TWI633069B

TWI633069B - Substrate turnover transport device

Info

Publication number: TWI633069B
Application number: TW103113732A
Authority: TW
Inventors: 上野勉
Original assignee: 三星鑽石工業股份有限公司
Priority date: 2013-09-09
Filing date: 2014-04-15
Publication date: 2018-08-21
Also published as: JP6280332B2; JP2015051864A; CN104418496B; CN104418496A; KR102217699B1; TW201509841A; KR20150029518A

Abstract

本發明提供一種基板翻轉搬送裝置，其能夠以較短之作業時間高效地使基板翻轉並交接至下一作業平台。該基板翻轉搬送裝置包括：吸附搬送機構2，吸附應翻轉之基板W並交接至翻轉機構3；及翻轉機構3，使自吸附搬送機構2接收到之基板W翻轉並交接至下一步驟之平台4；吸附搬送機構2與翻轉機構3形成為可向相互接近、背離之方向移動，且以如下方式形成，即於吸附搬送機構2與翻轉機構3移動至相互接近之基板交接位置時，進行自吸附搬送機構2向翻轉機構3交接基板W，且於吸附搬送機構2與翻轉機構3相互遠離之位置，進行利用吸附搬送機構2之基板W之吸附動作、與自翻轉機構3向下一步驟之平台4之基板W之交接動作。

Description

基板翻轉搬送裝置

本發明係關於一種於對如玻璃、矽般之脆性材料基板或其他基板加工劃線、或沿著該劃線將基板分斷之基板加工裝置等中，於翻轉並移送基板時使用之基板翻轉搬送裝置。本發明尤其係關於如下之基板翻轉搬送裝置，其包括：吸附搬送機構，其吸附並搬送已於前一步驟進行了加工之基板；及翻轉機構，其使自吸附搬送機構交接之基板翻轉並載置於下一步驟之平台上。

自先前以來，眾所周知之是如下方法，例如於專利文獻1等中有所揭示，即該方法為利用劃線裝置使刀輪(亦稱為劃線輪)相對於載置於平台上之母基板轉動，或者對載置於平台上之母基板掃描激光束而於該母基板形成劃線之後，使母基板翻轉並載置於分斷裝置之平台上，將分斷棒按壓於該劃線之正上方部位而將基板分斷。

又，於將如液晶面板般貼合有2片玻璃基板之母基板分斷之情況下，首先，藉由使刀輪相對於劃線裝置之平台上之母基板轉動，而於基板之一個面(A面)形成劃線。其次，使母基板翻轉之後載置於分斷裝置之平台上，利用分斷棒等按壓該劃線之正上方部位而將基板A面分斷。繼而，於基板之另一個面(B面)形成劃線，使基板翻轉之後，與上述同樣地利用分斷棒等按壓而將基板B面分斷。以如以上般之順序分斷之方法例如於專利文獻2(圖11、圖14)或專利文獻3(圖45)等中有所揭示。

[背景技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]國際公開WO2005/053925號公報

[專利文獻2]日本專利特開2010-076957號公報

[專利文獻3]國際公開WO2002/057192號公報

上述之任一情況均需要用以使基板翻轉之翻轉機構、及用以將基板交接至該翻轉機構之吸附搬送機構。而且，例如，利用劃線裝置劃線，並利用吸附搬送機構之吸附板吸附載置於平台上之基板，將基板搬送並交接至使吸附面朝上並待機之翻轉機構之翻轉板，使該翻轉板翻轉，將經正背翻轉之基板載置於作為下一步驟之分斷裝置之平台上。

又，反之採用如下方法等，即利用翻轉機構之翻轉板吸附載置於劃線裝置之平台上之基板並使之翻轉之後，利用吸附搬送機構之吸附板吸附位於朝上之翻轉機構之翻轉板上之基板，並搬送至分斷裝置之平台。

然而，以往之方法中，吸附搬送機構上下升降而吸附基板之後，移動至翻轉機構並交接基板，其後進行再次返回至原來之基板吸附位置之動作，相對於此，翻轉機構僅使接收到之基板翻轉即可，所以於兩者之所需作業時間產生較大之差異。因此，翻轉機構於使基板翻轉並交接至分斷裝置之平台之後，必須待機至吸附搬送機構將基板搬送來為止，此期間之時間之損失較大。

又，後者之情況亦相同，吸附搬送機構自分斷裝置之平台返回至翻轉機構之後，自翻轉機構接收基板並移動至分斷裝置之平台之動作花費時間。

因此，存在無法進行等待時間較少之順利之作業處理，翻轉並移送之處理整體之工作時間亦變長而作業效率較差之問題點。

因此，本發明鑒於上述之以往之問題，其目的在於提供一種可消除吸附搬送機構與翻轉機構之所需作業時間之不平衡，而以較短之作業時間高效地將基板翻轉並交接至下一作業平台之基板翻轉搬送裝置。

為了達成上述目的，本發明中採用如下技術性方法。即，本發明之基板翻轉搬送裝置之特徵在於包括：吸附搬送機構，其吸附應翻轉之基板並交接至下述翻轉機構；及翻轉機構，其使自該吸附搬送機構接收到之基板翻轉並交接至下一步驟之平台上；且上述吸附搬送機構與上述翻轉機構形成為可向相互接近、背離之方向移動，且以如下方式形成，即於上述吸附搬送機構與上述翻轉機構移動至相互接近之基板交接位置時，進行自上述吸附搬送機構向上述翻轉機構交接基板，且於上述吸附搬送機構與上述翻轉機構相互遠離之位置，進行上述吸附搬送機構之基板吸附動作、與自上述翻轉機構向下一步驟之平台之基板之交接動作。

此處，以上述吸附搬送機構之基板吸附動作與上述翻轉機構之基板翻轉動作同步進行之方式形成即可。

又，較佳為以吸附有上述基板之吸附搬送機構朝向上述翻轉機構移動之動作、與上述翻轉機構朝向吸附搬送機構移動之動作同步進行之方式形成。

本發明如上所述般構成，因此能以大致相同之時間長度設定吸附搬送機構之動作時間與翻轉機構之動作時間，由此，可消除兩者之所需動作時間之不平衡而縮短作業時間。

1‧‧‧搬送體

1a、4a‧‧‧傳送帶

2‧‧‧吸附搬送機構

3‧‧‧翻轉機構

4‧‧‧下一步驟之平台

5‧‧‧機器框架

6‧‧‧軌道

7‧‧‧第一移行體

8‧‧‧導件

9‧‧‧支持部件

10‧‧‧氣缸

11‧‧‧吸附板

12、14、18‧‧‧驅動部

13‧‧‧第二移行體

15‧‧‧旋轉軸

16‧‧‧臂

17‧‧‧翻轉板

17a‧‧‧空氣吸引孔

A‧‧‧基板翻轉搬送裝置

W、W'‧‧‧基板

X、Y‧‧‧方向

Z‧‧‧基板交接位置

圖1是表示本發明之基板翻轉搬送裝置之概略構成之立體圖。

圖2(a)-(e)是表示圖1所示之基板翻轉搬送裝置之作業順序之說明圖。

圖3(a)-(d)是表示圖2之作業順序之後續之說明圖。

以下，根據表示實施例之圖式來說明本發明之基板翻轉搬送裝置之詳細內容。

如圖1所示，本實施例所示之基板翻轉搬送裝置A包括：搬送體1，其載置並搬送應翻轉之基板W；吸附搬送機構2，其吸附並抬升搬送而來之基板W，且交接至下述翻轉機構3；及翻轉機構3，其使自該吸附搬送機構2接收到之基板W翻轉並交接至下一步驟之平台4。

於利用搬送體1搬送而來之基板W，例如藉由劃線裝置(未圖示)於上表面形成有多條分斷用之劃線。再者，搬送體1亦可作為劃線裝置之可動平台來代替圖1所示之傳送帶1a。又，接收已藉由翻轉機構3翻轉之基板W之下一步驟之平台4於本實施例中使用傳送帶4a，該傳送帶4a將基板W搬送至沿著劃線而分斷基板W之分斷裝置(未圖示)，但關於此，搬送體1亦可作為分斷裝置之可動平台來代替傳送帶4a。

再者，為方便說明，圖1中，將吸附搬送機構2與翻轉機構3相對性地移動之方向設為X方向，將與X方向正交之方向設為Y方向。

上述之吸附搬送機構2具備第一移行體7，該第一移行體7於基板翻轉搬送裝置A之機器框架5之上表面，可沿著左右之軌道6、6而移動地設置，上述左右之軌道6、6沿著X方向延伸。第一移行體7具備沿著Y方向延伸之導件8，且設置有可沿著導件8移動之支持部件9，於支持部件9安裝有藉由氣缸10升降之水平之吸附板11。

於吸附板11之下表面設置有多個空氣吸引孔，雖然省略圖示，但經由配管而連接於真空泵等空氣吸引源。又，第一移行體7由內置有馬達之驅動部12驅動。

翻轉機構3具備可沿著軌道6、6移動地設置之第二移行體13，且由內置有馬達之驅動部14驅動。

於第二移行體13設置有沿著Y方向延伸之旋轉軸15，於旋轉軸15上經由臂16、16而安裝有翻轉板17。藉由該旋轉軸15之旋動，翻轉板17以可自朝向吸附搬送機構2側之水平姿勢(參照圖1及圖2(a))向翻轉至平台4側之姿勢(參照圖2(b))、及其相反方向翻轉旋動之方式形成。

翻轉板17於朝向吸附搬送機構2側之水平姿勢下，於其上表面設置有多個空氣吸引孔17a，雖然圖示省略，但經由配管而連接於真空泵等空氣吸引源。又，旋轉軸15由內置有馬達之驅動部18驅動。

藉由上述構成，吸附搬送機構2與翻轉機構3可向相互接近、或遠離之方向移動。而且，吸附搬送機構2與翻轉機構3於移動至相互接近之位置，即基板交接位置時進行基板W之交接，且於相互遠離之位置，同步進行利用吸附搬送機構2之基板W之吸附動作與利用翻轉機構3之基板W之翻轉動作。

以下，基於圖2及圖3說明該動作。

圖2(a)表示吸附搬送機構2與翻轉機構3處於最遠離之位置之狀態。此時，基板W由搬送體1搬送至吸附搬送機構2之下方並待機。又，於翻轉機構3之翻轉板17之上表面尚未載置基板W。

於該位置，如圖2(b)所示，同步進行吸附搬送機構2之吸附板11之下降與翻轉機構3之翻轉板17之翻轉動作，且由吸附板11吸附有基板W。

再者，以下，將吸附搬送機構2吸附搬送體1上之基板W之位置稱為「基板吸附位置」，將翻轉機構3之翻轉板17翻轉之位置稱為「基板翻轉位置」，且將「基板吸附位置」與「基板翻轉位置」之中間地點稱為「基板交接位置」。

接下來，如圖2(c)所示，與吸附有基板W之吸附搬送機構2之吸附板11上升之同時，翻轉機構3之翻轉板17恢復至使吸引孔17a朝上之姿勢。繼而，如圖2(c)及圖2(d)所示，吸附搬送機構2及翻轉機構3朝向相互接近之方向開始移動，且移動至基板交接位置Z為止。於該基板交接位置，如圖2(e)所示，將基板W自吸附搬送機構2之吸附板11交接至翻轉機構3之翻轉板17。

其次，如圖3(a)所示，吸附搬送機構2及翻轉機構3向相互背離之方向開始移動，如圖3(b)所示，吸附搬送機構2移動至基板吸附位置，翻轉機構3移動至翻轉位置。此時，由搬送體1將下一個基板W'搬送至吸附搬送機構2之下方並待機。

然後，如圖3(c)所示，吸附搬送機構2之吸附板11下降並吸附基板W'，並且同步地，翻轉機構3之翻轉板17翻轉並將前一個基板W交接至平台4。此後，如圖3(d)之箭頭所示，吸附搬送機構2及翻轉機構3朝向相互接近之基板交接位置開始移動，於基板交接位置將基板W'自吸附搬送機構2交接至翻轉機構3。藉由重複上述動作，由搬送體1搬送之基板依序被翻轉並交接至下一平台4。

再者，上述吸附搬送機構2及翻轉機構3之動作是藉由對各個機構之各驅動部進行電腦控制而進行。

如上所述以如下方式形成，即於吸附搬送機構2與翻轉機構3移動至相互接近之位置時，進行基板W之交接，並且吸附搬送機構2與翻轉機構3於相互遠離之位置，進行利用吸附搬送機構2之基板W之吸附動作與翻轉機構3之翻轉動作，因此，能以大致相同之時間長度設定吸附搬送機構2之動作時間與翻轉機構3之動作時間。由此，可消除兩者之所需動作時間之不平衡，從而可縮短整體上之作業時間。

以上，對本發明之代表性之實施例進行了說明，但本發明並非必須限定於上述之實施形態。例如，於上述實施例中，第一移行體7與第二移行體13沿著共用之軌道6移行，但亦能以設置各者專用之軌道而供各者移行之方式形成。又，於本發明中，可於達成其目的、且不脫離權利要求之範圍內適當地進行修正、變更。

[產業上之可利用性]

本發明用於在基板上形成劃線並沿著該劃線分斷之基板翻轉搬送裝置。

Claims

一種基板翻轉搬送裝置，其特徵在於包括：吸附搬送機構，其吸附應翻轉之基板並交接至下述翻轉機構；及翻轉機構，其藉由使自該吸附搬送機構接收到之基板進行翻轉而將之交接至下一步驟之平台上；且上述吸附搬送機構與上述翻轉機構形成為可於相互接近、背離之方向移動，且以如下方式形成：使吸附有上述基板之上述吸附搬送機構朝向上述翻轉機構移動之動作和上述翻轉機構朝向上述吸附搬送機構移動之動作同步進行，並使將上述基板交接至上述翻轉機構之上述吸附搬送機構自上述翻轉機構離開之動作和自上述吸附搬送機構接收上述基板之上述翻轉機構自上述吸附搬送機構離開之動作同步進行，且於上述吸附搬送機構與上述翻轉機構移動至相互接近之基板交接位置時，進行自上述吸附搬送機構向上述翻轉機構交接基板，於上述吸附搬送機構與上述翻轉機構相互遠離之位置，進行利用上述吸附搬送機構之基板之吸附動作、與自上述翻轉機構向下一步驟之平台之基板之交接動作，且以上述吸附搬送機構之基板吸附動作和上述翻轉機構之基板翻轉動作同步進行，且，上述吸附搬送機構之基板吸附動作後之上升動作和上述翻轉機構之基板翻轉動作後之恢復動作同步進行之方式形成。