WO2023063128A1 - 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

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WO2023063128A1
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retardation
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理 小島
一裕 中島
帆奈美 伊藤
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日東電工株式会社
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    • B32B2309/105—Thickness

Definitions

  • the present invention relates to a polarizing plate with a retardation layer and an image display device using the same.
  • Image display devices represented by liquid crystal display devices and electroluminescence (EL) display devices are rapidly spreading.
  • Polarizing plates and retardation plates are typically used in image display devices.
  • a polarizing plate with a retardation layer, in which a polarizing plate and a retardation plate are integrated, is widely used (for example, Patent Document 1).
  • Thinning of the polarizing plate with the retardation layer can be achieved, for example, by omitting or thinning the protective layer of the polarizing film included in the polarizing plate, or by thinning the retardation layer (retardation film).
  • metal parts eg, electrodes and wiring
  • Such corrosion of metals is conspicuous under a high temperature and high humidity environment.
  • the present invention has been made in view of the above, and its main purpose is to provide a thin polarizing plate with a retardation layer capable of suppressing metal corrosion.
  • a polarizing plate with a retardation layer includes a polarizing plate containing iodine and including a polarizing film having a first main surface and a second main surface facing each other, and the second main surface side of the polarizing film a pressure-sensitive adhesive layer disposed in a phase difference layer disposed between the polarizing film and the pressure-sensitive adhesive layer; and an inorganic film containing silicon disposed between the polarizing film and the pressure-sensitive adhesive layer.
  • the thickness of the laminated portion from the polarizing plate to the layer adjacent to the pressure-sensitive adhesive layer is 50 ⁇ m or less.
  • the polarizing film, the retardation layer, and the inorganic film are arranged in this order.
  • the inorganic film is arranged in direct contact with the retardation layer.
  • the thickness of the inorganic film is less than 400 nm.
  • the inorganic film has a thickness of 50 nm or more.
  • the inorganic film contains at least one selected from the group consisting of silicon oxide, silicon carbide, and composites thereof.
  • the inorganic film is a deposited film.
  • the moisture permeability at 40° C. and 92% RH of the laminated portion from the layer adjacent to the second main surface of the polarizing film to the layer adjacent to the pressure-sensitive adhesive layer is 50 g/m 2 ⁇ 24 h. It is below.
  • the retardation layer is a fixed alignment layer of a liquid crystal compound.
  • an image display device is provided. This image display device has the above polarizing plate with a retardation layer.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a polarizing plate with a retardation layer according to one embodiment of the present invention
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an outline of a state in which a polarizing plate with a retardation layer is arranged on an organic EL panel in an organic EL display device according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a polarizing plate with a retardation layer according to one embodiment of the present invention
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an outline of a state in which a polarizing plate with a retardation layer is arranged on an organic EL panel in an organic EL display device according to one embodiment of the present invention.
  • refractive index (nx, ny, nz) is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (i.e., slow axis direction), and "ny” is the in-plane direction orthogonal to the slow axis (i.e., fast axis direction) and "nz” is the refractive index in the thickness direction.
  • In-plane retardation (Re) “Re( ⁇ )” is an in-plane retardation measured at 23° C. with light having a wavelength of ⁇ nm.
  • Re(550) is the in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C.
  • Thickness direction retardation (Rth) is the retardation in the thickness direction measured at 23° C. with light having a wavelength of ⁇ nm.
  • Rth(550) is the retardation in the thickness direction measured at 23° C. with light having a wavelength of 550 nm.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a polarizing plate with a retardation layer according to one embodiment of the present invention.
  • the polarizing plate 100 with a retardation layer includes a polarizing film 11 having a first main surface 11a and a second main surface 11b facing each other, a protective layer 12 disposed on the first main surface 11a side of the polarizing film 11, a polarizing It has a retardation layer 20, an inorganic film 30 and an adhesive layer 40 arranged on the second main surface 11b side of the film 11.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a polarizing plate with a retardation layer according to one embodiment of the present invention.
  • the polarizing plate 100 with a retardation layer includes a polarizing film 11 having a first main surface 11a and a second main surface 11b facing each other, a protective layer 12 disposed on the first main surface 11a side of the polarizing film 11, a polarizing It has
  • the retardation layer-attached polarizing plate 100 is typically arranged so that the polarizing film 11 is on the viewer side of the retardation layer 20 in the image display device.
  • protective layer 12 is located on the top surface of the image display device.
  • the retardation layer-attached polarizing plate 100 can be obtained, for example, by laminating the polarizing plate 10 obtained by laminating the polarizing film 11 and the protective layer 12 and other layers.
  • the polarizing plate 10 includes the polarizing film 11 and the protective layer 12 arranged on the first main surface 11a side of the polarizing film 11, but the protective layer 12 may be omitted.
  • the retardation layer 20 has a laminated structure including the first retardation layer 21 and the second retardation layer 22, but unlike the illustrated example, the retardation layer 20 has a laminated structure of three or more layers. It may have, or may be a single layer.
  • Each member constituting the polarizing plate with a retardation layer can be laminated via any appropriate adhesive layer (not shown).
  • the adhesive layer include an adhesive layer and an adhesive layer.
  • the protective layer 12 is attached to the polarizing film 11 via an adhesive layer (preferably using an active energy ray-curable adhesive).
  • the retardation layer 20 is attached to the polarizing film 11 via an adhesive layer (preferably using an active energy ray-curable adhesive).
  • the retardation layers are attached to each other, for example, via an adhesive layer (preferably using an active energy ray-curable adhesive).
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 0.4 ⁇ m or more, more preferably 0.4 ⁇ m to 3.0 ⁇ m, still more preferably 0.6 ⁇ m to 2.2 ⁇ m.
  • the adhesive layer 40 arranged on the second main surface 11b side of the polarizing film 11 enables, for example, the polarizing plate 100 with the retardation layer to be attached to an image display panel included in the image display device.
  • a release liner is practically adhered to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 40 .
  • the release liner can be temporarily attached until the retardation layer-attached polarizing plate is ready for use.
  • a release liner for example, it is possible to protect the pressure-sensitive adhesive layer and roll-form the retardation layer-attached polarizing plate.
  • An inorganic film 30 is arranged between the polarizing film 11 and the adhesive layer 40 .
  • corrosion of the metal can be suppressed while contributing to thinning of the polarizing plate with the retardation layer.
  • the arrangement of the inorganic film 30 is not particularly limited, from the viewpoint of preventing defects in appearance (for example, the occurrence of cracks), the inorganic film 30 is arranged such that the polarizing film 11 is arranged with respect to the retardation layer 20 as shown in the figure. It is preferably placed on the side where it is not
  • the inorganic film 30 is arranged, for example, in direct contact with the retardation layer 20 . Such a configuration can contribute to thinning the polarizing plate with the retardation layer.
  • the polarizing plate with a retardation layer may be elongated or sheet-shaped.
  • the term "elongated” refers to an elongated shape whose length is sufficiently longer than its width, for example, an elongated shape whose length is 10 times or more, preferably 20 times or more, its width.
  • the elongated retardation layer-attached polarizing plate can be wound into a roll.
  • the thickness of the laminated portion from the polarizing plate 10 (protective layer 12) to the layer adjacent to the adhesive layer 40 (inorganic film 30 in the illustrated example) is, for example, 60 ⁇ m or less, preferably 50 ⁇ m or less, more preferably 40 ⁇ m or less.
  • Such a thickness contributes to thinning of the image display device, and for example, it may be possible to mount a member (such as a battery) to cope with an increase in size of the screen.
  • a member such as a battery
  • the thickness of the retardation layer-attached polarizing plate is, for example, 10 ⁇ m or more.
  • the thickness of the retardation layer-attached polarizing plate also includes the thickness of the adhesive layer.
  • an adhesive layer that may be placed between the protective layer and the polarizing film, an adhesive layer that may be placed between the polarizing film and the retardation layer, and a retardation layer when the retardation layer has a laminated structure Also included is the thickness of the adhesive layer that may be placed at.
  • the thickness of the retardation layer-attached polarizing plate does not include the thickness of the adhesive layer for adhering the retardation layer-attached polarizing plate to an external adherend such as a panel or glass.
  • the moisture permeability at 40° C. and 92% RH of the laminated portion from the layer adjacent to the second main surface 11b of the polarizing film 11 to the layer adjacent to the adhesive layer 40 is preferably 200 g/m 2 ⁇ 24 h or less, It is more preferably 150 g/m 2 ⁇ 24h or less, still more preferably 100 g/m 2 ⁇ 24h or less, and particularly preferably 50 g/m 2 ⁇ 24h or less. According to such a configuration, metal corrosion can be suppressed more effectively. Specifically, elution and migration of iodine from the polarizing film can be suppressed. On the other hand, the moisture permeability at 40° C.
  • RH of the laminated portion from the layer adjacent to the second main surface of the polarizing film to the layer adjacent to the pressure-sensitive adhesive layer is, for example, 1 g/m 2 ⁇ 24 h or more. Note that "adjacent" includes not only direct adjacency but also adjacency via an adhesive layer.
  • the polarizing plate includes a polarizing film and a protective layer.
  • a polarizing plate can be obtained by laminating a polarizing film and a protective layer via an adhesive layer.
  • the polarizing film is typically a resin film containing a dichroic substance. Iodine is preferably used as the dichroic substance.
  • resin films include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA) films, partially formalized PVA films, and partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films.
  • the thickness of the polarizing film is preferably 12 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, and even more preferably 8 ⁇ m or less. On the other hand, the thickness of the polarizing film is preferably 1 ⁇ m or more.
  • the polarizing film preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm.
  • the single transmittance of the polarizing film is, for example, 41.5% to 48.0%, preferably 42.0% to 46.0%.
  • the polarization degree of the polarizing film is, for example, 90.0% or more, preferably 99.0% or more, and more preferably 99.9% or more.
  • the polarizing film can be produced by any appropriate method. Specifically, the polarizing film may be produced from a single-layer resin film, or may be produced using a laminate of two or more layers.
  • the method of producing a polarizing film from the above single-layer resin film typically includes subjecting the resin film to a dyeing treatment with a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye and a stretching treatment.
  • a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye
  • a stretching treatment for example, hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA) films, partially formalized PVA films, and partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films are used.
  • the method may further include an insolubilization treatment, a swelling treatment, a cross-linking treatment, and the like. Since such a manufacturing method is well known and commonly used in the industry, detailed description thereof will be omitted.
  • a polarizing film obtained using the laminate can be produced, for example, using a laminate of a resin substrate and a resin film or resin layer (typically, a PVA-based resin layer).
  • a PVA-based resin solution is applied to a resin base material, dried to form a PVA-based resin layer on the resin base material, and a laminate of the resin base material and the PVA-based resin layer is obtained; stretching and dyeing the laminate to make the PVA-based resin layer into a polarizing film;
  • a PVA-based resin layer containing a halide and a PVA-based resin is formed on one side of the resin substrate. Stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous boric acid solution for stretching.
  • stretching may further include stretching the laminate in air at a high temperature (eg, 95° C. or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution, if necessary.
  • the laminate is preferably subjected to drying shrinkage treatment in which the laminate is heated while being conveyed in the longitudinal direction to shrink the laminate by 2% or more in the width direction.
  • the manufacturing method of the present embodiment includes subjecting the laminate to an in-air auxiliary stretching treatment, a dyeing treatment, an underwater stretching treatment, and a drying shrinkage treatment in this order.
  • a polarizing plate can be obtained by laminating a protective layer on the peeled surface of the obtained resin substrate/polarizing film laminate, or on the surface opposite to the peeled surface. Details of the method for manufacturing such a polarizing film are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580 and Japanese Patent No. 6470455. These publications are incorporated herein by reference in their entireties.
  • the protective layer may be formed of any suitable film that can be used as a protective layer for a polarizing film.
  • suitable film such as triacetyl cellulose (TAC), polyesters, polyvinyl alcohols, polycarbonates, polyamides, polyimides, polyethersulfones, polysulfones, Examples include resins such as polystyrene, cycloolefins such as polynorbornene, polyolefins, (meth)acrylic, and acetate.
  • the polarizing plate with a retardation layer according to the embodiment of the present invention is typically arranged on the viewing side of the image display device, and the protective layer is arranged on the viewing side. Therefore, the protective layer may be subjected to surface treatment such as hard coat (HC) treatment, anti-reflection treatment, anti-sticking treatment, anti-glare treatment, etc., if necessary.
  • surface treatment such as hard coat (HC) treatment, anti-reflection treatment, anti-sticking treatment, anti-glare treatment, etc.
  • the thickness of the protective layer is preferably less than 30 ⁇ m, more preferably 28 ⁇ m or less. On the other hand, the thickness of the protective layer is preferably 11 ⁇ m or more, more preferably 13 ⁇ m or more. In addition, when the said surface treatment is performed, the thickness of a protective layer is thickness including the thickness of a surface treatment layer.
  • the thickness of the retardation layer is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 8 ⁇ m or less, and even more preferably 7 ⁇ m or less, depending on its configuration (whether it is a single layer or has a laminated structure). is. On the other hand, the thickness of the retardation layer is, for example, 0.5 ⁇ m or more.
  • the "thickness of the retardation layer” means the total thickness of each retardation layer. Specifically, the "thickness of the retardation layer" does not include the thickness of the adhesive layer.
  • an alignment solidified layer of a liquid crystal compound (liquid crystal alignment solidified layer) is preferably used.
  • a liquid crystal compound for example, the difference between nx and ny in the resulting retardation layer can be significantly increased compared to a non-liquid crystal material. thickness can be significantly reduced. Therefore, it is possible to realize a remarkable thinning of the polarizing plate with the retardation layer.
  • the term "fixed alignment layer” refers to a layer in which a liquid crystal compound is aligned in a predetermined direction and the alignment state is fixed.
  • the "alignment fixed layer” is a concept including an alignment cured layer obtained by curing a liquid crystal monomer as described later.
  • rod-shaped liquid crystal compounds are typically aligned in the slow axis direction of the retardation layer (homogeneous alignment).
  • the liquid crystal alignment fixed layer is formed by subjecting the surface of a predetermined base material to an alignment treatment, coating the surface with a coating liquid containing a liquid crystal compound, and orienting the liquid crystal compound in a direction corresponding to the alignment treatment. It can be formed by fixing the orientation state. Any appropriate orientation treatment can be adopted as the orientation treatment. Specific examples include mechanical orientation treatment, physical orientation treatment, and chemical orientation treatment. Specific examples of mechanical orientation treatment include rubbing treatment and stretching treatment. Specific examples of physical orientation treatment include magnetic orientation treatment and electric field orientation treatment. Specific examples of chemical alignment treatment include oblique vapor deposition and photo-alignment treatment. Arbitrary appropriate conditions can be adopted as the processing conditions for various alignment treatments depending on the purpose.
  • the alignment of the liquid crystal compound is performed by processing at a temperature that exhibits a liquid crystal phase depending on the type of liquid crystal compound. By performing such a temperature treatment, the liquid crystal compound assumes a liquid crystal state, and the liquid crystal compound is aligned in accordance with the orientation treatment direction of the surface of the base material.
  • the alignment state is fixed by cooling the liquid crystal compound aligned as described above.
  • the orientation state is fixed by subjecting the liquid crystal compound oriented as described above to a polymerization treatment or a crosslinking treatment.
  • liquid crystal compound and details of the method for forming the alignment fixed layer are described in JP-A-2006-163343. The description of the publication is incorporated herein by reference.
  • the retardation layer may be a single layer or may have a laminated structure of two or more layers.
  • the retardation layer when the retardation layer is a single layer, the retardation layer can function as a ⁇ /4 plate.
  • Re(550) of the retardation layer is preferably 100 nm to 180 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, still more preferably 110 nm to 160 nm.
  • the thickness of the retardation layer can be adjusted so as to obtain the desired in-plane retardation of the ⁇ /4 plate.
  • the retardation layer is the liquid crystal alignment fixing layer described above, its thickness is, for example, 1.0 ⁇ m to 2.5 ⁇ m.
  • the angle between the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizing film is preferably 40° to 50°, more preferably 42° to 48°, and even more preferably 44°. ° to 46°.
  • the retardation layer preferably exhibits reverse dispersion wavelength characteristics in which the retardation value increases according to the wavelength of the measurement light.
  • the retardation layer 20 when the retardation layer 20 has a laminated structure, the retardation layer 20 includes, for example, a first retardation layer (H layer) 21 and a second retardation layer (Q layer) in order from the polarizing plate 10 side. 22 are arranged in a two-layer laminated structure.
  • the H layer can typically function as a ⁇ /2 plate and the Q layer can typically function as a ⁇ /4 plate.
  • Re(550) of the H layer is preferably 200 nm to 300 nm, more preferably 220 nm to 290 nm, still more preferably 230 nm to 280 nm;
  • Re(550) of the Q layer is preferably It is 100 nm to 180 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, even more preferably 110 nm to 150 nm.
  • the thickness of the H layer can be adjusted to obtain the desired in-plane retardation of the ⁇ /2 plate.
  • the H layer is the liquid crystal alignment fixing layer described above, its thickness is, for example, 2.0 ⁇ m to 4.0 ⁇ m.
  • the thickness of the Q layer can be adjusted to obtain the desired in-plane retardation of the ⁇ /4 plate.
  • the Q layer is the liquid crystal alignment fixing layer described above, its thickness is, for example, 0.5 ⁇ m to 2.5 ⁇ m.
  • the angle between the slow axis of the H layer and the absorption axis of the polarizing film is preferably 10° to 20°, more preferably 12° to 18°, still more preferably 12°. ⁇ 16°; the angle formed by the slow axis of the Q layer and the absorption axis of the polarizing film is preferably 70° to 80°, more preferably 72° to 78°, still more preferably 72° ⁇ 76°.
  • each layer may exhibit reverse dispersion wavelength characteristics in which the retardation value increases according to the wavelength of the measurement light. It may exhibit a positive wavelength dispersion characteristic in which the value decreases according to the wavelength of the measurement light, or may exhibit a flat wavelength dispersion characteristic in which the retardation value hardly changes even with the wavelength of the measurement light.
  • the Nz coefficient of the retardation layer is preferably 0.9 to 1.5, more preferably 0.9 to 1.3.
  • the retardation layer is preferably a liquid crystal alignment fixed layer.
  • the liquid crystal compound include a liquid crystal compound having a nematic liquid crystal phase (nematic liquid crystal).
  • a liquid crystal compound for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used. Either lyotropic or thermotropic mechanism may be used to develop the liquid crystallinity of the liquid crystal compound.
  • the liquid crystal polymer and liquid crystal monomer may be used alone or in combination.
  • the liquid crystal monomer is preferably a polymerizable monomer and a crosslinkable monomer.
  • the alignment state of the liquid crystal monomer can be fixed by polymerizing or cross-linking (that is, curing) the liquid crystal monomer. After aligning the liquid crystal monomers, for example, the alignment state can be fixed by polymerizing or cross-linking the liquid crystal monomers.
  • a polymer is formed by polymerization and a three-dimensional network structure is formed by cross-linking, but these are non-liquid crystalline. Therefore, the formed retardation layer does not undergo a transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to a change in temperature, which is peculiar to liquid crystalline compounds. As a result, the retardation layer becomes a highly stable retardation layer that is not affected by temperature changes.
  • the temperature range in which the liquid crystal monomer exhibits liquid crystallinity differs depending on the type. Specifically, the temperature range is preferably 40°C to 120°C, more preferably 50°C to 100°C, and most preferably 60°C to 90°C.
  • liquid crystal monomer Any appropriate liquid crystal monomer can be adopted as the liquid crystal monomer.
  • polymerizable mesogenic compounds described in JP-T-2002-533742 WO00/37585
  • EP358208 US5211877
  • EP66137 US4388453
  • WO93/22397 EP0261712, DE19504224, DE4408171, and GB2280445
  • Specific examples of such polymerizable mesogenic compounds include LC242 (trade name) available from BASF, E7 (trade name) available from Merck, and LC-Sillicon-CC3767 (trade name) available from Wacker-Chem.
  • a nematic liquid crystal monomer is preferable as the liquid crystal monomer.
  • the inorganic film 30 contains silicon. Specifically, it contains a silicon compound. Silicon compounds include, for example, silicon oxide, silicon nitride, silicon carbide, and composites thereof. Preferably, the inorganic film contains at least one selected from the group consisting of silicon oxide, silicon carbide, and composites thereof.
  • the thickness of the inorganic film is, for example, 50 nm or more, preferably 70 nm or more, and more preferably 90 nm or more. With such a thickness, metal corrosion can be more effectively suppressed.
  • the thickness of the inorganic film is preferably less than 400 nm, more preferably 350 nm or less, still more preferably 300 nm or less, particularly preferably 250 nm or less, and may be 200 nm or less. Employing an inorganic film can satisfactorily suppress metal corrosion even with such a thickness. In addition, such a thickness can prevent defects in appearance (for example, occurrence of cracks).
  • the inorganic film can be deposited by any appropriate method.
  • the film can be formed by vacuum deposition, physical vapor deposition such as sputtering, or chemical vapor deposition.
  • chemical vapor deposition plasma chemical vapor deposition (CVD) is preferable from the viewpoint that film formation is possible in a low-temperature process and the object to be film-formed is not damaged by heat.
  • the inorganic film is a deposited film.
  • the inorganic film can be formed directly on the surface of the adjacent layer (for example, retardation layer, polarizing film).
  • the inorganic film may be partially formed in a region overlapping the polarizing film in plan view, but is preferably formed over the entire area.
  • the thickness of the adhesive layer 40 is preferably 10 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the adhesive layer can be composed of any appropriate adhesive. Specific examples include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, polyester adhesives, urethane adhesives, epoxy adhesives, and polyether adhesives. By adjusting the type, number, combination and compounding ratio of the monomers forming the base resin of the adhesive, as well as the compounding amount of the cross-linking agent, the reaction temperature, the reaction time, etc., an adhesive having desired properties according to the purpose. can be prepared.
  • the base resin of the adhesive may be used alone or in combination of two or more.
  • the base resin is preferably an acrylic resin (specifically, the pressure-sensitive adhesive layer is preferably composed of an acrylic pressure-sensitive adhesive).
  • the polarizing plate with retardation layer according to the embodiment of the present invention can be typically obtained by laminating the polarizing plate and the retardation layer.
  • the lamination of the polarizing plate and the retardation layer is performed, for example, while transporting them by roll (so-called roll-to-roll).
  • Lamination is typically performed by transferring a liquid crystal alignment solidified layer formed on a substrate.
  • each retardation layer may be sequentially laminated (transferred) to the polarizing plate, and a laminate in which the retardation layers are laminated in advance is attached to the polarizing plate. It may be laminated (transferred).
  • the inorganic film can be deposited at an appropriate timing so as to be arranged at a desired position.
  • the film may be formed before laminating the polarizing plate and the retardation layer, or may be formed after laminating the polarizing plate and the retardation layer.
  • an image display device has the retardation layer-attached polarizing plate.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an image display device according to one embodiment of the present invention, using an organic EL display device as an example.
  • an organic EL display device according to one embodiment of the present invention, it is a schematic cross-sectional view showing an outline of a state in which a polarizing plate with a retardation layer is arranged on an organic EL panel.
  • the retardation layer-equipped polarizing plate 100 is arranged so that the inorganic film 30 is closer to the organic EL panel main body 70 than the polarizing film 11 .
  • the retardation layer-equipped polarizing plate 100 is attached to the organic EL panel main body 70 with the adhesive layer 40 .
  • the organic EL panel main body 70 has a substrate 71 and an upper structure layer 72 including a circuit layer including thin film transistors (TFTs) and the like, an organic light emitting diode (OLED), a sealing film for sealing the OLED, and the like.
  • TFTs thin film transistors
  • OLED organic light emitting diode
  • the upper structural layer 72 includes metal layers such as wiring layers and electrode layers, and the metal layers can be corroded by iodine contained in the polarizing film 11 .
  • the elution of the metal may occur due to the oxidation-reduction reaction between the metal contained in the metal layer and iodine. Such reactions can be accelerated, for example, in a hot and humid environment.
  • the retardation layer-attached polarizing plate corrosion of metal contained in the main body of the image display device can be significantly suppressed. Also, the problem of metal corrosion can be solved without changing the design of the image display device main body.
  • the thickness and moisture permeability are values measured by the following measuring methods. In addition, unless otherwise specified, "parts" and “%" in Examples and Comparative Examples are by weight. 1. Thickness The thickness of 10 ⁇ m or less was measured using a scanning electron microscope (manufactured by JEOL Ltd., product name “JSM-7100F”). A thickness exceeding 10 ⁇ m was measured using a digital micrometer (manufactured by Anritsu Co., Ltd., product name “KC-351C”). 2. Moisture Permeability Moisture permeability was determined by the cup method (JIS Z 0208).
  • Example 1 Preparation of polarizing plate
  • a thermoplastic resin substrate a long amorphous isophthalic copolymerized polyethylene terephthalate film (thickness: 100 ⁇ m) having a Tg of about 75° C. was used, and one side of this resin substrate was subjected to corona treatment.
  • PVA-based resin obtained by mixing polyvinyl alcohol (degree of polymerization: 4200, degree of saponification: 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name "GOSEFIMER”) at a weight ratio of 9:1.
  • the finally obtained polarizing film is placed in a dyeing bath (iodine aqueous solution obtained by blending iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7 with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30 ° C. It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration so that the single transmittance (Ts) was a desired value (dyeing treatment). Next, it was immersed for 30 seconds in a cross-linking bath at a liquid temperature of 40°C (an aqueous solution of boric acid obtained by blending 3 parts by weight of potassium iodide and 5 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water).
  • crosslinking treatment After that, while immersing the laminate in an aqueous solution of boric acid (boric acid concentration: 4% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight) at a liquid temperature of 70° C., the laminate was moved vertically (longitudinally) between rolls with different peripheral speeds. Uniaxial stretching was performed so that the stretching ratio was 5.5 times (underwater stretching treatment). After that, the laminate was immersed in a washing bath (aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of potassium iodide with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 20° C. (washing treatment).
  • a washing bath aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of potassium iodide with 100 parts by weight of water
  • a COP film having an HC layer formed thereon was attached as a protective layer to the polarizing film side of the obtained laminate via an ultraviolet curable adhesive (having a thickness of 1.5 ⁇ m after curing). Thereafter, the resin substrate was peeled off from the polarizing film to obtain a polarizing plate having a structure of HC layer/COP film/adhesive layer/polarizing film.
  • the COP film on which the HC layer was formed was obtained by forming a 2 ⁇ m-thick hard coat layer on a cycloolefin-based unstretched film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., thickness 25 ⁇ m).
  • Polymerizable liquid crystal exhibiting a nematic liquid crystal phase (manufactured by BASF: trade name “Paliocolor LC242”, represented by the following formula) 10 g, and a photopolymerization initiator for the polymerizable liquid crystal compound (manufactured by BASF: trade name “Irgacure 907 ”) was dissolved in 40 g of toluene to prepare a liquid crystal composition (coating liquid).
  • the surface of a polyethylene terephthalate (PET) film was rubbed with a rubbing cloth and subjected to orientation treatment.
  • the direction of the orientation treatment was set at 15° to the direction of the absorption axis of the polarizing film when viewed from the viewing side when the film was attached to the polarizing plate.
  • the above liquid crystal coating solution was applied to the alignment-treated surface using a bar coater, and dried by heating at 90° C. for 2 minutes to align the liquid crystal compound.
  • the liquid crystal layer thus formed is irradiated with light of 1 mJ/cm 2 using a metal halide lamp to cure the liquid crystal layer, thereby forming a liquid crystal alignment fixed layer A (H layer) on the PET film. bottom.
  • a liquid crystal alignment fixed layer B (Q layer) was formed.
  • a silicon carbide oxide film having a thickness of 100 nm was formed on the surface of the liquid crystal alignment fixed layer B.
  • a polarizing plate laminated with a liquid crystal alignment fixed layer is set in a roll-to-roll CVD film forming apparatus, and after the pressure in the vacuum chamber is reduced to 1 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, while the polarizing plate is running, Hexamethyldisiloxane (HMDSO) and oxygen vaporized by heating, which are film forming materials, were introduced into the chamber under the conditions of a substrate temperature of 12° C., a flow rate of 25 sccm and a flow rate of 700 sccm, respectively, and the pressure was set to about 1.0 Pa to generate plasma.
  • HMDSO Hexamethyldisiloxane
  • oxygen vaporized by heating which are film forming materials
  • a plasma was generated by discharging under the conditions of a power supply frequency of 80 kHz and a power of 1.0 kW to form a film.
  • an adhesive layer having a thickness of 15 ⁇ m was formed on the surface of the silicon carbide oxide film using an acrylic adhesive to obtain a polarizing plate with a retardation layer.
  • the moisture permeability at 40° C. and 92% RH of the laminated portion from the liquid crystal alignment fixed layer A to the silicon carbide oxide film was 40 g/m 2 ⁇ 24 h.
  • Example 2 A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the silicon carbide oxide film was 200 nm. In the obtained polarizing plate with a retardation layer, the moisture permeability at 40° C. and 92% RH of the laminated portion from the liquid crystal alignment solid layer A to the silicon carbide oxide film was 30 g/m 2 ⁇ 24 h.
  • Example 3 A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that instead of forming a 100 nm-thick silicon oxide carbide film, a 100 nm-thick silicon oxide film was formed by reactive sputtering.
  • the silicon oxide film was formed by attaching a pure Si target (manufactured by Daido Steel Co., Ltd.) to an AC sputtering apparatus (AC: 40 kHz) and setting a polarizing plate laminated with a liquid crystal alignment fixed layer. After evacuating to 0 ⁇ 10 ⁇ 4 Pa, Ar gas and oxygen (O 2 ) gas were introduced into the chamber so that the oxygen partial pressure (O 2 /(Ar+O 2 )) was 0.05.
  • the pressure was set to about 0.15 Pa, and discharge was performed under the conditions of a power density of 2.23 W/cm 2 .
  • the moisture permeability at 40° C. and 92% RH of the laminated portion from the liquid crystal alignment fixed layer A to the silicon oxide film was 30 g/m 2 ⁇ 24 h.
  • Example 4 A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the silicon carbide oxide film was 400 nm. In the obtained polarizing plate with a retardation layer, the moisture permeability at 40° C. and 92% RH of the laminated portion from the liquid crystal alignment fixed layer A to the silicon carbide oxide film was 20 g/m 2 ⁇ 24 h.
  • Example 5 After forming a silicon oxycarbide film under the same conditions as in Example 2 on the surface of the polarizing film of the polarizing plate obtained in the same manner as in Example 1, liquid crystal was applied to the surface of the silicon oxycarbide film in the same manner as in Example 1.
  • the alignment fixed layer A (H layer) and the liquid crystal alignment fixed layer B (Q layer) were transferred in this order.
  • an adhesive layer having a thickness of 15 ⁇ m was formed on the surface of the liquid crystal alignment fixed layer B with an acrylic adhesive to obtain a polarizing plate with a retardation layer.
  • the moisture permeability at 40° C. and 92% RH of the laminated portion from the silicon carbide oxide film to the liquid crystal alignment solid layer B was 30 g/m 2 ⁇ 24 h.
  • Example 1 A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that no silicon carbide oxide film was formed.
  • the laminated portion from the liquid crystal alignment fixed layer A to the liquid crystal alignment fixed layer B had a moisture permeability at 40° C. and 92% RH of 400 to 500 g/m 2 ⁇ 24 h.
  • Example 2 A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that an organic film with a thickness of 400 nm was formed instead of forming a silicon carbide oxide film with a thickness of 100 nm.
  • acrylic resin manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd., product name "B-811”
  • thermoplastic epoxy resin manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "jER (registered trademark) YX6954BH30” 85 parts ( solid content) was dissolved in 80 parts of methyl ethyl ketone to obtain a resin solution (20%).
  • This resin solution was applied to the surface of the liquid crystal alignment fixed layer B using a wire bar, and the applied film was dried at 60° C. for 5 minutes to form an organic film.
  • the moisture permeability at 40° C. and 92% RH of the laminated portion from the liquid crystal alignment fixed layer A to the organic film was 400 to 500 g/m 2 ⁇ 24 h.
  • a long roll of polyvinyl alcohol (PVA)-based resin film with a thickness of 30 ⁇ m (manufactured by Kuraray, product name “PE3000”) is uniaxially stretched in the longitudinal direction by a roll stretching machine so as to be 5.9 times the length while simultaneously being stretched. After swelling, dyeing, cross-linking, and washing treatments were performed in this order, a drying treatment was finally performed to prepare a polarizing film having a thickness of 12 ⁇ m. In the swelling treatment, the film was stretched 2.2 times while being treated with pure water at 20°C. Next, the dyeing treatment is performed in an aqueous solution at 30° C.
  • PVA polyvinyl alcohol
  • the cross-linking treatment employed two-step cross-linking treatment, and the first-step cross-linking treatment was performed by stretching the film 1.2 times while treating it in an aqueous solution of boric acid and potassium iodide at 40°C.
  • the boric acid content of the aqueous solution for the first-stage cross-linking treatment was 5.0% by weight, and the potassium iodide content was 3.0% by weight.
  • the film was stretched 1.6 times while being treated in an aqueous solution of boric acid and potassium iodide at 65°C.
  • the boric acid content of the aqueous solution for the second-stage cross-linking treatment was 4.3% by weight, and the potassium iodide content was 5.0% by weight.
  • the washing treatment was carried out with an aqueous potassium iodide solution at 20°C.
  • the potassium iodide content of the aqueous solution for the cleaning treatment was 2.6% by weight.
  • a drying treatment was performed at 70° C. for 5 minutes to obtain a polarizing film.
  • a TAC film (thickness: 25 ⁇ m) having an HC layer (thickness: 7 ⁇ m) and a TAC film having a thickness of 25 ⁇ m were laminated via a polyvinyl alcohol-based adhesive to form an HC layer/TAC.
  • a polarizing plate having a structure of film/adhesive layer/polarizing film/adhesive layer/TAC film was obtained.
  • the moisture permeability at 40° C. and 92% RH of the laminated portion from the TAC film to the liquid crystal alignment solid layer B was 300 to 400 g/m 2 ⁇ 24 h.
  • an overcoat liquid (solid content concentration: about 1%) was applied to the surface of the silver nanowire coating film using a wire bar so that the wet film thickness was 10 ⁇ m, and dried in an oven at 100° C. for 5 minutes. Then, an active energy ray was applied to cure the overcoat film to prepare a metal film having a configuration of PET film/silver nanowire layer/overcoat layer (thickness: 100 nm). This metal film was attached to a glass plate having a thickness of 0.5 mm using an adhesive (15 ⁇ m) to obtain a laminate of metal film/adhesive/glass plate.
  • the resistance value of the obtained laminate was measured with a non-contact resistance measuring device (manufactured by Napson Co., Ltd., product name: "EC-80") and found to be 50 ⁇ / ⁇ .
  • the obtained polarizing plate with a retardation layer was attached to the surface of the overcoat layer of the metal film of the laminate to prepare a test sample.
  • the resistance value of this test sample was measured with a non-contact resistance measuring instrument and taken as the initial resistance value.
  • the resistance value was measured in the same manner as above. was measured.
  • the rate of increase in resistance value was calculated by the following formula and evaluated according to the following criteria.
  • Resistance value increase rate (%) ⁇ (resistance value after reliability test - initial resistance value) / initial resistance value ⁇ x 100 (Evaluation criteria) Good: Resistance value increase rate is less than 2000% Poor: Resistance value increase rate is 2000% or more2. Appearance After bonding the obtained polarizing plate with a retardation layer to non-alkali glass, this was placed in an environment of 85° C. and 85% RH for 240 hours, and then the appearance was visually observed to determine the presence or absence of cracks and peeling. It was confirmed.
  • a polarizing plate with a retardation layer according to an embodiment of the present invention is used in an image display device, and can also be suitably used in a curved, bendable, foldable, or rollable image display device.
  • Typical image display devices include liquid crystal display devices, organic EL display devices, and inorganic EL display devices.

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Abstract

金属の腐食を抑えることが可能な薄型の位相差層付偏光板を提供する。本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、ヨウ素を含み、互いに対向する第一主面および第二主面を有する偏光膜を含む偏光板と、前記偏光膜の前記第二主面側に配置される粘着剤層と、前記偏光膜と前記粘着剤層との間に配置される位相差層と、前記偏光膜と前記粘着剤層との間に配置され、ケイ素を含む無機膜と、を有し、前記偏光板から前記粘着剤層に隣接する層までの積層部分の厚みは５０μｍ以下である。

Description

位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
　本発明は、位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置に関する。
　液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置には、代表的には偏光板および位相差板が用いられている。実用的には、偏光板と位相差板とを一体化した位相差層付偏光板が広く用いられている（例えば、特許文献１）。
　近年、画像表示装置の薄型化への要望が強くなるに伴って、位相差層付偏光板についても薄型化の要望が強まっている。例えば、可撓性基板（例えば、樹脂基板）を用いて、画像表示装置の湾曲、屈曲、折り畳み、巻き取りの可能性が検討され、これに対応可能な薄型の位相差層付偏光板が求められている。
特許第３３２５５６０号公報
　位相差層付偏光板の薄型化は、例えば、偏光板に含まれる偏光膜の保護層の省略または薄型化や位相差層（位相差フィルム）の薄型化により達成され得る。しかし、画像表示装置に薄型の位相差層付偏光板を用いると、画像表示装置の金属部分（例えば、電極、配線）が腐食する場合がある。このような金属の腐食は、高温高湿環境下で顕著である。
　本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、その主たる目的は、金属の腐食を抑えることが可能な薄型の位相差層付偏光板を提供することにある。
　本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、ヨウ素を含み、互いに対向する第一主面および第二主面を有する偏光膜を含む偏光板と、前記偏光膜の前記第二主面側に配置される粘着剤層と、前記偏光膜と前記粘着剤層との間に配置される位相差層と、前記偏光膜と前記粘着剤層との間に配置され、ケイ素を含む無機膜と、を有し、前記偏光板から前記粘着剤層に隣接する層までの積層部分の厚みは５０μｍ以下である。
　１つの実施形態においては、上記偏光膜と、上記位相差層と、上記無機膜とがこの順に配置される。
　１つの実施形態においては、上記無機膜は、上記位相差層に直に接して配置される。
　１つの実施形態においては、上記無機膜の厚みは４００ｎｍ未満である。
　１つの実施形態においては、上記無機膜の厚みは５０ｎｍ以上である。
　１つの実施形態においては、上記無機膜は、酸化ケイ素、炭化ケイ素、および、これらの複合体からなる群から選択される少なくとも１つを含む。
　１つの実施形態においては、上記無機膜は蒸着膜である。
　１つの実施形態においては、上記偏光膜の上記第二主面に隣接する層から上記粘着剤層に隣接する層までの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は５０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下である。
　１つの実施形態においては、上記位相差層は液晶化合物の配向固化層である。
　本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記の位相差層付偏光板を有する。
　本発明の実施形態による位相差層付偏光板によれば、金属の腐食を抑制し得る。
本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略の構成を示す模式的な断面図である。 本発明の１つの実施形態による有機ＥＬ表示装置において、有機ＥＬパネルに位相差層付偏光板が配置された状態の概略を示す模式的な断面図である。
　以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。図面は説明をより明確にするため、実施の形態に比べ、各部の幅、厚み、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、図面については、同一または同等の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略することがある。
（用語および記号の定義）
　本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
　「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
　「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
　「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
　Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
　本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は±４５°を意味する。
　図１は、本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略の構成を示す模式的な断面図である。位相差層付偏光板１００は、互いに対向する第一主面１１ａおよび第二主面１１ｂを有する偏光膜１１と、偏光膜１１の第一主面１１ａ側に配置された保護層１２と、偏光膜１１の第二主面１１ｂ側に配置された位相差層２０、無機膜３０および粘着剤層４０を有する。偏光膜１１と位相差層２０との間には保護層が配置されておらず、位相差層２０は偏光膜１１に隣接して配置されて偏光膜１１の保護層として機能し得る。このような構成によれば、後述の位相差層付偏光板の厚みを良好に達成し得る。位相差層付偏光板１００は、代表的には、画像表示装置において位相差層２０よりも偏光膜１１が視認側となるように配置される。１つの実施形態においては、保護層１２は、画像表示装置の最表面に位置する。位相差層付偏光板１００は、例えば、偏光膜１１と保護層１２とを積層して得られる偏光板１０と、その他の層を積層することにより得ることができる。
　図示例では、偏光板１０は、偏光膜１１と偏光膜１１の第一主面１１ａ側に配置される保護層１２とを含んでいるが、保護層１２は省略されてもよい。また、位相差層２０は第一位相差層２１および第二位相差層２２を含む積層構造を有しているが、図示例とは異なり、位相差層２０は、三層以上の積層構造を有していてもよいし、単一層とされていてもよい。
　位相差層付偏光板を構成する各部材は、任意の適切な接着層（図示せず）を介して積層され得る。接着層の具体例としては、接着剤層、粘着剤層が挙げられる。例えば、保護層１２は、接着剤層を介して（好ましくは、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて）偏光膜１１に貼り合わせられる。例えば、位相差層２０は、接着剤層を介して（好ましくは、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて）偏光膜１１に貼り合わせられる。図示するように、位相差層２０が二層以上の積層構造を有する場合、位相差層どうしは、例えば、接着剤層を介して（好ましくは、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて）貼り合わせられる。接着剤層の厚みは、好ましくは０．４μｍ以上であり、より好ましくは０．４μｍ～３．０μｍであり、さらに好ましくは０．６μｍ～２．２μｍである。
　偏光膜１１の第二主面１１ｂ側に配置される粘着剤層４０により、例えば、位相差層付偏光板１００は画像表示装置に含まれる画像表示パネルに貼り付け可能とされる。図示しないが、粘着剤層４０の表面には、実用的には、はく離ライナーが貼り合わせられる。はく離ライナーは、位相差層付偏光板が使用に供されるまで仮着され得る。はく離ライナーを用いることにより、例えば、粘着剤層を保護するとともに、位相差層付偏光板のロール形成が可能となる。
　偏光膜１１と粘着剤層４０との間に、無機膜３０が配置されている。無機膜３０を用いることにより、位相差層付偏光板の薄型化に寄与しながら、上記金属の腐食を抑制し得る。無機膜３０の配置は特に限定されないが、外観上の不具合（例えば、クラックの発生）の防止の観点から、図示するように、無機膜３０は、位相差層２０に対して偏光膜１１が配置されない側に配置されることが好ましい。無機膜３０は、例えば、位相差層２０に直に接して配置される。このような構成によれば、位相差層付偏光板の薄型化に寄与し得る。
　位相差層付偏光板は、長尺状であってもよいし、枚葉状であってもよい。ここで、「長尺状」とは、幅に対して長さが十分に長い細長形状をいい、例えば、幅に対して長さが１０倍以上、好ましくは２０倍以上の細長形状をいう。長尺状の位相差層付偏光板は、ロール状に巻回可能である。
　偏光板１０（保護層１２）から粘着剤層４０に隣接する層（図示例では、無機膜３０）までの積層部分の厚み（単に、「位相差層付偏光板の厚み」と称する場合がある）は、例えば６０μｍ以下であり、好ましくは５０μｍ以下であり、より好ましくは４０μｍ以下である。このような厚みによれば、画像表示装置の薄型化に寄与し、例えば、画面の大型化に対応するための部材（電池等）の搭載も可能とし得る。また、湾曲、屈曲、折り畳み、巻き取り等の変形可能な画像表示装置にも良好に対応し得る。一方、位相差層付偏光板の厚みは、例えば１０μｍ以上である。
　上記位相差層付偏光板の厚みには、上記接着層の厚みも含まれる。例えば、保護層と偏光膜との間に配置されてもよい接着層、偏光膜と位相差層との間に配置されてもよい接着層、位相差層が積層構造を有する場合に位相差層間に配置されてもよい接着層の厚みも含まれる。なお、位相差層付偏光板の厚みには、位相差層付偏光板をパネルやガラスなどの外部被着体と密着させるための接着層の厚みは含まれない。
　偏光膜１１の第二主面１１ｂに隣接する層から粘着剤層４０に隣接する層までの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は、好ましくは２００ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であり、より好ましくは１５０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であり、さらに好ましくは１００ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であり、特に好ましくは５０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下である。このような構成によれば、より効果的に金属の腐食を抑制し得る。具体的には、偏光膜のヨウ素の溶出、移動を抑制し得る。一方、偏光膜の第二主面に隣接する層から粘着剤層に隣接する層までの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は、例えば１ｇ／ｍ２・２４ｈ以上である。なお、隣接とは、直接隣り合っているだけでなく、接着層を介して隣り合っていることも包含する。
Ａ．偏光板
　上記偏光板は、偏光膜と保護層とを含む。代表的には、偏光板は、偏光膜と保護層とを接着層を介して積層することにより得ることができる。
Ａ－１．偏光膜
　上記偏光膜は、代表的には、二色性物質を含む樹脂フィルムである。二色性物質としては、好ましくは、ヨウ素が用いられる。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムが挙げられる。
　偏光膜の厚みは、好ましくは１２μｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以下であり、さらに好ましくは８μｍ以下である。一方、偏光膜の厚みは、好ましくは１μｍ以上である。
　偏光膜は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光膜の単体透過率は、例えば４１．５％～４８．０％であり、好ましくは４２．０％～４６．０％である。偏光膜の偏光度は、例えば９０．０％以上であり、好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。
　偏光膜は、任意の適切な方法で作製し得る。具体的には、偏光膜は、単層の樹脂フィルムから作製してもよく、二層以上の積層体を用いて作製してもよい。
　上記単層の樹脂フィルムから偏光膜を作製する方法は、代表的には、樹脂フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理と延伸処理とを施すことを含む。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムが用いられる。当該方法は、不溶化処理、膨潤処理、架橋処理等をさらに含んでいてもよい。このような製造方法は、当業界で周知慣用であるので、詳細な説明は省略する。
　上記積層体を用いて得られる偏光膜は、例えば、樹脂基材と樹脂フィルムまたは樹脂層（代表的には、ＰＶＡ系樹脂層）との積層体を用いて作製され得る。具体的には、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光膜とすること；により作製され得る。本実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とＰＶＡ系樹脂とを含むＰＶＡ系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。加えて、本実施形態においては、好ましくは、積層体は、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。代表的には、本実施形態の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にＰＶＡを塗布する場合でも、ＰＶＡの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成し得る。また、同時にＰＶＡの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成し得る。さらに、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ＰＶＡ分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得、高い光学特性を達成し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、高い光学特性を達成し得る。得られた樹脂基材／偏光膜の積層体から樹脂基材を剥離した剥離面に、もしくは、剥離面とは反対側の面に保護層を積層して偏光板が得られ得る。このような偏光膜の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報、特許第６４７０４５５号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
Ａ－２．保護層
　上記保護層は、偏光膜の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成され得る。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の樹脂が挙げられる。
　本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、代表的には、画像表示装置の視認側に配置され、保護層は、視認側に配置される。したがって、保護層には、必要に応じて、ハードコート（ＨＣ）処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。
　保護層の厚みは、好ましくは３０μｍ未満であり、より好ましくは２８μｍ以下である。一方、保護層の厚みは、好ましくは１１μｍ以上であり、より好ましくは１３μｍ以上である。なお、上記表面処理が施されている場合、保護層の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。
Ｂ．位相差層
　上記位相差層の厚みは、その構成（単一層であるか積層構造を有するか）にもよるが、好ましくは１０μｍ以下であり、より好ましくは８μｍ以下であり、さらに好ましくは７μｍ以下である。一方、位相差層の厚みは、例えば０．５μｍ以上である。なお、位相差層が積層構造である場合、「位相差層の厚み」は、各位相差層の厚みの合計を意味する。具体的には、「位相差層の厚み」には接着層の厚みは含まれない。
　位相差層としては、好ましくは、液晶化合物の配向固化層（液晶配向固化層）が用いられる。液晶化合物を用いることにより、例えば、得られる位相差層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための位相差層の厚みを格段に小さくすることができる。したがって、位相差層付偏光板の顕著な薄型化を実現することができる。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、後述のように液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。位相差層においては、代表的には、棒状の液晶化合物が位相差層の遅相軸方向に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。
　上記液晶配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
　液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。
　配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。
　液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開２００６－１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
　位相差層は、上述のとおり、単一層であってもよいし、二層以上の積層構造を有していてもよい。
　図示例とは異なり、位相差層が単一層である場合、位相差層は、λ／４板として機能し得る。具体的には、位相差層のＲｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍであり、より好ましくは１１０ｎｍ～１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１１０ｎｍ～１６０ｎｍである。位相差層の厚みは、λ／４板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得る。位相差層が上述の液晶配向固化層である場合、その厚みは、例えば１．０μｍ～２．５μｍである。本実施形態においては、位相差層の遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度は、好ましくは４０°～５０°であり、より好ましくは４２°～４８°であり、さらに好ましくは４４°～４６°である。また、位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示すことが好ましい。
　図示するように、位相差層２０が積層構造を有する場合、位相差層２０は、例えば、偏光板１０側から順に第一位相差層（Ｈ層）２１と第二位相差層（Ｑ層）２２とが配置された、二層の積層構造を有する。Ｈ層は、代表的にはλ／２板として機能し得、Ｑ層は、代表的にはλ／４板として機能し得る。具体的には、Ｈ層のＲｅ（５５０）は好ましくは２００ｎｍ～３００ｎｍであり、より好ましくは２２０ｎｍ～２９０ｎｍであり、さらに好ましくは２３０ｎｍ～２８０ｎｍであり；Ｑ層のＲｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍであり、より好ましくは１１０ｎｍ～１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１１０ｎｍ～１５０ｎｍである。Ｈ層の厚みは、λ／２板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得る。Ｈ層が上述の液晶配向固化層である場合、その厚みは、例えば２．０μｍ～４．０μｍである。Ｑ層の厚みは、λ／４板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得る。Ｑ層が上述の液晶配向固化層である場合、その厚みは、例えば０．５μｍ～２．５μｍである。本実施形態においては、Ｈ層の遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度は、好ましくは１０°～２０°であり、より好ましくは１２°～１８°であり、さらに好ましくは１２°～１６°であり；Ｑ層の遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度は、好ましくは７０°～８０°であり、より好ましくは７２°～７８°であり、さらに好ましくは７２°～７６°である。位相差層２０が積層構造を有する場合、それぞれの層（例えば、Ｈ層およびＱ層）は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。
　位相差層（積層構造を有する場合には少なくとも一つの層）は、代表的には、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を示す。なお、「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＞ｎｚまたはｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。位相差層のＮｚ係数は、好ましくは０．９～１．５であり、より好ましくは０．９～１．３である。
　上述のとおり、位相差層は、好ましくは液晶配向固化層である。上記液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物（ネマチック液晶）が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。
　液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋（すなわち、硬化）させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された位相差層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、位相差層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差層となる。
　液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０℃～１２０℃であり、さらに好ましくは５０℃～１００℃であり、最も好ましくは６０℃～９０℃である。
　上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２－５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ－Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ－Ｓｉｌｌｉｃｏｎ－ＣＣ３７６７が挙げられる。液晶モノマーとしては、ネマチック性液晶モノマーが好ましい。
Ｃ．無機膜
　無機膜３０は、ケイ素を含む。具体的には、ケイ素化合物を含む。ケイ素化合物としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、および、これらの複合体が挙げられる。好ましくは、無機膜は、酸化ケイ素、炭化ケイ素、および、これらの複合体からなる群から選択される少なくとも１つを含む。このような無機膜を設けることにより、金属の腐食を抑制し得る。具体的には、偏光膜に含まれる（偏光膜から溶出した）ヨウ素の移動を阻止して、金属の腐食を抑制し得る。
　無機膜の厚みは、例えば５０ｎｍ以上であり、好ましくは７０ｎｍ以上であり、より好ましくは９０ｎｍ以上である。このような厚みによれば、より効果的に金属の腐食を抑制し得る。一方、無機膜の厚みは、好ましくは４００ｎｍ未満であり、より好ましくは３５０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３００ｎｍ以下であり、特に好ましくは２５０ｎｍ以下であり、２００ｎｍ以下であってもよい。無機膜を採用することにより、このような厚みにおいても金属の腐食を良好に抑制し得る。また、このような厚みによれば、外観上の不具合（例えば、クラックの発生）を防止し得る。
　無機膜は、任意の適切な方法により成膜され得る。例えば、真空蒸着、スパッタリング等の物理蒸着、化学蒸着により成膜され得る。化学蒸着法の場合、低温プロセスで成膜が可能で、成膜対象に熱による損傷が与えられないという観点から、プラズマ化学気相蒸着（ＣＶＤ）が好ましい。具体的には、無機膜は蒸着膜である。この場合、無機膜は、隣接する層（例えば、位相差層、偏光膜）表面に直接成膜することができる。無機膜は、平面視で偏光膜と重畳する領域に部分的に形成されていてもよいが、全体に亘って形成されていることが好ましい。
Ｄ．粘着剤層
　粘着剤層４０の厚みは、好ましくは１０μｍ～２０μｍである。粘着剤層は、任意の適切な粘着剤で構成され得る。具体例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、およびポリエーテル系粘着剤が挙げられる。粘着剤のベース樹脂を形成するモノマーの種類、数、組み合わせおよび配合比、ならびに、架橋剤の配合量、反応温度、反応時間等を調整することにより、目的に応じた所望の特性を有する粘着剤を調製することができる。粘着剤のベース樹脂は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。ベース樹脂は、好ましくはアクリル系樹脂である（具体的には、粘着剤層は、好ましくはアクリル系粘着剤で構成される）。
Ｅ．位相差層付偏光板の作製
　本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、代表的には、上記偏光板と上記位相差層とを積層することにより得ることができる。偏光板と位相差層との積層は、例えば、これらをロール搬送しながら（いわゆるロールトゥロールにより）行われる。積層は、代表的には、基材に形成された液晶配向固化層を転写することにより行われる。図示するように、位相差層が積層構造を有する場合には、それぞれの位相差層を偏光板に順次積層（転写）してもよく、位相差層どうしを予め積層した積層体を偏光板に積層（転写）してもよい。
　上記無機膜は、所望の位置に配置されるように、適切なタイミングで成膜され得る。具体的には、偏光板と位相差層との積層前に成膜してもよいし、偏光板と位相差層との積層後に成膜してもよい。
Ｆ．画像表示装置
　上記位相差層付偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明の実施形態による画像表示装置は、上記位相差層付偏光板を有する。
　図２は、本発明の１つの実施形態による画像表示装置の概略の構成を、有機ＥＬ表示装置を例にして示す模式図である。具体的には、本発明の１つの実施形態による有機ＥＬ表示装置において、有機ＥＬパネルに位相差層付偏光板が配置された状態の概略を示す模式的な断面図である。有機ＥＬパネル２００において位相差層付偏光板１００は、無機膜３０が偏光膜１１よりも有機ＥＬパネル本体７０側となるように配置されている。具体的には、有機ＥＬパネル本体７０に位相差層付偏光板１００は粘着剤層４０によって貼り付けられている。
　有機ＥＬパネル本体７０は、基板７１と、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を含む回路層、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、ＯＬＥＤを封止する封止膜等を含む上部構造層７２とを有する。例えば、基板７１として可撓性基板（例えば、樹脂基板）を用いる場合、得られる有機ＥＬ表示装置は、湾曲、屈曲、折り曲げ、巻き取りなどが実現され得る。上部構造層７２には、配線層や電極層等の金属層が含まれ、金属層は偏光膜１１に含まれるヨウ素により腐食され得る。具体的には、金属層に含まれる金属とヨウ素との酸化還元反応により金属の溶出が生じ得る。このような反応は、例えば、高温高湿環境下において加速され得る。上記位相差層付偏光板によれば、画像表示装置本体に含まれる金属の腐食が顕著に抑制され得る。また、画像表示装置本体の構成を設計変更することなく、金属の腐食の課題を解決し得る。
　以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、厚みおよび透湿度は下記の測定方法により測定した値である。また、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。
１．厚み
　１０μｍ以下の厚みは、走査型電子顕微鏡（日本電子社製、製品名「ＪＳＭ－７１００Ｆ」）を用いて測定した。１０μｍを超える厚みは、デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ－３５１Ｃ」）を用いて測定した。
２．透湿度
　透湿度を、カップ法（ＪＩＳ　Ｚ　０２０８）により求めた。
［実施例１］
（偏光板の作製）
　熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用い、この樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
　ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」）を９：１の重量比で混合したＰＶＡ系樹脂１００重量部に、ヨウ化カリウム１３重量部を添加したものを水に溶かし、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
　樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
　得られた積層体を、１３０℃のオーブン内で縦方向（長手方向）に２．４倍に一軸延伸した（空中補助延伸処理）。
　次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
　次いで、液温３０℃の染色浴（水１００重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液）に、最終的に得られる偏光膜の単体透過率（Ｔｓ）が所望の値となるように濃度を調整しながら６０秒間浸漬させた（染色処理）。
　次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を５重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
　その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（ホウ酸濃度４重量％、ヨウ化カリウム濃度５重量％）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸処理）。
　その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
　その後、約９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに接触させた（乾燥収縮処理）。
　このようにして、樹脂基材上に厚み５．４μｍの偏光膜を形成し、樹脂基材／偏光膜の構成を有する積層体を得た。
　得られた積層体の偏光膜側に、紫外線硬化型接着剤（硬化後の厚み１．５μｍ）を介して、ＨＣ層が形成されたＣＯＰフィルムを保護層として貼り合わせた。その後、偏光膜から樹脂基材を剥離し、ＨＣ層／ＣＯＰフィルム／接着剤層／偏光膜の構成を有する偏光板を得た。
　なお、ＨＣ層が形成されたＣＯＰフィルムは、シクロオレフィン系未延伸フィルム（日本ゼオン社製、厚み２５μｍ）に、厚み２μｍのハードコート層を形成することにより得た。
（位相差層の作製）
　ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名「Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ　ＬＣ２４２」、下記式で表される）１０ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：商品名「イルガキュア９０７」）３ｇとを、トルエン４０ｇに溶解して、液晶組成物（塗工液）を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み３８μｍ）表面を、ラビング布を用いてラビングし、配向処理を施した。配向処理の方向は、偏光板に貼り合わせる際に偏光膜の吸収軸の方向に対して視認側から見て１５°方向となるようにした。この配向処理表面に、上記液晶塗工液をバーコーターにより塗工し、９０℃で２分間加熱乾燥することによって液晶化合物を配向させた。このようにして形成された液晶層に、メタルハライドランプを用いて１ｍＪ/ｃｍ２の光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、ＰＥＴフィルム上に液晶配向固化層Ａ（Ｈ層）を形成した。液晶配向固化層Ａの厚みは２．５μｍ、面内位相差Ｒｅ（５５０）は２７０ｎｍであった。さらに、液晶配向固化層Ａは、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。
　塗工厚みを変更したこと、および、配向処理方向を偏光膜の吸収軸の方向に対して視認側から見て７５°方向となるようにしたこと以外は上記と同様にして、ＰＥＴフィルム上に液晶配向固化層Ｂ（Ｑ層）を形成した。液晶配向固化層Ｂの厚みは１．５μｍ、面内位相差Ｒｅ（５５０）は１４０ｎｍであった。さらに、液晶配向固化層Ｂは、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。
（位相差層付偏光板の作製）
　得られた偏光板の偏光膜側に、得られた液晶配向固化層Ａ（Ｈ層）および液晶配向固化層Ｂ（Ｑ層）をこの順に転写した。このとき、偏光膜の吸収軸と配向固化層Ａの遅相軸とのなす角度が１５°、偏光膜の吸収軸と配向固化層Ｂの遅相軸とのなす角度が７５°になるようにして転写（貼り合わせ）を行った。それぞれの転写は、ロール搬送しながら、紫外線硬化型接着剤（硬化後の厚み１μｍ）を介して行った。
　その後、液晶配向固化層Ｂの表面に、厚み１００ｎｍの酸化炭化ケイ素膜を成膜した。具体的には、ロールトゥロール方式のＣＶＤ成膜装置に液晶配向固化層を積層した偏光板をセットし、真空チャンバー内を１×１０－３Ｐａまで減圧した後、偏光板を走行させながら、基板温度１２℃、成膜材料である加熱気化させたヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳО）および酸素を、それぞれ、流量２５ｓｃｃｍ、流量７００ｓｃｃｍの条件でチャンバー内に導入して気圧１．０Ｐａ程度とし、プラズマ発生用電源の周波数８０ｋＨｚ、電力１．０ｋＷの条件で放電してプラズマを発生させ、成膜を行った。
　次いで、酸化炭化ケイ素膜の表面にアクリル系粘着剤で厚み１５μｍの粘着剤層を形成し、位相差層付偏光板を得た。
　得られた位相差層付偏光板において、液晶配向固化層Ａから酸化炭化ケイ素膜までの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は４０ｇ／ｍ２・２４ｈであった。
［実施例２］
　酸化炭化ケイ素膜の厚みを２００ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、位相差層付偏光板を得た。
　得られた位相差層付偏光板において、液晶配向固化層Ａから酸化炭化ケイ素膜までの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は３０ｇ／ｍ２・２４ｈであった。
［実施例３］
　厚み１００ｎｍの酸化炭化ケイ素膜を成膜するかわりに、厚み１００ｎｍの酸化ケイ素膜を反応性スパッタリングにより成膜したこと以外は実施例１と同様にして、位相差層付偏光板を得た。酸化ケイ素膜の成膜は、交流スパッタリング装置（ＡＣ：４０ｋＨｚ）に純Ｓｉターゲット（大同特殊鋼株式会社製）を取り付けて、液晶配向固化層を積層した偏光板をセットした状態で、真空度１．０×１０－４Ｐａとなるまで真空引きした後、Ａｒガスと酸素（Ｏ２）ガスを酸素分圧（Ｏ２／（Ａｒ＋Ｏ２））が０．０５となるようにチャンバー内に導入して気圧０．１５Ｐａ程度とし、電力密度２．２３Ｗ/ｃｍ２の条件で放電することにより行った。
　得られた位相差層付偏光板において、液晶配向固化層Ａから酸化ケイ素膜までの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は３０ｇ／ｍ２・２４ｈであった。
［実施例４］
　酸化炭化ケイ素膜の厚みを４００ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、位相差層付偏光板を得た。
　得られた位相差層付偏光板において、液晶配向固化層Ａから酸化炭化ケイ素膜までの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は２０ｇ／ｍ２・２４ｈであった。
［実施例５］
　実施例１と同様にして得た偏光板の偏光膜表面に、実施例２と同様の条件で酸化炭化ケイ素膜を成膜した後、酸化炭化ケイ素膜表面に、実施例１と同様にして液晶配向固化層Ａ（Ｈ層）および液晶配向固化層Ｂ（Ｑ層）をこの順に転写した。
　その後、液晶配向固化層Ｂの表面にアクリル系粘着剤で厚み１５μｍの粘着剤層を形成し、位相差層付偏光板を得た。
　得られた位相差層付偏光板において、酸化炭化ケイ素膜から液晶配向固化層Ｂまでの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は３０ｇ／ｍ２・２４ｈであった。
［比較例１］
　酸化炭化ケイ素膜を成膜しなかったこと以外は実施例１と同様にして、位相差層付偏光板を得た。
　得られた位相差層付偏光板において、液晶配向固化層Ａから液晶配向固化層Ｂまでの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は４００～５００ｇ／ｍ２・２４ｈであった。
［比較例２］
　厚み１００ｎｍの酸化炭化ケイ素膜を成膜するかわりに、厚み４００ｎｍの有機膜を形成したこと以外は実施例１と同様にして、位相差層付偏光板を得た。
　具体的には、アクリル系樹脂（楠本化成社製、製品名「Ｂ－８１１」）１５部と熱可塑性エポキシ樹脂（三菱ケミカル株式会社製、商品名「ｊＥＲ（登録商標）ＹＸ６９５４ＢＨ３０」）８５部（固形分換算）とをメチルエチルケトン８０部に溶解し、樹脂溶液（２０％）を得た。この樹脂溶液を液晶配向固化層Ｂの表面にワイヤーバーを用いて塗布し、塗布膜を６０℃で５分間乾燥して、有機膜を形成した。
　得られた位相差層付偏光板において、液晶配向固化層Ａから有機膜までの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は４００～５００ｇ／ｍ２・２４ｈであった。
［参考例１］
　偏光板として、下記に示す偏光板を用いたこと、酸化炭化ケイ素膜を成膜しなかったこと、および、粘着剤層の厚みを３０μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、位相差層付偏光板を得た。
（偏光板の作製）
　厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に５．９倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理をこの順で施した後、最後に乾燥処理を施すことにより、厚み１２μｍの偏光膜を作製した。
　上記膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる偏光膜の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。次いで、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。次いで、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、７０℃で５分間乾燥処理して偏光膜を得た。
　得られた偏光膜の両側に、それぞれ、ポリビニルアルコール系接着剤を介してのＨＣ層（厚み７μｍ）が形成されたＴＡＣフィルム（厚み２５μｍ）および厚み２５μｍのＴＡＣフィルムを貼り合わせ、ＨＣ層／ＴＡＣフィルム／接着剤層／偏光膜／接着剤層／ＴＡＣフィルムの構成を有する偏光板を得た。
　得られた位相差層付偏光板において、ＴＡＣフィルムから液晶配向固化層Ｂまでの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は３００～４００ｇ／ｍ２・２４ｈであった。
［参考例２］
　参考例１と同様にして得た偏光板に、アクリル系粘着剤（厚み５μｍ）を介して下記の位相差フィルムを貼り合わせた後、位相差フィルム表面にアクリル系粘着剤で厚み１５μｍの粘着剤層を形成し、位相差層付偏光板を得た。なお、位相差フィルムは、偏光膜の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とが４５°の角度をなすようにして貼り合わせた。
　得られた位相差層付偏光板において、ＴＡＣフィルムから位相差フィルムまでの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は６０ｇ／ｍ２・２４ｈであった。
（位相差フィルムの作製）
　撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。ビス［９－（２－フェノキシカルボニルエチル）フルオレン－９－イル］メタン２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）、イソソルビド（ＩＳＢ）２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）、スピログリコール（ＳＰＧ）４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）及び触媒として酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０－２質量部（６．７８×１０－５ｍｏｌ）を仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネート系樹脂を水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
　得られたポリエステルカーボネート系樹脂（ペレット）を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製、シリンダー設定温度：２５０℃）、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２５０℃）、チルロール（設定温度：１２０～１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１３５μｍの長尺状の樹脂フィルムを作製した。得られた長尺状の樹脂フィルムを、幅方向に、延伸温度１３３℃、延伸倍率２．８倍で延伸し、厚み５０μｍの位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８２であり、Ｎｚ係数は１．１２であった。
　実施例および比較例について、下記の評価を行った。評価結果を表１にまとめる。
＜評価＞
１．腐食性
　５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面に、銀ナノワイヤー液（ＭＥＲＣＫ社製、ナノワイヤーサイズ：直径１１５ｎｍ、長さ２０μｍ～５０μｍ、固形分０．５％のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液）をワイヤーバーでウェット膜厚が１５μｍになるように塗工し、１００℃のオーブンで５分間乾燥し、銀ナノワイヤー塗膜を形成した。次いで、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）９９部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）１部、および光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア９０７」）０．０３部を含むオーバーコート液（固形分濃度：約１％）を、銀ナノワイヤー塗膜の表面にワイヤーバーを用いてウェット膜厚が１０μｍになるように塗工し、１００℃のオーブンで５分間乾燥した。次いで、活性エネルギー線を照射してオーバーコート塗膜を硬化させ、ＰＥＴフィルム／銀ナノワイヤー層／オーバーコート層（厚み１００ｎｍ）の構成を有する金属フィルムを作製した。この金属フィルムを、粘着剤（１５μｍ）を用いて厚さ０．５ｍｍのガラス板に貼り合わせ、金属フィルム／粘着剤／ガラス板の積層体を得た。得られた積層体を非接触式抵抗測定器（ナプソン社製、製品名「ＥＣ－８０」）にて抵抗値を測定したところ、５０Ω／□であった。
　得られた位相差層付偏光板を積層体の金属フィルムのオーバーコート層表面に貼り合わせ、試験サンプルとした。この試験サンプルの抵抗値を非接触式抵抗測定器にて測定し、初期抵抗値とした。さらに、試験サンプルを信頼性試験（８５℃、８５％ＲＨの環境下に２４０時間置き、その後２３℃、５５％ＲＨの環境下で２時間放置）に供した後、上記と同様にして抵抗値を測定した。以下の式により抵抗値上昇率を算出し、以下の基準で評価した。
　抵抗値上昇率（％）＝｛（信頼性試験後の抵抗値－初期抵抗値）/初期抵抗値｝×１００
（評価基準）
　良好：抵抗値上昇率が２０００％未満
　不良：抵抗値上昇率が２０００％以上
２．外観
　得られた位相差層付偏光板を無アルカリガラスに貼り合わせた後、これを８５℃、８５％ＲＨの環境下に２４０時間置いた後、外観を目視で観察し、クラックおよび剥がれの有無を確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　各実施例においては、金属の腐食は抑えられていることがわかる。実施例４，５では、酸化炭化ケイ素膜においてクラックが確認された。なお、参考例１，２では、位相差層付偏光板（粘着剤層）とガラスとの間で剥がれが確認された。
　本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、画像表示装置に用いられ、湾曲した、あるいは、屈曲、折り畳み、または巻き取り可能な画像表示装置にも好適に用いられ得る。画像表示装置としては、代表的には、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置が挙げられる。
　１０　　　偏光板
　１１　　　偏光膜
　１２　　　保護層
　２０　　　位相差層
　２１　　　第一位相差層
　２２　　　第二位相差層
　３０　　　無機膜
　４０　　　粘着剤層
１００　　　位相差層付偏光板

Claims (10)

  1. 　ヨウ素を含み、互いに対向する第一主面および第二主面を有する偏光膜を含む偏光板と、
    　前記偏光膜の前記第二主面側に配置される粘着剤層と、
    　前記偏光膜と前記粘着剤層との間に配置される位相差層と、
    　前記偏光膜と前記粘着剤層との間に配置され、ケイ素を含む無機膜と、を有し、
    　前記偏光板から前記粘着剤層に隣接する層までの積層部分の厚みは５０μｍ以下である、
    　位相差層付偏光板。
  2. 　前記偏光膜と、前記位相差層と、前記無機膜とがこの順に配置される、請求項１に記載の位相差層付偏光板。
  3. 　前記無機膜は、前記位相差層に直に接して配置される、請求項２に記載の位相差層付偏光板。
  4. 　前記無機膜の厚みは４００ｎｍ未満である、請求項１から３のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
  5. 　前記無機膜の厚みは５０ｎｍ以上である、請求項１から４のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
  6. 　前記無機膜は、酸化ケイ素、炭化ケイ素、および、これらの複合体からなる群から選択される少なくとも１つを含む、請求項１から５のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
  7. 　前記無機膜は蒸着膜である、請求項１から６のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
  8. 　前記偏光膜の前記第二主面に隣接する層から前記粘着剤層に隣接する層までの積層部分の４０℃および９２％ＲＨにおける透湿度は５０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下である、請求項１から７のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
  9. 　前記位相差層は液晶化合物の配向固化層である、請求項１から８のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
  10. 　請求項１から９のいずれかに記載の位相差層付偏光板を有する、画像表示装置。
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