれか1項に記載の液晶フィルムの製造方法。
- 前記第2液晶層は、位相差層である、請求項10〜14のいずれか1項に記載の液晶フィルムの製造方法。
- 前記第1基材層と前記第1液晶層との間に第1配向層を含む、請求項10〜15のいずれか1項に記載の液晶フィルムの製造方法。
- 前記第2基材層と前記第2液晶層との間に第2配向層を含む、請求項10〜16のいずれか1項に記載の液晶フィルムの製造方法。
- さらに、前記液晶層積層体における、前記第1基材層及び前記第2基材層のうちの一方を含む第1剥離層を剥離する工程を含む、請求項10〜17のいずれか1項に記載の液晶フィルムの製造方法。
- 請求項18に記載の液晶フィルムの製造方法で製造された液晶フィルムを準備する工程と、
光学フィルムを準備する工程と、
前記光学フィルムを、光学フィルム用接着層を介して、前記第1剥離層を剥離して露出した層に積層する工程と、を有する、光学積層体の製造方法。 - さらに、前記第1基材層及び前記第2基材層のうちの前記第1剥離層に含まれていない層を含む第2剥離層を剥離する工程を有する、請求項19に記載の光学積層体の製造方法。
- 前記第2剥離層を剥離することによって露出した層上に、光学積層体用接着層を積層する、請求項20に記載の光学積層体の製造方法。
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