TWI564087B - 塗布裝置及塗布方法 - Google Patents

Description

塗布裝置及塗布方法

本發明涉及一種通過使基板等塗布對象物與噴嘴相對地移動而將塗布液塗布於塗布對象物的塗布裝置及塗布方法。

例如，在將塗布液塗布於太陽電池用面板基板、有機電致發光(Electro Luminescence，EL)顯示裝置用玻璃基板、液晶顯示裝置用玻璃基板、等離子體顯示面板(Plasma Display Panel，PDP)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盤用基板等各種基板的表面時，使用具備狹縫噴嘴的塗布裝置，所述狹縫噴嘴通過以與基板的表面接近的狀態而在水平方向上移動，來將塗布液塗布於該基板的表面。

此種塗布裝置中，採用如下構成：利用管泵(tube bump)或波紋管泵(bellows bump)等根據體積變化來輸送塗布液的泵，將貯存在捕集槽(trap tank)等貯存槽中的塗布液供給到狹縫噴嘴(參照專利文獻1)。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2008-182268號公報

此種塗布裝置中，以前使用具有數cP(厘泊(centipoise))至數十cP程度的黏度的塗布液。然而，近年來，也使用具有數千cP程度的黏度的塗布液。在使用此種塗布液的情况下，當使用管泵或波紋管泵等根據體積變化輸送塗布液的泵來作為泵時，會產生無法根據塗布液的黏度而執行適當的送液的問題。此種現象不僅在塗布液的黏度高的情况下發生，在塗布液的供給系統中產生阻力的情况下，例如對塗布液進行過濾的過濾器中發生堵塞時等也同樣會發生。

為了解决所述問題，而考慮通過將塗布液以經過了加壓的狀態而供給到泵中，從而即便在塗布液的黏度高的情况下，也可適當地對狹縫噴嘴供給塗布液。

圖9是表示對狹縫噴嘴13供給經加壓的塗布液的實施方式的塗布液的供給系統的概要圖。

圖9所示的塗布液的供給系統包括：貯存塗布液的貯存槽61，以及將該貯存槽61內的塗布液朝向狹縫噴嘴13輸送的泵44。在泵44與貯存槽61之間配設著過濾器63與開閉閥53。而且，泵44經由一對開閉閥54、開閉閥55而與狹縫噴嘴13的兩端部連接。此外，狹縫噴嘴13上連接著管路中具備開閉閥56的排氣用 的配管。

貯存塗布液的貯存槽61配設於腔室62內。該腔室62經由調節器49與開閉閥51而與壓縮空氣的供給部連接。因此，如果從壓縮空氣的供給部經由調節器49及開閉閥51來將壓縮空氣供給到腔室62內，則貯存槽61內的塗布液被壓縮。而且，在開閉閥53打開的情况下，塗布液經由過濾器63輸送到泵44。這樣在供給到泵44的塗布液受到加壓的情况下，當使用黏度高的塗布液時，即便在使用管泵或波紋管泵等根據體積變化輸送塗布液的泵來作為泵44的情况下，也可適當地將塗布液供給到狹縫噴嘴13。

圖10是表示利用圖9所示的供給系統供給塗布液時的塗布液的壓力的變化的曲線圖。

圖10所示的曲線圖中，縱軸表示壓力，橫軸表示時間。而且，該曲線圖中，實線表示從貯存槽61輸送到泵44的塗布液的壓力。此外，該曲線圖中，符號A表示泵44可適當運行的最大壓力，符號B表示塗布液的供給源的壓力，即，經調節器41調整的塗布液的壓力，符號C表示泵44可適當運行的最小壓力。

在開始進行塗布液的塗布之前，開閉閥53閉合，泵44的入口處的塗布液的壓力為固定。該狀態下，在開始進行塗布液的塗布時，首先將開閉閥53打開。圖10中的符號a表示將開閉閥53打開的時間點。根據伴隨該開閉閥53的打開的體積變化，泵44的入口處的壓力暫時降低後，會再次上升。而且，隨時間的 經過，泵44的入口處的壓力逐漸上升，而成為與塗布液的供給壓力B一致的壓力。該狀態下，開始進行泵44的抽吸動作，將塗布液供給到泵44。圖10中的符號b表示開始進行泵44的抽吸動作的時間點。

如果泵44開始抽吸動作，而將塗布液供給到泵44，則泵44的入口處的塗布液的壓力急劇降低。而且，根據塗布狀况，如圖10所示，有時泵44的入口處的壓力比泵44可適當運行的最小壓力C小。在發生了此種現象的情况下，因泵44無法適當地執行送液，所以需要應對狹縫噴嘴13的塗布速度降低等，從而無法執行塗布液的適當的塗布動作。

在結束塗布液的塗布時，停止泵44的送液，並將開閉閥54、開閉閥55閉合。圖10中的符號c表示泵44的抽吸動作停止的時間點。泵44的入口處的塗布液的壓力逐漸上升，而成為與塗布液的供給壓力B一致的壓力。該狀態下，如果將開閉閥53閉合，則根據伴隨該開閉閥53的閉合的體積變化，泵44的入口處的壓力暫時上升。

這樣，即便採用將塗布液以經加壓的狀態而供給到泵44的構成的情况下，也會產生泵44的入口處的塗布液的壓力超出泵44可適當運行的壓力的範圍的現象，從而無法適當地塗布塗布液。

本發明為了解决所述課題而完成，目的在於提供一種塗布裝置及塗布方法，即便在塗布液的黏度高的情况下或過濾器等塗布液的供給系統中產生阻力的情况下等，也可適當地對狹縫噴 嘴供給塗布液。

實施型態1所述的發明為一種塗布裝置，通過使塗布對象物與噴嘴相對地移動，而將塗布液塗布於所述塗布對象物，所述塗布裝置的特徵在於包括：貯存槽，貯存塗布液；泵，將貯存在所述貯存槽中的塗布液輸送到所述噴嘴；加壓機構，通過對所述貯存槽內的塗布液進行加壓，而將所述貯存槽內的塗布液壓送到所述泵中；壓力計，對壓送到所述泵中的塗布液的壓力進行測定；以及控制部，根據由所述壓力計測定的塗布液的壓力，來控制所述加壓機構對塗布液的加壓力。

實施型態2所述的發明根據實施型態1所述的塗布裝置，所述控制部根據由所述壓力計測定的塗布液的壓力，來連續地變更所述加壓機構對塗布液的加壓力。

實施型態3所述的發明根據實施型態1所述的塗布裝置，所述控制部根據由所述壓力計測定的塗布液的壓力，分多階段地變更所述加壓機構對塗布液的加壓力。

實施型態4所述的發明根據實施型態1至3中任一項所述的塗布裝置，在將所述泵與所述噴嘴加以連接的管路上，附設用以將所述管路內的塗布液的壓力釋放的壓力釋放部。

實施型態5所述的發明為一種塗布方法，一邊使塗布對象物與噴嘴相對地移動，一邊從所述噴嘴噴出塗布液，由此將塗布液塗布於所述塗布對象物，所述塗布方法的特徵在於包括：加 壓工序，對貯存在貯存槽內的塗布液進行加壓；塗布工序，利用泵將所述加壓工序中加壓的塗布液輸送到所述噴嘴，並從所述噴嘴噴出塗布液，並且使所述塗布對象物與所述噴嘴相對地移動而進行塗布液的塗布；壓力測定工序，對壓送到所述泵中的塗布液的壓力進行測定；以及加壓力控制工序，根據所述壓力測定工序中測定的塗布液的壓力，來對塗布液的加壓力進行控制。

根據實施型態1及實施型態5所述的塗布裝置，即便在塗布液的黏度高的情况下或過濾器等塗布液的供給系統中產生阻力的情况下等，也可一直適當地對狹縫噴嘴供給塗布液。

根據實施型態2所述的塗布裝置，根據由壓力計測定的塗布液的壓力，來連續地變更加壓機構對塗布液的加壓力，從而可將適當壓力的塗布液供給到泵中。

根據實施型態3所述的塗布裝置，因根據由壓力計測定的塗布液的壓力而分階段地變更加壓力，所以能够以簡單的構成將適當壓力的塗布液供給到泵中。

根據實施型態4所述的塗布裝置，可在塗布開始前或塗布結束後，迅速地使泵與噴嘴間的塗布液的壓力降低到通常的壓力為止。

[符號的說明]

11‧‧‧平臺

13‧‧‧狹縫噴嘴

14‧‧‧托架

15‧‧‧噴嘴支撑部

16‧‧‧升降機構

17‧‧‧移行軌道

20‧‧‧線性電動機

21‧‧‧固定件

22‧‧‧移動件

23‧‧‧線性編碼器

31‧‧‧噴嘴清洗裝置

34‧‧‧預分配裝置

35、61‧‧‧貯存槽

36‧‧‧預分配輥

37‧‧‧刮板

40‧‧‧控制部

41、42‧‧‧調節器

43‧‧‧壓力計

44‧‧‧泵

49‧‧‧調節器

51、52、53、54、55、56、57‧‧‧開閉閥

62‧‧‧腔室

63‧‧‧過濾器

100‧‧‧基板

a‧‧‧將開閉閥打開的時間點

A‧‧‧泵可適當運行的最大壓力

b‧‧‧開始進行泵的抽吸動作的時間點

B‧‧‧塗布液的供給源的壓力

c‧‧‧泵的抽吸動作停止的時間點

C‧‧‧泵可適當運行的最小壓力

d‧‧‧泵的抽吸動作停止的時間點

D‧‧‧壓力的下側的基準值

e‧‧‧將作為壓力釋放部發揮功能的開閉閥打開的時間點

E‧‧‧壓力的上側的基準值

X、Y、Z‧‧‧方向

圖1是塗布裝置的立體圖。

圖2是塗布裝置的側面概要圖。

圖3是表示本發明的第一實施方式的塗布液的供給系統的概要圖。

圖4是表示利用本發明的第一實施方式的供給系統供給塗布液時的塗布液的壓力的變化的曲線圖。

圖5是表示本發明的第二實施方式的塗布液的供給系統的概要圖。

圖6是表示利用本發明的第二實施方式的供給系統供給塗布液時的塗布液的壓力的變化的曲線圖。

圖7是表示本發明的第三實施方式的塗布液的供給系統的概要圖。

圖8是表示利用本發明的第三實施方式的供給系統供給塗布液時的塗布液的壓力的變化的曲線圖。

圖9是表示對狹縫噴嘴13供給經加壓的塗布液的實施方式的塗布液的供給系統的概要圖。

圖10是表示利用圖9所示的供給系統供給塗布液時的塗布液的壓力的變化的曲線圖。

以下，根據附圖對本發明的實施方式進行說明。圖1是塗布裝置的立體圖。而且，圖2是塗布裝置的側面概要圖。另外， 圖1中省略噴嘴清洗裝置31及預分配(pre-dispense)裝置34的圖示。而且，圖2中省略托架(carriage)14等的圖示。

該塗布裝置包括用以吸附保持基板100的平臺11。作為該平臺11，使用其上表面的平整度(flatness)設為數微米(micrometer)左右的石定盤等。平臺11上隔開適當的間隔而設置著省略了圖示的多個提升銷。該提升銷在搬入、搬出基板100時，從其下方對基板100加以支撑，以從平臺11的表面向上方上升。

在平臺11的上方，設置著從該平臺11的兩側部分大致水平地架設的托架14。該托架14包括用以對狹縫噴嘴13進行支撑的噴嘴支撑部15、及對該噴嘴支撑部15的兩端進行支撑的左右一對升降機構16。而且，在平臺11的兩端部配設著沿大致水平方向平行地延伸的一對移行軌道17。所述移行軌道17通過對托架14的兩端部進行引導，而使托架14在圖1所示的X方向上來回移動。

在平臺11及托架14的兩側部分，沿著平臺11的兩側的邊緣側配設著一對線性電動機20，該一對線性電動機20分別包括固定件21與移動件22。而且，在平臺11及托架14的兩側部分固定設置著一對線性編碼器(linear encoder)23，該一對線性編碼器23分別包括標尺部與檢測件。該線性編碼器23對托架14的位置進行檢測。

而且，如圖2所示，在平臺11的側方配設著噴嘴清洗裝 置31。該塗布裝置中，在塗布動作執行前或執行後，利用該噴嘴清洗裝置31對狹縫噴嘴13進行清洗。

而且，如圖2所示，在平臺11的側方配設著預分配裝置34。該預分配裝置34包括：預分配輥36，其一部分浸漬於貯存槽35內所貯存的清洗液中；以及刮板(doctor blade)37。預分配輥36與刮板37相對於Y方向具有與狹縫噴嘴13同等以上的長度。而且，預分配輥36利用未圖示的電動機的驅動來進行旋轉。該塗布裝置中，在執行塗布動作前，從已移動到預分配輥36的上方的狹縫噴嘴13噴出少量的塗布液，由此執行如下工序，即，將在噴嘴清洗裝置31的清洗時含有清洗液的塗布液從狹縫噴嘴13內去除。

在由該塗布裝置執行塗布動作時，首先，利用未圖示的搬送機構將基板100搬入至平臺11上。而且，將該基板100吸附保持於平臺上。該狀態下，以使狹縫噴嘴13與吸附保持於平臺11的基板100的表面接近的狀態，利用線性電動機20的驅動使該狹縫噴嘴13沿基板100的表面移動，並且將塗布液供給到基板100的表面。由此，在基板100的表面形成塗布液的薄膜。

圖3是表示本發明的第一實施方式的塗布液的供給系統的概要圖。

圖3所示的塗布液的供給系統包括：貯存塗布液的貯存槽61，將該貯存槽61內的塗布液朝向狹縫噴嘴13輸送的泵44。為了保證塗布液的潔淨性，而使用管泵或波紋管泵等根據體積變 化輸送塗布液的泵作為泵44。在泵44與貯存槽61之間配設著過濾器63與開閉閥53。而且，泵44經由一對開閉閥54、開閉閥55，而與狹縫噴嘴13的兩端部連接。而且，狹縫噴嘴13上連接著管路中具備開閉閥56的排氣用的配管。此外，在開閉閥53與泵44之間的配管上，配設著用以測定壓送到泵44中的塗布液的壓力的壓力計43。

貯存塗布液的貯存槽61配設於腔室62內。該腔室62經由作為壓力調整部的壓力可變型的調節器49與開閉閥51，而與壓縮空氣的供給部連接。該壓力可變型的調節器49為被稱作電動氣動調節器(electro-pneumatic regulator)等的調節器，且可根據控制信號連續地變更供給到腔室62的壓縮空氣的壓力。

通過採用此種構成，如果從壓縮空氣的供給部經由調節器49及開閉閥51而將壓縮空氣供給到腔室62內，則貯存槽61內的塗布液被壓縮。而且，在將開閉閥53打開的情况下，塗布液在由調節器49控制的壓力的作用下，經由過濾器63輸送到泵44中。在這樣對供給到泵44的塗布液進行加壓的情况下，當使用黏度高的塗布液時，即便在使用管泵或波紋管泵等根據體積變化而輸送塗布液的泵來作為泵44的情况下，也可適當地將塗布液供給到泵44中。

該塗布裝置包括：執行邏輯運算的中央處理器(central processing unit，CPU)，儲存裝置的控制所需的運行程序的唯讀記憶體(read-only memory，ROM)，在控制時暫時地儲存數據等的 隨機存取記憶體(Random Access Memory，RAM)等，且包括對整個裝置進行控制的控制部40。該控制部40與所述調節器49及壓力計43連接。另外，該控制部40如後述那樣，根據由壓力計44測定的塗布液的壓力來調整調節器49，由此執行對塗布液的加壓力進行控制的控制動作。

圖4是表示利用圖3所示的供給系統供給塗布液時的塗布液的壓力的變化的曲線圖。

圖3所示的曲線圖中，縱軸表示壓力，橫軸表示時間。而且，該曲線圖中，實線表示從貯存槽61輸送到泵44的塗布液的壓力，即，泵44的入口側的壓力。此外，該曲線圖中，符號A表示泵44可適當運行的最大壓力，符號B表示塗布液的供給源的壓力，即，經調節器49調整的塗布液的壓力，符號C表示泵44可適當運行的最小壓力，符號D表示壓力的下側的基準值，符號E表示壓力的上側的基準值。

在開始進行塗布液的塗布之前，將開閉閥51打開，且將開閉閥53閉合。因此，應供給到泵44的塗布液的壓力為固定。該狀態下，在開始進行塗布液的塗布時，首先將開閉閥53打開。圖4中的符號a表示將開閉閥53打開的時間點。根據伴隨該開閉閥53的打開的體積變化，泵44的入口處的壓力暫時降低後，會再次上升。而且，隨時間的經過，泵44的入口處的壓力逐漸上升，而成為與塗布液的供給壓力B一致的壓力。該狀態下，開始進行泵44的抽吸動作，將塗布液供給到泵44。圖4中的符號b表示開 始進行泵44的抽吸動作的時間點。

如果泵44開始抽吸動作，而將塗布液供給到泵44，則泵44的入口處的塗布液的壓力急劇降低。而且，如果泵44的入口處的塗布液的壓力比壓力的下側的基準值D低，則利用控制部40的控制來對調節器49進行調整，從而供給到腔室62的壓縮空氣的壓力、即供給到泵44的塗布液的壓力上升。而且，在圖4中實線所示的泵44的入口處的塗布液的壓力超過壓力的上側的基準值E的時間內，供給到泵44的塗布液的壓力固定為此時的壓力。由此，供給到泵44的塗布液的壓力維持為適當值。

在結束塗布液的塗布時，停止泵44的送液，並將開閉閥54、開閉閥55閉合。圖4中的符號c表示泵44的抽吸動作停止的時間點。此時，利用控制部40的控制對調節器49進行調整，泵44的入口處的塗布液的壓力逐漸下降，而成為與塗布液的供給壓力B一致的壓力。該狀態下，如果將開閉閥53閉合，則根據伴隨該開閉閥53的閉合的體積變化，泵44的入口處的壓力暫時上升。

這樣，在本實施方式的塗布裝置中，因採用根據由壓力計43測定的塗布液的壓力來控制加壓力的構成，所以即便在塗布液的黏度高的情况下或過濾器63等塗布液的供給系統中產生阻力的情况下等，也可一直適當地對泵44供給塗布液。

接下來，對本發明的塗布裝置中的塗布液的供給系統的另一實施方式進行說明。圖5是表示本發明的第二實施方式的塗 布液的供給系統的概要圖。另外，圖5中，對與圖3所示的第一實施方式相同的構件附上相同的符號並省略詳細的說明。

該第二實施方式的塗布裝置使用與圖9相同的普通的調節器41，來代替圖3所示的第一實施方式的塗布裝置中的壓力可變型的調節器49。而且，在該第二實施方式的塗布裝置中，除經由調節器41外，還經由普通的其他調節器42與開閉閥52，而將腔室62與壓縮空氣的供給部連接。該調節器42的設定壓力比調節器41的設定壓力高。而且，開閉閥52利用控制部40的控制而在泵44的抽吸動作的執行中執行開閉動作。

圖6是表示利用圖5所示的供給系統供給塗布液時的塗布液的壓力的變化的曲線圖。

圖6所示的曲線圖中，縱軸表示壓力，橫軸表示時間。而且，該曲線圖中，實線表示從貯存槽61輸送到泵44的塗布液的壓力，即，泵44的入口側的壓力。此外，該曲線圖中，符號A表示泵44可適當運行的最大壓力，符號B表示塗布液的供給源的壓力，即，經調節器49調整的塗布液的壓力，符號C表示泵44可適當運行的最小壓力，符號D表示壓力的下側的基準值。

與所述第一實施方式同樣地，在泵44的抽吸動作前，將開閉閥51打開，且將開閉閥53閉合。因此，應供給到泵44的塗布液的壓力為固定。而且，將開閉閥52閉合。該狀態下，在開始對泵44供給塗布液時，首先將開閉閥53打開。圖6中的符號a表示將開閉閥53打開的時間點。根據伴隨該開閉閥53的打開的 體積變化，泵44的入口處的壓力暫時降低後，會再次上升。而且，隨時間的經過，泵44的入口處的壓力逐漸上升，而成為與塗布液的供給壓力B一致的壓力。該狀態下，通過泵44開始進行抽吸動作而開始供給塗布液。圖6中的符號b表示開始進行泵44的抽吸動作的時間點。

如果泵44開始抽吸動作，而開始對泵44供給塗布液，則泵44的入口處的塗布液的壓力急劇降低。而且，如果泵44的入口處的塗布液的壓力比壓力的下側的基準值D低，則利用控制部40的控制來將開閉閥52打開，從而供給到腔室62的壓縮空氣的壓力，即供給到泵44的塗布液的壓力上升。由此，供給到泵44的塗布液的壓力維持為適當值。

圖6中的符號c表示泵44的抽吸動作停止的時間點。而且，此時，利用控制部40的控制將開閉閥52閉合，從而供給到泵44的塗布液的壓力降低到當初的壓力為止。由此，泵44的入口處的塗布液的壓力逐漸下降，而成為與塗布液的供給壓力B一致的壓力。該狀態下，如果將開閉閥53閉合，則根據伴隨該開閉閥53的閉合的體積變化，泵44的入口處的壓力暫時上升。

接下來，對本發明的塗布裝置的塗布液的供給系統的又一實施方式進行說明。圖7是表示本發明的第三實施方式的塗布液的供給系統的概要圖。另外，圖7中，對與圖3所示的第一實施方式相同的構件，附上相同的符號並省略詳細的說明。

該第三實施方式的塗布液的供給系統相對於圖3所示的 第一實施方式的塗布液的供給系統，在泵44與開閉閥54、開閉閥55之間，附設具備開閉閥57的壓力釋放部。具備該開閉閥57的壓力釋放部用以將連接泵44與狹縫噴嘴13的管路內的塗布液的壓力釋放。

圖8是表示利用該供給系統供給塗布液時的塗布液的壓力的變化的曲線圖。

圖8中符號c所示的直到泵44的抽吸動作停止為止的動作，與圖4所示的第一實施方式相同。即，如果泵44的抽吸動作停止，調節器49受到調整而供給到泵44的塗布液的壓力降低到當初的壓力為止，則泵44的入口處的塗布液的壓力也逐漸下降，而成為與塗布液的供給壓力B一致的壓力。圖8中的符號d表示該時間點。

如果在圖8中符號d表示的時間點，將開閉閥53閉合，則根據伴隨該開閉閥53的閉合的體積變化，泵44的入口處的壓力暫時上升。而且，當在圖8中符號e所示的時間點將作為壓力釋放部發揮功能的開閉閥57打開時，泵44與開閉閥54、開閉閥55之間的壓力下降，泵44的入口處的壓力也下降。而且，當在圖8中符號d所示的時間點將開閉閥57打開時，在該時間點，泵44與開閉閥54、開閉閥55之間的壓力下降，泵44的入口處的壓力也下降。

根據該第三實施方式的塗布液的供給系統，對圖3所示的第一實施方式的塗布液的供給系統追加作為壓力釋放部發揮功 能的開閉閥57，因而可使泵44附近的壓力迅速且穩定地降低到大氣壓附近為止。可不依存於供給壓力的設定，而一直使塗布開始時的泵44與開閉閥54、開閉閥55間的塗布液的壓力為固定。

另外，所述實施方式中，均在腔室62內配設貯存塗布液的貯存槽61，並採用加壓機構，所述加壓機構通過對腔室62內進行加壓而將貯存槽61內的塗布液加壓並將貯存槽內61的塗布液壓送到泵44中。然而，也可採用通過對貯存塗布液的可撓性的槽進行物理加壓等，而將貯存槽內的塗布液壓送到泵44中的加壓機構。

而且，在所述實施方式中，均將本發明應用於如下的塗布裝置，所述塗布裝置使狹縫噴嘴13相對於載置於平臺11上的矩形狀的基板100移動，由此對作為塗布對象物的基板100塗布塗布液。然而，也可將本發明應用於如下的塗布裝置中，即，使用長條的基材作為塗布對象物，並使該基材相對於噴嘴移動，由此將塗布液塗布於基材的表面。

13‧‧‧狹縫噴嘴

61‧‧‧貯存槽

40‧‧‧控制部

43‧‧‧壓力計

44‧‧‧泵

49‧‧‧調節器

51、53、54、55、56‧‧‧開閉閥

62‧‧‧腔室

63‧‧‧過濾器

Claims (5)

1. 一種塗布裝置，通過使塗布對象物與噴嘴相對地移動，而將塗布液塗布於所述塗布對象物，所述塗布裝置包括：貯存槽，貯存塗布液；泵，將貯存在所述貯存槽中的塗布液輸送到所述噴嘴；加壓機構，通過對所述貯存槽的內部供給壓縮空氣而對貯存槽內的塗布液進行加壓，而將所述貯存槽內的塗布液壓送到所述泵中；壓力計，對在供給至所述泵之前向所述泵壓送的塗布液的壓力進行測定；以及控制部，根據由所述壓力計測定的塗布液的壓力，藉由控制所述泵的抽吸開始以及終止時向所述貯存槽的內部供給的壓縮空氣的壓力，來控制所述加壓機構對塗布液的加壓力。
2. 如申請專利範圍第1項所述的塗布裝置，其中：所述控制部根據由所述壓力計測定的塗布液的壓力，來連續地變更所述加壓機構對塗布液的加壓力。
3. 如申請專利範圍第1項所述的塗布裝置，其中：所述控制部根據由所述壓力計測定的塗布液的壓力，分多階段地變更所述加壓機構對塗布液的加壓力。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的塗布裝置，其中：在將所述泵與所述噴嘴加以連接的管路上，附設用以將所述 管路內的塗布液的壓力釋放的壓力釋放部。
5. 一種塗布方法，一邊使塗布對象物與噴嘴相對地移動，一邊從所述噴嘴噴出塗布液，由此將塗布液塗布於所述塗布對象物，所述塗布方法包括：加壓工序，對貯存槽的內部供給壓縮空氣而對貯存在貯存槽內的塗布液進行加壓；塗布工序，利用泵將所述加壓工序中加壓的塗布液輸送到所述噴嘴，並從所述噴嘴噴出塗布液，並且使所述塗布對象物與所述噴嘴相對地移動而進行塗布液的塗布；壓力測定工序，對在供給至所述泵之前向所述泵壓送的塗布液的壓力進行測定；以及加壓力控制工序，根據所述壓力測定工序中測定的塗布液的壓力，藉由控制所述泵的抽吸開始以及終止時向所述貯存槽的內部供給的壓縮空氣的壓力，來對塗布液的加壓力進行控制。