TWI281708B - Vacuum chamber for vacuum processing appartaus - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
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- Optics & Photonics (AREA)
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Description
(2) 1281708 而獲得大型真空室,卻不需要擴大機器工具,此乃藉由將 一框狀內室主體分割成多數零件,然後將這些多數零件予 以焊接與連接(請參閱日本先行公開專利第H 8 - 64 5 42號 案一專利文件一)。 順便一提,上述專利文件一所揭示的製造方法在製造 之後並無法再次移除每個零件,這是因爲真空室的側壁均 藉由焊接零件而成。因此,在製造之後,無法改變真空室 的側壁之尺寸與形狀。 此外,由於安裝到真空室的側壁之上下表面的頂板與 底板在上述專利文件一中是一體的,無法分割,所以其尺 寸仍舊大而沉重。 因此,需要一大型吊車設備來吊起頂板與底板,因此 製造成本也會變得很高。而且,由於頂板與底板的尺寸仍 舊很大,所以當欲以成品或組裝前的產品之狀態將真空室 運送至一安裝地點時,則需要特殊的大型拖車。 因此,本發明的目的是要提供一種真空處理用的真空 室,在製造之後,其尺寸與形狀仍然可以輕易改變。 此外,本發明的目的是要提供一種真空處理設備所用 的真空室,不需要大型吊車設備,即使在組裝後的尺寸很 大,但是在運送時仍不需要大型特殊拖車。 【發明內容】 爲了達成上述目的,本發明的特徵在於:在真空處理 設備所用之真空室內,真空室可以自由地分割成一框狀多 -6- (3) 1281708 角形內室主體;一多角形側框架,其具有一開口且可拆卸 地緊密連結至具開口的內室主體之至少一側上;每一頂板 ’係連結到內室主體的每一頂面及具有一開口的側框架上 ;及每一底板,係連接到內室主體的每一底面及具有一開 口的側框架上。 此外’本發明的特徵在於內室主體中安裝有一基底運 送機器人’可將一基底從設置於機器人外部的多數真空處 理室中拿進拿出。 【實施方式】 以下將根據顯示的實施例來說明本發明。 (第一實施例) 圖1是一立體圖,顯示本發明第一實施例的真空室, 而圖2是其分解立體圖。在此實施例中真空處理設備所用 之真空處理室(以下稱爲真空室),例如,可作爲一運送 室’其中具有一基底運送機器人,此機器人係設置在具有 六個處理室的多室單基板型濺射沉澱設備(以下稱爲沉殿 設備)之中心部位內。 如圖1所示,本發明第一實施例的真空室1藉由連結 一剖面爲矩形的中央內室主體2及剖面爲三角形的側框架 3a’ 3b’在內室主體2的兩邊上形成六角形。用以將〜基 底(未顯不)拿進拿出之開口 4是形成於內室主體2與俱|j 框架3 a ’ 3 b的每一側面上(總共六面)。內室主體2與 (4) 1281708 側框架3 a,3 b是由鋁與不銹鋼等金屬材質製成。 安裝有基底運送機器人的頂板5與底板7,其中連接 的開口是分別形成於框架狀矩形內室主體2之頂面與底面 上。此外,也在作爲長邊且連結到側框架3 a,3 b上的內 室主體2之兩側面內形成開口。而且,用以將基底(未顯 示)拿進拿出的開口會形成在作爲短邊的內室主體2之兩 側面上。 此外’頂板8與底板9相連的開口分別形成於框架狀 三角側框架的頂面與下面中。而且,連接到內室主體2的 側面之開口是形成於作爲長邊的側框架3 a與3 b之兩側邊 上。而且,用以將基底(未顯示)拿進拿出的開口會形成 在作爲短邊的內室主體2之兩側面上。, 其次,將說明上述實施例的真空室內1之製造方法。 底板7分別以螺栓(未顯示)透過〇環(未顯示) 而連接到內室主體2的底部,且底板9分別以螺栓(未顯 示)透過〇環(未顯示)而連接到側框架3 a與3 b的底部 。然後,這些側框架3 a,3 b分別以螺栓1 1 a,1 1 b透過〇 環1 0a,1 Ob而連接到內室主體2的兩側面上。 然後,基底運送機器人6是被安裝於連接至內室主體 2的底板7上,之後頂板5是藉由螺栓lie透過〇環i〇c 而連接到內室主體2的上部。然後,圖1所示的六角真空 室1是分別藉由螺栓lid,lie透過0環l〇d,10e而連接 到側框架3 a,3 b的每一上部。 根據上述製成的真空室1是被安裝於具六個處理室的 -8- (5) 1281708 沉澱設備之中心部位內,以便作爲設置有基底運送機器人 6的一運送室。未顯示的六個處理室(載入/載出室、預 熱室、膜形成室、基底冷卻室等)則是安裝於每個開口 4 的周圍,且經由閘閥(未顯示)而安裝於真空室1的側面 中 〇 因此,在本實施例中,真空室是藉螺栓來組裝個別的 三個零件(安裝有基底運送機器人的內室主體2,以及在 其兩側上的側框架3 a,3 b )。因此,即使製造出來的真 空室1已經安裝好了之後,當基底上的沉澱作用產生修改 時,仍可以改變真空室(運送室)的形狀,可根據處理室 的增加或減少,藉由將三角形側框架3 a,3 b與其他形狀 的側框架執行交換,從內室主體2旋開螺栓1 1 a,1 1 b而 得。因此,本案的彈性可對應於使用者的需求。 此外,由於能將內裝有基底運送機器人6的內室主體 2當成共同零件,此共同零件也可以作爲其他真空室的內 室主體,可事先執行大量製造,因此,可減少生產成本。 此外,在此實施例中,真空室是藉由組裝個別的三個 零件(安裝有基底運送機器人的內室主體2,以及在其兩 側上的側框架3 a,3 b )。因此,即使當使用大型基底來 製造大型真空室時,也仍然可以使內室主體2與側框架 3 a,3 b的尺寸保持得很小。因此,由於藉習知機器工具 不需要使用大型定製機器工具,就能輕易產生大型真空室 ,因此能減少生產成本。 而且,即使當使用大型基底來製造大型真空室時,也 -9- (6) 1281708 可以抑制頂板5的尺寸,其中頂板係連接到分 主體2上。因此,可以減輕頂板5的重量,也 一塊金屬來製作頂板5。 此外,在此實施例中,真空室1是以分割 (安裝有基底運送機器人的內室主體2,以及 的側框架3 a,3 b )而製成的。因此,即使當 底來製造大型真空室時,也仍然可以使個別零 體2與側框架3 a,3 b )的尺寸保持得很小。 一正常拖車輕易運送這些分割好的零件到安裝 可輕易在安裝場所予以組裝。 (第二實施例) 在第一實施例中,具有六角形真空室結構 藉由螺栓將三角形側框架3 a,3 b裝配於連接 主體2的兩邊上,且使矩形內室主體2作爲中 。然而,在此實施例中,如圖3所示,具有正 結構之真空室13是藉由螺栓將矩形側框架12: 於連接至矩形內室主體2的兩邊上,且使矩形 作爲中心而製成的。由於此真空室與第一實施 是相同的,除了使用矩形側框架1 2 a,1 2 b而 省略重複的說明。 在此實施例中的正方形真空室1 3在個別 有開口,在這些開口周圍總共可以安裝四個處 示)。 割好的內室 可以輕易從 成三個零件 在其兩側上 使用大型基 件(內室主 因此,可以 場所,所以 之真空室是 至矩形內室 心而製成的 方形真空室 a , 12b裝配 內室主體2 例的真空室 已,因此遂 側面上均具 理室(未顯 -10- (9) 1281708 邊形內室主體2的側面上,其中內室主體安裝有基底運送 器人。因此,即使基底很大,本發明亦能提出快速對應措 施。 如上所述,本發明的真空室可以自由地分割成一框狀 多角形內室主體;一多角形側框架,其具有一開口且可拆 卸地緊密連結至具開口的內室主體之至少一側上;每一頂 板,係連結到內室主體的每一頂面及具有一開口的側框架 上;及每一底板,係連接到內室主體的每一底面及具有一 開口的側框架上。因此,即使在真空室已經組裝與安裝完 成織後,由於可根據使用者的要求輕易地將側框架替換成 其他多角形側框架,所以能改變真空室的形狀。 此外,根據本發明,可以藉由組裝一內室主體、一側 框架、一頂板及一底板而獲得一真空室。因此,即使當使 用大型基底製造大型真空室時,仍可以保持小巧質輕,這 是因爲內室主體、側框架、頂板與底板是個別分割的。因 此,由於藉習知機器工具不需要使用大型定製機器工具, 就能輕易產生大型真空室,因此能減少生產成本。 而且,即使當使用大型基底來製造大型真空室時,仍 可以保持小巧質輕,這是因爲內室主體、側框架、頂板與 底板是個別分割的。因此,可以一普通拖車輕易運送這些 分割好的零件到安裝場所,所以可輕易在安裝場所組裝起 來。 [圖式簡單說明】 -13- (10) 1281708 圖1是一立體圖,顯示本發明 圖2是一槪略立體圖,顯示本 室; 圖3顯示本發明第二實施例的 圖4顯示本發明第三實施例的 圖5顯示本發明第四實施例的 圖6顯示本發明第五實施例的 圖7顯示本發明第六實施例的 圖8是一槪略平面圖,顯示習 理設備; 圖9是一槪略平面圖,顯示習 理設備。 元件符號對照表 1 , 13 , 15 , 17 , 20 , 22 真空 2,2a,2b,2c內室主體
3a, 3b, 12a, 12b, 14a, 14b, H 2 1 a,2 1 b,2 1 c,2 1 d 側框 5,8 頂板 6 基底運送機器人 7,9 底板 第一實施例的真空室; - 發明第一實施例的真空 真空室之製造程序; 真空室之製造程序; 真空室之形狀; 真空室之形狀; 真空室之形狀; Φ 知範例中的多室真空處 知範例中的多室真空處 室 c, 14d, 16, 18, 19, 架 . -14-
Claims (1)
- (1) 1281708 拾、申請專利範圍 1 . 一種用於真空處理設備之真空室,其中該真空室 可以自由地分割成一框狀多角形內室主體;一多角形側框 架,其具有一開口且可拆卸地緊密連結至具開口的內室主 體之至少一側上;每一頂板,係連結到內室主體的每一頂 面及具有一開口的側框架上;及每一底板,係連接到內室 主體的每一底面及具有一開口的側框架上。 2 .如申請專利範圍第1項之真空室,其中該內室主體 中安裝有一基底運送機器人,可將一基底從設置於機器人 外部的多數真空處理室中拿進拿出。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003129754A JP2004335743A (ja) | 2003-05-08 | 2003-05-08 | 真空処理装置用真空チャンバー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200428495A TW200428495A (en) | 2004-12-16 |
TWI281708B true TWI281708B (en) | 2007-05-21 |
Family
ID=33505463
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW094143418A TWI326715B (en) | 2003-05-08 | 2004-05-07 | Vacuum chamber for vacuum processing apparatus and vacuum chamber dividing method |
TW093112954A TWI281708B (en) | 2003-05-08 | 2004-05-07 | Vacuum chamber for vacuum processing appartaus |
TW096125751A TWI417408B (zh) | 2003-05-08 | 2004-05-07 | 真空處理及真空處理室之分割方法 |
TW096125750A TWI363658B (en) | 2003-05-08 | 2004-05-07 | Multi-processing chamber -type vacuum processing apparatus |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW094143418A TWI326715B (en) | 2003-05-08 | 2004-05-07 | Vacuum chamber for vacuum processing apparatus and vacuum chamber dividing method |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW096125751A TWI417408B (zh) | 2003-05-08 | 2004-05-07 | 真空處理及真空處理室之分割方法 |
TW096125750A TWI363658B (en) | 2003-05-08 | 2004-05-07 | Multi-processing chamber -type vacuum processing apparatus |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004335743A (zh) |
KR (2) | KR100745366B1 (zh) |
CN (4) | CN1776008B (zh) |
TW (4) | TWI326715B (zh) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4619116B2 (ja) | 2002-06-21 | 2011-01-26 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 真空処理システムのための搬送チャンバ |
KR100441875B1 (ko) * | 2003-06-02 | 2004-07-27 | 주성엔지니어링(주) | 분리형 이송 챔버 |
US7784164B2 (en) | 2004-06-02 | 2010-08-31 | Applied Materials, Inc. | Electronic device manufacturing chamber method |
KR100803726B1 (ko) * | 2005-08-12 | 2008-02-15 | 주식회사 아이피에스 | 반송챔버의 구조 |
JP4791110B2 (ja) * | 2005-09-02 | 2011-10-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空チャンバおよび真空処理装置 |
JP4355314B2 (ja) * | 2005-12-14 | 2009-10-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、及び該装置の蓋釣支装置 |
WO2007094617A1 (en) * | 2006-02-14 | 2007-08-23 | Brooks Automation Asia Ltd. | Transfer chamber for vacuum processing apparatus of substrate |
KR100981099B1 (ko) | 2006-04-12 | 2010-09-09 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 평면 표시소자 제조장치 |
KR100790797B1 (ko) * | 2006-06-08 | 2008-01-02 | 주식회사 아이피에스 | 진공처리장치 |
US20080025821A1 (en) * | 2006-07-25 | 2008-01-31 | Applied Materials, Inc. | Octagon transfer chamber |
DE102007057644A1 (de) * | 2007-11-28 | 2009-06-04 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Vakuumkammer auf Rahmenbasis für Beschichtungsanlagen |
KR100978851B1 (ko) * | 2008-03-21 | 2010-08-31 | 주식회사 아이피에스 | 진공처리장치 |
DE102009007897A1 (de) * | 2009-02-08 | 2010-08-12 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Vakuumkammer für Beschichtungsanlagen und Verfahren zum Herstellen einer Vakuumkammer für Beschichtungsanlagen |
KR101598176B1 (ko) * | 2010-03-30 | 2016-02-26 | 주식회사 원익아이피에스 | 진공챔버 |
CN112295612A (zh) * | 2020-11-12 | 2021-02-02 | 之江实验室 | 一种分段式真空装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2511265A1 (fr) * | 1981-08-13 | 1983-02-18 | Creusot Loire | Chambre a vide modulaire extensible |
JPH0864542A (ja) * | 1994-08-25 | 1996-03-08 | Plasma Syst:Kk | 半導体処理装置用真空チャンバーおよびその製造方法 |
JP3723003B2 (ja) * | 1998-12-18 | 2005-12-07 | 三菱重工業株式会社 | 真空処理システム |
JP4408520B2 (ja) * | 2000-03-15 | 2010-02-03 | 株式会社アルバック | 真空処理装置 |
JP4253107B2 (ja) * | 2000-08-24 | 2009-04-08 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板処理装置及びその増設方法 |
JP4821074B2 (ja) * | 2001-08-31 | 2011-11-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム |
JP4843572B2 (ja) * | 2007-07-06 | 2011-12-21 | 株式会社アルバック | マルチチャンバー型真空処理装置 |
JP2007294997A (ja) * | 2007-07-06 | 2007-11-08 | Ulvac Japan Ltd | 真空チャンバー |
-
2003
- 2003-05-08 JP JP2003129754A patent/JP2004335743A/ja active Pending
-
2004
- 2004-05-07 KR KR1020040032383A patent/KR100745366B1/ko active IP Right Grant
- 2004-05-07 TW TW094143418A patent/TWI326715B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-05-07 TW TW093112954A patent/TWI281708B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-05-07 TW TW096125751A patent/TWI417408B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-05-07 TW TW096125750A patent/TWI363658B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-05-08 CN CN2005101285606A patent/CN1776008B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-08 CN CNB2004100714332A patent/CN100459048C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-08 CN CN2007101399292A patent/CN101359579B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-05-08 CN CN2007101399288A patent/CN101419902B/zh not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-11-09 KR KR1020050106829A patent/KR100736243B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004335743A (ja) | 2004-11-25 |
TW200745364A (en) | 2007-12-16 |
KR100745366B1 (ko) | 2007-08-02 |
TW200428495A (en) | 2004-12-16 |
TW200744755A (en) | 2007-12-16 |
TWI326715B (en) | 2010-07-01 |
CN101419902A (zh) | 2009-04-29 |
TWI417408B (zh) | 2013-12-01 |
TWI363658B (en) | 2012-05-11 |
KR20040090496A (ko) | 2004-10-25 |
CN101359579B (zh) | 2010-06-23 |
TW200613576A (en) | 2006-05-01 |
CN101359579A (zh) | 2009-02-04 |
KR20050113574A (ko) | 2005-12-02 |
CN1776008B (zh) | 2010-05-05 |
CN1776008A (zh) | 2006-05-24 |
CN1574232A (zh) | 2005-02-02 |
CN100459048C (zh) | 2009-02-04 |
KR100736243B1 (ko) | 2007-07-06 |
CN101419902B (zh) | 2011-04-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MK4A | Expiration of patent term of an invention patent |