JP2019171271A - 塗布装置、塗布方法およびディスプレイ用部材の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 スリットノズルやブレードなどの塗布先端部が一方向に延在した塗布ヘッドを用いての非接触の塗布において、基材表面に接触することなく塗布ヘッドと基材表面間の間隔を塗布先端部が延在する方向にわたって高精度かつ容易に短時間で設定でき、さらに塗布の途中でもこの間隔を高精度に調整可能とする。【解決手段】 一方向に延在する塗布先端部を備える塗布ヘッド、塗布液供給手段、基材を保持する基材保持手段、前記塗布ヘッドの前記塗布先端部と前記基材の被塗布面とを略一定間隔、かつ、略平行に調整可能に前記塗布ヘッドを支持する塗布ヘッド保持手段を有し、該塗布ヘッド保持手段はさらに、塗布ヘッドの両側に、前記基材の被塗布面などに対してその気体噴出面から気体を噴出して所定の間隔で離間せしむる気体噴出手段および前記塗布ヘッドの前記塗布先端部と前記気体噴出面との相対距離を調節できる位置調整手段を有する塗布装置とする。【選択図】図１

Description

この発明は、例えば液晶ディスプレイ用カラーフィルタ、有機ＥＬ等のディスプレイ用部材、また、光学フィルター、プリント基板、集積回路、半導体等の分野において、ガラス基板などの枚葉基材やフィルムなどの連続した基材の表面に非接触で塗布液を塗布するための塗布装置および塗布方法、並びに本塗布方法を使用したディスプレイ用部材の製造方法に関する。

カラー液晶ディスプレイは、カラーフィルタ、ＴＦＴ用アレイ基板などにより構成されている。カラーフィルタ、ＴＦＴ用アレイ基板の製造には、低粘度の液体材料を塗布して乾燥させ、塗布膜を形成する製造工程が多く含まれている。

たとえば、カラーフィルタの製造工程では、ガラス基板上に黒色のフォトレジスト材の塗布膜を形成し、フォトリソ法により塗布膜を格子状に加工した後に、格子間に赤色、青色、緑色のフォトレジスト材の塗布膜を順次形成していく。

このような塗布膜をガラス基板等の基材表面上に、定められた厚さで精密に、しかも非接触で形成する手段としてはおおきく２つの手段が挙げられる。ひとつはポンプ等により前計量された量の塗布液を塗布ヘッドであるスリットノズルから、基材表面上に塗布液を吐出して所定厚さの塗布膜を形成するスリットコータ（例えば特許文献１）である。もうひとつは、あらかじめ余剰に供給された塗布液を別の塗布ヘッドであるブレードにより正確に掻きとって、後計量により所定厚さの塗布膜を形成するブレードコータ（例えば特許文献２）である。特にブレードコータによる塗布では、ブレード先端と被塗布面である基材表面間の間隔の半分の間隔が塗布膜の厚さとなるので、塗布膜の厚さが所望とする厚さと異なっているときは、所望の厚さになるようにブレード先端と基材表面間の間隔を調整することが必要となる。すなわちブレードコータでは、前記の間隔をいかに精度よく、しかも容易に短時間で設定できるかが、高品質で安定連続多量製造を行う場合のポイントとなる。

一方、スリットコータによる塗布は前計量方式なので、吐出口と基材表面との間隔が塗布膜の厚さに直接的に影響を及ぼすことはない。しかし、生産性を高めるために高速で塗布を行う場合には、この間隔を小さくすることが求められる。特に厚さ１０μｍ以下の薄い塗布膜を、１００ｍｍ／ｓ以上の高速で形成するには、この間隔は大きくても数１０μｍ以下であることが必要となる。そのような小さな間隔を精度よく維持することが必要であるし、また一方、塗布液の物性が経時的に変化することもあって、同じ製造速度で塗布していたとしてもこの間隔の調整が必要となる。

求められている塗布ヘッドと基材表面間の間隔を、基材表面を基準面として非接触で設定できる手段としては、エアーベアリング等から構成されるエアー浮上手段からの気体の噴出で、基材表面上から塗布ヘッド（ノズル）を浮上させるもの（例えば特許文献３）、エアー浮上手段に拠っては数μｍしか浮上させないが、エアー浮上手段と塗布ヘッドの先端間に距離（オフセット量）を設けて、基材表面と塗布ヘッドの先端間の間隔を確保するもの（例えば特許文献４）等がある。いずれも、エアー浮上手段の浮上量を変化させることで上記の間隔も変化して調整できるが、浮上量が１０μｍ以上に大きくなっていくと浮上量の変動量も大きくなり、ミクロン単位での調整は困難である。

気体により浮上している基材の両端を、さらに垂直精密ステージからなるパッド高さ調整部で微量に上下させて調整するもの（例えば特許文献５）も知られている。この場合、塗布ヘッドは固定で、基材の上下位置を変化させて間隔を調整することになるが、基材の両端の調整量が大きくなると、基材中央部の気体による浮上量が追従できず、基材中央と両端で間隔が異なってしまう不都合がある。

以上公知の技術では、基材表面に接触することなく、塗布ヘッドと基材表面間の間隔を高精度かつ容易に短時間で設定でき、さらに塗布の操作の実行途中でもこの間隔をミクロン単位のレベルで調整できるものはない、というのが実状である。

特開平６−３３９６５６号公報 特開２０１１−１６１４２４号公報 特開平１０−１９２７６４号公報 特開２０１４−１８０６０３号公報 特開２０１２−２０４５００号公報

本発明は、上述の事情に基づいて行ったもので、その目的とするところは、スリットノズルやブレードなどの塗布が行われる塗布先端部が一方向に延在した塗布ヘッドを用いた基材に非接触で行う塗布液の塗布において、基材表面に接触することなく塗布ヘッドと基材表面間の間隔を、塗布先端部が延在する方向にわたって高精度かつ容易に短時間で設定でき、さらに塗布液の塗布途中でもこの間隔を高精度に調整可能とする塗布装置および塗布方法、並びにこの塗布方法用いたディスプレイ用部材の製造方法を提供することにある。

上記本発明の目的は、以下に述べる手段によって達成される。

本発明に係る塗布装置は、一方向に延在した塗布先端部を備える塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドに塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記塗布ヘッドの前記塗布先端部に相対して基材を保持する基材保持手段と、前記塗布ヘッドの前記塗布先端部と前記基材の被塗布面とを略一定間隔、かつ、略平行に調整可能に前記塗布ヘッドを支持する塗布ヘッド保持手段とを有し、該塗布ヘッド保持手段は、前記塗布ヘッドの両側に、気体を噴出するその気体噴出面と前記基材の被塗布面または前記基材を支持する部材の面または該部材上に載置される別部材の面を気体の噴出により所定の間隔で離間せしむる気体噴出手段、および、前記塗布ヘッドの前記塗布先端部と前記気体噴出面との相対距離を変更可能に前記気体噴出手段の前記塗布ヘッド保持手段内での前記塗布ヘッドに対する相対位置を調節できる位置調整手段を有することを特徴とする。

また、前記基材保持手段は、基材を吸着して保持する吸着盤であること、また、前記基材保持手段は、基材をその外周面に抱かせることによって該基材を保持するロール状の部材であること、が好ましい。

また、本発明に係る塗布方法は、前記の塗布装置を用い、略一定の速度で上記気体噴出手段から気体を噴出するとともに、前記位置調整手段によって前記気体噴出手段の前記塗布ヘッド保持手段内での前記塗布ヘッドに対する相対位置を調節しつつ、前記塗布ヘッドから前記基材の被塗布面に対して塗布液を吐出して基材に塗布液を塗布する塗布液の塗布方法である。

また、本発明にかかるディスプレイ用部材の製造方法は、前記の塗布方法を用いての塗布液の塗布工程が含まれることを特徴とする。

本発明によれば、気体噴出手段からの略一定速度での気体の噴出によって安定して一定の離間距離を保てるとともに前記の位置調整手段によって気体噴出手段の塗布ヘッド保持手段内での前記塗布ヘッドに対する相対位置を調整できるので、基材表面に接触することなく、基材の被塗布面と塗布ヘッドの塗布先端部との間隔を高精度かつ容易に短時間で設定できる。また設定後も、この間隔を精度良く一定に保つことや、所望の間隔に調整することができる。

また、好ましくはこの間隔を小さい値にて精度良く維持・調整できるのでスリットコータにあっては高速での安定した塗布が可能となる。

本発明に係る塗布装置の例の概略正面図である。 図１に示す塗布装置の概略側面図である。 別の塗布ヘッドを用いた本発明の実施態様を示す概略拡大正面図である。 本発明に係る別の塗布装置の態様を示す概略正面図である。 本発明に係るさらに別の塗布装置の態様を示す概略側面図である。

以下、本発明について、図面を参照して具体的な例を挙げつつ説明する。ただし、本発明はこの例に限定して解釈されるものではなく、本発明の目的・効果を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

図１は、本発明に係る塗布装置１の概略正面図、図２は塗布装置１の概略側面図である。

なお、この図１は、図２におけるＹ１−Ｙ１に対応しての矢視図であり、従って、塗布ヘッド内の構造も図示されている。また、図２のＹ１−Ｙ１を挟んでＹ軸方向に一対で存在する構成については、図２で矢視される方向に存在する構成が図１に表されている。

図１と図２に図示される塗布装置１は、基材保持手段に対応する吸着保持台２０と該吸着保持台２０を自在にＸ方向に移動させる手段を具備した基材保持・駆動部２、吸着保持台２０に吸着保持されている基板Ａに塗布液を塗布する塗布ヘッド１０と、間隔調整手段に対応する塗布ヘッド１０の両側面側に存する１対の間隔調整部９Ａ、９Ｂと、および、吸着保持台２０側に向かって気体を噴出する気体噴出手段に対応するエアーベアリング３Ａ、３Ｂを保持する塗布ヘッド保持手段に対応する共通保持部４、を有している。また、この共通保持部４はＹ−Ｚ面内で揺動運動（ある範囲内の往復動）させるＹＺ揺動機構５と、Ｘ−Ｚ面内で揺動運動させるＸＺ揺動機構６に拠って支持されている。さらにＸＺ揺動機構６の一部に係合している昇降機構７によって、共通保持部４に保持されている塗布ヘッド１０を大まかではあるが任意位置へ昇降することが可能である。また、塗布ヘッド１０には塗布液を供給する塗布液供給装置８が流体的に連結されている。

なお、この例において、基材保持・駆動部２は符号２０〜２３の機素群で示され、共通保持部４は符号４０〜４３の機素群で示され、ＹＺ揺動機構５は符号５０〜５４の機素群で示され、ＸＺ揺動機構６は符号６０〜６４の機素群で示され、昇降機構７は符号７１〜７３の機素群で示され、塗布液供給装置８は符号８０〜８９の機素群で示され、間隔調整部９Ａ、９Ｂは符号９１〜９９の機素群で示され、塗布ヘッド１０は符号１１〜１７の機素群で示されている。

以上の構成を説明した塗布装置１で塗布等を行うための動作は、図示されていないコンピュータからなる制御装置により制御される。

次に、塗布装置１を構成する各部分の詳細について、引き続いて図１、２を参照しながら説明する。まず、基材保持・駆動部２は、幅ＷＡの基板Ａを吸着保持する吸着保持台２０、吸着保持台２０をリニア軸受２３を介してＸ方向（図１の矢印方向）に案内する１対のガイドレール２２Ａ、２２Ｂ、ガイドレール２２Ａ、２２Ｂを固定支持するベース台２１より構成されている。そして吸着保持台２０は、図示されていないリニアモータで駆動されて、Ｘ方向に自在に往復動することができる。

次に、塗布装置１の例では、吸着保持台２０に吸着保持されている基板Ａに塗布液を塗布する塗布ヘッド１０は、スリットノズルであり、Ｙ方向に延在するフロントリップ１１とバックアップリップ１２がシム１３を間に挟んでＸ方向に締結固定されている。そして、塗布先端部となる先端面１７は基材である基板Ａに対向している。塗布液供給装置８から供給ホース８５Ｄを介して塗布ヘッド１０に供給される塗布液は、塗布ヘッド１０の内部のマニホールド１４で幅方向（Ｙ方向）に広がりスリット１５を経て、最下面となる先端面１７にある吐出口１６から基板Ａ上に均一に吐出される。そして、この塗布ヘッド１０においては塗布先端部である先端面１７も一方向（Ｙ方向）に延在する。

なお、塗布装置１の例では、塗布液供給装置８は、塗布ヘッド１０に塗布液を供給する塗布液供給手段であり、供給ホース８５Ｄの上流側に、フィルター８６、供給バルブ８４Ｄ、シリンジポンプ８０、吸引バルブ８４Ｕ、吸引ホース８５Ｕ、タンク８７を備えている。タンク８７には塗布液８８が蓄えられており、圧空源８９に連結されて任意の大きさの背圧を塗布液８８に付加することができる。タンク８７内の塗布液８８は、吸引ホース８５Ｕを通じてシリンジポンプ８０に供給される。

シリンジポンプ８０では、シリンジ８１、ピストン８２が本体８３に取り付けられている。ここでピストン８２は図示しない駆動源によって上下方向に自在に往復動できる。シリンジポンプ８０は、一定の内径を有するシリンジ８１内に塗布液８８を充填し、それをピストン８２により押し出して、塗布ヘッド１０に基板Ａを所定枚塗布する分の塗布液を供給する間欠駆動定容量型のポンプである。

シリンジ８１内に塗布液８８を充填するときは、吸引バルブ８４Ｕを開、供給バルブ８４Ｄを閉として、ピストン８２を下方に移動させる。またシリンジ８１内に充填された塗布液８８を塗布ヘッド１０に向かって供給するときは、吸引バルブ８４Ｕを閉、供給バルブ８４Ｄを開とし、ピストン８２を上方に移動させる。

塗布装置１の例では、シリンジポンプ８０から塗布液が供給される塗布ヘッド１０は、吐出口１６を下向きにして、共通保持部４の保持板４０にスペーサ４１を介して保持されている。スペーサ４１は、塗布ヘッド１０の上下方向寸法が異なる場合でも、保持板４０の保持面４２から塗布ヘッド１０の先端面１７までの長さを一定に保つための寸法調整具として用いられている。保持板４０の保持面４２には最下部にエアーベアリング３Ａ、３Ｂを備える１対の間隔調整部９Ａ、９Ｂのブラケット９５Ａ、９５Ｂも保持されている。ここでエアーベアリング３Ａ、３Ｂは、塗布ヘッド１０の両側面側、すなわちＹ方向での両側、に配置されている。保持板４０はさらに、中央部に固定された回転軸受４３を介して、ＹＺ揺動機構５のＸ軸回転軸５１にＸ軸回りに回転自在に保持されている。したがって保持板４０は、Ｙ−Ｚ面内でＸ軸回転軸５１を中心とした揺動運動を行うことができる。これに伴って、保持板４０に保持されている塗布ヘッド１０、間隔調整部９Ａ、９Ｂも、Ｙ−Ｚ面内でＸ軸回転軸５１を中心とした揺動運動を行うことができる。

さらにＹＺ揺動機構５で、Ｘ軸回転軸５１はＬ型形状でＹ方向に延びるＬ型ブラケット５０に固定されている。Ｌ型ブラケット５０にはまた、１対のスプリングプランジャー５２Ａ、５２Ｂが取り付けられている。スプリングプランジャー５２Ａ、５２Ｂは、Ｌ型ブラケット５０に固定されている本体５３Ａ、５３Ｂに対し、可動子５４Ａ、５４Ｂがばねの作用により上下方向に伸縮する。可動子５４Ａ、５４Ｂの先端は保持板４０の上面に接触しており、Ｌ型ブラケット５０はその構成上常に水平を保っている。したがって、保持板４０で保持するものにＸ軸回転軸５１を中心とした重さのわずかなアンバランスがあっても、スプリングプランジャー５２Ａ、５２Ｂのばねの作用により、保持板４０とその保持物は重い方に傾かず、略水平を保つことができる。

Ｌ型ブラケット５０のＹ方向の一端は、ＸＺ揺動機構６のアーム６０のＸ方向端部に締結固定されている。アーム６０は、２つのピロー軸受６２にＹ軸回りに回転自在に保持されているＹ軸回転軸６１に連結固定されているので、アーム６０はこれに固定されているＬ型ブラケット５０とともに、Ｘ−Ｚ面内でＹ軸回転軸６１を中心とした揺動運動を行うことができる。なおピロー軸受６２は、その最下部が図示されていない架台に固定されている。Ｙ軸回転軸６１にはまた、アーム６０が連結固定されている端部のＹ方向逆側端部で、ウェイトアーム６３が連結固定されている。ウェイトアーム６３のＸ方向端部には錘６４が保持されているので、錘６４によってＹ軸回転軸６１回りの荷重調整を行うことができる。

さらにアーム６０には、昇降機構７のカムフォロアー７１が固定されている。昇降機構７は、カムフォロアー７１にモータ７３で随意に回転させることができるカム７２を係合（接触）／非係合（離接）させる構成をしている。したがってモータ７３でカム７２を図１の実線の状態から一点鎖線の状態まで回転させると、カム７２とカムフォロアーが係合し、カム７２の外形形状に従ってカムフォロアー７１とともにアーム６０を、Ｙ軸回転軸６１回りに揺動させることができる。このＹ軸回転軸６１回りの揺動は、アーム６０の上下方向の往復動となるので、その結果として、アーム６０の先にＬ型ブラケット５０等を介して連結されている塗布ヘッド１０が上下方向に昇降できることになる。なおモータ７３も、図示されていない架台に固定されている。

なお、塗布装置１の例では、エアーベアリング３Ａ、３Ｂは連結軸９１Ａ、９１Ｂに球面支持されて基板Ａ上を気体浮上しており、気体噴出手段であるエアーベアリング３Ａ、３Ｂの気体噴出面３１Ａ、３１Ｂは、ＹＺ揺動機構５とＸＺ揺動機構６の作用によって基板Ａの被塗布面である上面にならう（略平行面となる）ことができる。気体浮上する時の気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから基板Ａに気体を介して作用する荷重は、ＸＺ揺動機構６の錘６４によって、気体浮上できる範囲の荷重に調整することができる。なおエアーベアリング３Ａ、３Ｂの気体噴出面３１Ａ、３１Ｂは多孔質構造で、図示されないチューブからエアーベアリング３Ａ、３Ｂに供給される圧縮空気等の気体を面内の全領域にわたって均一分布の流速（速度）で噴出することができる。気体噴出面３１Ａ、３１Ｂと基板Ａの上面が略平行な状態で一定の荷重が基板Ａに作用し、これを持ち上げるように気体が均一に噴出されるので、エアーベアリング３Ａ、３Ｂは基板Ａ上を所定の間隔、すなわち一定の気体浮上量、で安定して気体浮上することができる。以上の結果として、エアーベアリング３Ａ、３ＢがＸ方向に走行する時に、基板Ａの上面の凹凸状態にならって一定の気体浮上量を維持して気体浮上するので、エアーベアリング３Ａ、３Ｂは基板Ａの凹凸状態に応じて上下方向（Ｚ方向）に上下動する。これと同時に、保持板４０にエアーベアリング３Ａ、３Ｂとともに保持されている塗布ヘッドの１０の先端面１７も、基板Ａの凹凸状態に応じて上下方向に上下動することになる。その結果、基板Ａの上面と塗布ヘッド１０の先端部である先端面１７との間隔である間隔Ｃは、常に一定になることになる。以上よりエアーベアリング３Ａ、３Ｂは、気体浮上量だけ隔て基材の被塗布面である基板Ａの上面に相対して気体を気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから噴出する気体噴出手段となる。

なお、非接触で一定の距離を保つことが可能であればエアーベアリング以外の手段として、帯電材料を用いての静電気的反発を利用した手段、磁石や電磁石などを用いての磁気的反発を利用した手段であっても構わないが、空気による浮上手段が簡便である。

なお間隔Ｃは、間隔調整部９Ａ、９Ｂによって、エアーベアリング３Ａ、３Ｂの気体噴出面３１Ａ、３１Ｂと塗布ヘッド１０の先端面１７との相対距離を調節することで、任意の値に調整することができる。間隔調整部９Ａ、９Ｂにおいてエアーベアリング３Ａ、３Ｂを球面支持する連結軸９１Ａ、９１Ｂは、保持ブロック９２Ａ、９２Ｂに連結固定されている。さらに保持ブロック９２Ａ、９２Ｂは、これに固定されているリニア軸受９３Ａ、９３Ｂと、保持板４０が保持するブラケット９５Ａ、９５Ｂに固定されているレール９４Ａ、９４Ｂによって、上下方向に案内される。そして上下方向の移動量は差動ねじ９７Ａ、９７Ｂで調整でき、移動量の大きさはリニアセンサー９６Ａ、９６Ｂで知ることができる。なお差動ねじ９７Ａ、９７Ｂは、固定されたおねじである固定ねじ９８Ａ、９８Ｂに対して、固定ねじ９８Ａ、９８Ｂに係合するめねじと保持板４０に係合するおねじを備える回転ねじ９９Ａ、９９Ｂを回転させることで、１回転でめねじとおねじのピッチの差だけ相対移動するので、微小量の移動調整に使用できるものである。以上より間隔調整部９Ａ、９Ｂは、塗布ヘッド１０の塗布先端部である先端面１７と気体噴出面３１Ａ、３１Ｂとの相対距離を調節して間隔Ｃを自在に調整可能な間隔調整手段であるといえる。

以上の構成で、エアーベアリング３Ａ、３Ｂが基板Ａの上面を気体浮上している時に、間隔調整部９Ａ、９Ｂの差動ねじ９７Ａ、９７Ｂを作動させると、ＸＺ機構６とＹＺ機構５の作用により、基板Ａに対して保持板４０が上下方向に相対移動する。その結果、保持板４０に固定されている塗布ヘッド１０の先端面１７も、基板Ａに対して相対移動する。このことから塗布ヘッド１０の先端面１７と基板Ａの上面との間隔Ｃは、差動ねじ９７Ａ、９７Ｂによって微小に調節することができる。このようなことが可能なのは、間隔Ｃの調整機構を構成する気体噴出手段であるエアーベアリング３Ａ、３Ｂと、位置調整手段である間隔調整部９Ａ、９Ｂが、塗布ヘッド１０とともに塗布ヘッド保持手段である共通保持部４に保持されていることによる。すなわち、塗布ヘッド保持手段である共通保持部４は、直交する２軸回りの揺動運動を可能にするＹＺ揺動機構５とＸＺ揺動機構６によって、塗布ヘッド１０の塗布先端部である先端面１７と基材の被塗布面である基板Ａの上面とを略一定間隔、かつ、略平行に調整可能に、塗布ヘッド１０を支持できる。そのように作用する共通保持部４はさらに、塗布ヘッド１０の両側に気体噴出手段であるエアーベアリング３Ａ、３Ｂを有し、エアーベアリング３Ａ、３Ｂの気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから、基板Ａの上面に対して気体を噴出して、気体噴出面３１Ａ、３１Ｂと基板Ａの上面とを所定の間隔で離間せしむることができる。それとともに共通保持部４は、塗布ヘッド１０の塗布先端部である先端面１７と気体噴出面３１Ａ、３１Ｂとの相対距離を変更可能にエアーベアリング３Ａ、３Ｂの共通保持部４内での塗布ヘッド１０に対する相対位置を調節できる位置調整手段である間隔調整部９Ａ、９Ｂを有している。この構成によって、エアーベアリング３Ａ、３Ｂの気体噴出面３１Ａ、３１Ｂが基板Ａの上面に一定間隔で離間しつつ塗布のために移動できることと、塗布ヘッド１０の先端面１７と気体噴出面３１Ａ、３１Ｂとの相対距離は一定であること、さらに塗布ヘッド１０の先端面１７と気体噴出面３１Ａ、３１Ｂとの相対距離は調節して変更できることの結果、塗布先端部である塗布ヘッド１０の先端面１７と基材の被塗布面である基板Ａの上面との位置関係を常に任意の値で一定に保持できるので、両者間の間隔を所定の値で略一定に保持できる。なお、塗布ヘッド１０の先端面１７と基板Ａの上面とを略一定間隔、かつ、略平行に調整可能に塗布ヘッド１０を共通保持部４が支持できるようにするＹＺ揺動機構５とＸＺ揺動機構６については、上記の態様に限られるものではなく、気体噴出面が基材の被塗布面に一定間隔で離間しつつ移動できる作用をもたらす機構であれば特に制限されるものではない。

間隔調整部９Ａ、９Ｂを用いて間隔Ｃを微量調整する具体的な手順は、次の通りである。

基板Ａの上面と塗布ヘッド１０の塗布先端部である先端面１７との間隔である間隔Ｃは、気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから先端面１７までの相対距離ＬＺに、気体噴出面３１Ａ、３１Ｂの基板Ａの上面に対する気体浮上量（これをＣ０とする）を足し合わせたものとなる。すなわち、Ｃ＝ＬＺ＋Ｃ０である。まず、使用する塗布ヘッドが変わっても気体浮上量Ｃ０を、常に５μｍ以下の一定の値にするため、１）エアーベアリング３Ａ、３Ｂに供給する気体の圧力を予め定めた圧力Ｐ０にする。これによって所望の略一定の速度（気体噴出速度）でエアーベアリング３Ａ、３Ｂから気体を噴出する、２）エアーベアリング３Ａ、３Ｂが基板Ａに着地している時の荷重を測定し、こちらも予め定めた負荷荷重ｗ０となるように、錘６４の大きさを調整する。続いて現状の間隔Ｃを測定し、設定したい値との過不足分を差動ねじ９７Ａ、９７Ｂ用いて調整する。この時の差動ねじ９７Ａ、９７Ｂによる移動量はリニアセンサー９６Ａ、９６Ｂによる測定値を参照して知ることができる。

以上のように、間隔調整部９Ａ、９Ｂを用いた間隔Ｃの調整では、Ｃ＞Ｃ０にし、しかも微量の気体浮上量Ｃ０でエアーベアリング３Ａ、３Ｂが気体浮上している状態で、エアーベアリング３Ａ、３Ｂの気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから先端面１７までの相対距離ＬＺを変更して行うので、１）気体浮上による変動量は微量な気体浮上量Ｃ０以下であるので、間隔Ｃの変動を極小にできる、２）エアーベアリング３Ａ、３Ｂによる気体浮上量Ｃ０の値に関係なく、大きくしかも精密に間隔Ｃを調節することができる。なお、気体浮上中の間隔Ｃの変動については、気体浮上量Ｃ０を１μｍ以下にすれば、ほぼゼロにすることができる。気体浮上量Ｃ０を１μｍ以下にするには、エアーベアリング３Ａ、３Ｂに供給する気体の圧力Ｐ０を小さくするか、錘６４の重さを小さくして、エアーベアリング３Ａ、３Ｂの気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから基板Ａに作用する荷重が大きくなるようにする。

なお前記の例では間隔調整部９Ａ、９Ｂでは、エアーベアリング３Ａ、３Ｂの上下方向の微量移動（相対距離ＬＺの微量調節）に差動ねじを用いたが、ボールねじとナット、リニアアクチュエータ、マイクロメータヘッド、コッター等も好適に用いることができる。さらに手動調整としているのを、電動調整に変更したり、リニアセンサー９６Ａ、９６Ｂと組み合わせて自動化するのも、容易に行うことができる。

次に塗布ヘッド１０を別の塗布ヘッド１００に置き替えた場合について、図３を用いて説明する。図３は、別の塗布ヘッド１００を用いた実施態様を示す概略拡大正面図であるが、図１で塗布ヘッド１０を塗布ヘッド１００に入れ替え、塗布ヘッド１００の周辺だけを取り出して拡大したものである。図３を参照すると、塗布ヘッド１００のフロントリップ１１の上側は厚さＬＤのスペーサ１０１を介して保持板４０に固定されている。これによって、直接保持板４０に固定されているバックアップリップ１２のバックアップ先端部１０２とフロントリップ１１のフロント先端部１０３との間に長さＬＤの段差が設けられる。なお塗布ヘッド１０と保持板４０の間にあったスペーサ４１は、塗布ヘッド１００の上下方向の寸法調整のために取り出して省略されている。塗布ヘッド１００の場合の間隔Ｃは、基板Ａの上面と塗布先端部であるフロント先端部１０３との間隔となる。塗布ヘッド１００は、長さＬＤだけ飛び出ているフロントリップ１１の上流側に貯めた余剰の塗布液を掻きとって計量するブレード塗布またはナイフ塗布と呼ばれる塗布が行えるものである。塗布ヘッド１００で塗布した塗布膜Ｄの塗布厚さｔは、粘度等の塗布液の物性や塗布速度に関係なく、ｔ＝Ｃ／２となる。したがって塗布ヘッド１００で塗布をして、塗布厚さｔが目標値と異なる時は、間隔調整部９Ａ、９Ｂを使用して、目標の塗布厚さｔがえられるように、間隔Ｃを調整すればよい。

なお、本発明において用いうる塗布ヘッドは、一方向に延在する塗布先端部を有していればよく、矩形状の一つの吐出口として延在するものであっても、多数のノズル孔が全体として直線状に配列した態様であっても構わない。

次に本発明の例として別の態様である塗布装置２００を、図４を用いて説明する。図４は、塗布装置２００の概略正面図である。

図４の塗布装置２００は、図１の塗布装置１で、１）枚葉基材である基板Ａを連続基材の一種であるフィルムＢに置き替える、２）基材保持・駆動部２のすべてをローラ２０２に置き替える、３）エアーベアリング３Ａ、３Ｂを、気体噴出面２０４Ａ、２０４Ｂがローラ２０２の外周面と合致する円筒面を備えたエアーベアリング２０３Ａ、２０３Ｂに置き替える、他はすべて塗布装置１と同じである。塗布装置２００では連続基材であるフィルムＢに塗布できるとともに、間隔Ｃを調整できる。また塗布装置２００での基材保持手段は、連続体である基材となるフィルムＢを、その外周面に抱かせることによって保持するロール状の部材であるローラ２０２となる。エアーベアリング２０４、２０４Ｂは、ローラ２０２に保持されたフィルムＢの上面を気体浮上している。したがって、フィルムＢの厚さむらや、ローラ２０２の振れ回りがあっても、それに追従してエアーベアリング２０３Ａ、２０３Ｂが気体浮上するので、フィルムＢの上面と塗布ヘッド１０の先端面１７間の平行間隔である間隔Ｃは常に一定の値となる。また間隔調整部９Ａ、９Ｂを用いれば、容易に間隔Ｃを調節することができる。なおローラ２０２は、自由回転するものであっても、駆動回転するものであっても何れでも構わない。

また塗布液供給装置８のシリンジポンプ８０を用いれば間欠塗布が行えるが、これを連続的に塗布液を送液するモーノポンプ等の連続式ポンプに置き換えれば、フィルムＢ上に連続して塗布液を塗布することができる。

さらに塗布ヘッド１０を塗布ヘッド１００に置換して、ブレードによる塗布を行うこともできる。この場合、フィルムＢの上面とフロント先端部１０３との間の間隔である間隔Ｃを常に一定に保てるので、非常に膜厚精度の高い塗布を行うことができる。さらに間隔調整部９Ａ、９Ｂを用いれば、膜厚調整も容易に行える。

次に本発明の例としてさらに別の態様である塗布装置３００を、図５を用いて説明する。図５は、塗布装置３００の概略側面図である。

図５の塗布装置３００は、図２の塗布装置１で、１）基板Ａを幅ＷＡからそれよりも小さい幅ＷＢのものに置き替える、２）エアーベアリング３Ａ、３Ｂの下に、基板Ａと同じ厚さでＸ方向（紙面に垂直な方向）に延びる案内板３０１Ａ、３０１Ｂを配置する、他は、塗布装置１と全く同じである。塗布装置１では、エアーベアリング３Ａ、３Ｂを避けた基板Ａの内側にしか塗布できないが、上記の変更により塗布装置３００では基板Ａの全幅に塗布できて、基板を有効活用することが可能となる。

また、基板Ａの厚さと案内板３０１Ａ、３０１Ｂの厚さが異なる場合は、厚さの差の分だけ間隔調整部９Ａ、９Ｂで調整（オフセット調整）して、基板Ａの上面と先端面１７との間隔である間隔Ｃが一定になるようにしてもよい。

さらに吸着保持台２０の上面（吸着面）の表面精度が非常に高ければ、案内板３０１Ａ、３０１Ｂを取り去って、エアーベアリング３Ａ、３Ｂを、吸着保持台２０の上面上で気体浮上させてもよい。この場合は、基板Ａごとに厚さを測定し、間隔調整部９Ａ、９Ｂで調整して、間隔Ｃが一定になるようにする。なおここで、案内板３０１Ａ、３０１Ｂの上面や吸着保持台２０の上面は、基材の被塗布面である基板Ａの上面に略平行な面となる。

案内板３０１Ａ、３０１Ｂの上面や吸着保持台２０の上面に対して、エアーベアリング３Ａ、３Ｂの気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから気体を噴出して所望の間隔で離間する。すなわち案内板３０１Ａ、３０１Ｂの上面や吸着保持台２０の上面は、気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから所望の間隔で離間して気体が噴出される面となる。さらに吸着保持台２０の上面は基材を支持する部材の面となり、案内板３０１Ａ、３０１Ｂの上面は基材を支持する部材上に載置される別部材の面となる。

さらにこれに関連して図４の塗布装置２００で、フィルムＢの幅を塗布ヘッド１０の塗布幅（塗布液吐出幅）まで小さくして、エアーベアリング２０３Ａ、２０３Ｂをローラ２０２の外周面上で気体浮上するようにしてもよい。ポリエチレンテレフタレートフィルムは厚さむらが非常に小さく、厚さの絶対値も安定して一定なので、これをフィルムＢに使用し、間隔調整部９Ａ、９Ｂでオフセット量を一度調整して、フィルムＢの上面と先端面１７との間隔である間隔Ｃが一定になるようにしてもよい。この場合、追加の調整は不要で、しかもエアーベアリング２０３Ａ、２０３ＢをフィルムＢ上で気体浮上させているのと、遜色ない塗布結果が得られる。

なお塗布装置３００でも、塗布ヘッド１０を塗布ヘッド１００に置き換えて塗布することもできるし、塗布厚さの調整も行える。

次に図１の塗布装置１を用いての塗布の例を、その準備段階も含めて手順１〜手順５に分けて説明する。手順４ないし手順５の操作を繰り返すことで、何枚もの枚葉の基板Ａに対して、略一定の速度で気体噴出手段であるエアーベアリング３Ａ、３Ｂから気体を噴出するとともに、位置調整手段となる間隔調整部９Ａ、９Ｂによってエアーベアリング３Ａ、３Ｂの塗布ヘッド保持手段である共通保持部４内での塗布ヘッド１０に対する相対位置を調節しつつ、塗布ヘッド１０から基材の被塗布面である基板Ａの上面に対して塗布液を吐出して基板Ａに塗布することができる。

（手順１）
塗布前の準備段階での操作である。塗布ヘッド１０を塗布装置１に取付け、エアーベアリング３Ａ、３Ｂが安定して基板Ａ上を気体浮上して、間隔Ｃが変動せず一定になるようにする。そのためにまず、昇降機構７のカムフォロアー７１とカム７２が係合しない状態（接触しない状態）にしてから、Ｘ軸回転軸５１の中心直下での荷重を秤量計を使用して測定する。そしてその値が、エアーベアリング３Ａ、３Ｂが定められた気体浮上量Ｃ０だけ気体浮上する時の気体噴出面３１Ａ、３１Ｂでの負荷荷重ｗ０の２倍（２ｗ０）となるように、錘６４の大きさを調整する。つづいて昇降機構７のカムフォロアー７１とカム７２を係合させ、塗布ヘッド１０が上昇するようにカム７２を回転させる。それから基板Ａを吸着保持台２０に吸着保持してから、予め定めた圧力Ｐ０の気体である圧縮空気をエアーベアリング３Ａ、３Ｂに供給する。これによって気体噴出面３１Ａ、３１Ｂで作用する荷重が負荷荷重ｗ０の時に、エアーベアリング３Ａ、３Ｂが定められた気体浮上量Ｃ０だけ気体浮上するように、気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから所望の一定の気体噴出速度で圧縮空気が噴出する。常に一定の気体噴出速度で圧縮空気が噴出すると、それに応じて気体浮上量Ｃ０も常に一定になるので、気体浮上量Ｃ０に相対距離ＬＺを付加した間隔Ｃも常に一定となる。この結果、間隔Ｃを長時間にわたって安定して維持できる。

それから昇降機構７で塗布ヘッド１０を下降させ、エアーベアリング３Ａ、３Ｂの気体噴出面３１Ａ、３１Ｂを基板Ａ上に空気を介して非接触で着地させて、気体浮上量Ｃ０だけ気体浮上させる。気体浮上時には、カムフォロアー７１とカム７２は係合せず、離れている。

（手順２）
引き続いて塗布前の準備段階での操作である。ここでの操作は間隔Ｃを調整する。前の手順により、エアーベアリング３Ａ、３Ｂが定められた気体浮上量Ｃ０だけ気体浮上しているので、この状況での間隔Ｃ１を測定する。測定された値と塗布時の予定の間隔（設定）である間隔ＣＦとの偏差を求め、間隔調整部９Ａ、９Ｂの差動ねじ９７Ａ、９７Ｂを用いて、偏差分だけエアーベアリング３Ａ、３Ｂを移動させて、予定の間隔ＣＦに調整する。エアーベアリング３Ａ、３Ｂの移動量は、リニア―センサー９６Ａ、９６Ｂの測定値を見て確認する。調整が完了すれば、昇降機構７を作動させて塗布ヘッド１０を上昇させて、基板Ａから引き離す。その後、吸着保持台２０を図１の左端の始点位置に移動させ、間隔Ｃの調整に使用した基板Ａを取り外す。

（手順３）
さらに引き続いて塗布前の準備段階での操作である。ここでの操作は塗布液供給装置８を使用した塗布液供給のための準備である。まず、シリンジポンプ８０を使用して、タンク８７の塗布液８８を塗布ヘッド１０に送り込み、タンク８７から塗布ヘッド１０の吐出口１６まで、塗布液８８を充満させる。塗布液８８を充満させる過程で、タンク８７から塗布ヘッド１０までの経路内の残留エアーを排出する作業も行う。そして塗布液供給装置８は、シリンジ８１に塗布液８８が充填、吸引バルブ８４Ｕは閉、供給バルブ８４Ｄは開、そしてピストン８２は最下端の位置にし、いつでも塗布液８８を塗布ヘッド１０に供給できるようにしておく。

（手順４）
塗布の操作である。基板Ａを吸着保持台２０に吸着保持させる。つづいて基板Ａの塗布開始位置が塗布ヘッド１０の吐出口１６の直下に来るまで基板Ａを移動させ、そこで停止させる。つづいて昇降機構７を作動させて、塗布ヘッド１０を下降させて、エアーベアリング３Ａ、３Ｂを基板Ａ上に空気を介して非接触で着地させ、気体浮上させる。この時、基板Ａと塗布ヘッド１０の先端面１７との間隔は、塗布時の予定の間隔ＣＦとなる。

つづいてシリンジポンプ８０を駆動し、所定吐出速度で塗布ヘッド１０から塗布液を吐出して先端面１７と基板Ａ間に液溜りであるビードを形成するとともに、シリンジポンプ８０の駆動開始から一定時間Ｔ１秒後に吸着保持台２０を、定めた塗布速度でＸ方向（図１の矢印方向）に移動を開始して、塗布液の基板Ａへの塗布を行い、塗布膜Ｄを形成する。

基板Ａの塗布終了位置が塗布ヘッド１０の吐出口１６の位置にきたら、シリンジポンプ８０を停止させて塗布液の供給を停止するとともに、昇降機構７を作動させて塗布ヘッド１０を上昇させる。これによって基板Ａと塗布ヘッド１０の先端面１７の間に形成されたビードが断ち切られ、塗布が終了する。

なお、塗布の状態はモニターされ、塗布液の物性の経時的な変動などによって塗布状態に変化が見られたときは、間隔調整部９Ａ、９Ｂを作動させて間隔Ｃを調整する。その必要が無い場合は間隔調整部９Ａ、９Ｂを作動させることは無いが、そのような場合であっても、本発明にいう位置調整手段による気体噴出手段の塗布ヘッド内での相対位置の調節を行っての塗布に該当することはいうまでもない。

塗布終了後も吸着保持台２０は塗布速度にて移動を続け、終点位置（図１の右端）にきたら停止する。

（手順５）
塗布終了後の操作と次の塗布の準備のための操作である。

吸着保持台２０の吸着を解除して、塗布された基板Ａを取り出し、乾燥等の次工程に搬送する。基板Ａを取り出したら、吸着保持台２０を左端の始点位置に移動させる。本手順が開始してから、その他の動作と平行して、塗布液供給装置８の供給バルブ８４Ｄを閉、吸引バルブ８４Ｕを開にしてから、シリンジポンプ８０のピストン８２を下向きに移動させて、タンク８７の塗布液８８をシリンジ８１に次の塗布のために充填する。充填完了後、ピストン８２を停止させ、吸引バルブ８４Ｕを閉、供給バルブ８４Ｄを開にして、待機する。

以降は塗布する基板枚数だけ、手順４と手順５を繰り返す。

なお、上記の塗布装置１では、塗布ヘッド１０をＸ方向に固定にし、基板Ａを吸着保持台２０に吸着してＸ方向に移動させて塗布を行ったが、吸着保持台２０を固定し、塗布ヘッド１０とそれに連なるものをＸ方向に移動させて、塗布を行ってもよい。

以下実施例により本発明の具体的態様の例を示しつつ説明する。

３７０×４７０ｍｍで厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板を基板Ａとして使用し、純水による洗浄によって基板上のパーティクルを除去後、塗布装置１で上記に記載した塗布方法により、基板Ａ中の３１０（Ｙ方向）×４１０（Ｘ方向）の面領域に、ブラックマトリックス材の厚さ１０μｍの塗布膜を形成した。

使用した塗布ヘッド１０は、スリット１５のＹ方向長さが３１０ｍｍ、スリット１５の間隙（Ｘ方向長さ）は０．１ｍｍで、３１０ｍｍ幅の塗布膜を形成できるものであった。エアーベアリング３Ａ、３Ｂについては、セラミック多孔質構成のものを使用し、気体噴出面３１Ａ、３１Ｂの平面度はいずれも３μｍ以下であった。

また気体噴出面３１Ａ、３１Ｂは、Ｘ方向に１５ｍｍ、Ｙ方向に５ｍｍの矩形状で、基板ＡのＹ方向両端から１０ｍｍの範囲に位置させて、基板Ａ上で気体浮上するようにした。気体浮上量Ｃ０は１μｍに設定し、そのためにエアーベアリング３Ａ、３Ｂへ供給する圧縮空気の圧力Ｐ０は０．５ＭＰａに調整するとともに、気体噴出面３１Ａ、３１Ｂが基板Ａ上に着地する時に気体噴出面３１Ａ、３１Ｂで作用する負荷荷重ｗ０がそれぞれで０．４ｋｇとなるように、錘６４の重さを調整した。

また間隔Ｃが３０μｍとなるように、間隔調整部９Ａ、９Ｂを使用して、気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから塗布ヘッド１０の先端面１７までの相対距離ＬＺが２９μｍとなるように調整した。

吸着保持台２０は４００ｍｍ（Ｙ方向）×５００ｍｍ（Ｘ方向）×１００ｍｍ（Ｚ方向）の石製のものを使用し、上面の４００ｍｍ（Ｙ方向）×５００ｍｍ（Ｘ方向）の全面を吸着面とした。また上面は平面度が２μｍ以下になるように仕上げられていた。

塗布条件としては、塗布速度は１００ｍｍ／ｓ、シリンジポンプ８０による塗布ヘッド１０からの吐出速度（流量）は３１０μｌ／ｓ、であった。

なお塗布したブラックマトリックス材としては、遮光材としてカーボンブラック、バインダーとしてアクリル樹脂、溶剤にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を使用し、これに感光剤を添加して、固形分濃度２０％、粘度１０ｍＰａｓに調整したペーストを用いた。

ブラックマトリックス材が塗布された基板Ａを次に乾燥工程に搬送し、３０秒で６５Ｐａに到達する真空乾燥を６０秒行ってから、１００℃のホットプレートで１０分間さらに乾燥した。ついで露光・現像・剥離を行った後、２６０℃のホットプレートで３０分加熱して、キュアを行い、基板Ａの幅方向（Ｙ方向）にピッチが２５４μｍ、基板Ａの塗布方向（Ｘ方向）にピッチが８５μｍ、線幅が２０μｍ、ＲＧＢ画素数が４８００（基板塗布方向）×１２００（基板幅方向）、対角の長さが２０インチ（基板Ａの塗布幅方向（Ｙ方向）に３０５ｍｍ、基板Ａの塗布方向（Ｘ方向）に４０８ｍｍ）となる格子形状で、厚さが１μｍとなるブラックマトリックス膜の格子を作製した。

なお、ブラックマトリックス膜の格子のある基板Ａを１００枚作製したが、ブラックマトリックス塗布工程で、５０枚目で塗布膜にすじ状の膜切れ欠点が発生した。すぐに間隔調整部９Ａ、９Ｂを作動して、間隔Ｃを３０μｍから２５μｍに減じたところ、５１枚目以降は塗布膜に欠点が発生することなく正常に塗布できた。基材表面に接触することなく、基材の被塗布面と塗布ヘッドの塗布先端部との間隔を高精度かつ容易に短時間で設定できたので、１００ｍｍ／ｓの高い塗布速度を維持して安定した塗布を継続して実施できた。

この後、ブラックマトリックス膜の格子を作製した基板Ａを、次のＲＧＢ画素の作製工程に供給し、カラーフィルタを作製した。

本発明は、カラー液晶ディスプレイ用カラーフィルタ、有機ＥＬ等の基板上や、フィルム等のフレキシブルな基材の面上に、面状の液体塗布膜を形成する各種ディスプレイ用部材の製造に利用可能である。

１ 塗布装置
２ 基材保持・駆動部
３Ａ、３Ｂ エアーベアリング
４ 共通保持部
５ ＹＺ揺動機構
６ ＸＺ揺動機構
７ 昇降機構
８ 塗布液供給装置
９Ａ、９Ｂ 間隔調整部
１０ 塗布ヘッド
１１ フロントリップ
１２ バックアップリップ
１３ シム
１４ マニホールド
１５ スリット
１６ 吐出口
１７ 先端面
２０ 吸着保持台
２１ ベース台
２２Ａ、２２Ｂ ガイドレール
２３ リニア軸受
３１Ａ、３１Ｂ 気体噴出面
４０ 保持板
４１ スペーサ
４２ 保持面
４３ 回転軸受
５０ Ｌ型ブラケット
５１ Ｘ軸回転軸
５２Ａ、５２Ｂ スプリングプランジャー
５３Ａ、５３Ｂ 本体
５４Ａ、５４Ｂ 可動子
６０ アーム
６１ Ｙ軸回転軸
６２ ピロー軸受
６３ ウェイトアーム
６４ 錘
７１ カムフォロアー
７２ カム
７３ モータ
８０ シリンジポンプ
８１ シリンジ
８２ ピストン
８３ 本体
８４Ｕ 吸引バルブ
８４Ｄ 供給バルブ
８５Ｕ 吸引ホース
８５Ｄ 供給ホース
８６ フィルター
８７ タンク
８８ 塗布液
８９ 圧空源
９１Ａ、９１Ｂ 連結軸
９２Ａ、９２Ｂ 保持ブロック
９３Ａ、９３Ｂ リニア軸受
９４Ａ、９４Ｂ レール
９５Ａ、９５Ｂ ブラケット
９６Ａ、９６Ｂ リニアセンサー
９７Ａ、９７Ｂ 差動ねじ
９８Ａ、９８Ｂ 固定ねじ
９９Ａ、９９Ｂ 回転ねじ
１００ 塗布ヘッド
１０１ スペーサ
１０２ バックアップ先端部
１０３ フロント先端部
２００ 塗布装置
２０２ ローラ
２０３Ａ、２０３Ｂ エアーベアリング
２０４Ａ、２０４Ｂ 気体噴出面（円形）
３００ 塗布装置
３０１Ａ、３０１Ｂ 案内板

Ａ 基板（枚葉基材）
Ｂ フィルム（連続基材）
Ｃ 間隔
Ｄ 塗布膜
ＬＺ 相対距離（気体噴出面３１Ａ、３１Ｂから先端面１７までの）
ｔ 塗布厚さ
ＷＡ 幅（基板Ａの）
ＷＢ 幅（別の基板Ａの）

Claims (5)

1. 一方向に延在する塗布先端部を備える塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドに塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記塗布ヘッドの前記塗布先端部に相対して基材を保持する基材保持手段と、前記塗布ヘッドの前記塗布先端部と前記基材の被塗布面とを略一定間隔、かつ、略平行に調整可能に前記塗布ヘッドを支持する塗布ヘッド保持手段とを有し、該塗布ヘッド保持手段はさらに、前記塗布ヘッドの両側に、気体を噴出するその気体噴出面と前記基材の被塗布面または前記基材を支持する部材の面または該部材状に載置される別部材の面を気体の噴出により所定の間隔で離間せしむる気体噴出手段および前記塗布ヘッドの前記塗布先端部と前記気体噴出面との相対距離を変更可能に前記気体噴出手段の前記塗布ヘッド保持手段内での前記塗布ヘッドに対する相対位置を調節できる位置調整手段を有することを特徴とする塗布装置。
2. 前記基材保持手段は、基材を吸着して保持する吸着盤であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
3. 前記基材保持手段は、基材をその外周面に抱かせることによって該基材を保持するロール状の部材であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
4. 請求項１〜３の何れかに記載の塗布装置を用い、略一定の速度で前記気体噴出手段から気体を噴出するとともに、前記位置調整手段によって前記気体噴出手段の前記塗布ヘッド保持手段内での前記塗布ヘッドに対する相対位置を調節しつつ、前記塗布ヘッドから前記基材の被塗布面に対して塗布液を吐出して基材に塗布液を塗布する塗布液の塗布方法。
5. 請求項４に記載の塗布方法を用いての塗布液の塗布工程が含まれるディスプレイ用部材の製造方法。

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