TWI704058B - 積層光學膜之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種積層光學膜的製造方法，其係可製造積層光學膜，該積層光學膜係從具備具有可相互剝離的複數層之光學膜的積層光學膜剝離一部份之層時，不易破裂其他之層。
本發明係在旋轉中的一對黏合輥之7a、7b間，將具有可相互剝離的複數層之第1光學膜2、接著劑層5與第2光學膜3導入，而將第1光學膜2與第2光學膜3黏合的積層光學膜之製造方法，黏合時，接著劑層5的寬度WA為第1光學膜2的寬度W1以上，第1光學膜2係寬度方向的位置在接著劑層5的存在寬度WA以內，第2光學膜3的寬度W2，係接著劑層5的寬度WA以上，第2光學膜3，係位於內包接著劑層5的存在寬度WA。

Description

積層光學膜之製造方法
本發明係有關積層光學膜的製造方法。
以往，已知藉由使複數片之光學膜透過接著劑層或黏著劑層而通過一對黏合輥間而壓接的積層光學膜之製造方法(例如，參照專利文獻1)。接著劑層或黏著劑層，通常是藉由將接著劑或黏著劑塗布在所積層的光學膜之任一者上而供應。
另一方面，已知一種偏光板，其係對於可相互剝離的複數之層，例如具備樹脂基材與偏光片的光學膜，透過接著劑層或黏著劑層而積層其他的光學膜而製造(例如，參照專利文獻2)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2014-172290號公報
[專利文獻2]日本特開2014-44355號公報
例如上述偏光板中將樹脂基材剝離時，有面向接著劑層或黏著劑層之偏光片破裂之傾向。
本發明的目的是提供一種積層光學膜的製造方法，其係可製造積層光學膜，該積層光學膜係從具備具有可相互剝離的複數層之光學膜的積層光學膜剝離一部份之層時，其他的層不易破裂。
本發明是提供一種積層光學膜的製造方法，係在旋轉中的一對黏合輥之間，將具有可相互剝離的複數層之第1光學膜、接著劑層與第2光學膜以此順序排列的狀態朝向一對黏合輥間連結的方向，且以使前述第1光學膜與前述一對黏合輥的一者直接接觸的方式導入，將第1光學膜與第2光學膜黏合，其中，黏合時，接著劑層或黏著劑層的寬度是第1光學膜的寬度以上，第1光學膜是寬度方向的位置在接著劑層或黏著劑層的存在寬度以內，第2光學膜的寬度，係接著劑層或黏著劑層的寬度以上，第2光學膜係位於內包接著劑層或黏著劑層的存在寬度。
在此製造方法中，接著劑層或黏著劑層的寬度，係具有可相互剝離的複數層之第1光學膜的寬度以上，且第1光學膜是寬度方向的位置在接著劑層或黏著劑層的存在寬度以內。因此，欲從所製造的積層光學膜中之第1光學膜剝離一部份之層時，可使積層光學膜側上殘留之層藉由接著劑層或黏著劑層而充分保持。所以，若藉由此製造方法，可製造積層光學膜，該積層光學膜係具備具有可相互剝離的複數層之光學膜的積層光學膜剝離一部份層時，其他的層不易破裂。
此製造方法，也可為第1光學膜側的黏合輥之寬度為第1光學膜的寬度以上，且第1光學膜為寬度方向的位置在第1光學膜側的黏合輥之存在幅以內的形態。此時，因第1光學膜涵蓋寬度方向之全區域而以黏合輥抵壓，故可提高第1光學膜與第2光學膜之間的接著性或黏著性。
此製造方法，也可為在第1光學膜側的黏合輥與第1光學膜之間，以內包接著劑層或黏著劑層之寬度的方式介入具有寬度大於接著劑層或黏著劑層的寬度之第3光學膜的形態。在以往的製造方法中，黏合時接著劑或黏著劑會從第1光學膜的寬度方向之邊緣部溢出而附著在黏合輥上，有污染黏合輥之虞，但可藉由介入上述寬幅的第3光學膜，而防止接著劑或黏著劑附著在該黏合輥上。
此製造方法，第1光學膜具有樹脂基材與設在樹脂基材的一面或兩面之光學機能層，樹脂基材及光學機能層是彼此寬度相等且兩端對齊，第1光學膜是配置成光學機能層側朝向接著劑層或黏著劑層側，第2光學膜係可為保護膜的形態。此時，由於樹脂基材與光學機能層為彼此寬度相等且兩端對齊，故作為第1光學膜而寬度方向的邊緣部之膜厚穩定。
在此製造方法中，上述光學機能層也可為偏光片，此時，偏光片亦可為塗布在樹脂基材而設置者的 形態。
本發明在另一形態中，提供一種積層光學層的製造方法，其係在旋轉的一對黏合輥之間，將樹脂基材、設在樹脂基材的一面或兩面上的光學機能層、接著劑層或黏著劑層與保護膜以此順序朝一對黏合輥間連結的方向排列之狀態導入，而將光學機能層與保護膜黏合，其中，黏合時，光學機能層的寬度係小於樹脂基材的寬度，接著劑層或黏著劑層的寬度是光學機能層的寬度以上，且小於樹脂基材的寬度，光學機能層係寬度方向的位置在接著劑層或黏著劑層的存在寬度以內，樹脂基材係位於內包光學機能層及接著劑層或黏著劑層的存在寬度，保護膜的寬度是接著劑層或黏著劑層的寬度以上，接著劑層或黏著劑層係寬度方向的位置為保護膜的存在寬度以內。
在此製造方法中，接著劑層或黏著劑層的寬度係光學機能層的寬度以上，且光學機能層是寬度方向的位置在接著劑層或黏著劑層的存在寬度以內。因此，所製成的積層光學膜中欲將樹脂基材或光學機能層剝離時，可使積層光學膜側殘留之層藉由接著劑層或黏著劑層而充分保持。因此，若藉由此製造方法，可製造積層光學膜，該積層光學膜係從具備具有樹脂基材及光學機能層的光學膜之積層光學膜上剝離一部份層時，其他之層不易破裂。同時，在此製造方法中，因光學機能層的寬度小於樹脂基材的寬度，且樹脂基材位在內包光學機能層及接著劑層或黏著劑層的存在寬度，故可防止接著劑或黏著劑附著在樹 脂基材側的黏合輥上。
此製造方法也可為樹脂基材側的黏合輥之寬度為光學機能層的寬度以上，且光學機能層係寬度方向的位置為樹脂基材側的黏合輥之存在寬度以內的形態。此時，因涵蓋光學機能層的寬度方向之全區域而以黏合輥按壓，故可提高光學機能層或樹脂基材與保護膜之間的接著性或黏著性。
在此製造方法中，上述光學機能層可為偏光片，此時，偏光片也可為塗布在樹脂基材上而設置者的形態。
若藉由本發明，可提供一種積層光學膜的製造方法，其係可製造積層光學膜，而該積層光學膜係從具備具有可相互剝離的複數層之光學膜的積層光學膜上剝離一部份之層時，其他的層不易破裂。
1A至1C‧‧‧積層光學膜
2‧‧‧第1光學膜
3‧‧‧保護膜(第2光學膜)
4A至4C‧‧‧積層體
5‧‧‧接著劑層
6‧‧‧暫時保護膜(第3光學膜)
7a‧‧‧第1光學膜側的黏合輥
7b‧‧‧保護膜側的黏合輥
10‧‧‧偏光板
21‧‧‧樹脂基材
22‧‧‧偏光片
W1‧‧‧第1光學膜的寬度
W2‧‧‧保護膜的寬度
W3‧‧‧暫時保護膜的寬度
W11‧‧‧樹脂基材的寬度
W12‧‧‧偏光片的寬度
WA‧‧‧接著劑層的寬度
WR1‧‧‧第1光學膜側的黏合輥之寬度
WR2‧‧‧保護膜側的黏合輥之寬度
第1圖係以第1實施形態的製造方法製造的積層光學膜之剖面圖。
第2圖係表示第1實施形態的製造方法之圖。
第3圖係第2圖的III-III剖面圖，表示第1實施形態的黏合時之積層狀態的圖。
第4圖係以第2實施形態的製造方法製造的積層光學膜之剖面圖。
第5圖係表示第2實施形態的製造方法之圖。
第6圖係第5圖的VI-VI剖面圖，表示第2實施形態的黏合時之積層狀態的圖。
第7圖係以第3實施形態的製造方法製造的積層光學膜之剖面圖。
第8圖係表示第3實施形態的黏合時之積層狀態之圖。
以下，一邊參照圖面，一邊詳細說明本發明的較佳實施形態。又，在各圖中相同部份或相當部份賦予相同符號，省略重複的說明。同時，各圖面的尺寸比例並不一定與實際者一致，尤其對於膜之厚度或寬度，係相對誇大地描繪。
<第1實施形態> (積層光學膜)
如第1圖所示，藉由第1實施形態的積層光學膜之製造方法所製造的積層光學膜1A，係透過接著劑層5而使第2光學膜3積層在第1光學膜2的一面上。第1光學膜2係具有二層，亦即具有樹脂基材21與設在其一面上的偏光片22，此等層可相互剝離。
第1光學膜2中，樹脂基材21及偏光片22，係彼此寬度相等且兩端對齊，第1光學膜2係配置成偏光片22側朝向接著劑層5側。又，本說明書中各光學膜之「寬度」，係指積層光學膜1A的製造時垂直於各光學膜之運送方向的方向，稱為黏合輥的延伸方向之寬度。同時，各膜 的寬度之相對大小關係(寬窄關係)，係使用「大」及「小」之表現。
積層光學膜1A係去除樹脂基材21而被利用作為具備偏光片22與第2光學膜(=後述的保護膜)3的偏光板10者。偏光板10係可視需要而在已剝離的樹脂基材21側或第2光學膜3側上，透過接著劑層或黏著劑層而新設保護膜或其他的光學膜。
第1光學膜2、第2光學膜3及接著劑層5的相互寬度之大小關係或位置關係如後述，此等之層係各寬度方向的中心軸為大致對齊。亦即，第1圖表示的剖面圖中積層形態為構成大致左右對稱。
此處，說明各膜及接著劑層5的構成。偏光片22的材料，可使用以往在偏光板的製造中所使用之已知材料，可列舉：例如聚乙烯醇系樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、乙烯/乙酸乙烯(EVA)樹脂、聚醯胺樹脂、聚酯系樹脂等。其中，並以聚乙烯醇系樹脂為佳。藉由將此等材料進行延伸處理之後，以碘或二色性染料施予染色及硼酸處理，可獲得膜狀的偏光片22。亦可將透過黏著劑而在樹脂基材21的一面或兩面上黏合成的積層體作為第1光學膜2。
同時，偏光片22的形成方法，也可在樹脂基材21的一面或兩面上將已溶解偏光片22的材料之塗液塗布成薄膜狀(膜狀)，使其乾燥之後，將整個樹脂基材21延伸處理、以碘或二色性染料進行染色及硼酸處理。然後，可將整個樹脂基材21切成任意大小而作成第1光學膜2。
在延伸處理方法上，可舉出朝膜長方向(膜運送方向)延伸的縱延伸或朝膜寛度方向延伸的横延伸或斜向延伸等。縱延伸方式可舉出輥間延伸、壓縮延伸等，横延伸方式可舉出拉幅法等。延伸處理雖然可採用濕潤延伸方法、乾式延伸方法的任一種，但就可廣範圍地選擇延伸溫度而言，係以使用乾式延伸方法為佳。
偏光片22的厚度係以2至75μm為佳，並以2至50μm為更佳，而以2至30μm又更佳。
樹脂基材21係具有作為將偏光片22塗布成薄膜狀(膜狀)用之支撐體的角色、及保護偏光片22的表面之角色者，故可使用各種之樹脂材料。樹脂基材21的材料，可列舉：例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂。
樹脂基材21的厚度係以20至500μm為佳，並以30至300μm更佳，而以50至200μm又更佳。
第2光學膜3在此處為保護膜3。
保護膜3係防止偏光片22的主面或邊緣部破裂或刮傷之膜。此處「保護膜」，係指即使在偏光片22上可積層各種之膜中，透過接著劑而直接積層之膜。
保護膜3係可以偏光板的領域中已知的各種透明樹脂膜構成。可列舉，例如以三乙醯基纖維素為代表例的纖維素系樹脂、以聚丙烯系樹脂為代表例的聚烯烴系樹脂、以降莰烯系樹脂為代表例的環狀烯烴系樹脂、以聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂為代表例的丙烯酸系樹脂、以聚 對苯二甲酸乙二酯系樹脂為代表例的聚酯系樹脂等。其中，並以纖維素系樹脂為代表性。
保護膜3可為不具有光學機能之膜，也可為同時具有如相位差膜或亮度改善膜的光學機能之膜。
保護膜3的厚度，係以5至90μm為佳，並以5至80μm更佳，而以5至50μm又更佳。
構成接著劑層5的接著劑，可使用以往使用於偏光板的製造之各種接著劑。例如，就耐候性或折射率、陽離子聚合性等之觀點而言，係以分子內不含芳香環的環氧樹脂為佳。同時，以可藉由活性能量線(紫外線或熱線)的照射而硬化者為佳。
環氧樹脂係以例如氫化環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等為佳。對於環氧樹脂，可添加聚合起始劑(例如以紫外線照射使其聚合用之光陽離子聚合起始劑、以熱線照射使其聚合用之熱陽離子聚合起始劑)或再其他的添加劑(增敏劑等)，調製塗布用環氧樹脂組成物而使用。
同時，接著劑也可使用丙烯醯胺、丙烯酸酯、聚胺酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯等丙烯酸系樹脂、或聚乙烯醇系水性接著劑。
偏光板10係可黏著在液晶電池等顯示用電池(圖像顯示元件)的一面或兩面者。偏光板可更含有積層在保護膜上的其他光學層。其他的光學層，可舉出透過某種偏光，而將顯示與其相反性質之偏光反射的反射型偏光 膜；表面具有凹凸形狀的附防眩機能之膜；附表面抗反射機能之膜；表面具有反射機能的反射膜；同時具有反射機能與透射機能的半透射反射膜；視角補償膜等。
由偏光片22與保護膜3的二層所形成之偏光板10的厚度，係以10至500μm為佳，並以10至300μm更佳，而以10至200μm又更佳。
(積層光學膜的製造方法)
積層光學膜1A的製造方法，如第2圖及第3圖所示，係在旋轉中的一對黏合輥7a、7b之間，將第1光學膜2、接著劑層5與保護膜3以此順序朝一對黏合輥7a、7b間連結的方向排列之狀態導入，將第1光學膜2與保護膜3黏合。
此處，第1光學膜2中的偏光片22，係以在樹脂基材21上塗層、乾燥之後，整個樹脂基材21進行延伸處理，以碘或二色性染料施予染色及硼酸處理，將其水洗、乾燥之後，切出寬度方向邊緣部，而使樹脂基材21與偏光片22的彼此寬度相等，將兩端對齊而供應，接著劑層5係以塗佈在保護膜3上供應。又，在第2圖中，係省略接著劑層5的圖示。
第1光學膜2及保護膜3被積層而成為積層體4A，積層體4A係在其後，因接著劑層5硬化，而完成第1圖表示的積層光學膜1A。
說明黏合時的各構件之存在形態。如第3圖所示，在一對黏合輥7a、7b間的各膜或接著劑層5之寬 度，係滿足以下的關係。又，在第3圖中，為容易觀看圖面，將黏合輥7a、7b抽離積層體4A而描繪。
在黏合時，
‧接著劑層5的寬度WA係第1光學膜2的寬度W1以上。(WA≧W1)
‧第1光學膜2係寬度方向的位置為接著劑層5之存在寬度WA以內。
‧保護膜3的寬度W2係接著劑層5的寬度WA以上。(W2>WA)
‧保護膜3係位在內包接著劑層5的存在寬度WA。
此處的「內包」，係指在寬度方向，一方的構件之兩端的位置位在與另一方的構件的兩端之位置相同的位置，或外側的位置。
同時，第1實施形態的製造方法，雖然無必要條件，但亦滿足以下的關係。
‧第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1，係與保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2相等。(WR1=WR2)
‧第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1，係第1光學膜2的寬度W1以上。(WR1≧W1)
‧第1光學膜2係寬度方向的位置為第1光學膜2側的黏合輥7a之存在寬度內。
‧保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2，係大於接著劑層5的寬度WA。(WR2>WA)
‧保護膜3側的黏合輥7b，係以寬度方向的位置為內 包接著劑層5的存在寬度WA之方式設置。
‧保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2，係大於保護膜3的寬度W2。(WR2>W2)
‧保護膜3側的黏合輥7b，係以寬度方向的位置內包保護膜3的存在寬度W2之方式設置。
此處「黏合輥的寬度」，係指一邊維持與成為有助於黏合的有效接觸面之部份同徑一邊延長的部份之全寬度。例如，使黏合輥7a、7b的邊緣部側中寬度方向的一部份縮徑，而有時不與第1光學膜2或保護膜3接觸的部份，將去除經縮徑之部份後的部份之寬度設為黏合輥7a、7b的全寬度。
就使第1光學膜2對接著劑層5更牢固地保持而言，接著劑層5的寬度WA，係以大於第1光學膜2的寬度W1(WA>W1)為佳。此時，接著劑層5的寬度WA，係以比第1光學膜2的寬度W1大0.5至100mm為佳，並以大1至50mm更佳。同時，就使接著劑層5對保護膜3更牢固地保持而言，保護膜3的寬度W2，係以大於接著劑層5的寬度WA(W2>WA)為佳。
在此製造方法中，接著劑層5的寬度WA，係具有可相互剝離的樹脂基材21及偏光片22之第1光學膜2的寬度W1以上，且第1光學膜2係寬度方向的位置為接著劑層5的存在寬度WA以內。因此，從所製成的積層光學膜1A中的第1光學膜2欲將樹脂基材21剝離時，可使積層光學膜1A上殘留之層(偏光片22)藉由接著劑層5 而充分保持。因此，以此製造方法所製造的積層光學膜1A，當將樹脂基材21剝離時，偏光片22不易破裂。
同時，因第1光學膜2係寬度方向之位置為第1光學膜2側的黏合輥7a之存在寬度WR1以內，故可使第1光學膜2涵蓋該寬度W1方向的全區域而以黏合輥按壓，提高第1光學膜與保護膜3之間的接著性。
同時，構成第1光學膜2的樹脂基材21與偏光片22，係彼此寬度相等且兩端對齊，故作為第1光學膜2，寬度方向之邊緣部的膜厚穩定。
又，雖然在此第1實施形態中係顯示第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1與保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2為相等的形態，但此等寬度也可不同。同時，此等寬度係只要使第1光學膜2與保護膜3的黏合充分進行，可自由地變更。
<第2實施形態>
以下，說明本發明的第2實施形態。主要說明與第1實施形態的相異處。
(積層光學膜)
如第4圖所示，藉由第2實施形態的積層光學膜之製造方法所製造的積層光學膜1B，係第1光學膜2之中第3光學膜6積層在樹脂基材21側上。
此處，第3光學膜6為暫時保護膜6。
暫時保護膜6係為防止接著劑附著在黏合輥上之膜，同時，係為保護已積層暫時保護膜6的構件(在 此處為第1光學膜2)之表面免於損傷、磨損等之膜。暫時保護膜6的材料，可使用與上述保護膜相同者，其中，以聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂為佳。
暫時保護膜6係除了成為基材之膜以外，也可具有已積層在此膜的表面上之具有弱接著性之黏著劑層。
暫時保護膜6的厚度，係以5至200μm為佳，並以5至100μm更佳，而以5至50μm又更佳。
(積層光學膜的製造方法)
積層光學膜1B的製造方法，如第5圖及第6圖所示，係在進行旋轉的一對黏合輥7a、7b之間，將第1光學膜2、接著劑層5與保護膜3以此順序朝一對黏合輥7a、7b間連結的方向排列之狀態導入，將第1光學膜2與保護膜3黏合。此時，係在第1光學膜2側的黏合輥7a與第1光學膜2之間介入暫時保護膜6。
第1光學膜2、保護膜3及暫時保護膜6被積層而成為積層體4B，積層體4B在其後，藉由接著劑層5硬化，而完成為第4圖表示的積層光學膜1B。
說明黏合時的各構件之存在形態。如第6圖所示，一對黏合輥7a、7b間的各膜、接著劑層的寬度，係滿足以下的關係。又，在第6圖中，係將黏合輥7a、7b抽離積層體4B而描繪，以使圖面容易觀看。
‧接著劑層5的寬度WA，係第1光學膜2的寬度W1 以上。(WA≧W1)
‧第1光學膜2係寬度方向的位置在接著劑層5之存在寬度WA以內。
‧保護膜3的寬度W2係接著劑層5的寬度WA以上。(W2>WA)
‧保護膜3係以內包接著劑層5的存在寬度WA的方式設置。
‧暫時保護膜6的寬度W3係具有大於接著劑層5的寬度WA之寬度。(W3>WA)
‧暫時保護膜6係以內包接著劑層5的存在寬度WA之方式設置。
接著劑層5的寬度WA係大於第1光學膜2的寬度W1時，以大0.5至100mm為佳，以大1至50mm更佳。
又，保護膜3的寬度與暫時保護膜6的寬度大小關係為任意的。
同時，第2實施形態的製造方法，雖然無必要的條件，但也滿足以下的關係。
‧第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1，係與保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2相等。(WR1=WR2)
‧第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1，係第1光學膜2的寬度W1以上。(WR1≧W1)
‧第1光學膜2，係寬度方向的位置為第1光學膜2側的黏合輥7a之存在寬度WR1以內。
‧保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2，係大於接著劑層5的寬度WA。(WR2>WA)
‧保護膜3側的黏合輥7b，係以寬度方向的位置內包接著劑層5的存在寬度WA之方式設置。
‧保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2，係大於保護膜3的度W2。(WR2>W2)
‧保護膜3側的黏合輥7b，係以寬度方向的位置位於內包保護膜3的存在寬度W2之方式設置。
在第1實施形態的製造方法中，黏合時接著劑從第1光學膜2的寬度方向之邊緣部溢出而附著在黏合輥7a上，雖然有污染黏合輥7a之虞，但若依據此第2實施形態的製造方法，藉由介入寬幅的暫時保護膜6，可防止接著劑附著在該黏合輥7a上。
又，在此第2實施形態中，雖然是顯示第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1與保護膜3側的黏合輥7b之寬度WR2為相等的形態，但可將此等寬度進行各種的變更，與第1實施形態的情形相同。
(第1及第2實施形態的變形例)
上述第1及第2實施形態，可作為以下形態而實施。即，第1光學膜2為以第1實施形態之製造方法所製造的積層光學膜1A，第2光學膜3為分離膜，也可作為將此等膜以黏著劑取代接著劑而黏合的形態。此時，在積層光學膜1A的保護膜3側積層分離膜，完成之積層光學膜成為附分離膜的偏光板。以下說明有關此形態。
黏著劑層係使偏光板黏接在其他的物品(例如液晶電池)時作為機能之層。黏著劑層可以丙烯酸系樹脂、或聚矽氧系樹脂、聚酯、聚胺酯、聚醚等構成。
黏著劑層的厚度，係以2至500μm為佳，以2至200μm更佳，以2至50μm又更佳。
將黏著劑層積層在偏光板上的方法，可為例如在偏光板上塗布含有上述樹脂或任何添加成分的溶液之方法，也可為以該溶液在分離膜上形成黏著劑層之後積層在偏光板上的方法。
分離膜係以黏著劑層的保護或防止異物附著等作為目的而黏接的可剝離之膜，可在偏光板的使用時被剝離而露出黏著劑層。分離膜係可以例如如聚乙烯的聚乙烯系樹脂、如聚丙烯的聚丙烯系樹脂、如聚對苯二甲酸乙二酯的聚酯系樹脂等構成。其中，以聚對苯二甲酸乙二酯的延伸膜為佳。
分離膜係以在偏光板的使用時可容易剝離方式可在與黏著劑層連接之面上以聚矽氧樹脂等施予離型處理。
分離板的厚度係以10至500μm為佳，以10至300μm更佳，以10至200μm又更佳。
即使為上述形態，也可藉由與上述實施形態相同的作用，而防止在剝離樹脂基材21時偏光片22破裂。
<第3實施形態>
以下，說明本發明的第3實施形態。主要說明與第1實施形態的相異處。
(積層光學膜)
如第7圖所示，藉由第4實施形態的積層光學膜之製造方法所製造的積層光學膜1C，係在第1光學膜2中樹脂基材21與偏光片22之寬度未對齊，而樹脂基材21的寬度為大於偏光片22的寬度。
此外，樹脂基材21、偏光片22、保護膜3及接著劑層5的彼此寬度之大小關係或位置關如後述，此等之層係各寬度方向的中心軸為大致對齊。即，第7圖表示的剖面圖中積層形態構成大致左右對稱。
(積層光學膜的製造方法)
積層光學膜1C的製造方法，如第2圖及第8圖所示，係在旋轉中的一對黏合輥7a、7b之間，將樹脂基材21、偏光片22、接著劑層5與保護膜3以此順序朝一對黏合輥7a、7b間連結的方向排列之狀態導入，將偏光片22與保護膜3黏合。
此處，第1光學膜2中的偏光片22，係僅塗佈樹脂基材21的幅方向中央部份，兩邊緣部未塗佈之後進行乾燥，整個樹脂基材21進行延伸處理後，以碘或二色性染料施予染色及硼酸處理，進行水洗，乾燥而供應。
樹脂基材21、偏光片22及保護膜3被積層而成為積層體4C，積層體4C在其後，藉由接著劑層5進行硬化，而完成第7圖表示的積層光學膜1C。
說明有關黏合時的各構件之存在形態。如第8圖所示，一對黏合輥7a、7b間的各膜、接著劑層5的寬度，係滿足以下的關係。又，在第8圖中，係為容易觀看圖面，將黏合輥7a、7b抽離積層體4C而描繪。
‧偏光片22的寬度W12，係小於樹脂基材21的W11幅。(W11>W12)
‧接著劑層5的寬度WA，係偏光片22的寬度W12以上，且小於樹脂基材21的W11。(W11>WA≧W12)
‧偏光片22係寬度方向的位置在接著劑層5的存在的寬度WA以內。
‧樹脂基材21係以內包偏光片22的存寬度W12子及接著劑層5的存在寬度WA之方式設置。
‧保護膜3的寬度W2係接著劑層5的寬度WA以上。(W2≧WA)
‧接著劑層5係寬度方向的位置為保護膜3的存在寬度W2以內。
接著劑層5的寬度WA，係大於偏光片22的寬度幅W12時，以大0.5至100mm為佳，以大1至50mm更佳。
又，樹脂基材21的寬度W12與保護膜3的寬度W2之大小關係為任意的。
同時，第4實施形態的製造方法，雖然無必要的條件，但亦滿足以下的關係。
‧第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1，係與保護 膜3側的黏合輥7b之寬度WR2相等。(WR1=WR2)
‧第1光學膜2側的黏合輥7a之寬度WR1，係樹脂基材21的寬度W11及偏光片22的寬度W12以上。(WR1≧W11，且WR1≧W12)
‧樹脂基材21及偏光片22，係任一者之寬度方向的位置為第1光學膜2側之黏合輥7a之存在寬度WR1以內。
‧保護膜3側之黏合輥7b之寬度WR2，係大於接著劑層5的寬度WA。(WR2>WA)
‧保護膜3側的黏合輥7b，係以寬度方向的位置內包接著劑層5的存在寬度WA之方式設置。
‧保護膜3側的黏合輥7b的寬度WR2，係大於保護膜3的寬度W2。(WR2>W2)
‧保護膜3側的黏合輥7b，係以寬度方向的位置內包保護膜3的存在寬度W2之方式設置。
就使偏光片22對接著劑層5更牢固地保持之觀點而言，接著劑層5的寬度WA以大於偏光片22的寬度W12為佳(WA>W12)。同時，就使接著劑層5對保護膜3更牢固地保持之觀點而言，保護膜3的寬度W2以大於接著劑層5的寬度WA為佳(W2>WA)。
在此製造方法中，接著劑層5的寬度WA，係偏光片22的寬度以上，且偏光片22係寬度方向的位置為接著劑層5的存在寬度WA以內。因此，在所製成的積層光學膜1C中欲將樹脂基材21剝離時，積層光學膜1C側上殘留之層(偏光片22)可藉由接著劑層5而充分保持。 因此，若依據此製造方法，可製造將樹脂基材21剝離時其他層難以破裂的積層光學膜1C。
同時，在此製造方法中，因偏光片22的寬度W12小於樹脂基材21的寬度W11，且以樹脂基材21內包偏光片22的存在寬度W12及接著劑層5的存在寬度WA之方式設置，故可防止接著劑附著在樹脂基材21側的黏合輥7a上。黏合輥7a的寬度WR1小於樹脂基材21的寬度W11，且以樹脂基材21內包幅黏合輥7a的存在寬度WR1之方式設置時，可進一步防止接著劑附著在黏合輥7a上。
藉由上述各實施形態，可製造將樹脂基材21剝離時其他的層難以破裂的積層光學膜1A至1C。第1光學膜2中含有偏光片22時，因偏光片22的強度低於其他的構成膜，容易產生傷害或破裂，故在剝離樹脂基材21時，在偏光片22的部份(尤其邊緣部)容易產生破裂。本實施形態的情形，積層光學膜側殘留之層(偏光片)藉由接著劑層5而充分保持，故即使為強度低的偏光片22含在第1光學膜2之案例，在剝離樹脂基材21時也可充分防止破裂之發生。
以上，雖然說明有關本發明的較適實施形態，但本發明為不受上述實施形態任何限定者。
例如，在上述各實施形態中，係表示偏光片22塗佈在樹脂基材21的一面上之形態，但偏光片22也可塗佈在樹脂基材21的兩面上。此時，在製造積層光學膜1A至1C之後，藉由將面向接著劑層5之偏光片22與樹脂 基材21之間剝離，可將殘留在樹脂基材21側的偏光片利用於另外的偏光板之製造上。
同時，在上述各實施形態中，雖然使用在樹脂基材21的一面上設置偏光片22之第1光學膜之例而說明，但也可以在樹脂基材21的一面或兩面上設置偏光片22以外的其他光學機能層。偏光片22以外的光學機能層，可舉出相位差層、視角補償層等，在樹脂基材21上，可藉由將具有目的的光學機能之材料溶解或分散之液塗布、乾燥而設置。而且，在剝離樹脂基材21時，可防止光學機能層的破裂。
2‧‧‧第1光學膜
3‧‧‧保護膜(第2光學膜)
4A‧‧‧積層體
5‧‧‧接著劑層
7a‧‧‧第1光學膜側的黏合輥
7b‧‧‧保護膜側的黏合輥
21‧‧‧樹脂基材
22‧‧‧偏光片
W1‧‧‧第1光學膜的寬度
W2‧‧‧保護膜的寬度
WA‧‧‧接著劑層的寬度
WR1‧‧‧第1光學膜側的黏合輥之寬度
WR2‧‧‧保護膜側的黏合輥之寬度

Claims (4)

  1. 一種積層光學膜的製造方法，係在旋轉的一對黏合輥之間，將具有可相互剝離的複數層之第1光學膜、接著劑層或黏著劑層、與第2光學膜以此順序排列的狀態朝向前述一對黏合輥間連結的方向，且以使前述第1光學膜與前述一對黏合輥的一者直接接觸的方式導入，將前述第1光學膜與前述第2光學膜黏合，其中，前述第1光學膜，係具有樹脂基材與設在前述樹脂基材的一面或兩面之光學機能層，黏合時，前述接著劑層或前述黏著劑層的寬度，係前述第1光學膜的寬度以上，前述第1光學膜係寬度方向的位置為前述接著劑層或前述黏著劑層的存在寬度以內，前述第2光學膜的寬度係前述接著劑層或前述黏著劑層的寬度以上，前述第2光學膜係位於內包接著前述接劑層或前述黏著劑層的存在寬度，前述第1光學膜側的前述黏合輥之寬度，係前述第1光學膜的寬度以上，前述第1光學膜，係寬度方向的位置為前述第1光學膜側的前述黏合輥之存在寬度以內。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之積層光學膜的製造方法，其中， 前述樹脂基材及前述光學機能層，係彼此寬度相等且兩端對齊，前述第1光學膜，係配置成前述光學機能層側朝向前述接著劑層或前述黏著劑層側，前述第2光學膜係保護膜。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之積層光學膜的製造方法，其中，前述光學機能層為偏光片。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之積層光學膜的製造方法，其中，前述偏光片，係塗佈在前述樹脂基材上而設置者。
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