JPH0590405A - ウエハの接着装置 - Google Patents
ウエハの接着装置Info
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- JPH0590405A JPH0590405A JP27466191A JP27466191A JPH0590405A JP H0590405 A JPH0590405 A JP H0590405A JP 27466191 A JP27466191 A JP 27466191A JP 27466191 A JP27466191 A JP 27466191A JP H0590405 A JPH0590405 A JP H0590405A
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- silicon wafer
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- adhesive
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は高精度にシリコンウエハをキャリア
プレートに接着することができるウエハの接着装置を提
供することを目的とする。 【構成】 シリコンウエハを回転させつつ接着面にワッ
クス等の接着剤を滴下して接着剤を塗布する塗布手段1
6と、シリコンウエハの接着面に塗布された接着剤を加
熱する加熱手段18と、シリコンウエハを接着するキャ
リアプレート30を載置して加熱するヒータ装置222
と、ヒータ装置222に載置されたキャリアプレート3
0にシリコンウエハを載置する搬送手段とを具備し、シ
リコンウエハの中心が移動する移動軌跡Lが一直線とな
るように各手段を配置した。
プレートに接着することができるウエハの接着装置を提
供することを目的とする。 【構成】 シリコンウエハを回転させつつ接着面にワッ
クス等の接着剤を滴下して接着剤を塗布する塗布手段1
6と、シリコンウエハの接着面に塗布された接着剤を加
熱する加熱手段18と、シリコンウエハを接着するキャ
リアプレート30を載置して加熱するヒータ装置222
と、ヒータ装置222に載置されたキャリアプレート3
0にシリコンウエハを載置する搬送手段とを具備し、シ
リコンウエハの中心が移動する移動軌跡Lが一直線とな
るように各手段を配置した。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハの接着装置に関
する。
する。
【0002】
【従来の技術】一般に、シリコンウエハ(ウエハ)の表
面を鏡面仕上げする際には、ワックスを用いてウエハを
キャリアプレートに接着し、このキャリアプレートをポ
リシング装置に供給してウエハの表面を鏡面加工をして
いる。特に、ウエハのキャリアプレートへの接着状態
が、ウエハの鏡面加工の品質に大きな影響を及ぼす。こ
のため、ウエハをキャリアプレートに貼り付ける作業
は、作業者により特に注意を要する作業である。作業と
しては、キャリアプレートにワックスを塗り、ウエハを
手作業により貼り付けるものである。
面を鏡面仕上げする際には、ワックスを用いてウエハを
キャリアプレートに接着し、このキャリアプレートをポ
リシング装置に供給してウエハの表面を鏡面加工をして
いる。特に、ウエハのキャリアプレートへの接着状態
が、ウエハの鏡面加工の品質に大きな影響を及ぼす。こ
のため、ウエハをキャリアプレートに貼り付ける作業
は、作業者により特に注意を要する作業である。作業と
しては、キャリアプレートにワックスを塗り、ウエハを
手作業により貼り付けるものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、手作業では、
ワックス中に気泡や異物が混入することもあり、ウエハ
をキャリアプレートに平坦に貼り付けるには熟練した技
術が必要となり、また多くの作業時間を要する。また、
ワックス塗布等の一連の作業を部分的に機械化した装置
は存在しているが、一連の工程を自動化したものは存在
していない。そこで、本発明は高精度にシリコンウエハ
をキャリアプレートに接着することができるウエハの接
着装置を提供することを目的とする。
ワックス中に気泡や異物が混入することもあり、ウエハ
をキャリアプレートに平坦に貼り付けるには熟練した技
術が必要となり、また多くの作業時間を要する。また、
ワックス塗布等の一連の作業を部分的に機械化した装置
は存在しているが、一連の工程を自動化したものは存在
していない。そこで、本発明は高精度にシリコンウエハ
をキャリアプレートに接着することができるウエハの接
着装置を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、シリコンウ
エハを回転させつつ接着面にワックス等の接着剤を滴下
して接着剤を塗布する塗布手段と、シリコンウエハの接
着面に塗布された接着剤を加熱する加熱手段と、シリコ
ンウエハを接着するキャリアプレートを載置し、加熱す
るヒータ装置と、ヒータ装置に載置されたキャリアプレ
ートにシリコンウエハを載置する搬送手段とを具備し、
シリコンウエハの中心が移動する移動軌跡が一直線とな
るように各手段を配置したことを特徴とする。また、シ
リコンウエハを回転させつつ接着面にワックス等の接着
剤を滴下して接着剤を塗布する塗布手段の直前に、シリ
コンウエハの中心を前記直線的移動軌跡上に一致させる
センタリング装置を設けてもよい。また、ヒータ装置に
載置されたキャリアプレートにシリコンウエハを載置す
る搬送手段で搬送する直前に、シリコンウエハの中心を
前記直線的移動軌跡上に一致させるセンタリング装置
と、シリコンウエハのオリフラ位置を検出する検出手段
を設けてもよい。さらに、ウエハが収納されたカセット
からシリコンウエハを取り出して、このシリコンウエハ
をセンタリング装置に送るウエハ供給部を設け、このウ
エハ供給装置がシリコンウエハの中心が移動する移動軌
跡上にあり、かつウエハ供給装置を中心とする円弧上に
シリコンウエハが収納されたカセットを配置してもよ
い。
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、シリコンウ
エハを回転させつつ接着面にワックス等の接着剤を滴下
して接着剤を塗布する塗布手段と、シリコンウエハの接
着面に塗布された接着剤を加熱する加熱手段と、シリコ
ンウエハを接着するキャリアプレートを載置し、加熱す
るヒータ装置と、ヒータ装置に載置されたキャリアプレ
ートにシリコンウエハを載置する搬送手段とを具備し、
シリコンウエハの中心が移動する移動軌跡が一直線とな
るように各手段を配置したことを特徴とする。また、シ
リコンウエハを回転させつつ接着面にワックス等の接着
剤を滴下して接着剤を塗布する塗布手段の直前に、シリ
コンウエハの中心を前記直線的移動軌跡上に一致させる
センタリング装置を設けてもよい。また、ヒータ装置に
載置されたキャリアプレートにシリコンウエハを載置す
る搬送手段で搬送する直前に、シリコンウエハの中心を
前記直線的移動軌跡上に一致させるセンタリング装置
と、シリコンウエハのオリフラ位置を検出する検出手段
を設けてもよい。さらに、ウエハが収納されたカセット
からシリコンウエハを取り出して、このシリコンウエハ
をセンタリング装置に送るウエハ供給部を設け、このウ
エハ供給装置がシリコンウエハの中心が移動する移動軌
跡上にあり、かつウエハ供給装置を中心とする円弧上に
シリコンウエハが収納されたカセットを配置してもよ
い。
【0005】
【作用】作用について説明する。塗布手段によりシリコ
ンウエハを回転させつつ接着面にワックス等の接着剤を
塗布し、その後加熱手段によりシリコンウエハの接着面
に塗布された接着剤を加熱し、ヒータ装置上に載置した
キャリアプレート上にシリコンウエハを貼る付ける。ま
た、塗布手段の直前に設けたセンタリング装置により、
シリコンウエハの中心を前記直線的移動軌跡上に一致さ
せるようにする。また、キャリアプレートにシリコンウ
エハを貼り付ける直前に、オリフラ位置を検出して、キ
ャリアプレートに貼り付ける。
ンウエハを回転させつつ接着面にワックス等の接着剤を
塗布し、その後加熱手段によりシリコンウエハの接着面
に塗布された接着剤を加熱し、ヒータ装置上に載置した
キャリアプレート上にシリコンウエハを貼る付ける。ま
た、塗布手段の直前に設けたセンタリング装置により、
シリコンウエハの中心を前記直線的移動軌跡上に一致さ
せるようにする。また、キャリアプレートにシリコンウ
エハを貼り付ける直前に、オリフラ位置を検出して、キ
ャリアプレートに貼り付ける。
【0006】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例について添付図
面に基づいて詳細に説明する。図1はシリコンウエハの
接着装置の概略的な平面図を示している。本発明に係る
接着装置10は、ウエハの供給部12、第1センタリン
グ部14、ワックスの塗布手段としてのスピンナー部1
6、ベーキング部18、第2センタリング部20、キャ
リアプレートへウエハを供給する供給装置21、キャリ
アプレートへのウエハの接着部22、接着部22へキャ
リアプレートを供給する供給機構23、キャリアプレー
トの排出部24およびキャリアプレートをカセットへ収
納する収容部26とから構成されている。なお、各工程
を順次移動するウエハの中心が仮想直線上を移動する。
この仮想直線を移動ラインL(移動軌跡ともいう)とい
う。
面に基づいて詳細に説明する。図1はシリコンウエハの
接着装置の概略的な平面図を示している。本発明に係る
接着装置10は、ウエハの供給部12、第1センタリン
グ部14、ワックスの塗布手段としてのスピンナー部1
6、ベーキング部18、第2センタリング部20、キャ
リアプレートへウエハを供給する供給装置21、キャリ
アプレートへのウエハの接着部22、接着部22へキャ
リアプレートを供給する供給機構23、キャリアプレー
トの排出部24およびキャリアプレートをカセットへ収
納する収容部26とから構成されている。なお、各工程
を順次移動するウエハの中心が仮想直線上を移動する。
この仮想直線を移動ラインL(移動軌跡ともいう)とい
う。
【0007】ウエハの供給部12について説明する。昇
降シリンダ122のシリンダロッド122aの先端に、
受取用アーム124が設けられている。この受取アーム
124は、シリンダロッド122aの先端に固定された
基部124aと、この基部124aにガイドされ進退可
能なアーム124bとから構成されている。昇降シリン
ダ122の周囲には、シリコンウエハが収納されたカー
トリッジ126が昇降シリンダ122の軸線を中心とし
て描いた仮想半円上に配置されている。カートリッジ1
26は、載置台128上に、開放側が内側を向くように
配置されている。カートリッジ126は、仕切り板12
7により棚状に複数段に区画され、各仕切り板127・
・・上にウエハが収納されている。また、カートリッジ
126の開放側から対向する仕切り板127、127の
間隔127a内に受取アーム124のアーム124bの
先端が前進し、ウエハを受け取る。ウエハを受け取った
アーム124bは、収縮位置まで後退し、続いて受取用
アーム124がシリンダロッド122aを中心に移動ラ
インLと一致する位置まで回転し、受取用アーム124
のアーム124aを次の工程の第1センタリング部14
方向に延ばしてウエハを供給する。
降シリンダ122のシリンダロッド122aの先端に、
受取用アーム124が設けられている。この受取アーム
124は、シリンダロッド122aの先端に固定された
基部124aと、この基部124aにガイドされ進退可
能なアーム124bとから構成されている。昇降シリン
ダ122の周囲には、シリコンウエハが収納されたカー
トリッジ126が昇降シリンダ122の軸線を中心とし
て描いた仮想半円上に配置されている。カートリッジ1
26は、載置台128上に、開放側が内側を向くように
配置されている。カートリッジ126は、仕切り板12
7により棚状に複数段に区画され、各仕切り板127・
・・上にウエハが収納されている。また、カートリッジ
126の開放側から対向する仕切り板127、127の
間隔127a内に受取アーム124のアーム124bの
先端が前進し、ウエハを受け取る。ウエハを受け取った
アーム124bは、収縮位置まで後退し、続いて受取用
アーム124がシリンダロッド122aを中心に移動ラ
インLと一致する位置まで回転し、受取用アーム124
のアーム124aを次の工程の第1センタリング部14
方向に延ばしてウエハを供給する。
【0008】第1センタリング部14は、接着装置10
のウエハの供給方向(移動ラインL)と平行に一対のセ
ンタリング板142、142が離間して配置されてい
る。このセンタリング板142、142上面には、両セ
ンタリング板142、142に跨いでウエハを載置する
ことができるように、凹所142a、142aが形成さ
れている。この凹所142a、142aの境界部分には
円弧状の段差142b、142bが形成されている。セ
ンタリング板142、142の後端には、移動ラインL
と交差するようにラックロッド144、144が延出し
ている。このラックロッド144、144は間隔を有し
て離間しており、対向する側面にラック144a、14
4aが刻設され、互いに移動ラインL上の1つの歯車1
45に歯合している。このため、歯車145の回転によ
り、ラックロッド144、144を介してセンタリング
板142、142が接離する。歯車145は駆動モータ
146により正逆回転するものである。前記凹所142
a、142aにウエハを載せ、センタリング板142、
142を近づけることによりウエハが保持されると、ウ
エハの中心が移動ラインLと一致するように設定されて
いる。このウエハの中心と軸線が一致する昇降ユニット
148が配置されている。この昇降ユニット148の昇
降する昇降ロッド148aの先端には、吸着ヘッド14
9が設けられている。この吸着ヘッド149は、センタ
リング板142、142で保持されてセンターリングし
たウエハを吸着して上昇させるものである。吸着ヘッド
149で吸着して上昇したウエハは、搬送機構150に
より次の工程に送られる。
のウエハの供給方向(移動ラインL)と平行に一対のセ
ンタリング板142、142が離間して配置されてい
る。このセンタリング板142、142上面には、両セ
ンタリング板142、142に跨いでウエハを載置する
ことができるように、凹所142a、142aが形成さ
れている。この凹所142a、142aの境界部分には
円弧状の段差142b、142bが形成されている。セ
ンタリング板142、142の後端には、移動ラインL
と交差するようにラックロッド144、144が延出し
ている。このラックロッド144、144は間隔を有し
て離間しており、対向する側面にラック144a、14
4aが刻設され、互いに移動ラインL上の1つの歯車1
45に歯合している。このため、歯車145の回転によ
り、ラックロッド144、144を介してセンタリング
板142、142が接離する。歯車145は駆動モータ
146により正逆回転するものである。前記凹所142
a、142aにウエハを載せ、センタリング板142、
142を近づけることによりウエハが保持されると、ウ
エハの中心が移動ラインLと一致するように設定されて
いる。このウエハの中心と軸線が一致する昇降ユニット
148が配置されている。この昇降ユニット148の昇
降する昇降ロッド148aの先端には、吸着ヘッド14
9が設けられている。この吸着ヘッド149は、センタ
リング板142、142で保持されてセンターリングし
たウエハを吸着して上昇させるものである。吸着ヘッド
149で吸着して上昇したウエハは、搬送機構150に
より次の工程に送られる。
【0009】次に、搬送機構150について説明する。
搬送機構150は、ウエハを、第1センタリング部14
からスピンナー部16へ、スピンナー部16からベーキ
ング部18へ同時に搬送するものである。第1センタリ
ング部14、スピンナー部16、スピンナー部16の各
部でのウエハの中心が等間隔Mになるように各部が配置
されている。前記移動ラインLと平行に配置された2本
のガイドシャフト151aに移動ベース152が移動可
能に設けられ、シリンダ153により移動可能である。
移動ベース152上には、ガイドシャフト151aと直
交するガイドシャフト154a、154aが設けられ、
このガイドシャフト154a、154aに沿ってスライ
ドする搬送アーム146が設けられている。この搬送ア
ーム146は、ガイドシャフト154a、154aの間
に位置するシリンダ158により移動可能である。搬送
アーム146は平面コ字状に形成され、各先端には受渡
し部147、147が設けられ、この受渡し部147、
147の中心の間隔は間隔Mに形成され、この受渡し部
147、147には切欠き147aが形成されている。
搬送機構150は、ウエハを、第1センタリング部14
からスピンナー部16へ、スピンナー部16からベーキ
ング部18へ同時に搬送するものである。第1センタリ
ング部14、スピンナー部16、スピンナー部16の各
部でのウエハの中心が等間隔Mになるように各部が配置
されている。前記移動ラインLと平行に配置された2本
のガイドシャフト151aに移動ベース152が移動可
能に設けられ、シリンダ153により移動可能である。
移動ベース152上には、ガイドシャフト151aと直
交するガイドシャフト154a、154aが設けられ、
このガイドシャフト154a、154aに沿ってスライ
ドする搬送アーム146が設けられている。この搬送ア
ーム146は、ガイドシャフト154a、154aの間
に位置するシリンダ158により移動可能である。搬送
アーム146は平面コ字状に形成され、各先端には受渡
し部147、147が設けられ、この受渡し部147、
147の中心の間隔は間隔Mに形成され、この受渡し部
147、147には切欠き147aが形成されている。
【0010】上述するように構成された搬送機構150
の動作について、第1センタリング部14からスピンナ
ー部16へのウエハの搬送状態を例に説明する。昇降ユ
ニット148の吸着ヘッド149に吸着した状態で、吸
着ヘッド149上昇させる。この状態で、シリンダ15
3により2本のガイドシャフト151aに沿って移動ベ
ース152を搬送待機位置に移動する(図5に示す位
置)。なお、スピンナー部16においてワックスを塗布
したウエハは、吸着ヘッド149で吸着しているウエハ
と同一高さまで上昇させておく。この状態で、搬送アー
ム146を、ガイドシャフト154a、154aに沿っ
てシリンダ158によりウエハ方向(移動ラインL方
向)に移動される。そして、搬送アーム146先端の受
渡し部147の切欠き147a内に、吸着ヘッド149
が位置するまで移動させる。続いて、吸着ヘッド149
を降下させることにより、搬送アーム146の受渡し部
147上に載置される。同様に、スピンナー部16にお
いても、スピンナー部16においてワックスを塗布した
ウエハが搬送アーム146の受渡し部147上に載置さ
れる。続いて、搬送アーム146を後退させて搬送待機
位置まで移動させる。続いて、移動ベース152をガイ
ドシャフト151a、151aに沿って移動ラインLと
平行に搬送方向に移動する(搬送位置)。そして、搬送
アーム146をガイドシャフト154a、154aに沿
って移動ラインL上にウエハを移動して、第1センタリ
ング部14からスピンナー部16へ、スピンナー部16
からベーキング部18へ同時にウエハを搬送して受け渡
す。
の動作について、第1センタリング部14からスピンナ
ー部16へのウエハの搬送状態を例に説明する。昇降ユ
ニット148の吸着ヘッド149に吸着した状態で、吸
着ヘッド149上昇させる。この状態で、シリンダ15
3により2本のガイドシャフト151aに沿って移動ベ
ース152を搬送待機位置に移動する(図5に示す位
置)。なお、スピンナー部16においてワックスを塗布
したウエハは、吸着ヘッド149で吸着しているウエハ
と同一高さまで上昇させておく。この状態で、搬送アー
ム146を、ガイドシャフト154a、154aに沿っ
てシリンダ158によりウエハ方向(移動ラインL方
向)に移動される。そして、搬送アーム146先端の受
渡し部147の切欠き147a内に、吸着ヘッド149
が位置するまで移動させる。続いて、吸着ヘッド149
を降下させることにより、搬送アーム146の受渡し部
147上に載置される。同様に、スピンナー部16にお
いても、スピンナー部16においてワックスを塗布した
ウエハが搬送アーム146の受渡し部147上に載置さ
れる。続いて、搬送アーム146を後退させて搬送待機
位置まで移動させる。続いて、移動ベース152をガイ
ドシャフト151a、151aに沿って移動ラインLと
平行に搬送方向に移動する(搬送位置)。そして、搬送
アーム146をガイドシャフト154a、154aに沿
って移動ラインL上にウエハを移動して、第1センタリ
ング部14からスピンナー部16へ、スピンナー部16
からベーキング部18へ同時にウエハを搬送して受け渡
す。
【0011】スピンナー部16について、図7を参照し
て説明する。円盤状の可動プレート161の中心に下方
側からモータ162が固定されている。このモータ16
2の回転軸162aの先端は、可動プレート161の上
方に延出し、吸着ヘッド163が固定されている。可動
プレート161の下面にはモータ162を囲むように支
柱165・・・が垂下し、この支柱165・・・の下端
に底板165aが設けられている。さらに、支柱165
・・・および底板165aを囲むように固定フレーム1
66が機台167に固定されている。固定フレーム16
6の底板166aには可動シリンダ168が固定され、
可動シリンダ168のロッド168aの先端は底板16
5aに固定されている。なお、モータ162に連繋し
て、吸着ヘッド163を上下動するシリンダ162Aが
設けられている。前記吸着ヘッド163が降下した位置
(スピンナー位置、図7の状態)で、吸着ヘッド163
の周囲および上方がカバー164により覆われている。
カバー164の上面板164aには円形の透孔164b
が穿設されており、この透孔164bを通過してウエハ
を上昇することができる。また、可動プレート161の
上面を覆うようにカバー161aが設けられ、共に上下
動する。吸着ヘッド163のスピンナー位置で、ウエハ
には上方からワックスを滴下しつつウエハを回転させて
ワックスを塗布する。その後、シリンダ162Aを駆動
して吸着ヘッド163を上昇して(搬出入位置)、前記
搬送機構150により次の工程のベーキング部18にウ
エハが搬送される。
て説明する。円盤状の可動プレート161の中心に下方
側からモータ162が固定されている。このモータ16
2の回転軸162aの先端は、可動プレート161の上
方に延出し、吸着ヘッド163が固定されている。可動
プレート161の下面にはモータ162を囲むように支
柱165・・・が垂下し、この支柱165・・・の下端
に底板165aが設けられている。さらに、支柱165
・・・および底板165aを囲むように固定フレーム1
66が機台167に固定されている。固定フレーム16
6の底板166aには可動シリンダ168が固定され、
可動シリンダ168のロッド168aの先端は底板16
5aに固定されている。なお、モータ162に連繋し
て、吸着ヘッド163を上下動するシリンダ162Aが
設けられている。前記吸着ヘッド163が降下した位置
(スピンナー位置、図7の状態)で、吸着ヘッド163
の周囲および上方がカバー164により覆われている。
カバー164の上面板164aには円形の透孔164b
が穿設されており、この透孔164bを通過してウエハ
を上昇することができる。また、可動プレート161の
上面を覆うようにカバー161aが設けられ、共に上下
動する。吸着ヘッド163のスピンナー位置で、ウエハ
には上方からワックスを滴下しつつウエハを回転させて
ワックスを塗布する。その後、シリンダ162Aを駆動
して吸着ヘッド163を上昇して(搬出入位置)、前記
搬送機構150により次の工程のベーキング部18にウ
エハが搬送される。
【0012】ベーキング部18は、図1に示すように、
前記搬送機構150により送られたウエハを吸着する吸
着盤を有する移動体182で保持して赤外線ランプの直
下を移動することにより加熱し、ウエハの付着物を除去
する。移動体182はスライドロッド183に沿って移
動可能であり、ウエハを加熱した後、排出位置184ま
で搬送する。この排出位置184から、ウエハを搬送機
構190により第2センタリング部20に搬送する。搬
送機構190は、前記搬送機構150と同様の構成であ
り、排出位置184のウエハを第2センタリング部20
に、第2センタリング部20のウエハを次の工程の待機
位置196に搬送する。
前記搬送機構150により送られたウエハを吸着する吸
着盤を有する移動体182で保持して赤外線ランプの直
下を移動することにより加熱し、ウエハの付着物を除去
する。移動体182はスライドロッド183に沿って移
動可能であり、ウエハを加熱した後、排出位置184ま
で搬送する。この排出位置184から、ウエハを搬送機
構190により第2センタリング部20に搬送する。搬
送機構190は、前記搬送機構150と同様の構成であ
り、排出位置184のウエハを第2センタリング部20
に、第2センタリング部20のウエハを次の工程の待機
位置196に搬送する。
【0013】第2センタリング部20は、前記第1セン
タリング部14のセンタリング板142、142と同一
構造の一対のセンタリング板142、142が離間して
配置されている。また、前記センタリング板142、1
42によりウエハが保持された際に、ウエハの中心と、
軸線が一致する昇降ロッド203が設けられている(図
9参照)。この昇降ロッド203は、ガイド筒203a
とこのガイド筒203a内で回動する回動軸203bと
から成り、ガイド筒203aが第2センタリング部20
の固定ベース204の軸受け204aに支持されてい
る。昇降ロード203の回動軸203b後端は可動プレ
ート205に軸支されるとともに、回動軸203bを回
動するモータ206Aが連結されている。また、可動プ
レート205にシリンダ206Bが固定され、このシリ
ンダ206Bのシリンダロッド206aが固定ベース2
04に固定されている。このため、シリンダ206Bを
駆動すると、固定ベース204に可動プレート205が
接離し、昇降ロード203を昇降できる。回動軸203
bの先端には、吸着ヘッド207が設けられ、この吸着
ヘッド207はセンタリング板202、202で保持さ
れてセンターリングしたウエハを吸着して上昇し、さら
にモータ206Aによりウエハを回転させることができ
る。なお、ウエハのオリフラ部を検出する検出手段とし
てのセンサ208が、ウエハの送り方向のオリフラ部の
下方に対応する位置に配置されている(図8参照)。
タリング部14のセンタリング板142、142と同一
構造の一対のセンタリング板142、142が離間して
配置されている。また、前記センタリング板142、1
42によりウエハが保持された際に、ウエハの中心と、
軸線が一致する昇降ロッド203が設けられている(図
9参照)。この昇降ロッド203は、ガイド筒203a
とこのガイド筒203a内で回動する回動軸203bと
から成り、ガイド筒203aが第2センタリング部20
の固定ベース204の軸受け204aに支持されてい
る。昇降ロード203の回動軸203b後端は可動プレ
ート205に軸支されるとともに、回動軸203bを回
動するモータ206Aが連結されている。また、可動プ
レート205にシリンダ206Bが固定され、このシリ
ンダ206Bのシリンダロッド206aが固定ベース2
04に固定されている。このため、シリンダ206Bを
駆動すると、固定ベース204に可動プレート205が
接離し、昇降ロード203を昇降できる。回動軸203
bの先端には、吸着ヘッド207が設けられ、この吸着
ヘッド207はセンタリング板202、202で保持さ
れてセンターリングしたウエハを吸着して上昇し、さら
にモータ206Aによりウエハを回転させることができ
る。なお、ウエハのオリフラ部を検出する検出手段とし
てのセンサ208が、ウエハの送り方向のオリフラ部の
下方に対応する位置に配置されている(図8参照)。
【0014】前記搬送機構190により待機位置196
に送られたウエハは、平面コ字状に形成された搬送アー
ム192先端の受渡し部193の切欠き193aに下方
から上昇する移送装置210の吸着ヘッド219により
吸着される。
に送られたウエハは、平面コ字状に形成された搬送アー
ム192先端の受渡し部193の切欠き193aに下方
から上昇する移送装置210の吸着ヘッド219により
吸着される。
【0015】移送装置210は、待機位置196で吸着
してウエハをキャリアプレート30に貼り付けるための
装置である。図10を参照して説明する。ウエハの送り
方向と平行にカイドレール211、211が配置され、
このガイドレール211、211に沿ってベース板21
2が移動可能である。ベース板212上には、回動軸2
13が回転アクチュエータ214により回転可能に設け
られている。回動軸213の先端には、回転軸213の
軸線と平行ずれた軸線を有するアーム218が連結され
ている。また、アーム218の先端には吸着ヘッド21
9が設けられ、ウエハを吸着可能である。前記ガイドレ
ール211、211が設けられたベース215は、固定
ベース215Aに固定されたシリンダ216により、固
定ベース215Aに固定されたガイドブロック216
a、216aにガイドロッド216b、216bが案内
され昇降可能である。回動軸212を回転アクチュエー
タ214により回転し、吸着ヘッド219の吸着面21
9aが上方を向くようにする。そして、待機位置196
で搬送アーム192の受渡し部193切欠き193a内
に下方から進入して吸着する。この状態で搬送アーム1
90を後退させるとともに、吸着ヘッド219を反転さ
せる。そして、ベース板212をガイドレール211、
211に沿ってヒータ装置222のキャリアプレート3
0の接着位置まで移動させる。続いて、シリンダ216
を駆動してベース215と共に回転軸213およびアー
ム218を下げてウエハをキャリアプレート30に載置
する。そして、接着プレス(図示せず)によりウエハを
加圧してキャリアプレート30上に接着する。
してウエハをキャリアプレート30に貼り付けるための
装置である。図10を参照して説明する。ウエハの送り
方向と平行にカイドレール211、211が配置され、
このガイドレール211、211に沿ってベース板21
2が移動可能である。ベース板212上には、回動軸2
13が回転アクチュエータ214により回転可能に設け
られている。回動軸213の先端には、回転軸213の
軸線と平行ずれた軸線を有するアーム218が連結され
ている。また、アーム218の先端には吸着ヘッド21
9が設けられ、ウエハを吸着可能である。前記ガイドレ
ール211、211が設けられたベース215は、固定
ベース215Aに固定されたシリンダ216により、固
定ベース215Aに固定されたガイドブロック216
a、216aにガイドロッド216b、216bが案内
され昇降可能である。回動軸212を回転アクチュエー
タ214により回転し、吸着ヘッド219の吸着面21
9aが上方を向くようにする。そして、待機位置196
で搬送アーム192の受渡し部193切欠き193a内
に下方から進入して吸着する。この状態で搬送アーム1
90を後退させるとともに、吸着ヘッド219を反転さ
せる。そして、ベース板212をガイドレール211、
211に沿ってヒータ装置222のキャリアプレート3
0の接着位置まで移動させる。続いて、シリンダ216
を駆動してベース215と共に回転軸213およびアー
ム218を下げてウエハをキャリアプレート30に載置
する。そして、接着プレス(図示せず)によりウエハを
加圧してキャリアプレート30上に接着する。
【0016】一方、キャリアプレート30は、ヒータ装
置222のヒータユニット223上に保持され、加熱さ
れる。ここでヒータ装置222について、図11を参照
して説明する。ヒータユニット223は、ヒータ223
aとヒータ223aの上面を覆う均熱板223bとから
構成されている。ヒータユニット223の中心には吸着
盤224aが配置され、均熱板223bと面一である。
吸着盤224aは、昇降、回転可能な軸体224bに支
持されている。この軸体224bは、固定ベース221
に固定された軸受け225aに支持されている。固定ベ
ース221とスライドバー221Cを介して離間して補
助ベース221Aが配置されている。この補助ベース2
21Aにはシリンダ228が固定され、このシリンダロ
ード228aの先端は可動ベース221Bに固定されて
いる。この可動ベース221Bはスライドバー221C
上を移動可能である。また、可動ベース228Bには軸
受け225bが設けられ、この軸受け225bにより軸
体224bが支持されている。軸体224bの後端は軸
体224bを回転させるステッピングモータ226に連
結されている。このステッピングモータ226は補助ベ
ース221Aにスライド可能、かつ非回転状態に支持さ
れている。なお、吸着盤224aは軸体224b内に形
成された連絡通路224cと接続されており、この連絡
通路224cは外部の負圧源(図示せず)にリング状の
継ぎ手部224dを介して連絡している。また、キャリ
アプレート30は、供給機構230により供給され、ヒ
ータプレート223上に四方から保持片224・・・に
より保持される。なお、ヒータ装置222をレールに沿
って移動ラインLと平行する方向に移動可能としても良
い。
置222のヒータユニット223上に保持され、加熱さ
れる。ここでヒータ装置222について、図11を参照
して説明する。ヒータユニット223は、ヒータ223
aとヒータ223aの上面を覆う均熱板223bとから
構成されている。ヒータユニット223の中心には吸着
盤224aが配置され、均熱板223bと面一である。
吸着盤224aは、昇降、回転可能な軸体224bに支
持されている。この軸体224bは、固定ベース221
に固定された軸受け225aに支持されている。固定ベ
ース221とスライドバー221Cを介して離間して補
助ベース221Aが配置されている。この補助ベース2
21Aにはシリンダ228が固定され、このシリンダロ
ード228aの先端は可動ベース221Bに固定されて
いる。この可動ベース221Bはスライドバー221C
上を移動可能である。また、可動ベース228Bには軸
受け225bが設けられ、この軸受け225bにより軸
体224bが支持されている。軸体224bの後端は軸
体224bを回転させるステッピングモータ226に連
結されている。このステッピングモータ226は補助ベ
ース221Aにスライド可能、かつ非回転状態に支持さ
れている。なお、吸着盤224aは軸体224b内に形
成された連絡通路224cと接続されており、この連絡
通路224cは外部の負圧源(図示せず)にリング状の
継ぎ手部224dを介して連絡している。また、キャリ
アプレート30は、供給機構230により供給され、ヒ
ータプレート223上に四方から保持片224・・・に
より保持される。なお、ヒータ装置222をレールに沿
って移動ラインLと平行する方向に移動可能としても良
い。
【0017】ヒータ装置222へのキャリアプレート3
0の供給は、供給機構230により行われる(図1参
照)。供給機構230は、回動可能なアーム231であ
り、このアーム231の先端には平面コ字状の載置部2
32が形成されている。アーム231の載置部232に
載置されたキャリアプレート30をヒータ装置222の
均熱板223bの直上まで移動した状態で、前記シリン
ダ228を駆動すると、シリンダロード228aが可動
ベース221Bを上方に移動し、これに伴って軸体22
4bとともに吸着盤224aを上昇させ、吸着盤224
aによりキャリアプレート30を吸着し、アーム231
を後退させる。その後、吸着盤224aの上面が均熱板
223bと面一となるまで、吸着盤224aを降下さ
せ、ヒータユニット223によりキャリアプレート30
加熱する。そして、キャリアプレート30をステッピン
グモータ226により所定角度づつ回転させ、順次ウエ
ハを接着する。
0の供給は、供給機構230により行われる(図1参
照)。供給機構230は、回動可能なアーム231であ
り、このアーム231の先端には平面コ字状の載置部2
32が形成されている。アーム231の載置部232に
載置されたキャリアプレート30をヒータ装置222の
均熱板223bの直上まで移動した状態で、前記シリン
ダ228を駆動すると、シリンダロード228aが可動
ベース221Bを上方に移動し、これに伴って軸体22
4bとともに吸着盤224aを上昇させ、吸着盤224
aによりキャリアプレート30を吸着し、アーム231
を後退させる。その後、吸着盤224aの上面が均熱板
223bと面一となるまで、吸着盤224aを降下さ
せ、ヒータユニット223によりキャリアプレート30
加熱する。そして、キャリアプレート30をステッピン
グモータ226により所定角度づつ回転させ、順次ウエ
ハを接着する。
【0018】所定枚数のウエハが接着されたキャリアプ
レート30を、キャリアプレート30の排出部24によ
り、ストッカ収納位置241に搬送される。排出部24
について、図1を参照して説明する。排出部24は、一
端に設けた回転軸を中心に回動可能、かつ上下動可能の
アーム242と、このアーム242の先端に設けた挟持
片243、243とから構成されている。ヒータプレー
ト223上のキャリアプレート30の中心を挟持片24
3、243で挟持し、ストッカ収納位置241に移動す
る。ストッカ収納位置241には、一対のガイドレール
244が設けられている。このガイドレール244上に
は複数のローラが設けられ、搬送アーム245によりス
トッカ250方向に押圧し、ストッカ250内にウエハ
が接着されたキャリアプレート30を供給する。なお、
ストッカ250は昇降装置(図示せず)により昇降可能
であり、収納する棚位置が調節可能である。以上本発明
の好適な実施例を挙げて種々説明したが、本発明は上記
実施例に限定されるものでなく、発明の精神を逸脱しな
い範囲内で多くの改変を施し得ることは勿論である。
レート30を、キャリアプレート30の排出部24によ
り、ストッカ収納位置241に搬送される。排出部24
について、図1を参照して説明する。排出部24は、一
端に設けた回転軸を中心に回動可能、かつ上下動可能の
アーム242と、このアーム242の先端に設けた挟持
片243、243とから構成されている。ヒータプレー
ト223上のキャリアプレート30の中心を挟持片24
3、243で挟持し、ストッカ収納位置241に移動す
る。ストッカ収納位置241には、一対のガイドレール
244が設けられている。このガイドレール244上に
は複数のローラが設けられ、搬送アーム245によりス
トッカ250方向に押圧し、ストッカ250内にウエハ
が接着されたキャリアプレート30を供給する。なお、
ストッカ250は昇降装置(図示せず)により昇降可能
であり、収納する棚位置が調節可能である。以上本発明
の好適な実施例を挙げて種々説明したが、本発明は上記
実施例に限定されるものでなく、発明の精神を逸脱しな
い範囲内で多くの改変を施し得ることは勿論である。
【0019】
【発明の効果】本発明に係るウエハの接着装置は次に示
すような顕著な効果を奏する。 シリコンウエハの中心か移動する移動軌跡が一直線
となるように各手段を配置したので、シリコンウエハの
搬送、位置決めが容易である。 シリコンウエハを回転させつつ接着面にワックス等
の接着剤滴下して接着剤を塗布する塗布手段の直前に、
シリコンウエハの中心を前記移動軌跡と一致させるセン
タリング装置を設けることにより、シリコンウエハを回
転するときの偏心回転を防ぐことができる。 ヒータ装置に載置されたキャリアプレートにシリコ
ンウエハを載置する搬送手段で搬送する直前に、シリコ
ンウエハの中心を前記移動軌跡と一致させるセンタリン
グ装置と、シリコンウエハのオリフラ位置を検出する検
出手段を設けることにより、キャリアプレートへの確実
な接着が可能となる。
すような顕著な効果を奏する。 シリコンウエハの中心か移動する移動軌跡が一直線
となるように各手段を配置したので、シリコンウエハの
搬送、位置決めが容易である。 シリコンウエハを回転させつつ接着面にワックス等
の接着剤滴下して接着剤を塗布する塗布手段の直前に、
シリコンウエハの中心を前記移動軌跡と一致させるセン
タリング装置を設けることにより、シリコンウエハを回
転するときの偏心回転を防ぐことができる。 ヒータ装置に載置されたキャリアプレートにシリコ
ンウエハを載置する搬送手段で搬送する直前に、シリコ
ンウエハの中心を前記移動軌跡と一致させるセンタリン
グ装置と、シリコンウエハのオリフラ位置を検出する検
出手段を設けることにより、キャリアプレートへの確実
な接着が可能となる。
【図1】本発明に係る接着装置の概略的な構造を示す説
明図である。
明図である。
【図2】ウエハ供給部の概略的平面図である。
【図3】供給部の側面図である。
【図4】センタリング装置の平面図である。
【図5】搬送機構の平面図である。
【図6】搬送機構の内部構造を示す側面図である。
【図7】スピンナー部の内部構造を示す断面側面図であ
る。
る。
【図8】センタリング装置およびオリフラ検出装置を示
す平面図である。
す平面図である。
【図9】センタリング装置の駆動機構を示す部分断面側
面図である。
面図である。
【図10】移送装置の内部構造を示す部分断面側面図で
ある。
ある。
【図11】ヒータ装置の内部構造を示す部分断面側面図
である。
である。
10 接着装置 12 ウエハの供給部 14 第1センタリング部 16 スピンナー部 18 ベーキング部 20 第2センタリング部 21 供給装置 22 接着部 23 供給機構 24 排出部 26 収容部
Claims (4)
- 【請求項1】 シリコンウエハを回転させつつ接着面に
ワックス等の接着剤を滴下して接着剤を塗布する塗布手
段と、 シリコンウエハの接着面に塗布された接着剤を加熱する
加熱手段と、 シリコンウエハを接着するキャリアプレートを載置し、
加熱するヒータ装置と、 ヒータ装置に載置されたキャリアプレートにシリコンウ
エハを載置する搬送手段とを具備し、 シリコンウエハの中心が移動する移動軌跡が一直線とな
るように各手段を配置したことを特徴とするウエハの接
着装置。 - 【請求項2】 シリコンウエハを回転させつつ接着面に
ワックス等の接着剤を滴下して接着剤を塗布する塗布手
段の直前に、シリコンウエハの中心を前記直線的移動軌
跡上に一致させるセンタリング装置を設けたことを特徴
とする請求項1記載のウエハの接着装置。 - 【請求項3】 ヒータ装置に載置されたキャリアプレー
トにシリコンウエハを載置する搬送手段で搬送する直前
に、シリコンウエハの中心を前記直線的移動軌跡上に一
致させるセンタリング装置と、シリコンウエハのオリフ
ラ位置を検出する検出手段を設けたことを特徴とする請
求項1または2記載のウエハの接着装置。 - 【請求項4】 ウエハが収納されたカセットからシリコ
ンウエハを取り出して、このシリコンウエハをセンタリ
ング装置に送るウエハ供給部を有するウエハの接着装置
において、 ウエハ供給装置がシリコンウエハの中心が移動する移動
軌跡上にあり、かつウエハ供給装置を中心とする円弧上
にシリコンウエハが収納されたカセットを配置したこと
を特徴とする請求項2記載のウエハの接着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27466191A JP2854738B2 (ja) | 1991-09-25 | 1991-09-25 | ウエハの接着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27466191A JP2854738B2 (ja) | 1991-09-25 | 1991-09-25 | ウエハの接着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0590405A true JPH0590405A (ja) | 1993-04-09 |
JP2854738B2 JP2854738B2 (ja) | 1999-02-03 |
Family
ID=17544797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27466191A Expired - Lifetime JP2854738B2 (ja) | 1991-09-25 | 1991-09-25 | ウエハの接着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2854738B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006237085A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Sumco Corp | 半導体ウェーハ接着方法およびその装置 |
KR20150029518A (ko) * | 2013-09-09 | 2015-03-18 | 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 | 기판 반전 반송 장치 |
-
1991
- 1991-09-25 JP JP27466191A patent/JP2854738B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006237085A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Sumco Corp | 半導体ウェーハ接着方法およびその装置 |
KR20150029518A (ko) * | 2013-09-09 | 2015-03-18 | 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 | 기판 반전 반송 장치 |
JP2015051864A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 基板反転搬送装置 |
TWI633069B (zh) * | 2013-09-09 | 2018-08-21 | 三星鑽石工業股份有限公司 | Substrate turnover transport device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2854738B2 (ja) | 1999-02-03 |
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Legal Events
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