JP4843572B2 - マルチチャンバー型真空処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る真空チャンバーを示す斜視図、図2は、その分解斜視図である。本実施の形態における真空チャンバーは、例えば6つの処理室を有するマルチチャンバー(多室)型枚葉式スパッタ成膜装置(以下、成膜装置という)の中央部に設けた基板搬送ロボットを有する搬送室として構成されている。
実施の形態1では、長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)として、その両側に3角形状の側面枠3a,3bをボルト留めで接合して6角形状の真空チャンバーを組み立てる構造であったが、本実施の形態では、図3に示すように、実施の形態1で使用した長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)とし、その両側に長方形状の側面枠12a,12bをボルト留めで接合して、正方形状の真空チャンバー13を組み立てる構造である。長方形状の側面枠12a,12bを使用した以外は実施の形態1と同様であり、重複する説明は省略する。
実施の形態2では、長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)として、その両側に長方形状の側面枠12a,12bをボルト留めで接合して4角形状の真空チャンバーを組み立てる構造であったが、本実施の形態では、図4に示すように、実施の形態2で得られた正方形状の真空チャンバー13の各側面に3角形状の側面枠14a,14b,14c,14dをボルト留めで接合して、8角形状の真空チャンバー15を組み立てる構造である。
上述した各実施の形態では長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)とした構成であったが、本実施の形態では、図5に示すように、台形状の4角形のチャンバー本体2aを中心(コア)として、その一つの長辺に3角形状の側面枠16をボルト留めで接合して5角形状の真空チャンバー17を組み立てる構造である。
本実施の形態では、図6に示すように、台形状の4角形のチャンバー本体2bを中心(コア)として、一方の長辺に台形状の4角形(チャンバー本体2bよりも小さい形状)の側面枠18をボルト留めで接合し、他方の短辺に3角形状の側面枠19をボルト留めで接合して7角形状の真空チャンバー20を組み立てる構造である。
本実施の形態では、図7に示すように、正方形状の4角形のチャンバー本体2cを中心(コア)として、その各側面に3角形状の側面枠21a,21b,21c,21dをボルト留めで接合して8角形状の真空チャンバー22を組み立てる構造である。
2,2a,2b,2c チャンバー本体
3a,3b,12a,12b,14a,14b,14c,14d,16,18,19,21a,21b,21c,21d 側面枠
5,8 上板
6 基板搬送ロボット
7,9 底板
Claims (1)
- 搬送室と、この搬送室の周囲に配置された複数の真空処理室とを備えたマルチチャンバー型真空処理装置であって、
前記搬送室は、第1の構成部分と、複数の第2の構成部分との組立体からなり、
前記第1の構成部分は、
前記真空処理室が設置され当該真空処理室との間で基板を出し入れするための第1の開口が形成された側面部を有する相互に対向配置された一対の第1の側面と、全面が開口され相互に対向配置された一対の第2の側面とを有する六面体形状で枠状のチャンバー本体と、
前記チャンバー本体の上面に着脱自在に接合される第1の上板と、
前記チャンバー本体の下面に着脱自在に接合される第1の底板とを有し、
前記複数の第2の構成部分は、
前記真空処理室が各々設置され当該真空処理室との間で基板を出し入れするための第2の開口が形成された側面部を有する第3の側面と、全面が開口され前記第2の側面に着脱自在に取り付けられる、前記第3の側面と対向配置された第4の側面とを有する六面体形状の側面枠と、
前記側面枠の上面に着脱自在に接合される第2の上板と、
前記側面枠の下面に着脱自在に接合される第2の底板とをそれぞれ有する
ことを特徴とするマルチチャンバー型真空処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007178468A JP4843572B2 (ja) | 2007-07-06 | 2007-07-06 | マルチチャンバー型真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007178468A JP4843572B2 (ja) | 2007-07-06 | 2007-07-06 | マルチチャンバー型真空処理装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003129754A Division JP2004335743A (ja) | 2003-05-08 | 2003-05-08 | 真空処理装置用真空チャンバー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007291530A JP2007291530A (ja) | 2007-11-08 |
JP4843572B2 true JP4843572B2 (ja) | 2011-12-21 |
Family
ID=38762415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007178468A Expired - Lifetime JP4843572B2 (ja) | 2007-07-06 | 2007-07-06 | マルチチャンバー型真空処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4843572B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335743A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置用真空チャンバー |
KR101585622B1 (ko) * | 2008-08-01 | 2016-01-14 | 가부시키가이샤 알박 | 반송 로봇의 제어 방법 |
GB2508912A (en) * | 2012-12-14 | 2014-06-18 | Mantis Deposition Ltd | Vacuum chamber for processing semiconductor wafers |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0864542A (ja) * | 1994-08-25 | 1996-03-08 | Plasma Syst:Kk | 半導体処理装置用真空チャンバーおよびその製造方法 |
JP4253107B2 (ja) * | 2000-08-24 | 2009-04-08 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板処理装置及びその増設方法 |
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2007
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007291530A (ja) | 2007-11-08 |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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