TWI417408B - 真空處理及真空處理室之分割方法 - Google Patents

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Description

真空處理及真空處理室之分割分法
本發明係關於一種真空處理設備之真空處理室,係用於如濺射沉澱設備的真空處理設備。
近年來,藉由在沉澱技術上的進步,已經可以在如濺射系統的真空處理設備中,在即使很大的基底上執行高度精確的沉澱,其中上述濺射系統是用以在玻璃等製成的一基底上形成佈線用的金屬模。此外,近年來,如圖8及9所示,僅藉由在真空中的移動,用以連續執行多重處理的多室真空處理設備早已成為主流。
圖8所示的多室真空處理設備30包含六個真空處理室33a,33b,33c,33d,33e及33f,係圍繞著一中央運送室32,在此運送室內安裝有一基底運送機器人31。此外,圖9所示的多室真空處理設備40包含三個真空處理室43a,43b及43c,係圍繞著一中央運送室42,在此運送室內安裝有一基底運送機器人41。
因此,隨著基底的尺寸加大(例如所謂第六代基底的長度與寬度為1800mm×1500mm,第七代基底的長度與寬度為2100mm×1850mm)真空處理設備用的真空室也會隨之擴大。藉此,由於真空室所用的機器工具也變得比從前還要大,所以真空室的製造成本當然會變高。
因此,提出了一種製造方法,可以藉由降低製造成本 而獲得大型真空室,卻不需要擴大機器工具,此乃藉由將一框狀內室主體分割成多數零件,然後將這些多數零件予以焊接與連接(請參閱日本先行公開專利第H8-64542號案一專利文件一)。
順便一提,上述專利文件一所揭示的製造方法在製造之後並無法再次移除每個零件,這是因為真空室的側壁均藉由焊接零件而成。因此,在製造之後,無法改變真空室的側壁之尺寸與形狀。
此外,由於安裝到真空室的側壁之上下表面的頂板與底板在上述專利文件一中是一體的,無法分割,所以其尺寸仍舊大而沉重。
因此,需要一大型吊車設備來吊起頂板與底板,因此製造成本也會變得很高。而且,由於頂板與底板的尺寸仍舊很大,所以當欲以成品或組裝前的產品之狀態將真空室運送至一安裝地點時,則需要特殊的大型拖車。
因此,本發明的目的是要提供一種真空處理用的真空處理室,在製造之後,其尺寸與形狀仍然可以輕易改變。
此外,本發明的目的是要提供一種真空處理設備所用的真空處理室,不需要大型吊車設備,即使在組裝後的尺寸很大,但是在運送時仍不需要大型特殊拖車。
為了達成上述目的,本發明之真空處理室,係為具備有基底運送機器人之真空處理室,其特徵為係由:設置有 前述基底運送機器人之框狀的內室主體;和配置於前述內室主體之至少一側面部的多角形狀之側框架所構成,前述內室主體和前述側框架,係彼此可自由分割地加以組裝。
又,本發明之真空處理室,其具備有分別與前述運送室之上面以及下面相接合的頂板以及底板,前述頂板以及前述底板係在前述內室主體側與前述側框架側被彼此分割。
此外,本發明之真空處理室,其中前述內室主體,和前述側框架,和前述頂板,以及前述底板,係分別藉由螺絲鎖合而被組裝。
如以上所述一般,藉由本發明之真空處理室係由設置有前述基底運送機器人之框狀的內室主體;和配置於前述內室主體之至少一側面部的多角形狀之側框架所構成,前述內室主體和前述側框架,係彼此可自由分割地加以組裝,因此在組裝了真空處理室之後,能夠因應於使用者之需求,而容易地改為安裝於其他之多角型狀的側框架,而能改變運送室的形狀,故成為能夠彈性地符合於使用者所要求的規格。
以下將根據顯示的實施例來說明本發明。
(第一實施例)
圖1是一立體圖,顯示本發明第一實施例的真空室, 而圖2是其分解立體圖。在此實施例中真空處理設備所用之真空處理室(以下稱為真空室),例如,可作為一運送室,其中具有一基底運送機器人,此機器人係設置在具有六個處理室的多室單基板型濺射沉澱設備(以下稱為沉澱設備)之中心部位內。
如圖1所示,本發明第一實施例的真空室1藉由連結一剖面為矩形的中央內室主體2及剖面為三角形的側框架3a,3b,在內室主體2的兩邊上形成六角形。用以將一基底(未顯示)拿進拿出之開口4是形成於內室主體2與側框架3a,3b的每一側面上(總共六面)。內室主體2與側框架3a,3b是由鋁與不銹鋼等金屬材質製成。
安裝有基底運送機器人的頂板5與底板7,其中連接的開口是分別形成於框架狀矩形內室主體2之頂面與底面上。此外,也在作為長邊且連結到側框架3a,3b上的內室主體2之兩側面內形成開口。而且,用以將基底(未顯示)拿進拿出的開口會形成在作為短邊的內室主體2之兩側面上。
此外,頂板8與底板9相連的開口分別形成於框架狀三角側框架的頂面與下面中。而且,連接到內室主體2的側面之開口是形成於作為長邊的側框架3a與3b之兩側邊上。而且,用以將基底(未顯示)拿進拿出的開口會形成在作為短邊的內室主體2之兩側面上。
其次,將說明上述實施例的真空室內1之製造方法。
底板7分別以螺栓(未顯示)透過O環(未顯示) 而連接到內室主體2的底部,且底板9分別以螺栓(未顯示)透過O環(未顯示)而連接到側框架3a與3b的底部。然後,這些側框架3a,3b分別以螺栓11a,11b透過O環10a,10b而連接到內室主體2的兩側面上。
然後,基底運送機器人6是被安裝於連接至內室主體2的底板7上,之後頂板5是藉由螺栓11c透過O環10c而連接到內室主體2的上部。然後,圖1所示的六角真空室1是分別藉由螺栓11d,11e透過O環10d,10e而連接到側框架3a,3b的每一上部。
根據上述製成的真空室1是被安裝於具六個處理室的沉澱設備之中心部位內,以便作為設置有基底運送機器人6的一運送室。未顯示的六個處理室(載入/載出室、預熱室、膜形成室、基底冷卻室等)則是安裝於每個開口4的周圍,且經由閘閥(未顯示)而安裝於真空室1的側面中。
因此,在本實施例中,真空室是藉螺栓來組裝個別的三個零件(安裝有基底運送機器人的內室主體2,以及在其兩側上的側框架3a,3b)。因此,即使製造出來的真空室1已經安裝好了之後,當基底上的沉澱作用產生修改時,仍可以改變真空室(運送室)的形狀,可根據處理室的增加或減少,藉由將三角形側框架3a,3b與其他形狀的側框架執行交換,從內室主體2旋開螺栓11a,11b而得。因此,本案的彈性可對應於使用者的需求。
此外,由於能將內裝有基底運送機器人6的內室主體 2當成共同零件,此共同零件也可以作為其他真空室的內室主體,可事先執行大量製造,因此,可減少生產成本。
此外,在此實施例中,真空室是藉由組裝個別的三個零件(安裝有基底運送機器人的內室主體2,以及在其兩側上的側框架3a,3b)。因此,即使當使用大型基底來製造大型真空室時,也仍然可以使內室主體2與側框架3a,3b的尺寸保持得很小。因此,由於藉習知機器工具不需要使用大型定製機器工具,就能輕易產生大型真空室,因此能減少生產成本。
而且,由於接合於真空處理室1之上面以及下面的頂板以及底板係在前述內室主體2側與前述側框架3a、3b側被相互分割,因此即使當使用大型基底來製造大型真空室時,也可以抑制頂板5的尺寸,其中頂板係連接到分割好的內室主體2上。因此,可以減輕頂板5的重量,也可以輕易從一塊金屬來製作頂板5。
此外,在此實施例中,真空室1是以分割成三個零件(安裝有基底運送機器人的內室主體2,以及在其兩側上的側框架3a,3b)而製成的。因此,即使當使用大型基底來製造大型真空室時,也仍然可以使個別零件(內室主體2與側框架3a,3b)的尺寸保持得很小。因此,可以一正常拖車輕易運送這些分割好的零件到安裝場所,所以可輕易在安裝場所予以組裝。
(第二實施例)
在第一實施例中,具有六角形真空室結構之真空室是藉由螺栓將三角形側框架3a,3b裝配於連接至矩形內室主體2的兩邊上,且使矩形內室主體2作為中心而製成的。然而,在此實施例中,如圖3所示,具有正方形真空室結構之真空室13是藉由螺栓將矩形側框架12a,12b裝配於連接至矩形內室主體2的兩邊上,且使矩形內室主體2作為中心而製成的。由於此真空室與第一實施例的真空室是相同的,除了使用矩形側框架12a,12b而已,因此遂省略重複的說明。
在此實施例中的正方形真空室13在個別側面上均具有開口,在這些開口周圍總共可以安裝四個處理室(未顯示)。
(第三實施例)
在第二實施例中,具有正方形真空室結構之真空室是藉由螺栓將矩形側框架12a,12b裝配於連接至矩形內室主體2的兩邊上,且使矩形內室主體2作為中心而製成的。在此實施例中,如圖4所示,具有八角形真空室結構之真空室是藉由螺栓將三角形側框架14a,14b,14c,14d裝配於連接至正方形真空室13的兩邊上。
在此實施例中的八角形真空室15在個別側面上均具有開口,在這些開口周圍總共可以安裝四個處理室(未顯示)。
(第四實施例)
在上述的每個實施例中,具有矩形內室主體2結構之真空室是藉由螺栓將三角形側框架3a,3b裝配於連接至矩形內室主體2的兩邊上,且使矩形內室主體2作為中心。但是,在此實施例中,如圖5所示,具有五角形真空室結構之真空室17是藉由螺栓將三角形側框架16裝配於梯形內室主體2a的長邊上,且使內室主體2a作為中心。
在此實施例中的五角形真空室17在個別側面上均具有開口,在這些開口周圍總共可以安裝五個處理室(未顯示)。
(第五實施例)
在此實施例中,如圖6所示,具有七邊形結構之真空室20是藉由螺栓將梯形側框架18(形狀小於內室主體2b)裝配於內室主體2b的一長邊上,且藉由螺栓將三角形側框架19裝配於梯形內室主體2b的另一短邊上,使梯形內室主體2b作為中心。
在此實施例中的七邊形真空室20在個別側面上均具有開口,在這些開口周圍總共可以安裝七個處理室(未顯示)。
(第六實施例)
在此實施例中,如圖7所示,具有八邊形結構的真空室22是藉由螺栓將三角形側框架21a,21b,21c裝配於 其個別側面上,且使一正方形內室住體2c作為中心。
在此實施例中的八邊形真空室22在個別側面上均具有開口,在這些開口周圍總共可以安裝八個處理室(未顯示)。
在圖3到7所示的第二至第六實施例中,可以將安裝在側面上一正方形或三角形側框架以一四邊形(矩形、正方形、梯形等)內室主體2,2a,2b,2c進行替換,其中內室主體安裝有一基底運送機器人,即使在安裝了真空室之後,仍可根據使用者的要求而進行替換組裝。因此,可以輕易將真空室的形狀改變成任意多角形。
此外,在圖4所示的第三實施例中,可以將許多側框架12a,12b,14a,14b,14c,14d藉由螺栓而連接到四邊形內室主體2的側面上,其中內室主體安裝有基底運送器人。因此,即使基底很大,本發明亦能提出快速對應措施。
如上所述,本發明的真空室可以自由地分割成一框狀多角形內室主體;一多角形側框架,其具有一開口且可拆卸地緊密連結至具開口的內室主體之至少一側上;每一頂板,係連結到內室主體的每一頂面及具有一開口的側框架上;及每一底板,係連接到內室主體的每一底面及具有一開口的側框架上。因此,即使在真空室已經組裝與安裝完成織後,由於可根據使用者的要求輕易地將側框架替換成其他多角形側框架,所以能改變真空室的形狀。
此外,根據本發明,可以藉由組裝一內室主體、一側 框架、一頂板及一底板而獲得一真空室。因此,即使當使用大型基底製造大型真空室時,仍可以保持小巧質輕,這是因為內室主體、側框架、頂板與底板是個別分割的。因此,由於藉習知機器工具不需要使用大型定製機器工具,就能輕易產生大型真空室,因此能減少生產成本。
而且,即使當使用大型基底來製造大型真空室時,仍可以保持小巧質輕,這是因為內室主體、側框架、頂板與底板是個別分割的。因此,可以一普通拖車輕易運送這些分割好的零件到安裝場所,所以可輕易在安裝場所組裝起來。
1,13,15,17,20,22‧‧‧真空室
2,2a,2b,2c‧‧‧內室主體
3a,3b,12a,12b,14a,14b,14c,14d,16,18,19,21a,21b,21c,21d‧‧‧側框架
5,8‧‧‧頂板
6‧‧‧基底運送機器人
7,9‧‧‧底板
圖1是一立體圖,顯示本發明第一實施例的真空室;圖2是一概略立體圖,顯示本發明第一實施例的真空室;圖3顯示本發明第二實施例的真空室之製造程序;圖4顯示本發明第三實施例的真空室之製造程序;圖5顯示本發明第四實施例的真空室之形狀;圖6顯示本發明第五實施例的真空室之形狀;圖7顯示本發明第六實施例的真空室之形狀;圖8是一概略平面圖,顯示習知範例中的多室真空處理設備;圖9是一概略平面圖,顯示習知範例中的多室真空處理設備。
2‧‧‧內室主體
3a,3b‧‧‧側框架
4‧‧‧開口
5‧‧‧頂板
6‧‧‧基底運送機器人
7‧‧‧底板
8‧‧‧頂板
9‧‧‧底板
10a、10b、10c、10d‧‧‧O環
11a、11b、11c、11d‧‧‧螺栓

Claims (2)

  1. 一種用於真空處理裝置的真空處理室,其特徵為具有:前述真空處理室係搬送室,前述搬送室連接於複數個真空處理室,前述搬送室由第1構成部份與複數個第2構成部份的組合件構成,前述第1構成部份為六面體形狀之框狀內室主體,其具有:一具有開口的頂面、及一具有開口的底面,及設置有前述真空處理室且設置於該真空處理室之間之相互對向配置的一對第1側面,其前述一對第1側面係具有形成用於將基板拿進拿出之第1開口之側面部,及全面開放且相互對向配置之一對第2側面;前述複數個第2構成部份為六面體形狀之側框架,其具有:一具有開口的頂面、及一具有開口的底面,及設置有前述真空處理室且設置於該真空處理室之間的第3側面,其前述第3側面係具有形成用於將基板拿進拿出之第2開口之側面部,及全面開放且於前述第2側面可裝卸自如安裝之前述第3側面,及對向配置之第4側面;數個頂板,其係分別被接合在:前述六面體形狀之內室主體之具有開口的前述頂面、及前述六面體形狀之側框架之具有開口的前述頂面;及數個底板,其係分別被接合在:前述六面體形狀之內室主體之具有開口的前述底面、及前述六面體形狀之側框架之具有開口的前述底面, 在前述六面體形狀之內室主體的底板上設置有基底運送機器人,其中,前述六面體形狀之側框架之具有開口的前述側面係以密接且拆卸自如的方式接合在前述六面體形狀之內室主體之具有開口的前述至少一側面,藉以可對前述六面體形狀之內室主體拆卸前述六面體形狀之側框架。
  2. 一種將使用在真空處理裝置的真空處理室分割的方法,其特徵為:前述真空處理室係搬送室,前述搬送室連接於複數個真空處理室,前述搬送室由第1構成部份與複數個第2構成部份的組合件構成,前述第1構成部份為六面體形狀之框狀內室主體,其具有:一具有開口的頂面、及一具有開口的底面,及設置有前述真空處理室且設置於該真空處理室之間之相互對向配置的一對第1側面,其前述一對第1側面係具有形成用於將基板拿進拿出之第1開口之側面部,及全面開放且相互對向配置之一對第2側面;前述複數個第2構成部份為六面體形狀之側框架,其具有:一具有開口的頂面、及一具有開口的底面,及設置有前述真空處理室且設置於該真空處理室之間的第3側面,其前述第3側面係具有形成用於將基板拿進拿出之第2開口之側面部,及全面開放且於前述第2側面裝卸自如安裝之前述第3側面,及對向配置之第4側面;數個頂板,其係分別被接合在:前述六面體形狀之內 室主體之具有開口的前述頂面、及前述六面體形狀之側框架之具有開口的前述頂面;及數個底板,其係分別被接合在:前述六面體形狀之內室主體之具有開口的前述底面、及前述六面體形狀之側框架之具有開口的前述底面,在前述六面體形狀之內室主體的底板上設置有基底運送機器人,前述六面體形狀之側框架之具有開口的前述側面係以密接且拆卸自如的方式接合在前述六面體形狀之內室主體之具有開口的前述至少一側面,藉以可對前述六面體形狀之內室主體拆卸前述六面體形狀之側框架,拆卸前述六面體形狀之處理室及前述六面體形狀之側框架的前述頂板及前述底板,將前述多角形側框架由前述多角形內室主體分割。
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