JP2012220952A - 複合位相差板、これを含む複合偏光板及びこれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、フィルム上にコーティングを形成する方法などによって簡単に製造することができる複合位相差板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、複合位相差板、これを含む複合偏光板及びこれらの製造方法に関するものであって、高分子基材フィルム上に形成された液晶コーティング層の一面にコロナまたはプラズマ処理を施して接合力を向上させた後、その上に直に表面処理コーティング層を形成させることにより、ガラス基材などを使用せずに簡単な工程により製造することができるのみならず、機能性層の付加のための別途の基材及び接着剤層が不要であり、薄型ディスプレイ用のリターダとしての使用に適した複合位相差板、これを含む複合偏光板、及びこれらの製造方法に関するものである。
【選択図】図1
【解決手段】本発明は、複合位相差板、これを含む複合偏光板及びこれらの製造方法に関するものであって、高分子基材フィルム上に形成された液晶コーティング層の一面にコロナまたはプラズマ処理を施して接合力を向上させた後、その上に直に表面処理コーティング層を形成させることにより、ガラス基材などを使用せずに簡単な工程により製造することができるのみならず、機能性層の付加のための別途の基材及び接着剤層が不要であり、薄型ディスプレイ用のリターダとしての使用に適した複合位相差板、これを含む複合偏光板、及びこれらの製造方法に関するものである。
【選択図】図1
Description
本発明は、工程上、製造及び取り扱いが容易であり、ディスプレイの薄型化に寄与することができる複合位相差板、これを含む複合偏光板及びこれらの製造方法に関するものである。
立体映像を具現するための液晶表示装置などのディスプレイには、パターン化されたリターダが含まれる場合が多い。パターン化されたリターダは、各パターン領域の光軸を互いに異なる方向に構成して偏光眼鏡をかけた視聴者の左右眼に伝達する映像を異ならせることにより立体映像を具現する。
パターン化されたリターダはガラス基板上に配向膜を形成し、この配向膜上に液晶をコーティング及び配向させて構成することができる。光反応性液晶物質は、配向膜上で配向された後、紫外線などの光の照射によって架橋化され高分子液晶フィルムの形態となる。このとき、配向膜の表面配向に準ずる液晶の配向方向によりリターダパターンの機能をするようになる。
しかし、このようにガラス基板を基材として使用する場合には、ロール・トゥ・ロール(Roll to Roll)工程で位相差板を偏光板に接合することができない。また、ガラス基板はフィルムに比べて値段が高く、工程上の取り扱いが容易ではないのみならず、ガラスの高い反射率による視感低下を抑制するために必ず反射防止コーティングを施さなければならないといった問題がある。
また、パターン化されたリターダの上部に光の低反射若しくは表面強度の改善などのために表面処理層を積層する場合、このような表面処理層を基材フィルム上に形成し、その基材フィルムを接着剤または粘着剤で前記液晶コーティング層に接合するため、偏光板の厚みを薄くすることは困難である。
偏光板の薄型化のために、前記液晶コーティング層が形成された基材の他面に表面処理層を形成する方法が提案されたことがあるが、このような場合、偏光子、液晶コーティング層、基材、及び表面処理層の順に積層されるようになり、水系接着剤で偏光子と接合することができない液晶コーティング層が偏光子と隣接してしまうといった問題がある。
本発明は、フィルム上にコーティングを形成する方法などによって簡単に製造することができる複合位相差板及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、薄型ディスプレイの使用に適した複合位相差板及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、前記複合位相差板を含む複合偏光板及びその製造方法を提供することを目的とする。
1.基材と、前記基材の上面に形成された液晶コーティング層と、 前記液晶コーティング層の上面に形成された表面処理コーティング層とを含み、前記液晶コーティング層の上面にコロナまたはプラズマ放電処理された複合位相差板。
2.前記液晶コーティング層は位相差遅延層である、上記項目1に記載の複合位相差板。
3.前記位相差遅延層は、配向膜上に反応性液晶物質がコーティングされて形成されたλ/4位相差層である、上記項目2に記載の複合位相差板。
4.前記表面処理コーティング層は、保護層、防眩層、反射防止層、帯電防止層、及びハードコート層からなる群より選択される一種以上の機能性層である、上記項目1に記載の複合位相差板。
5.前記液晶コーティング層の上面の水接触角は30〜83゜である、上記項目1に記載の複合位相差板。
6.前記液晶コーティング層の上面の水接触角は30〜60゜である、上記項目1に記載の複合位相差板。
7.前記液晶コーティング層の正面位相差値及び厚み方向の位相差値は、前記コロナまたはプラズマ放電処理の前後にそれぞれ3.5nm以下の差が発生する、上記項目1に記載の複合位相差板。
8.前記液晶コーティング層の正面位相差値及び厚み方向の位相差値は、前記コロナまたはプラズマ放電処理の前後にそれぞれ2.5〜3.5nmの差が発生する、上記項目1に記載の複合位相差板。
9.前記コロナ処理は200〜300J/m2で施される、上記項目1に記載の複合位相差板。
10.前記基材は高分子フィルムまたはガラス基板である、上記項目1に記載の複合位相差板。
11.偏光子の上面には上記項目1〜10のいずれか一項に記載の複合位相差板が接合され、前記偏光子の下面には偏光子保護フィルムが接合される、複合偏光板。
12.前記偏光子保護フィルムの下面には粘着剤層が形成される、上記項目11に記載の複合偏光板。
13.基材上に配向膜を形成した後、前記配向膜上に液晶コーティング層を形成する第1段階と、前記液晶コーティング層の上面にコロナまたはプラズマ処理を施す第2段階と、前記コロナまたはプラズマ処理された液晶コーティング層上に表面処理コーティング層を形成する第3段階とを含む、複合位相差板の製造方法。
14.前記基材は高分子フィルムまたはガラス基板である、上記項目13に記載の複合位相差板の製造方法。
15.前記コロナ処理は200〜300J/m2で施される、上記項目13に記載の複合位相差板の製造方法。
16.ロール・トゥ・ロール接合により上記項目1〜10のいずれか一項に記載の複合位相差板を偏光子の上面に接合させ、偏光子保護フィルムを前記偏光子の下面に接合させることを含む、複合偏光板の製造方法。
本発明は、機能発揮のために必要とする層のみをフィルムまたはコーティングの形態で含むことにより、ディスプレイの薄型化に有利な複合位相差板(位相差機能を有する表面処理コーティングフィルム)及びこれを含む複合偏光板を提供することができる。
本発明は、ガラス基材の代わりにフィルム形態の高分子基材を使用することにより、偏光子とロール・トゥ・ロールで接合することができる複合位相差板を提供することができる。
本発明の複合位相差板は、液晶コーティング層上に直に表面処理コーティング層を形成して製造することができるので、表面処理層(機能性層)の付加のための別途の基材及び接着剤層または粘着剤層が不要であり、薄型立体映像ディスプレイ用のリターダとしての使用に適している。
本発明は、高分子基材フィルム上に形成した液晶コーティング層の一面にコロナまたはプラズマ処理を施して接合力を向上させた後、その上に直に表面処理コーティング層を形成させることにより、ガラス基材などを使用せずに簡単な工程で製造することができるのみならず、機能性層の付加のための別途の基材及び接着剤層が不要であり、薄型ディスプレイ用のリターダとしての使用に適している。
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明の複合位相差板は、高分子基材フィルムと、その上に形成された液晶コーティング層と、その上に形成された表面処理コーティング層とを含む。
高分子基材フィルムとしては、通常光学用透明フィルムとして用いられるものであれば特に限定することなく使用することができるが、その中でも透明性、機械的強度、熱安定性、水遮蔽性、位相差均一性、等方性などに優れたフィルムを使用することが好ましい。
高分子基材フィルムの材料としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、スルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ビニルブチラル系樹脂、アリレート系樹脂、ポリオキシメチレン系樹脂、及びエポキシ系樹脂からなる群より選択されるものを使用することができる。
高分子基材フィルムの厚さもまた特定の範囲に限定されるものではないが、例えば、5〜100μmであるもの、好ましくは15〜60μmであるものが通常用いられる。高分子基材フィルムの厚さが5μm未満であればフィルムの機械的強度が劣り得、100μmを超過すれば薄型化に不利となり好ましくない。
本発明の液晶コーティング層は高分子基材フィルム上に形成される。
液晶コーティング層は、偏光子を通過する光の位相差を遅延させる役割を果たす。液晶コーティング層は、光の位相差を特定波長だけ遅延させる層に限定されるのではなく、3λ/4位相差層、λ/2位相差層、λ/4位相差層などであってもよいが、一般的に多く用いられている、配向膜上に反応性液晶物質がコーティングされて形成されたλ/4位相差層であることが好ましい。
λ/4位相差層の製造方法は、特に限定されない。例えば、高分子基材フィルム上に配向膜を形成させ、その上に液晶を光配向させる方法で製造することができる。但し、本発明において、λ/4位相差層はコーティング形態のものだけに限定され、斜め延伸されたλ/4位相差フィルムなどは含まれない。
配向膜は、当技術分野において一般的に用いられるものであれば特に制限されず、例えば、有機配向膜を使用することが好ましい。
有機配向膜は、アクリレート系、ポリイミド系またはポリアミック酸を含む配向膜組成物を使用して形成することができる。ポリアミック酸は、ジアミン(di-amine)と二無水物(dianhydride)とを反応させて得られるポリマーであり、ポリイミドは、ポリアミック酸をイミド化して得られるものであり、これらの構造は特に制限されない。
配向膜組成物は、適当な粘度を有することが重要である。粘度が高すぎると、圧力をかけても流動するのが容易ではなく、均一な厚さを有する配向膜の形成が困難であり、粘度が低すぎると、拡散性は良いが配向膜の厚みの調節が困難である。例えば、8〜13cPであることが好ましい。
また、表面張力、固形分の含有量、及び溶剤の揮発性などを考慮することが好ましい。特に、固形分の含有量は粘度及び表面張力に影響するので、配向膜の厚さ及び硬化特性などを同時に考慮して調節することが好ましい。
固形分の含有量が高すぎると、粘度が高くて配向膜の厚さが厚くなり、低すぎると、溶媒の割合が高くて溶液が乾燥した後にシミが生じてしまうといった問題点がある。例えば、固形分の含有量が0.1〜10重量%であることが好ましい。
配向膜組成物は、アクリレート系、ポリイミド系またはポリアミック酸などの固形分が溶媒に溶解された溶液状であることが好ましい。溶媒は、固形分を溶解させることができることに特に限定されず、具体的には、ブチルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどを使用することができる。このような溶媒は、溶解度、粘度、表面張力などを考慮して均一な配向膜が形成されるように適切に混合して使用する。
その他には、配向膜組成物は、効果的な配向膜形成のために架橋剤及びカップリング剤などをさらに添加して混合してもよい。
配向膜は、高分子基材フィルムの一面に配向膜組成物を塗布して製造される。
塗布は、当技術分野において一般的に使用されている方法であれば、特に制限されない。例えば、配向膜組成物を流動鋳造法及びエアナイフ法(air knife)、グラビア法(gravure)、リバースロール法(reverse roll)、キスロール法(kiss roll)、スプレー法(spray)またはブレード法(blade)などの塗布方法を利用し、適切な展開方式で直接塗布することができる。
配向膜組成物の塗布効率を向上させるために、追加的に乾燥工程を実施することができる。
乾燥は、特に限定されず、通常、熱風乾燥機及び遠赤外線加熱機を用いて行うことができ、乾燥温度は、通常30〜100℃であり、好ましくは50〜80℃であり、乾燥時間は、通常30〜600秒であり、好ましくは120〜600秒である。
その後、形成された配向膜に配向性を付与する。配向性の付与方法にはラビング方式、光配向方式などがあるが、特にこれらに限定されるものではない。
例えば、形成された配向膜の全体に配向性を付与することもでき、一部あるいは全面に配向膜を塗布した後、フォトマスクを利用した露光工程により互いに異なる配向方向を有するようにパターン化された配向膜を製造することができる。また、形成された配向膜に、投光部及び遮光部を有する第1のフォトマスクを整列させて第1次露光工程を実施した後、第1のフォトマスクの投光部及び遮光部の位置が逆転した第2のフォトマスクを整列させて第2次露光工程を実施して互いに異なる光軸を有するようにパターン化された配向膜を製造することができる。
露光に使用される光は、特に限定されず、例えば、偏光された紫外線の照射、所定の角度でイオンビームまたはプラズマビームの照射、及び放射線の照射などを使用することができる。例えば、偏光された紫外線を照射することが好ましい。
配向された配向膜上に液晶コーティング層を形成する。
液晶コーティング層は、液晶コーティング用組成物をパターン化された配向膜上に塗布して形成する。液晶コーティング用組成物は光学異方性を有し、光による架橋性を有する液晶化合物を含んで使用することができる。例えば、反応性液晶単量体(RM)を使用することが好ましい。
反応性液晶単量体とは、液晶性を発現することができるメソゲン(mesogen)と重合可能な末端基を含んで液晶状態を有するようになる単量体分子をいう。反応性液晶単量体を重合すると、液晶の配列された状態を保持しつつ架橋された高分子ネットワークを得られるようになる。反応性液晶単量体分子は、透明点(clearing point)から冷却するようになると、同一構造の液晶高分子を使用する場合より液晶状態において相対的に低い粘度でさらによく配向された構造を有する大面積のドメインを得ることができる。
このように形成された大面積の液晶状架橋ネットワークフィルムは、液晶が有する光学異方性及び誘電率などの特性をそのまま保持しつつも固体状の薄膜形態を有しているため、機械的及び熱的に安定する。
液晶コーティング用組成物は、コーティング工程の効率性及びコーティング層の均一性を確保するために溶媒に希釈させて使用するが、液晶化合物を溶解させることができる溶媒に溶解して均一さを有することが好ましい。
例えば、反応性液晶単量体は、これを溶解させることができる溶媒、具体的には、プロピルレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、メチルエチルケトン(MEK)、ザイレン、及びクロロホルムからなる群より選択される1種の溶媒または2種以上の混合溶媒を用いて、液晶コーティング用組成物を調製する。
このとき、液晶コーティング用組成物中の反応性液晶単量体の含有量は、15〜30重量%であるように調整する。濃度が15重量%未満であると位相差の具現が不可能となり、30重量%を超過すれば反応性液晶単量体が析出し、均一な液晶コーティング層の形成が困難となるといった問題がある。
コーティング方法は、特に限定されず、例えば、ピンコーティング、ロールコーティング、ディスフェンシングコーティング、またはグラビアコーティングなどが挙げられる。コーティング方法に応じて、溶媒の種類及び使用量を適宜選択することが好ましい。
液晶コーティング層は、乾燥後の厚さが0.01〜10μmになるように塗布する。このような厚さの範囲において、均一なリターダパターンを容易に形成することができる。
溶媒は乾燥工程を通じて蒸発させるようにする。
乾燥は、特に限定されず、通常、熱風乾燥機及び遠赤外線加熱機を用いて行うことができ、乾燥温度は、通常30〜100℃であり、好ましくは50〜80℃であり、乾燥時間は、通常30〜600秒であり、好ましくは120〜600秒である。また、乾燥は、同一温度条件で行うか、或いは段階的に温度を上昇させながら行うことができる。
配向膜上に形成された液晶コーティング層を光架橋させてパターン化されたリターダを形成する。ここで光は、特に限定されず、例えば、紫外線などを使用することができる。
本発明の表面処理コーティング層は液晶コーティング層上に形成される。
表面処理コーティング層は、ディスプレイに各種機能を付与することができる複数の機能性層を含む。例えば、保護層、防眩層、反射防止層、帯電防止層、及びハードコート層からなる群より選択される機能性層であってよい。
具体的には、保護層は、偏光板及びパターン化された位相差層の表面クラックまたは損傷を防止するための層である。
防眩層は、サンドブラスト加工、エンボス加工などによる粗面化、または透明微粒子を配合した塗工液の塗布により表面に微細な凹凸を形成させた層である。
反射防止層は、偏光板の表面に外光が反射して透過光の視認を阻害することを防止するためのものであって、蒸着法またはスパッタリング法により形成された金属酸化物の薄膜で構成された層である。
帯電防止層は、静電気によるホコリ付着などを防止するためのものであって、帯電防止剤を含む紫外線硬化型樹脂により形成された層である。
また、ハードコート層は、偏光板の表面にクラックまたは損傷が生じることを防止するためのものであって、アクリル系またはシリコン系などの紫外線硬化型樹脂を用いて形成され、硬度及びスリップ性に優れた硬化皮膜の役割を果たす層である。
前記のような表面処理コーティング層はコロナまたはプラズマ処理された液晶コーティング層上に形成される。液晶コーティング層の表面にコロナまたはプラズマ処理を施さなければコーティング性が劣り得る。
コロナ放電処理は、高電圧発生器に連結された電極と誘電体のロールとの間に高い電圧を印加し、ロールと電極との間で発生したコロナ放電に液晶コーティング層を配置するか、或いはその放電に曝すことを含む。通常、ロールと電極との間に印加された高い電圧の周波数を放電周波数というが、放電周波数は一般的に50Hz〜5,000kHzの範囲、好ましくは5〜数百kHzの範囲であり得る。放電周波数が低すぎると、放電が不安定となり液晶コーティング層の表面に多数のピンホールが生じ得る可能性があり、高すぎると、インピーダンスマッチング用の装置がさらに必要となるので処理コストが高くなる。
コロナ放電処理は大気下で容易に実施されるが、空気以外の気体が充填されるか、或いは空気−汚染気体が充填された封止または半封止処理装置で実施され得る。気体の例としては、窒素気体、アルゴン気体、及び酸素気体が含まれる。
本発明において、λ/4位相差層が配向膜上に液晶コーティングを形成させる方法により得られた場合、その表面の濡れ性ないしコーティング性を正常に改善させるためには、例えば、50〜500J/m2の量、好ましくは200〜300J/m2の量でコロナ放電処理を施したほうが良い。コロナ放電処理の量が前記範囲に含まれなければ、コーティング性が充分に向上しないか、或いは液晶コーティング層の正面位相差値Reまたは厚み方向位相差値Rthに影響を及ぼし、故に意図する位相差遅延の効果を期待し難い。
ロールと電極との間隔は、好ましくは0.5〜2.5mmであり、より好ましくは1.0〜2.0mmである。
本発明において使用されるプラズマ処理は、真空グロー放電、大気圧グロー放電などを含む。例えば、特開平6−123062号公報、特開平11−293011号公報、特開平11−5857号公報などに記載されている方法を使用することができる。
グロー放電によるプラズマ発生装置中では、相対する電極間にこれらの親水性を付与しようとするフィルムを配置し、この装置中にプラズマ励起性気体を導入して電極間に高周波電圧を印加することで、前記気体をプラズマ励起させ電極間にグロー放電を行わせることで表面処理を施すことができる。
プラズマ励起性気体とは、上記条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素などが挙げられる。例えば、アルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、カルボキシル基及び水酸基、カルボニル基などの極性官能基をプラスチックフィルムの表面に付与することができる反応性ガスを添加したものが励起性気体として用いられる。反応性ガスとしては、水素、酸素、窒素の他に、水蒸気及びアンモニアなどのガスの他、低級炭化水素、ケトンなどの低沸点有機化合物なども必要に応じて用いることができるが、取り扱い上、水素、酸素、二酸化炭素、窒素、水蒸気などのガスが好ましい。水蒸気を使用する場合、他のガスを水と混合してバブリングしたガスを使用することができる。または、水蒸気を混合することもできる。
印加する高周波電圧の周波数としては、1kHz以上l00kHz以下が好ましく、より好ましくは1kHz以上l0kHz以下である。
これらグロー放電によるプラズマ処理には、真空下で行う方法及び大気圧下で行う方法がある。
グロー放電による真空プラズマ放電処理においては、有効に放電を起こすために、その雰囲気を0.005〜20torr、好ましくは0.02〜2torrに維持するように前記反応性ガスを導入する必要がある。処理速度を高めるためには、できるだけ高圧側で高出力条件を採用することが好ましいが、電界強度を高くしすぎると基材に損傷を与え得る。
圧力は低すぎると、表面処理による効果を提供することができない。一方、高すぎると、過度な電流が流れてスパークが発生するか、或いはコーティング層が破壊され得る。放電を起こすために、電圧は真空タンク内の一対(またはそれ以上)の金属板または棒の間に印加される。
電圧は、気体及びこの圧力により左右されるが、前記圧力の範囲内において安定した正常グロー放電を起こすためには、一般的に500〜5,000Vである。接着を改善するためには、好ましくは2,000〜4,000Vである。
液晶コーティング層、特にλ/4位相差層は、好ましくは0.01〜5kV・A・分/m2、より好ましくは0.15〜1kV・A・分/m2の量でグロー放電処理し、所望の接着強度を得ることができる。
液晶コーティング層は、コロナまたはプラズマ処理によりその正面及び厚み方向の位相差値が、コロナまたはプラズマ処理前の正面及び厚み方向の位相差値でそれぞれ3.5nm以下に変化することが、その意図した光学特性の発現において好ましい。さらに、表面処理コーティング層の接着性まで考慮すれば、コロナまたはプラズマ処理後の正面及び厚み方向の位相差値がコロナまたはプラズマ処理前の正面及び厚み方向の位相差値とそれぞれ2.5〜3.5nmの差があるようにすることが好ましい。
液晶コーティング層は、コロナまたはプラズマ処理後、表面処理コーティング層と接する面の水接触角が30〜83゜、好ましくは30〜60゜であるものがコーティング性に優れ、液晶コーティング層の光学異方性を表すのに有利である。
本発明の表面処理コーティング層を液晶コーティング層上に形成させる方法は、特定のものに限定されない。例えば、ピンコーティング、ロールコーティング、ディスフェンシングコーティング、またはグラビアコーティングなどを用いることができ、コーティング方法に応じて、溶媒の種類及び使用量を適宜選択することが好ましい。
上記のように構成及び製造された複合位相差板は、偏光子のいずれか一面に接合される。接合は、ディスプレイ分野においてフィルムの接合に通常用いられる接着剤または粘着剤を使用することができる。
偏光子は、当技術分野において一般的に用いられるもので偏光機能を遂行することができるものであれば、特に限定されない。例えば、ポリビニルアルコールフィルムにヨード及び異色性染料を染色させ、これを一定の方向に延伸して製造される偏光子を使用することができる。
偏光子の複合位相差板が接合されていない他面には、偏光子保護フィルムが接合される。偏光子保護フィルムは、トリアセチルセルロース系フィルム、シクロオレフィン系フィルムなどが通常用いられる。
一方、偏光板及びパターン化された位相差層が含まれるディスプレイ装置に、本発明の複合位相差板及び複合偏光板を備えることができる。
ディスプレイ装置は、特に限定されず、具体的には、立体画像具現用または半透過型液晶ディスプレイ装置、プラズマディスプレイ装置、有機ELディスプレイ装置などが用いられる。
このとき、本発明に係る複合偏光板は、従来の偏光板及びパターン化された位相差層が積層された位置に用いることができる。
本発明は、下記の実施例を通してより詳しく理解できるが、下記実施例は単に本発明の例示のためのものであって、添付された特許請求の範囲により権利範囲を限定しようとするのではない。
実施例1−6及び比較例1−3
[実施例1]
基材フィルムであるトリアセチルセルロース(TAC)フィルム上に液晶によるλ/4位相差層が積層された積層体(日本富士社製)のλ/4位相差層に、電力1.4KW、3.8m/分のフィルム速度で連続して2回(74.27J/m2)コロナ処理を施した。
[実施例1]
基材フィルムであるトリアセチルセルロース(TAC)フィルム上に液晶によるλ/4位相差層が積層された積層体(日本富士社製)のλ/4位相差層に、電力1.4KW、3.8m/分のフィルム速度で連続して2回(74.27J/m2)コロナ処理を施した。
その後、前記コロナ処理を施した面に、メイヤーバーを用いてハードコート用コーティング液を均一に塗布した後、80℃のオーブンで90秒間熱風乾燥し、紫外線硬化器で光硬化させ、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、λ/4位相差層、及びハードコート層が記載順に積層された複合位相差板を作製した。
[実施例2]
コロナ処理条件を、電力1.4KW、3.8m/分のフィルム速度で4回(148.54J/m2)に変更した点を除き、実施例1と同一の方法で複合位相差板を作製した。
コロナ処理条件を、電力1.4KW、3.8m/分のフィルム速度で4回(148.54J/m2)に変更した点を除き、実施例1と同一の方法で複合位相差板を作製した。
[実施例3]
コロナ処理条件を、電力1.4KW、3.8m/分のフィルム速度で8回(297.09J/m2)に変更した点を除き、実施例1と同一の方法で複合位相差板を作製した。
コロナ処理条件を、電力1.4KW、3.8m/分のフィルム速度で8回(297.09J/m2)に変更した点を除き、実施例1と同一の方法で複合位相差板を作製した。
[実施例4]
λ/4位相差層にコロナ処理を施す代わりに、電力1.3kW、6m/分のフィルム速度でプラズマ処理を施した点を除き、実施例1と同一の方法で複合位相差板を作製した。
λ/4位相差層にコロナ処理を施す代わりに、電力1.3kW、6m/分のフィルム速度でプラズマ処理を施した点を除き、実施例1と同一の方法で複合位相差板を作製した。
[実施例5]
プラズマ処理条件を、電力2.3kW、フィルム速度を6m/分に変更した点を除き、実施例4と同一の方法で複合位相差板を作製した。
プラズマ処理条件を、電力2.3kW、フィルム速度を6m/分に変更した点を除き、実施例4と同一の方法で複合位相差板を作製した。
[実施例6]
プラズマ処理条件を、電力3.3kW、フィルム速度を6m/分に変更した点を除き、実施例4と同一の方法で複合位相差板を作製した。
プラズマ処理条件を、電力3.3kW、フィルム速度を6m/分に変更した点を除き、実施例4と同一の方法で複合位相差板を作製した。
[比較例1]
実施例1の積層体(日本富士社製)のλ/4位相差層に特別な処理を施さなかった点を除き、実施例1と同一の方法で複合位相差板を作製した。
実施例1の積層体(日本富士社製)のλ/4位相差層に特別な処理を施さなかった点を除き、実施例1と同一の方法で複合位相差板を作製した。
[比較例2]
実施例1の積層体を、45℃の4.5NKOH水溶液に80秒間浸漬、蒸溜水で洗浄、かつ80℃のオーブンで2分間熱風乾燥させ、前記λ/4位相差層の表面を鹸化処理を施した点を除き、実施例1と同一の方法で複合位相差板を作製した。
実施例1の積層体を、45℃の4.5NKOH水溶液に80秒間浸漬、蒸溜水で洗浄、かつ80℃のオーブンで2分間熱風乾燥させ、前記λ/4位相差層の表面を鹸化処理を施した点を除き、実施例1と同一の方法で複合位相差板を作製した。
[比較例3]
鹸化処理条件を、45℃の4.5NKOH水溶液に200秒間浸漬させた点を除き、比較例2と同一の方法で複合位相差板を作製した。
鹸化処理条件を、45℃の4.5NKOH水溶液に200秒間浸漬させた点を除き、比較例2と同一の方法で複合位相差板を作製した。
実験例
実施例1〜6及び比較例1〜3の複合位相差板の物性を下記のような方法で測定した。結果を表1に示す。
実施例1〜6及び比較例1〜3の複合位相差板の物性を下記のような方法で測定した。結果を表1に示す。
(1)接触角
分析機器(DSA100、KRUSS社製、ドイツ)を利用して、実施例1〜6及び比較例2〜3の場合には、コロナ処理、鹸化処理またはプラズマ処理を施した後のλ/4位相差層の接触角を測定し、比較例1の場合には、特別な処理を施さなかった状態のλ/4位相差層の接触角を測定した。試験液としては水を使用した。
分析機器(DSA100、KRUSS社製、ドイツ)を利用して、実施例1〜6及び比較例2〜3の場合には、コロナ処理、鹸化処理またはプラズマ処理を施した後のλ/4位相差層の接触角を測定し、比較例1の場合には、特別な処理を施さなかった状態のλ/4位相差層の接触角を測定した。試験液としては水を使用した。
(2)光学異方性の測定
エキソスキャンメーターを利用して、590nmにおけるλ/4位相差層の正面位相差値R0及び厚み方向位相差値Rthを測定した。
エキソスキャンメーターを利用して、590nmにおけるλ/4位相差層の正面位相差値R0及び厚み方向位相差値Rthを測定した。
(3)コーティング性
液晶層上に形成されたハードコート層の表面の外観、ムラなどを観察して、表面の均一程度を評価した。その均一程度から優秀◎、良好○、及び不良Xの3段階で評価した。
液晶層上に形成されたハードコート層の表面の外観、ムラなどを観察して、表面の均一程度を評価した。その均一程度から優秀◎、良好○、及び不良Xの3段階で評価した。
上記表のように、本発明の複合位相差板は、コロナ処理またはプラズマ処理を施していない比較例の位相差板と比較してハードコート層のコーティング性が顕著に優れている。
また、本発明の複合位相差板は、いずれの場合においてもコロナまたはプラズマ処理前の正面及び厚み方向の位相差値、並びに処理後の正面及び厚み方向の位相差値の差が3.5nm以下であるため、光学異方性の側面においても問題がないことが確認された。特に、実施例3及び6において、コロナまたはプラズマ処理前後の位相差値の差が2.5〜3.5nmであり、光学異方性の問題がなくコーティング性も優れていることが確認された。
実施例 1、2、4、及び5は、コロナまたはプラズマ処理前後の正面及び厚み方向の位相差値の差がそれぞれ1.0nm以下であるため、実施例3及び6に比べて意図した位相差を具現するといった点においては優れているが、コーティングの安定性の面において実施例3及び6に比べて劣っていることが確認された。ディスプレイにおいて通常2.5〜3.5nm程度の位相差はビューアにさほど敏感に認識されないので、近年のディスプレイの薄型化の流れを勘案すると、耐久性をより改善した実施例3及び6がより好ましく使用できると予想される。
また、全ての実施例は、液晶コーティング層の水接触角が30〜83゜であり、特に最も好ましい物性を呈している実施例3及び6は、30〜60゜の範囲に含まれることが確認された。
Claims (16)
- 基材と、前記基材の上面に形成された液晶コーティング層と、前記液晶コーティング層の上面に形成された表面処理コーティング層とを含み、前記液晶コーティング層の上面にコロナまたはプラズマ放電処理された複合位相差板。
- 前記液晶コーティング層は位相差遅延層である、請求項1に記載の複合位相差板。
- 前記位相差遅延層は、配向膜上に反応性液晶物質がコーティングされて形成されたλ/4位相差層である、請求項2に記載の複合位相差板。
- 前記表面処理コーティング層は、保護層、防眩層、反射防止層、帯電防止層、及びハードコート層からなる群より選択される一種以上の機能性層である、請求項1に記載の複合位相差板。
- 前記液晶コーティング層の上面の水接触角は30〜83゜である、請求項1に記載の複合位相差板。
- 前記液晶コーティング層の上面の水接触角は30〜60゜である、請求項1に記載の複合位相差板。
- 前記液晶コーティング層の正面位相差値及び厚み方向の位相差値は、前記コロナまたはプラズマ放電処理の前後にそれぞれ3.5nm以下の差が発生する、請求項1に記載の複合位相差板。
- 前記液晶コーティング層の正面位相差値及び厚み方向の位相差値は、前記コロナまたはプラズマ放電処理の前後にそれぞれ2.5〜3.5nmの差が発生する、請求項1に記載の複合位相差板。
- 前記コロナ処理は200〜300J/m2で施される、請求項1に記載の複合位相差板 。
- 前記基材は高分子フィルムまたはガラス基板である、請求項1に記載の複合位相差板。
- 偏光子の上面には請求項1〜10のいずれか一項に記載の複合位相差板が接合され、下面には偏光子保護フィルムが接合される、複合偏光板。
- 前記偏光子保護フィルムの下面には粘着剤層が形成される、請求項11に記載の複合偏光板。
- 基材上に配向膜を形成した後、前記配向膜上に液晶コーティング層を形成する第1段階と、
前記液晶コーティング層の上面にコロナまたはプラズマ処理を施す第2段階と、
前記コロナまたはプラズマ処理された液晶コーティング層上に表面処理コーティング層を形成する第3段階と
を含む複合位相差板の製造方法。 - 前記基材は高分子フィルムまたはガラス基板である、請求項13に記載の複合位相差板の製造方法。
- 前記コロナ処理は200〜300J/m2で施される、請求項13に記載の複合位相差板の製造方法。
- ロール・トゥ・ロール接合により請求項1〜10のいずれか一項に記載の複合位相差板を偏光子の上面に接合させ、偏光子保護フィルムを前記偏光子の下面に接合させることを含む、複合偏光板の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110033386A KR101751975B1 (ko) | 2011-04-11 | 2011-04-11 | 복합 위상차판, 이를 포함하는 복합 편광판 및 이들의 제조 방법 |
KR10-2011-0033386 | 2011-04-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012220952A true JP2012220952A (ja) | 2012-11-12 |
Family
ID=46965855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012058520A Pending JP2012220952A (ja) | 2011-04-11 | 2012-03-15 | 複合位相差板、これを含む複合偏光板及びこれらの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120257145A1 (ja) |
JP (1) | JP2012220952A (ja) |
KR (1) | KR101751975B1 (ja) |
CN (1) | CN102736159A (ja) |
TW (1) | TW201245778A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019215472A (ja) * | 2018-06-14 | 2019-12-19 | 住友化学株式会社 | 接着層付き積層体、積層体、液晶層積層体、液晶フィルムの製造方法、及び、光学積層体の製造方法 |
JP2021182127A (ja) * | 2020-05-14 | 2021-11-25 | 住友化学株式会社 | 光学積層体の製造方法、液晶積層体、及び光学積層体 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140052238A (ko) * | 2012-10-23 | 2014-05-07 | 동우 화인켐 주식회사 | 액정층 형성용 조성물 및 이를 이용하여 제조된 리타더 |
KR20140098419A (ko) | 2013-01-31 | 2014-08-08 | 제일모직주식회사 | 편광판, 이를 포함하는 광학표시장치 및 이를 사용하는 방법 |
CN103267994B (zh) * | 2013-05-22 | 2015-06-17 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种偏光器件、液晶显示装置及其制造方法 |
CN103293585B (zh) * | 2013-05-30 | 2015-11-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 相位差板、显示装置和相位差板制作方法 |
KR102177052B1 (ko) * | 2013-08-09 | 2020-11-10 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 광학 이방성 적층체의 제조 방법 |
KR101622005B1 (ko) * | 2013-08-22 | 2016-05-17 | 제일모직주식회사 | 편광판용 점착 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치 |
CN103605176A (zh) | 2013-09-17 | 2014-02-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 相位差膜及其制造方法和显示设备 |
KR101444132B1 (ko) * | 2013-11-20 | 2014-11-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 복합 편광판 일체형 터치 감지 전극 및 이를 구비한 터치 스크린 패널 |
CN110346861B (zh) * | 2014-05-23 | 2021-12-28 | 住友化学株式会社 | 光学层叠体及图像显示装置 |
JP6490497B2 (ja) * | 2015-06-03 | 2019-03-27 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6933991B2 (en) * | 1999-01-22 | 2005-08-23 | White Electronic Designs Corp. | Super bright low reflectance liquid crystal display |
US6864932B2 (en) * | 2001-04-16 | 2005-03-08 | Nitto Denko Corporation | Optical member and liquid-crystal display device |
US20040075795A1 (en) * | 2002-10-17 | 2004-04-22 | Eastman Kodak Company | Compensator with photochemically cured barrier layer and process |
TWI308659B (en) * | 2004-09-27 | 2009-04-11 | Far Eastern Textile Ltd | Process for orienting rod-like liquid crystal molecules, and optical elements produced by using the same |
JP2007264480A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Fujifilm Corp | 液晶表示装置 |
JP2008039804A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 複合位相差板、その製造方法、複合光学部材及び液晶表示装置。 |
JP4402096B2 (ja) * | 2006-11-15 | 2010-01-20 | 日東電工株式会社 | 偏光板、その製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置 |
-
2011
- 2011-04-11 KR KR1020110033386A patent/KR101751975B1/ko active IP Right Grant
-
2012
- 2012-03-09 TW TW101108056A patent/TW201245778A/zh unknown
- 2012-03-15 JP JP2012058520A patent/JP2012220952A/ja active Pending
- 2012-03-26 CN CN2012100863327A patent/CN102736159A/zh active Pending
- 2012-04-08 US US13/441,880 patent/US20120257145A1/en not_active Abandoned
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JP7122168B2 (ja) | 2018-06-14 | 2022-08-19 | 住友化学株式会社 | 接着層付き積層体、積層体、液晶層積層体、液晶フィルムの製造方法、及び、光学積層体の製造方法 |
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JP7016932B2 (ja) | 2020-05-14 | 2022-02-07 | 住友化学株式会社 | 光学積層体の製造方法、液晶積層体、及び光学積層体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120115832A (ko) | 2012-10-19 |
CN102736159A (zh) | 2012-10-17 |
KR101751975B1 (ko) | 2017-06-28 |
TW201245778A (en) | 2012-11-16 |
US20120257145A1 (en) | 2012-10-11 |
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