TWI510421B - The falling impact of the object - Google Patents

Description

物體之落下衝擊緩和裝置

本發明係關於一種緩和自由落下之物體(例如晶片零件或顆粒物等)之落下衝擊，且抑制並阻止物體產生破損或變形之落下衝擊緩和裝置。本發明中之物體係指可能會因特定值以上之落下衝擊而產生破裂或缺損、或變形之固態物體，其素材或用途未限定。

自先前以來，於在製造步驟中搬送如積層陶瓷電容器之晶片零件之情形時，有時必須自某個高度之搬送線向高度低於其之另一搬送線移送晶片零件。於此情形時，先前係使用使晶片零件沿著如滑槽(chuter)之滑座滑動而進行搬送之方法，但為了於特定以上之高度滑動，滑槽本身變得大型，並且於水平方向上亦必需較大之空間。

因此，先前有如下方法：如圖13所示般，上下多段地配置複數根搬送帶101、102、103，使於最上段之搬送帶101上搬送之晶片零件C落下至下一段之帶102上，並依序使晶片零件C向下段之帶上落下，從而一面緩和每1段之晶片零件C之落下衝擊一面進行搬送。如積層陶瓷電容器之晶片零件由於易因落下衝擊而產生破裂或缺損，故必須將每1段之晶片零件之落下高度H控制為容許落下距離以下。

例如，當使0.5×0.5×1.0mm之長方體形狀之積層陶瓷電容器自1m之高度自由落下時，落下速度加速至約3m/s。若使晶片零件以該速度碰撞至剛體板(例如陶瓷板)，則藉由實驗確認晶片零件會以30%以上之機率受到破裂或缺損等損傷。另一方面，若將落下高度設為50~150mm，則經確認破裂或缺損大致為零，容許落下距離為50~150 mm。由此，於自超過150mm之高度落下之情形時，必須採取一些落下衝擊緩和對策。

若使晶片零件落下至胺基甲酸酯或海綿等柔軟之彈性墊上，則該墊會吸收衝擊，而能避免晶片零件之破損或損傷。然而，當使多個晶片零件連續落下至墊上時，先落下之晶片零件與後續之晶片零件會發生碰撞，該碰撞亦會導致產生破裂或缺損。

於上述使用帶之搬送裝置中，為了使後落下之晶片零件不碰撞至先落下之晶片零件上，必須調節帶之搬送速度。因此，必須一直連續驅動複數根帶，動能亦變大。又，若一次性使多個晶片零件落下，則有可能即便提高帶之搬送速度亦無法應對。

於專利文獻1中揭示有以緩和落下衝擊為目的之輸送機之滑槽裝置。該滑槽裝置具備於高度方向上排列複數段而配置之搬送路徑，且包含：落下速度減小機構，其將上下相鄰之各搬送路徑中位於下側之搬送路徑之上游側端部轉動自如地連接於位於其上側之搬送路徑之下游側端部，在自由狀態下使各搬送路徑自上游側至下游側向下方傾斜；及線，其設置於最下段之搬送路徑，使該搬送路徑上升或下降，而進行落下速度減小機構之高度調整。

然而，於專利文獻1所記載之滑槽裝置之情形時，有如下等問題：(1)為了實現充分地緩和落下衝擊而必需相當長之搬送路徑；(2)由於一面呈Z字狀移動一面落下，故移動會花費大量時間；(3)由於必須經由鉸鏈軸可轉動地連結複數條搬送路徑，故裝置變得大型且複雜。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2007-153576號公報

因此，本發明之目的在於提供一種可實現各個落下物之衝擊緩和，並且即便於複數個落下物連續落下來之情形時亦可抑制落下物彼此之碰撞的構造簡單之落下衝擊緩和裝置。

為了達成上述目的，本發明之第1實施形態係一種落下衝擊緩和裝置，其係緩和自由落下之物體之落下衝擊者，其特徵在於：於上下方向上組合複數層具有上述物體可通過之間隔而平行地張設有複數根彈性線之過濾器、或具有上述物體可通過之網眼而將彈性線編成網狀之過濾器，且以使上下組合之複數層過濾器垂直投影至水平面所得之投影圖中之線間隔至少在物體落下來之區域內成為上述物體無法通過之寬度之方式，上下之過濾器之線位置於水平方向上相異。此處，所謂上下之過濾器之線位置於水平方向上相異，包含上下之過濾器彼此為非平行之情形、或雖平行但水平方向之位置偏移之情形等。

一般而言，根據衝力之式，因物體之碰撞而產生之衝擊力F係以如下(1)式表示。

F=mv/△t‧‧‧(1)

此處，m為物體之質量，v為速度，△t為碰撞時間。

即，為了使物體受到之衝擊力F下降，可藉由右邊分子之運動量之減小(=速度之減小)、或右邊分母之碰撞時間之增加而達成。

藉由使複數個物體自過濾器之上方落下，從而物體碰撞至其中一根線，藉由線之彈性使物體與線之碰撞時間△t延長，從而使衝擊力降低。例如，與線碰撞之落下物係藉由線之彈性，其碰撞時間△t相較於與剛體板之碰撞成為數倍~10倍以上，因其碰撞而產生之衝擊力F相較於與剛體板之碰撞成為幾分之1至1/10以下。

由於以使上下組合之複數層過濾器垂直投影至水平面而成之投影圖中之線間隔至少在物體落下來之區域內成為物體無法通過之寬度之方式，上下之過濾器之線位置於水平方向上相異，故無論物體以何種姿勢落下，均不會通過全部過濾器而不停。亦即，即便穿過上層過濾器之物體仍會碰撞至下層之其中一個過濾器之線。藉由與複數層線之碰撞而使落下速度階段性地降低，從而可減小每一次之衝擊力，藉由重複進行低於容許衝擊力之碰撞，可無破裂缺損地回收落下之物體。又，由於過濾器係具有落下物可通過之間隔且平行地張設複數根線或將複數根線構成為網狀者，故物體易於通過過濾器，而可抑制物體殘留於最上層之過濾器上。因此，即便使複數個物體連續落下，落下物亦會快速地通過最上層之過濾器，而能避免與後續之落下物之碰撞。若將該落下衝擊緩和裝置應用於高度不同之搬送線，則在1次落下中可獲得充分之高度(例如1m以上)，而可減小平面方向之空間，並且可使物體連續落下，從而提高處理效率。而且，由於無需驅動裝置，故構造簡單，可削減動能。

作為過濾器，亦可設為如下構造：具備框體、及平行地張設於該框體之內側空間之複數根彈性線，且使框體可於上下方向上堆疊。於該情形時，藉由上下堆疊複數個框體，而不會對各根線施加負載，且可準確地定位各根線之位置。作為線，既可為金屬線，亦可為樹脂線，但較理想為具有於物體碰撞時可發揮充分之緩衝效果之楊氏模數、且不易斷線之線。

又，關於過濾器之線間隔，相較於上層之過濾器而縮小下層之過濾器之構造亦有效。換言之，過濾器各層之線間隔亦可以越為上部之層越疏、越為下部之層越密之方式設定。當使複數個物體自過濾器之上方連續落下時，某個物體碰撞至最上層之線，而另一物體穿過最上層之線而碰撞至下方之線。由於上層之線之間隔較下層過濾器之間 隔寬，故物體易於穿過最上層之過濾器，已穿過之物體碰撞至下層之其中一個過濾器，而緩和落下衝擊。如此，藉由降低與上層之線碰撞之物體之碰撞機率，而使在上層過濾器上彈跳之物體之數量減少，故可使彈跳之物體彼此之碰撞頻度、或彈跳之物體與自上方落下來之物體之碰撞頻度下降，從而可防止物體之缺損或破裂。又，由於可抑制物體滯留於最上層之過濾器上，故可抑制物體彼此之碰撞。

亦可設為於自鉛垂上方觀察時相鄰之上下層過濾器之線方向係非平行地配置之構造。換言之，亦可以於自鉛垂上方觀察時相互之線交叉之方式相對於上層過濾器而配置下層過濾器。當使複數個物體自過濾器之上方落下時，某個物體碰撞至最上層之線，而其他物體穿過最上層之線。由於上層之線與下層之線為非平行，故穿過上層之線之物體易於碰撞至下層之其中一個過濾器，而緩和落下衝擊。

在較佳之實施形態中，亦可設為至少最上層過濾器之線方向相對於水平軸斜向傾斜之構造。由網構成過濾器之情形時，只要構成網之一方向之線相對於水平軸傾斜即可，其他方向之線亦可為水平方向。又，雖亦可將上下配置之所有過濾器之線互相平行且斜向地配置，但只要包含最上層之過濾器之1個或複數個過濾器傾斜即可。於該情形時，落下來之物體碰撞至包含最上層之過濾器之傾斜之過濾器之機率較高，不僅可利用線之彈性緩和其落下衝擊，而且向水平方向或斜方向彈跳，從而可避免與後續之落下物體正面碰撞。因此，可抑制物體彼此之碰撞引起之破裂或缺損。

作為本發明之另一實施形態，亦可設為如下構成，即，包括：複數個網，其等係將複數根彈性線呈網狀組合而成；及支持體，其係相對於鉛垂軸於斜方向上且互相隔開大於上述物體之最大尺寸之間隙而平行地支持複數個上述網而成。網之上緣部係空出大於上述間隙之水平方向之開口寬度而平行地配置。於該情形時，落下來之物體碰撞 至其中一個網之上表面，利用網之彈性使物體與網之碰撞時間延長，而緩和衝擊力。落下物雖在網上彈跳，但由於網相對於鉛垂軸朝斜方向傾斜，故彈跳方向成為斜方向或水平方向，而進入至相鄰之網之下側。因此，可避免與後續之落下物之碰撞。落下物藉由與相鄰之2個網之碰撞而使落下速度階段性地降低，從而可減小每一次之衝擊力，且藉由重複進行低於容許衝擊力之碰撞，而可無破裂缺損地回收物體。

於該實施形態之情形時，各網既可為將線以物體無法通過之間隔呈網狀組合而成者，亦可為以將線以物體可通過之間隔呈網狀組合、且上下鄰接之網之線之位置相異之方式構成者。於前者之情形時，如上述般，一面使晶片零件與網重複進行複數次碰撞一面吸收落下能。於後者之情形時，即便穿過上層之網之物體亦會碰撞至下層之其中一個網，藉由重複進行低於容許衝擊力之碰撞，而可無破裂缺損地回收物體。

如上所述，根據本發明之第1實施形態，由於在上下方向上組合複數層平行地張設有複數根線之過濾器或將線編成網狀之過濾器，故當使複數個物體自過濾器之上方落下時，物體碰撞至其中一根線，藉由線之彈性使物體與線之碰撞時間延長，故衝擊力降低。又，由於以使複數層過濾器垂直投影至水平面所得之投影圖中之線間隔成為物體無法通過之寬度之方式，上下之過濾器之線位置於水平方向上相異，故藉由與複數根線之碰撞可使物體之落下速度階段性地降低，而可減小每一次之衝擊力，且藉由重複進行低於容許衝擊力之碰撞，而可無破裂缺損地回收物體。又，由於過濾器係以具有大於落下物之最大尺寸之間隔之方式配置線而成者，故物體易於通過線之間，從而可抑制物體殘留於最上層之過濾器上。因此，即便使複數個物體連續落下， 亦發揮如下優異之效果：落下物快速地通過最上層之過濾器，而能避免與後續之落下物之碰撞。而且，由於無需驅動裝置，故構造簡單，可削減動能。

又，根據第2實施形態，由於相對於鉛垂軸於斜方向上且隔開大於物體之最大尺寸之間隙平行地配置有複數個網，故藉由網之彈性使物體與網之碰撞時間延長，從而緩和衝擊力。而且，由於物體藉由網向斜方向或水平方向彈跳，而進入至相鄰之網之下側，故可避免與後續之落下物之碰撞。其結果，可無破裂缺損地回收物體。

1、1'‧‧‧衝擊緩和裝置

2‧‧‧落下筒

3、5、6‧‧‧導引筒

4‧‧‧回收托盤

5a‧‧‧下表面

6a‧‧‧上表面

7、101、102、103‧‧‧搬送帶

10、11、12、13、14‧‧‧過濾器

10a~14a‧‧‧框體

10b~14b‧‧‧線

15、16、17、18‧‧‧過濾器

15a~18a‧‧‧框體

15a1、15a2‧‧‧框部

15b~18b、15d~18d、20a、25a‧‧‧線

20、25‧‧‧網

30‧‧‧回收箱(支持體)

C‧‧‧晶片零件(物體)

d‧‧‧網眼

D、D1、D2、D3、D4‧‧‧線間隔

h‧‧‧距離

H‧‧‧落下高度

S‧‧‧間隙

W‧‧‧開口寬度

θ、α‧‧‧傾斜角

圖1係本發明之落下衝擊緩和裝置之第1實施例之整體剖面圖。

圖2係構成落下衝擊緩和裝置之過濾器之立體圖。

圖3係自上方觀察積層複數個過濾器而成者之俯視圖。

圖4係圖3之IV-IV線剖面圖。

圖5係本發明之第2實施例中之過濾器之剖面圖。

圖6係本發明之第3實施例中之積層有過濾器之狀態之俯視圖。

圖7係圖6之VII-VII線剖面圖。

圖8係本發明之過濾器之第4實施例之立體圖。

圖9係本發明之落下衝擊緩和裝置之第5實施例之整體剖面圖。

圖10係構成圖9之落下衝擊緩和裝置之過濾器之剖面圖。

圖11係本發明之落下衝擊緩和裝置之第6實施例之概略剖面圖。

圖12係本發明之落下衝擊緩和裝置之第7實施例之概略剖面圖。

圖13係先前之搬送裝置之一例之概略圖。

-第1實施例-

圖1~圖3表示本發明之落下衝擊緩和裝置之第1實施例。該裝置1使用於例如0.5×0.5×1.0mm尺寸之長方體形狀之積層陶瓷電容器般 之晶片零件(物體)C之落下衝擊緩和。再者，圖1係為了容易理解而圖示者，晶片零件C與各構件之尺寸關係與實際不同。

本衝擊緩和裝置1係在堆疊有複數層過濾器10、11、12、13之狀態下固定者。此處，雖表示了積層有4層過濾器之構造，但只要為2層以上，則其層數任意。本裝置1係經由導引筒3固定於落下筒2之下部。構成為複數個晶片零件C通過落下筒2中連續地落下來。

構成裝置1之過濾器10之構造係如圖2所示般，包含四邊形狀之框體10a、及平行地張設於框體10a之內側空間之複數根彈性線10b。圖2中，雖於1個框體10a之對向之2邊之間平行地張設有5根線10b，但線10b之根數任意。作為線10b之材質，只要為具有於晶片零件C碰撞時可發揮充分之緩衝效果之楊氏模數、且不易斷線之線，則既可為金屬線，亦可為樹脂線。只要根據晶片零件C之重量或比重等設定線之材質、線徑、張力即可。線10b之間隔D係設定為大於晶片零件C之最大尺寸(在上述晶片零件之例中為1mm)。

各過濾器之框體10a~13a係以上下堆疊之狀態藉由凹凸或螺釘等固定具(未圖示)被定位固定。以上下過濾器之線之位置相異之方式積層有過濾器10、11、12、13。圖3係將上下積層之過濾器10~13之一例垂直投影至水平面所得之投影圖，第4圖係與線正交之方向之剖面圖。在圖3中，為了容易理解而以粗線表示最上層之線10b，以細線表示第2層之線11b，以一點鏈線表示第3層之線12b，以虛線表示第4層之線13b，但所有線為相同粗細度。上下鄰接之線間之距離h相當於框體10a~13a之厚度，且該距離h大於晶片零件之最大尺寸。在該實施例中，所有過濾器10~13之線10b~13b平行，且上下鄰接之過濾器之線之位置於水平方向上相互偏移。而且，於將複數層積層之過濾器10~13向水平面垂直投影時，所有線10b~13b之水平方向之最小間隙d(參照圖3)係設為晶片零件C之最小尺寸(在上述例中為0.5mm)以下。 因此，無論晶片零件C以何種姿勢落下來，均不會存在晶片零件C不與線接觸而穿過線間之情況。換言之，所有晶片零件C必定與其中一根線碰撞1次以上，而緩和衝擊力。再者，於圖3中雖遍及過濾器之整個面將線間隔d設為晶片零件無法通過之寬度，但亦可不必為過濾器整個面，例如若預先限制晶片零件之落下區域，則只要至少在晶片零件落下來之區域內將線間隔d設為晶片零件無法通過之寬度即可。

再者，在圖3、圖4中表示了如上下積層之所有層之過濾器之線於上下方向上未整齊排列之例，但在過濾器之層數、線間隔D、及晶片零件之尺寸等之關係方面，1個或複數層過濾器之線亦可於上下方向上整齊排列。

於裝置1之下方，空出間隙而配置有回收托盤4。最下層之過濾器13之線13b與回收托盤4之高度差係設為容許落下距離(例如150mm)以下，通過過濾器10~13之晶片零件C由於落下能已充分下降，故即便回收托盤4不以彈性體構成，亦不會產生破裂或缺損地回收晶片零件C。

此處，對包含上述構成之落下衝擊緩和裝置1之動作進行說明。當使複數個晶片零件C通過落下筒2中連續地自由落下時，若干個晶片零件C碰撞至最上層之過濾器10之線10b。藉由線10b之彈性使晶片零件C與線10b之碰撞時間延長，而降低衝擊力。其他晶片零件C雖穿過最上層之過濾器10，但由於上下鄰接之過濾器之線之位置相異，故會與下層之其中一根線碰撞，而與上述同樣地緩和衝擊力。而且，藉由與複數層之線之碰撞而使落下速度階段性地降低，且藉由重複進行低於容許衝擊力之碰撞，而可利用回收托盤4無破裂缺損地回收晶片零件C。

又，由於各過濾器之線之間隔D具有大於落下物之最大尺寸之間隔，故晶片零件C易於通過線之間隙，而可抑制物體殘留於最上層之 過濾器10上。因此，即便使複數個晶片零件C連續落下，晶片零件C亦會快速地通過最上層之過濾器10，而能避免與後續之晶片零件C之碰撞。其結果，可防止晶片零件彼此之碰撞引起之破裂或缺損。

為確認第1實施例之效果，準備於內部尺寸200mm之四邊形框體上以2mm間隔張設有線徑0.1mm之金屬線之過濾器。於該情形時，相鄰之金屬線之間隔成為1.9mm。將該過濾器堆疊4層而構成落下衝擊緩和裝置。於使晶片零件(0.5×0.5×1.0mm尺寸之積層陶瓷電容器)自該裝置之上方1m之位置落下後，可幾乎不產生破裂或缺損地回收晶片零件。

-第2實施例-

圖5表示本發明之落下衝擊緩和裝置之第2實施例。在第1實施例中，表示了堆疊複數層線之間隔D相同之過濾器10~13之例，但在本實施例中，相較於上層之過濾器而縮小下層之過濾器之線間隔者。換言之，過濾器各層之線間隔係以越為上部之層則越疏、越為下部之層則越密之方式設定。

例如，若將最上層之過濾器10之線間隔設為D1，將第2層之過濾器11之線間隔設為D2，將第3層之過濾器12之線間隔設為D3，將第4層之過濾器13之線間隔設為D4，則成為D1>D2>D3>D4。再者，較佳為即便是最小之間隔D4，亦大於晶片零件之最大尺寸。

再者，根據通過過濾器之晶片零件之通過特性，既可僅使最上層之線間隔D1大於其他層之線間隔D2~D4，亦可將第3、第4層之線間隔D3、D4設為相同。例如，D1>D2=D3=D4

D1>D2>D3=D4

於該實施例中，由於藉由降低與上層之線碰撞之晶片零件之碰 撞機率而使在最上層之過濾器10上彈跳之晶片零件之數量減少，故而可降低彈跳之晶片零件彼此之碰撞、或彈跳之晶片零件與自上方落下來之晶片零件之碰撞頻度，從而可防止晶片零件之缺損或破裂。

-第3實施例-

圖6、圖7表示本發明之落下衝擊緩和裝置之第3實施例。在該實施例中，以上下鄰接之過濾器之線之位置變為非平行之方式，積層有過濾器10、11、12、13。在圖6中，以粗線表示最上層之線10b，以細線表示第2層之線11b，以一點鏈線表示第3層之線12b，以虛線表示第4層之線13b。此處，雖表示了相對於上側之過濾器之線之朝向，其下側之過濾器之線方向正交之例，但無須正交。設置於1個過濾器之各線之間隔D與第1實施例同樣地大於晶片零件C之最大尺寸。進而，於使積層有複數層之過濾器10~13垂直投影至水平面所得之投影圖中，線10b~13b間之最小間隙s係設為晶片零件C之最小尺寸以下。因此，無論晶片零件C以何種姿勢落下，均不會穿過所有過濾器10~13之線間。

於該實施例之情形時，亦可發揮與第1實施例相同之作用效果。於晶片零件為扁平形狀之情形時，於如第1實施例之平行地配置線之情形時，必須使其最小間隙d非常小，且必需多層過濾器，但在該實施例中，由於上下之線交叉(近似網狀)，故即便為扁平之晶片零件亦可使其與線確實地碰撞，而可減少過濾器之層數。又，由於可使晶片零件C與線之第1次碰撞之階數位置更稀疏地分散，故可減少晶片零件彼此之碰撞次數。

-第4實施例-

圖8表示本發明之過濾器之第4實施例。在該實施例中，各過濾器14係包含四邊形狀之框體14a、及於其內側具有晶片零件C可通過之網眼呈網狀組合之複數根彈性線14b者。藉由上下堆疊複數層此種過 濾器14，且使上下鄰接之過濾器之線之位置於水平方向上相異，而構成落下衝擊緩和裝置。

於該實施例之情形時，由於縱橫地設置線14b，故與如第1實施例般平行地配置所有線而成者相比，滯留於最上層之過濾器14上之晶片零件之數量增加，而與後續之晶片零件碰撞之可能性變高。因此，較理想為相較於上層側之過濾器14，依序減小下層側之過濾器14之網眼。於該情形時，可減少滯留於最上層之過濾器14上之晶片零件之數量，從而可降低晶片零件彼此之碰撞頻度。

-第5實施例-

圖9表示本發明之落下衝擊緩和裝置1'之第4實施例。在該實施例中係以過濾器面相對於水平軸傾斜之方式堆疊複數層(此處為4層)過濾器15~18而成者。2係落下筒，5係固定於落下筒2之下表面之導引筒，且於過濾器之下端亦設置有導引筒6。導引筒5、6具有與最上層之過濾器15及最下層之過濾器18接觸之傾斜之下表面5a及上表面6a，一面防止晶片零件C之飛散一面向下方導引。導引筒5、6係根據落下衝擊緩和裝置1'之構成而任意設置。

各過濾器15~18係如圖10所示般包含四邊形之框體15a、及張設於其對向之2邊之框部15a1之間之平行之複數根線15b。在各線15b之橫向之間隔大於晶片零件C之最大尺寸，且上下鄰接之線彼此於橫向上以特定距離偏移之方面，與第1實施例相同。當然，上下鄰接之線間之上下方向之間隔亦大於晶片零件C之最大尺寸。在各過濾器中，線15b相對於水平面以角度θ傾斜。該傾斜角θ較理想為15°~75°之範圍。在該實施例中，張設於上下積層之複數層(此處為4層)過濾器15~18之線15b~18b全部以相同之角度θ傾斜。將對向之2邊之框部15a1之上下表面設為水平面，且使連結該等2邊之框部15a1之2個框部15a2之上下表面向斜方向傾斜，以於堆疊有複數個框體15a~18a時穩定。 再者，框體之形狀並不限定於圖10之構造。由於其他構成與第1實施例相同，故省略重複說明。

於導引筒6之下方水平地配置有沿箭頭方向被連續驅動之搬送帶7，從而可回收通過過濾器15~18之零件C，並搬送至其他部位。作為回收機構，並不限定於搬送帶7。

於該情形時，由於落下來之晶片零件C碰撞至傾斜之線15d~18d，故向上下彈跳之晶片零件大幅減少，而可使與後落下來之晶片零件碰撞之頻度劇減。因此，可實現利用線之彈性之衝擊緩和效果，並且可防止晶片零件彼此之碰撞引起之破裂或缺損。由於通過過濾器15~18之晶片零件C之落下速度足夠低，故落下至搬送帶7上之衝擊不會導致產生破裂或缺損，且即便複數個晶片零件於帶7上堆疊，亦不會有晶片零件破損之情況。因此，可以低速驅動帶7，根據情形亦可停止。

於第5實施例中，雖表示了所有線15d~18d以相同角度傾斜之例，但只要至少最上層之過濾器15之線傾斜即可，較其更靠下層之過濾器之線既可以不同之傾斜角傾斜，亦可為水平。

作為第5實施例之具體例，準備以2mm間隔平行地張設有例如線徑0.1mm之金屬線之過濾器，使過濾器面相對於水平方向傾斜30°，堆疊合計6層之過濾器而構成落下衝擊緩和裝置。於使1000個晶片零件(0.5×0.5×1.0mm尺寸之積層陶瓷電容器)依序自該裝置之上方1m之位置落下後，無法確認到產生有破裂或缺損之晶片零件。因此，證實了該落下衝擊緩和裝置之有效性。

於第5實施例中，雖以使所有過濾器之線以相同角度傾斜，且將下層之線相對於上層之線於橫向上偏移之方式進行堆疊，但亦可如第2實施例般設定為過濾器各層之線間隔越為上部之層則越疏，越為下部之層則越密，亦可如第3實施例般以上下鄰接之過濾器之線之位置 變為非平行之方式進行堆疊。進而，亦可如第4實施例般使用網構造之過濾器。

-第6實施例-

圖11表示本發明之落下衝擊緩和裝置之第6實施例。該實施例係使複數個網20相對於鉛垂方向斜向傾斜(傾斜角α)，且空出特定間隙S而平行地配置者。傾斜角α較佳為30°~75°之範圍。網20彼此之間隙S係設定為大於晶片零件C之最大尺寸。網20之上緣部係空出較間隙S大之水平方向之開口寬度W而平行地配置。間隙S與開口寬度W之關係如下。

W=S/sinα

網20係將複數根彈性線20a以晶片零件C無法通過之間隔呈網狀組合而成者。網20之與紙面垂直之方向之兩端部由回收箱(支持體)30支持，通過網20彼此之間隙之晶片零件C落下至該回收箱30並被回收。再者，雖表示了回收箱30兼作支持網20之支持體之例，但亦可除支持體以外另將搬送帶等配置於網20之下方。

作為網20，較理想為具有於與晶片零件碰撞時可使其衝擊力降低至1/100以下程度之彈性者，例如亦可使用將金屬線編成網狀之網。例如，作為網20，可使用線徑0.08mm之金屬線，且可使用網眼設為0.132mm之金屬網。使0.5×0.5×1.0mm尺寸之晶片零件自1m之高度自由落下，與水平設置之網20碰撞時，經確認與網碰撞時之碰撞時間(速度達到零之時間)為約0.3m秒左右。另一方面，於晶片零件落下至剛體(厚度5mm之陶瓷板)之情形時，根據晶片零件向剛體之碰撞模擬，認為其碰撞時間為約0.003m秒。若綜合考慮該等結果，則就(1)式而言，認為網上之碰撞回收之情形時施加至晶片零件之衝擊力與向剛體落下之情形相比降低至1/100以下程度。

於第6實施例中，由於使如上所述之具有彈性之網20斜向傾斜， 故如圖11中以箭頭所示般，最初碰撞至網20之晶片零件向水平方向或斜方向彈跳，而折入至鄰接之網之背面側。藉由重複進行複數次碰撞，速度階段性地降低，從而可無破裂缺損地以回收箱30回收晶片零件。又，由於網20係以具有大於晶片零件之最大尺寸之間隔S之方式平行地配置，故先落下之晶片零件會快速地折入至網之背面側，從而可使與後面之晶片零件之碰撞頻度劇減。因此，即便使複數個晶片零件連續落下，亦可防止晶片零件彼此之碰撞引起之破裂或缺損，且晶片零件不會滯留於其中一個網上。

-第7實施例-

圖12表示本發明之落下衝擊緩和裝置之第7實施例。該實施例於以將網25之網眼d設為晶片零件C可通過之間隔，並且上下鄰接之網25之線25a之位置於水平方向上相異之方式構成之方面，與第6實施例不同。具體而言，以使上層之線25a之位置與下層之線25a之位置之間隔s成為晶片零件之最小尺寸以下之方式，於水平方向上相互偏移。因此，即便晶片零件穿過上層之網25，亦會碰撞至下層之網25之線25a，而可吸收落下能。再者，碰撞至網25之晶片零件與第6實施例同樣地，一面於對向之2個網25之間重複碰撞一面階段性地降低速度。

作為以本發明為對象之物體並不限定於晶片零件，亦可為顆粒體、或模製品、燒結體、金屬體等。於顆粒體之情形時，由於與晶片零件同樣地容易因落下衝擊而導致產生破裂或缺損，故本發明有效。於燒結體或金屬體之情形時，由於亦會因落下衝擊而導致產生變形或應變，故本發明有效。物體之形狀並不限定於長方體，亦可為圓盤形或如錠劑般之形狀。尤其是於具有角(邊緣)之物體之情形時有效。

1‧‧‧衝擊緩和裝置

2‧‧‧落下筒

3‧‧‧導引筒

4‧‧‧回收托盤

10、11、12、13‧‧‧過濾器

10b、11b、12b、13b‧‧‧線

C‧‧‧晶片零件(物體)

h‧‧‧距離

Claims (14)

1. 一種落下衝擊緩和裝置，其係緩和自由落下之物體之落下衝擊者，其特徵在於：於上下方向組合複數層具有上述物體可通過之間隔而平行地張設有複數根彈性線之過濾器；以使上下組合之複數層過濾器垂直投影至水平面所得之投影圖中之線間隔至少在物體落下來之區域內成為上述物體無法通過之寬度之方式，使上下之過濾器之線位置於水平方向上相異。
2. 如請求項1之落下衝擊緩和裝置，其中上述過濾器包含框體、及平行地張設於該框體之內側之上述複數根彈性線；且上述框體可於上下方向上堆疊。
3. 如請求項1之落下衝擊緩和裝置，其中以下層之過濾器之線間隔小於上層之過濾器之方式設定上述過濾器之線間隔。
4. 如請求項2之落下衝擊緩和裝置，其中以下層之過濾器之線間隔小於上層之過濾器之方式設定上述過濾器之線間隔。
5. 如請求項1至4中任一項之落下衝擊緩和裝置，其中於自鉛垂上方觀察時，所積層之上述過濾器之相鄰之上下層過濾器之線方向係非平行地配置。
6. 如請求項1至4中任一項之落下衝擊緩和裝置，其中所積層之上述過濾器中至少最上層之過濾器之線方向相對於水平軸斜向傾斜。
7. 如請求項5之落下衝擊緩和裝置，其中所積層之上述過濾器中至少最上層之過濾器之線方向相對於水平軸斜向傾斜。
8. 一種落下衝擊緩和裝置，其係緩和自由落下之物體之落下衝擊者，其特徵在於：於上下方向組合複數層具有上述物體可通過之網眼而將彈性線編成網狀之過濾器；以使上下組合之複數層過濾器垂直投影至水平面所得之投影圖中之線間隔至少在物體落下來之區域內成為上述物體無法通過之寬度之方式，使上下之過濾器之線位置於水平方向上相異。
9. 如請求項8之落下衝擊緩和裝置，其中上述過濾器包含框體、及平行地張設於該框體之內側之上述複數根彈性線；且上述框體可於上下方向上堆疊。
10. 如請求項8之落下衝擊緩和裝置，其中以下層之過濾器之線間隔小於上層之過濾器之方式設定上述過濾器之線間隔。
11. 如請求項9之落下衝擊緩和裝置，其中以下層之過濾器之線間隔小於上層之過濾器之方式設定上述過濾器之線間隔。
12. 一種落下衝擊緩和裝置，其係緩和自由落下之物體之落下衝擊者，其特徵在於包括：網，其係將複數根彈性線呈網狀組合而成；及支持體，其係相對於鉛垂軸於斜方向上、且互相隔開大於上述物體之最大尺寸之間隙而平行地支持複數個上述網而成；且複數個上述網之上緣部係空出大於上述間隙之水平方向之開口寬度而平行地配置。
13. 如請求項12之落下衝擊緩和裝置，其中上述網係將複數根彈性線以上述物體無法通過之間隔呈網狀組合而成者。
14. 如請求項12之落下衝擊緩和裝置，其中上述網係將複數根彈性線以上述物體可通過之間隔呈網狀組合而成者，且上下鄰接之網之線之位置於水平方向上相異。