JP2009024264A - 真空処理装置用真空チャンバー - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 真空チャンバー1が、長方形状に形成されたチャンバー本体2と、チャンバー本体2の両側面にボルト留めで取り外し自在に密着接合される3角形状の側面枠3a、3bと、チャンバー本体2と側面枠3a、3bのそれぞれの開口している上面に接合される上板6、9a、9bと、チャンバー本体2と側面枠3a、3bのそれぞれの開口している底面に接合される底板7と、に分割自在に構成されているので、ユーザーの要望等によって真空チャンバーの形状や大きさを簡易に変更することができる。
【選択図】図2
Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る真空処理装置用真空チャンバーを示す斜視図、図2は、その分解斜視図である。本実施の形態における真空処理装置用真空チャンバー(以下、真空チャンバーという)は、例えば6つの処理室を有するマルチチャンバー(多室)型枚葉式スパッタ成膜(以下、成膜装置という)の中央部に設けた基板搬送ロボットを有する搬送室として用いることができる。
実施の形態1では、長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)として、その両側に3角形状の側面枠3a、3bをボルト留めで接合して6角形状の真空チャンバーを組み立てる構造であったが、本実施の形態では、図3に示すように、実施の形態1で使用した長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)とし、その両側に長方形状の側面枠12a、12bをボルト留めで接合して、正方形状の真空チャンバー13を組み立てる構造である。長方形状の側面枠12a、12bを使用した以外は実施の形態1と同様であり、重複する説明は省略する。
実施の形態2では、長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)として、その両側に長方形状の側面枠12a、12bをボルト留めで接合して4角形状の真空チャンバーを組み立てる構造であったが、本実施の形態では、図4に示すように、実施の形態2で得られた正方形状の真空チャンバー13の各側面に3角形状の側面枠14a、14b、14c、14dをボルト留めで接合して、8角形状の真空チャンバー15を組み立てる構造である。
上述した各実施の形態では長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)とした構成であったが、本実施の形態では、図5に示すように、台形状の4角形のチャンバー本体2aを中心(コア)として、その一つの長辺に3角形状の側面枠16をボルト留めで接合して5角形状の真空チャンバー17を組み立てる構造である。
本実施の形態では、図6に示すように、台形状の4角形のチャンバー本体2bを中心(コア)として、一方の長辺に台形状の4角形(チャンバー本体2bよりも小さい形状)の側面枠18をボルト留めで接合し、他方の短辺に3角形状の側面枠19をボルト留めで接合して7角形状の真空チャンバー20を組み立てる構造である。
本実施の形態では、図7に示すように、正方形状の4角形のチャンバー本体2cを中心(コア)として、その各側面に3角形状の側面枠21a、21b、21c、21dをボルト留めで接合して8角形状の真空チャンバー22を組み立てる構造である。
2、2a、2b、2c チャンバー本体
3a、3b、12a、12b、14a、14b、14c、14d、16、18、 19、21a、21b、21c、21d 側面枠
5、8 上板
6 基板搬送ロボット
7、9 底板
Claims (2)
- 真空処理装置に使用される真空チャンバーにおいて、
前記真空チャンバーは、多角形状に形成された枠状のチャンバー本体と、前記チャンバー本体の少なくとも開口した一側面に取り外し自在に密着接合される開口面を有する多角形状の側面枠と、前記チャンバー本体と前記側面枠のそれぞれの開口している上面に接合されるそれぞれの上板と、前記チャンバー本体と前記側面枠のそれぞれの開口している底面に接合されるそれぞれの底板と、に分割自在である、
ことを特徴とする真空チャンバー。 - 前記チャンバー本体内には、その外側に設けられる複数の真空処理室に対して基板を出し入れするための基板搬送用ロボットが設置される、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空チャンバー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008242617A JP2009024264A (ja) | 2008-09-22 | 2008-09-22 | 真空処理装置用真空チャンバー |
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JP2008242617A JP2009024264A (ja) | 2008-09-22 | 2008-09-22 | 真空処理装置用真空チャンバー |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2003129754A Division JP2004335743A (ja) | 2003-05-08 | 2003-05-08 | 真空処理装置用真空チャンバー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009024264A true JP2009024264A (ja) | 2009-02-05 |
Family
ID=40396348
Family Applications (1)
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JP2008242617A Pending JP2009024264A (ja) | 2008-09-22 | 2008-09-22 | 真空処理装置用真空チャンバー |
Country Status (1)
Country | Link |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011032024A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Tokyo Electron Ltd | 搬送機構の組み立て方法および搬送室 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0864542A (ja) * | 1994-08-25 | 1996-03-08 | Plasma Syst:Kk | 半導体処理装置用真空チャンバーおよびその製造方法 |
JP2002076091A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-03-15 | Anelva Corp | 基板処理装置 |
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2008
- 2008-09-22 JP JP2008242617A patent/JP2009024264A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111101 |