KR20140052238A

KR20140052238A - 액정층 형성용 조성물 및 이를 이용하여 제조된 리타더

Info

Publication number: KR20140052238A
Application number: KR20120118022A
Authority: KR
Inventors: 송병훈; 임종관; 최봉진
Original assignee: 동우 화인켐 주식회사
Priority date: 2012-10-23
Filing date: 2012-10-23
Publication date: 2014-05-07
Also published as: WO2014065516A1; TW201416425A

Abstract

본 발명은 액정층 형성용 조성물 및 이를 이용하여 제조된 리타더 에 관한 것이며, 보다 상세하게는, 본 발명은 액정성 화합물, 상기 액정성 화합물과 함께 배향가능한 대전방지제, 광중합 개시제 및 유기 용매를 포함함으로써, 광학 기능의 저하 없이 정전기 발생을 억제할 수 있는 액정층 형성용 조성물 및 이를 이용하여 제조된 리타더에 관한 것이다.

Description

액정층 형성용 조성물 및 이를 이용하여 제조된 리타더{COMPOSITION FOR PREPARING LIQUID CRYSTAL LAYER AND RETARDER PREPARED BY USING THE SAME}

본 발명은 액정층 형성용 조성물 및 이를 이용하여 제조된 리타더에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 정전기 발생을 억제할 수 있는 액정층 형성용 조성물 및 이를 이용하여 제조된 리타더에 관한 것이다.

현재 사용되고 있는 다양한 화상 표시 장치에는 편광 필름, 리타더 등의 다양한 광학 필름이 사용되고 있다. 이러한 광학 필름은 복수의 박막이 적층되어 형성된다.

리타더의 경우를 예로 들면, 리타더는 통상적으로 기재 필름, 배향막, 경화 액정층이 차례로 적층되어 형성된다. 이러한 리타더는 편광 필름과 같은 다른 필름들과 접합되어 디스플레이 패널 등을 형성하게 된다.

리타더를 다른 필름들에 접합하기 위해서, 상부의 경화 액정층에 감압 점착제(PSA)를 사용하는 경우에는 통상 고온고습에서 광학 필름 사이에 들뜸 현상이 발생되지 않고 밀착력을 높이기 위해 경화 액정층과 점착층 표면에 Corona처리를 하는 것이 일반적이다.

그런데, 경화 액정층 표면 및 점착층 표면에 Corona처리를 하게 되면, 이온화된 전하들이 경화 액정층과 점착층 계면에 축적된 상태로 접합된다. 통상적으로는 점착층과 리타더가 접합된 상태에서 여러 장이 포개져 쌓인 채로 포장되어 운송 및 공급되는데, 이후 해당 제품이 여러 장 쌓인 상태에서 개봉 후 광학 필름 사이의 접합을 위해 설비를 이용하여 한 장씩 분리하여 이송하는 경우에 경화 액정층과 점착층 사이에 누적된 전하에 따른 정전기에 의해 여러 장이 동시에 들어올려져 Tact time이 지연되는 등의 문제가 발생할 수 있다.

따라서, 리타더 등의 광학 필름에 요구되는 광학 성능은 저하시키지 않으면서 대전 방지성을 확보할 수 있는 새로운 해결책이 요구된다.

본 발명은 액정층의 기능은 저하시키지 않으면서 동시에 대전 방지성을 갖는 액정층을 형성할 수 있는 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 상기 액정층을 구비한 리타더를 제공하는 것을 목적으로 한다.

1. 액정성 화합물, 상기 액정성 화합물과 함께 배향가능한 대전방지제, 중합 개시제 및 유기 용매를 포함하는 액정층 형성용 조성물.

2. 위 1에 있어서, 상기 대전방지제는 양 말단에 각각 술포네이트기를 포함하는 것인 액정층 형성용 조성물.

3. 위 1에 있어서, 상기 대전방지제는 하기 화학식 1로 표시되는 액정층 형성용 조성물:

[화학식 1]

(식 중, R₁ 및 R₂는 서로 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 또는 알콕시기, 할로겐이고, M₁ 및 M₂는 서로 독립적으로 수소, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속임).

4. 위 1에 있어서, 상기 대전방지제는 하기 화학식 2 내지 화학식 6으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나인 액정층 형성용 조성물:

[화학식 2]

[화학식 3]

[화학식 4]

[화학식 5]

[화학식 6]

5. 위 1에 있어서, 상기 대전방지제는 고형분을 기준으로 상기 액정성 화합물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부로 포함되는 액정층 형성용 조성물.

6. 기재필름, 배향막 및 위 1 내지 5 중 어느 한 항의 조성물로 형성된 경화 액정층이 순차적으로 적층된 리타더.

7. 위 6의 리타더를 구비하는 화상 표시 장치.

본 발명의 액정층 형성용 조성물은 대전 방지제를 포함함으로써 코로나 처리 후에 정전기 발생을 방지할 수 있다.

또한, 본 발명의 액정층 형성용 조성물은 대전 방지제가 액정성 화합물과 함께 배향이 가능하므로 액정의 배향 특성을 저하시키지 않는다.

본 발명의 리타더는 상기와 같은 액정층 형성용 조성물로 제조된 액정층을 구비하므로, 리타더의 물성은 그대로 유지하면서도 정전기 발생이 억제되어 제조 공정에서 tac time을 줄여 그에 따라 생산성을 향상할 수 있다.

본 발명은 액정성 화합물, 상기 액정성 화합물과 함께 배향가능한 대전방지제, 광중합 개시제 및 유기 용매를 포함함으로써, 광학 기능의 저하 없이 정전기 발생을 억제할 수 있는 액정층 형성용 조성물에 관한 것이다.

이하, 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.

본 발명의 액정층 형성용 조성물은 액정성 화합물, 대전방지제, 광중합 개시제 및 유기 용매를 포함하며, 보다 상세하게는 상기 대전방지제가 상기 액정성 화합물과 함께 배향이 가능한 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 대전방지제는 액정성 화합물의 배향을 저해하지 않고 함께 배향이 가능하므로 액정층 고유의 광학적 성능을 손상시키지 않는다. 이러한 대전방지제는 기본적인 대전방지성 외에 사용되는 액정성 화합물과 유사하게 로드(rod)형 구조를 갖는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서, 로드형 구조란 분자의 장축의 길이가 단축보다 큰 구조이며, 바람직하게는 장축이 단축의 2배 이상, 보다 바람직하게는 장축이 단축의 3배 이상의 길이를 가질 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지제는 대전방지성을 갖기 위해 관능기를 가질 수 있으며, 예를 들면 양 말단에 각각 술포네이트기를 가질 수 있다.

본 발명에 따른 대전 방지제의 보다 구체적인 예는 하기 화학식 1로 표시될 수 있다:

[화학식 1]

상기 화학식 1의 보다 구체적인 예시로는 하기 화학식 2 내지 화학식 6으로 표시되는 화합물 중 적어도 하나를 들 수 있다:

[화학식 2]

[화학식 3]

[화학식 4]

[화학식 5]

[화학식 6]

본 발명에 따른 대전 방지제는 고형분을 기준으로 상기 액정성 화합물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 함량이 0.1 중량부 미만이면 대전방지성이 충분히 발휘되지 못하며, 10 중량부 초과이면 저온 안정성이 저하될 수 있고 경화에 참여하지 못하는 대전방지제로 인해 고온고습 조건에서 위상차 저하가 발생할 수 있다.

본 발명의 액정층 형성용 조성물은 상기 대전방지제 외에 액정성 화합물, 중합 개시제, 유기 용매 등을 포함하며, 이러한 성분들은 당분야에서 사용되는 것을 특별한 제한 없이 채택하여 사용할 수 있다.

액정성 화합물은 중합 반응을 할 수 있는 액정으로서 당분야에 알려진 화합물이 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, [Cordula Mock-Knoblauch, Olivier S. Enger, Ulrich D. Schalkowsky, "L-7 Novel Polymerisable Liquid Crys talline Acrylates for the Manufacturing of Ultrathin Optical Films", SID Symposium Digest of Technical Papers, 2006년, 37권, p. 1673] 또는 일본공개특허 제2010-24438호에 개시된 액정성 화합물을 사용할 수 있으며, 시판되는 것으로는 LC242(BASF사 제조) 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.

중합 개시제는 광중합 개시제 또는 열중합 개시제를 특별한 제한 없이 사용할 수 있으며, 바람직하게는 광중합 개시제를 사용할 수 있다.

광중합 개시제의 보다 구체적인 예를 들면 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 안트라센계 화합물 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

위 트리아진계 화합물로서는, 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스 (트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리 클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.

위 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온,2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다.

하기 화학식 7 및 8 로 표시되는 화합물을 들 수 있다.

[화학식 7]

[화학식 8]

상기 화학식 8에서, R₁ 내지 R₄는 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 벤질기 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 나프틸기를 나타낸다.

상기 화학식 8로 표시되는 화합물의 바람직한 구체예로는 하기의 화학식 9 및 10의 화합물을 들 수 있다.

[화학식 9]

[화학식 10]

위 비이미다졸계 화합물로서는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라 페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸이 바람직하게 사용된다.

위 옥심계 화합물로서는, 0-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 하기 화학식 11 내지 13으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.

[화학식 11]

[화학식 12]

[화학식 13]

위 벤조인계 화합물로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.

위 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.

위 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.

위 안트라센계 화합물로서는, 예를 들면 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10- 디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다.

이 외에도 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산 메틸, 티타노센 화합물, 일본 특허 공표 2002-544205호 공보에 기재되어 있는 연쇄 이동을 일으킬 수 있는 기를 갖는 광중합 개시제 등을 들 수 있다.

또한, 광중합 개시제에는 광중합 개시 보조제를 조합하여 사용할 수도 있다. 광중합 개시제에 광중합 개시 보조제를 병용하면, 이들을 함유하는 경화성 수지 조성물은 더욱 고감도가 되어 이 조성물을 사용하여 수지층을 형성할 때의 생산성이 향상되므로 바람직하다.

광중합 개시 보조제로서는 아민 화합물, 카르복실산 화합물이 바람직하게 사용된다.

광중합 개시 보조제 중 아민 화합물의 구체예로서는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올 아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이 소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메 틸아미노)벤조페논(통칭 : 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 들 수 있다. 아민 화합물로서는 방향족 아민 화합물이 바람직하게 사용된다.

카르복실산 화합물의 구체예로서는 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸 페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티 오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다.

중합 개시제의 사용량은 고형분을 기준으로 액정성 화합물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 40중량부, 바람직하게는 1 내지 30중량부이고, 광중합 개시 보조제의 사용량은 상기의 기준으로, 통상 0.1 내지 50중량부, 바람직하게는 1 내지 20중량부이다.

본 발명에 따른 유기용매로는 당분야에서 통상적으로 사용되는 유기용매가 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 및 에틸렌글리콜모노부틸에테르와 같은 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; ?메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜에틸메틸에테르, 프로필렌글리콜디프로필에테르프로필렌글리콜프로필메틸에테르, 프로필렌글리콜에틸프로필에테르 등의 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜메틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜프로필에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜부틸에테르프로피오네이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르프로피오네이트류; 메톡시부틸알코올, 에톡시부틸알코올, 프로폭시부틸알코올, 부톡시부틸알코올 등의 부틸디올모노알킬에테르류; 메톡시부틸아세테이트, 에톡시부틸아세테이트, 프로폭시부틸아세테이트, 부톡시부틸아세테이트 등의 부탄디올모노알킬에테르아세테이트류; 메톡시부틸프로피오네이트, 에톡시부틸프로피오네이트, 프로폭시부틸프로피오네이트, 부톡시부틸프로피오네이트 등의 부탄디올모노알킬에테르프로피오네이트류; 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸에틸에테르 등의 디프로필렌글리콜디알킬에테르류; 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 2-히드록시프로피온산에틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산메틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 히드록시아세트산메틸, 히드록시아세트산에틸, 히드록시아세트산부틸, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산프로필, 락트산부틸, 3-히드록시프로피온산메틸, 3-히드록시프로피온산에틸, 3-히드록시프로피온산프로필, 3-히드록시프로피온산부틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산프로필, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 에톡시아세트산프로필, 에톡시아세트산부틸, 프로폭시아세트산메틸, 프로폭시아세트산에틸, 프로폭시아세트산프로필, 프로폭시아세트산부틸, 부톡시아세트산메틸, 부톡시아세트산에틸, 부톡시아세트산프로필, 부톡시아세트산부틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산부틸, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산부틸, 2-부톡시프로피온산메틸, 2-부톡시프로피온산에틸, 2-부톡시프로피온산프로필, 2-부톡시프로피온산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산부틸, 3-프로폭시프로피온산메틸, 3-프로폭시프로피온산에틸, 3-프로폭시프로피온산프로필, 3-프로폭시프로피온산부틸, 3-부톡시프로피온산메틸, 3-부톡시프로피온산에틸, 3-부톡시프로피온산프로필, 3-부톡시프로피온산부틸 등의 에스테르류; 테트라히드로푸란, 피란 등의 고리형 에테르류; γ-부티로락톤 등의 고리형 에스테르류 등을 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.

본 발명에 유기 용매는 적절한 점도를 유지하기 위해 조성물 총 중량 100중량%를 기준으로 상기 성분들의 함량의 잔량으로 포함될 수 있다.

본 발명의 액정층 형성용 조성물은 필요에 따라 중합 금지제, 광증감제, 충진제, 경화제, 레벨링제, 밀착촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 연쇄 이동제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.

상기와 같은 성분을 포함하는 본 발명의 액정층 형성용 조성물은 광학 기능의 저하 없이 정전기 발생을 억제할 수 있는 경화 액정층을 형성할 수 있으며, 이러한 경화 액정층은 광학 필름, 예를 들면 리타더의 배향막 상에 형성되는 경화 액정층으로 유용하게 사용될 수 있다.

본 발명의 광학 필름의 일 구현예로서 리타더는 기재 필름, 배향막 및 경화 액정층이 순차적으로 적층된 구조를 가지며, 이에 대해서 구체적으로 설명하면 다음과 같다.

본 발명에 따른 기재 필름은 당분야에서 통상적으로 사용되는 기재 필름을 특별한 제한 없이 사용될 수 있다.

당분야에서 기재 필름으로는 통상적으로 투명한 필름이 사용되며, 예를 들면 TAC(triacetyl cellulose)계, COP(cyclo-olefin polymer)계, PMMA(poly (methyl methacrylate))계 중합체 등을 포함하는 필름이다. 기재 필름은 검화(safonification) 처리, 리모트 플라즈마(remote plasma) 처리, 직접 플라즈마(direct plasma) 처리, 단량체 플라즈마(monomer plasma) 처리 등과 같은 표면 처리가 된 것일 수도 있다. PMMA계 기재 필름을 사용하는 경우에는 우레탄 비드와 같은 고분자 비드를 기재 필름 내에 분산시켜 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 배향막은 당분야에서 통상적으로 사용되는 배향제, 중합 개시제 및 유기용매를 포함하는 배향막 형성용 조성물로 형성될 수 있다. 배향제로는 당분야에서 통상적으로 사용되는 배향제가 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면 신나메이트기를 포함하며 중량평균 분자량이 10,000-500,000 정도인 고분자가 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 중합 개시제로는 당분야에서 통상적으로 사용하는 광중합 개시제 또는 열중합 개시제가 사용될 수 있다. 광중합 개시제로는 앞서 예시한 광중합 개시제가 사용될 수 있다. 유기 용매 역시 앞서 예시한 유기 용매 중에서 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.

본 발명의 리타더는 화상표시장치에 유용하게 사용될 수 있다. 적용될 수 있는 화상표시장치로는 특정한 것으로 한정되지는 않으나, 구체적으로 입체화상구현용 또는 반투과형 액정 디스플레이 장치, 무기/유기 EL 디스플레이 장치, 플렉서블 디스플레이 장치, LED, FED, VFD, 플라즈마 디스플레이 장치 등이 사용될 수 있다.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예에 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.

실시예 1-4 및 비교예 1-4

액정조성물은 하기 표 1에 기재된 조성으로 액정층 형성용 조성물 제조하였다(단위: g).

성분		실시예				비교예
성분		1	2	3	4	1	2	3	4
액정성 화합물	L1	23.9	14.3	23.9	14.3	24.7	14.8	14.3	14.3
액정성 화합물	L2	-	9.6	-	9.6		9.9	9.6	9.6
대전방지제	AS1	0.8	0.8	-		-	-	-	-
	AS2	-	-	0.8	-	-	-	-	-
	AS3	-	-	-	0.8	-	-	-	-
	AS4	-	-	-	-	-	-	0.8	-
	AS5	-	-	-	-	-	-	-	0.8
광중합 개시제		5	5	5	5	5	5	5	5
레벨링제		0.3	0.3	0.3	0.3	0.3	0.3	0.3	0.3
유기용매		70	70	70	70	70	70	70	70
L1: LC242(BASF사) L2: AS1: 화학식 5 AS2: 화학식 1(R₁=R₂=메틸, M₁=M₂=Na) AS3: 화학식 1(R₁=R₂=수소, M₁=M₂=Mg) AS4: AS5: 광중합 개시제: 레벨링제: BYK -361N(BYK사) 유기용매: 톨루엔/이소프로필알코올=95/5

실험예

TAC Film에 배향막 형성용 조성물을 도포하고 100℃에서 1분간 건조를 실시한 후, 노광을 각각 실시하여 배향막을 생성하였다. 위 배향막 상에 상기 실시예 1-4 및 비교예1-4의 액정층 형성용 조성물을 도포하고 60℃의 온도에서 1분간 건조시킨 후, 0.5J로 노광하여 경화반응을 유도하여 리타더를 제조하였다.

제조된 액정층 형성용 조성물 및 리타더에 대해서 하기 항목의 평가를 수행하고, 그 결과를 하기 표 2에 기재하였다.

1. 저온안정성 평가

저온 chamber 에 상기 톨루엔 용매의 고형분 30%의 액정층 형성용 조성물을 30ml 투명vial에 15g 씩 3개의 sample을 넣고 저온 5C에서 일주일간 관찰하였다.

○ :5 ℃ 보관조건에서 7일 이상 결정화 발생하지 않는 경우

X :5 ℃ 보관조건에서 7일 미만에 결정화 발생 경우.

2. 정전기발생정도

Hiresta-UP MCP-HT450 (Mitsubishi chemical corporation) 장비로 경화 액정층 표면의 Corona처리 전 표면저항(Ωa) 및 Corona처리 후 표면저항(Ωb) 을 측정하였다.

3. 액정배향도

액정경화후 80°C 500hr테스트후 루케오사의 WPA-100L 장비로 제조된 리타더의 위상차를 측정하였다

◎ : 위상차 125nm ± 4 미만 , 액정배향각 135° ± 4 미만

○ : 위상차 125nm ± 6 미만 , 액정배향각 135° ± 6 미만

X : 위상차 125nm ± 8 이상, 액정배향각 135° ± 8 미만

4. 정전기발생에 따른 여러 장 들림현상

점착층과 경화 액정층 각 계면에 Corona처리하여 접합한 광학필름을 5장 적재 후 최상단의 광학필름을 끝단부터 들어올렸다.

○ : 최상단을 끝단부터 들어올릴 때 두번째 광학필름이 들어올려지지 않음.

X : 최상단을 끝단부터 들어올릴 때 두번째 광학필름이 들어올려짐.

위 표 2에 기재된 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예들의 리타더는 대전방지제를 첨가하지 않은 비교예 1 및 2에 비해서 Corona 처리 후 비저항이 상당히 작은 것을 알 수 있다.

또한, 대전방지제를 첨가하였으나, 액정성 화합물과 배향되지 않은 대전방지제를 첨가한 비교예 3 및 4는 Corona 처리 후 비저항은 실시예와 유사하나, 액정 배향도가 나빠 리타더로서 사용할 수 없음을 알 수 있다.

Claims

액정성 화합물, 상기 액정성 화합물과 함께 배향가능한 대전방지제, 중합 개시제 및 유기 용매를 포함하는 액정층 형성용 조성물.
청구항 1에 있어서, 상기 대전방지제는 양 말단에 각각 술포네이트기를 포함하는 것인 액정층 형성용 조성물.
청구항 1에 있어서, 상기 대전방지제는 하기 화학식 1로 표시되는 액정층 형성용 조성물:
[화학식 1]

(식 중, R₁ 및 R₂는 서로 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 또는 알콕시기, 할로겐이고, M₁ 및 M₂는 서로 독립적으로 수소, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속임).
청구항 1에 있어서, 상기 대전방지제는 하기 화학식 2 내지 화학식 6으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나인 액정층 형성용 조성물:
[화학식 2]

[화학식 3]

[화학식 4]

[화학식 5]

[화학식 6]
청구항 1에 있어서, 상기 대전 방지제는 고형분을 기준으로 상기 액정성 화합물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부로 포함되는 액정층 형성용 조성물.
기재필름, 배향막 및 청구항 1 내지 5 중 어느 한 항의 조성물로 형성된 경화 액정층이 순차적으로 적층된 리타더.
청구항 6의 리타더를 구비하는 화상 표시 장치.