JP2023116392A - 基板処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】複数のバッチ処理部を有する基板処理装置の設置面積を小さくできると共に、バッチ処理部のメンテナンスを容易に実施できる技術を提供する。【解決手段】本開示の一態様による基板処理装置は、基板を収容した容器が搬入出される第１側面と、前記第１側面と反対側の第２側面とを有する搬入出部と、前記第２側面と直交する第１水平方向に沿って延びる基板搬送部と、前記基板搬送部の長手方向に沿って隣接する複数のバッチ処理部と、を備え、前記複数のバッチ処理部の各々は、前記基板を複数収容して処理する処理容器と、前記処理容器内にガスを供給するガス供給ユニットと、前記処理容器内のガスを排気する排気ユニットと、を有し、前記排気ユニットの上方に、前記複数のバッチ処理部のメンテナンスを行うための第１メンテナンス領域が設けられる。【選択図】図１

Description

本開示は、基板処理装置に関する。
複数枚の基板を一括して処理する縦型熱処理装置において、１つのローダモジュールに対して複数のプロセスモジュールを設ける構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
特開２０２０－１１３７４６号公報
本開示は、複数のバッチ処理部を有する基板処理装置の設置面積を小さくできると共に、バッチ処理部のメンテナンスを容易に実施できる技術を提供する。
本開示の一態様による基板処理装置は、基板を収容した容器が搬入出される第１側面と、前記第１側面と反対側の第２側面とを有する搬入出部と、前記第２側面と直交する第１水平方向に沿って延びる基板搬送部と、前記基板搬送部の長手方向に沿って隣接する複数のバッチ処理部と、を備え、前記複数のバッチ処理部の各々は、前記基板を複数収容して処理する処理容器と、前記処理容器内にガスを供給するガス供給ユニットと、前記処理容器内のガスを排気する排気ユニットと、を有し、前記排気ユニットの上方に、前記複数のバッチ処理部のメンテナンスを行うための第１メンテナンス領域が設けられる。
本開示によれば、複数のバッチ処理部を有する基板処理装置の設置面積を小さくできると共に、バッチ処理部のメンテナンスを容易に実施できる。
実施形態に係る基板処理装置を示す斜視図（１） 実施形態に係る基板処理装置を示す斜視図（２） 実施形態に係る基板処理装置を示す斜視図（３） 搬入出部を示す概略図（１） 搬入出部を示す概略図（２） 搬入出部を示す概略図（３） 搬入出部を示す概略図（４） 搬入出部を示す概略図（５） 基板搬送部及びバッチ処理部を示す概略図 実施形態の変形例に係る基板処理装置を示す斜視図（１） 実施形態の変形例に係る基板処理装置を示す斜視図（２） 排気ユニットに取り付けられる柵の分解斜視図 排気ユニットに取り付けられる柵を示す斜視図 ヒータ交換方法の一例を示す斜視図（１） ヒータ交換方法の一例を示す斜視図（２） ヒータ交換方法の一例を示す斜視図（３） ヒータ交換方法の一例を示す斜視図（４） 複数の基板処理装置が隣接して配置される形態を示す斜視図 複数の基板処理装置が隣接して配置される形態の第１変形例を示す斜視図 複数の基板処理装置が隣接して配置される形態の第２変形例を示す斜視図 複数の基板処理装置が隣接して配置される形態の第３変形例を示す斜視図
以下、添付の図面を参照しながら、本開示の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。本明細書において、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向は互いに垂直な方向である。Ｘ軸方向及びＹ軸方向は水平方向、Ｚ軸方向は鉛直方向である。
〔基板処理装置〕
図１～図９を参照し、実施形態に係る基板処理装置１について説明する。図１～図３は、実施形態に係る基板処理装置１を示す斜視図であり、それぞれ異なる方向から基板処理装置１を見たときの図である。図４～図８は、搬入出部２を示す概略図であり、搬入出部２の内部を上方から見た図である。図５～図７では、搬入出部２の各部が移動する前の位置を一点鎖線で示す。図９は、基板搬送部３及びバッチ処理部４を示す概略図であり、基板搬送部３及びバッチ処理部４の内部を後方から見たときの図である。図９では、足場５の図示を省略している。
基板処理装置１は、搬入出部２と、基板搬送部３と、複数のバッチ処理部４と、足場５とを備える。
搬入出部２は、カセットＣが搬入出される前面２ａと、前面２ａと反対側の後面２ｂとを有する。前面２ａは、搬入出部２のＹ軸方向負側に位置する。後面２ｂは、搬入出部２のＹ軸方向正側に位置する。カセットＣは、複数枚（例えば２５枚）の基板Ｗを収容する容器である。カセットＣは、例えばＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）である。基板Ｗは、例えば半導体ウエハである。搬入出部２は、内部が例えば大気雰囲気下にある。
搬入出部２は、ロードポート２１と、ローダ２２と、保管棚２３と、カセット搬送装置２４と、通路形成部２５とを有する。
ロードポート２１は、搬入出部２のＸ軸方向正側かつＹ軸方向負側に設けられる。ロードポート２１は、Ｘ軸方向に沿って２つ設けられる。ロードポート２１には、カセットＣが載置される。カセットＣは、ロードポート２１に対して搬入出される。ロードポート２１は、鉛直方向（Ｚ軸方向）に多段に設けられてもよい。ロードポート２１の数は特に限定されない。
ローダ２２は、搬入出部２のＸ軸方向正側かつＹ軸方向正側に設けられる。ローダ２２は、Ｘ軸方向に沿って１つ設けられる。ローダ２２は、基板搬送部３と隣接する。ローダ２２には、カセットＣが配置される。ローダ２２には、カセットＣの蓋体の開閉を行うための図示しない蓋体開閉機構が設けられる。ローダ２２は、Ｚ軸方向に多段に設けられてもよい。ローダ２２の数は特に限定されない。
保管棚２３は、搬入出部２に複数設けられる。保管棚２３は、処理前の基板Ｗが収納されたカセットＣ、基板Ｗが取り出されて内部が空となったカセットＣ等を一時的に保管する。保管棚２３は、例えば蝶番により跳ね上げ可能に構成される。保管棚２３は、Ｚ軸方向に多段に設けられてもよい。保管棚２３は、ローダ２２の上方や下方に設けられてもよい。保管棚２３の数は特に限定されない。
カセット搬送装置２４は、ロードポート２１と、ローダ２２と、保管棚２３との間でカセットＣを搬送する。カセット搬送装置２４の数は特に限定されない。
通路形成部２５は、搬入出部２を貫通して前面２ａと後面２ｂとを連通する通路Ｐを形成する。通路Ｐは、後述する下部メンテナンス領域Ｂ１に繋がる。通路Ｐが形成されることにより、作業者は搬入出部２の前面２ａ側から下部メンテナンス領域Ｂ１に入退出できる。通路Ｐは、バッチ処理部４のメンテナンスを実施する場合等、必要に応じて形成される。
通路形成部２５は、着脱扉２５１ａ、２５１ｂと、前面扉２５２と、後面扉２５３と、ブラケット２５４ａ～２５４ｄとを有する。
着脱扉２５１ａ、２５１ｂは、搬入出部２の前面２ａ側に着脱自在に取り付けられる。着脱扉２５１ａ、２５１ｂは、通路Ｐを形成する際に取り外され、通路Ｐの壁面を形成するように設置される。
前面扉２５２は、搬入出部２のＸ軸方向負側かつＹ軸方向負側に設けられる。前面扉２５２は、Ｘ軸方向正側に位置してＺ軸方向に延びる回転軸を回転中心として回転自在である。前面扉２５２は、通路Ｐを形成する際に右回りに回転して通路Ｐの壁面を形成する。前面扉２５２には、保管棚２３を跳ね上げるための図示しない小窓が設けられる。
後面扉２５３は、搬入出部２のＸ軸方向負側かつＹ軸方向正側に設けられる。後面扉２５３は、Ｘ軸方向負側に位置してＺ軸方向に延びる回転軸を回転中心として回転自在である。後面扉２５３は、通路Ｐを形成する際に右回りに回転して通路Ｐの壁面を形成する。
ブラケット２５４ａ、２５４ｂは、前面扉２５２からＹ軸方向正側に延びるように設けられる。ブラケット２５４ａ、２５４ｂは、それぞれ保管棚２３を支持する。ブラケット２５４ａ、２５４ｂは、前面扉２５２に取り付けられる。ブラケット２５４ａ、２５４ｂは、Ｙ軸方向負側に位置してＺ軸方向に延びる回転軸を回転中心として回転自在である。ブラケット２５４ａ、２５４ｂは、通路Ｐを形成する際に前面扉２５２側に回転させられて固定される。
ブラケット２５４ｃ、２５４ｄは、後面扉２５３からＹ軸方向負側に延びるように設けられる。ブラケット２５４ｃ、２５４ｄは、それぞれ保管棚２３を支持する。ブラケット２５４ｃ、２５４ｄは、後面扉２５３に取り付けられる。ブラケット２５４ｃ、２５４ｄは、Ｙ軸方向正側に位置してＺ軸方向に延びる回転軸を回転中心として回転自在である。ブラケット２５４ｃ、２５４ｄは、通路Ｐを形成する際に後面扉２５３側に回転させられて固定される。
通路Ｐを形成する場合、まず図５に示されるように、作業者は着脱扉２５１ａ、２５１ｂを取り外す。次に、作業者は前面扉２５２の小窓を介して前面２ａ側に位置する保管棚２３を跳ね上げる。次に、図６に示されるように、作業者は前面扉２５２の小窓を介してブラケット２５４ａ、２５４ｂを前面扉２５２側に回転させて前面扉２５２に固定する。次に、図７に示されるように、作業者は前面扉２５２を右回りに回転させて前面扉２５２を搬入出部２の内側に開放する。次に、作業者は、後面２ｂ側に位置する保管棚２３を跳ね上げ、ブラケット２５４ｃ、２５４ｄを後面扉２５３側に回転させて後面扉２５３に固定し、後面扉２５３を右回りに回転させて後面扉２５３を搬入出部２の内側に開放する。また、作業者は、取り外した着脱扉２５１ａを前面扉２５２のＹ軸方向正側に設置し、取り外した着脱扉２５１ｂを後面扉２５３のＹ軸方向負側に設置する。これにより、前面扉２５２、後面扉２５３及び着脱扉２５２ａ、２５２ｂを壁面とする通路Ｐが形成される。
基板搬送部３は、搬入出部２のＹ軸方向正側に配置される。基板搬送部３は、搬入出部２の後面２ｂと直交する第１方向（Ｙ軸方向）に沿って延びる。基板搬送部３は、床Ｆに設置される。基板搬送部３は、複数のバッチ処理部４に対して共通で１つ設けられる。すなわち、複数のバッチ処理部４は、共通の基板搬送部３を有する。基板搬送部３は、基板搬送装置３１を有する。基板搬送装置３１は、搬入出部２と、複数のバッチ処理部４の各々との間で基板Ｗを搬送する。基板搬送装置３１は、複数のピック３１ｐを有する。これにより、基板搬送装置３１は、複数枚の基板Ｗを同時に搬送できる。このため、基板Ｗの搬送に要する時間を短縮できる。ピック３１ｐの数は特に限定されない。基板搬送部３は、平坦な上面３ａを有する。上面３ａには、作業者が乗ることができる。基板搬送部３の上方には、第１上部メンテナンス領域Ａ１が形成される。第１上部メンテナンス領域Ａ１は、装置の高所に位置し、作業者が入退出できるメンテナンス領域である。作業者は、第１上部メンテナンス領域Ａ１において、前後方向に配列する複数のバッチ処理部４のメンテナンスを容易に実施できる。
複数のバッチ処理部４は、基板搬送部３のＸ軸方向負側に配置される。複数のバッチ処理部４は、基板搬送部３の長手方向（Ｙ軸方向）に沿って隣接して配置される。図示の例では、４つのバッチ処理部４が基板搬送部３の長手方向に沿って隣接して配置される。各バッチ処理部４は、複数枚（例えば２５枚～１５０枚）の基板Ｗを一括で処理する。各バッチ処理部４の内部は、不活性ガス雰囲気、例えば窒素ガス雰囲気とされる。これにより、バッチ処理部４における基板Ｗの酸化を抑制できる。各バッチ処理部４は、熱処理ユニット４１と、ロードユニット４２と、ガス供給ユニット４３と、排気ユニット４４と、プロセスモジュールコントロールユニット４５と、強制空冷ユニット４６と、ガスコントロールユニット４７と、フロアボックス４８とを有する。
熱処理ユニット４１は、複数枚の基板Ｗに対して所定の熱処理を行う。熱処理ユニット４１は、処理容器４１１と、ヒータ４１２とを有する。
処理容器４１１は、基板保持具４１４を収容する。基板保持具４１４は、上下方向に所定の間隔を有して基板Ｗを略水平に保持する。基板保持具４１４は、例えば石英、炭化珪素等の耐熱材料により形成される。処理容器４１１には、ガス導入ポート４１１ａ及び排気ポート４１１ｂが設けられる。
ガス導入ポート４１１ａは、処理容器４１１内にガスを導入する。ガス導入ポート４１１ａは、処理容器４１１のＸ軸方向負側に設けられる。ガス導入ポート４１１ａが設けられる位置は、複数のバッチ処理部４間で同じであることが好ましい。これにより、ガス供給ユニット４３とガス導入ポート４１１ａとの間の配管長を複数のバッチ処理部４間で揃えることができ、機差による処理のバラツキを小さくできる。
排気ポート４１１ｂは、処理容器４１１内のガスを排気する。排気ポート４１１ｂは、処理容器４１１のＸ軸方向負側に設けられる。すなわち、排気ポート４１１ｂは、ガス導入ポート４１１ａと同じ側に設けられる。排気ポート４１１ｂが設けられる位置は、複数のバッチ処理部４間で同じであることが好ましい。これにより、複数のバッチ処理部４間で排気コンダクタンスを揃えることができ、機差による処理のバラツキを小さくできる。
ヒータ４１２は、例えば円筒形状を有し、処理容器４１１の周囲に設けられる。ヒータ４１２は、円筒形状とは異なる形状であってもよい。ヒータ４１２は、処理容器４１１内に収容された基板Ｗを加熱する。処理容器４１１の下方には、シャッタ４１５が設けられる。シャッタ４１５は、処理容器４１１の下端の開口を塞ぐ位置と塞がない位置との間で水平移動するように構成される。シャッタ４１５は、基板保持具４１４が処理容器４１１内から搬出され、次の基板保持具４１４が搬入されるまでの間、処理容器４１１の下端の開口を塞ぐ。
ロードユニット４２は、熱処理ユニット４１の下方に設けられる。ロードユニット４２は、床Ｆにフロアボックス４８を介して設置される。なお、フロアボックス４８はロードユニット４２に組み込まれて一体化された構成であってもよい。ロードユニット４２は、処理容器４１１に収容される基板Ｗを基板搬送部３との間で受け渡す。ロードユニット４２には、基板保持具４１４が保温筒４１６を介して蓋体４１７の上に載置される。蓋体４１７は、図示しない昇降機構に支持される。昇降機構は、蓋体４１７を昇降させることにより、基板保持具４１４を処理容器４１１に対して搬入又は搬出させる。昇降機構は、例えばボールネジを含む。ロードユニット４２は、熱処理ユニット４１において処理された基板Ｗを冷却する空間としても機能する。
ガス供給ユニット４３は、熱処理ユニット４１の基板搬送部３が配置される側と反対側に配置される。ガス供給ユニット４３は、ガス導入ポート４１１ａに処理ガスを供給する。ガス供給ユニット４３は、ガス導入ポート４１１ａと同じ側に配置されることが好ましい。これにより、ガス供給ユニット４３とガス導入ポート４１１ａとの間の配管長を短くできる。このため、配管部材や配管ヒータの使用量の低減、配管ヒータの消費電力の低減、メンテナンスの際のパージ範囲の低減、処理容器４１１内への不純物の混入リスクの低減等の効果が得られる。ガス供給ユニット４３は、排気ユニット４４上に設置される。ガス供給ユニット４３は、処理容器４１１と略同じ高さ位置に配置される。ガス供給ユニット４３は、流量制御器、開閉弁等を含む。
排気ユニット４４は、ガス供給ユニット４３と同じ側に配置される。排気ユニット４４は、排気ポート４１１ｂと同じ側に配置されることが好ましい。排気ユニット４４は、ガス供給ユニット４３とは異なる高さ位置、例えばガス供給ユニット４３の下方に配置される。排気ユニット４４は、第１方向（Ｙ軸方向）からの平面視において逆Ｌ字状を有する。排気ユニット４４は、ロードユニット４２との間に下部メンテナンス領域Ｂ１を形成する。下部メンテナンス領域Ｂ１は、装置の低所に位置し、作業者が入退出できるメンテナンス領域である。作業者は、下部メンテナンス領域Ｂ１において、前後方向に配列する複数のバッチ処理部４のメンテナンスを容易に実施できる。ガス導入ポート４１１ａ及び排気ポート４１１ｂは、処理容器４１１の同じ側（下部メンテナンス領域Ｂ１側）に配置される。このため、作業者は下部メンテナンス領域Ｂ１においてガス導入ポート４１１ａ及び排気ポート４１１ｂを同時にメンテナンスできる。これに対し、ガス導入ポート４１１ａと排気ポート４１１ｂとが処理容器４１１を挟んで反対側に配置される場合、作業者は下部メンテナンス領域Ｂ１においてガス導入ポート４１１ａ及び排気ポート４１１ｂを同時にメンテナンスすることが困難である。
排気ユニット４４は、一端が排気ポート４１１ｂに接続され、他端が下方に延びて床Ｆを貫通し、床Ｆの下方に配置される図示しない排気装置に接続される。排気装置は、排気ポート４１１ｂ及び排気ユニット４４を介して処理容器４１１内を排気して減圧する。排気装置は、真空ポンプ、バルブ等を含む。排気ユニット４４は、平坦な上面４４ａを有する。上面４４ａには、作業者が乗ることができる。排気ユニット４４の上方には、第２上部メンテナンス領域Ａ２が形成される。第２上部メンテナンス領域Ａ２は、装置の高所に位置し、作業者が入退出できるメンテナンス領域である。作業者は、第２上部メンテナンス領域Ａ２において、前後方向に配列する複数のバッチ処理部４のメンテナンスを容易に実施できる。
強制空冷ユニット４６は、ヒータ４１２に供給する冷媒を生成するユニットであり、熱交換器、ブロア、バルブ、配管等を含む。冷媒は、例えば空気である。
強制空冷ユニット４６は、熱処理ユニット４１のＸ軸方向正側に設けられる。強制空冷ユニット４６から送り込まれる冷媒は、処理容器４１１とヒータ４１２との間の空間に供給される。これにより、処理容器４１１を短時間で冷却できる。
プロセスモジュールコントロールユニット４５及びガスコントロールユニット４７は、熱処理ユニット４１の天井部に配置される。プロセスモジュールコントロールユニット４５及びガスコントロールユニット４７は、バッチ処理部４の各部の動作を制御する。プロセスモジュールコントロールユニット４５及びガスコントロールユニット４７は、各種の制御機器を含む。
足場５は、基板搬送部３のＸ軸方向正側に配置される。足場５は、第１方向（Ｙ軸方向）に沿って延びる。足場５は、基板搬送部３に着脱自在に取り付けられる。足場５は、例えばＳＵＳ３０４等のステンレス鋼やアルミニウムにより形成される。足場５は、支持部材５１と、床板５２と、柵５３とを有する。支持部材５１は、床板５２を支持する。床板５２は、上面が基板搬送部３の上面３ａと一致するように、支持部材５１によって支持される。床板５２の上方の領域は、基板搬送部３の上方の領域と共に第１上部メンテナンス領域Ａ１となる。柵５３は、床板５２のＸ軸方向正側に設けられる。柵５３が設けられることにより、作業者が第１上部メンテナンス領域Ａ１においてバッチ処理部４の各部のメンテナンスを行う際の安全性が向上する。第１上部メンテナンス領域Ａ１の幅（基板搬送部３のＸ軸方向における長さと床板５２のＸ軸方向における長さの合計）は、ヒータ４１２が通過可能な長さであってよい。例えば、ヒータ４１２が円筒形状を有する場合、第１上部メンテナンス領域Ａ１の幅はヒータ４１２の直径よりも長い。この場合、ヒータ４１２の交換作業を容易に行うことができる。例えば、第１上部メンテナンス領域Ａ１の幅は１０００ｍｍであり、ヒータ４１２の直径は８００ｍｍである。
以上に説明したように、基板処理装置１によれば、１つの基板搬送部３に対して複数のバッチ処理部４が配置されるので、１つの基板搬送部３に対して１つのバッチ処理部４が配置される場合と比較して、基板処理装置１の設置面積を小さくできる。そのため、単位面積当たりの生産性が向上する。
また、基板処理装置１は、基板搬送部３の上方に形成される第１上部メンテナンス領域Ａ１と、排気ユニット４４の上方に形成される第２上部メンテナンス領域Ａ２と、ロードユニット４２と排気ユニット４４との間に形成される下部メンテナンス領域Ｂ１とを有する。これにより、作業者は、複数の方向からバッチ処理部４の各部のメンテナンスを容易に実施できる。
また、基板処理装置１によれば、ガス導入ポート４１１ａ及び排気ポート４１１ｂが処理容器４１１の同じ側（下部メンテナンス領域Ｂ１側）に配置される。このため、作業者は下部メンテナンス領域Ｂ１においてガス導入ポート４１１ａ及び排気ポート４１１ｂのメンテナンスを同時に実施できる。
〔基板処理装置の変形例〕
図１０から図１３を参照し、実施形態の変形例に係る基板処理装置１Ａについて説明する。図１０及び図１１は、実施形態の変形例に係る基板処理装置１Ａを示す斜視図であり、それぞれ異なる方向から基板処理装置１Ａを見たときの図である。図１２は、排気ユニット４４に取り付けられる柵６の分解斜視図である。図１３は、排気ユニット４４に取り付けられる柵６を示す斜視図である。
基板処理装置１Ａは、基板処理装置１に対し、柵６と、梯子治具７、８とをさらに備える。以下、基板処理装置１と異なる点を中心に説明する。
柵６は、バッチ処理部４ごとに設けられる。各柵６のＹ軸方向の長さは、対応するバッチ処理部４のＹ軸方向の長さと同じ又は略同じであってよい。各柵６は、対応するバッチ処理部４の排気ユニット４４のＸ軸方向負側に設けられる。各柵６は、対応するバッチ処理部４の排気ユニット４４のＸ軸方向負側の側面上部に着脱自在に取り付けられる。各柵６は、スペーサ６１と、柵本体６２と、固定部材６３と、連結部材６４とを有する。
スペーサ６１は、排気ユニット４４の側面と柵本体６２との間に挟まれる。スペーサ６１の上面６１ａは、排気ユニット４４の上面４４ａと同じ高さ又は略同じ高さであってよい。この場合、排気ユニット４４の上面４４ａのＸ軸方向の長さが、スペーサ６１のＸ軸方向の長さの分だけ拡大される。スペーサ６１は、例えばＳＵＳ３０４等のステンレス鋼やアルミニウムにより形成される。スペーサ６１は、設けられなくてもよい。
柵本体６２は、下端が排気ユニット４４の上面４４ａよりも下方に位置し、上端が排気ユニット４４の上面４４ａよりも上方に位置するように取り付けられる。柵本体６２は、第２上部メンテナンス領域Ａ２からの作業者の転落を防止する。柵本体６２は、例えばＳＵＳ３０４等のステンレス鋼やアルミニウムにより形成される。
固定部材６３は、スペーサ６１及び柵本体６２を排気ユニット４４のＸ軸方向負側の側面上部に固定する。
連結部材６４は、Ｙ軸方向において隣り合う柵本体６２を連結する。連結部材６４は、例えば板金と、ネジとを含む。この場合、バッチ処理部４の数に応じて柵本体６２のＹ軸方向の長さを変更できる。
梯子治具７は、足場５に着脱自在に取り付けられる。梯子治具７は、作業者が第１上部メンテナンス領域Ａ１に出入りするために用いられる。梯子治具７は、踊り場７１と、梯子７２とを有する。
踊り場７１は、床板７１ａと、固定柵７１ｂと、可動柵７１ｃとを有する。
床板７１ａは、床板５２のＹ軸方向正側の端部に設けられる。床板７１ａは、例えば足場５の支持部材５１に着脱自在に取り付けられる。床板７１ａは、基板搬送部３のＹ軸方向正側の側面に着脱自在に取り付けられてもよい。床板７１ａは、例えば板金とネジにより固定される。床板７１ａの上面は、床板５２の上面と同じ高さ又は略同じ高さであってよい。
固定柵７１ｂは、床板７１ａのＸ軸方向負側及びＹ軸方向正側に設けられる。固定柵７１ｂは、床板７１ａからの作業者の転落を防止する。
可動柵７１ｃは、床板７１ａのＸ軸方向正側に設けられる。可動柵７１ｃは、床板７１ａからの作業者の転落を防止する。可動柵７１ｃは、開閉可能である。可動柵７１ｃは、作業者が床板７１ａ上に出入りする際に開かれる。可動柵７１ｃは、例えば内開きであってよい。可動柵７１ｃは、例えば自動で閉じるよう構成されてよい。
梯子７２は、一対の支柱７２ａ、７２ｂと、複数の踏桟７２ｃと、一対の手すり７２ｄ、７２ｅとを有する。
一対の支柱７２ａ、７２ｂは、互いに平行に配置される。一対の支柱７２ａ、７２ｂは、上端が踊り場７１の床板７１ａに着脱自在に取り付けられる。
複数の踏桟７２ｃは、一対の支柱７２ａ、７２ｂの間に架け渡される。複数の踏桟７２ｃは、各支柱７２ａ、７２ｂの延在方向において所定の間隔を隔てて設けられる。
手すり７２ｄは、支柱７２ａに固定される。手すり７２ｅは、支柱７２ｂに固定される。手すり７２ｄ、７２ｅは、複数の踏桟７２ｃの両側に設けられる。
梯子治具８は、排気ユニット４４に着脱自在に取り付けられる。梯子治具８は、作業者が第２上部メンテナンス領域Ａ２に出入りするために用いられる。梯子治具８は、踊り場８１と、梯子８２とを有する。
踊り場８１は、床板８１ａと、固定柵８１ｂと、可動柵８１ｃとを有する。
床板８１ａは、排気ユニット４４のＹ軸方向正側の端部に設けられる。床板８１ａは、例えば排気ユニット４４に着脱自在に取り付けられる。床板８１ａは、例えば板金とネジにより固定される。床板８１ａの上面は、排気ユニット４４の上面４４ａと同じ高さ又は略同じ高さであってよい。
固定柵８１ｂは、床板８１ａのＸ軸方向正側及びＹ軸方向正側に設けられる。固定柵８１ｂは、床板８１ａからの作業者の転落を防止する。
可動柵８１ｃは、床板８１ａのＸ軸方向負側に設けられる。可動柵８１ｃは、床板８１ａからの作業者の転落を防止する。可動柵８１ｃは、開閉可能である。可動柵８１ｃは、作業者が床板８１ａ上に出入りする際に開かれる。可動柵８１ｃは、例えば内開きであってよい。可動柵８１ｃは、例えば自動で閉じるよう構成されてよい。
梯子８２は、一対の支柱８２ａ、８２ｂと、複数の踏桟８２ｃと、一対の手すり８２ｄ、８２ｅとを有する。
一対の支柱８２ａ、８２ｂは、互いに平行に配置される。一対の支柱８２ａ、８２ｂは、上端が踊り場８１の床板８１ａに着脱自在に取り付けられる。
複数の踏桟８２ｃは、一対の支柱８２ａ、８２ｂの間に架け渡される。複数の踏桟８２ｃは、各支柱８２ａ、８２ｂの延在方向において所定の間隔を隔てて設けられる。
手すり８２ｄは、支柱８２ａに固定される。手すり８２ｅは、支柱８２ｂに固定される。手すり８２ｄ、８２ｅは、複数の踏桟８２ｃの両側に設けられる。
〔ヒータ交換方法〕
図１４から図１７を参照し、基板処理装置１においてヒータ４１２を交換する方法を説明する。図１４から図１７は、ヒータ交換方法の一例を示す斜視図である。以下では、搬入出部２の最も近くに位置するバッチ処理部４Ａにヒータ４１２を取り付ける方法を説明する。
まず、図１４に示されるように、作業者ＯＰが、バッチ処理部４Ａが備える強制空冷ユニット４６を取り外し、第１レール９１、第２レール９２及び連結部材９３を取り付ける。
第１レール９１は、基板搬送部３の上面３ａ及び床板５２の上面にＹ軸方向に沿って設置される。第１レール９１は、基板搬送部３及び床板５２のＹ軸方向正側の端部からＹ軸方向負側の端部まで延びるように設置される。第１レール９１は、長さ方向において複数に分割可能であってよい。この場合、バッチ処理部４の数に応じて第１レール９１の長さを調整できる。第１レール９１が複数に分割される場合、各第１レール９１の長さは、１つのバッチ処理部４のＹ軸方向の長さと同じ又は略同じであってよい。第１レール９１は、第１レール９１上でヒータ４１２をスライド移動させる回転部（図示せず）を含んでよい。回転部は、コロ、ボールローラであってよい。回転部は、第１レール９１の長手方向に沿って間隔をあけて複数設けられてよい。
第２レール９２は、床板５２の上面から基板搬送部３の上面３ａを介してバッチ処理部４Ａの内部までＸ軸方向に沿って設置される。第２レール９２は、第２レール９２上でヒータ４１２をスライド移動させる回転部（図示せず）を含んでよい。回転部は、コロ、ボールローラであってよい。回転部は、第２レール９２の長手方向に沿って間隔を開けて複数設けられてよい。
連結部材９３は、基板搬送部３及び床板５２のＹ軸方向正側の端部に取り付けられる。連結部材９３の上面は、基板搬送部３の上面３ａ及び床板５２の上面と同じ高さ又は略同じ高さであってよい。連結部材９３の上面には、第１レール９１と接続されるレール９３ａが設けられる。連結部材９３には、後述するベース治具９４が接続される。
次に、作業者ＯＰが、ヒータ４１２が載置された搬送台車（図示せず）を基板処理装置１の後面まで移動させる。次に、作業者ＯＰが、搬送台車上からベース治具９４上にヒータ４１２を載せ替える。次に、作業者ＯＰが、ストッパ（図示せず）を作動させ、ベース治具９４上にヒータ４１２を固定する。
次に、図１５に示されるように、作業者ＯＰが、リフタ（図示せず）により、ヒータ４１２が載置されたベース治具９４を連結部材９３の高さまで持ち上げる。次に、作業者ＯＰが、ベース治具９４を連結部材９３に接続する。
次に、図１６に示されるように、作業者ＯＰが、ストッパを解除し、ベース治具９４上に載置されたヒータ４１２を、第１レール９１に沿ってバッチ処理部４Ａの横までスライド移動させる。ヒータ４１２をバッチ処理部４Ａの横までスライド移動させた後、ヒータ４１２を水平回転させてもよい。例えば、第１レール９１に沿ってスライド移動させる際のヒータ４１２を角度と、第２レール９２に沿ってスライド移動させる際のヒータ４１２の角度とが異なる場合、ヒータ４１２を水平回転させてもよい。
次に、図１７に示されるように、作業者ＯＰが、バッチ処理部４Ａのまで移動したヒータ４１２を、第２レール９２に沿ってバッチ処理部４Ａ内までスライド移動させる。ヒータ４１２をバッチ処理部４Ａ内までスライド移動させた後、ヒータ４１２を水平回転させてもよい。例えば、第２レール９２に沿ってスライド移動させる際のヒータ４１２の角度と、バッチ処理部４Ａ内で固定される際のヒータ４１２の角度とが異なる場合、ヒータ４１２を水平回転させてもよい。次に、作業者ＯＰが、バッチ処理部４Ａ内でヒータ４１２を固定する。ヒータ４１２は、ネジ等の締結部材により固定される。
以上により、バッチ処理部４Ａにヒータ４１２が取り付けられる。なお、バッチ処理部４Ａにヒータ４１２を取り付ける方法と逆の手順により、バッチ処理部４Ａからヒータ４１２を取り外すことができる。また、他のバッチ処理部４Ｂ、４Ｃ、４Ｄが備えるヒータ４１２についても同様の方法で交換できる。また、基板処理装置１Ａにおいても基板処理装置１と同様の方法でヒータ４１２を交換できる。
なお、上記の実施形態において、前面２ａは第１側面の一例であり、後面２ｂは第２側面の一例である。
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
上記の実施形態では、必要に応じて搬入出部２に通路Ｐを形成する場合を説明したが、本開示はこれに限定されない。例えば、搬入出部２に常設の通路が形成されてもよい。
上記の実施形態では、床Ｆの上に１つの基板処理装置１が設置される場合を説明したが、本開示はこれに限定されない。例えば、床Ｆの上に複数の基板処理装置１が設置されてもよい。
図１８は、複数の基板処理装置１がＸ軸方向に隣接して配置される形態を示す斜視図である。図１８においては、紙面右下の端部を基準としてＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向を示す。図１８に示されるように、複数の基板処理装置１がＸ軸方向に隣接して配置される場合、隣接する基板処理装置１間で第１上部メンテナンス領域Ａ１と第２上部メンテナンス領域Ａ２とを共有することで、上部メンテナンス領域の幅を確保できる。共有の上部メンテナンス領域の幅は、ヒータ４１２が通過可能な長さであってよい。例えば、ヒータ４１２が円筒形状を有する場合、共有の上部メンテナンス領域の幅はヒータ４１２の直径よりも長い。この場合、ヒータ４１２の交換作業を容易に行うことができる。例えば、共有の上部メンテナンス領域の幅は１０００ｍｍであり、ヒータ４１２の直径は８００ｍｍである。共有の上部メンテナンス領域では、隣接する基板処理装置１のうち一方の基板処理装置１に対するヒータ４１２の交換作業と、他方の基板処理装置１に対するガス供給ユニット４３のメンテナンスとを行うことができる。
また、排気ユニット４４の上面４４ａは、基板搬送部３の上面３ａと同じ高さであることが好ましい。この場合、図１８に示されるように、隣接する基板処理装置１間で排気ユニット４４の上面４４ａと基板搬送部３の上面３ａとの間に段差が生じない。このため、作業者が第１上部メンテナンス領域Ａ１及び第２上部メンテナンス領域Ａ２においてバッチ処理部４の各部のメンテナンスを行う際の作業効率が向上する。排気ユニット４４の上面４４ａと基板搬送部３の上面３ａとが異なる高さである場合、排気ユニット４４と基板搬送部３のうちの高さが低い側の上面に板状部材を設置して両者の上面の高さを揃えることが好ましい。また、複数の基板処理装置１がＸ軸方向に並んで配置される場合、基板搬送部３と排気ユニット４４との間に隙間を設け、排気装置を設置してもよい。
図１９は、複数の基板処理装置１が隣接して配置される形態の第１変形例を示す斜視図である。図２０は、複数の基板処理装置１が隣接して配置される形態の第２変形例を示す斜視図である。図２１は、複数の基板処理装置１が隣接して配置される形態の第３変形例を示す斜視図である。図１９から図２１においては、紙面右下の端部を基準としてＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向を示す。
図１９から図２１に示されるように、複数の基板処理装置１がＸ軸方向に隣接して配置される場合、隣接する基板処理装置１間で排気ユニット４４の上面４４ａと基板搬送部３の上面３ａとの間に隙間Ｇが生じる場合がある。隙間Ｇは、一例では３０ｍｍ～５０ｍｍと僅かである。第１変形例から第３変形例では、隣接する基板処理装置１間において排気ユニット４４の上面４４ａと基板搬送部３の上面３ａの上に、隙間Ｇを埋めるようにＹ軸方向に沿って延びる板状部材１０が設けられる。この場合、メンテナンスの際に部品等が落下することを防止できる。板状部材１０のＹ軸方向の長さは、例えば排気ユニット４４の上面４４ａのＹ軸方向の長さと同じであってよい。板状部材１０のＹ軸方向の長さは、例えば基板搬送部３の上面３ａのＹ軸方向の長さと同じであってよい。
図１９に示されるように、板状部材１０は、排気ユニット４４の上面４４ａの一部と、基板搬送部３の上面３ａの一部とを覆う平板形状を有してよい。板状部材１０のＸ軸方向の長さは、排気ユニット４４の上面４４ａのＸ軸方向の長さと、基板搬送部３の上面３ａのＸ軸方向の長さの合計よりも短くてよい。
図２０に示されるように、板状部材１０は、平板形状を有し、排気ユニット４４の上面４４ａの全面と、基板搬送部３の上面３ａの全面とを覆う平板形状を有してもよい。この場合、板状部材１０の板厚に起因する段差が生じない。このため、共有の上部メンテナンス領域において、段差に起因する作業者のつまずきを防止できる。
図２１に示されるように、板状部材１０は、Ｙ軸方向から見たときにＴ字形状を有する。板状部材１０は、水平部１０１と、鉛直部１０２とを有する。水平部１０１は、隙間Ｇを埋めるようにＹ軸方向に沿って延びる平板形状を有する。水平部１０１は、排気ユニット４４の上面４４ａの少なくとも一部と、基板搬送部３の上面３ａの少なくとも一部を覆う。鉛直部１０２は、水平部１０１の下面からＺ軸方向負側に延びる平板形状を有する。鉛直部１０２は、Ｙ軸方向に沿って延び、隙間Ｇに嵌め込まれる。この場合、板状部材１０のＸ軸方向における位置ずれを防止できる。鉛直部１０２のＸ軸方向の長さは、隙間Ｇの幅と同じであってよく、隙間Ｇの幅より短くてもよい。
１ 基板処理装置
２ 搬入出部
２ａ 前面
２ｂ 後面
３ 基板搬送部
４ バッチ処理部
４１１ 処理容器
４３ ガス供給ユニット
４４ 排気ユニット
Ｃ カセット

Claims (8)

  1. 基板を収容した容器が搬入出される第１側面と、前記第１側面と反対側の第２側面とを有する搬入出部と、
    前記第２側面と直交する第１水平方向に沿って延びる基板搬送部と、
    前記基板搬送部の長手方向に沿って隣接する複数のバッチ処理部と、
    を備え、
    前記複数のバッチ処理部の各々は、
    前記基板を複数収容して処理する処理容器と、
    前記処理容器内にガスを供給するガス供給ユニットと、
    前記処理容器内のガスを排気する排気ユニットと、
    を有し、
    前記排気ユニットの上方に、前記複数のバッチ処理部のメンテナンスを行うための第１メンテナンス領域が設けられる、
    基板処理装置。
  2. 前記基板搬送部の上方に、前記複数のバッチ処理部のメンテナンスを行うための第２メンテナンス領域が設けられる、
    請求項１に記載の基板処理装置。
  3. 前記排気ユニットの上面は、前記基板搬送部の上面と同じ高さであり、
    当該基板処理装置は、前記第１水平方向と直交する第２水平方向において別の基板処理装置と隣接して配置され、
    前記別の基板処理装置は、当該基板処理装置と同じ構成を有し、
    当該基板処理装置の前記第１メンテナンス領域と前記別の基板処理装置の前記第２メンテナンス領域とにより、又は、当該基板処理装置の前記第２メンテナンス領域と前記別の基板処理装置の前記第１メンテナンス領域とにより、共通のメンテナンス領域が形成される、
    請求項２に記載の基板処理装置。
  4. 前記排気ユニットに取り付けられ、前記排気ユニットの上面よりも上方に延びる柵を有する、
    請求項１乃至３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
  5. 前記基板搬送部に取り付けられる足場を有し、
    前記第２メンテナンス領域は、前記基板搬送部及び前記足場の上方に設けられる、
    請求項２又は３に記載の基板処理装置。
  6. 前記足場は、
    支持部材と、
    前記支持部材によって支持される床板と、
    前記支持部材に取り付けられ、前記床板よりも上方に位置する柵と、
    を有する、
    請求項５に記載の基板処理装置。
  7. 前記複数のバッチ処理部の各々は、前記処理容器の周囲に設けられるヒータを有し、
    前記共通のメンテナンス領域の前記第２水平方向における長さは、前記ヒータが通過可能な長さである、
    請求項３に記載の基板処理装置。
  8. 前記複数のバッチ処理部の各々は、前記処理容器の周囲に設けられるヒータを有し、
    前記基板搬送部の上面の前記第１水平方向と直交する第２水平方向における長さと前記床板の前記第２水平方向における長さの合計は、前記ヒータが通過可能な長さである、
    請求項６に記載の基板処理装置。
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