TWI596069B - Attached to the anti-fouling film of the transparent substrate - Google Patents

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Kensuke Fujii
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Description

附防污膜之透明基體 發明領域
本發明係有關於一種附防污膜之透明基體。
發明背景
近年尤其在可攜式裝置及車載用機器中使用液晶顯示器等各種顯示裝置之情形益多。在上述顯示裝置中，作為其蓋板構件，自習知即採用配置有透明基體之構成。又，附透明電極之觸控面板與蓋玻璃一體化而成之基板構成亦廣為眾知。
就上述顯示裝置而言有諸多人體手指等觸及透明基體表面的機會，在人之手指等觸碰時，容易於透明基體表面附著油脂等。而且，當油脂等附著時，會影響目視性，因此慣用已於表面施行防污處理之透明基體。
作為表面已施行防污處理之透明基體，例如專利文獻1中揭示出一種撥水性玻璃，其於具有凹凸形狀之玻璃基板表面上設有撥水層。
此外，在設有撥水層之撥水性玻璃中，因撥水劑與玻璃之接著力薄弱而難以維持撥水性能，所以為了提高其耐久性，持續研討將玻璃基板之表面形狀製成預定形狀 之方法(例如專利文獻2)。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本國特開平07-126041號公報
專利文獻2：日本國特開平11-171594號公報
發明概要
然而，專利文獻2之撥水性玻璃係以擋風玻璃及窗玻璃板等用途為目的所開發者，未預計作為顯示裝置等之透明基體使用。
因此，在使用該撥水性玻璃作為液晶顯示器等顯示裝置之蓋板構件或與觸控面板之透明電極一體化之蓋玻璃使用時，因幾乎毫無防眩特性，故有周圍的光映射而使顯示部分的目視性降低之問題。
又，如上述，專利文獻2之撥水性玻璃係預計使用於窗玻璃等少有被人手觸及之機會的部分之撥水性玻璃，因此作為如顯示裝置等有較高頻率被人手觸及之可能性的蓋板構件或與觸控面板一體化之基板使用時，耐久性不夠充分。
有鑑於上述習知技術所具有之問題，本發明乃以提供一種具有防眩特性同時業已提高防污膜之耐久性的附防污膜之透明基體為目的。
為了解決上述課題，本發明提供一種附防污膜之透明基體，具有：透明基體，其具有第1主面及與前述第1主面相對向之第2主面，且前述第1主面之表面已施行防眩加工；及含氟有機矽化合物被膜，其係設在前述透明基體之前述第1主面側的防污膜；前述防污膜之表面粗度RMS在0.05μm以上且在0.25μm以下，粗度曲線之要素的平均長度RSm在10μm以上且在40μm以下。
在本發明中，可提供一種具有防眩特性同時已提高防污膜之耐久性的附防污膜之透明基體。
11‧‧‧透明基體
11A‧‧‧第1主面
11B‧‧‧第2主面
12‧‧‧防污膜
13‧‧‧低反射膜
131、132‧‧‧(低反射膜)層
圖1係本發明第1實施形態之附防污膜之透明基體的構成說明圖。
圖2係本發明第2實施形態之附防污膜之透明基體的構成說明圖。
用以實施發明之形態
以下參照圖式說明用以實施本發明之形態，惟本發明不受下述實施形態限制，可在不脫離本發明範圍下於下述實施形態加諸各種變形及置換。
[第1實施形態]
在本實施形態中說明本發明之附防污膜之透明基體。
本實施形態之附防污膜之透明基體具有透明基體及含氟有機矽化合物被膜，該透明基體係具有第1主面及與前述第1主面相對向之第2主面，且前述第1主面之表面已施加防眩加工，該含氟有機矽化合物被膜係設在前述透明基體之前述第1主面側的防污膜。而且，前述附防污膜之透明基體之特徵在於：前述防污膜之表面粗度RMS在0.05μm以上且在0.25μm以下，粗度曲線之要素的平均長度RSm在10μm以上且在40μm以下。
利用圖1說明本實施形態之附防污膜之透明基體。圖1係示意顯示本實施形態之附防污膜之透明基體的截面圖，具有於透明基體11之第1主面側配置有防污膜12之構成。有關構成附防污膜之透明基體之各構件於以下說明。
首先，作為透明基體11之材料無特別限定，可利用至少可透射可見光的各種透明基體。可舉如塑膠基板、玻璃基板等各種材料。其中從透明性及強度等觀點看來，透明基體以玻璃基板為佳。此時，玻璃種類無特別限定，可利用無鹼玻璃、鈉鈣玻璃及鋁矽玻璃等各種玻璃。其中，從與設在其上面之層(膜)的密著性觀點看來，宜使用鈉鈣玻璃。
透明基體11為玻璃基板時，從透明基體本身的強度觀點看來，宜使用將鋁矽玻璃經過化學強化處理而成的強化玻璃基板(例如「Dragontrail(註冊商標)」等)。
化學強化處理係一種將玻璃表面之離子半徑小的鹼離子(例如鈉離子)取代成離子半徑大的鹼離子(例如鉀 離子)之處理。例如，將含有鈉離子之玻璃以含有鉀離子之熔融鹽加以處理，藉此可進行化學強化。上述化學強化處理後的玻璃基板表面之壓縮應力層之組成與化學強化處理前之組成略有不同，但基板深層部之組成與化學強化處理前之組成大致相同。
就化學強化之條件而言無特別限定，可因應供於化學強化之玻璃種類及所要求的化學強化程度等來加以選擇。
用以進行化學強化處理之熔融鹽，因應供於化學強化之玻璃基板加以選擇即可。可舉如硝酸鉀、硫酸鈉、硫酸鉀、氯化鈉及氯化鉀等鹼硫酸鹽及鹼氯化鹽等。該等熔融鹽可單獨使用亦可將複數種組合使用。
熔融鹽之加熱溫度在350℃以上為佳，在380℃以上較佳。又，在500℃以下為佳，在480℃以下較佳。
使熔融鹽之加熱溫度在350℃以上，藉此可防止因離子交換速度降低而難以進入化學強化。又，藉由使其在500℃以下，可抑制熔融鹽之分解‧劣化。
又，為了賦予充分的壓縮應力，使玻璃基板接觸熔融鹽之時間在1小時以上為佳，在2小時以上較佳。又，在長時間的離子交換下，生產性會下降且因緩和而使壓縮應力值降低，因此在24小時以下為佳，在20小時以下較佳。
有關透明基體之形狀亦無特別限定，可利用各種形狀之透明基體。
透明基體11如上述具有第1主面11A及與其相對 向之第2主面11B。而且，於第1主面11A已施加形成期望之凹凸形狀的防眩加工。此時，將第1主面11A之表面粗度RMS設在0.05μm以上且在0.25μm以下，且將第1主面11A之粗度曲線之要素的平均長度RSm設在10μm以上且在40μm以下為佳。藉由設定在該範圍，可使後述之防污膜之表面粗度RMS及粗度曲線之要素的平均長度RSm在期望範圍內。
在此，表面粗度RMS表示凹凸距離基準面(在此為表面處理前之基板表面)的平均深度。而，亦稱為均方根粗度，有時亦以Rq表示。又，粗度曲線要素的平均長度RSm係表示將在基準面上擷取之基準長度所含的粗度曲線中，生成一周期份之凹凸的基準面上之長度加以平均後的長度。表面粗度RMS(μm)及粗度曲線之要素的平均長度RSm可藉由以JIS B 0601(2001)中所規定之方法為依據的方法來測定。
此乃本發明之發明人等為了在附防污膜之透明基體中提高防污膜之耐久性而進行研討所發現之結果，即：藉由使第1主面11A之表面特性具有上述特性，再加上防眩特性，與習知之附防污膜之透明基體相較下尤可提升防污膜之耐久性。
防污膜係形成在透明基體之第1主面側，防污膜為了複寫透明基體之表面形狀，防污膜表面亦具有與透明基體略為相同的表面粗度特性。
此意謂與習知所使用之RMS超過0.25μm或RSm 超過40μm且已施加防眩加工的透明基體相較下，藉由使透明基體之第1主面11A滿足上述規定，則透明基體的第1主面之微細凹凸中，凹部間的間隔變小，且凸部的面積增大。而且，如上述防污膜之表面亦具有相同的表面形狀。
當手指等接觸該附防污膜之透明基體之表面亦即防污膜時，與手指等接觸之防污膜的凸部面積較習知之附防污膜之透明基體大。因此，手指等加諸於附防污膜之透明基體表面(防污膜)部分的力量會分散，並可減低加諸於防污膜之壓力，推估可抑制防污膜之剝離、磨耗。
推測粗度曲線之要素的平均長度RSm愈小、即凹部之間隔愈小，則與手指之接觸面積愈大，且耐久性提升。但，為了使RSm非常小，需要施行例如利用光罩之蝕刻處理等，從成本觀點看來，RSm只要在10μm以上，即可適當作成。因此，宜就形成防污膜之面使用滿足上述RSm範圍之透明基體。
又，RMS及RSm在上述數值範圍之透明基體，凹部的間隔會在適切的範圍，因此可製成亦具有防眩特性的透明基體。
此外，第1主面11A之表面粗度RMS在0.08μm以上且在0.20μm以下較佳，粗度曲線之要素的平均長度RSm在15μm以上且在35μm以下較佳。藉由滿足該等參數，可使防污膜之耐久性進一步提升。
製成具有上述表面特性之透明基體的防眩加工方法無特別限定，可利用對第1主面施行表面處理而形成期 望凹凸的方法。
具體上，可舉一對透明基體之第1主面施行毛玻璃化處理的方法。毛玻璃化處理例如可藉由將被處理體之透明基體浸漬於氟化氫及氟化銨之混合溶液而將浸漬面以化學方式進行表面處理來進行。
又，除上述化學性處理之方法以外，亦可利用例如所謂噴砂處理的方法，將晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等以加壓空氣噴吹至透明基體表面；或物理性處理的方法，以水沾溼附著有晶質二氧化矽粉、碳化矽粉等之刷子進行磨刷等。
尤其，在施行利用氟化氫等之藥液以化學方式進行表面處理之毛玻璃化處理的方法中，難以在被處理體表面產生微裂，且不易產生機械強度降低，可適於利用作為施行透明基體之表面處理的方法。
以上述方法作成凹凸後，為了整頓表面形狀，一般會將玻璃表面以化學方式進行蝕刻。藉此可藉由蝕刻量將霧度調整成期望值，並可除去在噴砂處理等中所生成之裂痕，又可抑制眩光。
作為蝕刻，可適當使用將被處理體之透明基體浸漬於以氟化氫為主成分之溶液中的方法。就氟化氫以外之成分而言，亦可含有鹽酸‧硝酸‧檸檬酸等。藉由含有該等，可抑制已進入至玻璃之鹼成分與氟化氫發生反應而局部產生析出反應之現象，使蝕刻可在面內均勻進行。
針對透明基體之第2主面11B，其特性無特別限 定，亦可進行加工以使其具有與第1主面同樣的表面粗度RMS及粗度曲線之要素的平均長度RSm。
又，亦可於透明基體之第2主面11B作成觸控面板用透明電極。如此一來，藉由製成觸控面板之透明電極與附防污膜之透明基體呈一體化之構成，可達成更進一步的薄型輕量化。而，此時針對第2主面11B，以不進行上述與第1主面11A同樣的防眩加工為佳。
而且，於透明基體11之第1主面11A側如圖1所示形成有防污膜12。防污膜12可藉由含氟有機矽化合物構成。
在此，針對含氟有機矽化合物加以說明。作為本實施形態中使用之含氟有機矽化合物，只要是可賦予防污性、撥水性、撥油性者即可無特別限定地使用。
作為上述含氟有機矽化合物，可舉例如具有選自於由聚氟聚醚基、聚氟伸烷基及聚氟烷基所構成群組中之1種以上之基的含氟有機矽化合物。而，聚氟聚醚基係具有聚氟伸烷基與醚性氧原子交錯鍵結而成之結構的2價基。
作為該具有選自於由聚氟聚醚基、聚氟伸烷基及聚氟烷基所構成群組中之1種以上之基的含氟有機矽化合物之具體例，可列舉以下述通式(I)~(V)表示之化合物等。
[化1]
式中，Rf係碳數1~16之直鏈狀聚氟烷基(作為烷基，例如有甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等)，X係氫原子或碳數1~5之低級烷基(例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等)，R1係可水解之基(例如胺基、烷氧基等)或鹵素原子(例如氟、氯、溴、碘等)，m係1~50且理想為1~30之整數，n係0~2且理想為1~2之整數，p係1~10且理想為1~8之整數。
CqF2q+1CH2CH2Si(NH2)3 (II)
在此，q係1以上且理想為2~20之整數。
作為以通式(II)表示之化合物，可舉例如正三氟(1,1,2,2-四氫)丙基矽氮烷(n-CF3CH2CH2Si(NH2)3)、正七氟(1,1,2,2-四氫)戊基矽氮烷(n-C3F7CH2CH2Si(NH2)3)等。
Cq’F2q’+1CH2CH2Si(OCH3)3 (III)
在此，q'係1以上且理想為1~20之整數。
作為以通式(III)表示之化合物，可舉例如2-(全氟辛基)乙基三甲氧矽烷(n-C8F17CH2CH2Si(OCH3)3)等。
[化2]
式(IV)中，Rf2係以-(OC3F6)s-(OC2F4)t-(OCF2)u-(s、t、u係分別獨立為0~200之整數)表示之2價直鏈狀聚氟聚醚基，R2、R3係分別獨立為碳原子數1~8之一價烴基(例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等)。X2、X3係獨立且可水解之基(例如胺基、烷氧基、醯氧基、烯氧基、異氰酸酯基等)或鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等)，d、e係獨立為1~2之整數，c、f係獨立為1~5(理想為1~2)之整數，a及b係獨立為2或3。
化合物(IV)所具有之Rf2中，s+t+u以20~300為佳，25~100較佳。又，作為R2、R3，以甲基、乙基、丁基較佳。作為以X2、X3表示之水解性基，以碳數1~6之烷氧基較佳，且甲氧基及乙氧基尤佳。又，a及b分別以3為佳。
[化3]F-(CF2)v-(OC3F6)w-(OC2F4)y-(OCF2)z(CH2)hO(CH2)i-Si(X4)3-k(R4)k (V)
式(V)中，v係1~3之整數，w、y、z係分別獨立為0~200之整數，h為1或2，i係2~20之整數，X4為水解性基，R4係碳數1~22之直鏈或支鏈的烴基，k係0~2之整數。w +y+z以20~300為佳，25~100較佳。又，i以2~10較佳。X4以碳數1~6之烷氧基為佳，且甲氧基及乙氧基較佳。作為R4，以碳數1~10之烷基較佳。
又，作為市售之具有選自於由聚氟聚醚基、聚氟伸烷基及聚氟烷基所構成群組中之1種以上之基的含氟有機矽化合物，可適當使用KP-801(商品名、信越化學公司製)、KY178(商品名、信越化學公司製)、KY-130(商品名、信越化學公司製)、KY-185(商品名、信越化學公司製)、OPTOOL(註冊商標)DSX及OPTOOL AES(皆為商品名、大金公司製)等。
而，為了抑制含氟有機矽化合物與大氣中之水分發生反應而劣化等，一般係將其與氟系溶媒等溶媒混合保存，惟，若在含有該等溶媒之情況下直接供於成膜步驟，有時會對所製得之薄膜的耐久性等造成不良影響。
因此，在本實施形態中，宜使用以加熱容器進行加熱前已預先進行溶媒除去處理之含氟有機矽化合物或未經溶媒稀釋(未添加溶媒)之含氟有機矽化合物。例如，以含氟有機矽化合物溶液中所含之溶媒濃度計在1mol%以下者為佳，在0.2mol%以下者較佳。使用未含溶媒之含氟有機矽化合物尤佳。
而，就保存上述含氟有機矽化合物時所使用的溶媒而言，可舉例如全氟己烷、間二甲苯六氟化物(C6H4(CF3)2)、氫氟聚醚、HFE7200/7100(商品名、住友3M公司製、HFE7200係以C4F9C2H5表示、HFE7100係以 C4F9OCH3表示)等。
從含有氟系溶媒之含氟有機矽化合物溶液除去溶媒(溶劑)的處理例如可藉由對已放入含氟有機矽化合物溶液之容器進行真空排氣而進行。
有關進行真空排氣之時間，會依排氣管線及真空泵等之排氣能力及溶液量等而變化，故未有所限定，例如可在10小時左右以上。
本實施形態之防污膜的成膜方法無特別限定，以使用如上述之材料藉由真空蒸鍍進行成膜為佳。
又，上述溶媒之除去處理亦可將含氟有機矽化合物溶液導入至形成防污膜之成膜裝置的加熱容器後，於升溫前在室溫下將加熱容器內予以真空排氣而進行。又，亦可於導入至加熱容器前，預先以蒸發器等除去溶媒。
惟，如前述，溶媒含量少或不含溶媒之含氟有機矽化合物與含有溶媒者相較下，容易因與大氣接觸而劣化。
因此，溶媒含量少(或不含溶媒)之含氟有機矽化合物的保管容器宜使用容器中業經氮等惰性氣體取代並加以密閉者，且進行處理時宜縮短對大氣之暴露及接觸時間。
具體上，將保管容器開封後立即將含氟有機矽化合物導入至形成防污膜之成膜裝置的加熱容器為宜。而且，導入後宜使加熱容器內成為真空或以氮、稀有氣體等惰性氣體進行取代，藉此除去加熱容器內所含之大氣(空氣)。為可在不與大氣接觸下從保管容器(貯藏容器)導入至本製造裝置之加熱容器中，例如將貯藏容器及加熱容器藉 由附閥之配管連接較佳。
而且，將含氟有機矽化合物導入至加熱容器後，宜在容器內形成真空或經惰性氣體取代後，立即開始用以成膜之加熱。
作為防污膜之成膜方法，在本實施形態之說明中所述例子係利用溶液或原液之含氟有機矽化合物，但不受此限。作為其他方法，例如有使用市售之稱為蒸鍍用顆粒(如Canon Optron公司製之SURFCLEAR即為一例)之方法，該蒸鍍用顆粒係預先將一定量之含氟有機矽化合物浸潤多孔性金屬(例如錫或銅)或纖維狀金屬(例如不鏽鋼)而成。此時，亦可將因應蒸鍍裝置容量及所需膜厚之量的顆粒作為蒸鍍源而輕易地形成防污膜。
如上述，防污膜為依樣複寫透明基體之表面形狀，其表面特性與透明基體之表面粗度RMS及粗度曲線要素的平均長度RSm相同。因此，其表面粗度RMS在0.05μm以上且在0.25μm以下，且粗度曲線要素的平均長度RSm在10μm以上且在40μm以下。又，尤其以表面粗度RMS在0.08μm以上且在0.20μm以下較佳，粗度曲線要素的平均長度RSm在15μm以上且在35μm以下較佳。
又，基於提升透明基體與防污膜之密著性之目的，可於透明基體及防污膜之間插入密著層。插入密著層時，在形成防污膜前預先將其形成於透明基材之第1主面即可。作為密著層，適合使用氧化矽膜。就膜厚而言係在2nm以上且在50nm以下，理想在5nm以上且在20nm以下。
以上就本實施形態之附防污膜之透明基體的各構件加以說明，而本實施形態之附防污膜之透明基體的霧度在2%以上且在30%以下為佳。此係由於，霧度只要在2%以上，與未施加防眩加工之基板相較下，經目視確認可有意地抑制光之映射；但若大於30%，將導致光亂反射，在作為顯示裝置之蓋板構件或與觸控面板一體化之基板使用時，會降低顯示裝置之顯示之目視性。又，本實施形態之附防污膜之透明基體的霧度在15%以上且在27%以下較佳。
已顯示霧度在上述範圍令本實施形態之附防污膜之透明基體具有充分的防眩特性，更宜於作為顯示裝置等之蓋板構件或與觸控面板一體化之基板加以利用。
依據以上所說明之本實施形態之附防污膜之透明基體，可製成一具有防眩特性同時已提高防污膜之耐久性的附防污膜之透明基體。
[第2實施形態]
在本實施形態中，就第1實施形態中另設有低反射膜之構成加以說明。有關其他構成因如第1實施形態中所說明，故在此予以省略。
低反射膜可抑制光在附防污膜之透明基體表面反射，因此可使防眩特性進一步提高。例如，作為顯示裝置之蓋板構件使用時，可抑制周圍的光映射並可更加提高顯示裝置之顯示的目視性。
低反射膜之材料無特別限定，只要是可抑制反射之材料，則各種材料均可利用。例如，作為低反射膜，可 製成將高折射率層及低折射率層積層而成之構成。
高折射率層及低折射率層可為分別包含各1層之形態，亦可為分別包含2層以上之構成。分別包含2層以上之高折射率層及低折射率層時，以高折射率層及低折射率層交錯積層之形態為佳。
為了取得充分的抗反射性能，低反射膜以積層有複數膜(層)之積層體為佳。例如，該積層體以整體計宜積層有2層以上且6層以下之膜，積層有2層以上且4層以下之膜較佳。在此之積層體如上述以高折射率層及低折射率層積層而成之積層體為佳，且高折射率層及低折射率層之層數總計在上述範圍為佳。
高折射率層及低折射率層之材料無特別限定，可考慮所要求的抗反射程度及生產性等作選擇。就構成高折射率層之材料而言，例如可適當利用選自於氧化鈮(Nb2O5)、氧化鈦(TiO2)、氧化鋯(ZrO2)、氮化矽(SiN)及氧化鉭(Ta2O5)之1種以上。就構成低折射率層之材料而言，可適當利用氧化矽(SiO2)。
作為高折射率層從生產性及折射率程度看來，尤其宜利用氧化鈮。因此，前述低反射膜以氧化鈮層與氧化矽層之積層體較佳。
在本實施形態之附防污膜之透明基體中，針對設置低反射膜之位置並無特別限定，可配設在透明基體之第1主面11A及/或第2主面11B。尤以設置在透明基體之第1主面11A為佳。例如圖2所示，製成於透明基體11之第1主面11A 的表面(自第1主面側起)依序積層有低反射膜13及含氟有機矽化合物被膜12之構成較佳。
如上述藉由製成於透明基體之第1主面11A上積層有低反射膜13及含氟有機矽化合物被膜(防污膜)12之構成，亦可針對低反射膜13防止剝離並提升耐久性，故為理想。
又，欲插入提高防污膜之耐久性的密著層時，宜將之放入至低反射膜及防污膜之間。此時亦以氧化矽膜為較適使用材料，如上述例當低反射膜之最上層亦為氧化矽時，可同時達成低反射性及密著層之效果，故為理想構成。
在圖2中，低反射膜13係設為積層有2層131、132之構成，惟不受該形態限定，亦可如上述設為積層有更多複數層之構成。
又，有關本實施形態之附防污膜之透明基體，基於與第1實施形態中所說明之相同理由，亦以霧度在2%以上且在30%以下為佳，在15%以上且在27%以下較佳。
以上，在本實施形態中就具有低反射膜之附防污膜之透明基體加以說明，藉由具有該構成，可更提升防眩特性。因此，更適於利用在顯示裝置之覆蓋裝置或與觸控面板一體化之基板等特別要求防眩特性的用途中。
實施例
以下列舉具體的實施例進行說明，惟本發明不受該等實施例限定。而，例1~例4為實施例，例5~例7為比較例。
(1)評估方法
針對以下例1~例7中所獲得之附防污膜之透明基體的特性評估方法說明如下。
(表面形狀測定)
針對例1~例7中所使用之防污膜成膜後的試料之防污膜表面形狀，使用雷射顯微鏡(基恩斯公司製、商品名：VK-9700)在50倍之倍率下測出平面輪廓。而且，從獲得之平面輪廓依據JIS B 0601(2001)求得表面粗度RMS及粗度曲線要素之平均長度RSm之值。
各例中成膜之防污膜及低反射膜相對於透明基體的厚度為非常薄之膜，因此表面之凹凸結構實質上係依樣複寫透明基體之表面形狀。因此，有關透明基材(已形成防污膜側之面)的表面形狀，認為亦同。
(霧度測定)
在實施例及比較例中，針對形成防污膜後之試料進行透射霧度之測定。霧度測定係使用霧度計(SUGA試驗機股份有限公司製、型式：HZ-V3)進行。
(摩擦耐久性(耐摩耗性)試驗)
針對例1~例7中防污膜成膜後之試料，就該試料之防污膜以下述程序進行摩擦耐久性試驗。
首先，就例1~7之防污膜以下述程序進行摩擦試驗。
於底面10mm×10mm之平面金屬壓頭的表面裝設鋼絲絨#0000而製成摩擦試樣之摩擦頭。
接著使用上述摩擦頭以平面摩耗試驗機3連式(大榮科學精器公司製、型式：PA-300A)進行摩擦試驗。具體上，首先以上述壓頭之底面觸及試樣之防污膜面的方式安裝於摩耗試驗機，並加載砝碼使對摩擦頭之荷重成為1000g，在平均速度6400mm/min且單程40mm下往復滑動。將往復1次計數為摩擦次數1次，並以摩擦次數1000次進行試驗。
其後針對防污膜以下述程序進行水接觸角之測定。
防污膜之水接觸角的測定係使用自動接觸角計(協和界面科學公司製、型式：DM-501)，於防污膜上滴下純水1μL並測定其接觸角而進行。測定時，就各試料在防污膜表面上10處進行測定，並將其平均值設為該試料之耐久性試驗後的水接觸角。
此時，水接觸角在90°以上評估為合格，在90°以下評估為不合格。
(2)實驗程序
[例1]
藉由以下程序來製造附防污膜之透明基體。
本例中，作為透明基體係採用了使用業已施行化學強化處理之玻璃基板(旭硝子股份有限公司製、商品名：Dragontrail(註冊商標))且已對該玻璃基板之第1主面施行預定之毛玻璃化處理的玻璃基板(以下令為透明基體A)。
而且，於透明基體A之第1主面按下述程序形成 防污膜。
首先，將含氟有機矽化合物(信越化學公司製、商品名：KY-185)導入至加熱容器內作為蒸鍍材料。其後，將加熱容器內以真空泵脫氣10小時以上除去溶液中之溶媒，而製成含氟有機矽化合物被膜形成用組成物。
接下來，將裝有上述含氟有機矽化合物膜形成用組成物的加熱容器加熱至270℃。在到達270℃後，將其狀態保持10分鐘直至溫度穩定為止。
繼之，對設置在真空室內之透明基體A的第1主面(業經毛玻璃化處理之面)，從與裝有前述含氟有機矽化合物膜形成用組成物的加熱容器相連接之噴嘴供給含氟有機矽化合物膜形成用組成物，進行成膜。
成膜時一邊藉由設置在真空室內之晶體振盪器監控器測定膜厚，並持續進行成膜直至形成在透明基體A上之含氟有機矽化合物膜的膜厚達10nm為止。
在含氟有機矽化合物膜達10nm之時間點停止從噴嘴供給原料，並自真空室取出已形成有含氟有機矽化合物膜之透明基體A。
將取出之已形成有含氟有機矽化合物膜之透明基體A以膜面向上的方式設置於熱板上，於大氣中在150℃下進行60分鐘熱處理。
針對以上述方法製得之試料進行上述表面形狀測定、霧度測定及摩擦耐久性試驗。結果顯示於表1。
[例2]
作為透明基體係採用了使用業已施行化學強化處理之玻璃基板(旭硝子股份有限公司製、商品名：Dragontrail(註冊商標))且已對該玻璃基板之第1主面進行毛玻璃化處理的透明基體B，除此以外，以與例1相同的方式於透明基體B之第1主面形成防污膜。針對製得之附防污膜之透明基體以與例1相同的方式進行評估。結果顯示於表1。
[例3]
作為透明基體係採用了使用業已施行化學強化處理之玻璃基板(旭硝子股份有限公司製、商品名：Dragontrail(註冊商標))且已對該玻璃基板之第1主面進行毛玻璃化處理的透明基體C，除此以外，以與例1相同的方式於透明基體C之第1主面形成防污膜。針對製得之附防污膜之透明基體以與例1相同的方式進行評估。結果顯示於表1。
[例4]
於透明基體A上以下述方法形成低反射膜。
首先，一邊導入氬氣中混合有10體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用氧化鈮靶材(AGC CERAMICS公司製、商品名NBO靶材)在壓力0.3Pa、頻率20kHz、功率密度3.8W/cm2且反轉脈波寬5μsec之條件下進行脈波濺鍍，而於透明基體A之第1主面上形成厚度13nm且由氧化鈮(niobia)所構成的高折射率層。
接下來，一邊導入氬氣中混合有40體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用矽靶材在壓力0.3Pa、頻率20kHz、功率密度3.8W/cm2且反轉脈波寬5μsec之條件下，在脈波 寬5μsec之條件下進行脈波濺鍍而於前述高折射率層上形成厚度30nm且由氧化矽(silica)所構成的低折射率層。
接著一邊導入氬氣中混合有10體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用氧化鈮靶材(AGC CERAMICS公司製、商品名NBO靶材)在壓力0.3Pa、頻率20kHz、功率密度3.8W/cm2且反轉脈波寬5μsec之條件下進行脈波濺鍍，而於前述低折射率層上形成厚度110nm且由氧化鈮(niobia)所構成的高折射率層。
接下來一邊導入氬氣中混合有40體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用矽靶材在壓力0.3Pa、頻率20kHz、功率密度3.8W/cm2且反轉脈波寬5μsec之條件下，在脈波寬5μsec之條件下進行脈波濺鍍而形成厚度90nm且由氧化矽(silica)所構成的低折射率層。
以上述方法而形成氧化鈮(niobia)及氧化矽(silica)總計積層有4層的低反射膜。
接下來以與例1相同的方式於低反射膜上形成防污膜。
針對製得之附防污膜之透明基體以與例1相同的方式進行評估。結果顯示於表1。
[例5]
作為透明基體係採用了使用業已施行化學強化處理之玻璃基板(旭硝子股份有限公司製、商品名：Dragontrail(註冊商標))且已對該玻璃基板之第1主面進行毛玻璃化處理的透明基體D，除此以外，以與例1相同的方式於透明基體D 之第1主面形成防污膜。針對製得之附防污膜之透明基體以與例1相同的方式進行評估。結果顯示於表1。
[例6]
作為透明基體係採用了使用業已施行化學強化處理之玻璃基板(旭硝子股份有限公司製、商品名：Dragontrail(註冊商標))且已對該玻璃基板之第1主面進行毛玻璃化處理的透明基體E，除此以外，以與例1相同的方式於透明基體E之第1主面形成防污膜。針對製得之附防污膜之透明基體以與例1相同的方式進行評估。結果顯示於表1。
[例7]
作為透明基體係使用與例5相同之透明基體D，除此以外，以與例4相同之方式形成低反射膜及防污膜，並針對製得之附防污膜之透明基體以與例1相同的方式進行評估。結果顯示於表1。
[表1]
依據表1所示之結果，關於符合本發明規定之例1~4，在摩擦耐久性試驗中水接觸角皆在90°以上，相對於此，有關例5~7則在80°以下。
防污膜具有撥水性，故如上述當水接觸角縮小時表示防污膜呈剝離、磨耗狀態。因此，可知關於例5~7防 污膜係呈剝離、磨耗狀態。
由該等結果可確認，關於符合本發明規定之例1~4與比較例之例5~7相較下，防污膜之耐久性變得非常高。
又，關於例1~4亦可從其霧度值確認係具有適切的防眩特性者。
以上，雖以實施形態及實施例等說明附防污膜之透明基體，但本發明不受上述實施形態及實施例等限定。可在申請專利範圍所記載之本發明主旨之範圍內進行各種變形及變更。
本申請係依據已於2013年1月30日對日本國特許廳提出申請之特願2013-015968號主張優先權，並將特願2013-015968號之全部內容援用於本國際申請。
11‧‧‧透明基體
11A‧‧‧第1主面
11B‧‧‧第2主面
12‧‧‧防污膜

Claims (9)

  1. 一種附防污膜之玻璃基體，具有：玻璃基體，其具有第1主面及與前述第1主面相對向之第2主面，且前述第1主面之表面已施行防眩加工；及，含氟有機矽化合物被膜，其係設在前述玻璃基體之前述第1主面側的防污膜；前述防污膜之表面粗度RMS在0.05μm以上且在0.25μm以下，粗度曲線之要素的平均長度RSm在10μm以上且在40μm以下。
  2. 如請求項1之附防污膜之玻璃基體，其中前述附防污膜之玻璃基體的霧度在2%以上且在30%以下。
  3. 如請求項1或2之附防污膜之玻璃基體，其係於前述玻璃基體之前述第1主面的表面上依序積層低反射膜及含氟有機矽化合物被膜者。
  4. 如請求項3之附防污膜之玻璃基體，其中前述低反射膜係氧化鈮層與氧化矽層之積層體。
  5. 如請求項4之附防污膜之玻璃基體，其中前述低反射膜係積層有複數膜之積層體，該積層體以整體計積層有2層以上且6層以下之膜。
  6. 如請求項1之附防污膜之玻璃基體，其中前述第1主面之表面粗度RMS在0.08μm以上且在0.20μm以下。
  7. 如請求項3之附防污膜之玻璃基體，其中前述第1主面之表面粗度RMS在0.08μm以上且在0.20μm以下。
  8. 如請求項1之附防污膜之玻璃基體，其中前述第1主面之粗度曲線之要素的平均長度RSm在15μm以上且在35μm以下。
  9. 如請求項3之附防污膜之玻璃基體，其中前述第1主面之粗度曲線之要素的平均長度RSm在15μm以上且在35μm以下。
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