201245778 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種於步驟上容易製造及操作，可有 助於顯示器之薄型化之複合相位差板、含有其之複合偏光 板及其等之製造方法。 【先前技術】 在用以實現立體影像之液晶顯示裝置等顯示器中，多 a有經圖案化之延遲器（retar(jer)。經圖案化之延遲器，使 各圖案區域的光軸構成為彼此方向不同，而使傳達至戴有 偏光眼鏡之觀眾的左右眼之影像不同，藉此實現立體影像。 經圖案化之延遲器係於玻璃基板上形成定向膜，並於 該定向膜上塗層及定向液晶而得以構成。光反應性液晶物 質疋向於定向膜上’之後藉由紫外線等光之照射而經交聯 化，從而成為高分子液晶薄膜之形態。此時，利用遵照定 向膜的表面定向之液晶的定向方向，而發揮延遲器的功能。 但是’於如此使用玻璃基板作為基材之情況下，在卷 對卷（Roll to Roll)步驟中’無法將相位差板接合於偏光板。 並且’存在以下問題：玻璃基板不僅價格高於薄膜，於步 驟上不容易操作’而且必須實施抗反射塗層，以抑制因玻 璃反射率較高所造成之視覺感降低。 並且’於經圖案化之延遲器的上部積層表面處理層， 以改善光之低反射或表面強度之情況下，由於將此種表面 處理層形成於基材薄膜上，並利用接著劑或黏合劑將該基 材薄膜接合於上述液晶塗層’因此，難以使偏光板的厚度 201245778 變薄。 已提出以下方法：在形成有上述液晶塗層之基材的另 -面上形成表面處理層’以進行偏光板之薄型化，然而於 此種情況下，存在以下問題：依次積層偏光元件、液晶塗 層、基材及表面處理層，而使液晶塗層與偏光元件接合， 其中，液晶塗層無法利用水系黏合劑與偏光s件鄰接。 【發明内容】 本發明的目的在於提供一種可藉由在薄膜上形成塗層 之方法而簡單地製造之複合相位差板及其製造方法。 本發明的目的在於提供一種適合用於薄型顯示器之複 合相位差板及其製造方法。 本發明的目的在於提供一種包含上述複合相位差板之 複合偏光板及其製造方法。 ι· 一種複合相位差板，包含： 基材、 形成於上述基材上面之液晶塗層、及 形成於上述液晶塗層上面之表面處理塗層； 上述液晶塗層上面經電暈或電漿放電處理。 2. 如上述第1項之複合相位差板，其中，上述液晶塗 層係相位差延遲層。 3. 如上述第2項之複合相位差板，其中，上述相位差 延遲層係於定向膜上塗佈有反應性液晶Α質而形成之入Μ 相位差層。 4·如上述第丄項之複合相位差板，其中，上述表面處 4 201245778 理塗層係選自由保護層、防眩層、抗反射層、抗靜電層及 硬塗層所組成之群之一種以上的功能性層。 5. 如上述第1項之複合相位差板，其中，上述液晶塗 層上面的水接觸角為30〜83。。 6. 如上述第1項之複合相位差板，其中，上述液晶塗 層上面的水接觸角為30〜60。。 7. 如上述第1項之複合相位差板，其中，上述液晶塗 層的正面相位差值及厚度方向的相位差值，於上述電暈或 電漿放電處理之前後，分別產生3.5nm以下的差。 8. 如上述第1項之複合相位差板，其中，上述液晶塗 層的正面相位差值及厚度方向的相位差值，於上述電暈或 電襞放電處理之前後，分別產生2·5〜3 5 nm之差。 9. 如上述第1項之複合相位差板，其中，上述電暈處 理以200〜300 J/m2實施。 10. 如上述第1項之複合相位差板，其中，上述基材係 高分子薄膜或玻璃基板。 11. 一種複合偏光板，係於偏光元件的上面接合有上述 第1項至第10項中任一項之複合相位差板，並於上述偏光 元件的下面接合有偏光元件保護膜。 12·如上述第11項之複合偏光板，其中，於上述偏光 元件保護膜下面形成有黏合劑層。 13. —種複合相位差板之製造方法，包含： 第1階段’係於基材上形成定向膜後，於上述定向膜 上形成液晶塗層； 201245778 第2階段’係於上述液晶塗層上面實施電暈或電漿處 理；及 第3階段，係於上述經電暈或電漿處理之液晶塗層上， 形成表面處理塗層。 14. 如上述第13項之複合相位差板之製造方法，其中， 上述基材係高分子薄膜或玻璃基板。 15. 如上述第13項之複合相位差板之製造方法其中， 上述電暈處理以200〜300 J/m2實施。 16. —種複合偏光板之製造方法，包含： 利用卷對卷接合，使上述第丨至1〇項中任—項之複合 相位差板接合於偏光元件的上面，並使偏光元件保護膜接 合於上述偏光元件的下面。 本發明僅包含薄膜或塗層形態之發揮功能所需之層， 藉此可提供一種有利於顯示器薄型化之複合相位差板（具 有相位差功能之表面處理塗層膜）、及包含其之複合偏光 板。 本發明係使用薄膜形態之高分子基材來替代玻璃基 材，藉此可提供一種可利用卷對卷與偏光元件接合之複合 相位差板。 本發明的複合相位差板，由於可直接於液晶塗層上形 成表面處理塗層而得以製造，因此不需要另外的基材及接 著劑層或黏合劑層來附加表面處理層（功能性層），適合 作為薄型立體影像顯示器用延遲器來使用。 【實施方式】 6 201245778 本發明係於高分子基材薄膜上所形成之液晶塗層的一 面上’實施電暈或電漿處理來提升接合力後，直接於其上 形成表面處理塗層，藉此’不僅可無需使用玻璃基材等而 以簡單的步驟來製造，且無需另外的基材及接著劑層來附 加功能性層，適合作為薄型顯示器用延遲器來使用。 以下’更為詳細地說明本發明。 本發明的複合相位差板包含：高分子基材薄膜、形成 於其上之液晶塗層、及形成於液晶塗層上之表面處理塗層。 尚分子基材薄膜並無特別限定，可使用通常作為光學 用透明薄膜所使用之薄膜，但其中較佳為使用透明性、機 械性強度、熱穩定性、水屏蔽性、相位差均勻性及等向性 等優異的薄膜。 高分子基材薄膜的材料，可使用選自由例如，聚烯烴 系樹脂、以旨系樹脂、纖維系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、丙 烯系樹脂、苯乙烯系樹脂、a乙烯系樹脂、醯胺系樹脂、 醯亞胺系樹脂、聚越砜系樹脂、碾系樹脂、聚謎砜系樹脂、 聚明_系樹脂，硫醚系樹脂、乙烯醇系樹脂、二氣 亞乙烯（Wnylidene chloride)系樹脂、乙烯醇縮丁醛&丨 butyral)系樹脂、芳醋（arylate)系樹脂、聚甲醛 (polyoxymethylene)系樹脂及環氧系樹脂所組成之 料0 高分子基材薄膜的厚度亦並非限定於特定之範圍内， 通常使用例如，5〜10”m ’較佳為15〜6〇…若高分子 基材薄膜的厚度未達5"m ’則薄膜的機械性強度會較差， 201245778 若高分子基材薄膜的厚度超過100//m，則不利於薄型化， 因而不佳。 本發明的液晶塗層係形成於高分子基材薄膜上》 液晶塗層起到使通過偏光元件之光的相位差延遲之作 用。液晶塗層並不限定於使光的相位差僅以特定波長延遲 之層，亦可為3又/4相位差層、；I /2相位差層及；（/4相位差 層等’但較佳為通常較多使用的、於定向膜上塗層反應性 液晶物質而形成之λ /4相位差層。 λ /4相位差層之製造方法並無特別限定。可使用例如， 於而分子基材薄膜上形成定向膜’並於其上使液晶光定向 之方法來製造。但是，於本發明中，Α /4相位差層僅限定 於塗層形態，不包括斜向延伸之λ /4相位差薄膜等。 定向膜並無特別限制，為該技術領域中通常所使用之 定向膜即可’較佳為使用例如，有機定向膜。 可使用包括丙烯酸酯系、聚醯亞胺系或聚醯胺酸之定 向膜組成物來形成有機定向膜。聚醯胺酸係使二胺 (di-amine)與二酐（dianhydride)反應而得之聚合物聚醯亞 胺係由聚醯胺酸經亞胺化而得，其等的構造並無特別限制。 定向膜組成物具有適當的黏度报重要。若黏度過高， 則即便施壓亦不易流動，難以形成具有均勻厚度之定向 膜，若黏度過低，雖擴散性良好，但難以調節定向膜的厚 度。較佳為例如，8〜13 cP。 又’較佳為考慮表面張力、固形物的含量、及溶劑的 揮發性等。尤其，由於固形物的含量影響黏度及表面張力， 8 201245778 因此較佳為同時考慮定向膜的厚度及硬化特性等來進行調 節。 ° 若固形物的含量過高，則黏度較高，定向臈的厚度變 厚，若固形物的含量過低，則存在如下問題點：溶劑的比 例較咼，，谷液乾燥後將產生斑點。較佳為例如，固形物的 含量為0.1〜10重量％。 較佳為，定向膜組成物係丙烯酸酯系、聚醯亞胺系或 聚醯胺酸等固形物溶解於溶劑中之溶液狀。溶劑並非特別 限定於可溶解固形物，具體而言，可使用乙二醇單丁醚、 γ - 丁内酯、N·甲基-2-吡咯烷酮及二丙二醇單甲醚 (dipropyiene g丨yc〇1 m〇n〇methyl ether#。此種溶劑係考慮 /谷解度、黏度及表面張力等，適當混合使用，以形成均勻 的定向獏。 此外’定向膜組成物’亦可進而添加並混合有交聯劑 及偶合劑等’以有效地形成定向膜。 疋向膜係於高分子基材薄膜的一面塗布定向膜組成物 製造而成。 塗布並無特別限制，為該技術領域中通常所使用之方 法即可。可利用例如，流動鑄造法及氣刀塗膠法（airknife)、 凹版印刷法（gravure)、反轉輥法（reverser〇H)、單面上膝法 (klssro11)、喷霧法（spray)或旋轉葉片法（blade)等塗布方法， 以適當的展開方式直接塗布。 可進而實施乾燥步驟，以提升定向膜組成物之塗布效 率。 201245778 乾燥並無特別限定，通常 線加熱機來進行 …、風乾煤機及遠紅外 ，，乾燥味.〜職，較佳為50 。夺間通常為30〜600秒，較佳為12〇〜_秒。 方法有予所形成之定向膜^向性。賦予^向性之 方心光定向方式等，但是並不㈣限定於此。 亦可賦予所形成之整個定向臈以定向性，可於 對部分或整體塗布定向膜後，藉由利用光遮罩之曝光步 來製1^經圖案化而成為彼此具有〗同的定向方向之定 、又於所形成之定向膜上，排列具有投光部及遮光 一第光遮罩，實施第1次曝光步驟，之後，排列將第i 光遮罩的杈光部及遮光部的位置反轉之第2光遮罩，實施 第2次曝光步驟，可製造經圖案化而成為彼此具有不同光 軸之定向膜。 曝光所使用之光，並無特別限定，可使用例如，照射 經偏光之紫外線、以特定之角度照射離子束或電漿波束、 及照射放射線等。較佳為例如，照射經偏光之紫外線。 於經定向之定向膜上形成液晶塗層。 液晶塗層係將液晶塗層用組成物塗布於經圖案化之定 向膜上而形成。可使用具有光學異向性，包含具有光交聯 性之液晶化合物之液晶塗層用組成物。較佳為使用例如， 反應性液晶單體（RM)。 反應性液晶單體’指包含可與可表現液晶性之液晶元 (mesogen)聚合之端基，並成為具有液晶狀態之單體分子。 若聚合反應性液晶單體’則可獲得保持液晶之排列形狀， 201245778 同時經交聯之高分子網狀物。當反應性液晶單體分子自澄 點（clearing point)冷卻時，可獲得具有與使用相同構造之2 晶高分子之情況相比，於液晶狀態下以相對較低的黏度， 進而良好定向之構造之大面積的晶域。 如此形成之大面積的液晶狀交聯網路薄膜，由於仍保 持液晶所具有之光學異向性及介電常數等特性，同時亦具 有固體狀薄膜形態，因此機械性及熱性穩定。 液晶塗層用組成物，係稀釋於溶劑中而使用，以確保 塗層步驟的效率性及塗層的均勻性，較佳為溶解於可使液 晶化合物溶解之溶劑中，並具有均勻性。 例如’反應性液晶單體係使用可使其溶解之溶劑，來 製備液晶塗層用組成物，其中，所述溶劑具體包括選自由 丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA)、甲基乙基酮（MEK)、二甲苯、 及二氣曱院所組成之群之一種溶劑或兩種以上的混合溶 劑。 此時’將液晶塗層用組成物中的反應性液晶單體的含 量，調整為1 5〜30重量。/。❶若濃度未達1 5重量％，則無法 實現相位差’若濃度超過30重量％，則存在反應性液晶單 體析出’難以形成均勻的液晶塗層之問題。 塗層方法並無特別限定，可列舉例如：針塗（pin coating)、滾塗法（roll coating)、disfencing 塗布、或凹版塗 布（gravure coating)等。較佳為根據塗層方法，適當地選擇 溶劑的種類及使用量。 塗布液晶塗層，並使乾燥後的厚度為〇.〇1〜於 201245778 此種厚度之範圍中’可易於形成均勻的延遲器圖案。 透過乾燥步驟，使溶劑蒸發。 乾燥並無特別限定，通常可使用熱風乾燥機及遠紅外 線加熱機來進行，乾燥溫度通常為3〇〜1〇〇e>c，較佳為5〇 〜80 C，乾燥時間通常為3〇〜6〇〇秒較佳為12〇〜6〇〇秒。 又，可於相同溫度條件下進行乾燥，或一邊使溫度逐步上 升一邊進行乾燥。 使形成於定向膜上之液晶塗層進行光交聯，從而形成 經圖案化之延遲器。此處，光並無特別限定，可使用例如 紫外線等。 本發明的表面處理塗層係形成於液晶塗層上。 表面處理塗層包括可賦予顯示器以各種功能之複數個 功旎性層。可為選自由例如，保護層、防眩層 '抗反射層、 抗靜電層及硬塗層所組成之群之功能性層。 具體而δ ’保護層係用於防止偏光板及經圖案化之相 位差層的表面裂紋或損傷之層。 防眩層係利用藉由喷砂加工、浮雕加工等之表面粗 化，或塗布混合有透明微粒之塗層液，於表面上形成微細 的凹凸之層。 抗反射層用於防止外部光線於偏光板的表面上反射而 阻礙視認透射光，其係利用蒸鍍法或濺鍍法所形成之由金 屬氧化物之薄膜所構成之層。 抗靜電層用於防止靜電導致附著灰塵等，其係利用包 含抗靜電劑之紫外線硬化型樹脂所形成之層。 12 201245778 又’硬塗層用於防止偏光板的表面產生裂紋或損傷， 其係使用丙烯酸系或聚矽氧系等紫外線硬化型樹脂而形 成，硬度及光滑性優異，且發揮硬化皮膜作用之層。 如上所述之表面處理塗層，係形成於經電暈或電漿處 理之液晶塗層上。若液晶塗層的表面上並未實施電暈或電 漿處理，則塗層性可能較差。 電暈放電處理包括：在連接於高壓產生器之電極與介 電質的輥之間外加高電壓，並將液晶塗層配置於輥與電極 之間所產生之電暈放電處，或置於該放電中。通常，將外 加於輥與電極之間之高電壓的頻率稱為放電頻率，放電頻 率通常可為50^〜5,0001^2之範圍，較佳為5〜數百]^2 之範圍。若放電頻率過低，可能導致放電不穩定，液晶塗 層的表面會產生許多針孔，若放電頻率過高，由於進而需 要阻抗匹配用裝置，因此，處理成本升高。 電暈放電處理於大氣下易於實施，但可於充填有空氣 以外的氣體、或充填有空氣_污染氣體之密封或半密封處理 裝置中實施。作為氣體的一例，包括氮氣、氬氣及氧氣。 於本發明中，在利用使液晶塗層形成於定向膜上之方 法而2獲得λ /4相位差層之情況下，較佳為以例如，〜則 J/m之量，較佳為2〇〇〜3〇〇 j/m2之量來實施電暈放電處 理，以將其表面的濕潤性或塗層性改善為正常。若電暈放 電處理的量並未包含於上述範圍内，由於無法充分提高塗 層性u液晶塗層的正面相位差值Re或厚度方向相位 差值Rth，故而難以期望預期之相位差延遲之效果。 13 201245778 觀與電極之間的間隔，較佳Α η ς ^ c 0 Λ 住马〇·5〜2.5 mm,更佳為κ〇 〜2·〇 mm。 本發明中所使用之電漿處理， 产矿 处埋包括真空輝光放電、大 亂壓輝光放電等。可使用例如， 曰本特開平6-123062號公 報、曰本特開平H-2930U號公鉬 VJlo ^ 跳A報及曰本特開平1 1-5857號 么報4所記載之方法。 在利用輝光放電之電漿產生奘 座生裝置中，可於相對之電極 之間配置欲賦予其等以親水性 m溥臈，透過向此裝置中導 入電漿激發性氣體’並於電極 电蚀之間外加高頻電壓，使上 氣體經電漿激發，於電極之問 面處理。 電極之間進仃輝光放電，從而實施表 電漿激發性氣體，指於上# &从 辦m斑— ？曰於上迷條件下經電漿激發之氣 體，可列舉：氬氣、氦氣、氖氣、 — l乳氪軋、氙軋、氮氣及二 氧化碳等。向例如，氯氣 μ n 轧汛氣專惰性氣體中，添加可將
羧基及羥基、羰基等極性官能I Λ ω ^ 能基職予塑料薄膜的表面之反 應性氣體，並將其作為激發性氣 Η备“ η ”生氣體使用。反應性氣體，除 虱軋、氧氣及氮氣之外，水苽洛 八蒸氣及氨氣等氣體之外，亦可 視需要而使用低級烴、鲖箅俏 作而………有機化合物等，但就操 作而s，較佳為蛊軋 '氧氣、_ 一氣化碳、氮氣及水蔘齑箄 氣體。當使用水蒸氣時，可# …、 混合有其他氣體與水，而 起泡之氣體。又，亦可混合有水蒸氣。 外加之高頻電壓的頻率 α 下 m ^ ^ 1.0 佳為1 kHz 以上 100 kHz 以下’更佳為1 kHz以上1〇他以下。 此等利用輝光放電 漿處理，有於真空下進行之方 201245778 法及於大氣壓下進行之方法。 在和用輝光放電之真空電聚放電處理中，需要導入上 述反應性氣體，並將其環㈣持為0.005〜2〇_，較佳為 〇·02 2 t〇rr ’以有效地引發放電。較佳為盡可能於高壓側 採用高功率條件，以提高處理速度，但若電場強度過高， 會損傷基材。 ^若壓力過低，則無法提供表面處理之效果。另一方面， 若壓力過高，會流經過度的電流並產生火花，或破壞塗層。 於真空容器内的一對（或以上）金屬板或棒之間外加電壓， 以引發放電。 電壓文氣體及其壓力影響，但—般為则〜5，咖v， 以引發於上述壓力範圍内穩、定的正常輝光放電。較佳為 2,000〜4,〇〇〇 V，以改善接著。 液晶塗層，尤其"4相位差層，以較佳為〇 〇1〜5kv· Α·分/m2,更佳為（us〗kv· Α·分化2之量，進 放電處理，可獲得所需黏结強度。 液晶塗層利用電暈或電漿處理，其正面及厚度方向的 相位差值，較電暈或電衆處理前的正面及厚度方向的相位 差值分別有3.5 nm以下之變化，對所期望之光學特性之表 現而言較佳。進而，若考慮到表面處理塗層的接著性，較 佳為使電暈或電漿處理後的正面及厚度方向的相位差值與 電暈或電漿處理前的正面及厚度方向的相位差值分別有25 〜3.5 nm之差。 於電暈或電漿處理後，與表面處理塗層接觸之面的水 15 201245778 接觸角為30〜83。’較佳為30〜60。之液晶塗層，其塗層性 優異’且有利於表現液晶塗層的光學異向性。 使本發明的表面處理塗層形成於液晶塗層上之方法， 並非限定於特定之方法。可使用例如，針塗（pin coating)、 滾塗法（r〇U coating)、dispensing coating、或凹版印刷式塗 布等’較佳為根據塗層方法，適當地選擇溶劑的種類及使 用量》 如上所述地構成及製造之複合相位差板，係接合於偏 光元件的任一面。可使用顯示器領域中通常用於接合薄膜 之接著劑及或黏合劑來接合。 偏光元件並無特別限定，為該技術領域中通常所使用 之偏光元件，且可達成偏光功能即可。可使用例如，於聚 乙烯醇薄膜上使碘及異色性染料染色，並使其按一定方向 延伸而製造之偏光元件。 於偏光元件的未結合有複合相位差板之另一面上，接 合有偏光元件保護膜。偏光元件保護膜通常使用三醋酸纖 維素系薄膜、環烯系薄膜等》 另一方面，於包括偏光板及經圖案化之相位差層之顯 示器裝置中，可具備本發明的複合相位差板及複合偏光板。 顯示器裝置並無特別限定，具體而言，係使用立體影 像實現用或半透明型液晶顯示器、電漿顯示器裝置及有機 EL顯示器裝置等。 此時，可將本發明的複合偏光板用於積層有先前之偏 光板及經圖案化之相位差層之位置處。 16 201245778 可透過下述實施例更為詳細地理解本發明，下述實施 例僅用以例示本發明，並非欲利用所附之申請專利範圍來 限定權力範圍。 實施例1至6及比較例1至3 (實施例1 ) 在於基材薄臈三醋酸纖維素（TAC)薄獏上，積層有液晶 之入/4相位差層之積層體（日本富士公司0山1^乙^)製造） 的λ/4相位差層上，以功率1.4 KW、3.8 m/分之薄膜速度 連續實施兩次（74.27 J/m2)電暈處理。 然後，使用麥爾棒（meyer bar),於上述已實施電暈處理 面上均勻地塗布硬塗層用塗層液，之後，以8〇的烘 知熱風乾燥9G秒’並以紫外線硬化器使其光硬化，從而製 作依所記載之順序積層有三醋酸纖維素（TAC)薄膜、；I /4相 位差層及硬塗層積層之複合相位差板。 (實施例2) 將電暈處理條件變更為以功率K4 Kw、3 8 m/分之薄 膜速度實施四次（148.54 J/m2)，除該點以外，利用與實施例 1相同之方法製作複合相位差板。 (實施例3) 將電暈處理條件變更為以功率1.4 KW、3.8 m/分之薄 膜速度實施八次（297.09 J/m2) ’除該點以外，利用與實施例 1相同之方法製作複合相位差板。 (實施例4 ) 以功率1.3 kW、6 m/分之薄膜速度實施電漿處理，而 201245778 並非於λ /4相位差層上實施電暈處理，除該點以外，利用 與實施例1相同之方法製作複合相位差板。 (實施例5) 將電漿處理條件變更為功率2.3 kW、薄膜速度為6 m/ 分’除該點以外’利用與實施例4相同之方法製作複合相 位差板。 (實施例6) 將電漿處理條件變更為功率3.3 KW、薄膜速度為6 m/ 分，處該點以外，利用與實施例4相同之方法製作複合相 位差板。 (比較例1 ) 未對實施例1的積層體（日本富士公司（FUjIFIL]V[)製 造）的λ /4相位差層實施特殊處理，除該點以外，利用與 實施例1相同之方法製作複合相位差板。 (比較例2) 將實施例1的積層體，浸潰於45°C之4.5ΝΚΟΗ水溶液 中80秒，用蒸餾水清洗’以8〇°c之烘箱熱風乾燥2分鐘， 並對上述λ /4相位差層的表面實施皂化處理，除該點以外， 利用與實施例1相同之方法製作複合相位差板。 (比較例3) 使皂化處理條件為浸潰於45。(：之4.5ΝΚΟΗ水溶液中 20〇秒’除該點以外，利用與比較例2相同之方法製作複合 相位差板。 實驗例 201245778 利用下述方法，測定實施例1至6及比較例1至3的 複合相位差板的物性。結果示於表1。 (1) 接觸角 利用分析儀器（DSA100、KRUSS公司製造、德國）， 於實施例1至6及比較例1至3之情況下，測定經實施電 暈處理、皂化處理或電漿處理後的λ/4相位差層的接觸角， 於比較例1的情況下，測定未實施特殊處理狀態之；（/4相 位差層的接觸角。使用水作為試液。 (2) 測定光學異向性 利用ExoScan測量儀器，測定590 nm下的λ /4相位差 層的正面相位差值R0及厚度方向相位差值Rth。 (3)塗層性 觀察液aa層上所形成之硬塗層的表面的外觀、斑點 等，並評價表面的均勻程度。根據均勻程度，評價為優秀 ◎、良好U 、及不良X之3個階段。 [表1] 類別 實施例1 80J 實施例2 72.8 實施例3 32.0 實施例4 80.56 實施例5 67.56 實施例6 42.3 比較例1 102 比較例2 93.5 比較例3 83.34 121.36/65.27 119.3/63.7 水接觸角 (。） 相位差值 (Re/Rth) 123.1/65.3 123.6/66.6 處理前後的相位差 的變化量（nm)—以 比較例1為基準 塗層性 19 201245778 如上述表所示，本發明的複合相位差板，與未實施電 暈或電漿處理之比較例的相位差板相比，硬塗層的塗層性 顯著優異。 又’已確認以下事項：本發明的複合相位差板於任 一情況下，經電暈或電漿處理前的正面及厚度方向的相位 差值、及處理後的正面及厚度方向的相位差值的差為35 nm 以下，因此於光學異向性之方面並無問題。已確認以下事 項.尤其，於實施例3及6中，電暈或電漿處理前後的相 位差值的差為2.5〜3.5 nm，無光學異向性之問題，且塗層 性優異。 已確認以下事項：實施例丨、2、4及5，由於電暈或電 漿處理前後的正面及厚度方向的相位差值的差分別為1〇 nm以下，因此與實施例3及6相比，自實現理想的相位差 之點而言較優異’但自塗層的穩定性之方面而言，與實施 例3及6相比較差。顯示器中通常為25〜3 5 nm左右之相 位差’其並非那麼靈敏地被觀眾所辨識，考慮到近年來顯 示器之薄型化之趨勢，我們預想耐久性得以進而改善之實 施例3及6可更佳地使用。 又，已確認以下事項.全部實施例的液晶塗層的水接 觸角為3 0〜8 3。，尤其呈現最佳物性之實施例3及6係包含 於30〜60。之範圍内。 【圖式簡單說明】 圖1係接合有本發明的複合相位差板之偏光板的一例。 圖2係表示接合有具有先前構成之相位差板之偏光板 20 201245778 之圖。 【主要元件符號說明 無