JPH11221535A - 紫外線洗浄装置 - Google Patents
紫外線洗浄装置Info
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- JPH11221535A JPH11221535A JP4284898A JP4284898A JPH11221535A JP H11221535 A JPH11221535 A JP H11221535A JP 4284898 A JP4284898 A JP 4284898A JP 4284898 A JP4284898 A JP 4284898A JP H11221535 A JPH11221535 A JP H11221535A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】被洗浄物の表面にある腐食しやすい材料の腐食
の発生を避けるとともに、被洗浄物の表面に付着した有
機物の除去効果を十分に達成する。 【解決手段】波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を吸収
しない照射窓２４を備えるとともに波長１７２ｎｍ±２
０ｎｍの紫外線の酸素による吸収を防止した紫外線ラン
プ・ハウジング２０内に、波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの
紫外線を照射する紫外線ランプ２２を配置し、紫外線ラ
ンプ２２から照射された波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫
外線を照射窓２４を通して被洗浄物１６へ照射する紫外
線洗浄装置において、照射窓２４の被洗浄物１６と対向
する外表面２４ａと被洗浄物１６の照射窓２４と対向す
る表面１６ａとの間の距離Ｌを０＜Ｌ≦５ｍｍとした。
の発生を避けるとともに、被洗浄物の表面に付着した有
機物の除去効果を十分に達成する。 【解決手段】波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を吸収
しない照射窓２４を備えるとともに波長１７２ｎｍ±２
０ｎｍの紫外線の酸素による吸収を防止した紫外線ラン
プ・ハウジング２０内に、波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの
紫外線を照射する紫外線ランプ２２を配置し、紫外線ラ
ンプ２２から照射された波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫
外線を照射窓２４を通して被洗浄物１６へ照射する紫外
線洗浄装置において、照射窓２４の被洗浄物１６と対向
する外表面２４ａと被洗浄物１６の照射窓２４と対向す
る表面１６ａとの間の距離Ｌを０＜Ｌ≦５ｍｍとした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線洗浄装置に
関し、さらに詳細には、紫外線の照射により生成される
酸化エネルギーと光子エネルギーとを利用して、例え
ば、半導体基板あるいは液晶表示用基板などの各種の基
板（以下、本明細書においては、半導体基板あるいは液
晶表示用基板などの各種の基板を総称して、単に「基
板」と称する。）などの被洗浄物の表面に付着した有機
物を除去する紫外線洗浄装置に関する。
関し、さらに詳細には、紫外線の照射により生成される
酸化エネルギーと光子エネルギーとを利用して、例え
ば、半導体基板あるいは液晶表示用基板などの各種の基
板（以下、本明細書においては、半導体基板あるいは液
晶表示用基板などの各種の基板を総称して、単に「基
板」と称する。）などの被洗浄物の表面に付着した有機
物を除去する紫外線洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、紫外線洗浄装置として、例え
ば、特開昭６１−１９４８３０号公報に開示された紫外
線洗浄装置が知られている。
ば、特開昭６１−１９４８３０号公報に開示された紫外
線洗浄装置が知られている。
【０００３】この紫外線洗浄装置においては、紫外線を
照射する紫外線ランプとして、波長２５４ｎｍと波長１
８４ｎｍとの２つの波長を同時に出す紫外線を照射する
紫外線ランプを用いている。
照射する紫外線ランプとして、波長２５４ｎｍと波長１
８４ｎｍとの２つの波長を同時に出す紫外線を照射する
紫外線ランプを用いている。
【０００４】ところで、上記した紫外線洗浄装置による
波長２５４ｎｍと波長１８４ｎｍとの紫外線による洗浄
は、紫外線により空気中の酸素をオゾンに変え、さらに
オゾンを酸化力の強い励起酸素原子に分解し、この励起
酸素原子によって基板などの被洗浄物の表面に付着した
有機物を酸化除去するものであり、主に化学的なガス反
応に基づく洗浄である。
波長２５４ｎｍと波長１８４ｎｍとの紫外線による洗浄
は、紫外線により空気中の酸素をオゾンに変え、さらに
オゾンを酸化力の強い励起酸素原子に分解し、この励起
酸素原子によって基板などの被洗浄物の表面に付着した
有機物を酸化除去するものであり、主に化学的なガス反
応に基づく洗浄である。
【０００５】このために、上記した紫外線洗浄装置によ
り、例えば、実際の基板のように、表面にアルミニウム
（Ａｌ）等の腐食しやすい材料により配線パターンが形
成された基板を洗浄する場合には、上記したガス反応に
よって配線パターンに腐食を発生する恐れがあり、基板
の表面に付着した有機物を除去して洗浄を行うことが可
能である一方で、配線パターンに腐食によるダメージを
発生する恐れがあるという問題点があった。
り、例えば、実際の基板のように、表面にアルミニウム
（Ａｌ）等の腐食しやすい材料により配線パターンが形
成された基板を洗浄する場合には、上記したガス反応に
よって配線パターンに腐食を発生する恐れがあり、基板
の表面に付着した有機物を除去して洗浄を行うことが可
能である一方で、配線パターンに腐食によるダメージを
発生する恐れがあるという問題点があった。
【０００６】従来より、こうした問題点に対処するため
に、紫外線の照射により生成される酸化エネルギーと光
子エネルギーとを利用した光分解反応を主体とする洗浄
作用を利用することによって、配線パターンの腐食によ
るダメージを避けるようにした洗浄方法が提案されてい
る。
に、紫外線の照射により生成される酸化エネルギーと光
子エネルギーとを利用した光分解反応を主体とする洗浄
作用を利用することによって、配線パターンの腐食によ
るダメージを避けるようにした洗浄方法が提案されてい
る。
【０００７】こうした洗浄方法とは、具体的には、紫外
線の中心波長を１７２ｎｍ±２０ｎｍとすることによ
り、配線パターンの腐食のダメージを避ける方法である
が、基板の表面に付着した有機物の除去効果が十分でな
いという新たな問題点が指摘されていた。
線の中心波長を１７２ｎｍ±２０ｎｍとすることによ
り、配線パターンの腐食のダメージを避ける方法である
が、基板の表面に付着した有機物の除去効果が十分でな
いという新たな問題点が指摘されていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記したよ
うな従来の技術の有する種々の問題点に鑑みてなされた
ものであり、その目的とするところは、被洗浄物の表面
にある腐食しやすい材料の腐食によるダメージの発生を
抑止することができるとともに、被洗浄物の表面に付着
した有機物の除去効果を十分に達成することができるよ
うにした紫外線洗浄装置を提供しようとするものであ
る。
うな従来の技術の有する種々の問題点に鑑みてなされた
ものであり、その目的とするところは、被洗浄物の表面
にある腐食しやすい材料の腐食によるダメージの発生を
抑止することができるとともに、被洗浄物の表面に付着
した有機物の除去効果を十分に達成することができるよ
うにした紫外線洗浄装置を提供しようとするものであ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のうち請求項１に記載の発明は、波長１７２
ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を吸収しない照射窓を備えると
ともに波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線の酸素による
吸収を防止したハウジング内に、波長１７２ｎｍ±２０
ｎｍの紫外線を照射する紫外線ランプを配置し、上記紫
外線ランプから照射された波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの
紫外線を上記照射窓を通して被洗浄物へ照射する紫外線
洗浄装置において、上記照射窓の上記被洗浄物と対向す
る表面と上記被洗浄物の上記照射窓と対向する表面との
間の距離Ｌを０＜Ｌ≦５ｍｍとしたものである。
に、本発明のうち請求項１に記載の発明は、波長１７２
ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を吸収しない照射窓を備えると
ともに波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線の酸素による
吸収を防止したハウジング内に、波長１７２ｎｍ±２０
ｎｍの紫外線を照射する紫外線ランプを配置し、上記紫
外線ランプから照射された波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの
紫外線を上記照射窓を通して被洗浄物へ照射する紫外線
洗浄装置において、上記照射窓の上記被洗浄物と対向す
る表面と上記被洗浄物の上記照射窓と対向する表面との
間の距離Ｌを０＜Ｌ≦５ｍｍとしたものである。
【００１０】従って、本発明のうち請求項１に記載の発
明によれば、波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を被洗
浄物に照射するので、被洗浄物の表面にある腐食しやす
い材料の腐食を抑止することができるとともに、照射窓
の被洗浄物と対向する表面と被洗浄物の照射窓と対向す
る表面との間の距離Ｌを０＜Ｌ≦５ｍｍとしたので、被
洗浄物の表面に付着した有機物の除去効果も十分に得る
ことができるものである。
明によれば、波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を被洗
浄物に照射するので、被洗浄物の表面にある腐食しやす
い材料の腐食を抑止することができるとともに、照射窓
の被洗浄物と対向する表面と被洗浄物の照射窓と対向す
る表面との間の距離Ｌを０＜Ｌ≦５ｍｍとしたので、被
洗浄物の表面に付着した有機物の除去効果も十分に得る
ことができるものである。
【００１１】また、本発明のうち請求項２に記載の発明
は、請求項１に記載の発明において、上記被洗浄物を載
置する被洗浄物保持台と、上記距離Ｌが０＜Ｌ≦５ｍｍ
となるように上記被洗浄物保持台を移動する移動機構と
を有するようにしたものである。
は、請求項１に記載の発明において、上記被洗浄物を載
置する被洗浄物保持台と、上記距離Ｌが０＜Ｌ≦５ｍｍ
となるように上記被洗浄物保持台を移動する移動機構と
を有するようにしたものである。
【００１２】従って、本発明のうち請求項２に記載の発
明によれば、照射窓の被洗浄物と対向する表面と被洗浄
物の照射窓と対向する表面との間の距離Ｌを０＜Ｌ≦５
ｍｍの範囲に容易に設定することができる。
明によれば、照射窓の被洗浄物と対向する表面と被洗浄
物の照射窓と対向する表面との間の距離Ｌを０＜Ｌ≦５
ｍｍの範囲に容易に設定することができる。
【００１３】また、本発明のうち請求項３に記載の発明
は、請求項１または請求項２のいずれか１項に記載の発
明において、上記被洗浄物を加熱する加熱装置を有する
ようにしたものである。
は、請求項１または請求項２のいずれか１項に記載の発
明において、上記被洗浄物を加熱する加熱装置を有する
ようにしたものである。
【００１４】従って、本発明のうち請求項３に記載の発
明によれば、加熱装置により被洗浄物を加熱することが
でき、被洗浄物の表面に付着した有機物の除去効果を一
層促進することができる。
明によれば、加熱装置により被洗浄物を加熱することが
でき、被洗浄物の表面に付着した有機物の除去効果を一
層促進することができる。
【００１５】また、本発明のうち請求項４に記載の発明
は、請求項３に記載の発明において、上記加熱装置は、
上記被洗浄物保持台内に配設されたヒーターであるよう
にしたものである。
は、請求項３に記載の発明において、上記加熱装置は、
上記被洗浄物保持台内に配設されたヒーターであるよう
にしたものである。
【００１６】従って、本発明のうち請求項４に記載の発
明によれば、加熱装置を被洗浄物保持台内に配設するこ
とができるので、装置全体の小型化を図ることができ
る。
明によれば、加熱装置を被洗浄物保持台内に配設するこ
とができるので、装置全体の小型化を図ることができ
る。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて、本発明に
よる紫外線洗浄装置の実施の形態の一例を詳細に説明す
るものとする。
よる紫外線洗浄装置の実施の形態の一例を詳細に説明す
るものとする。
【００１８】図１は、本発明による紫外線洗浄装置の実
施の形態の一例を示す説明図であり、ベース台１０に
は、シリンダー１２により上下方向（図１上矢印方向）
に移動自在に設置された被洗浄物保持台１４が配設され
ている。基板などの被洗浄物１６は、この被洗浄物保持
台１４の上面１４ａに載置されることになる。
施の形態の一例を示す説明図であり、ベース台１０に
は、シリンダー１２により上下方向（図１上矢印方向）
に移動自在に設置された被洗浄物保持台１４が配設され
ている。基板などの被洗浄物１６は、この被洗浄物保持
台１４の上面１４ａに載置されることになる。
【００１９】また、被洗浄物保持台１４にはヒーター１
８が内蔵されており、ヒーター１８を作動させることに
より被洗浄物１６を適宜加熱することができるようにな
されている。
８が内蔵されており、ヒーター１８を作動させることに
より被洗浄物１６を適宜加熱することができるようにな
されている。
【００２０】さらに、被洗浄物保持台１４の上方には紫
外線ランプ・ハウジング２０が配置されており、紫外線
ランプ・ハウジング２０内には中心波長として波長１７
２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を照射する紫外線ランプ２２
が配設されている。
外線ランプ・ハウジング２０が配置されており、紫外線
ランプ・ハウジング２０内には中心波長として波長１７
２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を照射する紫外線ランプ２２
が配設されている。
【００２１】そして、紫外線ランプ・ハウジング２０の
被洗浄物保持台１４の上面１４ａと対向する側には、例
えば、石英ガラスなどにより形成された波長１７２ｎｍ
±２０ｎｍの紫外線に対して透明な照射窓２４が設けら
れており、紫外線ランプ２２により照射された紫外線
は、照射窓２４を透過して被洗浄物保持台１４の上面１
４ａに向けて照射されるようになされている。
被洗浄物保持台１４の上面１４ａと対向する側には、例
えば、石英ガラスなどにより形成された波長１７２ｎｍ
±２０ｎｍの紫外線に対して透明な照射窓２４が設けら
れており、紫外線ランプ２２により照射された紫外線
は、照射窓２４を透過して被洗浄物保持台１４の上面１
４ａに向けて照射されるようになされている。
【００２２】なお、シリンダー１２を作動させることに
より、被洗浄物保持台１４の上面１４ａに載置された被
洗浄物１６の表面１６ａと紫外線ランプ・ハウジング２
０に設けられた照射窓２４の外表面２４ａとの間の距離
Ｌを、０＜Ｌ≦５ｍｍとなるように調整することができ
るようになされている。
より、被洗浄物保持台１４の上面１４ａに載置された被
洗浄物１６の表面１６ａと紫外線ランプ・ハウジング２
０に設けられた照射窓２４の外表面２４ａとの間の距離
Ｌを、０＜Ｌ≦５ｍｍとなるように調整することができ
るようになされている。
【００２３】また、紫外線ランプ・ハウジング２０内に
は、窒素（Ｎ2）ガスが流されており、紫外線ランプ２
２により照射された紫外線が空気中の酸素（０2）によ
り吸収されるのを防止するようになされている。
は、窒素（Ｎ2）ガスが流されており、紫外線ランプ２
２により照射された紫外線が空気中の酸素（０2）によ
り吸収されるのを防止するようになされている。
【００２４】なお、この実施の形態においては、紫外線
ランプ・ハウジング２０内に窒素（Ｎ2）ガスを流すこ
とにより、紫外線ランプ２２により照射された紫外線が
空気中の酸素（０2）により吸収されるのを防止するよ
うにしたが、これに限られるものではなく、真空ポンプ
を用いて紫外線ランプ・ハウジング２０内の真空度を高
めることによって、紫外線ランプ２２により照射された
紫外線が空気中の酸素（０2）により吸収されるのを防
止するようにしてもよい。
ランプ・ハウジング２０内に窒素（Ｎ2）ガスを流すこ
とにより、紫外線ランプ２２により照射された紫外線が
空気中の酸素（０2）により吸収されるのを防止するよ
うにしたが、これに限られるものではなく、真空ポンプ
を用いて紫外線ランプ・ハウジング２０内の真空度を高
めることによって、紫外線ランプ２２により照射された
紫外線が空気中の酸素（０2）により吸収されるのを防
止するようにしてもよい。
【００２５】以上の構成において、この紫外線洗浄装置
により被洗浄物１６の洗浄を行うには、まず、シリンダ
ー１２を作動させて被洗浄物保持台１４を下方へ移動さ
せ、被洗浄物保持台１４の上面１４ａに被洗浄物１６を
載置する。
により被洗浄物１６の洗浄を行うには、まず、シリンダ
ー１２を作動させて被洗浄物保持台１４を下方へ移動さ
せ、被洗浄物保持台１４の上面１４ａに被洗浄物１６を
載置する。
【００２６】それから、シリンダー１２を作動させて被
洗浄物保持台１４を上方へ移動させ、被洗浄物保持台１
４の上面１４ａに載置された被洗浄物１６の表面１６ａ
と紫外線ランプ・ハウジング２０に設けられた照射窓２
４の外表面２４ａとの間の距離Ｌが０＜Ｌ≦５ｍｍとな
るようにする。
洗浄物保持台１４を上方へ移動させ、被洗浄物保持台１
４の上面１４ａに載置された被洗浄物１６の表面１６ａ
と紫外線ランプ・ハウジング２０に設けられた照射窓２
４の外表面２４ａとの間の距離Ｌが０＜Ｌ≦５ｍｍとな
るようにする。
【００２７】その後に、紫外線ランプ２２を点灯して、
照射窓２４を通して紫外線を被洗浄物１６上に照射する
ことにより、被洗浄物１６の表面の洗浄を行う。
照射窓２４を通して紫外線を被洗浄物１６上に照射する
ことにより、被洗浄物１６の表面の洗浄を行う。
【００２８】また、ヒーター１８を作動させることによ
り被洗浄物保持台１４を加熱すると、これにより被洗浄
物保持台１４の上面１４ａに載置された被洗浄物１６が
加熱されることになり、紫外線による被洗浄物１６の洗
浄の効果を向上することができる。
り被洗浄物保持台１４を加熱すると、これにより被洗浄
物保持台１４の上面１４ａに載置された被洗浄物１６が
加熱されることになり、紫外線による被洗浄物１６の洗
浄の効果を向上することができる。
【００２９】図２は、上記した本発明による紫外線洗浄
装置（図２においては「本発明」として示す。）と「従
来の技術」の項で説明した波長２５４ｎｍと波長１８４
ｎｍとの２つの波長を同時に出す紫外線を照射する紫外
線ランプを用いた紫外線洗浄装置（図２においては「従
来技術」として示す。）とを用いて、被洗浄物として表
面にＡｌ（アルミニウム）により配線パターンが形成さ
れた液晶用表示用基板を洗浄した場合の比較実験の結果
を示す図表である。
装置（図２においては「本発明」として示す。）と「従
来の技術」の項で説明した波長２５４ｎｍと波長１８４
ｎｍとの２つの波長を同時に出す紫外線を照射する紫外
線ランプを用いた紫外線洗浄装置（図２においては「従
来技術」として示す。）とを用いて、被洗浄物として表
面にＡｌ（アルミニウム）により配線パターンが形成さ
れた液晶用表示用基板を洗浄した場合の比較実験の結果
を示す図表である。
【００３０】なお、実験の結果の評価にあたって、液晶
用表示用基板に付着した有機物の除去スピードについて
は、水の接触角が５°以下になるまでの紫外線の照射時
間で評価した。この照射時間が短いほど液晶用表示用基
板に付着した有機物の除去スピードが速いことを示して
おり、被洗浄物の表面に付着した有機物の除去効果が高
いことを意味している。
用表示用基板に付着した有機物の除去スピードについて
は、水の接触角が５°以下になるまでの紫外線の照射時
間で評価した。この照射時間が短いほど液晶用表示用基
板に付着した有機物の除去スピードが速いことを示して
おり、被洗浄物の表面に付着した有機物の除去効果が高
いことを意味している。
【００３１】また、実験の結果の評価にあたって、液晶
用表示用基板の表面に形成された配線パターンのダメー
ジの発生については、顕微鏡観察による目視により評価
した。
用表示用基板の表面に形成された配線パターンのダメー
ジの発生については、顕微鏡観察による目視により評価
した。
【００３２】図２に示す実験結果から明らかなように、
「本発明」において距離Ｌが０＜Ｌ≦５ｍｍのときに
は、「従来技術」よりも液晶用表示用基板に付着した有
機物の除去スピードが大幅に向上する（速くなる）とと
もに、液晶用表示用基板の表面に形成された配線パター
ンにダメージを与えないことが理解される。
「本発明」において距離Ｌが０＜Ｌ≦５ｍｍのときに
は、「従来技術」よりも液晶用表示用基板に付着した有
機物の除去スピードが大幅に向上する（速くなる）とと
もに、液晶用表示用基板の表面に形成された配線パター
ンにダメージを与えないことが理解される。
【００３３】また、ヒーター１８を作動させて液晶表示
用基板２２を加熱することにより、液晶用表示用基板に
付着した有機物の除去スピードをさらに速めることがで
きるものであることがわかる。
用基板２２を加熱することにより、液晶用表示用基板に
付着した有機物の除去スピードをさらに速めることがで
きるものであることがわかる。
【００３４】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、被洗浄物の表面にある腐食しやすい材料の
腐食の発生を避けることができるとともに、被洗浄物の
表面に付着した有機物の除去効果を十分に達成すること
ができるという優れた効果を奏する。
ているので、被洗浄物の表面にある腐食しやすい材料の
腐食の発生を避けることができるとともに、被洗浄物の
表面に付着した有機物の除去効果を十分に達成すること
ができるという優れた効果を奏する。
【図１】本発明による紫外線洗浄装置の実施の形態の一
例を示す概略構成説明図である。
例を示す概略構成説明図である。
【図２】本発明による紫外線洗浄装置と「従来の技術」
の項で説明した紫外線洗浄装置との比較実験の結果を示
す図表である。
の項で説明した紫外線洗浄装置との比較実験の結果を示
す図表である。
１０ ベース台 １２ シリンダー １４ 被洗浄物保持台 １４ａ 被洗浄物保持台の上面 １６ 被洗浄物 １６ａ 被洗浄物の表面 １８ ヒーター ２０ 紫外線ランプ・ハウジング ２２ 紫外線ランプ ２４ 照射窓 ２４ａ 照射窓の外表面 Ｌ 被洗浄物の表面と照射窓の外表面との間の
距離
距離
Claims (4)
- 【請求項１】 波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を吸
収しない照射窓を備えるとともに波長１７２ｎｍ±２０
ｎｍの紫外線の酸素による吸収を防止したハウジング内
に、波長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を照射する紫外
線ランプを配置し、前記紫外線ランプから照射された波
長１７２ｎｍ±２０ｎｍの紫外線を前記照射窓を通して
被洗浄物へ照射する紫外線洗浄装置において、 前記照射窓の前記被洗浄物と対向する表面と前記被洗浄
物の前記照射窓と対向する表面との間の距離Ｌを０＜Ｌ
≦５ｍｍとしたことを特徴とする紫外線洗浄装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の紫外線洗浄装置におい
て、 前記被洗浄物を載置する被洗浄物保持台と、 前記距離Ｌが０＜Ｌ≦５ｍｍとなるように前記被洗浄物
保持台を移動する移動機構とを有することを特徴とする
紫外線洗浄装置。 - 【請求項３】 請求項１または２のいずれか１項に記載
の紫外線洗浄装置において、 前記被洗浄物を加熱する加熱装置とを有することを特徴
とする紫外線洗浄装置。 - 【請求項４】 請求項３に記載の紫外線洗浄装置におい
て、 前記加熱装置は、前記被洗浄物保持台内に配設されたヒ
ーターであることを特徴とする紫外線洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04284898A JP3526204B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 紫外線洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04284898A JP3526204B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 紫外線洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11221535A true JPH11221535A (ja) | 1999-08-17 |
| JP3526204B2 JP3526204B2 (ja) | 2004-05-10 |
Family
ID=12647437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04284898A Expired - Fee Related JP3526204B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 紫外線洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3526204B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7125799B2 (en) | 2002-01-23 | 2006-10-24 | Tokyo Electron Limited | Method and device for processing substrate, and apparatus for manufacturing semiconductor device |
| KR20180077038A (ko) | 2016-12-28 | 2018-07-06 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기판 처리 시스템 |
-
1998
- 1998-02-09 JP JP04284898A patent/JP3526204B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7125799B2 (en) | 2002-01-23 | 2006-10-24 | Tokyo Electron Limited | Method and device for processing substrate, and apparatus for manufacturing semiconductor device |
| KR20180077038A (ko) | 2016-12-28 | 2018-07-06 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기판 처리 시스템 |
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