TW201341168A - 偏光性積層膜及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明是關於一種偏光性積層膜，其是基材膜、偏光子層、接著劑層、保護膜依序積層的長條狀偏光性積層膜，在偏光性積層膜的寬度方向中，偏光子層的兩端是位於基材膜及保護膜之兩端的內側，接著劑層的兩端是位於偏光子層之兩端的外側，且位於基材膜及保護膜之兩端的內側。

Description

偏光性積層膜及其製造方法
本發明是有關使用於顯示裝置的偏光板等的偏光性積層膜及其製造方法。
偏光板已廣泛的使用作為液晶顯示裝置中的偏光之供應元件，或偏光的檢測元件。雖然此偏光板過去以來使用在聚乙烯醇系樹脂形成的偏光膜上接著有三醋酸纖維素形成的保護膜者，但近年來隨著朝液晶顯示裝置的筆記型電腦或行動電話等行動裝置的發展，以及朝大型電視的發展等，而有薄質輕量化的要求。
這種薄型偏光板的製方法，已提案有在基材膜表面塗布含有聚乙烯醇系樹脂的溶液而設置樹脂層之後，經由延伸、然後染色，而獲得具有偏光子層的積層膜，將保護膜貼合在其上而得偏光性積層膜之後，自該偏光性積層膜剝離基材膜而得偏光板的方法(例如，參照日本特開2000-338329號公報)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2000-338329號公報
在具有基材膜與偏光子層的積層膜上隔著接著劑層而貼合保護膜以得偏光性積層膜之際，如使用貼合滾輪進行連續性貼合時，接著劑會由偏光性積層膜的端部溢出，而污染到貼合滾輪，接著劑徐徐的繞至偏光性積層膜的背面時，也會使膜自身受到污染之不良情形。如以這種狀態將積層膜捲取成輪狀時，將因繞至積層膜背面的接著劑之影響而產生結塊(blocking)的不良情形，至使下一步驟中容易產生不能安定捲出的不適情況。另一方面，如將接著劑之供應量減量以使接著劑不溢出時，則接著劑不能充分到達偏光子的端部，以致端部的接著不安定，故不適合。
本發明的目的是提供一種偏光性積層膜，其是依序積層基材膜、偏光子層、接著劑層、保護膜的長條狀之偏光性積層膜，是以安定的接著力使偏光子層與保護膜貼合，且接著劑不溢出的偏光性積層膜，將其捲取而成的偏光性積層膜捲，及偏光性積層膜之製造方法。
本發明包含下述的發明。
[1]一種偏光性積層膜，其是依序積層有基材膜、偏光子層、接著劑層、保護膜的長條狀偏光性積層膜，在偏光性 積層膜的寬度方向中，偏光子層的兩端是位於基材膜及保護膜之兩端的內側，接著劑層的兩端是位於偏光子層之兩端的外側，且位於基材膜及保護膜之兩端的內側。
[2]如[1]中所述之偏光性積層膜，其中，上述偏光子層是已吸附配向二色性色素的聚乙烯醇系樹脂層，厚度為10μm以下。
[3]一種偏光性積層膜捲，其是將[1]中所述之偏光性積層膜捲繞而成的偏光性積層膜捲。
[4]一種偏光性積層膜的製造方法，依序具有：在長條狀基材膜的至少一方的面形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜的積層步驟；將上述積層膜單軸延伸的延伸步驟；將已單軸延伸的積層膜之樹脂層以二色性色素染色的染色步驟；將已染色的積層膜之樹脂層浸漬在含有交聯劑之溶液中進行交聯而形成偏光子層的交聯步驟；以及在已交聯的積層膜中之偏光子層之與基材膜側的面為相反側的面隔著接著劑層而貼合保護膜之貼合步驟；在上述積層步驟中，於基材膜的寬度方向的兩方端部，設置有未形成前述聚乙烯醇系樹脂層的部份；在上述貼合步驟中，是以下述方式進行貼合：在貼合後的積層膜之寬度方向中，偏光子層的兩端位於保護膜之兩端的內側，接著劑層的兩端位於偏光子層之兩端的外側，且位於基材膜及保護膜的兩端之內側。
[5]如[4]中所述之偏光性積層膜的製造方法，在上述貼合步驟之後，具有將基材膜與保護膜隔著接著劑層而直接接著的部份，自偏光性積層膜切斷而去除的去除步驟。
[6]一種偏光板的製造方法，其具有自藉由[5]中所述之方法所製造的偏光性積層膜將基材膜剝離而去除的剝離步驟。
應用本發明，即可提供一種偏光性積層膜，其是偏光子層與保護膜以安定的接著力貼合，且在捲取之際不產生結塊等不良情況，可由該偏光性積層膜獲得偏光板。
11‧‧‧基材膜
11a‧‧‧未塗布部份
12‧‧‧樹脂層(偏光子層)
13‧‧‧接著劑層
14‧‧‧保護膜
第1圖示意性表示本發明的偏光性積層膜之寬度方向的剖面之圖。
第2圖表示本發明的偏光性積層膜之製造方法的流程圖。
第3圖示意性表示本發明的偏光性積層膜之製造方法的各製造步驟後之積層膜的上面斜視圖。
[偏光性積層膜]
第1圖是示意性表示本發明的偏光性積層膜之寬度方向的剖面之圖。本發明的偏光性積層膜，是依序積層基材膜11、偏光子層12、接著劑層13、保護膜14的長條狀之偏光性積層膜。偏光性積層膜中，將基材膜11的寬度方向之兩端設為P1、偏光子層12的寬度方向之兩端為P2、接著劑層13的寬度方向之兩端為P3、保護膜14的寬度方向之兩端為P4時，偏光子層12的兩端P2是位於 基材膜11之兩端P1及保護膜14之兩端P4的更內側，接著劑層13的兩端P3是位於偏光子層12之兩端P2的更外側，且位於基材膜11之兩端P1及保護膜14之兩端P4的更內側。
在這種構成中，偏光子層12與保護膜14是藉由接著劑層13而以安定的接著力貼合，且不會產生接著劑由偏光性積層膜溢出而污染貼合滾輪等不良情形。
(基材膜)
基材膜11中使用的樹脂，可使用例如透明性、機械強度、熱安定性、延伸性等優異的熱可塑性樹脂，可配合該等樹脂的玻璃轉移溫度(Tg)或熔點(Tm)而選擇適宜的樹脂。熱可塑性樹脂之具體例，可列舉：例如聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂(降冰片烯系樹脂)、(甲基)丙烯酸系樹脂、纖維素酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、醋酸乙烯酯系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂，及此等樹脂的混合物、共聚合物等。
基材膜11，可以是僅使用1種上述樹脂之單層，也可以是2種以上的樹脂摻混而成者。當然，也可以不是單層而是形成多層膜。
聚烯烴系樹脂，可列舉：例如聚乙烯、聚丙烯等，並宜為安定且易於高倍率延伸的樹脂。又，也可使用乙烯與丙烯共聚合而得的乙烯-聚丙烯共聚合物等。共 聚合也可為其他種類的單體，就可與丙烯共聚合的其他種單體而言，可列舉：例如乙烯、α-烯烴。α-烯烴，宜使用碳數4以上的α-烯烴，並以碳數4至10的α-烯烴更佳。碳數4至10的α-烯烴之具體例，可列舉：例如1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-癸烯等直鏈狀單烯烴類；3-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯等分枝狀單烯烴類；乙烯環己烷等。丙烯及可與丙烯共聚合的其他單體之共聚合物，可以是無規共聚合物，也可以是嵌段共聚合物。共聚合物中來自該其他單體的構成單元之含有率，可依照「高分子分析手冊」(1995年，紀伊國屋書店發行)的第616頁中所述之方法，進行紅外線(IR)光譜測定而求得。
在上述之中，構成丙烯系樹脂膜的丙烯系樹脂，宜使用丙烯的同元聚合物、丙烯-乙烯無規共聚合物、丙烯-1-丁烯無規共聚合物及丙烯-乙烯-1-丁烯無規共聚合物。
又，構成丙烯系樹脂膜的丙烯系樹脂之立體規則性，宜為實質的等規(isotactic)或間規(syndiotactic)。由具有實質的等規或間規之立體規則性的丙烯系樹脂形成之丙烯系樹脂膜，其使用性比較良好，同時在高溫環境下的機械強度亦優。
聚酯系樹脂，是具有酯鍵的聚合物，主要是多元羧酸與多元醇的聚縮合物。可使用的多元羧酸，主要是使用2價的二羧酸，可列舉：例如對苯二甲酸、間苯 二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯等。又，可使用的多元醇，主要也是使用2價的二元醇，可列舉：例如丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇等。
聚酯系樹脂的代表例，可舉出對苯二甲酸與乙二醇的共聚合物之聚對苯二甲酸乙二酯。聚對苯二甲酸乙二酯雖然是結晶性的樹脂，但結晶化處理前的狀態較易於進行延伸等處理。如有必要，可藉由延伸時或延伸後的熱處理等而結晶化處理。又，也可使用藉由復使聚對苯二甲酸乙二酯的骨架與其他種單體共聚合而使結晶性較為下降(或成為非晶性)的共聚合聚酯。這種樹脂之例，可適用例如將環己烷二甲醇、間苯二甲酸等共聚合者等。此等樹脂也因延伸性優異而適用。
聚對苯二甲酸乙二酯及其共聚合物以外的具體的樹脂，可列舉：例如聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚對萘二甲酸環己烷二甲酯等。也可適用此等的混合樹脂或共聚合物。
環狀聚烯烴系樹脂，宜使用降冰片烯系樹脂。環狀聚烯烴系樹脂，是將環狀烯烴作為聚合單元而聚合之樹脂的總稱，可列舉：例如日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等中所述之樹脂。其具體例，可列舉：例如環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與 乙烯、丙烯等α-烯烴與其共聚合物(無規共聚合物為其代表)及此等樹脂經不飽和羧酸或其衍生物改質的接枝聚合物，以及此等樹脂的氫化物等。環狀烯烴之具體例，可列舉：例如降冰片烯系單體。
市面上已有販售環狀聚烯烴系樹脂的各種製品。其具體例，可列舉：例如Topas(註冊商標)(Ticona公司製)、Arton(註冊商標)(JSR(股)製)、ZEONOR(註冊商標)(日本Zeon(股)製)、ZEONEX(註冊商標)(日本Zeon(股)製)、Apel(註冊商標)(三井化學(股)製)。
(甲基)丙烯酸系樹脂，可採用任何適切的(甲基)丙烯酸系樹脂。可列舉：例如聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯，甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚合物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚合物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚合物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚合物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基的聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚合物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚合物等)。理想的是聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1至6烷酯。(甲基)丙烯酸系樹脂，是以使用甲基丙烯酸甲酯為主成分(50至100重量%，並宜為70至100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂更佳。
纖維素酯系樹脂，是纖維素與脂肪酸之酯。此種纖維素酯系樹脂之具體例，可列舉：例如纖維素三醋酸酯、纖維素二醋酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二 丙酸酯等。又，可舉出此等樹脂的共聚合物或部份羥基經他種取代基等修飾之樹脂等。此等樹脂之中，以纖維素三醋酸酯尤佳。已有多種纖維素三醋酸酯的市售製品，在容易取得性或成本上亦有利。纖維素三醋酸酯的市售品，可列舉：例如Fujitac(註冊商標)TD80(富士軟片(股)製)、Fujitac(註冊商標)TD80UF(富士軟片(股)製)、Fujitac(註冊商標)TD80UZ(富士軟片(股)製)、Fujitac(註冊商標)TD40UZ(富士軟片(股)製)、KC8UX2M(Konica Minolta Opto(股)製)、KC4UY(Konica Minolta Opto(股)製)等。
聚碳酸酯系樹脂，是隔著碳酸酯基而使單體單元結合的聚合物形成之工程塑膠，是具有高耐衝擊性、耐熱性、難燃性的樹脂。又，因具有高透明性，故可適用於光學用途上。在光學用途中，為了降低光彈性係數，市面上也販售有已修飾聚合物骨架的稱為改質聚碳酸酯的樹脂，或已改良波長依存性的共聚合聚碳酸酯等，可適宜地使用。
此種聚碳酸酯樹脂已在市面上廣泛販售，例如Panlite(註冊商標)(帝人化成(股))、Iupilon(註冊商標)(三菱工程塑膠(股))、SD Polyca(註冊商標)(住友Dow(股))、Caliber(註冊商標)(Dow Chemical)等。
基材膜11中，除了上述熱可塑性樹脂之外，也可添加其他任何適切的添加劑。此種添加劑，可列舉：例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、可塑劑、離型劑、防著色劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料及著色 劑等。上述例示的熱可塑性樹脂在基材膜中之含量，宜為50至100重量%，並以50至99重量%更佳，以60至98重量%又更佳，而以70至97重量%尤佳。如基材膜中的熱可塑性樹脂之含量未達50重量%時，有未能充分顯現熱可塑性樹脂原本具有的高透明性等之虞。
基材膜11的厚度，雖然可適宜的決定，但一般就強度或使用性等作業性而言，其宜為1至500μm，並以1至300μm更佳，而以5至200μm又更佳。基材膜的厚度，是以5至150μm最佳。
為了提高基材膜11與偏光子層12之間的密著性，可至少在形成偏光子層12之側的表面進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等。又，也可在基材膜11的形成偏光子層12之側的表面設置底塗層(primer layer)、接著劑層等薄層，以提高密著性。在設置底塗層時，宜遍及基材膜11的表面整面而形成。又，此處所謂的基材膜11，是指不包含接著劑層或電暈處理層等者。
(偏光子層)
偏光子層12，宜為以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂層染色而形成厚度10μm以下之層。偏光子層12中使用的聚乙烯醇系樹脂，適宜使用皂化度90至100莫耳%者，也可使用部份已經改質的改質聚乙烯醇。可列舉：例如以乙烯、丙烯等烯烴，丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不飽和羧酸，不飽和羧酸的烷酯、丙烯醯胺等將聚乙烯醇樹脂改質大約數%者等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度 並無特別的限定，但宜為100至10,000，並以1,500至10,000更佳。
可賦與這種特性的聚乙烯醇系樹脂，可列舉：例如Kuraray(股)製PVA124(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、PVA117(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、PVA624(皂化度：95.0至96.0莫耳%)、PVA617(皂化度：94.5至95.5莫耳%)等；例如日本合成化學工業(股)製的AH-26(皂化度：97.0至98.8莫耳%)、AH-22(皂化度：97.5至98.5莫耳%)、NH-18(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、N-300(皂化度：98.0至99.0莫耳%)等；例如日本VAM&POVAL(股)的JF-17(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、JF-17L(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、JF-20(皂化度：98.0至99.0莫耳%)等可適宜使用。
(保護膜)
保護膜14，可以是不具有光學功能的單純保護膜，也可以是同時具有所謂相位差膜或亮度提高膜的光學功能之保護膜。保護膜14的材質雖然無特別的限定，但可列舉：例如環狀聚烯烴系樹脂膜，由如三醋酸纖維素、二醋酸纖維素的樹脂形成之醋酸纖維素系樹脂膜，由如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯之樹脂形成的聚酯系樹脂膜，聚碳酸酯系樹脂膜、丙烯酸系樹脂膜、聚丙烯系樹脂膜等以往即廣泛使用在該領域中的膜。
環狀聚烯烴系樹脂，可使用適宜的市售品，例如Topas(註冊商標)(Ticona公司製)、Arton(註冊商 標)(JSR(股)製)、ZEONOR(註冊商標)(日本Zeon(股)製)、ZEONEX(註冊商標)(日本Zeon(股)製)、Apel(註冊商標)(三井化學(股)製)。將此種環狀聚烯烴系樹脂製膜而成膜之時，可適宜使用溶劑鑄造法、熔融擠壓法等已知的方法。又，也可使用Esushina(註冊商標)(積水化學工業(股)製)、SCA40(積水化學工業(股)製)、ZEONOR(註冊商標)膜(Optes(股)製)等已預先製膜的環狀聚烯烴系樹脂製的膜之市售品。
環狀聚烯烴系樹脂膜，可以是已單軸延伸或二軸延伸的膜。因延伸，而可對環狀聚烯烴系樹脂膜賦與任意的相位差值。通常是一邊捲出膜捲(film roll)時一邊連續的進行延伸，可在加熱爐中使其朝滾輪的進行方向、垂直於該進行方向的方向，或其兩方向延伸。加熱爐的溫度，通常是由環狀聚烯烴系樹脂的玻璃轉移溫度附近至玻璃轉移溫度+100℃的範圍。延伸的倍率，通常在每一個方向上是1.1至6倍，並宜為1.1至3.5倍。
環狀聚烯烴系樹脂膜，因表面活性差，故一般在與偏光子層接著的表面上，宜為已經電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰處理、皂化處理等表面處理者。其中並以可比較容易實施的電漿處理、電暈處理為理想。
醋酸纖維素系樹脂膜，可使用適宜的市售品，例如Fujitac(註冊商標)TD80(富士軟片(股)製)、Fujitac(註冊商標)TD80UF(富士軟片(股)製)、Fujitac(註冊商標) TD80UZ(富士軟片(股)製)、Fujitac(註冊商標)TD40UZ(富士軟片(股)製)、KC8UX2M(Konica Minolta Opto(股)製)、KC4UY(Konica Minolta Opto(股)製)等。
醋酸纖維素系樹脂膜的表面上也可形成液晶層等，以改良視野角特性。又，醋酸纖維素系樹脂膜也可以是已延伸之膜，以賦與相位差。醋酸纖維素系樹脂膜通常施予皂化處理，以提高與偏光膜的接著性。皂化處理，可採用將其浸漬在如氫氧化鈉或氫氧化鉀的鹼性水溶液中之方法。
在如上述的保護膜14之表面上，也可形成硬塗層、防眩層、防止反射層等光學層。在保護膜14的表面上形成此等光學層之方法，並無特別的限定，可使用已周知的方法。
就薄型化的要求而言，保護膜14的厚度宜為薄者，宜為88μm以下，並以48μm以下更佳。但如其太薄時，則會使強度降低以致加工性差，故宜為5μm以上。
(接著劑層)
形成使保護膜14與偏光子層12貼合的接著劑層13時使用的接著劑，可列舉：例如使用聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺酯系乳液接著劑等的水系接著劑。在使用藉皂化處理等而經親水化處理的醋酸纖維素系樹脂膜作為保護膜14時，可適宜使用聚乙烯醇系樹脂水溶液作為與偏光子層12貼合用的水系接著劑。在使用聚乙烯 醇系樹脂作為接著劑時，除了將醋酸乙烯酯的同元聚合物之聚醋酸乙烯酯進行皂化處理而得之乙烯醇同元聚合物之外，尚有將醋酸乙烯酯與可與其共聚合的他種單體之共聚合物進行皂化處理而得的乙烯醇系共聚合物，另外也有將此等的羥基經部份改質的改質聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑中，可添加多元醛、水溶性環氧化合物、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物等作為添加劑。
又，使偏光子層12與保護膜14貼合之際的接著劑，也可使用光硬化性接著劑。此處所指的光硬化性接著劑，是可以紫外線等活性能量線照射而硬化的接著劑，可列舉：例如含有聚合性化合物及光聚合起始劑者、含有光反應性樹脂者、含有黏著劑(binder)樹脂及光反應性交聯劑者等。前述聚合性化合物，可列舉：例如光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺酯系單體等光聚合性單體，或來自該等單體的寡聚物等。前述光聚合起始劑，可列舉：例如含有經紫外線等活性能量線照射而產生所謂中性自由基、陰離子性自由基、陽離子性自由基的活性種之物質者。含有聚合性化合物及光聚合起始劑的光硬化性接著劑，宜為含有光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑者。
[偏光性積層膜捲]
本發明的偏光性積層膜捲，是將長條狀的前述積層膜捲取而製作成。本發明的偏光性積層膜捲，由於不會自前述積層膜溢出接著劑，故可抑制因溢出的接著 劑的影響而產生的結塊。
[偏光性積層膜之製造方法]
第2圖，是表示本發明的偏光性積層膜之製造方法的流程圖。第3圖，是示意性表示本發明的偏光性積層膜之製造方法中的各製造步驟後之積層膜的上面斜視圖。本發明的製造方法，是依序具有下述步驟的偏光性積層膜之製造方法：在長條狀基材膜11的至少一方之面形成聚乙烯醇系樹脂層12而得積層膜的積層步驟(S10)、將上述積層膜單軸延伸的延伸步驟(S20)、以二色性色素將已單軸延伸的積層膜之樹脂層染色的染色步驟(S30)、將已染色的積層膜之樹脂層浸漬在含有交聯劑之溶液中進行交聯而形成偏光子層的交聯步驟(S40)，與已交聯的積層膜中之偏光子層的基材膜側之面相反側之面隔著接著劑層而貼合保護膜14之貼合步驟(S50)。貼合步驟(S50)中，宜在一對貼合滾輪間，進行以使積層膜與保護膜14重疊的方式進行送入貼合。
在積層步驟(S10)中，第3圖(a)中所示之基材膜11中，如同第3圖(b)所示僅在點線P2的更內側之區域中形成樹脂層12，在點線P2的更外側之區域設置不形成聚乙烯醇系樹脂層的部份11a。這種樹脂層12的形成法，可舉例如在基材膜11中的點線P2的更外側之區域不塗布含有聚乙烯醇系樹脂的溶液，而僅在點線P2的更內側之區域中塗布含有聚乙烯醇系樹脂的溶液之後，使其乾燥的方法。經由如此方式設置不形成樹脂層12的部份(未塗 布部份)11a後，可使接著劑在貼合步驟(S50)中充分的供給至偏光子層的端部而接著劑不會繞至背面，而得良好的偏光性積層膜。又，由於未塗布部份11a的設置，在使積層膜乾燥之際，可抑制使基材膜11的兩端反轉到含有前述樹脂的溶液之塗布面側的現象。規定未塗布部份11a的點線P2，宜決定在距離基材膜11的寬度方向之兩端0.5cm以上，並以1cm以上更佳，而以2cm以上的內側區域內又更佳。藉由決定在這樣的數值範圍，而可更確實獲得防止接著劑繞至背面之效果。又，點線P2的位置，宜為距離基材膜11的寬度方向之兩端50cm以下的區域內，並以30cm以下的區域內更佳，而以20cm以下的區域內又更佳。
又，在貼合步驟(S50)中，如第3圖(c)所示，是將接著劑層如同覆蓋偏光子層12整體的方式並以直到偏光子層12的寬度方向之兩端的更外側之點線P3為止的方式設置，隔著此接著劑層而貼合保護膜14。規定接著劑層的區域之點線P3，宜決定在距離偏光子層的兩端之外側，例如0.5cm以上50cm以下的區域內。
在欲將接著劑層的塗布範圍調整至設定的寬度時，只要調整接著劑的供應量或塗布量、來自壓著裝置的外加壓力(使用貼合滾輪時，是貼合滾輪間的距離)、膜之搬送速度等即可。又，在以長條形的膜進行連續貼合時，可在膜之間連續供應接著劑，另一方面，一邊利用吸取(suction)裝置連續吸引從隔著接著劑層而積層的膜寬度方向端部所溢出的過量接著劑，一邊實施貼合步驟(S50)， 此時，也可藉由調整接著劑的吸引量而調整接著劑層的寛度。
保護膜14，是選擇寬度方向之長度比接著劑層的寬度方向之長度還長者，可以保護膜14覆蓋接著劑層整體。即，在貼合後的積層膜之寬度方向中，以使偏光子層的兩端位於保護膜之兩端的更內側，接著劑層的兩端位於偏光子層之兩端的更外側，且位於基材膜及保護膜的兩端的更內側的方式貼合。保護膜14的寬度方向之長度，只要是比接著劑層的寬度方向之長度更長即無限制，但宜選擇成比偏光子層的寬度方向之長度長0.5cm以上，並以1cm以上更佳，而以2cm以上又更佳。
藉由本發明的製造方法，在貼合步驟(S50)中，因以接著劑層覆蓋偏光子層整體，故可使偏光子層與保護膜以安定的接著力貼合，並且，由於接著劑層的寬度方向之兩端，是設置成位於基材膜及保護膜之兩端的更內側，故可使接著劑不溢出而可防止貼合滾輪及偏光性積層膜等受到接著劑之污染。
經由上述步驟而製造的偏光性積層膜，宜捲取並構成偏光性積層膜捲。偏光性積層膜中，由於抑制接著劑之污染，故可在捲取之際防止結塊的產生，所以也不會有在其後的步驟產生捲出困難等不良情形。
在貼合步驟(S50)之後，可復具有：以與偏光子層12的兩端相同的位置或比偏光子層12的兩端稍微內側的位置切斷偏光性積層膜而去除端部，並且將基材膜 剝離的剝離步驟。可利用由該剝離步驟而得的膜作為偏光板。偏光性積層膜的切斷，宜為可以滾輪等將長條連續處理的方法。雖然並無特別的限定方法，但一般可適宜使用例如稱為切割器(slitter)的方法等。
切割器之例，可舉出：例如利用稱為剃刀片(razor blade)的剃刀之方法。即使同樣是使用剃刀片之方法，也有特別不設置備用導溝(backup guide)而在空中切割的中空切器，或在切溝的滾輪上裝入刀片作為備用導溝(backup guide)以使切割的蛇行安定之溝滾輪法等。其他尚有使用二片稱為剪刀片(shear blade)的圓形刀，配合膜的運送一邊旋轉一邊以上刀接壓在下刀而切割的方法、或將剪刀片或稱為截痕刀(score blade)的刀壓附在燒附滾輪等而切割的方法，另外，可使用將二片剪刀片組合以如同剪刀般一邊裁剪一邊切割的方法等。其中，適宜使用可輕易變更膜的切割位置且容易安定行走的方法之「使用剃刀片的溝滾輪法」等。
也可在上述的積層步驟(S10)中，使基材膜的兩面形成聚乙烯醇系樹脂層，在貼合步驟(S50)中，使二個偏光子層分別貼合保護膜。以下，詳細說明各步驟。
[樹脂層形成步驟(S10)]
此步驟中，是在基材膜的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層而得積層膜。前述樹脂層的形成方法，可舉出：例如在基材膜的至少一面塗布含有聚乙烯醇系樹脂的溶液之後，使其乾燥的方法。適於基材膜、聚乙烯醇系 樹脂的材料，是如偏光性積層膜的說明中所述者。基材膜，宜使用可在適於聚乙烯醇系樹脂的延伸之溫度範圍延伸者。
乾燥後的樹脂層之厚度，宜為超過3μm且在30μm以下之厚度，並且宜為5至20μm。如為3μm以下時，則延伸後變得過薄而使染色性明顯下降，如超過30μm時，有時會使最後獲得的偏光子層之厚度超過10μm，故不佳。
樹脂層，宜將使聚乙烯醇系樹脂的粉末溶解在良溶劑中而得的聚乙烯醇系樹脂溶液塗布在基材膜的一表面上，使溶劑蒸發、乾燥而形成。藉由此方式而形成樹脂層，可能薄質的形成。將聚乙烯醇系樹脂溶液塗布在基材層的方法，可由線棒塗布法、逆向塗布(reverse coating)、凹板塗布等滾輪塗法，模壓塗布法、逗點式塗布法(comma coating)、唇嘴塗布(lip coat)法、旋轉塗布法、網版塗布法、噴泉塗布(fountain coat)法、浸塗法、噴塗法等已知的方法中適宜的選擇採用。乾燥溫度例如為50至200℃，並宜為60至150℃。乾燥時間例如為2至20分鐘。
又，可在基材膜與聚乙烯醇系樹脂層之間設置底塗層，以提高基材膜與聚乙烯醇系樹脂之間的密著性。就密著性而言，底塗層宜為由在聚乙烯醇系樹脂中含有交聯劑等的組成物形成者。
<延伸步驟(S20)>
此處，是將基材膜及樹脂層形成的積層膜 單軸延伸。並宜以成為超過5倍且17倍以下的延伸倍率之方式單軸延伸。而以成為超過5倍且8倍以下的延伸倍率之方式單軸延伸更佳。如延伸倍率為5倍以下時，則因聚乙烯醇系樹脂形成的樹脂層未能充分配向，結果有時會產生偏光子層的偏光度不夠高之不良情形。另一方面，如延伸倍率超過17倍時，容易使延伸時的積層膜產生破裂，同時使延伸膜的厚度成為必要以上的薄，而有後續步驟的加工性、處理性降低之虞。延伸步驟(S20)中的延伸處理，並不限定在一階段式的延伸，也可進行多階段式延伸。此時，雖然也可在延伸步驟(S20)中進行第二階段以後的延伸處理，但也可與染色步驟(S30)或交聯步驟(S40)中的處理同時進行。如此的以多階段進行延伸時，以延伸處理的所有階段總和成為超過5倍的延伸倍率之方式進行延伸處理。
延伸步驟(S20)中，可實施針對積層膜的長度方向實施的縱向延伸處理，或針對寬度方向延伸的橫向延伸處理等。縱向延伸方式，可列舉：例如滾輪間延伸方法、壓縮延伸方法等，橫向延伸方式，可列舉：例如拉幅(tenter)法等。
又，延伸處理可採用濕潤式延伸方法與乾式延伸方法的任何一種方式，但使用乾式延伸方法者，因可從廣範圍選擇延伸積層膜時的溫度而佳
[染色步驟(S30)]
此時，是以二色性色素將延伸後的積層膜的樹脂層染色。二色性色素，可列舉：例如碘或有機染料 等。有機染料，可使用：例如紅BR、紅LR、紅R、粉紅LB、Rubin BL、Bordeaux GS、天空藍LG、檸檬黃、藍BR、藍2R、海軍藍RY、綠LG、紫LB、紫B、黑H、黑B、黑GSP、黃3G、黃R、橙LR、橙3R、深紅(scarlet)GL、深紅KGL、剛果紅、亮紫BK、Supra Blue G、Supra Blue GL、Supra Orange GL、直接天空藍、直接耐晒橙(Direct Fast Orange)S、耐晒黑等。此等二色性物質可使用一種，也可同時使用二種以上。
染色步驟，例如是將整個積層膜浸漬在含有上述二色性色素的溶液(染色溶液)中而進行。染色溶液，可使用已在溶劑中溶解有上述二色性色素的溶液。染色溶液之溶劑，雖然一般使用水，但也可復添加與水具有相溶性之有機溶劑。二色性色素的濃度，宜為0.01至10重量%，並以0.02至7重量%更佳，而以0.025至5重量%尤佳。
使用碘作為二色性色素時，因可使染色效率更進一步地提昇，故宜再添加碘化物。此碘化物，可列舉：例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。此等碘化物的添加比例，宜為染色溶液中的0.01至20重量%。在碘化物之中，尤其宜添加碘化鉀。在添加碘化鉀時，碘與碘化鉀的比例之重量比，宜為1：5至1：100的範圍，並以1：6至1：80的範圍更佳，而以1：7至1：70的範圍尤佳。
積層膜在染色溶液中的浸漬時間並無特別的限定，但通常宜為15秒至15分鐘的範圍，並以30秒至3分鐘更佳。又，染色溶液的溫度宜為10至60℃的範圍，並以20至40℃的範圍更佳。
又，染色處理可在延伸步驟之前或同時進行，但為了能使吸附在聚乙烯醇系樹脂上的二色性色素顯現良好的配向，故宜在對未延伸膜施予延伸步驟之後進行染色處理。此時，可僅單純的將預先以目標倍率延伸的膜染色，也可將預先以低倍率延伸的膜於染色中再度延伸而合計達成目標倍率的方法。又，再於其後的交聯處理中延伸時，在此也可以停在低倍率延伸。此時，只要適時調整以使交聯處理後可達到目標倍率即可。
[交聯步驟(S40)]
繼染色步驟(S30)之後進行交聯步驟(S40)。交聯步驟，例如可將經過染色步驟(S30)的積層膜浸漬在含有交聯劑的溶液(交聯溶液)中而進行。交聯劑，可使用以往已知的物質。可列舉：例如硼酸、硼砂等硼化合物，或乙二醛、戊二醛等。此等交聯劑，可使用一種，也可同時使用二種以上。
交聯溶液，可使用已在溶劑中溶解有交聯劑的溶液。溶劑，例如可使用水，並且也可含有與水具有相溶性的有機溶劑。交聯溶液中的交聯劑之濃度，雖然無特別的限定，但宜為1至20重量%的範圍，並以6至15重量%更佳。
交聯溶液中也可添加碘化物。因碘化物的添加，而可使樹脂層面內中的偏光特性更為均勻。碘化物，可列舉：例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦。碘化物之含量為0.05至15重量%，並以0.5至8重量%更佳。
積層膜在交聯溶液中的浸漬時間，通常宜為15秒至20分鐘，並以30秒至15分鐘更佳。又，交聯溶液的溫度宜為10至90℃的範圍。
又，交聯步驟可藉由將交聯劑調配在染色溶液中，而與染色步驟同時進行。又，可僅單純的將預先以目標倍率延伸的膜交聯，也可同時進行交聯處理與延伸處理。可將預先在延伸步驟以低倍率延伸的延伸膜，在交聯處理中再度延伸，而合計達到目標倍率。
交聯步驟之後宜進行清洗步驟。清洗步驟，可施行水清洗處理。水清洗處理，通常可將延伸膜浸漬在離子交換水、蒸餾水等純水中而進行。水清洗溫度通常是3至50℃，並宜為4℃至20℃的範圍。浸漬時間通常是2至300秒，並宜為3至240秒。
清洗步驟，可以是碘化物溶液的清洗處理與水清洗處理的組合，也可使用適宜調配甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、丙醇等液態醇的溶液。經過以上步驟之後，使樹脂層具有作為偏光子的功能。本說明書中，將具有作為偏光子的功能之樹脂層稱為偏光子層。
[貼合步驟(S50)]
在此，隔著接著劑層將保護膜貼合在與偏光子層之基材膜側的面相反側的面上，而得偏光性積層膜。適合保護膜的材料是如同偏光性積層膜的說明中所述之材料。又，適合接著劑的材料亦如同偏光性積層膜的說明中所述的材料，例如，可使用水系接著劑或光硬化性接著劑。
使用水系接著劑而使偏光子層與保護膜貼合的方法，並無特別的限定，可舉出：例如在偏光子層及/或保護膜的表面均勻塗布接著劑，在塗布面重疊另一方的膜並以貼合滾輪等而貼合的方法等。將接著劑塗布在偏光子層及/或保護膜的表面之方法，可列舉：例如應用將接著劑進料用的噴嘴頭配置在偏光子層及保護膜之間，利用泵等由該噴嘴供應接著劑的方法，或藉由流延法、線棒塗布法、凹板塗布法、逗點式塗布法、刮刀(doctor blade)法、模壓塗布法、浸塗法、噴霧法等，將接著劑塗布在偏光子層及/或保護膜的表面上之方法等。
在使用水系接著劑時，將偏光子層與保護膜貼合之後，使積層膜乾燥，以去除水系接著劑中所含的水。乾燥爐的溫度宜為30℃至90℃。如未達30℃時，有使偏光子層面與保護膜面容易剝離的傾向。如為90℃以上時，有因熱而使光學性能劣化之虞。可使乾燥時間為10至1,000秒，特別就生產性而言，其宜為60至750秒，並以150至600秒更佳。
乾燥後，可再以室溫或稍高於室溫的溫 度，例如以20至45℃左右的溫度使其熟成(curing)大約12至600小時左右。熟成時的溫度，一般是設定在低於乾燥時採用的溫度。
以光硬化性接著劑將偏光子層與保護膜貼合的方法，可使用以往已知的方法，可舉例如流延法、線棒塗布法、凹板塗布法、逗點式塗布法、刮刀法、模壓塗布法、浸塗法、噴霧法等，將接著劑塗布在偏光子層及/或保護膜的接著面，使兩者重合之方法。流延法，是一邊使被塗物的偏光膜或保護膜朝向大概垂直方向、大概水平方向或兩者之間的斜向移動時，一邊在其表面流下接著劑而擴散塗布的方法。
在偏光子層或保護膜的表面塗布接著劑之後，隔著接著劑塗布面以壓輪(nip roll)等包挾偏光膜與保護膜，使其貼合而接著。又，也可適用使偏光子層與保護膜以部份重合的狀態，將接著劑滴到偏光子層與保護膜之間之後，以滾輪等加壓此積層膜而均勻的擴展的方法。此時，可使用金屬或橡膠等作為滾輪的材質。並且，也可適用將接著劑滴到偏光子層與保護膜之間之後，使此積層膜通過滾輪與滾輪之間而加壓，使其擴展的方法。此時，此等滾輪可使用相同的材質，也可使用不同的材質。使用上述壓輪等貼合之後的接著劑層，其乾燥或硬化前的厚度宜為5μm以下且0.01μm以上。
在偏光子層及/或保護膜的接著表面上，可適宜的施予電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火 焰處理、皂化處理等表面處理，以提高其接著性。皂化處理，可舉出浸漬在如氫氧化鈉或氫氧化鉀的鹼性水溶液中的方法。
在使用光硬化性樹脂作為接著劑時，是將偏光膜與保護膜接合後，藉由照射活性能量線而使光硬化性接著劑硬化。活性能量線的光源雖然無特別的限定，但宜為波長400nm以下時具有發光分布的活性能量線，具體上宜使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激化水銀燈、金屬鹵素燈等。
對光硬化性接著劑照射的光強度，是依光硬化性接著劑的組成而適宜決定，雖然無特別的限定，但宜為對聚合起始劑之活性化有效的波長領域之照射強度0.1至6,000mW/cm2。如照射強度為0.1 mW/cm2以上時，不會使反應時間變得過長，如為6,000mW/cm2以下時，將使由光源的輻射熱及光硬化性接著劑硬化時的放熱所致之環氧樹脂黃變或偏光膜的劣化之虞較小。對光硬化性接著劑照射光的時間，配合欲硬化的光硬化性接著劑而適用者即無特別的限制，但宜設定成使表示上述照射強度與照射時間之積的累積光量成為10至10,000mJ/cm2。如對光硬化性接著劑照射的累積光量為10mJ/cm2以上時，可產生足夠量的來自聚合起始劑的活性種而使硬化反應更確實的進行，如為10,000mJ/cm2以下時，則可使照射時間不會過長，而維持良好的生產性。而且，活性能量線照射後的 接著劑層之厚度，通常是0.001至5μm左右，並宜為0.01μm以上且2μm以下，而以0.01μm以上且1μm以下更佳。
藉由活性能量線的照射使光硬化性接著劑硬化時，宜在不使偏光膜的傓光度、透過率及色相，以及保護膜的透明性等偏光板的諸項功能降低之條件下進行硬化。
[剝離步驟]
本發明的製造方法中，可在將保護膜貼合在偏光子層上的貼合步驟(S50)之後，進行基材膜之剝離步驟。在基材膜之剝離步驟中，是使基材膜自積層膜剝離。基材膜的剝離方法並無特別的限定，可以與通常之附有黏著劑的偏光板進行的剝離膜之剝離步驟相同的方法進行。在貼合步驟(S50)之後，可直接立即就進行剝離，也可將其一度捲取成輪狀之後，再另外設置剝離步驟。
[實施例] [實施例1]
(1)基材膜之製作
藉由使用多層擠壓成形機的共擠壓成形，製作一種3層結構的基材膜捲，該基材膜是由在含有約5重量%乙烯單元的丙烯/乙烯之無規共聚合物(住友化學(股)製「住友Noburen W151」，熔點Tm=138℃)形成的樹脂層之兩側配置由丙烯的同元聚合物之均質聚丙烯(住友化學(股)製「住友Noburen FLX80E4」，熔點Tm=163℃)形 成的樹脂層而形成者。所得的基材膜捲之合計厚度為100μm，各層的厚度比(FLX80E4/W151/FLX80E4)是3/4/3。
(2)底塗層之形成
使聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業(股)製「Z-200」，平均聚合度1,100，平均皂化度99.5莫耳%)溶解於95℃的熱水中，調製成濃度3重量%的聚乙烯醇水溶液。在所得的水溶液中，相對於聚乙烯醇粉末6重量份，混合交聯劑(住友化學(股)製，「Sumirez樹脂650」)5重量份。利用凹板塗布機，將所得的混合水溶液在已施予電暈處理的上述基材膜捲之電暈處理面上連續塗布，以80℃乾燥10分鐘後，形成厚度0.2μm的底塗層，作成由底塗層/基材膜的構成形成之膜。此時，底塗層是全面覆蓋基材膜而形成。
(3)積層步驟
使聚乙烯醇粉末(Kuraray(股)製「PVA124」，平均聚合度2,400，平均皂化度98.0至99.0莫耳%)溶解於95℃的熱水中，調製成濃度8重量%的聚乙烯醇水溶液。利用逗點式塗布機，將所得的水溶液連續塗布在基材膜的一方之底塗層上，以80℃乾燥5分鐘後，製作成由基材膜/底塗層/聚乙烯醇系樹脂層形成的3層結構之積層膜捲。由聚乙烯醇系樹脂形成的樹脂層之厚度為10.6μm。塗布之際，在距離基材膜的兩端之各別3.0cm以內的區域內不塗布聚乙烯醇水溶液，作為未塗布部份。即，樹脂層 的寬度方向之長度比基材膜的寬度方向之長度還短6cm。
(4)延伸步驟
以160℃的延伸溫度，以滾輪間空中延伸裝置，使上述的積層膜朝縱方向以自由端單軸延伸至4.3倍之後捲取，獲得積層膜捲。所得的積層膜之厚度是55.2μm，聚乙烯醇系樹脂層的厚度是6.3μm。
(5)染色步驟、交聯步驟
對於延伸後的積層膜捲，依下述方式進行染色步驟及交聯步驟。首先，將積層膜在30℃的含有碘與碘化鉀之水溶液的30℃染色溶液中以成為150秒左右的滯留時間之方式浸漬，進行聚乙烯醇系樹脂層的染色(染色步驟)，接著以10℃的純水沖掉多餘的碘液。接著，在含有硼酸與碘化鉀的水溶液之72℃的交聯溶液中，以成為600秒左右的滯留時間之方式浸漬(交聯步驟)，由樹脂層形成偏光子層。然後，以10℃的純水清洗4秒鐘之後，以80℃使其乾燥300秒，獲得積層膜捲。
(6)貼合步驟
使聚乙烯醇粉末(Kuraray(股)製「KL-318_」，平均聚合度1,800)溶解於95℃的熱水中，調製成濃度3重量%的聚乙烯醇水溶液。在所得的水溶液中，相對於聚乙烯醇粉末2重量份，混合交聯劑(住友化學(股)製「Sumirez樹脂650」))1重量份，作為接著劑溶液。
接著，在所得的積層膜之偏光子層側的面，將比偏光子層的寬度寬8.0cm之由三醋酸纖維素(TAC) 形成的保護膜(Konica Minolta Opto(股)製「KC4UY」)，以使兩端分別比偏光子層更外側4.0cm之方式設置，將上述接著劑溶液進料在兩膜之間後，再以貼合滾輪貼合。此時，調整接著劑溶液之進料量以使接著劑層的寬度方向之兩端為偏光子層之兩端的更外側，且保護膜及基材膜之兩端的更內側。然後，將以80℃乾燥5分鐘後獲得的偏光性積層膜捲取，獲得偏光性積層膜捲。所得的偏光性積層膜，是由基材膜/底塗層/偏光子層/接著劑層/保護膜的5層形成之長條狀偏光性積層膜。
所得的偏光性積層膜，是接著劑不溢出，從而也使接著劑不漏出至偏光性積層膜的表面之良好狀態。
所得的偏光性積層膜之寬度方向的剖面，是如第1圖中所示之剖面。接著劑層13之寬度方向的長度比基材膜11之寬度方向的長度還短3.2cm，接著劑層13的端部P3與基材膜11的端部P1之間隔為1.6cm。偏光子層12之寬度方向的長度比接著劑層13之寬度方向的長度還短2.0cm，偏光子層12的端部P2與接著劑層13的端部P3之間隔為1.0cm。又，接著劑層13之寬度方向的長度比保護膜14之寬度方向的長度還短8.0cm，接著劑層13的端部P3與保護膜14的端部P4之間隔為4.0cm。
將所得的偏光性積層膜捲設置在複捲機(rewinder)而捲出偏光性積層膜時，尤其無結塊等，且在下一步驟的捲出時可平順的捲出。又，就一邊直接連續的捲 出，一邊以剃刀片切割兩端部，保護膜與基材膜隔著接著劑層直接接著，雖然將偏光子層的未積層部份去除，因切割刀安定，故可將端部平整的去除。
並且，將基材膜自切割後獲得的偏光性積層膜剝離。由於已切割端部，故可平順的進行剝離，而獲得由保護膜/接著劑層/偏光子層/底塗層形成的偏光板。
[實施例2]
使用由1,4-環己烷二甲醇、對苯二甲酸、乙二醇的3種單體共聚合而成的聚酯基材(帝人(股)製：PETG)作為基材。基材膜的厚度是70μm。以與實施例1相同的方法設置底塗層及聚乙烯醇系樹脂層，作成由基材膜/底塗層/聚乙烯醇系樹脂層之構成形成的積層膜(積層步驟)。底塗層的厚度是0.2μm，聚乙烯醇系樹脂層的厚度是10.4μm。在此，也在距離基材膜之端部3.0cm以內的兩端部之區域中，不塗布聚乙烯醇水溶液而設置未塗布部份。
以滾輪間空中延伸裝置，以110℃的延伸溫度將上述積層膜朝縱方向以自由端單軸延伸4.0倍(延伸步驟)，獲得積層膜捲。所得的積層膜捲之厚度是40.5μm，聚乙烯醇系樹脂層的厚度是6.2μm。
將所得的積層膜進行與實施例1相同的染色步驟，清洗、乾燥後，獲得積層膜。將所得的積層膜以與實施例1相同的方式貼合保護膜(貼合步驟)，獲得由基 材膜/底塗層/偏光子層/接著劑層/保護膜的5層形成的長條狀偏光性積層膜。
所得的偏光性積層膜之寬度方向的剖面，是如同第1圖中所示的剖面。接著劑層13的寬度方向之長度比基材膜11的寬度方向之長度短3.0cm，接著劑層13的端部P3與基材膜11的端部P1之間隔是1.5cm。偏光子層12的寬度方向之長度比接著劑層13的寬度方向之長度短2.0cm，偏光子層12的端部P2與接著劑層13的端部P3之間隔是1.0cm。又，接著劑層13的寬度方向之長度比保護膜14的寬度方向之長度短8.0cm，接著劑層13的端部P3與保護膜14的端部P4之間隔是4.0cm。
將所得的偏光性積層膜捲設置於複捲機上並捲出偏光性積層膜時，不僅無結塊等，且可使其在下一步驟捲出時平順的捲出。又，就一邊直接連續的捲出，一邊以剃刀片切割兩端部，保護膜與基材膜隔著接著劑層直接接著，雖然已將偏光子層的未積層部份去除，因切割刀安定，故可平整的將端部去除。
並且，自切割後獲得的偏光性積層膜將基材膜剝離。由於已切割端部，故可平順的進行剝離，而獲得由保護膜/接著劑層/偏光子層/底塗層形成的偏光板。
[比較例1]
在與實施例1相同的基材膜上，以與實施例1相同的方法形成底塗層與樹脂層。以剃刀片將端部的未 塗布部份切割去除，使樹脂層與基材膜之兩端一致。然後，以與實施例1相同的方法進行延伸、染色、交聯、乾燥後，由樹脂層形成偏光子層。調整實施例1中使用的保護膜的寬度，以使其與所得的積層膜之偏光子層及基材膜相同寬度，將其設置在積層膜的偏光子層側，將接著劑溶液進料至兩膜之間再以貼合滾輪使其貼合。此時，是將接著劑溶液的進料量調整成以使接著劑層充分到達偏光子層的端部。然後，以80℃使其乾燥5分鐘，獲得由基材膜/底塗層/偏光子層/接著劑層/保護膜的5層形成長條狀偏光性積層膜。連續的調整接著劑之進料量，因膜之蛇行或進料量的變動，而使接著劑從膜的端部少量擠出而附著在貼合滾輪上。在使數十m的膜流出時，附著在貼合滾輪的接著劑開始附著在基材膜及保護膜的背面(與偏光子層側之表面相反的面)，而開始明顯的污染背面。
在測定所得的偏光性積層膜之剖面中的各層之端部位置時，雖然基材膜、偏光子層、接著劑層、保護膜之兩端略為相同的位置，但在接著劑層的端部之位置上則有變動，而存在有些地方從膜的端部進入內側或溢出外側的部份。
將所得的偏光性積層膜再捲取成輪狀。雖然為了切割而捲出此膜捲，但因繞到背面的接著劑，而在膜的端部附近的區域膜彼此貼附，在捲出時接著劑層凝聚破壞而殘留下白色的凝聚破壞痕跡。同時，捲出時的張力亦不安定。
再者，在下一步驟中以剃刀片切割之際，因捲出不良所致之端部歪斜之影響與端部的接著劑層之厚度不均，而使切刀不能一定的切入，而使端部產生毛邊的不良情形。藉由切割而得的膜之端部是噴洒有白粉的狀態，又，因厚度增生而致產生邊端高之捲狀態等不良情形。
另外，雖然自切割而得的偏光性積層膜剝離取出基材膜，但因端部產生毛邊而未能平順的進行剝離，故端部是呈鋸齒狀。又，產生粉附著在膜背面的不良情形。再者，在觀察端部時，有部份的接著劑不足，而有保護膜與偏光子層之間產生間隔的不良情形。
表1，是表示實施例1至3、比較例1的偏光性積層膜的概要及貼合後的端部之狀態。
[產業上之可利用性]
本發明的偏光性積層膜，可有效適用於以 液晶顯示裝置為首的各種顯示裝置上。
11‧‧‧基材膜
12‧‧‧樹脂層(偏光子層)
13‧‧‧接著劑層
14‧‧‧保護膜

Claims (6)

  1. 一種偏光性積層膜，其是依序積層有基材膜、偏光子層、接著劑層、保護膜的長條狀偏光性積層膜，在偏光性積層膜的寬度方向中，前述偏光子層之兩端是位於前述基材膜及前述保護膜之兩端的內側，前述接著劑層之兩端是位於前述偏光子層之兩端的外側，且位於前述基材膜及前述保護膜之兩端的內側。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光性積層膜，其中，前述偏光子層是已吸附配向二色性色素的聚乙烯醇系樹脂層，厚度為10μm以下。
  3. 一種偏光性積層膜捲，其是將申請專利範圍第1項所述之偏光性積層膜捲繞而成者。
  4. 一種偏光性積層膜的製造方法，依序具有：在長條狀基材膜之至少一方的面形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜的積層步驟；將前述積層膜單軸延伸的延伸步驟；將已進行前述單軸延伸的前述積層膜之前述樹脂層，以二色性色素染色的染色步驟；將已進行前述染色的前述積層膜之前述樹脂層，浸漬在含有交聯劑之溶液中進行交聯而形成偏光子層的交聯步驟；以及在已進行前述交聯的前述積層膜中之前述偏光子層的與前述基材膜側之面為相反側之面，隔著接著劑層而貼合保護膜之貼合步驟； 在前述積層步驟中，於前述基材膜的寬度方向之兩端部，設置有未形成前述聚乙烯醇系樹脂層的部份，在前述貼合步驟中，是以下述方式進行貼合：使前述貼合後的前述積層膜之寬度方向中，前述偏光子層的兩端位於前述保護膜之兩端的內側，前述接著劑層的兩端位於前述偏光子層之兩端的外側，且位於前述基材膜及前述保護膜的兩端之內側。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之偏光性積層膜的製造方法，在前述貼合步驟之後，具有將前述基材膜與前述保護膜隔著前述接著劑層而直接接著的部份，自前述積層膜切斷而去除的去除步驟。
  6. 一種偏光板的製造方法，其具有自藉由申請專利範圍第5項所述之製造方法所製造的偏光性積層膜將前述基材膜剝離而去除的剝離步驟。
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