JP2009004545A - 基板載置装置および基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リフトピン33、ベース部材60、排気機構65、気体供給機構66などを備える基板載置装置3において、ベース部材60の上面に凹部61を設け、その凹部61内に板状部材70を設置する。また、板状部材70の上面には、上側突起71を設け、下面には、下側突起72を設ける。これにより、基板載置装置3のメンテナンスが容易となり、また維持コストなどを削減できる。また、基板90の載置の際に起こる基板90の滑りを抑制できる。さらに、凹部61内の空気の循環が良くなり、基板90の処理時間を短縮できる。
【選択図】図4
Description
<1.1.基板処理装置の構成>
図1は、本発明に係る基板処理装置1の全体斜視図である。なお、図1において、図示および説明の都合上、Z軸方向が鉛直方向を表し、XY平面が水平面を表すものとして定義するが、それらは位置関係を把握するために便宜上定義するものであって、以下に説明する各方向を限定するものではない。以下の各図についても同様である。
次に、基板載置装置の動作について説明する。図5から図7は、本実施の形態における基板90の載置および引き上げ手順を説明するための図である。図示しない基板搬送機構(搬送ロボットなど)やオペレータなどが、基板90を載置面30上方に運んできた時点で、基板載置装置3の動作が始まる。ここで、最初に基板90を基板載置装置3の載置面30に載置(吸着)完了するまでの手順を説明する。次に、載置された基板90の吸着状態を解除して、基板90を載置面30から引き上げる手順について説明する。
次に第2の実施の形態について説明する。第1の実施の形態では、上側突起71および下側突起72が設けられた板状部材70を用いた実施例について説明した。ここで、板状部材70に突起を設けずに、板状部材70の表面に対して所定の加工を施すことにより、基板の載置あるいは剥離を効率的に行うことができる。ここでは、その実施例について説明する。
第1および第2の実施の形態では、直方体形状の板状部材70,70aを用いた実施例について説明した。しかし、直方体形状のものに限られず、同様の効果を得ることが可能である。
第1ないし第3の実施の形態では、ベース部材60に凹部61が一箇所にのみ設けられた実施例について説明した。ここで、基板90の載置場所について、基板90の撓みを最小限に抑えるために、基板90の四隅全てが、板状部材70上ではなくベース部材60上に載っていることがより好ましい。ところが、基板90のサイズが板状部材70の大きさよりも小さい場合などにおいては、基板90の四隅がベース部材60の上面に載らないことにより、基板に撓みが生じ、処理を均一に行えない虞れがある。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
2 本体部
3,3c 基板載置装置
30,30c 載置面
31 走行レール
33 リフトピン
331 端縁部リフトピン
332 中央部リフトピン
335 第1昇降機構
336 第2昇降機構
4 架橋構造
41 スリットノズル
60,60c ベース部材
61,61c 凹部
62,62c 排気口
63 ピン孔
64 配管
65 排気機構
66 気体供給機構
70,70a,70b,70c 板状部材
71,71c 上側突起
72 下側突起
73,73a,73c 貫通孔
90,90c 基板
Claims (14)
- 基板が載置される基板載置装置であって、
上面に凹部が形成されるベース部材と、
前記凹部の内部に設置される板状部材と、
を備え、
前記ベース部材の上面のうちの前記凹部周辺の面と前記板状部材の上面とで前記基板が載置される載置面が形成されることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1に記載の基板載置装置であって、
前記板状部材の上面に複数の上側突起が設けられ、前記凹部周辺の面と前記上側突起の上端とで前記載置面が形成されることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1または2に記載の基板載置装置であって、
前記載置面を形成する前記板状部材の上面は、所定の粗さを有するように加工されていることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板載置装置であって、
前記板状部材の下面には、複数の下側突起が設けられていることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板載置装置であって、
前記板状部材の下面は、所定の粗さを有するように加工されていることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の基板載置装置であって、
前記板状部材の形状が格子状であることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の基板載置装置であって、
前記板状部材には、貫通孔が設けられていることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載の基板載置装置であって、
前記板状部材はガラス製であることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載の基板載置装置であって、
前記板状部材は金属製であることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1ないし9のいずれかに記載の基板載置装置であって、
前記ベース部材の前記凹部の底面に設けられた排気口を介して、前記凹部内の雰囲気を排気する排気手段をさらに備えることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1ないし10のいずれかに記載の基板載置装置であって、
前記凹部内に気体を供給する気体供給手段をさらに備えることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1ないし11のいずれかに記載の基板載置装置であって、
前記載置面と前記載置面よりも上方の位置との間で前記基板を昇降させる昇降手段をさらに備えることを特徴とする基板載置装置。 - 請求項1ないし12のいずれかに記載の基板載置装置であって、
前記ベース部材の上面には、複数の前記凹部が設けられ、
前記複数の凹部のうちの少なくとも1つの内部には前記板状部材が設置されており、
前記板状部材が設置された凹部のうちの少なくとも1つの凹部周辺の面と前記少なくとも1つの凹部の内部に設置された板状部材の上面とで前記載置面が形成されることを特徴とする基板載置装置。 - 基板を処理する基板処理装置であって、
基板を載置する基板載置装置と、
第1の方向に延びるスリット状の吐出口から前記基板載置装置に載置された前記基板に向けて所定の処理液を吐出するスリットノズルと、
前記第1の方向と直交する第2の方向に、前記基板と前記スリットノズルとを相対的に移動させる移動手段と、
を備え、
前記基板載置装置が、
上部に凹部が形成されるベース部材と、
前記凹部に設置される板状部材と、
を備え、
前記ベース部材の上面のうちの前記凹部周辺の面と前記板状部材の上面とで前記基板が載置される載置面が形成されることを特徴とする基板処理装置。
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