JP2003051451A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JP2003051451A
JP2003051451A JP2001235997A JP2001235997A JP2003051451A JP 2003051451 A JP2003051451 A JP 2003051451A JP 2001235997 A JP2001235997 A JP 2001235997A JP 2001235997 A JP2001235997 A JP 2001235997A JP 2003051451 A JP2003051451 A JP 2003051451A
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JP
Japan
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main housing
transfer device
bottom plate
stainless steel
wafer
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JP2001235997A
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English (en)
Inventor
Takaharu Ishizuka
隆治 石塚
Naoyuki Nakagawa
直之 中川
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Hitachi Kokusai Electric Inc
Original Assignee
Hitachi Kokusai Electric Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 CVD装置の筐体の防錆塗装を省略して組立
作業性を高める。 【解決手段】 ボートエレベータ、ウエハ移載装置が内
部に設置されるメイン筐体2Aは、ステンレス鋼板から
なり平坦度や水平度が予め調整された底板31を備えて
いる。底板31の周辺部にはステンレス型鋼からなる複
数本の支柱32が立脚されて溶接され、支柱32、32
の間にはステンレス型鋼からなる梁33、桟34が架橋
されて溶接されている。支柱32、梁33、桟34が組
まれた状態で、ボートエレベータ、ウエハ移載装置が底
板31に設置された後に、メイン筐体2Aの前後左右の
側面には複数枚の側板36がビス38でねじ止めされ
る。 【効果】 防錆塗装の省略で塗装膜からのパーティクル
や有機物質の発生を回避でき、内装品のメイン筐体内へ
の設置作業を側板を外して実施することで、組立作業や
保守点検作業の工期を短縮でき、作業能率や作業精度を
向上できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置に関
し、特に、ボートエレベータおよびウエハ移載装置等が
内部に設置される筐体の構造に係り、例えば、半導体素
子を含む半導体集積回路が作り込まれる半導体ウエハ
(以下、ウエハという。)に不純物を拡散したり絶縁膜
や金属膜等のCVD膜を形成したりする拡散・CVD装
置に利用して有効なものに関する。
【0002】
【従来の技術】ICの製造方法において、ウエハに不純
物を拡散したり絶縁膜や金属膜等のCVD膜を形成した
りする成膜工程には、バッチ式縦形拡散・CVD装置
(以下、バッチ式CVD装置という。)が使用されてい
る。
【0003】バッチ式CVD装置はボートエレベータや
ウエハ移載装置等が内部に設置される筐体を備えてい
る。一般に、筐体は構造用型鋼および鋼板が使用された
フレーム構造またはモノコック構造によって構築されて
おり、このように構築された筐体の表面には防錆のため
の焼付け塗装が施されている。そして、ボートエレベー
タやウエハ移載装置等は筐体の底板の上に載置して、水
平および垂直レベルを調整した後に固定されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たバッチ式CVD装置の筐体においては、次のような問
題点がある。1) 塗装鋼板のままであると、ボートの輻
射熱の影響を受けるため、ステンレス鋼板を筐体の室内
に内張りしている。したがって、筐体が二重構造にな
り、部品点数および組付工数が増加し、バッチ式CVD
装置の製造コストが増加する。2) 構築された後の筐体
の内部にボートエレベータやウエハ移載装置等を組み込
み、水平および垂直レベルの調整する作業が困難である
ため、据付作業に多大の手間が消費される。
【0005】本発明の目的は、前記した従来の技術の問
題点を解決し、輻射熱の影響を回避することができると
ともに、組立作業性を高めることができる基板処理装置
を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る基板処理装
置は、ステンレス鋼板からなる側板がステンレス型鋼か
らなるフレーム部材にねじ部材により固定された構造の
筐体を備えていることを特徴とする。
【0007】前記した手段によれば、側板がステンレス
鋼板によって構成されているため、輻射熱の影響を回避
することができる。また、側板がフレーム部材にねじ止
めされているため、側板を取り外すことにより、内装品
の筐体内部への据付作業が実施し易くなり、組立作業や
保守点検作業の工期を短縮することができるとともに、
作業能率や作業精度を高めることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に即して説明する。
【0009】本実施の形態において、本発明に係る基板
処理装置は、一回のバッチ処理の枚数が五十枚程度以下
の小バッチを取り扱うバッチ式CVD装置すなわち小バ
ッチ式縦形拡散・CVD装置(以下、小バッチ式CVD
装置という。)として構成されている。この小バッチ式
CVD装置は製品基板としてはプロダクトウエハを取り
扱うものとして構成されており、製品基板用キャリアと
してはFOUP(frontopening unified pod 。以下、
ポッドという。)を取り扱うものとして構成されてい
る。なお、以下の説明において、前後左右は図2を基準
とする。すなわち、ポッドオープナ21側が前側、その
反対側が後側、クリーンユニット17側が左側、その反
対側が右側とする。
【0010】図1〜図4に示されているように、小バッ
チ式CVD装置1はメイン筐体2Aとフロント筐体2B
とを備えている。メイン筐体2Aの後端部の上部にはヒ
ータユニット3が垂直方向に据え付けられており、ヒー
タユニット3の内部には処理室4aを形成したプロセス
チューブ4が同心に配置されている。プロセスチューブ
4にはプロセスチューブ4の処理室4aに原料ガスやパ
ージガス等を導入するためのガス導入管5と、処理室4
aを真空排気するための排気管6とが接続されている。
【0011】メイン筐体2Aの後端部の下部には送りね
じ装置等によって構成されたボートエレベータ7が設置
されており、ボートエレベータ7はプロセスチューブ4
の真下に水平に配置されたシールキャップ8を垂直方向
に昇降させるように構成されている。シールキャップ8
はプロセスチューブ4の炉口である下端開口をシールす
るように構成されているとともに、ボート9を垂直に支
持するように構成されている。ボート9は基板としての
ウエハWを複数枚(例えば、五十枚程度以下)、中心を
揃えて水平に配置した状態で支持して、プロセスチュー
ブ4の処理室4aに対してボートエレベータ7によるシ
ールキャップ8の昇降に伴って搬入搬出するように構成
されている。
【0012】図2〜図4に示されているように、メイン
筐体2A内の前側領域にはボート9に対してウエハWを
装填(チャージング)および脱装(ディスチャージン
グ)するウエハ移載装置10が設置されている。ウエハ
移載装置10はロータリーアクチュエータ11を備えて
おり、ロータリーアクチュエータ11は上面に設置され
た第一リニアアクチュエータ12を水平面内で回転させ
るように構成されている。第一リニアアクチュエータ1
2の上面には第二リニアアクチュエータ13が設置され
ており、第一リニアアクチュエータ12は第二リニアア
クチュエータ13を水平移動させるように構成されてい
る。第二リニアアクチュエータ13の上面には移動台1
4が設置されており、第二リニアアクチュエータ13は
移動台14を水平移動させるように構成されている。移
動台14にはウエハWを下から支持するツィーザ15が
複数枚(本実施の形態においては五枚)、等間隔に配置
されて水平に取り付けられている。ウエハ移載装置10
は送りねじ機構によって構成されたエレベータ16によ
って昇降されるようになっている。
【0013】なお、図2および図3に示されているよう
に、メイン筐体2A内の後部における左側壁にはクリー
ンエアを吹き出すクリーンユニット17が、ボート9に
クリーンエアを吹き付けるように設置されている。ま
た、メイン筐体2A内の中央部における左側寄りにはボ
ート9と同様に構成されたウエハストッカ18が設置さ
れており、ウエハストッカ18は複数枚のサイドダミー
ウエハを保管するようになっている。
【0014】図3および図4に示されているように、メ
イン筐体2Aの正面壁の中央よりも若干右寄りの位置に
はウエハWをメイン筐体2Aに対して搬入搬出するため
のウエハ搬入搬出口20が開設されており、ウエハ搬入
搬出口20にはポッドオープナ21が設置されている。
ポッドオープナ21はポッドPを載置する載置台22
と、載置台22に載置されたポッドPのキャップを着脱
するキャップ着脱機構23とを備えており、載置台22
に載置されたポッドPのキャップをキャップ着脱機構2
3によって着脱することにより、ポッドPのウエハ出し
入れ口を開閉するようになっている。
【0015】図1〜図4に示されているように、フロン
ト筐体2Bは一般的なフレーム構造またはモノコック構
造が使用されて略箱形状に構築されており、表面には焼
付け塗装が施されている。フロント筐体2Bはメイン筐
体2Aの正面側に隣接して配置されており、フロント筐
体2Bにはポッドオープナ21の載置台22が設置され
ている。フロント筐体2Bの下部におけるポッドオープ
ナ21の載置台22の左脇および右脇にはポッドPを載
置する第一ポッドステージ24および第二ポッドステー
ジ25が載置台22にそれぞれ隣接して設置されてい
る。第一ポッドステージ24および第二ポッドステージ
25に対してはポッドPが、図示しない工程内搬送装置
〔移載装置付き有軌道無人搬送車(RGV)、移載装置
付き無人搬送車(AGV)、手動移載装置付き有人搬送
台車(PGV)等〕によって供給および排出されるよう
になっている。
【0016】なお、図示しないが、フロント筐体2Bの
上部の内部にはポッドオープナ21と第一ポッドステー
ジ24および第二ポッドステージ25との間でポッドP
をその把手を把持(クランピング)した状態で搬送する
ポッド搬送装置が設備されている。
【0017】次に、本実施の形態に係るメイン筐体2A
を詳細に説明する。
【0018】図2〜図5に示されているように、メイン
筐体2Aは板厚が厚いステンレス鋼板が使用されて略正
方形の平板形状に形成された底板31を備えており、底
板31の上面の平坦度や水平度等は研磨加工によって予
め高精度に調整されている。底板31の上面における周
辺部にはフレーム部材としての複数本の支柱32が垂直
に立脚されて固定されている。フレーム部材としての支
柱32は角パイプ形状のステンレス型鋼が使用されてお
り、ステンレス鋼板からなる底板31にTIG溶接(タ
ングステン・イナート・ガス溶接)によって固定されて
いる。
【0019】隣合う支柱32、32の上端の間にはフレ
ーム部材としての梁33がそれぞれ架橋されて固定され
ている。フレーム部材としての梁33も角パイプ形状の
ステンレス型鋼が使用されており、ステンレス型鋼から
なる支柱32にTIG溶接によって固定されている。ま
た、支柱32の中間部の間にはフレーム部材としての桟
34が底板31、支柱32および梁33の組付強度(剛
性)を補強し得るように適宜に配置されて架橋されてい
る。フレーム部材としての桟34も角パイプ形状のステ
ンレス型鋼が使用されており、ステンレス型鋼からなる
支柱32にTIG溶接によって固定されている。そし
て、支柱32、梁33および桟34の適当な位置には雌
ねじ孔35が開設されている。
【0020】図5に示されているように、底板31の上
に支柱32が垂直に立設され、梁33および桟34によ
って固定された骨組みの状態で、ボートエレベータ7、
ウエハ移載装置10がメイン筐体2Aの内部に組み込ま
れる。すなわち、図3で参照されるように、ボートエレ
ベータ7およびウエハ移載装置10は底板31の予め設
定された位置に据え付けられる。このボートエレベータ
7およびウエハ移載装置10の据え付け作業に際して、
底板31の上面の平坦度や水平度は予め高精度に調整さ
れているため、ボートエレベータ7およびウエハ移載装
置10の傾きの精度(垂直度および水平度)はそれらの
構成部品の機械加工精度のみで充分に確保することがで
きる。したがって、ボートエレベータ7およびウエハ移
載装置10の据え付け作業に際しての傾きの調整作業を
省略ないしは簡略化することができる。
【0021】また、骨組み状態のメイン筐体2Aには大
きな隙間が四方に形成されているため、ボートエレベー
タ7およびウエハ移載装置10の据え付け作業は骨組み
状態のメイン筐体2Aの四方から取り掛かることができ
る。したがって、この据え付け作業を複数人で四方から
同時に進行することにより、組付作業や調整作業を効率
よく実施することができるため、作業時間を短縮するこ
とができるとともに、組付精度を高めることができる。
【0022】以上のようにして骨組み状態でメイン筐体
2Aの底板31の上にボートエレベータ7およびウエハ
移載装置10が設置された後に、メイン筐体2Aの前後
左右の側面には複数枚の側板36がそれぞれ張り付けら
れる。側板36はステンレス鋼板が使用されて、メイン
筐体2Aの前後左右の側面を閉塞する四角形の薄い板形
状に形成されており、図5に示されているように、その
四辺には複数個の挿通孔37が支柱32、梁33および
桟34の雌ねじ孔35にそれぞれ対応するように配置さ
れて開設されている。ちなみに、図5に示されているよ
うに、メイン筐体2Aの正面に配置される側板36には
ウエハ搬入搬出口20が予め開設されている。
【0023】例えば、図3(b)に示されているよう
に、側板36は支柱32の外面に挿通孔37が雌ねじ孔
35に整合された状態で当接され、ねじ部材としてのビ
ス38が外側から挿通孔37を挿通して雌ねじ孔35に
ねじ込まれることにより固定される。図3(b)に示さ
れているように、二枚の側板36、36が隣接して配置
されて一枚の側面が構成される場合には、隣接する二枚
の側板36、36の周辺部が互いに重ね合わされて、ビ
ス38が二枚の側板36、36の挿通孔37、37に外
側から挿通されて支柱32の雌ねじ孔35にねじ込まれ
ることにより、共締めされる。
【0024】前後左右の側板36が支柱32、梁33お
よび桟34の外面に張り付けられた後に、または、張り
付け作業と同時に、メイン筐体2Aの中央に架設された
複数本の梁33の上にはヒータユニット3が載置されて
据え付けられる。また、ヒータユニット3の内部にはプ
ロセスチューブ4が同心的に設置される。
【0025】その後、図6に示されているように、メイ
ン筐体2Aの上端部にはカバー体39が被せられてねじ
止めされる。カバー体39は骨組み状態のメイン筐体2
Aの上端部の形状に対応し下端面が開口した略直方体の
箱形状に形成されており、下端開口部がメイン筐体2A
の上端部に嵌合するようになっている。カバー体39は
ステンレス鋼板が使用されてTIG溶接によって固定さ
れたモノコック構造に構築されている。カバー体39の
下端部には複数個の挿通孔40が開設されており、カバ
ー体39がメイン筐体2Aの上端部に被せられた状態
で、ビス38が外側から挿通孔40に挿通され、支柱3
2や梁33および桟34に開設された雌ねじ孔35にね
じ込まれることにより固定されるようになっている。
【0026】前記実施の形態によれば、次の効果が得ら
れる。
【0027】1) ステンレス鋼板からなる側板をステン
レス型鋼からなるフレーム部材に締結してメイン筐体を
構築することにより、防錆のための焼付け塗装を省略す
ることができるため、塗装膜からパーティクルや有機物
質が発生するのを防止することができ、これらによるウ
エハの汚染を未然に回避することができる。
【0028】2) 側板をフレーム部材にねじ止めする締
結構造に構成することにより、側板をフレーム部材から
任意に取り外すことができるため、ボートエレベータや
ウエハ移載装置等の内装品のメイン筐体内部への据付作
業を実施し易くさせることができ、組立作業や保守点検
作業の工期を短縮することができるとともに、作業能率
や作業精度を高めることができる。
【0029】3) フレーム部材としての支柱をステンレ
ス鋼板からなる底板に溶接によって固定することによ
り、メイン筐体の下端面における隙間を底板によって解
消することができるため、塵埃のメイン筐体への侵入を
防止することができ、また、底板をボートエレベータや
ウエハ移載装置の据え付けのための基準面として使用す
ることができる。
【0030】4) ステンレス鋼板からなる側板によって
メイン筐体の側板のうち少なくともボートエレベータお
よびウエハ移載装置を取り囲む側板として構成すること
により、輻射熱を反射するための反射板を省略すること
ができるため、製造コストを低減することができる。
【0031】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変
更が可能であることはいうまでもない。
【0032】例えば、支柱や梁および桟等のフレーム部
材は角パイプ形状のステンレス型鋼によって構成するに
限らず、アングル型鋼形状やチャンネル型鋼形状および
H型鋼形状等によって構成してもよい。
【0033】メイン筐体の上端部はモノコック構造のカ
バー体によって構築するに限らず、全体的にステンレス
型鋼にステンレス鋼板をねじ部材によって締結するフレ
ーム構造によって構築してもよい。
【0034】前記実施の形態においてはウエハにCVD
膜を形成するCVD装置について説明したが、本発明は
それに限定されるものではなく、ウエハに酸化膜や絶縁
膜および金属膜を形成する成膜装置、ウエハに酸化膜を
形成したりウエハに不純物を拡散したり拡散だけでなく
イオン打ち込み後のキャリア活性化や平坦化のためのリ
フローやアニールしたりする熱処理装置(farnace )等
の基板処理装置全般に適用することができる。
【0035】被処理基板はウエハに限らず、ホトマスク
やプリント配線基板、液晶パネル等の基板であってもよ
い。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板処理装置のパーティクルや有機物質による汚染を防
止しつつ、組立作業能率を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態である小バッチ式CVD
装置の正面側から見た外観を示す斜視図である。
【図2】同じく背面側から見た一部切断一部省略斜視図
である。
【図3】(a)は平面断面図で、(b)は(a)のb部
の詳細を示す断面図である。
【図4】側面断面図である。
【図5】メイン筐体の組立作業を示す一部省略分解斜視
図である。
【図6】カバー体の組付作業を示す一部省略分解斜視図
である。
【符号の説明】 W…ウエハ(基板)、P…ポッド、1…小バッチ式CV
D装置(基板処理装置)、2A…メイン筐体、2B…フ
ロント筐体、3…ヒータユニット、4…プロセスチュー
ブ、4a…処理室、5…ガス導入管、6…排気管、7…
ボートエレベータ、8…シールキャップ、9…ボート、
10…ウエハ移載装置、11…ロータリーアクチュエー
タ、12…第一リニアアクチュエータ、13…第二リニ
アアクチュエータ、14…移動台、15…ツィーザ、1
6…エレベータ、17…クリーンユニット、18…ウエ
ハストッカ(基板保管場所)、20…ウエハ搬入搬出
口、21…ポッドオープナ、22…載置台、23…キャ
ップ着脱機構、24…第一ポッドステージ、25…第二
ポッドステージ、31…底板、32…支柱(フレーム部
材)、33…梁(フレーム部材)、34…桟(フレーム
部材)、35…雌ねじ孔、36…側板、37…挿通孔、
38…ビス(ねじ部材)、39…カバー体、40…挿通
孔。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4K030 CA04 CA12 GA13 KA08 KA46 5F045 BB08 BB14 BB20 DP19 DQ05 EB02 EB03 EN04 EN05

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ステンレス鋼板からなる側板がステンレ
    ス型鋼からなるフレーム部材にねじ部材により固定され
    た構造の筐体を備えていることを特徴とする基板処理装
    置。
  2. 【請求項2】 前記フレーム部材がステンレス鋼板から
    なる底板に溶接によって固定されていることを特徴とす
    る請求項1に記載の基板処理装置。
  3. 【請求項3】 前記筐体の側面のうち少なくともボート
    エレベータおよびウエハ移載装置を取り囲む側面が前記
    ステンレス鋼板からなる側板によって構成されているこ
    とを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装
    置。
JP2001235997A 2001-08-03 2001-08-03 基板処理装置 Pending JP2003051451A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012164732A (ja) * 2011-02-04 2012-08-30 Daihen Corp ワーク搬送システム、および搬送室用フレーム構造体

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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