KR20180077038A - 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기판 처리 시스템 - Google Patents

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KR20180077038A
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마사후미 이노우에
아키히코 다키
히로키 다니구치
다카요시 다나카
유타 나카노
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

(과제) 기판과 자외선 조사기 사이의 공간의 분위기를 보다 단시간에 소정의 분위기로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.
(해결 수단) 기판 처리 장치(10)는, 기판 유지대(1)와, 자외선 조사 수단(2)과, 통부재(3)와, 기체 공급 수단(41, 42)을 구비하고 있다. 자외선 조사 수단(2)은, 작용 공간(H1)을 사이에 두고 기판(W1)과 대향하도록 배치되어 있고, 자외선을 기판(W1)을 향해 조사한다. 통부재(3)는, 기판 유지대(1)의 측면(1b)을 둘러싸는 내면(3a)을 갖고, 내면(3a) 중 측면(1b)과 대향하는 적어도 1개의 위치에 적어도 1개의 개구부(31a)를 갖는다. 기체 공급 수단(42)은, 적어도 1개의 개구부(31a)를 경유하여, 기판 유지대(1)의 측면(1b)과 통부재(3)의 내면(3a) 사이의 공간에 기체를 공급한다. 기체 공급 수단(41)은 기판(W1)과 자외선 조사 수단(2) 사이의 작용 공간(H1)에 기체를 공급한다.

Description

기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기판 처리 시스템{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM}
이 발명은, 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기판 처리 시스템에 관한 것이다.
종래부터, 반도체 기판(이하, 단순히 「기판」이라 한다.)의 제조 공정에서는, 기판 처리 장치를 이용하여 산화막 등의 절연막을 갖는 기판에 대해 다양한 처리가 실시된다. 예를 들면, 표면 상에 레지스트의 패턴이 형성된 기판에 처리액을 공급함으로써, 기판의 표면에 대해 에칭 등의 처리가 행해진다. 또, 에칭 등의 종료 후, 기판 상의 레지스트를 제거하는 처리도 행해진다.
기판 처리 장치로 처리되는 기판에는, 기판 처리 장치에 반입되기 전에, 드라이 에칭이나 플라즈마 CVD(Chemical Vapor Deposition) 등의 드라이 공정이 행해지고 있다. 이러한 드라이 공정에서는, 디바이스 내에 전하가 발생하여 대전되므로, 기판은, 대전된 상태로 기판 처리 장치에 반입된다(소위, 반입 대전). 그리고, 기판 처리 장치에 있어서, SPM액과 같은 비저항이 작은 처리액이 기판 상에 공급되면, 디바이스 내의 전하가, 디바이스로부터 처리액으로 급격하게 이동해(즉, 처리액 중으로 방전되어), 당해 이동에 따른 발열로 인해 디바이스에 데미지가 발생할 우려가 있다.
그래서, 종래부터, 기판의 대전을 방지하는 대전 방지 장치가 사용되고 있다(예를 들면 특허 문헌 1). 이 대전 방지 장치는 가스 공급 경로 및 조사부를 구비하고 있다. 조사부는 유리 기판에 대해 자외선을 조사한다. 가스 공급 경로는, 유리 기판과 조사부 사이의 공간에 연통하고 있다. 산소를 포함한 가스가 이 가스 공급 경로를 지나, 당해 공간으로 공급된다. 이 상태에서 유리 기판에 자외선이 조사됨으로써, 유리 기판의 표면이 친수화되어, 유리 기판의 대전이 방지된다. 또, 이 자외선에 의해서, 당해 공간의 산소가 오존으로 변화된다. 이 오존에 의해서 유리 기판의 친수화가 촉진된다.
또한, 본 발명에 관련된 기술로서, 특허 문헌 2~4를 게시한다.
일본국 특허 공개 2008-60221호 공보 일본국 특허 공개 평 11-221535호 공보 일본국 특허 제4017276호 공보 일본국 특허 제5752760호 공보
기판과 자외선 조사기 사이의 공간에 공기가 잔류하고 있으면 자외선이 공기 중의 산소에 흡수되어 유해한 오존이 발생하거나 자외선 강도가 감쇠하므로, 당해 공간의 분위기가 소정의 분위기가 되고 나서, 자외선 조사기에 의한 자외선의 조사를 개시할 필요가 있다. 예를 들면 당해 공간의 산소 농도가 소정의 범위 내가 되었을 때, 자외선의 조사를 개시한다.
또 기판 처리의 스루풋 향상을 위해서는, 당해 공간의 분위기가 보다 단시간에 소정의 분위기가 되는 것이 바람직하다.
그래서, 본 발명은, 기판과 자외선 조사기 사이의 공간의 분위기를 보다 단시간에 소정의 분위기로 하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 기판 처리 장치의 제1의 양태는, 기판 유지대와, 자외선 조사 수단과, 통부재와, 제1 기체 공급 수단과, 제2 기체 공급 수단을 구비하고 있다. 기판 유지대는 기판이 올려놓아지는 제1 상면 및 측면을 갖는다. 자외선 조사 수단은, 작용 공간을 사이에 두고 기판과 대향하도록 배치되어 있어 자외선을 기판을 향해 조사한다. 통부재는, 기판 유지대의 측면을 둘러싸는 내면을 갖고, 당해 내면 중 당해 측면과 대향하는 적어도 1개의 위치에 적어도 1개의 측방 개구부를 갖는다. 제1 기체 공급 수단은, 적어도 1개의 측방 개구부를 경유하여, 기판 유지대의 측면과 통부재의 내면 사이의 공간에 기체를 공급한다. 제2 기체 공급 수단은 기판과 자외선 조사 수단 사이의 작용 공간에 기체를 공급한다.
기판 처리 장치의 제2의 양태는, 제1의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 통부재의 내면은, 당해 내면의 둘레 방향을 따라서 연장되는 제1 홈을 갖는다. 적어도 1개의 측방 개구부는 제1 홈에 형성되어 있다.
기판 처리 장치의 제3의 양태는, 제1 또는 제2의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 적어도 1개의 측방 개구부는, 상기 내면의 둘레 방향을 따라서 개구되어 있다.
기판 처리 장치의 제4의 양태는, 제3의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 적어도 1개의 측방 개구부는 복수의 측방 개구부를 포함하고, 복수의 측방 개구부는, 내면의 둘레 방향에 있어서 간격을 두고 나란히 형성되어 있다.
기판 처리 장치의 제5의 양태는, 제4의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 복수의 측방 개구부의 각각의 개구축의 방향이, 둘레 방향의 시계방향 및 반시계 방향 중 한쪽의 회전 방향으로 맞춰져 있다.
기판 처리 장치의 제6의 양태는, 제4 또는 제5의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 기판의 주면에 수직인 축을 회전축으로 하여, 상기 한쪽의 회전 방향으로 기판 유지대를 회전시키는 회전 기구를 더 구비한다.
기판 처리 장치의 제7의 양태는, 제1 내지 제6 중 어느 한 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 적어도 1개의 측방 개구부는, 적어도 1개의 제1층 개구부와, 적어도 1개의 제2층 개구부를 포함한다. 적어도 1개의 제1층 개구부는, 자외선 조사 수단 및 기판 유지대가 늘어서는 방향에 있어서, 적어도 1개의 제2층 개구부와 상이한 위치에 형성되어 있다.
기판 처리 장치의 제8의 양태는, 제7의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 적어도 1개의 제1층 개구부는 복수의 제1층 개구부를 포함하고, 적어도 1개의 제2층 개구부는 복수의 제2층 개구부를 포함한다. 복수의 제1층 개구부는, 당해 내면의 둘레 방향에 있어서 간격을 두고 나란히 형성되어 있음과 더불어, 복수의 제2층 개구부의 각각은, 둘레 방향에 있어서 제1층 개구부와는 상이한 위치에 형성되어 있다. 제1층 개구부 및 제2층 개구부의 각각의 개구축의 방향이, 둘레 방향의 시계방향 및 반시계 방향 중 한쪽의 회전 방향으로 맞춰져 있다.
기판 처리 장치의 제9의 양태는, 제7 또는 제8의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 통부재의 내면은, 당해 내면의 둘레 방향을 따라서 연장되는 제2 홈을 더 포함한다. 제1 홈 및 제2 홈은, 자외선 조사 수단과 기판 유지대가 늘어서는 방향에 있어서, 서로 상이한 위치에 형성되어 있다. 적어도 1개의 제1층 개구부는 제1 홈에 형성되고, 적어도 1개의 제2층 개구부는 제2 홈에 형성되어 있다.
기판 처리 장치의 제10의 양태는, 제1 내지 제9 중 어느 한 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 통부재는, 적어도 1개의 급기 개구부를 더 갖는다. 적어도 1개의 급기 개구부는, 기판과 상기 자외선 조사 수단 사이의 작용 공간에 기체를 공급한다.
기판 처리 장치의 제11의 양태는, 제10의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 적어도 1개의 급기 개구부는 복수의 급기 개구부를 포함한다. 통부재는, 자외선 조사 수단과 공극을 통해 대향하는 제2 상면을 갖는다. 복수의 급기 개구부는 제2 상면에 형성되어 있고, 당해 내면의 둘레 방향에 있어서 서로 간격을 두고 형성되어 있다.
기판 처리 장치의 제12의 양태는, 제10 또는 제11의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 통부재는, 적어도 1개의 배기 개구부를 더 갖는다. 적어도 1개의 배기 개구부는, 당해 내면의 둘레 방향에 있어서 적어도 1개의 급기 개구부와 상이한 위치에 형성되고, 기판과 자외선 조사 수단 사이의 작용 공간의 기체를 배기한다.
기판 처리 장치의 제13의 양태는, 제12의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 적어도 1개의 급기 개구부는 당해 내면의 둘레 방향에 있어서 편측 반분에 형성되어 있고, 적어도 1개의 배기 개구부는 당해 내면의 둘레 방향에 있어서 나머지 편측 반분에 형성되어 있다.
기판 처리 장치의 제14의 양태는, 제1 내지 제13 중 어느 한 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 기판 유지대의 제1 상면은, 당해 제1 상면의 둘레 가장자리로부터 연장되는 반송 홈을 포함한다. 기판 유지대는, 반송 홈에 있어서 개구되는 급기용 또는 배기용 반송 홈 개구부를 포함한다.
기판 처리 장치의 제15의 양태는, 제1 내지 제13 중 어느 한 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 기판 유지대는, 제1 상면에 있어서, 자외선 조사 수단측으로 돌출하여, 기판을 지지하는 복수의 돌기부를 구비하고, 기판 유지대에는, 제1 상면 중 복수의 돌기부와는 상이한 위치에서 개구되는 급기용 또는 배기용 상면 개구부가 형성되어 있다.
기판 처리 장치의 제16의 양태는, 제1 내지 제13 중 어느 한 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 기판 유지대의 제1 상면에는, 복수의 승강 돌기부와, 복수의 고정 돌기부가 형성되어 있다. 복수의 승강 돌기부는 자외선 조사 수단과 상기 기판 유지대가 늘어서는 방향에 있어서 승강 가능하다. 복수의 고정 돌기부는, 복수의 승강 돌기부보다 기판의 중심에 가까운 위치에서 자외선 조사 수단측으로 돌출한다. 복수의 승강 돌기부가 자외선 조사 수단측으로 상승했을 때에, 복수의 고정 돌기부는 기판을 지지하지 않고, 복수의 승강 돌기부가 기판을 지지한다. 복수의 승강 돌기부가 기판 유지대측으로 하강했을 때에, 적어도 복수의 고정 돌기부가 기판을 지지한다.
기판 처리 장치의 제17의 양태는, 제16의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 기판 유지대는, 제1 상면에 있어서 개구되는, 급기용 또는 배기용 상면 개구부를 갖고 있다.
기판 처리 장치의 제18의 양태는, 제1 내지 제17 중 어느 한 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 이동 수단을 더 구비한다. 이동 수단은, 제1 위치 및 제2 위치 사이에서, 상기 자외선 조사 수단과 상기 기판 유지대를 상대적으로 이동시킨다. 제1 위치에 있어서의 기판과 자외선 조사 수단 사이의 거리는, 제2 위치에 있어서의 기판과 자외선 조사 수단 사이의 거리보다 짧다. 적어도 1개의 측방 개구부는, 기판 유지대가 제1 위치에서 정지한 상태에 있어서, 기판 유지대의 상기 측면과 대향한다.
기판 처리 방법의 제19의 양태는, 제1 공정 내지 제3 공정을 구비한다. 제1 공정에 있어서는, 제1 상면 및 측면을 갖는 기판 유지대의 당해 제1 상면에 기판을 배치한다. 제2 공정에 있어서는, 기판 유지대의 측면을 둘러싸는 내면을 갖고, 당해 내면 중 당해 측면과 대향하는 적어도 1개의 위치에 적어도 1개의 측방 개구부를 갖는 통부재의 내면과, 기판 유지대의 측면 사이의 공간으로, 적어도 1개의 측방 개구부를 경유하여, 기체를 공급하고, 작용 공간을 사이에 두고 기판과 대향하도록 배치된 자외선 조사 수단과, 기판 사이의 작용 공간에 기체를 공급한다. 제3 공정에 있어서는, 제1 공정 및 제2 공정 후에, 자외선 조사 수단으로 하여금 자외선을 기판을 향해 조사하도록 한다.
기판 처리 방법의 제20의 양태는, 제19의 양태에 따른 기판 처리 방법으로서, 제2 공정은, 기판 유지대가, 통부재의 내면의 내부로부터 자외선 조사 수단에 대해 멀어지는 방향으로 물러난 상태에 있어서, 당해 작용 공간으로의 기체의 공급 및 적어도 1개의 측방 개구부를 경유한 기체의 공급을 개시하는 공정 (a)와, 공정 (a) 후에, 기판 유지대의 측면이 통부재의 내면과 대향하도록, 자외선 조사 수단 및 기판 유지대를 상대적으로 이동시키는 공정 (b)를 구비한다.
기판 처리 방법의 제21의 양태는, 제19 또는 제20의 양태에 따른 기판 처리 방법으로서, 제2 공정은, 기판 유지대를 자외선 조사 수단에 접근시키도록, 자외선 조사 수단과, 기판 유지대를 상대적으로 이동시키는 공정 (A)와, 기판과 자외선 조사 수단 사이의 공간으로의 기체의 공급 및 적어도 1개의 측방 개구부를 경유한 기체의 공급을 개시하는 공정 (B)와, 공정 (A) 및 공정 (B) 후에, 기판 유지대를 자외선 조사 수단으로부터 멀어지도록, 자외선 조사 수단과 기판 유지대를 상대적으로 이동시키는 공정 (C)를 구비한다.
기판 처리 시스템의 제22의 양태는, 기판을 수용하는 수용 유지부와, 기판에 대해 처리를 실시하기 위한 기판 처리부와, 수용 유지부와 기판 처리부 사이에 위치하고, 수용 유지부와 기판 처리부 사이를 왕복하는 기판이 경유하는 기판 통과부를 구비한다. 기판 통과부에는, 제1 내지 제18 중 어느 한 양태에 따른 기판 처리 장치가 설치되어 있다.
기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기판 처리 시스템에 의하면, 기판 유지대의 측면과 통부재의 내면 사이의 공간(이하, 연통 공간이라 칭함)을 흐르는 기체가, 작용 공간으로 흐르는 기체에 대한 장벽으로서 기능한다. 예를 들면 기판 유지대에 대해 자외선 조사 수단과는 반대측의 공간(비작용 공간)은, 연통 공간을 경유하여, 작용 공간에 연통한다. 그런데, 비작용 공간 내의 공기는 연통 공간의 기체에 의해서 작용 공간으로 흘러들어가기 어렵다. 즉, 소정의 분위기와는 상이한 비작용 공간의 공기가 작용 공간으로 흐르는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 작용 공간의 분위기를 보다 단시간에 소정의 분위기로 할 수 있다.
도 1은 기판 처리 시스템의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 기판 처리 장치의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 기판 처리 장치의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4는 기판 유지대의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 통부재의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 사시도이다.
도 6은 통부재의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 7은 기판 처리 장치의 동작의 일례를 나타내는 플로차트이다.
도 8은 통부재의 구성의 다른 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 9는 통부재의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 10은 통부재의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 11은 통부재의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 12는 통부재의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 13은 통부재의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 14는 기판 처리 장치의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 15는 기판 유지대의 구성의 다른 일례를 나타내는 도면이다.
도 16은 기판 유지대의 구성의 다른 일례를 나타내는 도면이다.
도 17은 기판 유지대의 구성의 다른 일례를 나타내는 도면이다.
도 18은 기판 유지대의 구성의 다른 일례를 나타내는 도면이다.
도 19는 기판 유지대의 구성의 다른 일례를 나타내는 도면이다.
도 20은 기판 처리 장치의 동작의 일례를 나타내는 플로차트이다.
도 21은 기판 유지대의 구성의 다른 일례를 나타내는 도면이다.
도 22는 기판 유지대의 구성의 다른 일례를 나타내는 도면이다.
도 23은 기판 처리 장치의 동작의 일례를 나타내는 플로차트이다.
도 24는 기판 처리 장치의 구성의 다른 일례를 나타내는 도면이다.
도 25는 기판 처리 장치의 구성의 다른 일례를 나타내는 도면이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태에 대해서 상세하게 설명한다.
<기판 처리 시스템의 전체 구성의 일례>
도 1은, 기판 처리 시스템(100)의 전체 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다. 또한, 도 1 및 이후의 각 도면에 있어서는, 이해를 용이하게 하기 위해, 필요에 따라서 각 부의 치수나 수를 과장 또는 간략화하여 그리고 있다.
기판 처리 시스템(100)은, 반도체 기판에 대해 다양한 처리를 실시하기 위한 장치이다. 이 기판 처리 시스템(100)은, 예를 들면, 수용기 유지부(110), 기판 통과부(120) 및 기판 처리부(130)를 구비하고 있다. 수용기 유지부(110)는 기판 수용기를 유지한다. 이 기판 수용기에는, 예를 들면 복수의 기판이 수용된다. 도 1의 예에 있어서는, 복수의 수용기 유지부(110)가 설치되어 있고, 이들은, 수평면에 평행한 한 방향(이하, X방향이라고도 부름)을 따라서 배열되어 있다.
기판 처리부(130)는, 기판에 대해 소정의 처리를 실시하기 위한 장치이다. 도 1의 예에 있어서는, 복수의 기판 처리부(130)(도시예에서는 기판 처리부(130a~130d))가 설치되어 있다. 기판 처리부(130a~130d)는 각각 기판에 대해 각종의 처리를 행한다. 설명의 편의상, 각 기판은 기판 처리부(130a~130d)의 순으로 처리를 받는 경우를 상정한다. 예를 들면 기판 처리부(130a)는 기판에 대해 처리액(약액, 린스액 또는 IPA(이소프로필알코올)액 등의 처리액)을 공급한다. 이에 의해, 처리액에 따른 처리가 기판에 대해 행해진다. 뒤의 기판 처리부(130c)에 있어서의 처리에 있어서, 기판에 전하가 축적되어 있는 것은 바람직하지 않다. 또, 기판 처리부(130b)에 의한 처리(예를 들면 IPA를 이용한 처리)에 의해서, 유기물이 불순물로서 기판의 주면 상에 잔류하는 경우가 있어, 그러한 유기물은 제거하는 것이 바람직하다.
기판 통과부(120)는 수용기 유지부(110)와 기판 처리부(130a~130d)의 각각 사이에 위치하고 있다. 미처리의 기판은 수용기 유지부(110)로부터 기판 통과부(120)를 경유하여 기판 처리부(130a)로 건네진다. 기판 처리부(130a)에 있어서 처리가 실시된 처리가 끝난 기판은, 당해 기판 처리부(130a)로부터 기판 통과부(120)를 경유하여, 수용기 유지부(110), 혹은, 다른 기판 처리부(130b)로 건네진다. 기판 처리부(130b~130d) 사이에서 기판을 시간 순차적으로 반송하는 것도 마찬가지이다.
기판 통과부(120)는 예를 들면 인덱서 로봇(121), 패스부(122) 및 반송 로봇(123)을 구비하고 있다. 인덱서 로봇(121)은 다음에 설명하는 인덱서 반송로(124)를 X방향으로 왕복 이동할 수 있다. 인덱서 반송로(124)는, 복수의 수용기 유지부(110)에 이웃하여 X방향으로 연장되는 반송로이다. 인덱서 로봇(121)은, 이 인덱서 반송로(124)에 있어서, 각 수용기 유지부(110)와 대향하는 위치에서 정지할 수 있다.
인덱서 로봇(121)은 예를 들면 암과 핸드를 갖고 있다. 핸드는 암의 선단에 설치되어 있고, 기판을 유지하거나 혹은, 유지한 기판을 해방시킬 수 있다. 핸드는, 암의 구동에 의해서, 수평면에 평행 또한 X방향과 수직인 방향(이하, Y방향이라고도 부름)으로 왕복 이동 가능하다. 인덱서 로봇(121)은, 수용기 유지부(110)와 대향한 상태로, 핸드를 수용기 유지부(110)로 이동시켜, 미처리의 기판을 수용기 유지부(110)로부터 취출하거나, 처리가 끝난 기판을 수용기 유지부(110)에 건넬 수 있다.
패스부(122)는 인덱서 반송로(124)에 대해 수용기 유지부(110)와는 반대측에 위치하고 있다. 예를 들면 패스부(122)는, 인덱서 반송로(124)의 X방향에 있어서의 중앙부와 대향하는 위치에 형성되어도 된다. 예를 들면 패스부(122)는, 기판이 올려놓아지는 재치대 혹은 선반을 갖고 있어도 된다. 인덱서 로봇(121)은 암을 수평면에 있어서 180도 회전시킬 수 있다. 이에 의해, 인덱서 로봇(121)은 핸드를 패스부(122)로 이동시킬 수 있다. 인덱서 로봇(121)은, 수용기 유지부(110)로부터 취출한 기판을 패스부(122)에 건네거나, 패스부(122)에 올려놓아진 기판을 패스부(122)로부터 취출할 수 있다.
반송 로봇(123)은 패스부(122)에 대해 인덱서 반송로(124)와는 반대측에 설치되어 있다. 또 복수(도 1에서는 4개)의 기판 처리부(130)가 반송 로봇(123)을 둘러싸도록 배치되어 있다. 도 1의 예에 있어서는, 기판 처리부(130)의 각각에 인접하는 유체 박스(131)가 설치되어 있다. 유체 박스(131)는, 인접하는 기판 처리부(130)에 처리액을 공급하고, 또 당해 기판 처리부(130)로부터 사용이 끝난 처리액을 회수할 수 있다.
반송 로봇(123)도 인덱서 로봇(121)과 마찬가지로, 암 및 핸드를 갖고 있다. 이 반송 로봇(123)은 패스부(122)로부터 기판을 취출하거나, 패스부(122)에 기판을 건넬 수 있다. 또 반송 로봇(123)은 각 기판 처리부(130)에 기판을 건네거나, 각 기판 처리부(130)로부터 기판을 취출할 수 있다. 또한 인덱서 로봇(121) 및 반송 로봇(123)은, 기판을 반송하는 반송 수단으로 간주할 수 있다.
이들 구성에 의해, 예를 들면 다음과 같은 개략 동작이 행해질 수 있다. 즉, 수용기 유지부(110)에 수용된 각 반도체 기판은, 인덱서 로봇(121)에 의해서 패스부(122)에 순차적으로 반송된다. 그리고, 기판은 반송 로봇(123)에 의해서 기판 처리부(130a~130d)에 순차적으로 반송되고, 기판 처리부(130a~130d)에 있어서 각각의 처리를 받는다. 일련의 처리가 완료된 기판은, 패스부(122) 및 인덱서 로봇(121)에 의해서 수용기 유지부(110)에 되돌려진다.
<기판 처리 장치>
도 2 및 도 3은, 기판 처리 장치(10)의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다. 이 기판 처리 장치(10)는 예를 들면 패스부(122)에 설치되어도 된다. 도 2 및 도 3은, 예를 들면 Y방향에 수직인 단면의 구성의 일례를 나타내고 있다. 또한, 기판 처리 장치(10)는 반드시 패스부(122)에 설치될 필요는 없고, 예를 들면 기판 처리부(130d)로서 설치되어도 된다. 바꿔 말하면, 기판 처리 장치(10)는 복수의 기판 처리부(130) 중 일부로서 설치되어도 된다.
기판 처리 장치(10)는, 기판 유지대(1), 이동 기구(12), 자외선 조사기(2), 통부재(3), 제1 기체 공급부(41), 제2 기체 공급부(42) 및 배기부(61)를 구비하고 있다.
<기판 유지대>
기판 유지대(1)는, 기판(W1)을 수평으로 유지하는 부재이다. 기판(W1)은 반도체 기판(즉 반도체 웨이퍼)의 경우, 기판(W1)은 대략 원형의 평판형상이다. 기판 유지대(1)는 원기둥 모양의 형상을 갖고 있고, 상면(1a)과 측면(1b)과 하면(1c)을 갖고 있다. 측면(1b)은 상면(1a)의 둘레 가장자리 및 하면(1c)의 둘레 가장자리를 연결한다. 기판 유지대(1)의 상면(1a) 위에는, 기판(W1)이 올려놓아진다.
도 4는, 기판 유지대(1)를 상면(1a)측으로부터 본 구성의 일례를 개략적으로 나타내고 있다. 도 2 내지 도 4에 예시한 바와 같이, 상면(1a)에는, 한 쌍의 홈(반송 홈)(11)이 형성되어 있다. 한 쌍의 홈(11)의 내부에는, 인덱서 로봇(121) 또는 반송 로봇(123)의 핸드(125)가 삽입된다. 한 쌍의 홈(11)은, 기판 유지대(1)의 상면(1a)의 둘레 가장자리의 일부로부터 수평면에 평행한 방향(도면의 예에서는 Y방향)을 따라서 연장되고, 상면(1a)의 둘레 가장자리의 다른 일부에 이른다. 환언하면, 한 쌍의 홈(11)의 각각은, 그 양단에 있어서 Y방향으로 개구된다. 한 쌍의 홈(11)은 서로 평행하게 연장되어 있다. 또 한 쌍의 홈(11)은 기판 유지대(1)의 상면(1a)의 중심을 사이에 두는 위치에 각각 형성되어 있다. 홈(11)의 폭(X방향을 따르는 폭)은 핸드(125)의 폭보다 넓고, 홈(11)의 깊이(연직 방향(Z방향이라고도 부름)을 따르는 깊이)는, 핸드(125)의 두께(Z방향을 따르는 두께)보다 깊다.
기판(W1)은 다음과 같이 기판 유지대(1)에 올려놓아진다. 즉, 기판(W1)은, 핸드(125) 위에 올려놓아진 상태로, 기판 유지대(1)의 상방으로 반송된다. 다음에 핸드(125)가 상방으로부터 기판 유지대(1)로 이동한다. 이 이동에 수반하여, 핸드(125)가 상방으로부터 한 쌍의 홈(11)에 삽입된다. 또 이동에 의해, 기판(W1)이 기판 유지대(1)에 올려놓아지고, 핸드(125)로부터 떨어지게 된다. 그 후, 인덱서 로봇(121) 또는 반송 로봇(123)은 핸드(125)를 Y방향으로 이동시켜, 핸드(125)를 홈(11)의 내부로부터 빼낸다. 이에 의해, 기판(W1)이 기판 유지대(1)에 올려놓아진다.
도 4에 예시하는 바와 같이, 기판 유지대(1)의 상면(1a)은, 홈(11)과는 다른 영역에 있어서, 기판(W1)을 향해 돌출하는 복수의 돌기 형상(이하, 돌기부(17)라 부름)을 갖고 있어도 된다. 이 돌기부(17)는 핀이라고도 불린다. 이 돌기부(17)는 예를 들면 원기둥 형상을 갖고 있다. 돌기부(17)는 예를 들면 석영으로 제작된다. 돌기부(17)가 설치되는 경우에는, 기판(W1)은 이 돌기부(17)의 선단에 의해서 지지된다. 돌기부(17)의 높이(Z방향을 따르는 높이)는, 기판(W1)의 휨량보다 높다. 이에 의해, 기판(W1)은 돌기부(17) 이외의 위치에서는 상면(1a)과 접촉하지 않는다. 돌기부(17)의 높이는 예를 들면 0.5[mm] 정도로 설정될 수 있다.
<자외선 조사기>
자외선 조사기(2)는 기판(W1)에 대해 상방측(기판 유지대(1)와는 반대측)에 배치되어 있다. 즉 자외선 조사기(2), 기판(W1) 및 기판 유지대(1)는 이 순서대로 Z방향에 있어서 늘어서 있다. 자외선 조사기(2)는 자외선을 발생시켜, 당해 자외선을 기판(W1)의 주면(기판 유지대(1)와는 반대측의 주면)에 조사할 수 있다. 자외선 조사기(2)로는, 예를 들면 엑시머 UV(자외선) 램프를 채용할 수 있다. 이 자외선 조사기(2)는, 예를 들면 방전용 가스(예를 들면 희가스 또는 희가스 할로겐 화합물)를 충전한 석영관과, 당해 석영관 내에 수납된 한 쌍의 전극을 구비하고 있다. 방전용 가스는 한 쌍의 전극 사이에 존재하고 있다. 한 쌍의 전극 사이에 고주파로 고전압을 인가함으로써, 방전용 가스가 여기되어 엑시머 상태가 된다. 방전용 가스는 엑시머 상태에서 기저 상태로 되돌아올 때에 자외선을 발생한다.
자외선 조사기(2)는 예를 들면 평판형상으로 형성되어 있어도 된다. 자외선 조사기(2)는 예를 들면 그 법선 방향이 Z방향을 따르는 자세로 배치된다. 바꿔 말하면, 자외선 조사기(2)는 수평으로 배치되는 면광원이다. 혹은, 자외선 조사기(2)는 원기둥형상의 복수의 자외선 단위 조사기의 배열로서 설치되어도 된다. 예를 들면 복수의 자외선 단위 조사기의 각각은, 그 중심축이 X방향을 따르는 자세로 배치된다. 이 경우, 복수의 자외선 단위 조사기는 Y방향을 따라서 병렬적으로 배치된다. 즉, 이 양태에서는, 복수의 자외선 단위 조사기를 수평으로 배치함으로써, 실질적인 면광원이 구성된다.
자외선 조사기(2)는 보호용 석영 유리판(21)을 갖고 있다. 석영 유리판(21)은 기판(W1)측에 설치되어 있다. 석영 유리판(21)은, 자외선에 대해 투광성을 가짐과 더불어, 내열성 또한 내식성을 갖고 있다. 이 석영 유리판(21)은, 외력으로부터 자외선 조사기(2)를 보호함과 더불어, 자외선 조사기(2)와 기판(W1) 사이의 분위기에 대해서도 자외선 조사기(2)를 보호할 수 있다. 자외선 조사기(2)에 있어서 발생한 자외선은 석영 유리판(21)을 통과하여 기판(W1)에 조사된다.
<이동 기구(12)>
이동 기구(12)는 기판 유지대(1)를 Z방향을 따라서 이동시킬 수 있다. 예를 들면 이동 기구(12)는 기판 유지대(1)의 하면(1c)에 부착되어 있다. 이 이동 기구(12)는, 기판 유지대(1)가 자외선 조사기(2)에 가까운 제1 위치(도 3 참조)와, 기판 유지대(1)가 자외선 조사기(2)로부터 먼 제2 위치(도 2 참조) 사이에서, 기판 유지대(1)를 왕복 이동시킬 수 있다. 뒤에서 설명하는 바와 같이, 제1 위치는, 자외선을 이용한 처리를 기판(W1)에 대해 행할 때의 기판 유지대(1)의 위치이며, 제2 위치는, 기판(W1)의 주고 받음을 행할 때의 기판 유지대(1)의 위치이다. 제1 위치에 있어서의 기판 유지대(1)와 자외선 조사기(2) 사이의 거리는, 제2 위치에 있어서의 기판 유지대(1)와 자외선 조사기(2) 사이의 거리보다 짧다. 이동 기구(12)에는, 예를 들면 유압 실린더 또는 1축 스테이지 등을 채용할 수 있다. 이동 기구(12)는 벨로즈에 의해서 주위가 덮여 있어도 된다.
<통부재 및 기체 공급부>
통부재(3)는 내주면(내면)(3a), 외주면(3b), 상면(3c) 및 하면(3d)을 갖고 있으며, 통모양 형상을 갖고 있다. 상면(3c)은, 내주면(3a)과 외주면(3b)을 연결하는 면으로, 자외선 조사기(2)측의 면이다. 하면(3d)은, 내주면(3a)과 외주면(3b)을 연결하는 면으로, 자외선 조사기(2)와는 반대측의 면이다. 도 5는, 통부재(3)의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 사시도이며, 도 6은, Z방향을 따라서 본 통부재(3)의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다. 통부재(3)는 원통 형상을 갖고 있다. 통부재(3)의 내주면(3a)의 직경은 기판 유지대(1)의 측면(1b)의 직경보다 크다. 도 3을 참조하여, 통부재(3)의 내주면(3a)은, 기판 유지대(1)가 제1 위치에서 정지한 상태에 있어서, 기판 유지대(1)의 측면(1b)을 둘러싸고 있다.
기판 유지대(1)가 제1 위치에서 정지한 상태(도 3)에 있어서, 자외선 조사기(2)가 자외선을 조사한다. 이에 의해, 자외선을 이용한 처리가 기판(W1)에 대해서 행해진다. 그 한편, 기판 유지대(1)가 제1 위치에서 정지한 상태에서는, 기판(W1)의 주위가 자외선 조사기(2), 통부재(3) 및 기판 유지대(1)에 의해서 둘러싸인다. 따라서, 이 상태에서는 기판(W1)을 기판 유지대(1)로부터 용이하게 취출할 수 없다.
그래서, 이동 기구(12)는 기판 유지대(1)를 제2 위치로 이동시킨다(도 2). 이에 의해, 기판 유지대(1)는 통부재(3)의 내주면(3a)의 내부로부터, 자외선 조사기(2)에 대해 멀어지는 방향으로 물러난다. 이 제2 위치에 있어서, 기판(W1)은 통부재(3)의 하면(3d)에 대해 연직 하방측(자외선 조사기(2)와는 반대측)에 위치한다. 따라서, 인덱서 로봇(121) 또는 반송 로봇(123)은, 통부재(3)에 의해서 저해되지 않고, 기판(W1)을 Y방향을 따라서 이동시켜, 기판(W1)을 취출할 수 있다. 반대로, 인덱서 로봇(121) 또는 반송 로봇(123)은, 기판 유지대(1)가 제2 위치에서 정지한 상태로, 기판(W1)을 기판 유지대(1)에 올려놓을 수 있다.
통부재(3)에는, 제1 관통 구멍(31)과, 제2 관통 구멍(321, 322)이 형성되어 있다. 우선 제2 관통 구멍(321, 322)을 설명한다. 제2 관통 구멍(321, 322)은 통부재(3)를 관통하여, 자외선 조사기(2)와 기판(W1) 사이의 공간에 연통하고 있다. 이하에서는, 당해 공간을 작용 공간(H1)이라고도 부른다. 구체적으로는, 제2 관통 구멍(321, 322)의 일단은 통부재(3)의 상면(3c)에 있어서 개구되어 있다. 이하에서는, 제2 관통 구멍(321, 322)의 일단을 개구부(급기 개구부)(321a, 322a)라고도 부른다. 개구부(321a, 322a)가 형성된 위치에 있어서, 통부재(3)의 상면(3c)은 공극을 통해 자외선 조사기(2)와 대향하고 있다. 개구부(321a, 322a)의 각각과 자외선 조사기(2) 사이의 공간은 작용 공간(H1)에 연속하고 있다. 즉, 제2 관통 구멍(321, 322)은 작용 공간(H1)과 연통한다. 개구부(321a, 322a)는, 내주면(3a)의 중심축을 통해 서로 마주 보는 위치에 형성되어 있다.
제2 관통 구멍(321, 322)의 타단은 통부재(3)의 외주면(3b)에 있어서 개구되어 있다. 제2 관통 구멍(321, 322)의 타단은 제2 기체 공급부(42)에 연결되어 있다. 구체적으로는, 제2 관통 구멍(321)의 타단은 제2 기체 공급부(42a)에 접속되고, 제2 관통 구멍(322)의 타단은 제2 기체 공급부(42b)에 접속되어 있다. 제2 기체 공급부(42a, 42b)는 산소 또는 불활성 가스(예를 들면 질소 또는 아르곤 등) 등의 기체를, 각각 제2 관통 구멍(321, 322)을 경유하여 작용 공간(H1)에 공급할 수 있다. 즉, 제2 관통 구멍(321, 322)은 급기용 경로로서 기능한다.
제2 기체 공급부(42a, 42b)의 각각은, 배관(421), 개폐 밸브(422) 및 기체 수용기(423)를 구비하고 있다. 제2 기체 공급부(42a, 42b)는 배관(421)의 접속처를 제외하고, 서로 동일하다. 따라서, 우선 공통되는 내용에 대해서 기술한다. 기체 수용기(423)는, 작용 공간(H1)에 공급해야 할 기체를 수용하고 있다. 기체 수용기(423)는 배관(421)의 일단에 연결된다. 개폐 밸브(422)는 배관(421)에 설치되어, 배관(421)의 개폐를 전환한다. 다음에 제2 기체 공급부(42a, 42b)의 배관(421)의 타단의 접속처에 대해서 설명한다. 제2 기체 공급부(42a)의 배관(421)의 타단은 제2 관통 구멍(321)의 타단에 연결되고, 제2 기체 공급부(42b)의 배관(421)의 타단은 제2 관통 구멍(322)의 타단에 연결된다.
도 2 및 도 3의 예에 있어서는, 개구부(321a, 322a)는 Z방향을 따라서 자외선 조사기(2)측으로 개구되어 있다. 개구부(321a, 322a)로부터 각각 토출된 기체는, 자외선 조사기(2)에 부딪친 후에 경방향으로 흘러, 기판(W1)의 중앙 부근에서 서로 충돌하여, Z방향을 따라서 기판(W1)측으로 흐르고, 계속해서 기판(W1)을 그 주면을 따라서 흐른다. 이에 의하면, 일단, 자외선 조사기(2)에 기체를 충돌시키므로, 그 압력이 분산되어, 작용 공간(H1)에 있어서의 압력 분포를 보다 균일화할 수 있다. 또 기판(W1)의 바로 위에서는, 그 중앙 부근으로부터 둘레 가장자리로 기체를 흐르게 할 수 있다.
제1 관통 구멍(31)은 통부재(3)를 관통하여, 통부재(3)의 내주면(3a)에 있어서 개구된다. 이하에서는, 제1 관통 구멍(31)의 내주면(3a)측의 일단을 개구부(측방 개구부)(31a)라고도 부른다. 제1 관통 구멍(31)의 개구부(31a)는 제2 관통 구멍(321, 322)의 개구부(321a, 322a) 중 어느 것에 대해서나, 하방측(자외선 조사기(2)와는 반대측)에 위치한다.
이 개구부(31a)는, 기판 유지대(1)가 제1 위치에서 정지한 상태(도 3)에 있어서, 기판 유지대(1)의 측면(1b)과 대향한다. 보다 구체적으로는, 개구부(31a)는 기판 유지대(1)의 홈(11)의 바닥면과 기판 유지대(1)의 하면(1c) 사이에 있어서, 측면(1b)과 대향한다. 이에 의해, 개구부(31a)를 통과하는 XY 평면에 있어서는, 홈(11)이 존재하지 않고, 통부재(3)의 내주면(3a) 및 기판 유지대(1)의 측면(1b)이 대략 링형상의 공간(이하, 링 공간이라고도 부름)을 형성한다.
이 링 공간은, 통부재(3)에 대해 하방측의 공간(이하, 비작용 공간이라고도 부름)(H2)과, 작용 공간(H1) 사이에 위치하고 있다. 바꿔 말하면, 작용 공간(H1)과 비작용 공간(H2)은 링 공간을 경유하여 서로 연통하고 있다.
제1 관통 구멍(31)의 일단은 통부재(3)의 외주면(3b)에 있어서 개구된다. 제1 관통 구멍(31)의 타단은 제1 기체 공급부(41)에 접속되어 있다. 제1 기체 공급부(41)는 예를 들면 산소 또는 불활성 가스(예를 들면 질소 또는 아르곤 등) 등의 기체를, 제1 관통 구멍(31)을 경유하여, 링 공간에 공급할 수 있다. 즉, 제1 관통 구멍(31)은 급기용 경로로서 기능한다. 제1 기체 공급부(41)는 제2 기체 공급부(42)와 동일한 기체를 공급한다. 제1 기체 공급부(41)는 배관(411), 개폐 밸브(412) 및 기체 수용기(413)를 갖고 있다. 기체 수용기(413)는, 링 공간으로 공급해야 할 기체를 수용하고 있다. 기체 수용기(413)는 배관(411)의 일단에 연결된다. 개폐 밸브(412)는 배관(411)에 설치되어, 배관(411)의 개폐를 전환한다. 배관(411)의 타단은 제1 관통 구멍(31)의 타단에 연결된다.
개구부(31a)의 개구축의 방향(개구부(31a)를 규정하는 개구면의 법선의 양음의 방향 중, 제1 관통 구멍(31)의 내부로부터 외부로 나오는 방향으로서 정의된다. 이하, 동일)은, 도 2 및 도 3에 예시하는 바와 같이, 내주면(3a)의 경방향을 따른 방향으로 되어 있어도 된다. 즉, 제1 관통 구멍(31) 중 개구부(31a)에 이어지는 부분이, 경방향을 따라서 연장되어 있어도 된다. 그 한편, 개구부(31a)의 개구축의 방향은, 도 5 및 도 6에 예시하는 바와 같이, 내주면(3a)의 둘레 방향을 따른 방향(통부재(3)의 내주를 규정하는 원환의 접선 방향)으로 되어 있어도 된다. 즉, 제1 관통 구멍(31) 중 개구부(31a)에 이어지는 부분이, 둘레 방향을 따라서 연장되어 있어도 된다. 개구부(31a)의 개구축이 둘레 방향을 따르고 있는 경우에는, 개구부(31a)로부터의 기체의 분출 방향이 링 공간의 둘레 방향과 대략 일치하기 때문에, 링 공간을 따라서 효율적으로 기체를 공급할 수 있다. 따라서, 기체는 당해 링 공간을 따라서 둘레 방향으로 흐르기 쉽다. 즉, 보다 작은 기체 공급 압력으로 기체를 링 공간의 전체 둘레에 걸쳐 흐르게 할 수 있다.
또 도 2, 도 3, 도 5 및 도 6의 예에 있어서는, 통부재(3)의 내주면(3a)에는 홈(33)이 형성되어 있다. 홈(33)은 내주면(3a)의 둘레 방향을 따라서 전체 둘레에 걸쳐 연장되어 있다. 제1 관통 구멍(31)의 개구부(31a)는 이 홈(33)에 형성되어 있다. 예를 들면, 개구부(31a)는 홈(33)의 바닥면(Z방향을 따라서 연장되는 면)에 형성되어 있다. 이에 의하면, 홈(33) 사이에 링 공간이 Z방향으로 끼이게 되므로, 기체를 둘레 방향을 따라서 흐르게 하기 쉽다. 또 링 공간의 체적을 향상시킬 수 있으므로, 링 공간을 흐르는 기체의 양을 향상시킬 수 있다.
<밀폐 공간>
기판 처리 장치(10)는 밀폐 공간을 형성해도 된다. 도 2 및 도 3의 예에 있어서는, 자외선 조사기(2), 통부재(3), 격벽(5) 및 바닥부(51)가 서로 연결되어, 밀폐 공간을 형성하고 있다. 자외선 조사기(2)의 하면은, 그 둘레 가장자리측의 부분에 있어서, 통부재(3)측으로 돌출하는 돌기 형상을 갖고 있다. 통부재(3)의 상면(3c) 중 외주측의 부분은, 그 돌기부에 연결되어 있다. 제2 관통 구멍(321, 322)의 개구부(321a, 322a)는 상면(3c) 중 내주측의 부분에 형성되어 있고, 자외선 조사기(2)의 하면과 Z방향에 있어서 공극을 통해 대면한다. 격벽(5)은 통부재(3)의 하면(3d)과 연결되어 있다. 격벽(5)은 Z방향으로 연장되어 바닥부(51)에 연결된다. 자외선 조사기(2), 통부재(3), 격벽(5) 및 바닥부(51)에 의해서 형성되는 밀폐 공간에는, 기판 유지대(1) 및 이동 기구(12)가 수용된다.
<배기>
격벽(5)에는, 배기용 관통 구멍(52)이 형성되어 있다. 이 관통 구멍(52)은 배기부(61)에 연결되어 있다. 배기부(61)는, 예를 들면, 관통 구멍(52)에 연결되는 배관(611) 등을 구비하고 있다. 기판 처리 장치(10)의 내부의 공기는 배관(611)을 경유하여 외부로 배기된다.
<셔터>
격벽(5)에는, 기판(W1)용 출입구로서 기능하는 셔터(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 셔터가 열림으로써, 기판 처리 장치(10)의 내부와 외부가 연통한다. 인덱서 로봇(121) 또는 반송 로봇(123)은, 이 열린 셔터를 통해 기판(W1)을 기판 처리 장치(10)의 내부에 넣거나, 또 기판(W1)을 취출할 수 있다. 기판 처리 장치(10)가 패스부(122)에 설치되는 경우에는, 인덱서 로봇(121)용 셔터와 반송 로봇(123)용 셔터가 설치된다.
<제어부>
자외선 조사기(2), 이동 기구(12), 제1 기체 공급부(41)의 개폐 밸브(412), 제2 기체 공급부(42)의 개폐 밸브(422) 및 셔터는, 제어부(7)에 의해서 제어된다.
제어부(7)는 전자 회로 기기이며, 예를 들면 데이터 처리 장치 및 기억 매체를 갖고 있어도 된다. 데이터 처리 장치는 예를 들면 CPU(Central Processor Unit) 등의 연산 처리 장치여도 된다. 기억부는 비일시적인 기억 매체(예를 들면 ROM(Read Only Memory) 또는 하드 디스크) 및 일시적인 기억 매체(예를 들면 RAM(Random Access Memory))를 갖고 있어도 된다. 비일시적인 기억 매체에는, 예를 들면 제어부(7)가 실행하는 처리를 규정하는 프로그램이 기억되어 있어도 된다. 처리 장치가 이 프로그램을 실행함으로써, 제어부(7)가, 프로그램에 규정된 처리를 실행할 수 있다. 물론, 제어부(7)가 실행하는 처리의 일부 또는 전부가 하드웨어에 의해서 실행되어도 된다.
<기판 처리 장치의 동작>
도 7은, 기판 처리 장치(10)의 동작의 일례를 나타내는 플로차트이다. 이동 기구(12)는 초기에는, 기판 유지대(1)를 제2 위치에서 정지시키고 있다(도 2). 또 여기서는 일례로서 배기부(61)에 의한 배기는 상시 행해지고 있다. 단계 S1에서, 제어부(7)는 셔터를 연 다음, 인덱서 로봇(121) 또는 반송 로봇(123)을 제어하여, 기판(W1)을 기판 유지대(1) 위에 배치하고, 셔터를 닫는다. 다음에 단계 S2에서, 제어부(7)는 예를 들면 제1 기체 공급부(41)(구체적으로는 개폐 밸브(412)) 및 제2 기체 공급부(42)(구체적으로는 개폐 밸브(422))를 제어하여, 기체의 공급을 개시한다. 이에 의해, 개구부(31a, 321a, 322a)의 각각으로부터 기체가 토출된다. 기체로는, 예를 들면 질소를 채용할 수 있다. 또한 단계 S1, S2의 실행 순서는 반대여도 되고, 이들이 병행하여 실행되어도 된다.
다음에 단계 S3에서, 제어부(7)는 이동 기구(12)를 제어하여, 기판 유지대(1)를 자외선 조사기(2)에 접근시키고, 제1 위치에서 정지시킨다. 제1 위치에 있어서, 기판(W1)과 자외선 조사기(2) 사이의 거리는 예를 들면 수[mm] 내지 수십[mm] 정도이다. 보다 구체적인 일례로는, 예를 들면 2[mm]를 채용할 수 있다.
다음에 단계 S4에서, 제어부(7)는 자외선 조사기(2)에 자외선을 조사시킨다. 또한 제어부(7)는, 작용 공간(H1)의 분위기가 소정의 분위기가 되었을 때에, 단계 S3을 실행해도 된다. 예를 들면 제어부(7)는 단계 S2로부터의 경과 시간을 측정한다. 경과 시간의 측정은 타이머 회로 등의 측정 회로에 의해서 행해질 수 있다. 제어부(7)는 이 경과 시간이 소정의 기준치보다 큰지 아닌지를 판단해, 긍정적인 판단을 했을 때에, 단계 S3을 실행해도 된다. 혹은, 작용 공간(H1)의 분위기를 계측해, 제어부(7)는, 작용 공간(H1)의 분위기가 소정의 분위기로 되어 있는지 아닌지를, 그 계측치에 의거해 판단해도 된다.
자외선 조사기(2)에 의한 자외선의 조사에 의해서, 자외선을 이용한 처리가 기판(W1)에 대해 행해진다. 예를 들면 기판(W1)에 자외선이 조사됨으로써, 기판(W1)의 전하가 제거된다. 그 이유 중 하나는, 기판(W1)에 광전 효과가 생기기 때문이라고 생각된다. 자외선의 파장으로는 예를 들면 252[nm] 이하의 파장을 채용할 수 있다. 이 파장 범위에 있어서, 기판(W1)의 전하를 효과적으로 제거할 수 있기 때문이다. 보다 효과적인 파장으로서 172±20[nm] 내의 파장을 채용할 수 있다.
다음에 단계 S5에서, 제어부(7)는, 기판(W1)에 대한 처리를 종료해야 하는지 여부를 판단한다. 예를 들면 제어부(7)는 단계 S4로부터의 경과 시간이 소정 시간을 초과하고 있을 때, 처리를 종료해야 한다고 판단해도 된다. 혹은, 예를 들면 기판(W1)의 전하를 계측해, 그 측정치에 의거해 판단을 행해도 된다. 기판(W1)에 대한 처리를 종료해서는 안 된다고 판단했을 때에는, 제어부(7)는 다시 단계 S5를 실행한다. 처리를 종료해야 한다고 판단했을 때에는, 단계 S6에서, 제어부(7)는 자외선 조사기(2)에 자외선의 조사를 정지시킨다. 이에 의해, 자외선을 이용한 처리(예를 들면 전하의 제거 처리)가 종료된다.
그런데, 이 기판 처리 장치(10)에 의하면, 기판 유지대(1)가 단계 S3에서 제1 위치에서 정지하면, 통부재(3)의 내주면(3a) 및 기판 유지대(1)의 측면(1b)은, 링 공간을 형성한다. 단계 S3에 앞선 단계 S2에 있어서, 제1 기체 공급부(41)가 기체의 공급을 개시하고 있으므로, 이 링 공간에는, 기체가 공급되고 있다. 또 단계 S2에 있어서 제2 기체 공급부(42)가 기체의 공급을 개시하고 있으므로, 작용 공간(H1)에도, 기체가 공급되고 있다. 이 작용 공간(H1)은 링 공간과 연통하고 있으므로, 작용 공간(H1) 내의 기체는 링 공간을 경유하여 비작용 공간(H2)으로 흐를 수 있다.
작용 공간(H1) 내에 있어서는, 기체의 상호 작용에 의해, 국소적으로 부압이 발생할 수 있다. 이 경우, 링 공간측으로부터 작용 공간(H1)으로 기체가 흘러들 어갈 수 있다. 링 공간에는, 제1 기체 공급부(41)로부터 기체가 공급되고 있으므로, 작용 공간(H1)에는, 주로, 이 제1 기체 공급부(41)로부터의 기체가 흘러들어간다. 그 한편, 비작용 공간(H2)으로부터의 공기는, 이 링 공간 내의 기체가 장벽이 되어, 작용 공간(H1)으로 흘러들어가기 어렵다.
비교예로서, 제1 관통 구멍(31)이 통부재(3)에 형성되어 있지 않은 경우에 대해서 생각한다. 이 경우, 작용 공간(H1) 내에 국소적인 부압이 발생하면, 비작용 공간(H2) 내의 공기가 링 공간을 경유하여 작용 공간(H1)으로 흘러들어간다. 비작용 공간(H2) 내의 공기는 소정의 분위기와는 상이하므로, 이 흘러들어감으로 인해, 작용 공간(H1) 내의 분위기가 소정의 분위기로부터 멀어지게 된다. 예를 들면 제2 기체 공급부(42)가 작용 공간(H1)에 질소를 공급하여, 작용 공간(H1)의 산소 농도를 저하시키는 경우, 비작용 공간(H2) 내의 산소가 작용 공간(H1)에 흘러들어감으로써, 작용 공간(H1) 내의 산소 농도가 증대한다. 따라서, 산소 농도를 저하시키는데 필요로 하는 시간이 길어진다.
이에 대해, 기판 처리 장치(10)에 의하면, 링 공간에는 제1 기체 공급부(41)으로부터 기체가 공급되고 있다. 링 공간 내의 기체는 비작용 공간(H2)으로부터의 공기에 대한 장벽으로서 기능하므로, 비작용 공간(H2)으로부터 작용 공간(H1)으로 향하는 공기가 흘러들어가는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 작용 공간(H1)의 분위기를 소정의 분위기로 하는데 필요로 하는 시간을 단축화할 수 있다. 즉, 보다 단시간에 작용 공간(H1)의 분위기를 소정의 분위기로 할 수 있다. 따라서, 기판 처리의 스루풋을 향상시킬 수 있다.
도 5 및 도 6예에 있어서는, 개구부(31a)가 내주면(3a)의 둘레 방향을 따라서 개구되어 있다. 이 경우, 기체를 링 공간을 따라서 흐르게 하기 쉬워, 링 공간의 전체 둘레에 있어서 기체를 충전시키기 쉽다. 이에 의하면, 개구부(31a)가 경방향을 따라서 개구되는 경우에 비해, 작은 압력으로 기체를 흐르게 해도, 기체를 링 공간을 전체 둘레에 걸쳐 흐르게 하기 쉽다. 즉, 링 공간의 전체 둘레에 걸쳐 상기 장벽을 형성하기 쉽다.
상술한 예에 있어서는, 홈(33)이 형성되어 있다. 이 홈(33)은 링 공간을 Z방향에 있어서 사이에 두고 있으므로, 기체를 링 공간을 따라서 흐르게 하기 쉽다. 또 링 공간의 체적을 향상시킬 수 있으므로, 링 공간에 포함되는 기체의 양을 향상시킬 수 있다. 이에 의해, 작용 공간(H1)에 비교적 큰 부압이 국소적으로 발생했다고 해도, 링 공간으로부터 충분한 기체를 작용 공간(H1)에 흘려넣을 수 있다. 바꿔 말하면, 작용 공간(H1)에 비교적 큰 부압이 발생했다고 해도, 비작용 공간(H2)으로부터의 공기는 작용 공간(H1)에 흘러들어가기 어렵다.
그런데, 작용 공간(H1)에 국소적인 부압이 발생하면, 기판 유지대(1)의 홈(11)의 공간 내의 공기가 작용 공간(H1)으로 흘러들어갈 수 있다. 따라서, 당해 공간 내의 분위기가 소정의 분위기와 상이한 것은 바람직하지 않다.
상술한 예에 있어서는, 제어부(7)는 단계 S2를 실행한 후에, 단계 S3을 실행하고 있다. 즉, 제어부(7)는 기체의 공급을 개시한 이후에, 기판 유지대(1)를 이동시키고 있다. 이에 의해, 기판 유지대(1)의 이동중에도, 통부재(3)의 내주면(3a)의 개구부(31a)로부터 기체가 공급되고 있다. 따라서, 이 이동중에 홈(11)이 Z방향에 있어서 개구부(31a)에 가까워지면, 개구부(31a)로부터의 기체가 기판 유지대(1)의 홈(11)의 내부에도 흘러들어간다. 이에 의해, 홈(11)의 내부의 공기의 적어도 일부가 개구부(31a)로부터 공급되는 기체로 치환된다. 따라서, 홈(11)의 공간의 분위기를 소정의 분위기에 접근시킬 수 있다. 따라서, 홈(11)의 공간으로부터 작용 공간(H1)으로 기체가 흘러들어갔다고 해도, 작용 공간(H1)의 분위기를 소정의 분위기로부터 멀어지게 하기 어렵다. 즉, 단계 S2를 단계 S3, S4 사이에서 실행하는 경우에 비해, 보다 단시간에 작용 공간(H1)의 분위기를 소정의 분위기로 할 수 있다.
홈(11)이 기판 유지대(1)의 상면(1a)의 둘레 가장자리의 일부로부터 당해 둘레 가장자리의 다른 일부까지 연장되어 있으면, 즉, 홈(11)이 수평 방향(예를 들면 Y방향)의 양단에서 개구되어 있으면, 기체가 홈(11)의 내부를 흐르기 쉽다. 따라서, 홈(11)의 내부의 분위기를 보다 소정의 분위기에 가깝게 하기 쉽다.
상술한 예에 있어서는, 작용 공간(H1)용 급기 경로로서 기능하는 제2 관통 구멍(321, 322)이 통부재(3)에 형성되어 있다. 즉, 기판 유지대(1)의 측방에 있어서 급기 경로를 형성하고 있다. 이것은, 기판(W1)의 상방에 자외선 조사기(2)가 존재하는 본 기판 처리 장치(10)에 있어서 적합하다. 즉, 제2 기체 공급부(42)를 기판(W1)의 상방에 배치하는 경우에는, 자외선 조사기(2) 및 제2 기체 공급부(42)가 서로 간섭하지 않도록, 이들을 배치할 필요성이 생기는 부분, 통부재(3)에 제2 관통 구멍(321, 322)을 형성함으로써, 제2 기체 공급부(42)를 기판(W1)의 상방에 배치할 필요가 없고, 자외선 조사기(2) 및 제2 기체 공급부(42)의 형상의 자유도를 향상시킬 수 있는 것이다.
<제1 관통 구멍>
<둘레 방향으로 배열>
통부재(3)의 내주면(3a)에는, 개구부가 복수 형성되어 있어도 된다. 도 8은, 통부재(3)의 개략적인 구성의 일례를 나타내는 상면도이다. 통부재(3)에는, 복수의 제1 관통 구멍(31)이 형성되어 있다. 복수의 제1 관통 구멍(31)의 각각의 일단(개구부(31a))은 내주면(3a)에 있어서 개구되어 있다. 복수의 개구부(31a)는 둘레 방향에 있어서 간격을 두고 늘어서 있다. 예를 들면 복수의 개구부(31a)는 둘레 방향으로 등간격의 위치에 형성된다. 또 복수의 개구부(31a) 전부가 홈(33)에 있어서 형성된다.
복수의 제1 관통 구멍(31)의 각각의 타단은 외주면(3b)에 있어서 개구되어 있다. 당해 타단은 제1 기체 공급부(41)에 접속된다. 제1 기체 공급부(41)는 복수의 제1 관통 구멍(31)을 경유하여 링 공간으로 기체를 공급한다. 이에 의하면, 기체는 둘레 방향에 있어서의 복수의 위치로부터 링 공간으로 공급된다.
또 복수의 개구부(31a) 전부가, 내주면(3a)의 둘레 방향 중 동일한 한 방향(예를 들면 시계방향)을 따라서 개구되어 있다. 이에 의하면, 기체를 링 공간의 전체 둘레에 흐르게 하기 쉽다. 이것을 일반적으로 표현하면, 각각의 개구부의 개구축의 방향이, 둘레 방향의 시계방향 및 반시계 방향 중 한쪽의 회전 방향으로 맞춰져 있게 된다. 여기서, 시계방향 및 반시계 방향은 상대적인 것이며, Z축의 양의 방향에서 봐서 정의해도 되고, Z축의 음의 방향에서 봐서 정의해도 된다.
그런데, 압력은 그 개구부(31a)의 바로 뒤가 가장 높고, 개구부(31a)로부터 떨어질수록 저하된다. 동일 방향으로 개구되는 복수의 개구부(31a)가 둘레 방향에 있어서 서로 상이한 위치에 형성되는 경우에는, 압력이 높은 위치가 둘레 방향에 있어서 상이해진다. 이에 의하면, 전체적으로 압력 분포를 균일화할 수 있다. 만약 링 공간 내의 기체의 압력이 국소적으로 저하되면, 그 부분을 경유하여 비작용 공간(H2)의 공기가 작용 공간(H1)으로 흘러들어가기 쉬워진다. 링 공간의 기체의 압력 분포를 균일화함으로써, 비작용 공간(H2)으로부터 작용 공간(H1)으로 공기가 흘러들어가는 것을, 둘레 방향의 위치에 관계없이 억제할 수 있다.
또한, 도 8의 예에 있어서는, 복수의 제1 관통 구멍(31)의 타단은 외주면(3b)에 있어서 서로 상이한 위치에서 개구되어 있으나, 동일한 위치에서 개구되어도 된다. 즉, 외주면(3b)의 1개의 개구에 이어지는 구멍이 복수의 구멍으로 분기되고, 이들 복수의 구멍이 각각 상이한 위치에서 내주면(3a)에 있어서 개구되어 있어도 된다. 후술하는 다른 관통 구멍도 마찬가지이다.
<Z방향으로 배열>
통부재(3)의 내주면(3a)에 형성되는 개구부는, Z방향에 있어서 서로 상이한 위치에 형성되어도 된다. 도 9는, 통부재(3)의 개략적인 구성의 일례를 나타내는 도면이다. 도 9에서는, 기판 유지대(1)가 제1 위치에서 정지한 상태에서의, 자외선 조사기(2) 및 기판 유지대(1)도 나타내고 있다.
예를 들면 통부재(3)에는, 복수의 제1 관통 구멍(311~313)이 형성되어 있다. 제1 관통 구멍(311~313)의 각각의 일단은 내주면(3a)에 있어서 개구되어 있다. 이하에서는, 제1 관통 구멍(311~313)의 일단을 개구부(311a~313a)라고도 부른다. 개구부(311a~313a)는 Z방향에 있어서 서로 상이한 위치에 형성된다. 예를 들면 개구부(311a~313a)는 Z방향에 있어서 등간격의 위치에 형성되어도 된다.
기판 유지대(1)가 제1 위치에서 정지한 상태(도 9)로, 개구부(311a~313a) 전부가, Z방향에 있어서, 기판 유지대(1)의 홈(11)의 바닥면과 기판 유지대(1)의 하면(1c) 사이에 위치하고 있다. 이에 의하면, 개구부(311a~313a)의 각각을 통과하는 XY 평면에 있어서, 홈(11)이 존재하지 않고, 통부재(3)의 내주면(3a)과 기판 유지대(1)의 측면(1b)이 링 공간을 형성한다.
복수의 제1 관통 구멍(311~313)의 타단의 각각은 통부재(3)의 외주면(3b)에 있어서 개구되어 있다. 당해 타단은 제1 기체 공급부(41)에 접속된다. 제1 기체 공급부(41)는 제1 관통 구멍(311~313)을 경유하여 링 공간으로 기체를 공급한다. 이에 의하면, Z방향에 있어서의 복수의 위치로부터 기체가 링 공간에 공급된다. 따라서, 기체를 다층으로 링 공간에 흐르게 할 수 있다. 이하에서는, 제1 관통 구멍(311~313)을 각각 제1층 관통 구멍(311), 제2층 관통 구멍(312) 및 제3층 관통 구멍(313)이라고 부르는 경우가 있다.
도 9의 예에 있어서는, 각 층의 개구부(311a~313a)는 경방향으로 개구되어 있지만, 내주면(3a)의 둘레 방향으로 개구되어도 된다. 이에 의하면, 개구부(311a~313a)로부터의 기체를 링 공간을 따라서 공급할 수 있다. 따라서 기체는 각 층의 링 공간을 전체 둘레에 걸쳐 흐르기 쉽다. 또 개구부(311a~313a) 모두가, 내주면(3a)의 둘레 방향의 중 동일한 한 방향(예를 들면 시계방향)을 따라서 개구되어 있어도 된다. 즉, Z방향에 있어서 상이한 위치에 형성된 개구부(311a~313a)는 모두 동일한 방향으로 개구되어도 된다.
이에 의하면, 각 층의 기체가 동일한 방향으로 흐른다. 비교를 위해서, 개구부(312a)의 개구 방향이 개구부(311a, 313a)와 반대인 경우를 고려한다. 이 경우, 각 층의 기체가 서로 작용하여, 그 각 층의 둘레 방향의 흐름을 서로 저해시킬 수 있다. 이로 인해, 예를 들면, 각 층에 있어서, 기체가 링 공간의 도중까지 밖에 흐를 수 없게 되는 것을 생각할 수 있다. 이것은 장벽으로서의 능력 저하를 초래한다. 이에 대해, 각 층의 기체가 동일한 방향으로 흐름으로써, 각 층에 있어서 기체가 링 공간의 전체 둘레를 흐르기 쉬워, 장벽으로서의 능력을 향상시킬 수 있다.
도 9의 예에 있어서는, 통부재(3)의 내주면(3a)에는, 복수의 홈(331~333)이 형성되어 있다. 복수의 홈(331~333)은 Z방향에 있어서 서로 상이한 위치에 형성되어 있다. 이하에서는, 홈(331~333)을 각각 제1층 홈(331), 제2층 홈(332) 및 제3층 홈(333)이라고도 부르는 경우가 있다. 홈(331~333)의 각각은 내주면(3a)의 둘레 방향을 따라서 전체 둘레에 걸쳐 연장된다. 개구부(311a~313a)는 각각 홈(331~333)의 내부에 형성된다. 예를 들면 개구부(311a~313a)는 각각 홈(331~333)의 바닥면(Z방향을 따르는 면)에 형성되어 있다.
이에 의하면, 개구부(311a)로부터 토출되는 기체는 주로 제1층 홈(331)을 흐르고, 개구부(312a)로부터 토출되는 기체는 주로 제2층 홈(332)을 흐르고, 개구부(313a)로부터 토출되는 기체는 주로 제3층 홈(333)을 흐른다. 이에 의해, 기체의 흐름을 층형상으로 형성하기 쉽다.
개구부(311a~313a)의 둘레 방향에 있어서의 위치는 서로 상이해도 된다. 예를 들면 개구부(311a~313a)는 둘레 방향에 있어서 등간격으로 배치되어도 된다. 도 10 내지 도 12는, 각각 개구부(311a~313a)를 통과하는 XY 평면에 있어서의 통부재(3)의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다. 제2층 개구부(312a)(도 11)는 내주면(3a)의 중심축을 중심으로 하여 시계방향으로, 제1층 개구부(311a)(도 10)를 120도 회전시킨 위치에 형성되고, 제3층 개구부(313a)(도 12)는 제2층 개구부(312a)를 동일 방향으로 120도 회전시킨 위치에 형성된다. 즉, 개구부(311a~313a)는, Z방향에서 봤을 때, 둘레 방향으로 등간격이 되는 위치에 형성된다.
압력은 그 개구부(311a~313a)의 바로 뒤가 가장 높고, 개구부(311a~313a)로부터 떨어질수록 저하된다. 동일 방향으로 개구되는 개구부(311a~313a)가 둘레 방향에 있어서 서로 상이한 위치에 형성되는 경우에는, 각 층(각 홈(331~333))에 있어서 압력이 높은 위치가 둘레 방향에 있어서 상이하게 된다. 이에 의하면, 전체적으로 압력 분포를 균일화할 수 있다.
<둘레 방향 및 Z방향>
또 각 층에 있어서, 복수의 개구부가 형성되어도 된다. 예를 들면 Z방향에 있어서의 제1층 위치에 있어서, 복수의 제1층 관통 구멍(311)의 개구부(제1층 개구부라고도 부름)(311a)가 형성되고, Z방향에 있어서의 제2층 위치에 있어서, 복수의 제2층 관통 구멍(312)의 개구부(제2층 개구부라고도 부름)(312a)가 형성되며, Z방향에 있어서의 제3층 위치에 있어서, 복수의 제3층 관통 구멍(313)의 개구부(제3층 개구부라고도 부름)(313a)가 형성되어도 된다.
도 13은, 통부재(3)에 형성되는 각 층의 제1 관통 구멍의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 13에 있어서는, 2개의 제1층 관통 구멍(311)과, 2개의 제2층 관통 구멍(312)과, 2개의 제3층 관통 구멍(313)이 나타나 있다. 제2층 관통 구멍(312) 및 제3층 관통 구멍(313)은, Z방향에 있어서 제1층 관통 구멍(311)과 상이한 위치에 형성되어 있는 것을 나타내기 위해서, 가상선으로 나타나 있다.
2개의 개구부(311a), 2의 개구부(312a) 및 2개의 개구부(313a)는 둘레 방향 중 동일한 한 방향(예를 들면 시계방향)으로 개구되어 있다. 이것을 일반적으로 표현하면, 복수층의 개구부의 각각의 개구부의 개구축의 방향이, 둘레 방향의 시계방향 및 반시계 방향 중 한쪽의 회전 방향으로 맞춰져 있는 것이 된다. 또, 이들 개구부(311a~313a)는 둘레 방향에 있어서 서로 상이한 위치에 형성되어 있어도 된다. 예를 들면, 각 층의 개구부가 둘레 방향에 있어서 등간격으로 형성되고, 모든 층의 개구부가 전체적으로 둘레 방향으로 등간격으로 형성되어도 된다. 예를 들면, 2개의 제1층 개구부(311a)는 통부재(3)의 중심축을 통해 마주보는 위치에 형성된다. 즉, 2개의 제1층 개구부(311a)는 둘레 방향에 있어서 등간격으로 형성된다. 2개의 제2층 개구부(312a) 및 2개의 제3층 개구부(313a)도 마찬가지이다. 2개의 제2층 개구부(312a)는, 2개의 제1층 개구부(311a)를 예를 들면 시계방향으로 60도 회전시킨 위치에 각각 형성되어 있고, 2개의 제3층 개구부(313a)는 2개의 제2층 개구부(312a)를 시계방향으로 60도 회전시킨 위치에 형성되어 있다. 이에 의하면, 2개의 개구부(311a), 2개의 개구부(312a) 및 2개의 개구부(313a)가 전체적으로 둘레 방향으로 등간격으로 형성된다.
제1층 관통 구멍(311), 제2층 관통 구멍(312) 및 제3층 관통 구멍(313)의 타단은 통부재(3)의 외주면(3b)에 있어서 개구되어 있다. 당해 타단은 제1 기체 공급부(41)에 접속된다.
상술한 바와 같이, 각 층에 있어서, 동일 방향으로 개구되는 개구부가, 둘레 방향으로 나란히 배치되어 있으면, 각 층에 있어서 링 공간의 압력 분포를 균일화할 수 있다. 또 모든 층의 개구부가 둘레 방향에 있어서 서로 상이한 위치에 형성되어 있으면, 전체적으로 링 공간의 압력 분포를 균일화할 수 있다. 또한, 전체적인 압력 분포의 균일화를 미소하게나마 초래한다는 점에서는, 어느 층의 개구부 중 적어도 1개가 다른 층의 개구부 중 적어도 1개와 둘레 방향에 있어서 상이한 위치에 형성되어 있으면 된다. 즉, 상이한 층에 속하는 개구부로서, 둘레 방향에 있어서 동일한 위치에 형성된 개구부가 존재하고 있어도 무방하다.
<회전 기구>
도 14는, 기판 처리 장치(10)의 구성의 다른 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 14의 기판 처리 장치(10)는 회전 기구(13)의 유무와 같은 점에서, 도 2 및 도 3의 기판 처리 장치(10)와 상이하다. 회전 기구(13)는 기판 유지대(1)를 회전시키고, 나아가서는 기판(W1)을 회전시킨다. 그 회전축은, 예를 들면 기판(W1)의 중심을 지나 기판(W1)의 주면에 수직인 축이다. 회전 기구(13)는 예를 들면 모터를 갖고 있다. 회전 기구(13)는 제어부(7)에 의해서 제어된다.
회전 기구(13)는, 예를 들면 자외선 조사기(2)에 의한 자외선의 조사 중에 있어서, 기판 유지대(1)를 회전시켜, 기판(W1)을 회전시킨다. 이에 의해, 기판(W1)에 대해 균일하게 자외선을 조사할 수 있다.
개구부(31a)가 둘레 방향을 따라서 개구되는 경우, 회전 기구(13)는, 개구부(31a)의 개구 방향(예를 들면 시계방향)과 동일한 방향으로 기판 유지대(1)를 회전시키면 된다. 이에 의하면, 회전 기구(13)가 반대 방향으로 기판 유지대(1)를 회전시키는 경우에 비해, 링 공간 내의 기체의 흐름을 흐트리기 어렵다. 즉, 기판 유지대(1)가 개구부(31a)의 개구 방향과 반대로 회전하는 경우에 비해, 링 공간의 기체에 의한 장벽의 능력을 향상시킬 수 있다.
<기판 유지대>
도 2 내지 도 4의 예에 있어서는, 기판 유지대(1)에는, 한 쌍의 홈(11)이 형성되어 있었다. 그런데, 한 쌍의 홈(11)은 반드시 필요하지는 않다. 도 15 및 도 16은, 기판 유지대(1)의 다른 일례인 기판 유지대(1A)를 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 15는, 자외선 조사기(2)측에서 본 기판 유지대(1A)를 나타내고, 도 16은, 수평 방향을 따라서 본 기판 유지대(1A)를 나타내고 있다. 도 16에 있어서는, 기판 유지대(1A)가 제1 위치에서 정지한 상태에 있어서의 통부재(3)도 나타나 있다.
기판 유지대(1A)의 상면(1a)에는, 홈(11) 대신에, 복수의 돌기부(14)가 형성되어 있다. 복수의 돌기부(14)는 기둥 형상(예를 들면 원기둥 형상)을 갖고 있다. 복수의 돌기부(14)는, 인덱서 로봇(121) 및 반송 로봇(123)의 핸드(125)와 간섭하지 않는 위치에 형성된다. 도 15 및 도 16의 예에서는, 3개의 돌기부(14)가 설치되어 있으며, 각각 가상적인 삼각형의 정점에 위치하고 있다. 돌기부(14)의 높이(Z방향에 있어서의 높이)는, 핸드(125)의 두께(Z방향에 있어서의 두께)보다 크다. 기판(W1)은 복수의 돌기부(14)의 선단에 의해서 지지된다.
이 기판 유지대(1A)를 이용하는 경우, 기판 유지대(1A)가 제1 위치에서 정지한 상태(도 16)에 있어서, 통부재(3)의 개구부(31a)는, Z방향에 있어서, 기판 유지대(1A)의 상면(1a)(돌기부(14)가 설치되어 있지 않은 부분)과 하면(1c) 사이에 위치하고 있다. 이에 의해, 개구부(31a)를 통과하는 XY 평면에 있어서, 돌기부(14)가 존재하지 않고, 통부재(3)의 내주면(3a)과 기판 유지대(1A)의 측면(1b)이 링 공간을 형성할 수 있다.
이러한 기판 유지대(1A)를 이용해도, 개구부(31a)로부터 기체가 공급됨으로써 상기 효과를 초래할 수 있다. 단, 도 4의 기판 유지대(1)는, 기판 유지대(1A)에 비해, 기판 유지대(1)와 기판(W1) 사이의 공간의 체적을 저감할 수 있다. 이 공간에는, 초기적으로는, 소정의 분위기와는 상이한 공기가 존재하고 있으므로, 당해 공간으로부터 작용 공간(H1)으로 공기가 흘러들어가는 것은 바람직하지 않다. 따라서 당해 공간의 체적을 저감할 수 있는 기판 유지대(1)는 적합하다.
도 17 내지 도 19는, 기판 유지대(1)의 다른 일례인 기판 유지대(1B)의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 17은, 자외선 조사기(2)측에서 본 기판 유지대(1B)를 나타내고, 도 18 및 도 19는, 수평 방향을 따라서 본 기판 유지대(1B)를 나타내고 있다. 도 19에 있어서는, 기판 유지대(1B)가 제1 위치에서 정지한 상태에 있어서의 통부재(3)도 나타나 있다.
기판 유지대(1B)의 상면(1a)에는, 홈(11) 대신에, 복수의 승강 돌기부(15) 및 복수의 고정 돌기부(16)가 형성되어 있다. 복수의 승강 돌기부(15) 및 복수의 고정 돌기부(16)는, 인덱서 로봇(121) 및 반송 로봇(123)의 핸드(125)와 간섭하지 않도록 설치되어 있다. 복수의 승강 돌기부(15)는 예를 들면 상면(1a)의 둘레 가장자리의 근방에 있어서 둘레 방향으로 등간격으로 설치된다. 도 17의 예에 있어서는, 3개의 승강 돌기부(15)가 설치되어 있다. 승강 돌기부(15)는 기둥 형상(예를 들면 원기둥 형상)을 갖고 있다. 승강 돌기부(15)의 선단에는, 기판(W1)이 올려놓아진다.
승강 돌기부(15)는 Z방향에 있어서 승강 가능하게 설치되어 있다. 즉, 승강 돌기부(15)의 돌출량(Z방향을 따르는 높이)은 가변이다. 승강 돌기부(15)에는, 승강 가능한 소위 리프트핀을 채용할 수 있다. 이 승강 돌기부(15)의 승강의 정도(돌출량)는 제어부(7)에 의해서 제어된다. 예를 들면 승강 돌기부(15)가 Z방향으로 이동 가능해도 된다. 이러한 이동 기구에는 예를 들면 실린더를 채용할 수 있다. 승강 돌기부(15)가 자외선 조사기(2)측으로 이동함으로써, 승강 돌기부(15)의 돌출량이 커진다(도 18). 즉, 승강 돌기부(15)가 높아진다. 한편 승강 돌기부(15)가 자외선 조사기(2)와는 반대측으로 이동함으로써, 승강 돌기부(15)의 돌출량이 작아진다(도 19). 즉, 승강 돌기부(15)가 낮아진다.
복수의 고정 돌기부(16)는, 복수의 승강 돌기부(15)와는 상이한 위치에 설치되어 있으며, 예를 들면 복수의 승강 돌기부(15)의 전부보다 상면(1a)의 중심측에 설치되어 있다. 복수의 고정 돌기부(16)는 둘레 방향에 있어서의 위치에 있어서 등간격으로 설치된다. 도 17의 예에 있어서는, 3개의 고정 돌기부(16)가 둘레 방향으로 등간격으로 설치되어 있다. 고정 돌기부(16)는 기둥 형상(예를 들면 원기둥 형상)을 갖고 있고, 그 Z방향에 있어서의 높이는, 예를 들면 인덱서 로봇(121) 및 반송 로봇(123)의 핸드(125)의 Z방향에 있어서의 두께보다 작다. 예를 들면 고정 돌기부(16)의 높이는 0.5[mm] 정도로 설정할 수 있다.
이 기판 유지대(1B)를 이용하는 경우, 기판 유지대(1B)가 제1 위치에서 정지한 상태(도 19)에 있어서, 통부재(3)의 개구부(31a)는, Z방향에 있어서, 기판 유지대(1B)의 상면(1a)(승강 돌기부(15) 및 고정 돌기부(16)가 둘 다 설치되어 있지 않은 부분)과 하면(1c) 사이에 위치하고 있다. 이에 의해, 개구부(31a)를 통과하는 XY 평면에 있어서, 승강 돌기부(15) 및 고정 돌기부(16)가 존재하지 않고, 통부재(3)의 내주면(3a)과 기판 유지대(1B)의 측면(1b)이 링 공간을 형성할 수 있다.
도 20은, 기판 처리 장치(10)의 동작의 일례를 나타내는 플로차트이다. 초기에는, 승강 돌기부(15)의 높이(돌출량)는, 인덱서 로봇(121) 및 반송 로봇(123)의 핸드(125)의 두께보다 높다. 우선, 단계 S11에서, 제어부(7)는 셔터를 열고, 인덱서 로봇(121) 또는 반송 로봇(123)을 제어하여, 기판(W1)을 복수의 승강 돌기부(15)에 올려놓는다. 이 때, 핸드(125)는, 기판(W1)과 기판 유지대(1B) 사이의 공간에 들어간다(도 18). 그리고, 제어부(7)는, 핸드(125)를 기판 처리 장치(10)의 외부로 물러나게 한 후에, 셔터를 닫는다. 이 상태에서는, 기판(W1)은 복수의 승강 돌기부(15)에 의해서 지지되지만, 아직 고정 돌기부(16)에 의해서는 지지되고 있지 않다. 즉, 승강 돌기부(15)의 돌출량이, 비교적 큰 제1치일 때는, 기판(W1)은 고정 돌기부(16)에 의해서는 지지되지 않고, 승강 돌기부(15)에 의해서 지지된다. 이 때, 기판(W1)은 자중에 의해 휘기 쉽다. 복수의 승강 돌기부(15)는 기판(W1)의 둘레 가장자리를 지지하고 있으므로, 기판(W1)은 둘레 가장자리에 대해 중심 근방이 내려가도록, 휠 수 있다.
다음에 단계 S12에서, 제어부(7)는 승강 돌기부(15)의 높이(Z방향을 따르는 높이)를 저감시킨다. 구체적으로는, 제어부(7)는 승강 돌기부(15)를 자외선 조사기(2)와는 반대측으로 이동시킨다. 제어부(7)는 기판(W1)이 승강 돌기부(15) 및 고정 돌기부(16)의 양방에 의해서 지지될 때까지, 승강 돌기부(15)의 높이를 저감시킨다. 즉, 승강 돌기부(15)의 돌출량이 제1값보다 작은 제2값일 때, 기판(W1)이 승강 돌기부(15) 및 고정 돌기부(16)의 양방에 의해서 지지된다. 이에 의해, 기판(W1)을 지지하는 개소를 늘릴 수 있어, 기판(W1)의 휨을 억제할 수 있다. 구체적으로는, 고정 돌기부(16)는 승강 돌기부(15)보다 기판(W1)의 중심측을 지지하므로, 기판(W1)의 휨을 보다 효과적으로 저감시킬 수 있다.
이후의 단계 S13~S17은 각각 단계 S2~S6과 동일하다.
이상과 같이, 기판 유지대(1B)에 의하면, 기판(W1)의 휨을 저감시킬 수 있으므로, 기판(W1)과 자외선 조사기(2) 사이의 거리를, 기판(W1)의 주면 상에 있어서 균일화할 수 있다. 따라서, 단계 S15에 있어서 기판(W1)의 주면에 있어서의 자외선의 강도를 균일화할 수 있다. 이에 의해, 기판(W1)의 주면에 대해 균일하게 처리를 실행할 수 있다.
또 상술한 예에서는, 단계 S12 후에 단계 S14를 실행하고 있다. 즉, 승강 돌기부(15)를 낮게 한 후에, 기판(W1)을 자외선 조사기(2)에 접근시키고 있다. 승강 돌기부(15)를 낮게 함으로써, 기판(W1)과 기판 유지대(1B) 사이의 공간의 체적을 저감시킬 수 있다. 즉, 당해 공간의 체적을 작게 한 후에, 기판(W1)을 자외선 조사기(2)에 접근시킨다. 따라서, 당해 공간으로부터 작용 공간(H1)으로 흘러들어갈 수 있는 공기의 양을 저감시킬 수 있다. 이것은, 작용 공간(H1)의 분위기를 소정의 분위기로 하는데 필요로 하는 시간을 단축시키는데 기여한다.
또 기판 유지대(1B)에서는, 고정 돌기부(16)를 설치하고 있다. 이에 의하면, 고정 돌기부(16)를 승강 돌기부(15)로 치환한 구조에 비해, 기판 유지대(1B)의 기구를 간략화할 수 있다. 나아가서는 제조 비용을 저감시킬 수 있다.
또한 상기 예에서는, 기판(W1)은, 승강 돌기부(15)가 하강했을 때에는, 승강 돌기부(15) 및 고정 돌기부(16) 양쪽 모두에 의해서 지지되고 있다. 그런데, 승강 돌기부(15)의 높이가 고정 돌기부(16)의 높이보다 충분히 낮은 상태까지 하강함으로써, 고정 돌기부(16)만이 기판(W1)을 유지해도 된다. 혹은, 고정 돌기부(16)가 기판(W1)에 접촉하지 않도록, 승강 돌기부(15)의 높이를 조정함으로써, 승강 돌기부(15)만이 기판(W1)을 유지해도 된다.
<제3 관통 구멍>
도 21은, 기판 유지대(1)의 다른 일례인 기판 유지대(1C)의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다. 기판 유지대(1C)는, 제3 관통 구멍(18)의 유무와 같은 점에서, 기판 유지대(1)와 상이하다. 제3 관통 구멍(18)은 기판 유지대(1C)를 관통하여, 기판(W1)과 기판 유지대(1C) 사이의 공간에 연통한다. 구체적으로는, 제3 관통 구멍(18)의 일단은 하면(1c)에 있어서 개구되고, 타단은 홈(11)의 바닥면에 있어서 개구된다(반송 홈 개구부). 제3 관통 구멍(18)은 예를 들면 급기용 관통 구멍이며, 그 일단에는, 제3 기체 공급부(43)가 접속되어 있다. 제3 기체 공급부(43)는 제3 관통 구멍(18)을 경유하여, 기판(W1)과 기판 유지대(1C) 사이의 공간에 기체를 공급한다. 이 기체는 예를 들면 제1 기체 공급부(41) 및 제2 기체 공급부(42)에 의해서 공급되는 기체(예를 들면 질소)와 동일한 기체이다. 제3 기체 공급부(43)는, 예를 들면, 제3 관통 구멍(18)의 하면(1c)측의 일단에 연결하는 배관과, 당해 배관의 개폐를 제어하는 개폐 밸브와, 당해 배관에 연결되어, 기체를 수용하는 기체 수용기를 갖고 있다.
기판 처리 장치(10)의 동작의 일례는 도 7과 동일하다. 단, 제3 기체 공급부(43)에 의한 기체의 공급 개시는 단계 S13에 있어서 행해진다.
이에 의하면, 기판(W1)과 기판 유지대(1C) 사이의 공간의 분위기를 소정의 분위기에 접근시킬 수 있으므로, 이 공간으로부터 작용 공간(H1)으로 기체가 흘러들어갔다고 해도, 작용 공간(H1)의 분위기를 소정의 분위기로부터 멀어지게 하기 어렵다.
제3 관통 구멍(18)은 배기용 관통 구멍이어도 된다. 도 22는, 기판 유지대(1C)의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다. 기판 유지대(1C)의 구성은 도 21과 동일하지만, 제3 관통 구멍(18)의 하면(1c)측의 일단은 배기부(62)에 접속되어 있다. 배기부(62)는 제3 관통 구멍(18)을 경유하여, 기판(W1)과 기판 유지대(1C) 사이의 공간의 기체를 배기할 수 있다. 배기부(62)는, 제3 관통 구멍(18)의 하면(1c)측의 일단에 연결하는 배관을 갖고 있다.
이에 의하면, 기판(W1)과 기판 유지대(1C) 사이의 공간의 기체는, 제3 관통 구멍(18)을 경유하여 외부로 배기되므로, 당해 공간의 기체가 작용 공간(H1)으로 흘러들어가는 것을 억제할 수 있다.
도 21 및 도 22에서는, 기판 유지대(1)에 대해 제3 관통 구멍(18)을 형성한 구조가 나타나 있지만, 기판 유지대(1A, 1B)에 대해 제3 관통 구멍(18)을 형성해도 된다. 제3 관통 구멍(18)이 기판(W1)과 기판 유지대 사이의 공간에 연통하고 있으면 된다. 즉, 제3 관통 구멍(18)의 일단이, 기판 유지대(1A, 1B)의 상면(1a) 중, 기판(W1)과의 접촉부와는 다른 위치에 있어서 개구되어 있으면 된다(상면 개구부). 구체적으로는, 제3 관통 구멍(18)의 일단(상면 개구부)은 기판 유지대(1A)의 상면(1a) 중, 돌기부(14)와는 상이한 위치에서 개구된다. 또, 제3 관통 구멍(18)의 일단(상면 개구부)은 기판 유지대(1B)의 상면(1a) 중, 승강 돌기부(15) 및 고정 돌기부(16) 중 어느 것과도 상이한 위치에서 개구된다.
<기판과 자외선 조사기 사이의 거리>
도 23은, 기판 처리 장치(10)의 동작의 일례를 나타내는 플로차트이다. 단계 S31, S32는 단계 S1, S2와 각각 동일하다. 다음에 단계 S33에서, 제어부(7)는 이동 기구(12)를 제어하여, 기판 유지대(1)를 제2 위치로부터 자외선 조사기(2)로 이동시키고, 제3 위치에서 정지시킨다. 즉, 기판 유지대(1)를 자외선 조사기(2)에 접근시킨다. 제3 위치는 제1 위치에 대해 자외선 조사기(2)측의 위치이다. 즉, 기판(W1)은 제1 위치보다 제3 위치가 자외선 조사기(2)에 가깝다. 바꿔 말하면, 제3 위치에 있어서의 기판(W1)과 자외선 조사기(2) 사이의 거리는, 제1 위치에 있어서의 기판(W1)과 자외선 조사기(2) 사이의 거리보다 짧다. 예를 들면 제3 위치에 있어서, 기판(W1)과 자외선 조사기(2) 사이의 거리는 1[mm]이다.
다음에 단계 S34에서, 제어부(7)는 이동 기구(12)를 제어하여, 기판 유지대(1)를 제3 위치로부터 제1 위치로 이동시킨다. 즉 기판 유지대(1)를 자외선 조사기(2)로부터 멀어지게 한다. 이후의 단계 S35~S37은 각각 단계 S4~S6과 동일하다.
이 동작에 의하면, 일단, 기판(W1)과 자외선 조사기(2) 사이의 작용 공간(H1)의 체적을 작게 할 수 있다(단계 S33). 이에 의해, 작용 공간(H1) 내의 초기의 공기를 비작용 공간(H2)으로 흐르게 할 수 있다. 즉, 소정의 분위기와 상이한 초기의 공기를, 작용 공간(H1)으로부터 유출시킬 수 있다. 그 후, 이동 기구(12)는 기판(W1)을 자외선 조사기(2)로부터 멀어지게 한다(단계 S34). 이에 수반하여, 제2 기체 공급부(42)로부터의 기체, 및, 링 공간으로부터의 기체가, 작용 공간(H1) 내로 끌려들어간다.
이상과 같이, 일단, 작용 공간(H1)의 체적을 작게 하여, 그 작용 공간(H1) 내의 초기의 공기를 외부로 흐르게 한다. 이에 의해, 제2 기체 공급부(42)로부터의 기체에 의해서 작용 공간(H1)으로부터 밀어내야 하는 초기의 공기량을 미리 작게 할 수 있다. 이에 의해, 보다 단시간에 작용 공간(H1) 내의 분위기를 소정의 분위기로 할 수 있다.
<이동 기구(12)>
상술한 예에서는, 이동 기구(12)는 기판 유지대(1)를 이동시키고 있지만, 자외선 조사기(2) 및 통부재(3)의 1세트를 이동시켜도 된다. 요컨대, 이동 기구(12)는, 자외선 조사기(2) 및 통부재(3)의 1세트와, 기판 유지대(1)를 상대적으로 이동시킬 수 있으면 된다.
<제2 관통 구멍>
상술한 예에 있어서는, 통부재(3)에는, 2개의 제2 관통 구멍(321, 322)이 형성되어 있지만, 3 이상의 제2 관통 구멍이 통부재(3)에 형성되어도 된다. 3 이상의 제2 관통 구멍의 개구부는 둘레 방향에 있어서 예를 들면 등간격으로 형성되어 있어도 된다.
또 도 2 및 도 3의 예에서는, 제2 관통 구멍(321, 322)을 각각 경유하여 기체가 공급되지만, 예를 들면 제2 관통 구멍(321)을 경유하여 기체를 공급하고, 제2 관통 구멍(322)을 경유하여, 작용 공간(H1) 내의 기체를 배기해도 된다. 도 24는, 이 기판 처리 장치(10)의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다. 제2 관통 구멍(322)의 타단은 배기부(63)에 접속되어 있다. 구체적으로는, 배기부(63)는 배관(631)을 갖고 있고, 이 배관(631)의 일단이 제2 관통 구멍(322)의 타단에 접속된다. 이 경우, 개구부(322a)는 배기 개구부로서 기능한다.
또, 급기용 복수의 제2 관통 구멍 및 배기용 복수의 제2 관통 구멍이 통부재(3)에 형성되어도 된다. 예를 들면 급기용 복수의 제2 관통 구멍의 개구부가 한쪽의 반주 편측에 형성되고, 배기용 복수의 제2 관통 구멍의 개구부가, 다른쪽의 반주 편측에 형성되어도 무방하다.
도 25는, 기판 처리 장치(10)의 다른 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다. 이 기판 처리 장치(10)는, 개구부(321a, 322a)와 같은 점에서 도 2의 기판 처리 장치(10)와 상이하다. 도 25에 있어서는, 개구부(321a, 322a)는 Z방향에 있어서 자외선 조사기(2)측으로 개구됨과 더불어, 수평 방향에 있어서도 개구된다. 즉, 통부재(3)의 내주측을 향해 개구된다. 이에 의하면, 개구부(321a, 322a)로부터 공급된 기체를 수평 방향으로도 흐르게 할 수 있다. 개구부(321a, 322a) 중 한쪽은 급기용 개구부로서 기능하고, 다른쪽은 배기용 개구부로서 기능해도 된다.
1: 기판 유지대 1a: 상면
1b: 측면 2: 자외선 조사 수단(자외선 조사기)
3: 통부재 3a: 내면(내주면)
3c: 상면 10: 기판 처리 장치
12: 이동 기구 13: 회전 기구
14: 돌기부 15: 승강 돌기부
16: 고정 돌기부 18: 제3 관통 구멍
31: 제1 관통 구멍 31a: 측방 개구부(개구부)
33: 홈
41: 제1 기체 공급 수단(제1 기체 공급부)
42: 제2 기체 공급 수단(제2 기체 공급부)
321, 322: 제2 관통 구멍
321a, 322a: 급기 개구부, 배기 개구부(개구부)
311: 제1층 관통 구멍
312: 제2층 관통 구멍 311a: 제1층 개구부
312a: 제2층 개구부 331: 제1홈(홈)
332: 제2홈(홈) 100: 기판 처리 시스템
110: 수용기 유지부 120: 기판 통과부
130: 기판 처리부

Claims (22)

  1. 기판이 올려놓아지는 제1 상면 및 측면을 갖는 기판 유지대와,
    작용 공간을 사이에 두고 기판과 대향하도록 배치되어 있고, 자외선을 기판을 향해 조사하는 자외선 조사 수단과,
    상기 기판 유지대의 상기 측면을 둘러싸는 내면을 갖고, 상기 내면 중 상기 측면과 대향하는 적어도 1개의 위치에 적어도 1개의 측방 개구부를 갖는 통부재와,
    상기 적어도 1개의 측방 개구부를 경유하여, 상기 기판 유지대의 상기 측면과 상기 통부재의 상기 내면 사이의 공간에 기체를 공급하는 제1 기체 공급 수단과,
    기판과 상기 자외선 조사 수단 사이의 상기 작용 공간에 기체를 공급하는 제2 기체 공급 수단을 구비하는, 기판 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 통부재의 상기 내면은, 상기 내면의 둘레 방향을 따라서 연장되는 제1 홈을 포함하고,
    상기 적어도 1개의 측방 개구부는 상기 제1 홈에 형성되어 있는, 기판 처리 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 적어도 1개의 측방 개구부는, 상기 내면의 둘레 방향을 따라서 개구되어 있는, 기판 처리 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 적어도 1개의 측방 개구부는 복수의 측방 개구부를 포함하고,
    상기 복수의 측방 개구부는, 상기 내면의 둘레 방향에 있어서 간격을 두고 나란히 형성되어 있는, 기판 처리 장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 복수의 측방 개구부의 각각의 개구축의 방향이, 상기 둘레 방향의 시계방향 및 반시계 방향 중 한쪽의 회전 방향으로 맞춰져 있는, 기판 처리 장치.
  6. 청구항 4에 있어서,
    기판의 주면에 수직인 축을 회전축으로 하여, 상기 한쪽의 회전 방향으로 상기 기판 유지대를 회전시키는 회전 기구를 더 구비하는, 기판 처리 장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 적어도 1개의 측방 개구부는, 적어도 1개의 제1층 개구부와, 적어도 1개의 제2층 개구부를 포함하고,
    상기 적어도 1개의 제1층 개구부는, 상기 자외선 조사 수단 및 상기 기판 유지대가 늘어서는 방향에 있어서, 상기 적어도 1개의 제2층 개구부와 상이한 위치에 형성되어 있는, 기판 처리 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    적어도 1개의 제1층 개구부는 복수의 제1층 개구부를 포함하고,
    적어도 1개의 제2층 개구부는 복수의 제2층 개구부를 포함하고,
    상기 복수의 제1층 개구부는, 상기 내면의 둘레 방향에 있어서 간격을 두고 나란히 형성되어 있음과 더불어,
    상기 복수의 제2층 개구부의 각각은, 상기 둘레 방향에 있어서 상기 제1층 개구부와는 상이한 위치에 형성되어 있고,
    상기 제1층 개구부 및 상기 제2층 개구부의 각각의 개구축의 방향이, 상기 둘레 방향의 시계 방향 및 반시계 방향 중 한쪽의 회전 방향으로 맞춰져 있는, 기판 처리 장치.
  9. 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
    상기 통부재의 상기 내면은, 상기 내면의 둘레 방향을 따라서 연장되는 제2 홈을 더 포함하고,
    상기 제1 홈 및 상기 제2 홈은, 상기 자외선 조사 수단과 상기 기판 유지대가 늘어서는 방향에 있어서, 서로 상이한 위치에 형성되어 있고,
    상기 적어도 1개의 제1층 개구부는 상기 제1 홈에 형성되어 있고,
    상기 적어도 1개의 제2층 개구부는 상기 제2 홈에 형성되어 있는, 기판 처리 장치.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 통부재는,
    기판과 상기 자외선 조사 수단 사이의 상기 작용 공간에 기체를 공급하는 적어도 1개의 급기 개구부를 더 갖는, 기판 처리 장치.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 적어도 1개의 급기 개구부는 복수의 급기 개구부를 포함하고,
    상기 통부재는, 상기 자외선 조사 수단과 공극을 통해 대향하는 제2 상면을 갖고,
    상기 복수의 급기 개구부는 상기 제2 상면에 형성되어 있고, 상기 내면의 둘레 방향에 있어서 서로 간격을 두고 형성되어 있는, 기판 처리 장치.
  12. 청구항 10 또는 청구항 11에 있어서,
    상기 통부재는,
    상기 내면의 둘레 방향에 있어서 상기 적어도 1개의 급기 개구부와 상이한 위치에 형성되고, 기판과 상기 자외선 조사 수단 사이의 상기 작용 공간의 기체를 배기하는 적어도 1개의 배기 개구부를 더 갖는, 기판 처리 장치.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 적어도 1개의 급기 개구부는 상기 내면의 둘레 방향에 있어서 편측 반분에 형성되어 있고, 상기 적어도 1개의 배기 개구부는 상기 내면의 둘레 방향에 있어서 나머지 편측 반분에 형성되어 있는, 기판 처리 장치.
  14. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 기판 유지대의 상기 제1 상면은, 상기 제1 상면의 둘레 가장자리로부터 연장되는 반송 홈을 포함하고,
    상기 기판 유지대는, 상기 반송 홈에 있어서 개구되는 급기용 또는 배기용 반송 홈 개구부를 포함하는, 기판 처리 장치.
  15. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 기판 유지대는, 상기 제1 상면에 있어서, 상기 자외선 조사 수단측으로 돌출하여, 기판을 지지하는 복수의 돌기부를 구비하고,
    상기 기판 유지대에는, 상기 제1 상면 중 상기 복수의 돌기부와는 상이한 위치에서 개구되는 급기용 또는 배기용 상면 개구부가 형성되어 있는, 기판 처리 장치.
  16. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 기판 유지대의 상기 제1 상면에는,
    상기 자외선 조사 수단과 상기 기판 유지대가 늘어서는 방향에 있어서 승강 가능한 복수의 승강 돌기부와,
    복수의 승강 돌기부보다 기판의 중심에 가까운 위치에서 상기 자외선 조사 수단측으로 돌출하는 복수의 고정 돌기부가 형성되어 있고,
    상기 복수의 승강 돌기부가 상기 자외선 조사 수단측으로 상승했을 때에, 상기 복수의 고정 돌기부는 기판을 지지하지 않고, 상기 복수의 승강 돌기부가 기판을 지지하고,
    상기 복수의 승강 돌기부가 기판 유지대측으로 하강했을 때에, 적어도 상기 복수의 고정 돌기부가 기판을 지지하는, 기판 처리 장치.
  17. 청구항 16에 있어서,
    상기 기판 유지대는, 상기 제1 상면에 있어서 개구되는, 급기용 또는 배기용 상면 개구부를 갖고 있는, 기판 처리 장치.
  18. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    제1 위치 및 제2 위치 사이에서, 상기 자외선 조사 수단과 상기 기판 유지대를 상대적으로 이동시키는 이동 수단을 더 구비하고,
    상기 제1 위치에 있어서의 기판과 상기 자외선 조사 수단 사이의 거리는, 상기 제2 위치에 있어서의 기판과 상기 자외선 조사 수단 사이의 거리보다 짧고,
    상기 적어도 1개의 측방 개구부는, 상기 기판 유지대가 상기 제1 위치에서 정지한 상태에 있어서, 상기 기판 유지대의 상기 측면과 대향하는, 기판 처리 장치.
  19. 제1 상면 및 측면을 갖는 기판 유지대의 상기 제1 상면에 기판을 배치하는 제1 공정과,
    상기 기판 유지대의 상기 측면을 둘러싸는 내면을 갖고, 상기 내면 중 상기 측면과 대향하는 적어도 1개의 위치에 적어도 1개의 측방 개구부를 갖는 통부재의 상기 내면과, 상기 기판 유지대의 상기 측면 사이의 공간으로, 상기 적어도 1개의 측방 개구부를 경유하여, 기체를 공급하고, 작용 공간을 사이에 두고 기판과 대향하도록 배치된 자외선 조사 수단과, 기판 사이의 작용 공간에 기체를 공급하는 제2 공정과,
    상기 제1 공정 및 상기 제2 공정 후에, 상기 자외선 조사 수단으로 하여금 자외선을 기판을 향해 조사하도록 하는 제3 공정을 구비하는, 기판 처리 방법.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 제2 공정은,
    상기 기판 유지대가, 상기 통부재의 상기 내면의 내부로부터 상기 자외선 조사 수단에 대해 멀어지는 방향으로 물러난 상태에 있어서, 상기 작용 공간으로의 기체의 공급 및 상기 적어도 1개의 측방 개구부를 경유한 기체의 공급을 개시하는 공정 (a)와,
    상기 공정 (a) 후에, 상기 기판 유지대의 상기 측면이 상기 통부재의 상기 내면과 대향하도록, 상기 자외선 조사 수단 및 상기 기판 유지대를 상대적으로 이동시키는 공정 (b)를 구비하는, 기판 처리 방법.
  21. 청구항 19 또는 청구항 20에 있어서,
    상기 제2 공정은,
    상기 기판 유지대를 상기 자외선 조사 수단에 접근시키도록, 상기 자외선 조사 수단과, 상기 기판 유지대를 상대적으로 이동시키는 공정 (A)와,
    기판과 상기 자외선 조사 수단 사이의 공간으로의 기체의 공급 및 상기 적어도 1개의 측방 개구부를 경유한 기체의 공급을 개시하는 공정 (B)와,
    상기 공정 (A) 및 상기 공정 (B) 후에, 상기 기판 유지대를 상기 자외선 조사 수단으로부터 멀어지도록, 상기 자외선 조사 수단과 상기 기판 유지대를 상대적으로 이동시키는 공정 (C)를 구비하는, 기판 처리 방법.
  22. 기판을 수용하는 수용 유지부와,
    기판에 대해 처리를 실시하기 위한 기판 처리부와,
    상기 수용 유지부와 상기 기판 처리부 사이에 위치하고, 상기 수용 유지부와 상기 기판 처리부 사이를 왕복하는 기판이 경유하는 기판 통과부를 구비하고,
    상기 기판 통과부에는, 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 기판 처리 장치가 설치되어 있는, 기판 처리 시스템.
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