TWI692757B - 已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，前述製造方法除了平面部以外，就連端面部也能以既定厚度的塗佈物質覆蓋。一種已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，係製造於塗佈對象物T之塗佈平面及塗佈端面塗佈有塗佈物質R者；前述塗佈對象物T具有：形成有屬於平坦面之塗佈平面的平面部Tf、以及與平面部Tf連續的端面部Te，前述端面部Te形成有塗佈端面，前述塗佈端面具有曲面及不平行於平面部Tf之塗佈平面之平面中的至少一者；前述製造方法具備下述步驟：塗佈物質供給步驟，係至少沿著塗佈平面而供給塗佈物質R；以及端面部塗佈物質調整步驟，係將供給至塗佈端面的塗佈物質R或從塗佈平面移動過來的塗佈物質R，調整成朝向遠離塗佈平面的方向並以既定厚度覆蓋塗佈端面。

Description

已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法
本發明係關於已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，尤其係關於除了平面部以外，就連端面部也能以既定厚度的塗佈物質覆蓋之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法。
就在光碟等基板上形成均勻的厚度之樹脂膜的技術而言，有旋轉塗佈法。旋轉塗佈法係藉由將會成為樹脂膜之原料的樹脂液供給至基板之表面中央，使基板繞著通過基板表面的中心且垂直於表面的旋轉軸線旋轉，而使樹脂液延展至表面整體並形成樹脂膜者(例如參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2009-15923號公報
就屬於欲塗佈樹脂液等塗佈物質之對象的塗佈對象物而言，有光碟等基板以外者(例如保護玻璃等)，其形狀有：形成有平坦面的平面部占據大部分，且平面部之端部被倒角而形成為曲面等者。然後，有時會要求在對此種塗佈對象物塗佈塗佈物質之際，不僅平面部就連經倒角之端的部分也以既定厚度塗佈塗佈物質。然而，在專利文獻1所記載的旋轉塗佈法中，難以將在經倒角之端的部分所塗佈的塗佈物質設為既定厚度。
本發明係有鑑於上述的課題，其目的係提供一種已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，前述製造方法除了平面部以外，就連端面部也能以既定厚度的塗佈物質覆蓋。
為了達成上述目的，本發明之第1態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，參照例如第1圖至第3圖而表示時，前述製造方法係製造已塗佈塗佈物質的對象物，該已塗佈塗佈物質的對象物係於塗佈對象物T之塗佈平面Tsp及塗佈端面Tsc塗佈有塗佈物質R者；前述塗佈對象物T具有：形成有屬於平坦面之塗佈平面Tsp(參照第2圖(B))的平面部Tf、以及與平面部Tf連續的端面部Te，前述端面部Te形成有塗佈端面Tsc(參照第2圖(B))，前述塗佈端面Tsc具有曲面及不平行於平面部Tf之塗佈平面Tsp之平面中的至少一者；前述製造方法具備下述步驟：塗佈物質供給步驟(S2)，係至少沿著塗佈平面Tsp而供給塗佈物質R；以及端面部塗佈物質調整步驟(S3至S5)，係將供給至塗佈端面Tsc的塗佈物質R或從塗佈平面Tsp移動過來的塗佈物質R，調整成以既定厚度覆蓋塗佈端面Tsc。
以此種方式構成時，除了平面部以外，就連端面部也能以既定厚度的塗佈物質覆蓋。
此外，本發明之第2態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，參照例如第1圖(B)及第3圖而表示時，在上述本發明之第1態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法中，端面部塗佈物質調整步驟(S3至S5)係以藉由使塗佈對象物T繞著公轉軸線25旋轉而使塗佈物質R延展的方式構成。
以此種方式構成時，藉由伴隨繞著公轉軸線旋轉而來的離心力，能夠對於端面部大致均勻地塗佈塗佈物質。
此外，本發明之第3態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，係如同例如第1圖(B)所示，在上述本發明之第2態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法中，公轉軸線25係塗佈對象物T之旋轉的軸線，前述塗佈對象物T之旋轉使離心力產生，該離心力伴隨著塗佈物質R之沿著塗佈端面Tsc(參照例如第2圖)之遠離塗佈平面Tsp(參照例如第2圖)的方向的移動。
以此種方式構成時，可形成從塗佈平面平滑地連接到塗佈端面的塗佈物質的膜。
此外，本發明之第4態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，參照例如第1圖、第2圖、第5圖而表示時，在上述本發明之第3態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法中，在端面部塗佈物質調整步驟之前，具備將輔助具19安裝至塗佈對象物T之輔助具安裝步驟，其中，前述輔助具19具有當安裝至塗佈對象物T時會形成與塗佈端面Tsc連續 之面的連接面19f，並且輔助具19係相對於塗佈平面Tsp在因離心力所致之塗佈物質R之移動之方向的下游側安裝至塗佈對象物T；端面部塗佈物質調整步驟係以藉由繞著公轉軸線25之塗佈對象物T的旋轉，而使塗佈物質R超越塗佈端面Tsc而延展至到達連接面19f的方式構成。
以此種方式構成時，能以既定厚度的塗佈物質覆蓋端面部整體。
此外，本發明之第5態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，參照例如第1圖及第3圖而表示時，在上述本發明之第2態樣至第4態樣中任一個態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法中，塗佈物質R係由黏度因既定的增黏處理而增加之液狀的物質而構成；端面部塗佈物質調整步驟(S3至S5)係包含增黏步驟(S4)而構成，前述增黏步驟(S4)係對已成為既定之厚度的塗佈物質R施予既定的增黏處理。
以此種方式構成時，可在將端面部之塗佈物質保持在既定厚度的狀態，進行多餘的塗佈物質的處理。
此外，本發明之第6態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，參照例如第6圖而表示時，在上述本發明之第1態樣之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法中，端面部塗佈物質調整步驟係以藉由將覆蓋塗佈平面Tsp及塗佈端面Tsc的覆蓋構件C裝配至塗佈對象物T，而將充填在塗佈對象物T與覆蓋構件C之間的塗佈物質R調整成既定的厚度的方式構成。
以此種方式構成時，可隔著既定厚度的塗佈物質而使塗佈對象物與覆蓋構件貼合。
依據本發明，除了平面部以外，就連端面部也能以既定厚度的塗佈物質覆蓋。
1‧‧‧塗佈裝置
11‧‧‧塗佈器
15‧‧‧UV照射器
15c‧‧‧箱構件
15e‧‧‧端部
15f‧‧‧主要部
15m‧‧‧遮罩
19‧‧‧輔助具
19a‧‧‧上表面
19f‧‧‧連接面
21‧‧‧公轉板
21a‧‧‧虛軸線
21b‧‧‧底部
21w‧‧‧壁部
23‧‧‧公轉軸
25‧‧‧公轉軸線
31‧‧‧自轉板
31r‧‧‧背面
31s‧‧‧表面
33‧‧‧自轉軸
35‧‧‧自轉軸線
41‧‧‧真空室
50‧‧‧控制裝置
C‧‧‧覆蓋構件
R‧‧‧塗佈物質
T‧‧‧塗佈對象物
Tf‧‧‧平面部
Te‧‧‧端面部
Ts‧‧‧塗佈面
Tr‧‧‧背面
Tsc‧‧‧塗佈端面
Tsp‧‧‧塗佈平面
Vt‧‧‧切平面
第1圖係用於實行本發明之實施形態之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法之裝置的一例之塗佈裝置的概略構成圖。
第2圖係顯示本發明之實施形態中所應用的對象物的圖，(A)係透視圖，(B)係縱剖面圖。
第3圖係顯示製造已塗佈的對象物之程序的流程圖。
第4圖係例示對塗佈面之塗佈物質之塗佈狀態的圖，(A)係塗佈物質的液體聚積已到達塗佈端面之一部分之狀態的側視圖，(B)係塗佈物質之液體聚積納入塗佈平面內之狀態的側視圖。
第5圖係顯示本發明之實施形態之第1變形例之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法之實行態樣之一例的側視概念圖。
第6圖係例示本發明之實施形態之第2變形例之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法之實行態樣的側視概念圖。
本申請係根據在日本於2018年8月22日所申請的日本特願2018-155847號，其內容形成本申請內容的一部分。
此外，可藉由以下詳細的說明更完全地理解本發明。本發明之進一步的應用範圍係藉由以下詳細的說明而更明瞭。然而，詳細的說明及特定的實例係本發明之較佳的實施形態，且僅出於說明性目的而記載者。從該詳細的說明，進行各種變更、改變係在本發明之精神與範圍內，對本發明所屬技術領域中具有通常知識者而言乃屬明瞭者。
申請人無意圖將所記載的實施形態全皆提供給公眾，在所公開的改變、替代案之中，在申請專利範圍內就文言上或許未包含者亦在均等論下屬於本發明的一部分。
以下參照圖式針對本發明之實施形態進行說明。又，各圖中彼此相同或相當的構件係以相同或類似的符號標記，且省略重複的說明。
首先參照第1圖，說明用於實施本發明之實施形態之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法的塗佈裝置1。第1圖係塗佈裝置1的概略構成圖，第1圖(A)係例示塗佈物質R之塗佈時之態樣的圖、第1圖(B)係例示塗佈物質R延展時之態樣的圖。塗佈裝置1係適合以既定厚度的塗佈物質R覆蓋構成欲塗佈塗佈物質R之塗佈對象物T(以下簡稱為「對象物T」)之主要面的平面部Tf與構成端之部分的端面部Te的裝置；塗佈裝置1具備塗佈器11、UV照射器15、公轉板21、自轉板31、控制裝置50。在說明塗佈裝置1之前，先針對本實施形態中欲塗佈塗佈物質R的對象物T進行說明。
第2圖(A)係對象物T的透視圖，第2圖(B)係從第2圖(A)之B-B箭頭方向觀察對象物T的縱剖面圖。在本實施形態中，對象物T就整體而言，在俯視時為長方形且形成為有厚度的板狀。於此，為了便於說 明，將對象物T區分為屬於主要部分的平面部Tf與屬於端之部分的端面部Te。關於平面部Tf，欲塗佈塗佈物質R之表面係由平坦面所形成，且該平坦面被稱為塗佈平面Tsp。關於端面部Te，屬於欲塗佈塗佈物質R之表面的塗佈端面Tsc係與塗佈平面Tsp連續，惟與塗佈平面Tsp不在同一平面上。塗佈端面Tsc典型而言係由曲面、或不與塗佈平面Tsp平行的平面、或者此等的組合所形成。換言之，對象物T之塗佈面Ts係在端面部Te被倒角。塗佈面Ts係欲塗佈塗佈物質R之面，且包含塗佈平面Tsp及塗佈端面Tsc。又，關於可形成塗佈端面Tsc的曲面，曲率可為一定或不一定，若切平面Vt(接觸曲面之虛擬平面，且在曲面上的任意曲線之切線形成平面者)與塗佈平面Tsp不在同一平面上即可。可形成塗佈端面Tsc之曲面，其曲率半徑有小至1mm或0.5mm左右，或者5mm或10mm左右的情況。在本實施形態中，對象物T之塗佈平面Tsp之相反側的背面Tr，係形成為與塗佈平面Tsp平行的平面，但亦可形成為不與塗佈平面Tsp平行的平面，也可並非平面。
塗佈於塗佈面Ts的塗佈物質R係具有既定的黏度的液體狀物質，可用於塗佈劑、接著劑等用途。塗佈物質R，典型而言係適合用於濕式塗佈者。既定的黏度係取決於塗佈物質R的用途，典型而言係當離心力發揮作用時會擴展般地變形的黏度。此外，在本實施形態中，塗佈物質R具有被紫外線照射時黏度會增加的性質。更且，塗佈物質R係以因黏度的增加而喪失流動性且成為凝膠狀的方式構成。以下之說明中當提及對象物T之構成時，係適當地參照第2圖。
再次返回第1圖繼續說明塗佈裝置1。塗佈器11係將塗佈物質R供給至塗佈面Ts者。換言之，塗佈器11係作為塗佈裝置1中之塗佈物質供給部而發揮機能。在本實施形態中，塗佈器11係以可將塗佈物質R均勻地塗佈至塗佈平面Tsp的方式構成，並且可使用塗抹器(applicator)、棒塗佈機、模頭塗佈機、狹縫塗佈機等。依據狀況，塗佈器11亦可為噴塗塗佈物質R者。塗佈器11係以可沿著塗佈平面Tsp移動的方式構成，在本實施形態中，以可水平移動的方式構成。
UV照射器15係照射紫外線者，且係作為塗佈裝置1中之增黏處理部而發揮機能。在本實施形態中，UV照射器15具有主要部15f與端部15e。在本實施形態中，主要部15f及端部15e安裝至剖面為ㄈ字狀且一面有開口的長方體狀的箱構件15c。主要部15f係安裝於箱構件15c之內側的底面。端部15e係安裝於從箱構件15c之內側的底面垂直延伸的側面。在使對象物T配置成塗佈平面Tsp會與主要部15f相對向時，主要部15f及端部15e係以端部15e會來與塗佈端面Tsc相對向之位置的配置，安裝至箱構件15c。UV照射器15係以可調節照射的紫外線之強度的方式構成。此外，UV照射器15係構成為能夠以可改變與對象物T之距離的方式移動的方式，在本實施形態中，以可水平移動的方式構成。藉由UV照射器15以能夠水平移動的方式構成，可改變照射至塗佈端面Tsc之紫外線的範圍。又，就改變照射至塗佈端面Tsc之紫外線的範圍的構成而言，可設為將由UV照射器15所得之紫外線的照射範圍利用遮蔽來限定的構成；亦可設為UV照射器15由能夠移動的UV雷射所構成，且僅在指定的位置 照射紫外線的構成；亦可設為使用鏡子控制UV光的構成，來代替「將主要部15f及端部15e安裝至可移動的箱構件15c之構成」。
在將塗佈物質R塗佈至對象物T之際，公轉板21係用於決定對象物T的位置的構件。公轉板21係由板狀的構件所形成。公轉板21具有：以會包含對象物T之背面Tr之大小形成的底部21b、及從底部21b之一端垂直立起的壁部21w。底部21b之隔著自轉板31而放置對象物T之側的面係形成為平面。公轉軸23安裝至壁部21w之與連接至底部21b的端部為相反側的端部。公轉軸23係棒狀的構件，典型而言係與底部21b之面平行，且以在與存在底部21b之側為相反側延伸的方式安裝至壁部21w。公轉軸23可使用實心或中空之圓柱或剖面為多角形的角柱，且以可繞著其軸線之公轉軸線25旋轉的方式構成。使公轉軸23繞著公轉軸線25旋轉的公轉馬達(未示出)係設置在公轉軸23之與連接至壁部21w的端部為相反側的端部。此外，公轉板21係以可在底部21b之面呈水平的狀態與呈垂直的狀態之間移動的方式構成。在本實施形態中，底部21b之面為水平狀態(參照第1圖(A))時，係以公轉板21可繞著虛擬軸線21a轉動的方式構成，前述虛擬軸線21a係在貫穿在公轉軸23之延長線上的壁部21w之部分的同時與公轉軸線25正交並水平延伸者。UV照射器15及公轉板21係配置成：當公轉板21移動成公轉板21之底部21b之面呈垂直狀態(參照第1圖(B))時，底部21b與UV照射器15之主要部15f會相對向的位置關係。
自轉板31係用於使對象物T沿著公轉板21之底部21b之面旋轉的構件。自轉板31係板狀之構件形成為會包含對象物T之背面Tr 的大小而構成。自轉板31係板狀之構件的表面31s及背面31r皆平坦地形成。自轉板31係以背面31r與公轉板21之底部21b之面相對向的方式配置。在自轉板31之表面31s，以在將塗佈物質R塗佈至對象物T之際，會與對象物T之背面Tr相對向的方式放置對象物T。自轉板31係在背面31r安裝有自轉軸33的一端。自轉軸33係棒狀的構件，且係以對自轉板31之背面31r垂直延伸的方式安裝至自轉板31。自轉軸33可使用實心或中空的圓柱或剖面為多角形的角柱，且以可繞著其軸線之自轉軸線35旋轉的方式構成。自轉軸33典型而言係以自轉軸線35(包含將此延長而成的虛擬直線)通過自轉板31的重心以及表面31s及背面31r各自的形心的方式安裝至自轉板31。自轉軸33係貫穿公轉板21而延伸，當設為在公轉板21之貫穿孔之部分中由軸承(未示出)所支撐之構成時，由於構造穩定而為佳。使自轉軸33繞著自轉軸線35旋轉的自轉馬達(未示出)係設置在自轉軸33之與連接至自轉板31的端部為相反側的端部。
控制裝置50係控制塗佈裝置1的動作的機器。控制裝置50係以有線或無線的方式與塗佈器11電性連接，並以可控制塗佈物質R朝向對象物T之供給流量的調節(包含供給停止時的流量0)及塗佈器11對水平方向之移動的方式構成。此外，控制裝置50係以有線或無線的方式與UV照射器15電性連接，並以在可調節從UV照射器15之紫外線照射的有無及照射的紫外線的強度的同時，可控制箱構件15c之移動的方式構成。此外，控制裝置50係以有線或無線的方式與公轉板21電性連接，且以可使公轉板21在底部21b之面呈水平的狀態(參照第1圖(A))與呈垂直的狀態(參照第1圖(B))之間移動的方式構成。此外，控制裝置50係以有線或 無線的方式分別與公轉馬達(未示出)及自轉馬達(未示出)電性連接，且以可個別控制公轉軸23之繞著公轉軸線25的旋轉及自轉軸33之繞著自轉軸線35的旋轉的方式構成。
續而參照第3圖來說明本發明之實施形態之已塗佈塗佈物質的對象物(已塗佈塗佈物質R的對象物T(以下稱為「已塗佈的對象物TR」)的製造方法。第3圖係顯示已塗佈的對象物TR的製造過程的流程圖。以下，雖然說明使用目前為止所說明的塗佈裝置1(參照第1圖)之已塗佈的對象物TR的製造方法，惟亦可使用塗佈裝置1以外的裝置製造。以下的使用塗佈裝置1之已塗佈的對象物TR之製造方法的說明係兼任塗佈裝置1之作用的說明。在以下說明中，提及塗佈裝置1及/或對象物T的構成時，係適當地參照第1圖及/或第2圖。在以下所說明的例子中，係將塗佈物質R均勻地塗佈在塗佈平面Tsp及塗佈端面Tsc整體。
在開始製造已塗佈的對象物TR時，控制裝置50係使公轉板21之底部21b之面呈水平的狀態。在該狀態中，將對象物T放置於呈水平之自轉板31的表面31s(S1)。關於對象物T對自轉板31之放置，可於塗佈裝置1設置機械手(未示出)並使用該機械手而進行，亦可手動進行。在任一情況下，對象物T都是以使對象物T的塗佈面Ts朝上(背面Tr與自轉板31之表面31s接觸)之方式放置於自轉板31之表面31s上，此時，較佳係將對象物T放置於自轉軸線35(包含將此延長而成的虛擬直線)會貫穿對象物T之重心的位置。此外，公轉軸線25(包含將此延長而成的虛擬直線)較佳係平行於塗佈平面Tsp。此外，在本實施形態中，公轉軸線25係成為相對於對象物T遠離到公轉板21之底部21b的相反側並與塗佈平面Tsp 相對向(此時，公轉軸線25比起塗佈端面Tsc在更接近塗佈平面Tsp的位置)、或與塗佈平面Tsp接觸的狀態。
當對象物T已放置於自轉板31時，控制裝置50控制塗佈器11，在使適量的塗佈物質R從塗佈器11吐出的同時，使塗佈器11在塗佈平面Tsp之正上方的位置沿著塗佈平面Tsp從塗佈平面Tsp之一端移動至另一端，藉此將塗佈物質R塗佈至塗佈平面Tsp(塗佈物質供給步驟：S2)。在該態樣中，藉由使用塗佈器11將塗佈物質R塗佈至塗佈平面Tsp，可大致均勻且概括地將塗佈物質R塗佈至塗佈平面Tsp整體。於此，設為「大致均勻」，係考量到當完成塗佈物質R對塗佈平面Tsp的塗佈時，在塗佈開始與塗佈結束之兩端部中會形成有厚度較其他部分增加的液體聚積。該塗佈物質R對塗佈面Ts的塗佈係濕式塗佈之一形態。完成對塗佈平面Tsp之塗佈時之對象物T上的塗佈物質R，典型而言係如第4圖(A)所示，均勻地塗佈至塗佈平面Tsp且液體聚積的部分存在於塗佈端面Tsc(端面部Te)，惟亦可如第4圖(B)所示，包含液體聚積之經塗佈之塗佈物質R整體係納入塗佈平面Tsp內。在本實施形態中，由於藉由塗佈器11難以將塗佈物質R均勻地塗佈於塗佈平面Tsp及塗佈端面Tsc整體，因此在塗佈物質供給步驟(S2)之後採取以下的措施。
當完成塗佈物質R對塗佈平面Tsp的塗佈時，控制裝置50係使塗佈器11退縮到與公轉軸23為相反側之後，使公轉板21以使底部21b之面呈垂直的狀態(參照第1圖(B))的方式移動。當完成該移動時，在與塗佈有塗佈物質R的塗佈平面Tsp相對向之位置存在有UV照射器15之主要部15f。其後，控制裝置50係使繞著公轉軸線25之公轉板21的旋 轉開始(S3)。當公轉板21繞著公轉軸線25旋轉時，被塗佈在塗佈平面Tsp之塗佈物質R之兩端部的液體聚積部分係藉由伴隨繞著公轉軸線25的旋轉而產生的離心力，在塗佈端面Tsc上在遠離塗佈平面Tsp的方向(接近自轉板31的方向)延展。此時，就增加施加在塗佈端面Tsc之塗佈物質R的離心力之觀點而言，公轉軸線25較佳係遠離對象物T，就抑制塗佈裝置1的大型化之觀點而言，公轉軸線25宜為接近對象物T，可藉由比較考量此等情況來設定公轉軸線25與對象物T之距離。塗佈物質R係藉由伴隨繞著公轉軸線25的旋轉而來的離心力而在塗佈端面Tsc上延展，藉此即使在塗佈端面Tsc亦可均勻地塗佈塗佈物質R。又，此時，由於塗佈平面Tsp呈垂直(塗佈平面Tsp之法線呈水平)，因此液狀的塗佈物質R傾向於在下方聚集，而有上方的塗佈端面Tsc與下方的塗佈端面Tsc的厚度相異之情況的同時，由於伴隨繞著公轉軸線25的旋轉而施加在塗佈面Ts上的離心力係因應從公轉軸線25的距離而異，因此導致塗佈物質R之延展狀態有變得不均勻的情況。為了避免該不良情況，在本實施形態中，在控制裝置50使公轉板21繞著公轉軸線25旋轉的途中，適當地使自轉板31繞著自轉軸線35旋轉，在盡可能均勻化重力的影響的同時，使施加在塗佈面Ts上的離心力盡可能均勻。
控制裝置50係在適當的時機從UV照射器15對因繞著公轉軸線25之公轉板21的旋轉而延展的塗佈物質R照射紫外線，而使塗佈物質R的黏度增加(增黏步驟：S4)。於此，適當的時機係被塗佈在塗佈面Ts之塗佈物質R的厚度成為期望的厚度時(在本實施形態中，係成為與均勻地塗佈在塗佈平面Tsp之塗佈物質R的厚度相同的程度時)。塗佈物質R 之經紫外線照射的部分，會因應紫外線的強度及照射時間而逐漸增加黏度，典型而言最終會變成具有彈性的同時喪失流動性的凝膠狀。又，依據看法而定，可能認為喪失流動性的凝膠不符合「黏度」的概念，惟有鑑於下述者，本說明書中，凝膠係解釋為液體黏度增高者之一形態：黏度係指流體黏性的程度；流體係指因應剪應力的大小而連續變形的物體的總稱，且在物體的三態中僅氣體與液體符合，但有時包含電漿及有塑性的固體；以及固體與流體之間的區別雖曖昧，但此等姑且可依黏度的大小而進行劃分。又，依據對已塗佈的對象物TR要求的條件，亦有使塗佈物質R固化直至完全喪失黏性為止的情況，因此在本實施形態中，「使黏度增加」亦包含固化直至喪失黏性為止。藉由從UV照射器15之紫外線的照射而使塗佈物質R之黏度增加的程度若為不會在塗佈物質R發生會改變厚度之流動的程度即足夠。藉由對經塗佈的塗佈物質R照射紫外線以增加塗佈物質R的黏度，可避免經塗佈的塗佈物質R厚度因重力及離心力等而變化，並可形成穩定的厚度之塗佈物質R的膜。使用UV照射器15進行紫外線照射之際，由於藉由公轉板21之繞著公轉軸線25的旋轉而使塗佈平面Tsp之端部附近的塗佈物質R在塗佈端面Tsc上在遠離塗佈平面Tsp的方向逐漸地延展，因此將UV照射器15的端部15e最初設在位於偏離塗佈端面Tsc的位置，且追隨塗佈物質R之延展而移動即可。在本實施形態中，UV照射器15的移動速度係根據以塗佈物質R的特性及公轉板21的旋轉速度等為前提考量而預先要求的塗佈物質R的延展速度來決定。又，在第3圖的流程圖中，為了便於說明，使繞著公轉軸線25之公轉板21的旋轉開始(S3)後，雖進行使用UV照射器15而進行之紫外線的照射(S4)，惟當在使公轉板21 旋轉前藉由塗佈器11的塗佈而塗佈物質R均勻地塗佈至塗佈平面Tsp時，則亦可在公轉板21旋轉前對均勻地塗佈在塗佈平面Tsp上的塗佈物質R照射紫外線以增加黏度。此外，使用UV照射器15照射紫外線而使塗佈物質R的黏度增加之際，可因應塗佈物質R之材質及UV照射器15與對象物T的距離等，而適當調節紫外線的強度及照射時間等。
在使用UV照射器15照射紫外線時，控制裝置50判斷塗佈物質R之延展是否已完成(S5)。在本實施形態中，當對象物T之塗佈平面Tsp整體被均勻厚度的塗佈物質R覆蓋且已完成藉由紫外線照射而進行的增黏時，判斷為已完成延展。在判斷塗佈物質R之延展是否已完成的步驟(S5)中，當未完成延展時，則再次返回判斷塗佈物質R之延展是否已完成之步驟(S5)。另一方面，當完成延展時，控制裝置50係使繞著公轉軸線25之公轉板21的旋轉速度上升(S6)，並增強施加於塗佈端面Tsc的離心力。藉由增強施加於塗佈端面Tsc的離心力，可吹走而除去多餘的塗佈物質R。又，可進行藉由擴張公轉半徑(公轉軸線25與塗佈端面Tsc的距離)而增強離心力來代替使旋轉速度上升，或者可同時進行使旋轉速度上升及藉由擴張公轉半徑(公轉軸線25與塗佈端面Tsc的距離)而增強離心力。當增強施加於塗佈端面Tsc的離心力而除去了多餘的塗佈物質R時，控制裝置50停止繞著公轉軸線25之公轉板21的旋轉(S7)。藉由以上步驟，完成已塗佈的對象物TR的製造。在本實施形態中，第3圖所示之流程圖中，從使繞著公轉軸線25之公轉板21的旋轉開始(S3)起，直至在判斷塗佈物質R之延展是否已完成之步驟(S5)中判斷延展已完成為止，係相當於端面部塗佈物質調整步驟。
如以上所說明者，依據本實施形態之已塗佈的對象物TR的製造方法，則由於對於具有主要的平面部Tf與被倒角的端面部Te的對象物T，藉由塗佈器11將塗佈物質R以均勻的厚度迅速地塗佈在塗佈平面Tsp，且藉由繞著公轉軸線25之公轉板21的旋轉而使塗佈物質R延展並以均勻的厚度塗佈在塗佈端面Tsc，因此在能以較短的時間將塗佈物質R均勻地塗佈在塗佈面Ts整體的同時，可抑制多餘的塗佈物質R之量而可抑制塗佈物質R的廢棄量。此外，由於依序增加均勻地塗佈有塗佈物質R之部分的黏度，因此可抑制呈均勻的塗佈物質R的厚度因伴隨公轉板21的旋轉而來的離心力而變化。
其次參照第5圖，說明第1變形例之已塗佈的對象物TR的製法。在該第1變形例中，於自轉板31與對象物T之間設有輔助具19。輔助具19在具有與對象物T之背面Tr相同形狀的上表面19a、及與上表面19a交叉的連接面19f的同時，具有既定的厚度。當使輔助具19之上表面19a與對象物T之背面Tr相接而將輔助具19安裝至對象物T時，連接面19f係與對象物T的塗佈端面Tsc連續。換言之，當使上表面19a與背面Tr相接而將輔助具19安裝至對象物T時，輔助具19與對象物T整體上成為平滑的輪廓。將安裝至對象物T的輔助具19設置在自轉板31之表面31s時，連接面19f在自轉軸線35延伸的方向的長度係相當於輔助具19的既定厚度。輔助具19的既定厚度較佳係大於當使公轉板21繞著公轉軸線25旋轉且使塗佈物質R延展之際的塗佈物質R之前端之液體聚積的長度，更佳係該液體聚積之長度的1.5倍至2倍左右，亦可大於該液體聚積之長度的2倍。在本變形例中，第3圖所示的流程圖中之將對象物T放置 於自轉板31之表面31s的步驟(S1)之際，如此而構成的輔助具19安裝至對象物T後(輔助具安裝步驟)，將安裝有對象物T的輔助具19放置在自轉板31之表面31s。如此，輔助具安裝步驟係在第3圖所示之流程圖之使繞著公轉軸線25之公轉板21的旋轉開始之步驟(S3)之前進行，在本變形例中更在塗佈物質供給步驟(S2)之前進行。如本變形例，藉由以如上所述方式將輔助具19安裝至對象物T後使公轉板21繞著公轉軸線25旋轉而使塗佈物質R延展，由於因離心力而在塗佈面Ts移動之塗佈物質R的液體聚積從塗佈端面Tsc移動至輔助具19的連接面19f，因此能夠更確實地將塗佈物質R以均勻的厚度塗佈至塗佈端面Tsc整體。又，若在即使不增加塗佈物質R的黏度仍能以期望的厚度塗佈塗佈物質R之情況下，則可省略增黏步驟。
其次參照第6圖，說明第2變形例之已塗佈塗佈物質的對象物的製法。在該第2變形例中所製造者，係成為隔著塗佈物質R使蓋C裝配至對象物T的貼附構件。該貼附構件藉由使用蓋C覆蓋已於塗佈面Ts塗佈有塗佈物質R的對象物T，而於蓋C與塗佈面Ts之間形成既定厚度的塗佈物質R之層。蓋C係覆蓋對象物T之塗佈面Ts的構件，且係相當於覆蓋構件。在本變形例中，蓋C係以可覆蓋塗佈面Ts整體的方式形成為蓋C的內面較塗佈面Ts大。當以高精度加工蓋C時，其內面的輪廓大致上與對象物T之塗佈面Ts的輪廓相似，惟當加工精度低時，其內面的輪廓會有與對象物T之塗佈面Ts的輪廓不相似的情況(尤其係對應於端面部Te之部分的曲率等)。在本變形例中，藉由使用塗佈物質R充填對象物T與蓋C之間，而能夠彌補蓋C的加工誤差。
在第6圖所示之第2變形例之貼附構件的製法中，首先係如第6圖(A)所示，將塗佈物質R供給至對象物T的塗佈面Ts(塗佈物質供給步驟)。此時，在本變形例中，由於沒有使對象物T公轉及/或自轉的預定，因此可無須放置於公轉板21(參照第1圖)及自轉板31(參照第1圖)。在塗佈物質供給步驟中，典型而言藉由塗佈器11使塗佈物質R塗佈在塗佈面Ts，塗佈物質R較佳係均勻地塗佈在塗佈平面Tsp，塗佈物質R可不均勻地塗佈(供給)至塗佈端面Tsc之一部份或全部。於此，所謂的塗佈物質R均勻地塗佈在塗佈平面Tsp，若為均勻地塗佈成在最終成為貼附構件時未妨礙到品質之程度即足以。當已將塗佈物質R塗佈至塗佈面Ts時，如第6圖(B)所示，使用UV照射器15對呈均勻的已塗佈於塗佈平面Tsp之塗佈物質R照射紫外線，以增加塗佈於塗佈平面Tsp之塗佈物質R的黏度(增黏步驟)。此時，可藉由使用遮罩15m等措施，以使未成為期望厚度之供給至塗佈端面Tsc的塗佈物質R不暴露於紫外線。藉此，可避免均勻地塗佈於塗佈平面Tsp部分之塗佈物質R的厚度改變，且可形成穩定厚度之塗佈物質R的膜。其次如第6圖(C)所示，將塗佈物質R已被供給至塗佈面Ts的對象物T及蓋C置入真空室41的內部，在真空下，對塗佈物質R已被供給至塗佈面Ts的對象物T裝配蓋C。真空室41內的真空度為當使蓋C裝配至對象物T時能夠在對象物T與蓋C之間不會產生導致不良影響之氣泡的程度即可。若對塗佈物質R已被供給至塗佈面Ts的對象物T裝配蓋C，則塗佈物質R充填在塗佈面Ts與蓋C之間的間隙，存在於端面部Te的塗佈物質R之中之過剩部分會於裝配蓋C的方向(遠離塗佈平面Tsp的方向)移動並從背面Tr側流出。藉由將蓋C裝配至對象物T，存在於平面 部Tf的塗佈物質R在增黏之際的均勻的厚度受到固定，且存在於端面部Te之塗佈物質R被調整為相當於塗佈端面Tsc與對象物T之間隙的既定厚度。在本變形例中，使用蓋C覆蓋對象物T而將端面部Te之塗佈物質R調整為既定厚度的操作，係相當於端面部塗佈物質調整步驟。既定厚度若為目標厚度即可，未必為一定的厚度。換言之，既定厚度可依據部位(平面部Tf或端面部Te)而厚度有所差異。依據本變形例，即使在蓋C之加工精度不高時，亦可製造具有期望厚度之塗佈物質R之層的貼附構件。又，當即使在真空環境下以外的地方(典型而言在大氣壓下)進行將蓋C裝配至塗佈有塗佈物質R的對象物T，也不會有障礙時，則可無須在真空下進行，在此情況下則無需利用真空室41。
在以上說明中，對象物T在俯視時(平面形狀)係長方形，惟亦可係正方形、三角形或五角形等多角形，亦可係圓形或橢圓形。
在以上說明中，塗佈物質R具有藉由紫外線的照射而黏度增加的特性，且既定的增黏處理係使用UV照射器15對塗佈物質R照射紫外線，惟當塗佈物質R係熱硬化性樹脂(熱感應性樹脂)時，作為既定的增黏處理而(使用加熱器等)加熱塗佈物質R即可。或者，當塗佈物質R具有若加熱則黏度會變小的特性時，在第3圖所示之流程的使繞著公轉軸線25之公轉板21的旋轉速度上升的步驟(S6)中，若加熱未經紫外線照射之部分的塗佈物質R，則易於吹走多餘的塗佈物質R而為適合。
在以上說明中，在已塗佈的對象物TR的製造過程及貼附構件(參照第6圖)的製造過程中，為了避免已塗佈在對象物T的塗佈物質R的厚度改變而進行紫外線照射等既定的增黏處理，惟當即使未進行既定的 增黏處理對於完成品(已塗佈塗佈物質的對象物)也不會有障礙時，則可省略既定的增黏處理(第3圖之流程中的步驟S4)。
在以上說明(除了第6圖所示的態樣)中，雖具備自轉板31，惟當即使未使自轉板31繞著自轉軸線35旋轉，已供給至塗佈面Ts的塗佈物質R亦未產生偏頗時，則可省略自轉板31。
在以上說明(除了第6圖所示的態樣)中，塗佈端面Tsc上之塗佈物質R完成延展時，為了吹走而除去塗佈物質R而使繞著公轉軸線25之公轉板21的旋轉速度上升(S6)，惟當即使不吹走塗佈物質R，也不會有障礙時，則可省略使繞著公轉軸線25之公轉板21的旋轉速度上升的步驟(S6)。
在以上說明中，對象物T整體而言為凸狀，其中對於背面Tr而言塗佈平面Tsp存在於最高的位置；惟亦可為凹狀，其中塗佈平面Tsp形成於凹陷的位置，塗佈端面Tsc係朝向更高於塗佈平面Tsp的位置(遠離背面Tr的位置)而形成於以圍繞塗佈平面Tsp的方式立起之內側壁。此時，公轉軸線25設置於可藉由繞著公轉軸線25之對象物T的旋轉而產生使塗佈物質R在沿著塗佈端面Tsc的方向移動之離心力的位置即可，惟欲使塗佈端面Tsc上的塗佈物質R在遠離塗佈平面Tsp的方向移動時，較佳係相對於塗佈平面Tsp而位於塗佈端面Tsc的相反側，典型而言係設定成：塗佈平面Tsp之附近的位置(接觸塗佈平面Tsp的位置或稍微從塗佈平面Tsp遠離至塗佈端面Tsc側的位置)、塗佈平面Tsp與背面Tr之間的位置、接觸背面Tr的位置、較背面Tr更遠離對象物T的位置中之任一者。又，對象物T係凹狀時，能以使藉由繞著公轉軸線25之對象物T的旋轉而沿著 塗佈端面Tsc移動的塗佈物質R在接近塗佈平面Tsp的方向移動的方式設定公轉軸線25的位置。
在以上說明中，係將本發明之實施形態之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法作為一例而使用各圖進行了說明，惟關於該製造方法及對象物等各部分的構成、構造、數量、配置、形狀、材質等，並未限定於上述具體例，本發明所屬技術領域中具有通常知識者適當選擇而採用者只要包含本發明之要旨，即包含在本發明之範圍內。
將包含本說明書中所引用之刊物、專利申請及專利之所有的文獻，以與將各文獻分別具體地顯示並參照而併入本文中的情形相同，並且以與將其全部內容於此描述的情形相同限度而參照並併入本文中。
與本發明之說明相關聯(尤其與以下請求項相關聯)而使用的名詞及同樣的指示詞的使用，除非在本說明書中特別指稱或明顯地與文脈互相矛盾，否則旨在涵蓋單數及複數兩者。除非另有說明，否則詞語「具備」、「具有」、「含有」及「包含」解釋為開放式連接詞(亦即，意指「包括但不限於……」)。除非本說明書中特別指稱，否則本說明書中之數值範圍的詳述僅旨在用來個別提及落入該範圍內的每個值的摘要，每個值係以本說明書中個別列舉的方式併入說明書中。除非本說明書中特別指稱或明顯地與文脈互相矛盾，否則本說明書中所說明的所有方法均可依任何適合的順序進行。除非特別主張，否則本說明書中使用的任何例或例示性的表現(例如「等」)僅旨在更好地說明本發明，而非旨在對本發明之範圍設限。說明書中的任何表現皆不應被解釋為將請求項所未記載的要素作為本發明之實施上必要者來表示。
在本說明書中，包含本發明者已知的用以實施本發明之最佳形態，並針對本發明之較佳實施形態進行說明。在閱讀上述說明後，此等較佳實施形態的變形就本發明所屬技術領域中具有通常知識者而言，乃屬明瞭者。本發明者期待熟習該項技術者適當地應用此等變形，且預期以本說明書中所具體說明以外的方法來實施本發明。因此，依據專利法所允許般，本發明包含所有本說明書所附上的請求項所記載的內容之修正及均等物。更且，除非本說明書中特別指稱或明顯地與文脈互相矛盾，否則所有變形中之上述要素的任何組合皆包含在本發明中。
1‧‧‧塗佈裝置
11‧‧‧塗佈器
15‧‧‧UV照射器
15c‧‧‧箱構件
15e‧‧‧端部
15f‧‧‧主要部
21‧‧‧公轉板
21a‧‧‧虛軸線
21b‧‧‧底部
21w‧‧‧壁部
23‧‧‧公轉軸
25‧‧‧公轉軸線
31‧‧‧自轉板
31r‧‧‧背面
31s‧‧‧表面
33‧‧‧自轉軸
35‧‧‧自轉軸線
50‧‧‧控制裝置
R‧‧‧塗佈物質
T‧‧‧塗佈對象物
Tf‧‧‧平面部
Te‧‧‧端面部
Tr‧‧‧背面
Ts‧‧‧塗佈面

Claims (5)

  1. 一種已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，係製造已塗佈塗佈物質的對象物，該已塗佈塗佈物質的對象物係於塗佈對象物之塗佈平面及塗佈端面塗佈有塗佈物質者；前述塗佈對象物具有：形成有屬於平坦面之塗佈平面的平面部、以及與前述平面部連續的端面部，前述端面部形成有塗佈端面，前述塗佈端面具有曲面及不平行於前述平面部之前述塗佈平面之平面中的至少一者；前述製造方法具備下述步驟：塗佈物質供給步驟，係至少沿著前述塗佈平面而供給前述塗佈物質；以及端面部塗佈物質調整步驟，係將供給至前述塗佈端面的前述塗佈物質或從前述塗佈平面移動過來的前述塗佈物質，調整成以既定厚度覆蓋前述塗佈端面；其中，前述端面部塗佈物質調整步驟係以藉由使前述塗佈對象物繞著公轉軸線旋轉而使前述塗佈物質延展的方式構成。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，其中，前述公轉軸線係前述塗佈對象物之旋轉的軸線，前述塗佈對象物之旋轉使離心力產生，該離心力伴隨著前述塗佈物質之沿著前述塗佈端面之遠離前述塗佈平面的方向的移動。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，係在前述端面部塗佈物質調整步驟之前，具備將輔助具安裝至塗佈對象物之輔助具安裝步驟，其中，前述輔助具具有當安裝至前述塗佈對 象物時會形成與前述塗佈端面連續之面的連接面，並且前述輔助具係相對於前述塗佈平面在因前述離心力所致之前述塗佈物質之移動之方向的下游側安裝至前述塗佈對象物；前述端面部塗佈物質調整步驟係以藉由繞著前述公轉軸線之前述塗佈對象物的旋轉，而使前述塗佈物質超越前述塗佈端面而延展至到達前述連接面的方式構成。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，其中，前述塗佈物質係由黏度因既定的增黏處理而增加之液狀的物質而構成；前述端面部塗佈物質調整步驟係包含增黏步驟而構成，前述增黏步驟係對已成為前述既定之厚度的前述塗佈物質施予前述既定的增黏處理。
  5. 一種已塗佈塗佈物質的對象物的製造方法，係製造已塗佈塗佈物質的對象物，該已塗佈塗佈物質的對象物係於塗佈對象物之塗佈平面及塗佈端面塗佈有塗佈物質者；前述塗佈對象物具有：形成有屬於平坦面之塗佈平面的平面部、以及與前述平面部連續的端面部，前述端面部形成有塗佈端面，前述塗佈端面具有曲面及不平行於前述平面部之前述塗佈平面之平面中的至少一者；前述製造方法具備下述步驟：塗佈物質供給步驟，係至少沿著前述塗佈平面而供給前述塗佈物質；以及 端面部塗佈物質調整步驟，係將供給至前述塗佈端面的前述塗佈物質或從前述塗佈平面移動過來的前述塗佈物質，調整成以既定厚度覆蓋前述塗佈端面；其中，前述端面部塗佈物質調整步驟係以藉由將覆蓋前述塗佈平面及前述塗佈端面的覆蓋構件裝配至前述塗佈對象物，而將充填在前述塗佈對象物與前述覆蓋構件之間的前述塗佈物質調整成既定厚度的方式構成。
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