TWI491618B - 聚輪烷化合物,光可固化塗料組成物,以及塗膜 - Google Patents
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Description
本發明係關於聚輪烷化合物,光可固化塗料組成物,以及塗膜,更特別係關於嶄新之具有特定化學結構的聚輪烷化合物、可提供具有極佳的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等)和極佳的自身恢復能力之塗料的光可固化塗料組成物,及自該光可固化塗料組成物得到的塗膜。
保護產品以免其因受到來自外界的機械、物理和化學影響而受損,各種塗層或塗膜施於電力和電子裝置(如行動電話、電子組件、家用品、汽車內部/外部零件、塑膠模製產品等)表面上。但是,由於外部衝擊降低外觀性質、效能和循環壽命而在產品塗層表面上造成刮痕或裂紋,所以進行各式各樣的研究以保護產品表面以長時間維持產品品質。
特別地,致力於具有自身恢復能力的塗料之
研究,此因彼等不須要額外的塗覆或修復程序,即使當其表面受損時亦然,且極有利於產品的外觀和效能維持之故。這些研究的結果中,已提出使用自身恢復的低聚物和無機粒子或已添加氟化的化合物之組成物之UV可固化的組成物以改善耐刮性和防污染性,但自該組成物得到的塗料之表面硬度和自身恢復能力不足。
此外,以前已知之使用胺甲酸酯樹脂的塗料為二組份型溶液,因此須要合併兩種材料(其於合併狀態的儲存安定性低,且固化時間為數十分鐘)的方法。
提出包括聚合物或活性聚合物材料或包括表面經處理之粒子或膠囊之塗料組成物。雖然使用該組成物之塗層具有對於外在衝擊之自身恢復能力,其機械性質(如耐刮性或耐久性)不足,及各組份之間的相容性低。
最近,曾提出若使用包括聚輪烷化合物的塗料,則可提供具有自身恢復能力的塗膜或薄塗膜,且試圖以各種方法將聚輪烷化合物施用於汽車或電子產品之類的塗層以用於商品化。
例如,WO2005-080469描述將環狀分子α-環糊精之羥基以羥丙基取代或高取代率的甲基以改善聚輪烷的性質。
WO2002-002159描述使用聚乙二醇,令聚輪烷化合物的環狀分子(α-環糊精)交聯。
WO2007-026578描述藉由以ε-己內酯的疏水基取代α-環糊精的羥基以製造可溶於甲苯或乙酸乙酯之聚
輪烷之方法,而WO2010-092948和WO2007-040262描述包括聚輪烷的塗漆,其中α-環糊精的羥基經ε-己內酯的疏水基取代。
WO2009-136618描述聚輪烷,其中環狀分子α-環糊精的部分或所有羥基經有機鹵素化合物的殘基取代而形成自由基聚合反應引發部分。
但是,欲製造以前已知的聚輪烷化合物,須進行由許多步驟所組成的合成法,或者必須在使用極受限的溶劑的同時,使用高溫/高壓的合成條件。
此外,使用先前已知的聚輪烷化合物之塗料未能具有塗料所須之足夠的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等)或者未能具有關於刮痕或外在損傷之自身恢復能力,並因此而於商品化方面受限。
[專利參考文件]
(專利參考文件0001)WO2005-080469
(專利參考文件0002)WO2002-002159
(專利參考文件0003)WO2007-026578
(專利參考文件0004)WO2010-092948
(專利參考文件0005)WO2007-040262
(專利參考文件0006)WO2009-136618
本發明提供一種嶄新之具有特定化學結構的聚輪烷化合物。
本發明亦提供可提供具有極佳的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等)和極佳的自身恢復能力之塗料的光可固化塗料組成物。
本發明亦提供自該光可固化塗料組成物得到的塗膜。
本發明提供一種聚輪烷化合物,包括:鍵結有以內酯為基礎之化合物的巨環,其中以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物以40莫耳%至70莫耳%的比引至以內酯為基礎的化合物端點;穿透此巨環的直鏈分子;及位於直鏈分子的兩端並防止巨環脫離之阻擋基團(blocking group)。
本發明亦提供一種光可固化塗料組成物,包括:聚輪烷化合物,包含鍵結有以內酯為基礎之化合物的巨環,其中以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物以40莫耳%至70莫耳%的比引至以內酯為基礎的化合物端點;穿透此巨環的直鏈分子;及位於直鏈分子的兩端並防止巨環脫離之阻擋基團;聚合物樹脂或其先質;和光引發劑。
本發明亦提供一種塗膜,其包括光可固化塗料組成物之光固化產物。
下文中,將詳細解釋根據本發明之特定具體
實施例之聚輪烷化合物、光可固化塗料組成物、和塗膜。
根據本發明的一個具體實施例,所提供之聚輪烷化合物包括鍵結有以內酯為基礎之化合物的巨環,其中以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物以40莫耳%至70莫耳%的比引至以內酯為基礎的化合物端點;穿透此巨環的直鏈分子;及位於直鏈分子的兩端並防止巨環脫離之阻擋基團。
關於可作為具有自身恢復能力的塗料之化合物的研究結果,本發明者新合成出一種具有以上特定結構的聚輪烷化合物,並經由實驗證實若該聚輪烷化合物作為塗料,當塗料中產生刮痕或外在損傷時,具有自身恢復能力,同時達到極佳的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等),並藉此而完成本發明。
聚輪烷是指結構上互鎖的化合物,其由啞鈴形分子和巨環所組成,其中啞鈴形分子包括某些直鏈分子和排列於直鏈分子兩端的阻擋基團,此直鏈分子穿透巨環內部,且巨環可沿著直鏈分子移動並藉阻擋分子防止脫離。
在根據一個具體實施例之聚輪烷化合物中,以內酯為基礎之化合物鍵結至巨環,鍵結於以內酯為基礎之化合物末端之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物以40莫耳%至70莫耳%的比鍵結至巨環。
即,聚輪烷化合物中,於以內酯為基礎之化合物端點引入之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物的比可
為40莫耳%至70莫耳%,且較佳地為45莫耳%至65莫耳%。
若於以內酯為基礎之化合物端點引入之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物的比低於40莫耳%,則當作為光可固化塗料組成物施用時,與聚合物樹脂或其先質的交聯反應不足,自光可固化塗料組成物形成的塗料無法達到足夠的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等),殘留於以內酯為基礎之化合物端點的羥基官能基會提高而提高聚輪烷化合物的極性,而與可用於光可固化塗料組成物中之非極性溶劑的相容性會降低而降低最終產物的品質和外觀。
此外,若於以內酯為基礎之化合物端點引入之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物的比高於70莫耳%,則當作為光可固化塗料組成物施用時,與聚合物樹脂或其先質之交聯反應過度,並因此,自光可固化塗料組成物形成的塗料無法達到足夠的彈性或自身恢復能力,塗料的交聯度會明顯提高,而降低彈性[易碎性明顯提高]和降低光可固化塗料組成物的安定性。
以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物的引入率或取代率可由聚輪烷化合物之鍵結有以內酯為基礎之化合物的巨環的殘基與以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物的殘基之比測定。例如,可以藉由比較以內酯為基礎之化合物中所含括之於特定位置的特定官能基(例如,“-CH2
-”)的莫耳數或NMR峰強度,和以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物
中所含括之於特定位置的特定官能基(例如,“-CH2
-”)的莫耳數或NMR峰強度計算引入率或取代率。
此處所謂的“殘基”是指當特定化合物參與化學反應時,化學反應產物中所含括之某些部分或單元,其且係衍生自特定化合物。
所謂“以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物”是指一般認知之以丙烯酸酯為基礎的化合物和以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物。
巨環可以無特定限制地包括任何巨環,只要其具有足夠的尺寸以穿透或環繞直鏈分子即可,且其可包括可與其他聚合物或化合物反應的官能基,如羥基、胺基、羧基、巰基、醛基。巨環的特定例子包括α-環糊精、β-環糊精、γ-環糊精、和彼等之混合物。
鍵結至巨環之有以內酯為基礎之化合物可以直接鍵結至巨環,或可藉C1-10直鏈或支鏈氧伸烷基鍵結。可以根據巨環或以內酯為基礎之化合物中之經取代的官能基種類、或巨環和以內酯為基礎之化合物之反應中所用的化合物種類而決定居於鍵之間的官能基。
此以內酯為基礎之化合物可包括C3-12以內酯為基礎之化合物或包括C3-12以內酯為基礎的重覆單元之以聚內酯為基礎的化合物。藉此,若以內酯為基礎之化合物鍵結至巨環和以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物,則在聚輪烷化合物中,以內酯為基礎之化合物之殘基可包括以下化學式1的官能基。
化學式1中,m是2至11的整數,較佳地為3至7的整數,而n是1至20的整數,較佳地為1至10的整數。
於鍵結至巨環之以內酯為基礎之化合物的端點處,可以引入以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物。“引入”是指經取代或鍵結狀態。
特定言之,以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物可以直接鍵結至以內酯為基礎之化合物的端點,或可以經由胺甲酸酯鍵(-NH-CO-O-)、醚鍵(-O-)、硫酯鍵(-S-CO-O-)、或酯鍵(-CO-O-)鍵結。介於以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物和以內酯為基礎之化合物之間的鍵之官能基的種類可以分別根據取代以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物和以內酯為基礎之化合物之官能基的種類、或以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物和以內酯為基礎之化合物之反應所用的化合物的種類而決定。
例如,如果包括異氰酸酯基、羧基、羥基、硫醇基、或鹵基中之至少一者之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物與鍵結有以內酯為基礎之化合物的巨環反應,則可形成直接鍵、胺甲酸酯鍵(-NH-CO-O-)、醚鍵(-O-)、硫酯鍵(-S-CO-O-)或酯鍵(-CO-O-)。此外,若已經與以內酯為基礎之化合物鍵結的巨環與包括異氰酸酯、羧基、羥基
、硫醇基、或鹵基中之至少二者的化合物之反應產物與包括羥基或羧基中之至少一者之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物反應,則會形成胺甲酸酯鍵(-NH-CO-O-)、醚鍵(-O-)、硫酯鍵(-S-CO-O-)或酯鍵(-CO-O-)。
以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物可為(甲基)丙烯醯基烷基化合物、(甲基)丙烯醯基環烷基化合物、或(甲基)丙烯醯基芳基化合物,且有異氰酸酯基、羧基、硫醇基、羥基、或鹵基中之至少一者接至其端點。
其中,C1-12直鏈或支鏈伸烷基可以含括於(甲基)丙烯醯基烷基化合物中,C4-20環伸烷基可以含括於(甲基)丙烯醯基環烷基化合物中,和C6-20伸芳基可以含括於(甲基)丙烯醯基芳基化合物中。
藉此,若以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物鍵結至以內酯為基礎之化合物端點,則在聚輪烷化合物中,以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物的殘基可包括以下化學式2的官能基。
式2中,R1
是氫或甲基,和R2
是C1-12直鏈或支鏈伸烷基、C4-20伸環烷基、或C6-20伸芳基。*代表鍵結點。
聚輪烷化合物的巨環端點包括可用於交聯或
聚合反應的雙鍵,因此,若使用聚輪烷化合物作為塗料,其更易與黏合樹脂鍵結,同時確保更高的機械性(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等),藉此確保彈性或彈性回復能力,以改善自身恢復能力。
同時,直鏈分子可包括所具有的分子量超過某些程度且具有直鏈形狀的任何化合物,但是較佳地使用以聚伸烷為基礎的化合物或以聚內酯為基礎之化合物。特定言之,可以使用具有C1-8氧伸烷基重覆單元之以聚環氧烷為基礎的化合物或具有C3-10以內酯為基礎的重覆單元之以聚內酯為基礎之化合物。
此外,此直鏈分子的重量平均分子量可為1000至50,000。若直鏈分子的重量平均分子量太低,則使用彼製造的塗料之機械性質或自身恢復能力不足,而若重量平均分子量太高,則所製得的塗料之相容性降低或材料的外觀或均勻度明顯降低。
同時,可以根據所製得的聚輪烷化合物的性質適當地控制阻擋基團,且例如,可以使用選自二硝基苯基、環糊精、金剛烷、三苯甲基(trityl)、螢光黃(fluorescein)、和芘基(pyrene)中之至少一或二者。
具有以上結構的聚輪烷化合物之重量平均分子量為100,000至800,000,較佳地為200,000至700,000,且更佳地為350,000至650,000。若聚輪烷化合物的重量平均分子量太低,則自彼製得的塗料的機械性質或自身恢復能力不足,而若聚輪烷化合物的重量平均分子量太高
,則所製得的塗料的相容性降低,或者材料的外觀或均勻度明顯降低。
此外,由於以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物可引至巨環端點,所以此聚輪烷化合物可以具有相當低的OH值。即,若僅以內酯為基礎之化合物鍵結至巨環,則多個羥基(-OH)存在於聚輪烷化合物分子中,但在以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物引至以內酯為基礎之化合物端點時,聚輪烷化合物的OH值會降低。
同時,根據一個具體實施例之聚輪烷化合物可藉包括令鍵結有以內酯為基礎之化合物的巨環與以內酯為基礎之化合物反應,及令巨環和以內酯為基礎之化合物之反應產物與以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物反應之步驟的方法製造。
本發明者令聚輪烷的巨環與以內酯為基礎之化合物反應,之後將以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物引至以內酯為基礎之化合物的端點,藉此合成嶄新的聚輪烷化合物。
特定言之,令巨環和以內酯為基礎之化合物之反應產物與以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物反應之步驟可包括令巨環和以內酯為基礎之化合物的反應產物與包括異氰酸酯基、羧基、硫醇基、羥基、或鹵基中之至少一者之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物進行反應。
此巨環和以內酯為基礎之化合物可以經由直接反應或添加C1-10直鏈或支鏈氧伸烷基的反應鍵結。
藉由令包括異氰酸酯基、羧基、硫醇基、羥基、或鹵基中之至少一者之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物與巨環和以內酯為基礎之化合物之反應產物進行反應,可製造上述的聚輪烷化合物。
此處,引至以內酯為基礎之化合物端點之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物的比可以控制於40莫耳%至70莫耳%,或45莫耳%至65莫耳%,此藉由令彼等反應並同時比較以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物的量和以內酯為基礎之化合物的量達成。
特定言之,在令以內酯為基礎之化合物反應而鍵結至具有以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物之聚輪烷的巨環之方法中,藉由使用已引入(甲基)丙烯酸酯的異氰酸酯的單一反應步驟代替胺甲酸酯合成反應中常使用的二異氰酸酯之多重反應,以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物可以更容易且更一致地引至以內酯為基礎之化合物的端點。
同時,令巨環和以內酯為基礎之化合物之反應產物與以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物反應之步驟可包括:令巨環和以內酯為基礎之化合物之反應產物與包括異氰酸酯基、羧基、硫醇基、羥基、或鹵基中之至少二者之C1-20脂族化合物、C4-20環脂族化合物或C6-20脂族化合物反應的第一步驟;和令第一步驟的產物與包括羥基和羧基中之至少一者之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物反應的第二步驟。
即,前文解釋的聚輪烷化合物可藉由令巨環和以內酯為基礎之化合物之反應產物與包括至少兩個特定官能基的化合物進行反應,及之後令此反應產物與包括羥基和羧基中之至少一者之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物進行反應而合成得到。
令巨環和以內酯為基礎之化合物的反應產物與以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物進行反應的步驟可以在40℃至120℃,較佳地50℃至100℃,進行1至20小時,較佳地2至10小時。
聚輪烷之製法中,根據所用化合物或化合物中之經取代的官能基的種類選擇和使用適當量的觸媒,且例如,可以使用觸媒,如有機錫化合物等。
同時,根據本發明的另一具體實施例,提供光可固化塗料組成物,包括:聚輪烷化合物,包括:鍵結有以內酯為基礎之化合物的巨環,其中以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物以40莫耳%至70莫耳%的比引至以內酯為基礎的化合物端點;穿透此巨環的直鏈分子;及位於直鏈分子的兩端並防止巨環脫離之阻擋基團;聚合物樹脂或其先質;和光引發劑。
如前文解釋者,本發明由實驗證實,若具有前述特定結構的聚輪烷化合物施於光可固化塗料組成物,則所提供的塗料對於刮痕或外在損傷的自身恢復能力高,同時確保極佳的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等),並藉此而完成本發明。
特別地,由於可用於交聯反應或聚合反應的雙鍵含括於聚輪烷化合物的巨環的端點,所以使用包括聚輪烷化合物之光可固化塗料組成物製得的塗料更容易與聚合物樹脂鍵結或交聯以得到高彈性或彈性回復力,並確保極佳的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等),且可具有對於刮痕或外在損傷之極佳的自身恢復能力。
此外,如前文解釋者,聚輪烷化合物中,以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物以40莫耳%至70莫耳%,較佳地45莫耳%至65莫耳%,的比引至以內酯為基礎的化合物端點。
若以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物引至以內酯為基礎的化合物端點的比低於40莫耳%,則當施於光可固化塗料組成物時,與聚合物樹脂或其先質之交聯反應不足,並因此,自光可固化塗料組成物形成的塗料無法達到足夠的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等),殘留在以內酯為基礎之化合物端點的羥基官能性會提高而提高聚輪烷化合物的極性,且與可用於光可固化塗料組成物之非極性溶劑的相容性會降低,而降低最終產物的外觀品質。
此外,若以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物引至以內酯為基礎的化合物端點的比高於70莫耳%,則當施於光可固化塗料組成物時,會發生與聚合物樹脂或其先質之交聯反應過度,並因此,自光可固化塗料組成物形成的塗料無法達到足夠的彈性或自身恢復能力,塗料的交聯
度棉醒提高而降低彈性[易碎性大幅提高],光可固化塗料組成物的安定性也會降低。
光可固化塗料組成物可用之聚合物樹脂的特定例子包括以聚矽氧烷為基礎的樹脂、以(甲基)丙烯酸酯為基礎的樹脂、和以胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯為基礎的樹脂、彼等之混合物、和彼等之共聚物,較佳地,可以使用胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯為基礎的樹脂。
此聚合物樹脂的重量平均分子量為20,000至800,000,較佳地為50,000至700,000。若聚合物樹脂的重量平均分子量太低,則自塗料組成物形成之塗料的機械性質或自身恢復能力不足,而若重量平均分子量太高,則塗料組成物的形狀或性質的一致性降低,且所製得的塗料的最終性質亦降低。
同時,光可固化塗料組成物可包括聚合物樹脂的先質,例如,用以合成聚合物樹脂之單體或低聚物。特定言之,聚合物樹脂的先質可包括含括選自(甲基)丙烯酸酯、乙烯基、矽氧烷、環氧基、和胺甲酸酯基中之至少一種官能基之單體或低聚物。在光固化法(即,照射UV或可見光)中,聚合物樹脂的先質可形成聚合物樹脂,或引發聚合物樹脂的先質之間的交聯反應或與聚輪烷化合物進行交聯反應而形成聚合物樹脂。此外,可以使用一種前文解釋的單體或低聚物作為聚合物樹脂的先質以形成聚合物樹脂,或者可以使用二或更多種單體或低聚物以形成聚合物樹脂。
包括(甲基)丙烯酸酯基之單體的特定例子包括六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸五季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸三伸甲基丙酯、二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸己二醇酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、經聚己內酯改質的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸羥基烷酯、或彼等之混合物。
包括(甲基)丙烯酸酯基之低聚物的特定例子包括經胺甲酸酯改質的丙烯酸酯低聚物、環氧基丙烯酸酯低聚物、醚丙烯酸酯低聚物等,彼等包括2至10個(甲基)丙烯酸酯基。此低聚物的重量平均分子量為1000至10,000。
包括乙烯基之單體的特定例子可包括二乙烯基苯、苯乙烯、對甲基苯乙烯等。
包括胺甲酸酯基之單體的特定例子可包括藉聚異氰酸酯和(甲基)丙烯酸酯(如經聚己內酯改質的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸羥基烷酯等)之反應而得的胺甲酸酯丙烯酸酯。
同時,塗料組成物可包括光引發劑,已知為此技術中常用者的任何化合物可以無特定限制地作為光引發劑,且例如,可以使用以二苯基酮為基礎的化合物、以乙醯苯為基礎的化合物、以二咪唑為基礎的化合物、以三為基礎的化合物、以肟為基礎的化合物或其混合物。光
引發劑的特定例子可包括二苯基酮、苯甲酸苯醯基甲酯、乙醯苯、2,4-二乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、乙基蒽醌、1-羥基-環己基-苯基-酮(市售品,Irgacure 184(Ciba Company))、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮等。
此光可固化塗料組成物可包括5至90重量%,較佳地20至75重量%的聚輪烷化合物;5至90重量%,較佳地20至75重量%的聚合物樹脂或其先質;和0.01至15重量%,較佳地0.5至10重量%的光引發劑。
若聚輪烷化合物在光可固化塗料組成物中的含量過高,則自光可固化塗料組成物(例如塗膜等)得到的塗料之性質(如溶劑相容性、塗覆性、脆化性等等)會降低。
若聚輪烷化合物在光可固化塗料組成物中的含量過低,則自光可固化塗料組成物(例如塗膜等)得到的塗料之性質(如自身恢復能力、耐刮性、表面硬度、耐化學腐蝕性、防污染性等)及塗膜的彈性會不足。
光可固化塗料組成物中,聚輪烷化合物對聚合物樹脂或其先質的比可為1:0.5至1:1.5。
塗料組成物可以另包括有機溶劑。已知可用於塗料組成物者可以無特定限制地作為有機溶劑。例如,可以使用以酮為基礎的有機溶劑,如甲基異丁基酮、甲基乙基酮、二甲基酮等;醇有機溶劑,如異丙醇、異丁醇、正丁醇等;乙酸酯有機溶劑,如乙酸乙酯、乙酸正丁酯等;和溶纖素有機溶劑,如乙基溶纖素、丁基溶纖素等,但
有機溶劑不在此限。
可以考慮塗料組成物的性質、塗覆法、或最終製得的產物的特定性質而控制有機溶劑的量,且例如,相對於100重量份的聚合物樹脂或其先質,其用量可為5至200重量份。
同時,若熱引發劑代替光引發劑用於塗料組成物,則可提供熱固化塗料組成物。即,可提供包括前文解釋的聚輪烷、聚合物樹脂或其先質、和熱引發劑之熱固化塗料組成物。此處,可以使用常用的熱固化樹脂作為聚合物樹脂或其先質,例如,可以使用環氧樹脂等。
同時,根據本發明的又另一具體實施例,提供包括前文解釋的光可固化塗料組成物之光固化產物之塗膜。
如已解釋者,若具有特定結構的聚輪烷化合物施於光可固化塗料組成物,則所提供的塗料對於刮痕或外在損傷的自身恢復能力高並確保極佳的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等)。
特定言之,藉由以UV或可見光,例如,UV或200-400奈米波長的可見光,照射光可固化塗料組成物,發生光固化,並可提供塗料。未特別限制UV或可見光的照射量,且例如,較佳地為50至4000毫焦耳/平方公分。未特定限制在光固化步驟中的照射時間,且可以以根據照射裝置、照射光的波長或照射量而適當地變化。
在光可固化塗料組成物塗覆於實際施用的部
分(例如汽車、電力/電子產品或裝置的表面等)上之後,藉光固化法,可形成塗膜或薄塗膜。
根據本發明,提供一種嶄新之具有特定化學結構的聚輪烷化合物、提供具有極佳的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等)和極佳的自身恢復能力之塗料的光可固化塗料組成物、及自該光可固化塗料組成物得到的塗膜。
此光可固化塗料組成物或塗膜可用於電力或電子產物或裝置等之表面塗覆領域,提供具有極佳的機械性質(如耐刮性、耐化學腐蝕性、耐磨蝕性等)和自身恢復能力之塗料或塗膜。
圖1出示在實例1中作為反應物的聚輪烷聚合物[A1000]的1H NMR數據。
圖2出示gCOSY NMR光譜,其證實在實例1中作為反應物的聚輪烷聚合物[A1000]中所含括之己內酯的結構。
圖3出示鍵結有包括以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物引至其端點之以內酯為基礎之化合物的巨環之聚輪烷的1H NMR數據的一個例子。
下文中,將參考以下實例,詳細說明本發明。但是,這些實例僅用以說明本發明,不限制本發明之範圍。
<實例1和2及比較例1:聚輪烷之合成>
實例1
50克經己內酯接枝的聚輪烷聚合物[A1000,Advanced Soft Material Inc.]引至反應器中,之後將4.53克Karenz-AOI[異氰酸2-丙烯醯基乙酯,Showadenko K.K.]、20毫克的二月桂酸二丁基錫[DBTDL,Merck & Co,Inc.]、110毫克的氫醌單甲醚、和315克的甲基乙基酮加至其中並於70℃反應5小時,以得到包括環糊精的聚輪烷聚合物液體,具有以丙烯酸酯為基礎的化合物引至其端點之以內酯為基礎之化合物鍵結至彼作為巨環(固體含量:15%)。
此聚輪烷聚合物液體滴入正己烷溶劑中以使得聚合物沉澱,其經過濾以得到白色固體聚合物(重量平均分子量:500,000)。
作為反應物的聚輪烷聚合物[A1000]的1H NMR數據示於圖1,鍵結至聚輪烷之巨環的己內酯結構由圖2的gCOSY NMR光譜得到證實。
此外,最終得到的聚輪烷聚合物液體中所含
括的聚輪烷的1H NMR具有圖3所示的形狀[峰強度等可為不同]。
由圖2的NMR數據,證實聚輪烷的巨環中的己內酯重覆單元數目(圖1中的m+n)為8.05,且看出若重覆單元數為8,則圖3的峰7之強度為16.00(2H*8)。
若己內酯重覆單元的端點100%經“OH”取代,則圖3的峰1(相關於丙烯酸酯官能基)應為4.00(2H*2)。因此,藉由比較實際測得的1H NMR值,可以計算出鍵結至聚輪烷的巨環之以內酯為基礎之化合物的末端取代率。
最終得到的聚輪烷聚合物液體(固體含量:15%)之取代率為46.8%。
實例2
50克經己內酯接枝的聚輪烷聚合物[A1000,Advanced Soft Material Inc.]引至反應器中,之後將9.06克Karenz-AOI[異氰酸2-丙烯醯基乙酯,Showadenko K.K.]、20毫克的二月桂酸二丁基錫[DBTDL,Merck & Co,Inc.]、110毫克的氫醌單甲醚、和315克的甲基乙基酮加至其中並於70℃反應5小時,以得到包括環糊精的聚輪烷聚合物液體,具有以丙烯酸酯為基礎的化合物引至其端點之以內酯為基礎之化合物鍵結至彼作為巨環(固體含量:15%)。
此聚輪烷聚合物液體滴入正己烷溶劑中以使得聚合物沉澱,其經過濾以得到白色固體聚合物(重量平
均分子量:500,000)。
作為反應物的聚輪烷聚合物[A1000]的1H NMR數據示於圖1,鍵結至聚輪烷之巨環的己內酯結構由圖2的gCOSY NMR光譜得到證實。
此外,最終得到的聚輪烷聚合物液體中所含括的聚輪烷的1H NMR具有圖3所示的形狀[峰強度等可為不同]。
由圖2的NMR數據,證實聚輪烷的巨環中的己內酯重覆單元數目(圖1中的m+n)為8.05,且看出若重覆單元數為8,則圖3的峰7之強度為16.00(2H*8)。
若己內酯重覆單元的端點100%經“OH”取代,則圖3的峰1(相關於丙烯酸酯官能基)應為4.00(2H*2)。因此,藉由比較實際測得的1H NMR值,可以計算出鍵結至聚輪烷的巨環之以內酯為基礎之化合物的末端取代率。
最終得到的聚輪烷聚合物液體(固體含量:15%)之取代率為60.0%。
比較例1
50克經己內酯接枝的聚輪烷聚合物[A1000,Advanced Soft Material Inc.]引至反應器中,之後將13.58克Karenz-AOI[異氰酸2-丙烯醯基乙酯,Showadenko K.K.]、20毫克的二月桂酸二丁基錫[DBTDL,Merck & Co,Inc.]、110毫克的氫醌單甲醚、和315克的甲基乙基酮加至其中並於70℃反應5小時,以得到包括環糊精的
聚輪烷聚合物液體,具有以丙烯酸酯為基礎的化合物引至其端點之以內酯為基礎之化合物鍵結至彼作為巨環(固體含量:15%)。
藉與實例1和2相同的方式證實最終得到的聚輪烷聚合物液體中所含括的聚輪烷的1H NMR具有圖3所示的形狀[峰強度等可為不同]。
藉與實例1和2相同的方式計算出鍵結至聚輪烷的巨環之以內酯為基礎之化合物的末端取代率,最終得到的聚輪烷聚合物液體(固體含量:15%)之取代率接近約100%。
<實例3至4及比較例2:光可固化塗料組成物和塗膜之製造>
實例3
(1)光可固化塗料組成物之製造
100重量份實例1中得到的聚輪烷、15重量份UA-200PA(多官能性胺甲酸酯丙烯酸酯,Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.)、40重量份PU-3400(多官能性胺甲酸酯丙烯酸酯,Miwon Chemicals Co.,Ltd.)、10重量份Miramer SIU2400(多官能性胺甲酸酯丙烯酸酯,Miwon Chemicals Co.,Ltd.)、15重量份Estane-5778(以聚酯為基礎的聚胺甲酸酯,Lubrizol Corporation)、1.5重量份的
光引發劑Irgacure-184、1.55重量份的光引發劑Irgacure-907、12.5重量份的異丙醇(IPA)、和12.5重量份的乙基溶纖素經混合以製造光可固化塗料組成物。
(2)塗膜之製造
使用塗覆棒(No.70),光可固化塗料組成物塗覆在PET膜(厚度188微米)上。此外,經塗覆的產物於90℃乾燥2分鐘,以UV於200毫焦耳/平方公分照射5秒以製造30微米厚的膜。
實例4:光可固化塗料組成物之製造
(1)光可固化塗料組成物之製造
以與實例3相同的方法製造光可固化塗料組成物,但使用實例2中得到的聚輪烷。
(2)塗膜之製造
使用塗覆棒(No.70),光可固化塗料組成物塗覆在PET膜(厚度188微米)上。此外,經塗覆的產物於90℃乾燥2分鐘,以UV於200毫焦耳/平方公分照射5秒以製造30微米厚的膜。
比較例2
(1)光可固化塗料組成物之製造
以與實例3相同的方法製造光可固化塗料組成物,但使用比較例1中得到的聚輪烷。
(2)塗膜之製造
使用塗覆棒(No.70),光可固化塗料組成物塗覆在PET膜(厚度188微米)上。此外,經塗覆的產物於90℃乾燥2分鐘,以UV於200毫焦耳/平方公分照射5秒以製造30微米厚的膜。
<實驗實例:塗膜性質之評估>
藉以下方式評估實例3和4及比較例2中得到的塗膜之性質。
1.光學性質:使用濁度計(Murakami Co.Ltd HR-10)測定透光率和濁度。
2.自身恢復能力:以銅刷以500克載重摩擦塗膜表面之後,測定刮痕恢復的時間。
3.耐刮性之測定
恆定載重施於鋼絨以造成刮痕,之後以肉眼觀察塗膜表面。
4.心軸試驗
實例和比較例中得到的塗膜分別以180°纏繞
厚度不同的圓筒形心軸並維持1秒中,之後以肉眼觀察是否產生裂紋,於降低圓筒形心軸的Φ值的同時,確認未產生裂紋的時間。
5.硬度:於500克載重測定鉛筆硬度。
測量結果示於以下的表1。
如表1所示者,證實相較於比較例2中得到的塗膜,實例3和4中製得的塗膜具有低濁度且同時具有高透光率,因此具有極佳的外觀性質。
此外,在以銅刷摩擦之後的1分鐘之內,關於表面復原之自身恢復能力的實驗實例中,亦證實相較於比較例2中製得的塗膜,實例3和4中製得的塗膜具有極佳的自身恢復能力。
此外,證實在使用鋼絨之200克或300克載重的條件下,實例3和4中製得的塗膜所產生的刮痕極少,因此具有極佳的耐刮性。
亦證實實例3和4中製造的塗膜即使於較低
Φ值的圓筒形心軸也不會產生裂紋,因此,相較於比較例,其具有較高的彈性和耐久性。
Claims (19)
- 一種聚輪烷化合物,包含:鍵結有以內酯為基礎之化合物的巨環,其中以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物以40莫耳%至70莫耳%的比引至以內酯為基礎的化合物端點;穿透此巨環的直鏈分子;及位於直鏈分子的兩端並防止巨環脫離之阻擋基團(blocking group)。
- 如申請專利範圍第1項之聚輪烷化合物,其中引入於以內酯為基礎的化合物端點之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物之比為45莫耳%至65莫耳%。
- 如申請專利範圍第1項之聚輪烷化合物,其中該巨環包括選自α-環糊精、β-環糊精、和γ-環糊精中之至少一者。
- 如申請專利範圍第1項之聚輪烷化合物,其中該以內酯為基礎的化合物藉直接鍵或C1-10直鏈或支鏈氧伸烷基鍵結至巨環。
- 如申請專利範圍第1項之聚輪烷化合物,其中該以內酯為基礎的化合物之殘基包括以下化學式1的官能基:
- 如申請專利範圍第1項之聚輪烷化合物,其中該 以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物經由直接鍵、胺甲酸酯鍵、醚鍵、硫酯鍵或酯鍵鍵結至該以內酯為基礎的化合物的殘基。
- 如申請專利範圍第1項之聚輪烷化合物,其中該以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物的殘基包括以下化學式2的官能基:
- 如申請專利範圍第1項之聚輪烷化合物,其中該直鏈分子係以聚環氧烷基為基礎的化合物或以聚內酯為基礎的化合物。
- 如申請專利範圍第1項之聚輪烷化合物,其中該直鏈分子的重量平均分子量為1000至50,000。
- 如申請專利範圍第1項之聚輪烷化合物,其中該阻擋基團包括選自二硝基苯基、環糊精、金剛烷、三苯甲基(trityl)、螢光黃(fluorescein)、和芘基(pyrene)中之至少一種官能基。
- 如申請專利範圍第1項之聚輪烷化合物,其中該聚輪烷化合物的重量平均分子量為100,000至800,000。
- 一種光可固化塗料組成物,包含: 聚輪烷化合物,包含鍵結有以內酯為基礎之化合物的巨環,其中以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物以40莫耳%至70莫耳%的比引至以內酯為基礎的化合物端點;穿透此巨環的直鏈分子;及位於直鏈分子的兩端並防止巨環脫離之阻擋基團;聚合物樹脂或其先質;和光引發劑。
- 如申請專利範圍第12項之光可固化塗料組成物,其中引入於以內酯為基礎的化合物端點之以(甲基)丙烯酸酯為基礎的化合物之比為45莫耳%至65莫耳%。
- 如申請專利範圍第12項之光可固化塗料組成物,其中該聚合物樹脂選自以聚矽氧烷為基礎的樹脂、以(甲基)丙烯酸酯為基礎的樹脂、和以胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯為基礎的樹脂、彼等之混合物、和彼等之共聚物。
- 如申請專利範圍第12項之光可固化塗料組成物,其中該聚合物樹脂之先質包括含括選自(甲基)丙烯酸酯、乙烯基、矽氧烷、環氧基、和胺甲酸酯中之至少一種官能基之單體或低聚物。
- 如申請專利範圍第12項之光可固化塗料組成物,其中該光引發劑包括選自以乙醯苯為基礎的化合物、以二咪唑為基礎的化合物、以三為基礎的化合物、和以肟為基礎的化合物中之至少一化合物。
- 如申請專利範圍第12項之光可固化塗料組成物,其包含: 1至95重量%的聚輪烷化合物;1至95重量%的聚合物樹脂或其先質;和0.01至10重量%的光引發劑。
- 如申請專利範圍第12項之光可固化塗料組成物,其另包含有機溶劑。
- 一種塗膜,其包含如申請專利範圍第12項之光可固化塗料組成物的光可固化產物。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20120056283 | 2012-05-25 | ||
KR20120056286 | 2012-05-25 | ||
KR20120056285 | 2012-05-25 | ||
KR20120056287 | 2012-05-25 | ||
KR20130059516A KR101443846B1 (ko) | 2012-05-25 | 2013-05-27 | 폴리로타세인 화합물, 광경화성 코팅 조성물 및 코팅 필름 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201410710A TW201410710A (zh) | 2014-03-16 |
TWI491618B true TWI491618B (zh) | 2015-07-11 |
Family
ID=49981215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW102118673A TWI491618B (zh) | 2012-05-25 | 2013-05-27 | 聚輪烷化合物,光可固化塗料組成物,以及塗膜 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9884969B2 (zh) |
EP (1) | EP2787010B1 (zh) |
JP (1) | JP5859170B2 (zh) |
KR (1) | KR101443846B1 (zh) |
CN (1) | CN104125965B (zh) |
TW (1) | TWI491618B (zh) |
WO (1) | WO2013176527A1 (zh) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6134781B2 (ja) * | 2012-05-25 | 2017-05-24 | エルジー・ケム・リミテッド | ハードコーティングフィルム |
KR101443846B1 (ko) | 2012-05-25 | 2014-09-23 | 주식회사 엘지화학 | 폴리로타세인 화합물, 광경화성 코팅 조성물 및 코팅 필름 |
KR101470466B1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-12-08 | 주식회사 엘지화학 | 적층 하드코팅 필름 |
CN105073797B (zh) | 2013-03-27 | 2017-06-06 | Lg化学株式会社 | 偏光器保护膜用树脂组合物、偏光器保护膜、含有该保护膜的偏光板及偏光板的制备方法 |
KR101586843B1 (ko) * | 2013-03-27 | 2016-01-21 | 주식회사 엘지화학 | 편광자 보호 필름, 이를 포함하는 편광판 및 편광판의 제조방법 |
JP2016522838A (ja) * | 2013-03-27 | 2016-08-04 | エルジー・ケム・リミテッド | 偏光子保護フィルム用樹脂組成物、偏光子保護フィルム、これを含む偏光板および偏光板の製造方法 |
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KR101745678B1 (ko) | 2013-05-09 | 2017-06-09 | 주식회사 엘지화학 | 고분자 필름, 플렉서블 발광 소자 디스플레이 장치 및 감김 가능 디스플레이 장치 |
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TWI663063B (zh) | 2016-03-09 | 2019-06-21 | Lg化學股份有限公司 | 抗反射膜 |
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JP4911474B2 (ja) | 2008-02-26 | 2012-04-04 | 富士フイルム株式会社 | ハードコートフィルム、偏光板、および画像表示装置 |
JP2009204727A (ja) | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Fujifilm Corp | ハードコートフィルム、偏光板、および画像表示装置 |
WO2009136618A1 (ja) | 2008-05-07 | 2009-11-12 | アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社 | ポリロタキサン、及びポリロタキサンとポリマーとの架橋体、並びにこれらの製造方法 |
JP5907646B2 (ja) | 2009-02-16 | 2016-04-26 | 日産自動車株式会社 | 微粒子−ポリロタキサン含有塗料、微粒子−ポリロタキサン含有塗膜及び塗装物品 |
JP5817087B2 (ja) * | 2010-03-02 | 2015-11-18 | 日産自動車株式会社 | 修飾ポリロタキサンおよびその製造方法ならびにこれを用いた溶液、溶剤系塗料、溶剤系塗膜 |
JP6134781B2 (ja) * | 2012-05-25 | 2017-05-24 | エルジー・ケム・リミテッド | ハードコーティングフィルム |
KR101443846B1 (ko) | 2012-05-25 | 2014-09-23 | 주식회사 엘지화학 | 폴리로타세인 화합물, 광경화성 코팅 조성물 및 코팅 필름 |
KR101436617B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2014-09-02 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름 |
KR101379491B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2014-04-01 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름 및 이의 제조방법 |
KR101501686B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2015-03-11 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름 |
KR101470466B1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-12-08 | 주식회사 엘지화학 | 적층 하드코팅 필름 |
KR101470464B1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-12-08 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름 |
KR101470465B1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-12-08 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름 |
KR101436616B1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-09-03 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름 |
KR101415839B1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-07-09 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름 |
KR101415841B1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-07-09 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름 |
KR101470463B1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-12-08 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름 |
KR101443845B1 (ko) * | 2012-09-03 | 2014-09-23 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름을 포함하는 편광판 |
KR101587190B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2016-01-20 | 주식회사 엘지화학 | 플라스틱 필름 |
KR101578914B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2015-12-18 | 주식회사 엘지화학 | 플라스틱 필름 |
KR101745678B1 (ko) * | 2013-05-09 | 2017-06-09 | 주식회사 엘지화학 | 고분자 필름, 플렉서블 발광 소자 디스플레이 장치 및 감김 가능 디스플레이 장치 |
WO2014182127A1 (ko) * | 2013-05-09 | 2014-11-13 | 주식회사 엘지화학 | 고분자 필름, 플렉서블 발광 소자 디스플레이 장치 및 감김 가능 디스플레이 장치 |
-
2013
- 2013-05-27 KR KR20130059516A patent/KR101443846B1/ko active IP Right Grant
- 2013-05-27 EP EP13794275.1A patent/EP2787010B1/en active Active
- 2013-05-27 JP JP2015506915A patent/JP5859170B2/ja active Active
- 2013-05-27 CN CN201380009858.8A patent/CN104125965B/zh active Active
- 2013-05-27 WO PCT/KR2013/004604 patent/WO2013176527A1/ko unknown
- 2013-05-27 TW TW102118673A patent/TWI491618B/zh active
- 2013-09-06 US US14/020,419 patent/US9884969B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102046662A (zh) * | 2008-05-30 | 2011-05-04 | 高级软质材料株式会社 | 聚轮烷、水系聚轮烷分散组合物、聚轮烷与聚合物的交联体以及它们的制造方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104125965B (zh) | 2017-06-06 |
US9884969B2 (en) | 2018-02-06 |
CN104125965A (zh) | 2014-10-29 |
US20140080936A1 (en) | 2014-03-20 |
KR101443846B1 (ko) | 2014-09-23 |
EP2787010B1 (en) | 2021-12-15 |
JP2015521210A (ja) | 2015-07-27 |
TW201410710A (zh) | 2014-03-16 |
JP5859170B2 (ja) | 2016-02-10 |
EP2787010A4 (en) | 2015-08-19 |
WO2013176527A1 (ko) | 2013-11-28 |
KR20130132336A (ko) | 2013-12-04 |
EP2787010A1 (en) | 2014-10-08 |
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