JP2007291530A - マルチチャンバー型真空処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係るマルチチャンバー型真空処理装置は、搬送室としての真空チャンバー1が、枠状のチャンバー本体2と、このチャンバー本体2の少なくとも一側面部に着脱自在に取り付けられる多角形状の側面枠3a,3bとの組立体で構成されている。この構成により、真空チャンバーを組み立てた後において、ユーザーの要求等に応じて別の多角形状の側面枠に容易に取り替えて真空チャンバーの形状を変更することができ、ユーザーの要求仕様にフレキシブルに対応することが可能となる。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る真空チャンバーを示す斜視図、図2は、その分解斜視図である。本実施の形態における真空チャンバーは、例えば6つの処理室を有するマルチチャンバー(多室)型枚葉式スパッタ成膜装置(以下、成膜装置という)の中央部に設けた基板搬送ロボットを有する搬送室として構成されている。
実施の形態1では、長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)として、その両側に3角形状の側面枠3a,3bをボルト留めで接合して6角形状の真空チャンバーを組み立てる構造であったが、本実施の形態では、図3に示すように、実施の形態1で使用した長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)とし、その両側に長方形状の側面枠12a,12bをボルト留めで接合して、正方形状の真空チャンバー13を組み立てる構造である。長方形状の側面枠12a,12bを使用した以外は実施の形態1と同様であり、重複する説明は省略する。
実施の形態2では、長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)として、その両側に長方形状の側面枠12a,12bをボルト留めで接合して4角形状の真空チャンバーを組み立てる構造であったが、本実施の形態では、図4に示すように、実施の形態2で得られた正方形状の真空チャンバー13の各側面に3角形状の側面枠14a,14b,14c,14dをボルト留めで接合して、8角形状の真空チャンバー15を組み立てる構造である。
上述した各実施の形態では長方形状のチャンバー本体2を中心(コア)とした構成であったが、本実施の形態では、図5に示すように、台形状の4角形のチャンバー本体2aを中心(コア)として、その一つの長辺に3角形状の側面枠16をボルト留めで接合して5角形状の真空チャンバー17を組み立てる構造である。
本実施の形態では、図6に示すように、台形状の4角形のチャンバー本体2bを中心(コア)として、一方の長辺に台形状の4角形(チャンバー本体2bよりも小さい形状)の側面枠18をボルト留めで接合し、他方の短辺に3角形状の側面枠19をボルト留めで接合して7角形状の真空チャンバー20を組み立てる構造である。
本実施の形態では、図7に示すように、正方形状の4角形のチャンバー本体2cを中心(コア)として、その各側面に3角形状の側面枠21a,21b,21c,21dをボルト留めで接合して8角形状の真空チャンバー22を組み立てる構造である。
2,2a,2b,2c チャンバー本体
3a,3b,12a,12b,14a,14b,14c,14d,16,18,19,21a,21b,21c,21d 側面枠
5,8 上板
6 基板搬送ロボット
7,9 底板
Claims (3)
- 搬送室と、この搬送室の周囲に配置された複数の真空処理室とを備えたマルチチャンバー型真空処理装置であって、
前記搬送室は、枠状のチャンバー本体と、このチャンバー本体の少なくとも一側面に着脱自在に取り付けられる多角形状の側面枠との組立体からなる
ことを特徴とするマルチチャンバー型真空処理装置。 - 前記搬送室の上面および下面に接合される上板および底板をそれぞれ有し、前記上板および前記底板が前記チャンバー本体側と前記側面枠側とに相互に分割されている
ことを特徴とする請求項1に記載のマルチチャンバー型真空処理装置。 - 前記チャンバー本体と、前記側面枠と、前記上板と、前記底板とが、それぞれボルト留めによって組み立てられている
ことを特徴とする請求項2に記載のマルチチャンバー型真空処理装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335743A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置用真空チャンバー |
DE112009001843T5 (de) | 2008-08-01 | 2011-06-22 | Ulvac Corp., Kanagawa | Verfahren zur Steuerung eines Überführungsroboters |
GB2508912A (en) * | 2012-12-14 | 2014-06-18 | Mantis Deposition Ltd | Vacuum chamber for processing semiconductor wafers |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0864542A (ja) * | 1994-08-25 | 1996-03-08 | Plasma Syst:Kk | 半導体処理装置用真空チャンバーおよびその製造方法 |
JP2002076091A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-03-15 | Anelva Corp | 基板処理装置 |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0864542A (ja) * | 1994-08-25 | 1996-03-08 | Plasma Syst:Kk | 半導体処理装置用真空チャンバーおよびその製造方法 |
JP2002076091A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-03-15 | Anelva Corp | 基板処理装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335743A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置用真空チャンバー |
DE112009001843T5 (de) | 2008-08-01 | 2011-06-22 | Ulvac Corp., Kanagawa | Verfahren zur Steuerung eines Überführungsroboters |
US8543235B2 (en) | 2008-08-01 | 2013-09-24 | Ulvac, Inc. | Method of controlling transfer robot |
TWI477371B (zh) * | 2008-08-01 | 2015-03-21 | Ulvac Inc | The control method of conveying the robot |
GB2508912A (en) * | 2012-12-14 | 2014-06-18 | Mantis Deposition Ltd | Vacuum chamber for processing semiconductor wafers |
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