TWI785226B - 偏光板及顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種圓偏光板,其具有偏光板及相位差膜;其中,前述相位差膜包含相位差層;前述相位差膜之穿刺彈性模數為15gf/mm以上;前述穿刺彈性模數係藉由使用尖端直徑為1mm
Description
本發明係關於偏光板及顯示裝置。
近年,以有機電激發光(以下也稱為有機EL)顯示裝置為代表的影像顯示裝置係急速地普及中。在有機電激發光(EL)顯示裝置中,係安裝有具備偏光件及相位差膜(λ/4板)的圓偏光板。藉由配置圓偏光板,而可防止外部光線的反射並提高畫面的辨識性。
由於有機EL顯示裝置的崛起,伴隨對影像顯示裝置的薄型化的要求變強,對於圓偏光板也要求薄型化。目前正在檢討從「由以往的樹脂膜所成形的相位差膜」變成「以可薄型化的液晶化合物作為材料而形成的相位差膜」(參考例如專利文獻1)。有使用聚合性液晶化合物的相位差膜,係藉由將聚合性液晶化合物塗佈於基材上使其配向,並依需要照射光以固定配向狀態而製造之。具有由聚合性液晶化合物所形成的相位差膜之圓偏光板,在放置於高溫環境下時,有圓偏光板的色調會從起始狀態變成藍或紅的問題。具體而言,當圓偏光板為矩形時,圓偏光板的4個邊緣附近的反射光的色調會分別變成藍或紅。
[專利文獻1]日本特開2017-54093號公報
本發明的目的係解決上述課題。本發明的目的係提供一種具備相位差膜的圓偏光板,其係放置在高溫環境前後的反射光的色調變化小的圓偏光板。
[1]一種圓偏光板,其具有偏光板及相位差膜;其中,前述相位差膜包含相位差層;前述相位差膜之穿刺彈性模數為15gf/mm以上;前述穿刺彈性模數係藉由使用尖端直徑為1mm 、0.5R的針並以穿刺速度為0.33cm/秒的測試所測定的彈性模數。
[2]如[1]記載的圓偏光板,其中,前述圓偏光板係在其表面具有黏著劑層;前述偏光板具有偏光件;前述相位差層包含由聚合性液晶化合物硬化而成的層;前述相位差膜係配置於前述偏光板與前述黏著劑層之間。
[3]如[2]記載的圓偏光板,其中,前述偏光件係以「由液晶化合物硬化而成的層」所形成。
[4]如[2]或[3]記載的圓偏光板,其中,前述圓偏光板的形狀係實質上為矩形;於前述偏光板中,在前述偏光件的與相位差膜側為相反側的面積層有保護膜;前述保護膜為延伸膜;前述保護膜的延伸方向與圓偏光板的短邊方向係實質上為平行。
[5]如[1]至[4]中任一項記載的圓偏光板,其中,前述相位差膜包含2層相位差層。
[6]一種附前面板的圓偏光板,其係由如[1]至[5]中任一項記載的圓偏光板與前面板隔著接著層積層而得者。
[7]一種顯示裝置,其係於顯示元件隔著前述黏著劑層積層有如[2]至[4]中任一項記載的圓偏光板者。
根據本發明,可提供一種具備相位差膜的圓偏光板,其係放置在高溫環境前後的反射光的色調變化小的圓偏光板。
1‧‧‧偏光板
2‧‧‧相位差膜
3‧‧‧有機EL顯示元件
4‧‧‧前面板
5‧‧‧點
10‧‧‧偏光件
11、12‧‧‧保護膜
13、14、16‧‧‧黏著劑層
15‧‧‧接著層
20、21‧‧‧由聚合性液晶化合物硬化而成的層
100、101、102、103‧‧‧圓偏光板
104、105、106‧‧‧有機EL顯示裝置
第1圖係表示圓偏光板的層構成的剖面示意圖之一例。
第2圖係表示有機EL顯示裝置的層構成的剖面示意圖之一例。
第3圖係評價用樣品的上視圖。
〈圓偏光板〉
本發明的圓偏光板具備偏光板與相位差膜。偏光板與相位差膜係例如可隔著接著層而積層。接著層可舉例如後述的黏著劑層、接著劑層。於本發明中,所謂偏光板係指由偏光件及貼合於偏光件的單面或兩面的保護膜所構成的積層體。
以下,參考第1圖,說明本發明的圓偏光板的層構成之一例。再者,於第1圖中,並未以圖表示分別用以貼合偏光件10與保護膜11、12的接著劑層。第1圖(a)所示的圓偏光板100具有使偏光板1與相位差膜2隔著黏著劑層13而積層的層構成,該偏光板1係在偏光件10的一面積層第1保護膜11並在偏光件10的另一面積層第2保護膜12者,該相位差膜2包含由聚合性液晶化合物硬化而成的層20。再者,圓偏光板100中,係在相位差膜2之與偏光板1側為相反側的面具有黏著劑層14。黏著劑層14可為用以貼合於有機EL顯示元件等之黏著劑層。
第1圖(b)所示的圓偏光板101具有使偏光板1與相位差膜2隔著黏著劑層13而積層的層構成,該偏光板1係在偏光件10的一面積層第1保護膜11並在偏光件10的另一面積層第2保護膜12者。於圓偏光板101中,相位差膜2具有使「由聚合性液晶化合物硬化而成的層20」與「由聚合性液晶化合物硬化而成的層21」隔著接著層15而積層的層構成。再者,圓偏光板101中,係在相位差膜2之與偏光板1側為相反側的面具有黏著劑層14。黏著劑層14可為用以貼合於有機EL顯示元件等之黏著劑層。
第1圖(c)所示的圓偏光板103具有使偏光板1與相位差膜2隔著黏著劑層13而積層的層構成,該偏光板1係在偏光件10的一面積層第1保護膜11者。於圓偏光板103中,偏光板1係只在偏光件10的一面具有保護膜。於圓偏光板103中,相位差膜2係具有使「由聚合性液晶化合物硬化而成的層20」與「由聚合性液晶化合物硬化而成的層21」隔著接著層15而積層的層構成。再者,圓偏光板103中,係在相位差膜2之與偏光板1側為相反側的面具有黏著劑層14。黏著劑層14可為用以貼合於有機EL顯示元件等之黏著劑層。
第1圖所示的相位差膜,可具有1層相位差層,亦可具有2層。而且,相位差膜可具有在其製造階段中用以使聚合性液晶化合物配向的配向膜。第1圖所示的偏光板,可只在偏光件10的一面積層保護膜,亦可積層在兩面。
圓偏光板可具有第1圖所示的層以外的層。圓偏光板所可更具有的層係可舉例如前面板、遮光圖案等。前面板係可配置於偏光板的與積層有相位差膜之側為相反之側。
遮光圖案可形成於前面板的偏光板側的面上。遮光圖案可形成於影像顯示裝置的框緣(非顯示區域)以讓使用者不會看到影像顯示裝置的配線。
圓偏光板的主面的形狀實質上可為矩形。所謂主面,係指對應於顯示面而具有最大面積的面。所謂實質上為矩形,係指可為4個角(角部)中之至少1個角部經切為鈍角的形狀或有圓形感的形狀,或者是與主面呈垂直的端面的一部分具有往面內方向凹陷的凹部(缺口),或者是主面內 的一部分具有挖空成圓形、橢圓形、多角形及該等的組合等的形狀之穿孔部。
圓偏光板的大小係無特別限制。當圓偏光板實質上為矩形時,長邊的長度較佳為6cm以上35cm以下,更佳為10cm以上30cm以下,短邊的長度較佳為5cm以上30cm以下,更佳為6cm以上25cm以下。
〈偏光板〉
於本發明中,所謂偏光板係指由「偏光件」及「貼合於偏光件的單面或兩面的保護膜」所構成的積層體。偏光板所具備的保護膜,可具有後述的硬塗層、抗反射層、抗靜電層等表面處理層。偏光板與保護膜,可例如隔著接著劑層、黏著劑層積層。以下說明偏光板所具備的構件。
(1)偏光件
偏光板所具備的偏光件,可為具有「將具有與其吸收軸呈平行之振動面的直線偏光予以吸收,並使具有與吸收軸(與穿透軸呈平行)呈垂直之振動面的直線偏光穿透的性質」之吸收型偏光件。第1層所具有的偏光件,可適合使用使二色性色素吸附配向於一軸延伸的聚乙烯醇系樹脂膜而成之偏光件。偏光件可藉由例如包含「將聚乙烯醇系樹脂膜予以一軸延伸的步驟」、「將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色而使二色性色素吸附的步驟」、「將經吸附二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液等交聯液進行處理的步驟」以及「在經交聯液處理後進行水洗之步驟」的方法而製造。
聚乙烯醇系樹脂膜可使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂進行皂化 者。就聚乙酸乙烯酯系樹脂而言,除了可為屬於乙酸乙烯酯的同元聚合物之聚乙酸乙烯酯以外,亦可舉例如乙酸乙烯酯及可與其共聚合的其他單體的共聚物等。所謂可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體,係包含例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類以及具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。
於本說明書中,所謂「(甲基)丙烯酸」係指選自丙烯酸及甲基丙烯酸中的至少一者。於「(甲基)丙烯醯基」、「(甲基)丙烯酸酯」等也為相同意義。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度,通常為85至100莫耳%,較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改性,例如可使用經醛類改性的聚乙烯基縮甲醛(polyvinyl formal)或聚乙烯基縮乙醛(polyvinyl acetal)等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度,通常為1000至10000,較佳為1500至5000。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可根據JIS K6726求得。
將如此的聚乙烯醇系樹脂予以製膜而成者,係可作為偏光件的原料膜來使用。將聚乙烯醇系樹脂予以製膜的方法係無特別限制,可採用習知的方法。聚乙烯醇系原料膜的厚度係無特別限制,為了使偏光件的厚度成為15μm以下,係佳係使用5至35μm者。更佳為20μm以下。
聚乙烯醇系樹脂膜的一軸延伸,可在二色性色素的染色前、與染色同時、或染色後進行。在染色後進行一軸延伸的情況下,該一軸延伸可在交聯處理前或交聯處理中進行。而且,可在該等複數個階段中進行一軸延伸。
於一軸延伸時,可為在轉速不同的滾輪間進行一軸延伸,亦 可使用熱滾輪進行一軸延伸。而且,一軸延伸可為在大氣中進行延伸的乾式延伸,亦可為使用溶劑、水使聚乙烯醇系樹脂膜在膨潤的狀態下進行延伸的濕式延伸。延伸倍率通常為3至8倍。
關於將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色的方法,例如可採用將該膜浸漬於含有二色性色素的水溶液中的方法。二色性色素係使用碘或二色性有機染料。再者,聚乙烯醇系樹脂膜較佳係在染色處理前先實施浸漬於水的浸漬處理。
關於在經二色性色素染色後的交聯處理,通常係採用將經染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有硼酸的水溶液中的方法。當使用碘作為二色性色素時,該含有硼酸的水溶液較佳係含有碘化鉀。
偏光件的厚度,通常為30μm以下,較佳為15μm以下,更佳為13μm以下,又更佳為10μm以下,特佳為8μm以下。偏光件的厚度,通常為2μm以上,較佳為3μm以上。經由本發明人等的檢討,可知圓偏光板的色調變化是因相位差膜的相位差值的變化所引起。再者,可知於放置在高溫環境下的圓偏光板中,相位差膜的相位差值的變化係因偏光板尺寸收縮時的應力所引起。所以,從減少由偏光件的收縮所造成的影響的觀點來看,若將偏光件的厚度設為15μm以下,則在防止色調變化上為有效。
就偏光件而言,如日本特開2016-170368號公報所記載,係能以「由液晶化合物硬化而成的層」所形成,具體上可使用在由液晶化合物聚合而成的硬化膜中配向有二色性色素者。二色性色素可使用在波長380至800nm範圍內具有吸收者。二色性色素係以使用有機染料為較佳。 二色性色素可舉例如偶氮化合物。液晶化合物係在配向狀態下可進行聚合的液晶化合物,其分子內可具有聚合性基。該類型的偏光件,係藉由將包含液晶化合物及二色性色素的組成物塗佈於配向膜上,並依需要而照射紫外線或加熱,使液晶化合物及二色性色素固定而得。而且,如國際公開專利公報WO2011/024891或日本特開2018-120229號公報所記載,可由具有液晶性的二色性色素形成偏光件。如此,若偏光件是以「由液晶化合物硬化而成的層」所形成,則有助於減少高溫環境下之偏光件的尺寸變化,在防止色調變化上為有效。
當採用包含「由液晶化合物硬化而成的層」之偏光件作為偏光件時,偏光件的厚度可為500nm以上,並可為3μm以下。
(2)保護膜
本發明的圓偏光板,較佳係在偏光件的至少一面具有保護膜,更佳係在偏光件的與相位差膜側為相反側的面具有保護膜。當圓偏光板實質上為矩形且保護膜為延伸膜時,保護膜的延伸方向與圓偏光板的短邊方向係以實質上平行為較佳。當圓偏光板實質上為矩形且保護膜為未延伸膜時,在保護膜的面內,拉伸彈性模數為最大的方向與圓偏光板的短邊方向係以實質上平行為較佳。延伸方向(或拉伸彈性模數為最大的方向)與短邊方向若為如此的關係時,不論相位差膜的慢軸的方向為何,圓偏光板的色調變化皆趨向變小。當保護膜的延伸方向(或拉伸彈性模數為最大的方向)係與短邊呈平行時,相較於與長邊呈平行時,在高溫環境下的偏光件與保護膜的延伸緩和所導致之往保護膜的延伸方向的收縮力係變較小,故可認為是色調變化變小。再者,拉伸彈性模數係採用拉伸彈性模數在80℃的值,例如 藉由AUTOGRAPH(註冊商標)(島津製作所股份有限公司製、型號:AG-IS)測定。
所謂保護膜的延伸方向與圓偏光板的短邊方向於實質上平行,係不只是包括兩者精密地呈平行的情況,也包括由兩者所成的角度為0±10°的情況。由保護膜的延伸方向與圓偏光板的短邊方向所成的角度較佳為0±5°。所謂未延伸膜,除了包括未經延伸的膜以外,也包含延伸倍率為1.1倍以下的實質上未經延伸的膜。
積層於偏光件的兩面之保護膜,可為包含具有透光性(較佳為光學上透明)的熱塑性樹脂之膜,例如可為包含下述樹脂之膜:鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂;如三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素等纖維素系樹脂;如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;如甲基丙烯酸甲酯系樹脂等(甲基)丙烯酸系樹脂;聚苯乙烯系樹脂;聚氯乙烯系樹脂;丙烯腈‧丁二烯‧苯乙烯系樹脂;丙烯腈‧苯乙烯系樹脂;聚乙酸乙烯酯系樹脂;聚偏氯乙烯系樹脂;聚醯胺系樹脂;聚縮醛系樹脂;改性聚苯醚系樹脂;聚碸系樹脂;聚醚碸系樹脂;聚芳酯系樹脂;聚醯胺醯亞胺系樹脂;聚醯亞胺系樹脂等。
就鏈狀聚烯烴系樹脂而言,除了可列舉如聚乙烯樹脂(屬於乙烯的同元聚合物之聚乙烯樹脂、或是以乙烯為主體的共聚物)、聚丙烯樹脂(屬於丙烯的同元聚合物之聚丙烯樹脂、或是以丙烯為主體的共聚物)等鏈狀烯烴的同元聚合物以外,亦可列舉例如由2種以上的鏈狀烯烴所構成的共聚物。
所謂環狀聚烯烴系樹脂,係指以環狀烯烴作為聚合單元而聚合成的樹脂的總稱,可舉例如日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等記載的樹脂。若要列舉環狀聚烯烴系樹脂的具體例,則有環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與如乙烯或丙烯等鏈狀烯烴的共聚物(代表例為無規共聚物)、以及該等經不飽和羧酸或其衍生物改性的接枝聚合物及該等的氫化物。其中,就環狀烯烴而言,較佳係使用降莰烯、多環降莰烯系單體等降莰烯系單體之降莰烯系樹脂。
聚酯系樹脂,係排除下述纖維素酯系樹脂,為具有酯鍵的樹脂,一般為由多元羧酸或其衍生物與多元醇的縮聚物所構成者。多元羧酸或其衍生物,係可使用二元之二羧酸或其衍生物,例如對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二甲酸二甲酯。就多元醇而言,可使用二元之二醇,例如乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇。聚酯系樹脂的代表例係可舉例如屬於對苯二甲酸與乙二醇的縮聚物的聚對苯二甲酸乙二酯。
(甲基)丙烯酸系樹脂,係以具有(甲基)丙烯醯基的化合物作為主要構成單體的樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例係包括:如聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯;甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物;甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物;甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物;甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等);甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基的化合物的共聚物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。較佳係 使用以如聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷酯作為主成分的聚合物,更佳係以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50至100重量%,較佳為70至100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
纖維素酯系樹脂係由纖維素與脂肪酸所成的酯。纖維素酯系樹脂的具體例係包括纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯。而且,亦可舉例如該等的共聚物、或是羥基的一部分經其他取代基修飾者。該等之中,特佳為纖維素三乙酸酯(亦即三乙醯基纖維素)。
聚碳酸酯系樹脂,係包含「隔著碳酸酯基而使單體單元鍵結的聚合物」的工程塑膠。
若將保護膜的相位差值調控成對於液晶顯示裝置等影像顯示裝置為較佳的值,則亦為有用者。例如在IPS(in-plane switching,即橫向電場效應顯示技術)模式的液晶顯示裝置中,較佳係使用實質上相位差值為零的膜來作為保護膜。所謂實質上相位差值為零,係指波長550nm時的面內相位差值Re(550)為10nm以下,波長550nm時的厚度方向相位差值Rth的絕對值為10nm以下。波長480至750nm時的厚度方向相位差值Rth的絕對值較佳為15nm以下。而且,為了提高使用者配戴偏光太陽眼鏡時之畫面的辨識性,波長550nm時的面內相位差值Re(550)可為70至140nm。
例如,可依據液晶顯示裝置的模式,對保護膜進行延伸及/或收縮加工等,以賦予適合的相位差。例如,若以視角補償為目的,則可使用單層或多層結構者作為保護膜。
保護膜的厚度,通常為1至100μm,從強度及操作性的觀點來看,較佳為5至60μm,更佳為10至55μm,又更佳為15至40μm。
貼合於偏光件的單面或兩面之保護膜,可由相同種類的熱塑性樹脂所構成,亦可由不同種類的熱塑性樹脂構成。而且,厚度可為相同,亦可為不同。再者,可具有相同的相位差特性,亦可具有不同的相位差特性。
如上所述,保護膜的至少一者係可在其外表面(與偏光件側為相反側的面)具備如硬塗層、抗眩層、光擴散層、抗反射層、低折射率層、抗靜電層或防污層等表面處理層(塗佈層)。再者,保護膜的厚度係包含表面處理層的厚度。
保護膜係可隔著例如接著劑層或黏著劑層而貼合於偏光件。形成接著劑層的接著劑係可使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑或熱硬化性接著劑,較佳為水系接著劑或活性能量線硬化性接著劑。黏著劑層係可使用後述者。
就水系接著劑而言,可舉例如由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的接著劑、水系二液型胺酯系乳膠接著劑等。其中,適合使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的水系接著劑。就聚乙烯醇系樹脂而言,除了可為將屬於乙酸乙烯酯的同元聚合物之聚乙酸乙烯酯予以皂化處理所得之聚乙烯醇同元聚合物以外,亦可使用將乙酸乙烯酯及可能與其共聚合的其他單體的共聚物予以皂化處理所得之聚乙烯醇系共聚物、或將該等的羥基經部分地改性而成之改性聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑可包含醛化合物(例如乙二醛等)、環氧化合物、三聚氰胺化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯系 化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。
於使用水系接著劑的情況下,較佳係在將偏光件與保護膜貼合後實施用以除去水系接著劑中所含的水之乾燥步驟。乾燥步驟後,可設置例如在20至45℃的溫度下養生的養生步驟。
上述活性能量線硬化性接著劑係指含有「藉由紫外線、可見光、電子線或X射線等活性能量線的照射而硬化的硬化性化合物」之接著劑,較佳為紫外線硬化性接著劑。
上述硬化性化合物可為陽離子聚合性的硬化性化合物、或自由基聚合性的硬化性化合物。陽離子聚合性的硬化性化合物,可舉例如環氧系化合物(分子內具有1個或2個以上的環氧基的化合物)、氧雜環丁烷系化合物(分子內具有1個或2個以上的氧雜環丁烷基的化合物)、或該等的組合。自由基聚合性的硬化性化合物,可舉例如(甲基)丙烯酸系化合物(分子內具有1個或2個以上的(甲基)丙烯醯氧基的化合物)、具有自由基聚合性雙鍵的其他乙烯系化合物、或該等的組合。亦可併用陽離子聚合性的硬化性化合物及自由基聚合性的硬化性化合物。活性能量線硬化性接著劑通常更包含用以引發上述硬化性化合物的硬化反應之陽離子聚合引發劑及/或自由基聚合引發劑。
偏光件與保護膜貼合時,為了提高接著性,可在該等的至少一者之貼合面實施表面活化處理。表面活化處理可舉例如:如電暈處理、電漿處理、放電處理(電弧放電處理等)、火焰處理、臭氧處理、UV臭氧處理及電離輻射處理(紫外線處理、電子線處理等)等乾式處理;如使用水或丙酮等溶劑的超音波處理、皂化處理及錨定處理等濕式處理。該等表面活化 處理可單獨進行,亦可組合2種以上而進行。
於偏光件的兩面貼合保護膜時,用以貼合該等保護膜的接著劑係可為相同種類的接著劑,亦可為不同種類的接著劑。
亦可於偏光件的一面形成保護層來取代保護膜。保護層,可不隔著接著劑層、黏著劑層,即形成於偏光件。亦即,保護層可與偏光件接觸而形成。保護層可為包含(甲基)丙烯酸系樹脂的層、包含水系樹脂的層。
包含(甲基)丙烯酸系樹脂的層,係可藉由將包含(甲基)丙烯酸系樹脂的組成物塗佈於偏光件並加熱或照射活性能量線,或者是可藉由將包含(甲基)丙烯酸系樹脂的組成物塗佈於基材膜上並加熱或照射活性能量線,而形成之。於後者的情況下,可在包含(甲基)丙烯酸系樹脂的層上形成偏光件。
所謂(甲基)丙烯酸系樹脂,係指在構成(甲基)丙烯酸系樹脂的單體中以具有(甲基)丙烯醯基的單體為主成分的聚合物。此處,所謂主成分,係指在構成(甲基)丙烯酸系樹脂的單體成分中之最大含量(質量%)的單體。若使用(甲基)丙烯酸系樹脂作為形成保護層的材料,則在濕熱環境下也可抑制圓偏光板的光學特性的降低。
就(甲基)丙烯酸系樹脂而言,較佳為由光聚合性單體所聚合者,例如可為將具有(甲基)丙烯醯基的單官能基單體或多官能基單體予以單獨或2種以上混合而聚合者。(甲基)丙烯酸系樹脂,可聚合具有(甲基)丙烯醯基的單體以外的單體,例如可聚合具有乙烯基的單體。
具有(甲基)丙烯醯基的單體係無特別限制,可舉例如分子內 具有1個或2個以上的(甲基)丙烯醯基的化合物,該等可單獨使用或混合2種以上而使用。具體而言,可舉例如:二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、上述(甲基)丙烯酸酯的環氧乙烷或環氧丙烷加成化合物;分子中具有4個以上的(甲基)丙烯醯基的寡聚酯(甲基)丙烯酸酯、寡聚醚(甲基)丙烯酸酯、寡聚胺酯(甲基)丙烯酸酯、寡聚環氧(甲基)丙烯酸酯、寡聚三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、具有樹枝狀聚合物結構的多官能基丙烯酸酯等。
包含(甲基)丙烯酸系樹脂的層的厚度,通常為0.1μm以上,較佳為0.3μm以上,更佳為0.5μm以上,而且通常為20.0μm以下,較佳為15μm以下,更佳為10μm以下。若包含(甲基)丙烯酸系樹脂的層的厚度為上述範圍內,則較容易得到可彎曲的圓偏光板。
包含水系樹脂的層,係可藉由將包含水系樹脂的組成物塗佈於偏光件並加熱或照射活性能量線,或者是可藉由將包含水系樹脂的組成物塗佈於基材膜上並加熱或照射活性能量線,而形成之。於後者的情況下,可在包含水系樹脂的層上形成偏光件。
水系樹脂可舉例如聚乙烯醇、乙烯乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯基吡咯啶酮、澱粉類、甲基纖維素、羧甲基纖維素、海藻酸鈉等水溶性聚合物等,其中以聚乙烯醇為較佳。
包含水系樹脂的層的厚度,較佳為0.1μm以上,更佳為0.3μm以上,而且較佳為3μm以下,更佳為1.5μm以下,又更佳為1μm以下。若包含水系樹脂的層的厚度為上述範圍內,則較容易得到可彎曲的圓 偏光板。
保護層,可為單層,亦可由複數層所形成,在由複數層形成保護層的態樣中,保護層可舉例如由包含(甲基)丙烯酸系樹脂的層及包含水系樹脂的層的積層體所構成的態樣。
〈相位差膜〉
本發明的圓偏光板具有相位差膜。相位差膜的穿刺彈性模數為15gf/mm以上,較佳為20gf/mm以上,更佳為25gf/mm以上,又更佳為30gf/mm以上。相位差膜的穿刺彈性模數的上限值係無特別限制,例如可為200gf/mm以下,亦可為50gf/mm以下。具有如此範圍的穿刺彈性模數的相位差膜係在高溫環境下有不易發生相位差值變化之傾向。當穿刺彈性模數越大,相對於由偏光板之尺寸收縮所致之應力,就越不容易發生相位差值變化。
當相位差膜包含1層相位差層時,相位差膜的穿刺彈性模數為15gf/mm以上,較佳為20gf/mm以上,更佳為25gf/mm以上,又更佳為30gf/mm以上。相位差膜的穿刺彈性模數的上限值係無特別限制,例如可為200gf/mm以下,亦可為90gf/mm以下,亦可為50gf/mm以下。
當相位差膜包含2層相位差層時,相位差膜的穿刺彈性模數為30gf/mm以上,較佳為40gf/mm以上,更佳為50gf/mm以上,特佳為70gf/mm以上。相位差膜的穿刺彈性模數的上限值係無特別限制,例如可為200gf/mm以下,亦可為150gf/mm以下,亦可為100gf/mm以下。
穿刺彈性模數係指在以針(穿刺夾具)垂直地穿刺於相位差膜的主面時,將相位差膜斷裂(或破裂)前的力(gf)除以此時的應變(mm)而 得的值。針可使用尖端直徑為1mm 、0.5R者。針穿刺的速度可為0.33cm/秒。穿刺彈性模數的測定,係在具有可通過針的直徑15mm以下的圓形開孔之2片板之間夾住相位差膜而進行。穿刺彈性模數的測定,可在溫度23℃的環境下進行。例如可對5片相位差膜測定穿刺彈性模數,以其平均值作為相位差膜的穿刺彈性模數。穿刺彈性模數的測定可利用市售的裝置。市售的裝置可舉例如KATO TECH股份有限公司製的便攜式壓縮測試機”KES-G5針穿透力測定規範”、島津製作所股份有限公司製的小型桌上測試機”EZ Test”等。
相位差膜的穿刺彈性模數,係可藉由調整例如所使用的聚合性液晶化合物或配向膜的種類、聚合性液晶化合物的硬化程度、相位差膜的厚度等而控制。
相位差膜具有相位差層。相位差層較佳係具有由包含聚合性液晶化合物的組成物所構成的層。所謂由包含聚合性液晶化合物的組成物所構成的層,具體上係指由聚合性液晶化合物硬化而成的層。於本說明書中,係將賦予λ/2的相位差的層、賦予λ/4的相位差的層(正A層)及正C層等總稱為相位差層。再者,相位差膜亦可包含後述的配向膜。
賦予λ/2的相位差的層,較佳係意指波長550nm時的面內相位差值為200至280nm的層,更佳係面內相位差值為215至265nm的層。賦予λ/4的相位差的層,較佳係意指波長550nm時的面內相位差值為100至160nm的層,更佳係面內相位差值為110至150nm的層。正C層可為折射率顯示nx≒ny<nz的關係性的層。正C層的厚度方向的相位差值,係在波長550nm時可為-50nm至-150nm,並可為-70nm至-120nm。
由聚合性液晶化合物硬化而成的層,例如形成於設置在基材之配向膜上。前述基材具有支持配向膜的功能,可為形成為長條狀的基材。該基材發揮作為具有離型性的支持體的功能,可支持經轉印的相位差層。再者,較佳係其表面具有可剝離的程度之接著力者。前述基材可舉例如作為上述保護膜的材料所例示的樹脂膜。
基材的厚度係無特別限制,例如較佳係設為20μm以上200μm以下的範圍。基材的厚度為20μm以上時會賦予強度。另一方面,厚度為200μm以下時,在對基材進行裁切加工而製成片狀基材時,可抑制加工碎屑的增加、裁切刀的磨損。
再者,對基材可實施各種抗結塊處理。抗結塊處理可舉例如易接著處理、將填充劑等予以捏和的處理、壓花加工(滾花處理等)等。藉由對基材實施如此的抗結塊處理,而可有效地防止在捲取基材時之基材彼此之黏附(亦即所謂的結塊),並可生產性高地製造光學膜。
由聚合性液晶化合物硬化而成的層,係隔著配向膜而形成於基材上。亦即,依序積層基材、配向膜,並且,由聚合性液晶化合物硬化而成的層係積層於前述配向膜上。
再者,所謂配向膜,不限於垂直配向膜,可為使聚合性液晶化合物的分子軸呈水平配向的配向膜,亦可為使聚合性液晶化合物的分子軸呈傾斜配向的配向膜。就配向膜而言,較佳係為具有不會因塗佈後述包含聚合性液晶化合物的組成物等而溶解的耐溶劑性,而且具有在用以除去溶劑或配向液晶化合物的加熱處理中的耐熱性。配向膜可舉例如包含配向性聚合物的配向膜、光配向膜、以及在表面形成有凹凸形狀或複數條溝槽 而配向的溝槽配向膜。配向膜的厚度,通常為10nm至10000nm的範圍,較佳為10nm至1000nm的範圍,更佳為500nm以下,又更佳為10nm至200nm的範圍。當相位差膜具有配向膜時,若增加配向膜的厚度,則會易於增加穿刺彈性模數。
包含配向性聚合物的配向膜,通常係藉由將使配向性聚合物溶解於溶劑而成的組成物塗佈於基材並除去溶劑,或者是將配向性聚合物的組成物塗佈於基材並除去溶劑而且進行摩擦(摩擦法)而得之。配向性聚合物可舉例如分子內具有醯胺鍵的聚醯胺或明膠類、分子內具有醯亞胺鍵的聚醯亞胺及屬於其水解物之聚醯胺酸、聚乙烯醇、經烷基改性的聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚噁唑(polyoxazole)、聚乙烯亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯啶酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯類。其中,較佳為聚乙烯醇。配向性聚合物可單獨使用或組合2種以上而使用。
光配向膜,通常係藉由將包含具有光反應性之聚合物或單體及溶劑的組成物塗佈於基材並除去溶劑後,照射偏光(較佳為偏光UV)而得。光配向膜係因可藉由選擇照射的偏光的偏光方向而將配向控制力的方向予以任意控制,故為有利。
所謂光反應性基,係指會藉由光照射而產生液晶配向能力的基。具體上,可舉例如會參與「因光照射所產生的分子的配向引發或異構化反應、二聚反應、光交聯反應或光分解反應等成為液晶配向能力的來源之光反應」的基。其中,從配向性佳的觀點來看,係以參與二聚反應或光交聯反應的基為較佳。就光反應性基而言,較佳為具有不飽和鍵(特別是雙鍵)的基,特佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮 -氮雙鍵(N=N鍵)及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所組成之群組中之至少一者的基。
具有C=C鍵的光反應性基,可舉例如乙烯基、聚烯基、二苯乙烯基、芪唑(stilbazole)基、芪唑鎓(stilbazolium)基、查爾酮基(chalcone group)、肉桂醯基等。具有C=N鍵的光反應性基,可舉例如具有芳香族希夫鹼基(Schiff base)、芳香族腙(hydrazone)等的結構的基。具有N=N鍵的光反應性基,可舉例如具有偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮(bisazo)基、甲(formazan)基及氧偶氮基苯(azoxybenzene)結構的基等。具有C=O鍵的光反應性基,可舉例如二苯甲酮(benzophenone)基、香豆素(coumarin)基、蒽醌基及馬來醯亞胺基等。該等基可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙基氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基、鹵代烷基等取代基。
其中,以參與光二聚化反應的光反應性基為較佳,並且,由於光配向所需的偏光照射量較少且容易得到熱安定性及經時安定性佳的光配向膜,故以肉桂醯基及查爾酮基為較佳。就具有光反應性基的聚合物而言,特佳為會使該聚合物側鏈的末端成為肉桂酸結構的具有肉桂醯基者。
關於本實施態樣所使用的聚合性液晶化合物的種類,並無特別限制,可由其形狀來分類為棒狀型(棒狀液晶化合物)及圓盤狀型(圓盤狀液晶化合物、盤狀液晶化合物)。再者,各自有低分子型及高分子型。再者,所謂高分子,一般係指聚合度為100以上者(高分子物理相轉移動力學、土井正男著、2頁、岩波書店、1992)。
於本實施態樣中,可使用任何的聚合性液晶化合物。再者,亦可使用2種以上的棒狀液晶化合物、2種以上的圓盤狀液晶化合物、或 棒狀液晶化合物與圓盤狀液晶化合物的混合物。
棒狀液晶化合物可適合使用例如日本特表平11-513019號公報的請求項1或日本特開2005-289980號公報的段落[0026]至[0098]記載者。圓盤狀液晶化合物可適合使用例如日本特開2007-108732號公報的段落[0020]至[0067]或日本特開2010-244038號公報的段落[0013]至[0108]記載者。
聚合性液晶化合物亦可併用2種以上。在此情況下,至少1種係在分子內具有2個以上的聚合性基。亦即,前述由聚合性液晶化合物硬化而成的層,較佳為由具有聚合性基的液晶化合物進行聚合而固定並形成的層。在此情況下,在成為層後係不需要再顯示液晶性。
聚合性液晶化合物具有可進行聚合反應的聚合性基。聚合性基較佳係例如聚合性乙烯性不飽和基、環聚合性基等可進行加成聚合反應的官能基。更具體而言,聚合性基可舉例如(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。其中,較佳係(甲基)丙烯醯基。再者,所謂(甲基)丙烯醯基係包含甲基丙烯醯基及丙烯醯基的兩者的概念。
如後述,可藉由將包含聚合性液晶化合物的組成物塗佈於例如配向膜上並照射活性能量線而形成由聚合性液晶化合物硬化而成的層。於前述組成物中,亦可包含上述聚合性液晶化合物以外的成分。例如於前述組成物中,較佳係包含聚合引發劑。所使用的聚合引發劑,係依據聚合反應的型式而選擇例如熱聚合引發劑、光聚合引發劑。例如,光聚合引發劑可舉例如α-羰基化合物、醇酮醚(acyloin ether)、α-烴取代芳香族醇酮化合物、多核醌化合物、三芳基咪唑二聚物與對胺基苯基酮的組合。聚合引 發劑的使用量,相對於前述塗佈液中的全部固體成分而言,較佳為0.01至20質量%,更佳為0.5至5質量%。
而且,於前述組成物中,從塗佈膜的均勻性及膜的強度的觀點來看,亦可包含聚合性單體。聚合性單體可舉例如自由基聚合性或陽離子聚合性的化合物。其中,較佳為多官能性自由基聚合性單體。
再者,就聚合性單體而言,較佳係可與上述聚合性液晶化合物進行共聚合者。聚合性單體的使用量,相對於聚合性液晶化合物的全部質量而言,較佳為1至50質量%,更佳為2至30質量%。
而且,於前述組成物中,從塗佈膜的均勻性及膜的強度的觀點來看,亦可包含界面活性劑。界面活性劑可舉例如以往習知的化合物。其中,特佳為氟系化合物。
而且,於前述組成物中可包含溶劑,以使用有機溶劑為較佳。有機溶劑可舉例如醯胺(例如N,N-二甲基甲醯胺)、亞碸(例如二甲基亞碸)、雜環化合物(例如吡啶)、烴(例如苯、己烷)、鹵化烷(例如氯仿、二氯甲烷)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮)、醚(例如四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。其中,較佳為鹵化烷、酮。而且,可併用2種以上的有機溶劑。
此外,於前述組成物中,可包含如偏光件界面側垂直配向劑、空氣界面側垂直配向劑等垂直配向促進劑以及偏光件界面側水平配向劑、空氣界面側水平配向劑等水平配向促進劑之各種配向劑。再者,於前述組成物中,除了上述成分以外,亦可包括密著改進劑、可塑劑、聚合物等。
上述活性能量線包含紫外線、可見光、電子線、X射線,較 佳為紫外線。前述活性能量線的光源,可舉例如低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射、發出波長範圍380至440nm之光的LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
紫外線的照射強度,通常為100mW/cm2至3,000mW/cm2。紫外線照射強度,較佳係在對於光陽離子聚合引發劑及光自由基聚合引發劑的活化為有效的波長區域中的強度。照射紫外線的時間,通常為0.1秒至10分鐘,較佳為0.1秒至5分鐘,更佳為0.1秒至3分鐘,又更佳為0.1秒至1分鐘。
紫外線可1次照射或分成複數次照射。紫外線照射係以複數次照射為較佳。液晶化合物的聚合率高時,其穿刺彈性模數容易提高至本發明的範圍。雖亦根據所使用的聚合引發劑,但波長365nm時的累積光量較佳為700mJ/cm2以上,更佳為1,100mJ/cm2以上,又更佳為1,300mJ/cm2以上。若為上述累積光量時,則有利於提高構成相位差膜的聚合性液晶化合物的聚合率,並且大幅增加相位差膜的穿刺彈性模數。波長365nm時的累積光量較佳為2,000mJ/cm2以下,更佳為1,800mJ/cm2以下。若為上述累積光量時,則可能導致相位差膜著色。
而且,為了防止液晶化合物的配向被剛照射紫外線後的熱所干擾,較佳為在紫外線照射後設置冷卻步驟。藉由在紫外線照射後設置冷卻步驟,即可抑制液晶化合物的配向被剛照射後所產生的熱所干擾。結果,提高液晶化合物的配向度,可得到具有更高剛性的膜。冷卻溫度係例如可為20℃以下,並可為10℃以下。冷卻時間係例如可為10秒以上,可為20 秒以上。
於本實施態樣中,相位差層的厚度較佳為0.5μm以上。而且,前述相位差層的厚度較佳為10μm以下,更佳為5μm以下。再者,上述的上限值及下限值可任意地組合。相位差層的厚度若為前述的下限值以上時,可得到充分的耐久性。相位差層的厚度為前述的上限值以下時,可對圓偏光板的薄層化有所貢獻。相位差層的厚度,可調整成會得到賦予λ/4的相位差的層、賦予λ/2的相位差的層或正C層所期望的面內相位差值及厚度方向的相位差值。
相位差膜,可為包含1層的「由聚合性液晶化合物硬化而成的層」者,亦可為包含2層以上的「由聚合性液晶化合物硬化而成的層」者。當相位差膜包含2層的由聚合性液晶化合物硬化而成的層時,較佳係該2層為賦予λ/4的相位差的層與正C層的組合、或者是賦予λ/4的相位差的層與賦予λ/2的相位差的層的組合。當相位差膜包含2層的由聚合性液晶化合物硬化而成的層時,可在配向膜上分別製作由聚合性液晶化合物硬化而成的層,並將兩者隔著接著劑層或黏著劑層而積層,以製造相位差膜,亦可在由聚合性液晶化合物硬化而成的層上,再形成由聚合性液晶化合物硬化而成的層。在將兩者積層後,可剝離基材及配向膜。相位差膜的厚度,較佳為3至30μm,更佳為5至25μm。
〈黏著劑層〉
黏著劑層,可由以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺酯系、酯系、聚矽氧(silicone)系、聚乙烯醚系等的樹脂作為主成分的黏著劑組成物所構成。其中,適合為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂作為基 質聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型、熱硬化型。黏著劑層的厚度,通常為3至30μm,較佳為3至25μm。
關於黏著劑組成物所使用的(甲基)丙烯酸系樹脂(基質聚合物),係適合使用例如以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯的1種或2種以上作為單體的聚合物或共聚物。於基質聚合物中,較佳係共聚合有極性單體。極性單體可舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物,可為只包含上述基質聚合物者,但通常更含有交聯劑。交聯劑可例示如:2價以上的金屬離子,其係與羧基之間會形成羧酸金屬鹽者;聚胺化合物,其係與羧基之間會形成醯胺鍵者;聚環氧化合物或聚醇,其係與羧基之間會形成酯鍵者;聚異氰酸酯化合物,其係與羧基之間會形成醯胺鍵者。其中,較佳為聚異氰酸酯化合物。
〈前面板〉
本發明包含一種附前面板的圓偏光板,其係由圓偏光板與前面板隔著接著層而積層者。前面板係配置於偏光板的觀賞側。前面板可隔著接著層而積層於偏光板。接著層可舉例如前述的黏著劑層、接著劑層。如第2圖(a)、(b)、(c)所示,前面板4係隔著黏著劑層16而積層在偏光板1之保護膜11上。
前面板可舉例如在玻璃、樹脂膜的至少一面包含硬塗層者。玻璃可使用例如高穿透玻璃、強化玻璃。特別是在使用薄之透明材料時, 較佳為經實施化學強化的玻璃。玻璃的厚度,可為例如100μm至5mm。
在樹脂膜的至少一面包含硬塗層所成的前面板,不像現有的玻璃般堅硬,可具有可撓性。硬塗層的厚度係無特別限制,可為例如5至100μm。
樹脂膜可為由下述者所形成之膜:具有如降莰烯或多環降莰烯系單體等包含環烯烴的單體的單元之環烯烴系衍生物、纖維素(二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素、乙醯基纖維素丁酸酯、異丁酯纖維素、丙醯基纖維素、丁醯基纖維素、乙醯基丙醯基纖維素)乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚環烯烴、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚丙烯酸、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯基縮乙醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚胺酯、環氧樹脂等高分子。樹脂膜可使用未延伸、1軸或2軸延伸膜。該等高分子可分別單獨使用,亦可混合2種以上而使用。就樹脂膜而言,較佳為透明性及耐熱性優異的聚醯胺醯亞胺膜或聚醯亞胺膜、1軸或2軸延伸的聚酯膜、透明性及耐熱性佳且可對應膜的大型化的環烯烴系衍生物膜、聚甲基丙烯酸甲酯及透明性及無光學各向異性的三乙醯基纖維素及異丁酯纖維素膜。樹脂膜的厚度為5至200μm,較佳為20至100μm。
前述硬塗層可藉由包含會因照射光或熱能而形成交聯結構的反應性材料之硬塗組成物的硬化而形成。前述硬塗層可藉由同時包含光硬化型(甲基)丙烯酸酯單體或寡聚物及光硬化型環氧基單體或寡聚物之硬 塗組成物的硬化而形成。前述光硬化型(甲基)丙烯酸酯單體可包含選自由環氧基(甲基)丙烯酸酯、胺酯(甲基)丙烯酸酯及聚酯(甲基)丙烯酸酯所組成之群組中的1種以上。前述環氧基(甲基)丙烯酸酯可藉由對於環氧化合物使(甲基)丙烯醯基的羧酸進行反應而得。
硬塗組成物可更包含選自由光引發劑及添加劑所組成之群組中的一種以上。添加劑可包含選自由無機奈米粒子、調平劑及安定劑所組成之群組中的一種以上,除此以外,本技術領域通常使用的各成分係可包含例如抗氧化劑、UV吸收劑、界面活性劑、潤滑劑、防污劑等。
〈遮光圖案〉
遮光圖案,係可提供作為前面板或前面板所適用的顯示裝置的遮光屏(bezel)或殼體(housing)的至少一部分。遮光圖案係可形成在前面板之顯示元件側。遮光圖案可隱藏顯示裝置的各配線,不讓使用者看到。遮光圖案的顏色及/或材質係無特別限制,可用具有黑色、白色、金色等多種顏色的樹脂物質形成。於一實施態樣中,遮光圖案的厚度,可為2μm至50μm,較佳為4μm至30μm,更佳為6μm至15μm的範圍。而且,為了抑制因遮光圖案與顯示部之間的階差所導致之氣泡混入及邊界部的辨識度,可對遮光圖案賦予形狀。
〈圓偏光板的製造方法〉
以第1圖(a)所示的圓偏光板100為例,說明圓偏光板的製造方法。可藉由將偏光板1及相位差膜2隔著黏著劑層13積層而製造圓偏光板100。
可藉由將偏光件10及保護膜11、12分別隔著接著劑層積層而製造偏光板1。就偏光板而言,可準備長條狀的構件,以捲至捲(roll to roll)之方式貼合各構件後,裁切為指定的形狀而製造之,亦可將各構件裁切為指定的形狀後貼合。在偏光件10貼合保護膜11、12後,可設置加熱步驟、調濕步驟。
相位差膜2係例如可使用下述方式製造。於基材上形成配向膜,在配向膜上塗佈包含聚合性液晶化合物的塗佈液。在使聚合性液晶化合物配向的狀態下,照射活性能量線,使聚合性液晶化合物硬化。在由聚合性液晶化合物硬化而成的層上,使形成於剝離膜上的黏著劑層14積層。然後,剝離基材及/或配向膜。繼而,在保護膜12上,使形成於剝離膜上的黏著劑層13積層。就相位差膜2而言,可準備長條狀的構件,以捲至捲之方式貼合各構件後,裁切為指定的形狀而製造,亦可將各構件裁切為指定的形狀後貼合。
然後,剝離積層於黏著劑層13的剝離膜,隔著黏著劑層13而將相位差膜2與偏光板貼合,藉此而可製作圓偏光板。
在耐熱測試後,在反射板上的圓偏光板面內所識別的顏色差異,係可藉由將耐熱測試後的圓偏光板面內的反射色調予以均勻化而減少。為了將耐熱測試後的圓偏光板面內的反射色調予以均勻化,其必要的元素可舉例如:耐熱測試前的圓偏光板面內的反射色調為均勻、以及耐熱測試前後反射色調的變化為小。
若圓偏光板的耐熱測試前的反射光色調在面內為均勻,則因可減少在耐熱測試後的圓偏光板面內的反射光的色調差異,故為較佳。具體上,耐熱測試前的主面內的中央(可為重心,亦可為第3圖所示的中央的點5)之反射光的色調、以及主面內的中心以外的部分(可為例如第3圖所示 的中央以外的點5之反射光的色調)之反射光的色調的差異大小,較佳為1.0以下,更佳為0.8以下,又更佳為0.6以下。中央部與其他部分的反射光的色調差異,可由例如以下的式算出。
△a*b*=[(△a*)2+(△b*)2]1/2式中,△a*為中央部之a*與中心以外的部分之a*的差,△b*為對應其之b*的差。若於耐熱測試前的圓偏光板面內的反射光色調的均勻性為低,則即使耐熱前後的反射光的色調變化小,其辨識性的改善效果亦有變小的情況。耐熱測試係例如可藉由將圓偏光板在設定溫度為80℃的乾燥機中保管168小時而進行。
〈用途〉
圓偏光板可使用於各種顯示裝置。所謂顯示裝置,係指具有顯示元件的裝置,其包括發光元件或發光裝置作為發光源。顯示裝置可舉例如液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、無機電激發光(以下也稱為無機EL裝置)顯示裝置、電子發射顯示裝置(例如電場發射顯示裝置(也稱為FED)、表面電場發射顯示裝置(也稱為SED))、電子紙(使用電子墨水或電泳元件的顯示裝置)、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(例如光柵光閥(grating light valve,也稱為GLV)顯示裝置、具有數位微鏡裝置(也稱為DMD)之顯示裝置)及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置亦包含穿透型液晶顯示裝置、半穿透型液晶顯示裝置等的任一種。該等顯示裝置,可為顯示二維影像的顯示裝置,亦可為顯示三維影像的立體顯示裝置。圓偏光板係特別可有效使用於有機EL顯示裝置或無機EL顯示裝置。
於第2圖(a)、(b)中,有機EL顯示裝置104、105係具有使 圓偏光板隔著黏著劑層14而積層於有機EL顯示元件3的層構成,該黏著劑層14係積層在相位差膜20上。
(1)膜厚的測定方法
使用尼康(Nikon)股份有限公司製的數位測微計之MH-15進行測定。
(2)相位差值測定方法
使用相位差測定裝置KOBRA-WPR(王子計測機器股份有限公司製)進行測定。
[相位差膜1的製作]
將下述結構的光配向性材料5份(重量平均分子量:30,000)與環戊酮(溶劑)95份予以混合,並將所得之混合物在80℃下攪拌1小時,得到配向膜形成用組成物。
對於將以下所示的聚合性液晶化合物A及聚合性液晶化合物B以90:10的質量比混合之混合物100份,添加調平劑(F-556;DIC股份有限公司製)1.0份及聚合引發劑之2-二甲基胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎啉基苯基)丁-1-酮(「Irgacure369(即Irg369)」、日本BASF股份有限公司製)6份。
再者,添加N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP)而使固體成分濃度成為13%,在80℃下攪拌1小時,得到液晶硬化膜形成用組成物。
聚合性液晶化合物A係依據日本特開2010-31223號公報記載的方法製造。而且,聚合性液晶化合物B係依據日本特開2009-173893號公報記載的方法製造。以下顯示各別的分子結構。
(聚合性液晶化合物A)
(聚合性液晶化合物B)
[以基材、配向膜、由聚合性液晶化合物硬化而成的層所構成的積層體的製造]
在作為基材之50μm厚的環烯烴系樹脂膜[日本ZEON股份有限公司製的商品名「ZF-14-50」]上,實施電暈處理。在實施過電暈處理的面,以棒塗器塗佈配向膜形成用組成物。使塗佈膜在80℃下乾燥1分鐘。在將乾燥的塗佈膜使用偏光UV照射裝置[USHIO電機股份有限公司製的商品名「SPOT CURE SP-9」],以軸角度為45°之方式照射偏光UV,得到配向膜。偏光UV的照射,係以使波長313nm時之累積光量成為100mJ/cm2之方式進行。
其次,在配向膜上,使用棒塗器塗佈液晶硬化膜形成用組成物。使塗佈膜在120℃下乾燥1分鐘。對於乾燥的塗佈膜,使用高壓水銀 燈[USHIO電機股份有限公司製的商品名:「UNICURE VB-15201BY-A」]照射紫外線。紫外線的照射步驟,係以使波長365nm時之累積光量成為250mJ/cm2之方式在氮氣環境下進行。在剛照射後,將硬化膜投入經設定為5℃的烤箱20秒以作為冷卻步驟。從烤箱取出後,立即再度實施前述紫外線步驟及前述冷卻步驟,得到以基材、配向膜、由聚合性液晶化合物硬化而成的層所構成的積層體。
(相位差值的測定)
在積層體的由聚合性液晶化合物硬化而成的層上,積層黏著劑層。隔著該黏著劑層而將積層體貼合於玻璃。然後,將積層體所具備的基材予以剝離,得到用以評價相位差值的樣品。結果,由聚合性液晶化合物硬化而成的層,其各波長時之相位差值Re(λ)係具有Re(450)=121nm、Re(550)=142nm、Re(650)=146nm。結果,算出Re(450)/Re(550)=0.85、Re(650)/Re(550)=1.03。由聚合性液晶化合物硬化而成的層為賦予λ/4的相位差的層。
(穿刺彈性模數的測定)
穿刺彈性模數的測定,係以如下方式進行。將針裝設於KATO TECH股份有限公司製的便攜式壓縮測試機”KES-G5針穿透力測定規範”。對於固定在開有直徑11mm的圓形開孔之2片板之間且已剝離基材的積層體的主面,將針垂直地穿刺,算出將斷裂前的力(gf)除以此時的應變(mm)而得的值。對於5片相位差膜(穿刺測試用樣品)分別進行該操作,以其平均值作為相位差膜的穿刺彈性模數。針係使用尖端直徑為1mm 、0.5R者。針的穿刺速度為0.33cm/秒。相位差膜1的穿刺彈性模數係表示於表1。
[相位差膜2的製作]
關於在使液晶硬化膜形成用組成物的塗佈膜硬化時所照射的紫外線,其每1次的累積光量係設為在波長365nm中為400mJ/cm2(亦即2次紫外線照射的合計累積光量為800mJ/cm2),除此以外,與[相位差膜1的製作]同樣地操作,製作包含相位差膜2的積層體。與上述同樣地測定相位差膜2的穿刺彈性模數。相位差膜2的穿刺彈性模數係表示於表1。
[相位差膜3的製作]
關於在使液晶硬化膜形成用組成物的塗佈膜硬化時所照射的紫外線,其每1次的累積光量係設為在波長365nm中為600mJ/cm2(亦即2次紫外線照射的合計累積光量為1200mJ/cm2),除此以外,與[相位差膜1的製作]同樣地操作,製作包含相位差膜3的積層體。與上述同樣地測定相位差膜3的穿刺彈性模數。相位差膜3的穿刺彈性模數係表示於表1。
[相位差膜4的製作]
關於在使液晶硬化膜形成用組成物的塗佈膜硬化時所照射的紫外線,其每1次的累積光量係設為在波長365nm中為800mJ/cm2(亦即2次紫外線照射的合計累積光量為1600mJ/cm2),除此以外,與[相位差膜1的製作]同樣地操作,製作包含相位差膜4的積層體。與上述同樣地測定相位差膜4的穿刺彈性模數。相位差膜4的穿刺彈性模數係表示於表1。
[相位差膜5的製作]
就垂直配向膜形成用的組成物而言,將市售的配向性聚合物SUNEVER SE-610(日產化學工業股份有限公司製)5重量份及甲基乙基酮(溶劑)95重量份予以混合,而得到垂直配向膜形成用組成物。
就垂直配向相位差層形成用的組成物而言,將光聚合性向列型液晶化合物(MERCK公司製RMM28B)20重量份及作為光聚合引發劑的Irgacure 907(BASF公司製、Irg-907)1重量份溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯80重量份中,調製垂直配向相位差層形成用塗佈液。
在作為基材之50μm厚的環烯烴系樹脂膜[日本ZEON股份有限公司製的商品名「ZF-14-50」]上,實施電暈處理。對於實施過電暈處理的面,以棒塗器塗佈垂直配向膜形成用組成物。將塗佈膜在100℃下加熱120秒,使其硬化,形成垂直配向膜。
在先前所得之垂直配向膜上,塗佈垂直配向相位差層形成用塗佈液,並將塗佈膜在80℃下加熱60秒。然後,照射紫外線(UVB)而使累積光量成為220mJ/cm2,使垂直配向相位差層形成用組成物進行聚合、硬化,在垂直配向膜上形成厚度0.7μm的垂直配向相位差層。測定所得之垂直配向相位差層在波長550nm時的相位差值時,Re(550)=1nm、Rth(550)=-75nm。亦即,垂直配向相位差層為滿足nx≒ny<nz的關係之正C層。再者,作為基材之環烯烴系樹脂膜的在波長550nm時的相位差值約為零,對垂直配向相位差層的光學特性不會造成影響。
其次,在所得之垂直配向相位差層上,與[相位差膜2的製作]同樣地操作,形成賦予λ/4的相位差的層,製作包含相位差膜5的積層體。如此地操作,製作依序積層基材、垂直配向膜、正C層、配向膜、賦予λ/4的相位差的層並且包含相位差膜5的積層體。與上述同樣地測定相位差膜5的穿刺彈性模數。相位差膜5的穿刺彈性模數係表示於表1。
[黏著劑層的準備]
黏著劑A:厚度5μm的薄片狀黏著劑(Lintec股份有限公司製的「NCF # L2」)
黏著劑B:厚度25μm的薄片狀黏著劑(Lintec股份有限公司製的「P-3132」)
[保護膜的準備]
保護膜A:在厚度25μm的由降莰烯系樹脂所構成的延伸膜上形成厚度3μm的硬塗層之膜[日本製紙股份有限公司製的商品名「COP25ST-HC」]
保護膜B:厚度20μm的三乙醯基纖維素膜[FUJIFILM股份有限公司製的商品名「ZRG20SL」]
保護膜C:厚度25μm的由三乙醯基纖維素所構成的未延伸膜
[前面板的製作]
準備在基材膜的兩面具有硬塗層的前面板。基材膜為厚度50μm的聚醯亞胺膜,硬塗層的厚度為10μm。
[實施例1]
[偏光板的製作]
將厚度20μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸而一軸延伸至約4倍,再者,在保持緊張狀態下浸漬於40℃的純水40秒後,在28℃下浸漬於碘/碘化鉀/水的重量比為0.052/5.7/100的水溶液30秒,進行染色處理。其次,在70℃下浸漬於碘化鉀/硼酸/水的重量比為11.0/6.2/100的水溶液120秒。然後,在8℃的純水洗淨15秒後,在保持300N的張力的狀態下,在60℃下乾燥50秒、然後在75℃下乾燥20秒,得到使碘吸附配向於聚乙烯醇膜而成的厚度7μm的偏光件。
於偏光件的一面塗佈水系接著劑,貼合保護膜A。此時,相對於偏光件的吸收軸,以使保護膜A的延伸方向成為45度之方式貼合。於偏光件的另一面塗佈水系接著劑,貼合保護膜B。然後,使其乾燥,得到偏光板。前述水系接著劑,係藉由相對於水100份而使經羧基改性之聚乙烯醇[從KURARAY股份有份公司取得之商品名「KL-318」]3份溶解,並添加屬於水溶性環氧樹脂之聚醯胺環氧系添加劑[田岡化學工業股份有限公司製的商品名「SUMIREZ RESIN 650(30)」、固體成分濃度30%的水溶液]1.5份而成者。
在[相位差膜2的製作]所製作的積層體中之由聚合性液晶化合物硬化而成的層上,積層黏著劑A。然後,從積層體剝離基材,在剝離而露出的面積層黏著劑B。如此地操作,製作兩面附黏著劑的相位差膜2,其係以黏著劑A、由聚合性液晶化合物硬化而成的層、配向膜及黏著劑B所構成。
[圓偏光板的製作]
在前述偏光板之保護膜B上,隔著兩面附黏著劑的相位差膜2之黏著劑A,而貼合兩面附黏著劑的相位差膜2。由聚合性液晶化合物硬化而成的層的慢軸,係相對於偏光件的吸收軸而為45度,並且相對於保護膜A的延伸方向而為90度。如此地操作,製作圓偏光板,其係以保護膜A、水系接著劑層、偏光件、水系接著劑層、保護膜B、黏著劑A、由聚合性液晶化合物硬化而成的層、配向膜及黏著劑B所構成。
以使由聚合性液晶化合物硬化而成的層的慢軸與長邊呈平行之方式,將圓偏光板裁切為140mm×70mm的大小的長方形。此時,保護膜A的延伸方向係與短邊方向呈平行。經裁切的圓偏光板係隔著黏著劑B而貼合於厚度0.4mm的玻璃板(康寧公司製、型號:EAGLE XG(註冊商標))。如此地操作,製作評價用樣品。
[實施例2]
於實施例1中,除了使用在[相位差膜3的製作]所製作的積層體來取代在[相位差膜2的製作]所製作的積層體以外,與實施例1同樣地操作,製作圓偏光板,並製作評價用樣品。
[實施例3]
於實施例1中,除了使用在[相位差膜4的製作]所製作的積層體來取代在[相位差膜2的製作]所製作的積層體以外,與實施例1同樣地操作,製作圓偏光板,並製作評價用樣品。
[實施例4]
於實施例2中,除了以使由聚合性液晶化合物硬化而成的層的慢軸相對於偏光件的吸收軸成為45度並相對於保護膜A的延伸方向成為0度之方式來貼合保護膜A與偏光件外,與實施例2同樣地操作,製作圓偏光板,並製作評價用樣品。此時,保護膜A的延伸方向係與長邊方向呈平行。
[實施例5]
於實施例1中,除了使用在[相位差膜5的製作]所製作的積層體來取代在[相位差膜2的製作]所製作的積層體以外,與實施例1同樣地操作,製作圓偏光板,並製作評價用樣品。
[實施例6]
除了在製作偏光板時不積層保護膜B以外,與實施例1同樣地操作,製作圓偏光板。再者,將黏著劑層B積層於保護膜A上。隔著該黏著劑層B而貼合上述前面板與圓偏光板。如此操作,製作圓偏光板,其係以前面板、黏著劑層B、保護膜A、水系接著劑層、偏光件、黏著劑A、由聚合性液晶化合物硬化而成的層、配向膜及黏著劑B所構成。再者,與實施例1同樣地操作,製作評價用樣品。
[實施例7]
[表面處理層形成用組成物]
混合下述成分,調製表面處理層形成用組成物。
具有18官能的丙烯醯基之樹枝狀聚合物丙烯酸酯(Miramer SP1106、Miwon公司)2.0質量份、具有6官能的丙烯醯基之胺酯丙烯酸酯(Miramer PU-620D、Miwon公司)10.0質量份、 具有3官能的丙烯醯基之丙烯酸酯單體(M340、Miwon公司)8.0質量份、光聚合引發劑(Irgacure-184、BASF公司)2質量份、調平劑(BYK-3530、BYK公司)0.1質量份、甲基乙基酮(MEK)77.9質量份。
[偏光件形成用組成物]
(聚合性液晶化合物)
聚合性液晶化合物係使用式(1-6)表示的聚合性液晶化合物[以下亦稱為化合物(1-6)]、以及式(1-7)表示的聚合性液晶化合物[以下亦稱為化合物(1-7)]。
化合物(1-6)及化合物(1-7)係藉由Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)記載的方法合成。
(二色性色素)
二色性色素係使用下述式(2-1a)、(2-1b)、(2-3a)表示的於日本特開2013-101328號公報的實施例所記載的偶氮色素。
偏光層形成用組成物,係將化合物(1-6)75份、化合物(1-7)25份、作為二色性染料之上述式(2-1a)、(2-1b)、(2-3a)表示的偶氮色素各2.5份、作為聚合引發劑的2-二甲基胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎啉基苯基)丁-1-酮(Irgacure 369、日本BASF公司製)6重量份及作為調平劑之聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N、BYK-Chemie公司製)1.2份混合於溶劑的甲苯400份中,並將所得之混合物在80℃下攪拌1小時而調製之。
將上述表面處理層形成用組成物塗佈於保護膜A。使塗膜在80℃下乾燥5分鐘,然後使用UV照射裝置,照射紫外線而使曝光量為500mJ/cm2(365nm標準),以使塗膜硬化。UV照射裝置係使用USHIO電機股份有限公司製之SOPT CURE SP-7。表面處理層的厚度為10.0μm。
於保護膜A的表面處理層上,將在相位差膜1的製作所使用的配向膜形成用組成物以棒塗法進行塗佈。使塗膜在80℃下乾燥1分鐘。然後,使用上述UV照射裝置及線柵,對塗膜照射偏光UV,以對塗膜賦予配向功能。曝光量為100mJ/cm2(365nm標準)。線柵係使用UIS-27132 # #(USHIO電機股份有限公司製)。如此地操作,形成配向膜。配向膜的厚度為100nm。
於形成的配向膜上,藉由棒塗法塗佈上述偏光件形成用組成物。使塗膜在100℃下加熱乾燥2分鐘後,冷卻至室溫。使用上述UV照 射裝置,對塗膜照射紫外線而使累積光量成為1200mJ/cm2(365nm標準),形成偏光件。所得之偏光件的厚度為3μm。在偏光件上,以使乾燥後的厚度為0.5μm之方式塗佈包含聚乙烯醇及水的組成物,在80℃下乾燥3分鐘,形成保護層。如此地操作,製作偏光板,其係以保護膜A、表面處理層、配向膜、偏光件、保護層所構成。
除了使用上述偏光板以外,與實施例6同樣地操作,製作圓偏光板,並製作評價用樣品。評價用樣品係依序具備:前面板、黏著劑層B、保護膜A、表面處理層、配向膜、偏光件、保護層、黏著劑A、由聚合性液晶化合物硬化而成的層、配向膜、以及黏著劑B。
[實施例8]
除了使用保護膜C來取代保護膜A及表面處理層的積層體以外,與實施例7同樣地操作,製作圓偏光板,並製作評價用樣品。評價用樣品係依序具備:前面板、黏著劑層B、保護膜C、配向膜、偏光件、保護層、黏著劑A、由聚合性液晶化合物硬化而成的層、配向膜、以及黏著劑B。
[實施例9]
除了不積層前面板以外,與實施例8同樣地操作,製作圓偏光板,並製作評價用樣品。評價用樣品係依序具備:保護膜C、配向膜、偏光件、保護層、黏著劑A、由聚合性液晶化合物硬化而成的層、配向膜、以及黏著劑B。
[比較例1]
於實施例1中,除了使用在[相位差膜1的製作]所製作的積層體來取代在[相位差膜2的製作]所製作的積層體以外,與實施例1同樣地操作,製作圓偏光板,並製作評價用樣品。
[耐熱測試前後的色調評價]
就反射板而言,係準備ALANOD公司製的MIRO(5011GP)。該反射板係具有由蒸鍍所形成的反射面之鏡面反射板。
將前述評價用樣品載置於前述反射板上。使用分光測色計(柯尼卡美能達日本股份有限公司製商品名:CM-2600d),實施反射光的色調(a*、b*)的測定。反射光的色調為光源是D65時的值,以SCI方式(包含正反射光)測定。
具體而言,以第3圖所示的點5作為測定點。第3圖所示的9個點5,係從圓偏光板的端部往內側5mm的區域中的點,其位置係在短邊方向為間隔約30mm,且在長邊方向為間隔約65mm。
針對上述實施例1至9及比較例1製作的評價用樣品,測定在溫度80℃的乾燥機中保管168小時前後的反射光的色調。算出各點的色調變化△a*b*的絕對值。根據色調變化的方向,算出各點的色調變化值,各評價用樣品的色調變化值的最大值及最小值的差為△a*b*(MAX-MIN)。結果表示於表2及表3。
△a=a*(耐熱測試後)-a*(耐熱測試前)
△b=b*(耐熱測試後)-b*(耐熱測試前)
△a*b*=[(△a*)2+(△b*)2]1/2
再者,關於色調變化值,在△a*為0以上的情況為△a*b*,在△a*小於0的情況為△a*b*×-1。
根據本發明,可提供具備相位差膜的圓偏光板,其為放置在高溫環境前後的反射光的色調變化小的圓偏光板,所以為有用者。
1‧‧‧偏光板
2‧‧‧相位差膜
10‧‧‧偏光件
11、12‧‧‧保護膜
13、14‧‧‧黏著劑層
15‧‧‧接著層
20、21‧‧‧由聚合性液晶化合物硬化而成的層
100、101、103‧‧‧圓偏光板
Claims (6)
- 如申請專利範圍第1項所述之圓偏光板,其中,前述圓偏光板係在其表面具有黏著劑層;前述相位差層包含由聚合性液晶化合物硬化而成的層;前述相位差膜係配置於前述偏光板與前述黏著劑層之間。
- 如申請專利範圍第2項所述之圓偏光板,其中,前述偏光件係以由液晶化合物硬化而成的層所形成。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之圓偏光板,其中,前述相位差膜包含2層相位差層。
- 一種附前面板的圓偏光板,其係由如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之圓偏光板與前面板隔著接著層積層而得者。
- 一種顯示裝置,其係於顯示元件隔著前述黏著劑層積層有如申請專利範圍第2項或第3項所述之圓偏光板者。
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